JP6761405B2 - 殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜および合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法 - Google Patents

殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜および合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法 Download PDF

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Description

本発明は、殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、そのような合成高分子膜の形成に用いられる光硬化性樹脂組成物、合成高分子膜の製造方法、および合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法、およびに関する。
最近、ブラックシリコン、セミやトンボの羽が有するナノ表面構造が殺菌作用を有することが発表された(非特許文献1)。ブラックシリコン、セミやトンボの羽が有するナノピラーの物理的な構造が、殺菌作用を発現するとされている。
非特許文献1によると、グラム陰性菌に対する殺菌作用は、ブラックシリコンが最も強く、トンボの羽、セミの羽の順に弱くなる。ブラックシリコンは、高さが500nmのナノピラーを有し、セミやトンボの羽は、高さが240nmのナノピラーを有している。また、これらの表面の水に対する静的接触角(以下、単に「接触角」ということがある。)は、ブラックシリコンが80°であるのに対し、トンボの羽は153°、セミの羽は159°である。また、ブラックシリコンは主にシリコンから形成され、セミやトンボの羽はキチン質から形成されていると考えられる。非特許文献1によると、ブラックシリコンの表面の組成はほぼ酸化シリコン、セミおよびトンボの羽の表面の組成は脂質である。
特許第4265729号公報 特開2009−166502号公報 国際公開第2011/125486号 国際公開第2013/183576号 国際公開第2015/163018号(特許第5788128号) 国際公開第2016/080245号(特許第5933151号) 国際公開第2016/208540号
Ivanova, E. P. et al., "Bactericidal activity of black silicon", Nat. Commun. 4:2838 doi: 10.1038/ncomms3838(2013).
非特許文献1に記載の結果からは、ナノピラーによって細菌が殺されるメカニズムは明らかではない。さらに、ブラックシリコンがトンボやセミの羽よりも強い殺菌作用を有する理由が、ナノピラーの高さや形状の違いにあるのか、表面自由エネルギー(接触角で評価され得る)の違いにあるのか、ナノピラーを構成する物質にあるのか、表面の化学的性質にあるのか、不明である。
また、ブラックシリコンの殺菌作用を利用するにしても、ブラックシリコンは、量産性に乏しく、また、硬く脆いので、形状加工性が低いという問題がある。
本発明の主な目的は、殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、そのような合成高分子膜の形成に用いられる光硬化性樹脂組成物、合成高分子膜の製造方法、および合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法を提供することにある。
本発明のある実施形態による合成高分子膜は、複数の凸部または凹部を有する表面を備える合成高分子膜であって、架橋構造を有し、前記架橋構造は、ウレタン構造を構成する窒素元素を含まず、前記合成高分子膜は、有機カルボン酸を含み、前記有機カルボン酸1gを溶解するために必要な水の量が10mL以上10000mL未満であり、前記合成高分子膜の前記表面に200μLの水を滴下後、5分後の水溶液のpHが5以下であり、前記水溶液の面積円相当径が20mm以上である。
前記有機カルボン酸の水に対する溶解度は、前記有機カルボン酸1gを溶解するために必要な水の量が、100mL以上であることが好ましく、200mL以上であることがさらに好ましく、2000mL未満であることが好ましい。
ある実施形態において、前記合成高分子膜の法線方向から見たとき、前記複数の凸部または凹部の2次元的な大きさは20nm超1μm以下の範囲内にある。
ある実施形態において、前記合成高分子膜の法線方向から見たとき、前記複数の凸部または凹部の2次元的な大きさは500nm未満である。
ある実施形態において、前記合成高分子膜の法線方向から見たとき、前記複数の凸部または凹部の2次元的な大きさは500nm以上である。
ある実施形態において、前記合成高分子膜は、前記有機カルボン酸よりも強い酸をさらに含む。前記有機カルボン酸よりも強い酸は、例えば、りん酸、スルホン酸である。
ある実施形態において、前記有機カルボン酸は、2,4,6−トリメチル安息香酸、スベリン酸またはセバシン酸である。これらの有機カルボン酸1gを溶解するために必要な水の量は、200mL以上2000mL未満である。
ある実施形態において、前記合成高分子膜は、光硬化性樹脂から形成されており、前記有機カルボン酸は、前記光硬化性樹脂に含まれていた光重合開始剤の光分解によって生成されたものである。
ある実施形態において、前記光重合開始剤は、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシドを含む。
ある実施形態において、前記光重合開始剤は、ジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシドをさらに含む。
ある実施形態において、前記架橋構造はエチレンオキサイド単位を含む。
本発明のある実施形態による液体を殺菌する方法は、上記のいずれかに記載の合成高分子膜の前記表面に、水を含む液体を接触させることによって、前記液体を殺菌する。
本発明のある実施形態による光硬化性樹脂組成物は、表面に殺菌作用を有する合成高分子膜の製造に用いられる光硬化性樹脂組成物であって、光硬化性樹脂と、有機カルボン酸または、前記有機カルボン酸を発生する光酸発生剤とを含み、前記有機カルボン酸1gを溶解するために必要な水の量が10mL以上10000mL未満である。
ある実施形態において、前記光硬化性樹脂は、ラジカル重合性である。ある実施形態において、前記光硬化性樹脂は、アクリル樹脂である。ある実施形態において、前記光硬化性樹脂は、紫外線硬化樹脂である。
本発明のある実施形態による、表面に殺菌作用を有する合成高分子膜を製造する方法は、上記のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物に水を混合した後に、光照射を行う工程を含む。水の量は、光硬化性樹脂組成物の全体に対して、1質量%以上10質量%以下である。
本発明の実施形態によると、殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、そのような合成高分子膜の形成に用いられる光硬化性樹脂組成物、合成高分子膜の製造方法、および合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法が提供される。
(a)および(b)は、それぞれ本発明の実施形態による合成高分子膜34Aおよび34Bの模式的な断面図である。 (a)〜(e)は、モスアイ用型100Aの製造方法およびモスアイ用型100Aの構造を説明するための図である。 (a)〜(c)は、モスアイ用型100Bの製造方法およびモスアイ用型100Bの構造を説明するための図である。 (a)はアルミニウム基材の表面のSEM像を示し、(b)はアルミニウム膜の表面のSEM像を示し、(c)はアルミニウム膜の断面のSEM像を示す。 (a)は型のポーラスアルミナ層の模式的な平面図であり、(b)は模式的な断面図であり、(c)は試作した型のSEM像を示す図である。 モスアイ用型100を用いた合成高分子膜の製造方法を説明するための図である。 (a)および(b)は、モスアイ構造を有する表面で死に至った緑膿菌をSEM(走査型電子顕微鏡)で観察したSEM像を示す図である。 (a)は実施例20の試料フィルムの作製に用いた型試料の表面のSEM像を示し、(b)は参考例21の試料フィルムの作製に用いた型試料の表面のSEM像を示す。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態による、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜および合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法を説明する。
なお、本明細書においては、以下の用語を用いることにする。
「殺菌(sterilization(microbicidal))」は、物体や液体といった対象物や、限られた空間に含まれる、増殖可能な微生物(microorganism)の数を、有効数減少させることをいう。
「微生物」は、ウィルス、細菌(バクテリア)、真菌(カビ)を包含する。
「抗菌(antimicrobial)」は、微生物の繁殖を抑制・防止することを広く含み、微生物に起因する黒ずみやぬめりを抑制することを含む。
本出願人は、陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いて、モスアイ構造を有する反射防止膜(反射防止表面)を製造する方法を開発した。陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いることによって、反転されたモスアイ構造を有する型を高い量産性で製造することができる。
本発明者は、上記の技術を応用することによって、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜を開発するに至った(例えば、特許文献5、6および7参照)。参考のために、上記特許文献5、6および7の開示内容の全てを本明細書に援用する。
図1(a)および(b)を参照して、本発明の実施形態による合成高分子膜の構造を説明する。
図1(a)および(b)は、本発明の実施形態による合成高分子膜34Aおよび34Bの模式的な断面図をそれぞれ示す。ここで例示する合成高分子膜34Aおよび34Bは、いずれもベースフィルム42Aおよび42B上にそれぞれ形成されているが、もちろんこれに限られない。合成高分子膜34Aおよび34Bは、任意の物体の表面に直接形成され得る。
図1(a)に示すフィルム50Aは、ベースフィルム42Aと、ベースフィルム42A上に形成された合成高分子膜34Aとを有している。合成高分子膜34Aは、表面に複数の凸部34Apを有しており、複数の凸部34Apは、モスアイ構造を構成している。合成高分子膜34Aの法線方向から見たとき、凸部34Apの2次元的な大きさDpは20nm超500nm未満の範囲内にある。ここで、凸部34Apの「2次元的な大きさ」とは、表面の法線方向から見たときの凸部34Apの面積円相当径を指す。例えば、凸部34Apが円錐形の場合、凸部34Apの2次元的な大きさは、円錐の底面の直径に相当する。また、凸部34Apの典型的な隣接間距離Dintは20nm超1000nm以下である。図1(a)に例示するように、凸部34Apが密に配列されており、隣接する凸部34Ap間に間隙が存在しない(例えば、円錐の底面が部分的に重なる)場合には、凸部34Apの2次元的な大きさDpは隣接間距離Dintと等しい。凸部34Apの典型的な高さDhは、50nm以上500nm未満である。後述するように、凸部34Apの高さDhが150nm以下であっても殺菌作用を発現する。合成高分子膜34Aの厚さtsに特に制限はなく、凸部34Apの高さDhより大きければよい。
図1(a)に示した合成高分子膜34Aは、特許文献1〜4に記載されている反射防止膜と同様のモスアイ構造を有している。反射防止機能を発現させるためには、表面に平坦な部分がなく、凸部34Apが密に配列されていることが好ましい。また、凸部34Apは、空気側からベースフィルム42A側に向かって、断面積(入射光線に直交する面に平行な断面、例えばベースフィルム42Aの面に平行な断面)が増加する形状、例えば、円錐形であることが好ましい。また、光の干渉を抑制するために、凸部34Apを規則性がないように、好ましくはランダムに、配列することが好ましい。しかしながら、合成高分子膜34Aの殺菌作用をもっぱら利用する場合には、これらの特徴は必要ではない。例えば、凸部34Apは密に配列される必要はなく、また、規則的に配列されてもよい。ただし、凸部34Apの形状や配置は、微生物に効果的に作用するように選択されることが好ましい。
図1(b)に示すフィルム50Bは、ベースフィルム42Bと、ベースフィルム42B上に形成された合成高分子膜34Bとを有している。合成高分子膜34Bは、表面に複数の凸部34Bpを有しており、複数の凸部34Bpは、モスアイ構造を構成している。フィルム50Bは、合成高分子膜34Bが有する凸部34Bpの構造が、フィルム50Aの合成高分子膜34Aが有する凸部34Apの構造と異なっている。フィルム50Aと共通の特徴については説明を省略することがある。
合成高分子膜34Bの法線方向から見たとき、凸部34Bpの2次元的な大きさDpは20nm超500nm未満の範囲内にある。また、凸部34Bpの典型的な隣接間距離Dintは20nm超1000nm以下であり、かつ、Dp<Dintである。すなわち、合成高分子膜34Bでは、隣接する凸部34Bpの間に平坦部が存在する。凸部34Bpは、空気側に円錐形の部分を有する円柱状であり、凸部34Bpの典型的な高さDhは、50nm以上500nm未満である。また、凸部34Bpは、規則的に配列されていてもよいし、不規則に配列されていてもよい。凸部34Bpが規則的に配列されている場合、Dintは配列の周期をも表すことになる。このことは、当然ながら、合成高分子膜34Aについても同じである。
なお、本明細書において、「モスアイ構造」は、図1(a)に示した合成高分子膜34Aの凸部34Apの様に、断面積(膜面に平行な断面)が増加する形状の凸部で構成される、優れた反射機能を有するナノ表面構造だけでなく、図1(b)に示した合成高分子膜34Bの凸部34Bpの様に、断面積(膜面に平行な断面)が一定の部分を有する凸部で構成されるナノ表面構造も包含する。なお、微生物の細胞壁および/または細胞膜を破壊するためには、円錐形の部分を有することが好ましい。ただし、円錐形の先端は、ナノ表面構造である必要は必ずしもなく、セミの羽が有するナノ表面構造を構成するナノピラー程度の丸み(約60nm)を有していてもよい。
図1(a)および(b)に例示したようなモスアイ構造を表面に形成するための型(以下、「モスアイ用型」という。)は、モスアイ構造を反転させた、反転されたモスアイ構造を有する。反転されたモスアイ構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナ層をそのまま型として利用すると、モスアイ構造を安価に製造することができる。特に、円筒状のモスアイ用型を用いると、ロール・ツー・ロール方式によりモスアイ構造を効率良く製造することができる。このようなモスアイ用型は、特許文献2〜4に記載されている方法で製造することができる。
図2(a)〜(e)を参照して、合成高分子膜34Aを形成するための、モスアイ用型100Aの製造方法を説明する。
まず、図2(a)に示すように、型基材として、アルミニウム基材12と、アルミニウム基材12の表面に形成された無機材料層16と、無機材料層16の上に堆積されたアルミニウム膜18とを有する型基材10を用意する。
アルミニウム基材12としては、アルミニウムの純度が99.50mass%以上99.99mass%未満である比較的剛性の高いアルミニウム基材を用いる。アルミニウム基材12に含まれる不純物としては、鉄(Fe)、ケイ素(Si)、銅(Cu)、マンガン(Mn)、亜鉛(Zn)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、スズ(Sn)およびマグネシウム(Mg)からなる群から選択された少なくとも1つの元素を含むことが好ましく、特にMgが好ましい。エッチング工程におけるピット(窪み)が形成されるメカニズムは、局所的な電池反応であるので、理想的にはアルミニウムよりも貴な元素を全く含まず、卑な金属であるMg(標準電極電位が−2.36V)を不純物元素として含むアルミニウム基材12を用いることが好ましい。アルミニウムよりも貴な元素の含有率が10ppm以下であれば、電気化学的な観点からは、当該元素を実質的に含んでいないと言える。Mgの含有率は、全体の0.1mass%以上であることが好ましく、約3.0mass%以下の範囲であることがさらに好ましい。Mgの含有率が0.1mass%未満では十分な剛性が得られない。一方、含有率が大きくなると、Mgの偏析が起こり易くなる。モスアイ用型を形成する表面付近に偏析が生じても電気化学的には問題とならないが、Mgはアルミニウムとは異なる形態の陽極酸化膜を形成するので、不良の原因となる。不純物元素の含有率は、アルミニウム基材12の形状、厚さおよび大きさに応じて、必要とされる剛性に応じて適宜設定すればよい。例えば圧延加工によって板状のアルミニウム基材12を作製する場合には、Mgの含有率は約3.0mass%が適当であるし、押出加工によって円筒などの立体構造を有するアルミニウム基材12を作製する場合には、Mgの含有率は2.0mass%以下であることが好ましい。Mgの含有率が2.0mass%を超えると、一般に押出加工性が低下する。
アルミニウム基材12として、例えば、JIS A1050、Al−Mg系合金(例えばJIS A5052)、またはAl−Mg−Si系合金(例えばJIS A6063)で形成された円筒状のアルミニウム管を用いる。
アルミニウム基材12の表面は、バイト切削が施されていることが好ましい。アルミニウム基材12の表面に、例えば砥粒が残っていると、砥粒が存在する部分において、アルミニウム膜18とアルミニウム基材12との間で導通しやすくなる。砥粒以外にも、凹凸が存在するところでは、アルミニウム膜18とアルミニウム基材12との間で局所的に導通しやすくなる。アルミニウム膜18とアルミニウム基材12との間で局所的に導通すると、アルミニウム基材12内の不純物とアルミニウム膜18との間で局所的に電池反応が起こる可能性がある。
無機材料層16の材料としては、例えば酸化タンタル(Ta25)または二酸化シリコン(SiO2)を用いることができる。無機材料層16は、例えばスパッタ法により形成することができる。無機材料層16として、酸化タンタル層を用いる場合、酸化タンタル層の厚さは、例えば、200nmである。
無機材料層16の厚さは、100nm以上500nm未満であることが好ましい。無機材料層16の厚さが100nm未満であると、アルミニウム膜18に欠陥(主にボイド、すなわち結晶粒間の間隙)が生じることがある。また、無機材料層16の厚さが500nm以上であると、アルミニウム基材12の表面状態によって、アルミニウム基材12とアルミニウム膜18との間が絶縁されやすくなる。アルミニウム基材12側からアルミニウム膜18に電流を供給することによってアルミニウム膜18の陽極酸化を行うためには、アルミニウム基材12とアルミニウム膜18との間に電流が流れる必要がある。円筒状のアルミニウム基材12の内面から電流を供給する構成を採用すると、アルミニウム膜18に電極を設ける必要がないので、アルミニウム膜18を全面にわたって陽極酸化できるとともに、陽極酸化の進行に伴って電流が供給され難くなるという問題も起こらず、アルミニウム膜18を全面にわたって均一に陽極酸化することができる。
また、厚い無機材料層16を形成するためには、一般的には成膜時間を長くする必要がある。成膜時間が長くなると、アルミニウム基材12の表面温度が不必要に上昇し、その結果、アルミニウム膜18の膜質が悪化し、欠陥(主にボイド)が生じることがある。無機材料層16の厚さが500nm未満であれば、このような不具合の発生を抑制することもできる。
アルミニウム膜18は、例えば、特許文献3に記載されているように、純度が99.99mass%以上のアルミニウムで形成された膜(以下、「高純度アルミニウム膜」ということがある。)である。アルミニウム膜18は、例えば、真空蒸着法またはスパッタ法を用いて形成される。アルミニウム膜18の厚さは、約500nm以上約1500nm以下の範囲にあることが好ましく、例えば、約1μmである。
また、アルミニウム膜18として、高純度アルミニウム膜に代えて、特許文献4に記載されている、アルミニウム合金膜を用いてもよい。特許文献4に記載のアルミニウム合金膜は、アルミニウムと、アルミニウム以外の金属元素と、窒素とを含む。本明細書において、「アルミニウム膜」は、高純度アルミニウム膜だけでなく、特許文献4に記載のアルミニウム合金膜を含むものとする。
上記アルミニウム合金膜を用いると、反射率が80%以上の鏡面を得ることができる。アルミニウム合金膜を構成する結晶粒の、アルミニウム合金膜の法線方向から見たときの平均粒径は、例えば、100nm以下であり、アルミニウム合金膜の最大表面粗さRmaxは60nm以下である。アルミニウム合金膜に含まれる窒素の含有率は、例えば、0.5mass%以上5.7mass%以下である。アルミニウム合金膜に含まれるアルミニウム以外の金属元素の標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値は0.64V以下であり、アルミニウム合金膜中の金属元素の含有率は、1.0mass%以上1.9mass%以下であることが好ましい。金属元素は、例えば、TiまたはNdである。但し、金属元素はこれに限られず、金属元素の標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値が0.64V以下である他の金属元素(例えば、Mn、Mg、Zr、VおよびPb)であってもよい。さらに、金属元素は、Mo、NbまたはHfであってもよい。アルミニウム合金膜は、これらの金属元素を2種類以上含んでもよい。アルミニウム合金膜は、例えば、DCマグネトロンスパッタ法で形成される。アルミニウム合金膜の厚さも約500nm以上約1500nm以下の範囲にあることが好ましく、例えば、約1μmである。
次に、図2(b)に示すように、アルミニウム膜18の表面18sを陽極酸化することによって、複数の凹部(細孔)14pを有するポーラスアルミナ層14を形成する。ポーラスアルミナ層14は、凹部14pを有するポーラス層と、バリア層(凹部(細孔)14pの底部)とを有している。隣接する凹部14pの間隔(中心間距離)は、バリア層の厚さのほぼ2倍に相当し、陽極酸化時の電圧にほぼ比例することが知られている。この関係は、図2(e)に示す最終的なポーラスアルミナ層14についても成立する。
ポーラスアルミナ層14は、例えば、酸性の電解液中で表面18sを陽極酸化することによって形成される。ポーラスアルミナ層14を形成する工程で用いられる電解液は、例えば、蓚酸、酒石酸、燐酸、硫酸、クロム酸、クエン酸、リンゴ酸からなる群から選択される酸を含む水溶液である。例えば、アルミニウム膜18の表面18sを、蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、液温10℃)を用いて、印加電圧80Vで55秒間陽極酸化を行うことにより、ポーラスアルミナ層14を形成する。
次に、図2(c)に示すように、ポーラスアルミナ層14をアルミナのエッチャントに接触させることによって所定の量だけエッチングすることにより凹部14pの開口部を拡大する。エッチング液の種類・濃度、およびエッチング時間を調整することによって、エッチング量(すなわち、凹部14pの大きさおよび深さ)を制御することができる。エッチング液としては、例えば10mass%の燐酸や、蟻酸、酢酸、クエン酸などの有機酸や硫酸の水溶液やクロム酸燐酸混合水溶液を用いることができる。例えば、燐酸水溶液(10mass%、30℃)を用いて20分間エッチングを行う。
次に、図2(d)に示すように、再び、アルミニウム膜18を部分的に陽極酸化することにより、凹部14pを深さ方向に成長させるとともにポーラスアルミナ層14を厚くする。ここで凹部14pの成長は、既に形成されている凹部14pの底部から始まるので、凹部14pの側面は階段状になる。
さらにこの後、必要に応じて、ポーラスアルミナ層14をアルミナのエッチャントに接触させることによってさらにエッチングすることにより凹部14pの孔径をさらに拡大する。エッチング液としては、ここでも上述したエッチング液を用いることが好ましく、現実的には、同じエッチング浴を用いればよい。
このように、上述した陽極酸化工程およびエッチング工程を交互に複数回(例えば5回:陽極酸化を5回とエッチングを4回)繰り返すことによって、図2(e)に示すように、反転されたモスアイ構造を有するポーラスアルミナ層14を有するモスアイ用型100Aが得られる。陽極酸化工程で終わることによって、凹部14pの底部を点にできる。すなわち、先端が尖った凸部を形成することができる型が得られる。
図2(e)に示すポーラスアルミナ層14(厚さtp)は、ポーラス層(厚さは凹部14pの深さDdに相当)とバリア層(厚さtb)とを有する。ポーラスアルミナ層14は、合成高分子膜34Aが有するモスアイ構造を反転した構造を有するので、その大きさを特徴づける対応するパラメータに同じ記号を用いることがある。
ポーラスアルミナ層14が有する凹部14pは、例えば円錐形であり、階段状の側面を有してもよい。凹部14pの二次元的な大きさ(表面の法線方向から見たときの凹部の面積円相当径)Dpは20nm超500nm未満で、深さDdは50nm以上1000nm(1μm)未満程度であることが好ましい。また、凹部14pの底部は尖っている(最底部は点になっている)ことが好ましい。凹部14pは密に充填されている場合、ポーラスアルミナ層14の法線方向から見たときの凹部14pの形状を円と仮定すると、隣接する円は互いに重なり合い、隣接する凹部14pの間に鞍部が形成される。なお、略円錐形の凹部14pが鞍部を形成するように隣接しているときは、凹部14pの二次元的な大きさDpは隣接間距離Dintと等しい。ポーラスアルミナ層14の厚さtpは、例えば、約1μm以下である。
なお、図2(e)に示すポーラスアルミナ層14の下には、アルミニウム膜18のうち、陽極酸化されなかったアルミニウム残存層18rが存在している。必要に応じて、アルミニウム残存層18rが存在しないように、アルミニウム膜18を実質的に完全に陽極酸化してもよい。例えば、無機材料層16が薄い場合には、アルミニウム基材12側から容易に電流を供給することができる。
ここで例示したモスアイ用型の製造方法は、特許文献2〜4に記載の反射防止膜を作製するための型を製造することができる。高精細な表示パネルに用いられる反射防止膜には、高い均一性が要求されるので、上記のようにアルミニウム基材の材料の選択、アルミニウム基材の鏡面加工、アルミニウム膜の純度や成分の制御を行うことが好ましいが、殺菌作用に高い均一性は求められないので、上記の型の製造方法を簡略化することができる。例えば、アルミニウム基材の表面を直接、陽極酸化してもよい。また、このときアルミニウム基材に含まれる不純物の影響でピットが形成されても、最終的に得られる合成高分子膜34Aのモスアイ構造に局所的な構造の乱れが生じるだけで、殺菌作用に与える影響はほとんどないと考えられる。
また、上述の型の製造方法によると、反射防止膜の作製に好適な、凹部の配列の規則性が低い型を製造することができる。モスアイ構造の殺菌性を利用する場合には、凸部の配列の規則性は影響しないと考えられる。規則的に配列された凸部を有するモスアイ構造を形成するための型は、例えば、以下のようにして製造することができる。
例えば厚さが約10μmのポーラスアルミナ層を形成した後、生成されたポーラスアルミナ層をエッチングにより除去してから、上述のポーラスアルミナ層を生成する条件で陽極酸化を行えばよい。厚さが10μmのポーラスアルミナ層は、陽極酸化時間を長くすることによって形成される。このように比較的厚いポーラスアルミナ層を生成し、このポーラスアルミナ層を除去すると、アルミニウム膜またはアルミニウム基材の表面に存在するグレインによる凹凸や加工ひずみの影響を受けることなく、規則的に配列された凹部を有するポーラスアルミナ層を形成することができる。なお、ポーラスアルミナ層の除去には、クロム酸と燐酸との混合液を用いることが好ましい。長時間にわたるエッチングを行うとガルバニック腐食が発生することがあるが、クロム酸と燐酸との混合液はガルバニック腐食を抑制する効果がある。
図1(b)に示した合成高分子膜34Bを形成するためのモスアイ用型も、基本的に、上述した陽極酸化工程とエッチング工程とを組み合わせることによって製造することができる。図3(a)〜(c)を参照して、合成高分子膜34Bを形成するための、モスアイ用型100Bの製造方法を説明する。
まず、図2(a)および(b)を参照して説明したのと同様に、型基材10を用意し、アルミニウム膜18の表面18sを陽極酸化することによって、複数の凹部(細孔)14pを有するポーラスアルミナ層14を形成する。
次に、図3(a)に示すように、ポーラスアルミナ層14をアルミナのエッチャントに接触させることによって所定の量だけエッチングすることにより凹部14pの開口部を拡大する。このとき、図2(c)を参照して説明したエッチング工程よりも、エッチング量を少なくする。すなわち、凹部14pの開口部の大きさを小さくする。例えば、燐酸水溶液(10mass%、30℃)を用いて10分間エッチングを行う。
次に、図3(b)に示すように、再び、アルミニウム膜18を部分的に陽極酸化することにより、凹部14pを深さ方向に成長させるとともにポーラスアルミナ層14を厚くする。このとき、図2(d)を参照して説明した陽極酸化工程よりも、凹部14pを深く成長させる。例えば、蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、液温10℃)を用いて、印加電圧80Vで165秒間陽極酸化を行う(図2(d)では55秒間)。
その後、図2(e)を参照して説明したのと同様に、エッチング工程および陽極酸化工程を交互に複数回くり返す。例えば、エッチング工程を3回、陽極酸化工程を3回、交互に繰り返すことによって、図3(c)に示すように、反転されたモスアイ構造を有するポーラスアルミナ層14を有するモスアイ用型100Bが得られる。このとき、凹部14pの二次元的な大きさDpは隣接間距離Dintより小さい(Dp<Dint)。
微生物の大きさはその種類によって異なる。例えば緑膿菌の大きさは約1μmであるが、細菌には、数100nm〜約5μmの大きさのものがあり、真菌は数μm以上である。例えば、2次元的な大きさが約200nmの凸部は、約0.5μm以上の大きさの微生物に対しては殺菌作用を有すると考えられるが、数100nmの大きさの細菌に対しては、凸部が大きすぎるために十分な殺菌作用を発現しない可能性がある。また、ウィルスの大きさは数10nm〜数100nmであり、100nm以下のものも多い。なお、ウィルスは細胞膜を有しないが、ウィルス核酸を取り囲むカプシドと呼ばれるタンパク質の殻を有している。ウィルスは、この殻の外側に膜状のエンベロープを有するウィルスと、エンベロープを有しないウィルスとに分けられる。エンベロープを有するウィルスにおいては、エンベロープは主として脂質からなるので、エンベロープに対して凸部が同様に作用すると考えられる。エンベロープを有するウィルスとして、例えば、インフルエンザウィルスやエボラウィルスが挙げられる。エンベロープを有しないウィルスにおいては、このカプシドと呼ばれるタンパク質の殻に対して凸部が同様に作用すると考えられる。凸部が窒素元素を有すると、アミノ酸から構成されるタンパク質との親和性が強くなり得る。
そこで、数100nm以下の微生物に対しても殺菌作用を発現し得る凸部を有する合成高分子膜の構造およびその製造方法を以下に説明する。
以下では、上記で例示した合成高分子膜が有する、2次元的な大きさが20nm超500nm未満の範囲にある凸部を第1の凸部という。また、第1の凸部に重畳して形成された凸部を第2の凸部といい、第2の凸部の2次元的な大きさは、第1の凸部の2次元的な大きさよりも小さく、かつ、100nmを超えない。なお、第1の凸部の2次元的な大きさが100nm未満、特に50nm未満の場合には、第2の凸部を設ける必要はない。また、第1の凸部に対応する型の凹部を第1の凹部といい、第2の凸部に対応する型の凹部を第2の凹部という。
上述の陽極酸化工程とエッチング工程とを交互に行うことによって、所定の大きさおよび形状の第1の凹部を形成する方法をそのまま適用しても、第2の凹部を形成することができない。
図4(a)にアルミニウム基材(図2中の参照符号12)の表面のSEM像を示し、図4(b)にアルミニウム膜(図2中の参照符号18)の表面のSEM像を示し、図4(c)にアルミニウム膜(図2中の参照符号18)の断面のSEM像を示す。これらのSEM像からわかるように、アルミニウム基材の表面およびアルミニウム膜の表面に、グレイン(結晶粒)が存在している。アルミニウム膜のグレインは、アルミニウム膜の表面に凹凸を形成している。この表面の凹凸は、陽極酸化時の凹部の形成に影響を与えるので、DpまたはDintが100nmよりも小さい第2の凹部の形成を妨げる。
そこで、本発明の実施形態による合成高分子膜の製造に用いられる型を製造する方法は、(a)アルミニウム基材または支持体の上に堆積されたアルミニウム膜を用意する工程と、(b)アルミニウム基材またはアルミニウム膜の表面を電解液に接触させた状態で、第1のレベルの電圧を印加することによって、第1の凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する陽極酸化工程と、(c)工程(b)の後に、ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、第1の凹部を拡大させるエッチング工程と、(d)工程(c)の後に、ポーラスアルミナ層を電解液に接触させた状態で、第1のレベルよりも低い第2のレベルの電圧を印加することによって、第1の凹部内に、第2の凹部を形成する工程とを包含する。例えば、第1のレベルは、40V超であり、第2のレベルは、20V以下である。
すなわち、第1のレベルの電圧での陽極酸化工程で、アルミニウム基材またはアルミニウム膜のグレインの影響を受けない大きさを有する第1の凹部を形成し、その後、エッチングによってバリア層の厚さを小さくしてから、第1のレベルよりも低い第2のレベルの電圧での陽極酸化工程で、第1の凹部内に第2の凹部を形成する。このような方法で、第2の凹部を形成すると、グレインによる影響が排除される。
図5を参照して、第1の凹部14paと、第1の凹部14pa内に形成された第2の凹部14pbとを有する型を説明する。図5(a)は型のポーラスアルミナ層の模式的な平面図であり、図5(b)は模式的な断面図であり、図5(c)は試作した型のSEM像を示す。
図5(a)および(b)に示すように、本実施形態による型の表面は、2次元的な大きさは20nm超500nm未満の範囲内にある複数の第1の凹部14paと、複数の第1の凹部14paに重畳して形成された複数の第2の凹部14pbをさらに有している。複数の第2の凹部14pbの2次元的な大きさは、複数の第1の凹部14paの2次元的な大きさよりも小さく、かつ、100nmを超えない。第2の凹部14pbの高さは、例えば、20nm超100nm以下である。第2の凹部14pbも、第1の凹部14paと同様に、略円錐形の部分を含むことが好ましい。
図5(c)に示すポーラスアルミナ層は、以下の様にして製造した。
アルミニウム膜として、Tiを1mass%含むアルミニウム膜を用いた。陽極酸化液には蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、温度10℃)を使用して、エッチング液には、燐酸水溶液(濃度10mass%、温度30℃)を使用した。電圧80Vにおける陽極酸化を52秒間行った後、エッチングを25分間、続いて、電圧80Vにおける陽極酸化を52秒間、エッチング25分間を行った。この後、20Vにおける陽極酸化を52秒間、エッチングを5分間、さらに、20Vにおける陽極酸化を52秒間行った。
図5(c)からわかるように、Dpが約200nmの第1の凹部の中に、Dpが約50nmの第2の凹部が形成されている。上記の製造方法において、第1のレベルの電圧を80Vから45Vに変更して、ポーラスアルミナ層を形成したところ、Dpが約100nmの第1の凹部の中に、Dpが約50nmの第2の凹部が形成された。
このような型を用いて合成高分子膜を作製すると、図5(a)および(b)に示した第1の凹部14paおよび第2の凹部14pbの構造を反転した凸部を有する合成高分子膜が得られる。すなわち、複数の第1の凸部に重畳して形成された複数の第2の凸部をさらに有する合成高分子膜が得られる。
このように第1の凸部と、第1の凸部に重畳して形成された第2の凸部を有する合成高分子膜は、100nm程度の比較的小さな微生物から、5μm以上の比較的大きな微生物に対して殺菌作用を有し得る。
もちろん、対象とする微生物の大きさに応じて、2次元的な大きさが20nm超100nm未満の範囲内にある凹部だけを形成してもよい。このような凸部を形成するための型は、例えば、以下の様にして作製することができる。
酒石酸アンモニウム水溶液などの中性塩水溶液(ホウ酸アンモニウム、クエン酸アンモニウムなど)や、イオン解離度の小さい有機酸(マレイン酸、マロン酸、フタル酸、クエン酸、酒石酸など)を用いて陽極酸化を行い、バリア型陽極酸化膜を形成し、バリア型陽極酸化膜をエッチングによって除去した後、所定の電圧(上記の第2のレベルの電圧)で陽極酸化することによって、2次元的な大きさが20nm超100nm未満の範囲内にある凹部を形成することができる。
例えば、アルミニウム膜として、Tiを1mass%含むアルミニウム膜を用い、酒石酸水溶液(濃度0.1mol/L、温度23℃)を用いて、100Vにおいて2分間、陽極酸化を行うことによってバリア型陽極酸化膜を形成する。この後、燐酸水溶液(濃度10mass%、温度30℃)を用いて25分間、エッチングすることによって、バリア型陽極酸化膜を除去する。その後、上記と同様に、陽極酸化液には蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、温度10℃)を使用し、20Vにおける陽極酸化を52秒間、上記エッチング液を用いたエッチングを5分間、交互に、陽極酸化を5回、エッチングを4回繰り返すことによって、2次元的な大きさが約50nmの凹部を均一に形成することができる。
上述のようにして、種々のモスアイ構造を形成することができるモスアイ用型を製造することができる。
次に、図6を参照して、モスアイ用型100を用いた合成高分子膜の製造方法を説明する。図6は、ロール・ツー・ロール方式により合成高分子膜を製造する方法を説明するための模式的な断面図である。以下では、上記のロール型を用い、被加工物としてのベースフィルムの表面に合成高分子膜を製造する方法を説明するが、本発明の実施形態による合成高分子膜を製造する方法は、これに限られず、他の形状の形を用いて種々の被加工物の表面上に合成高分子膜を製造することができる。
まず、円筒状のモスアイ用型100を用意する。なお、円筒状のモスアイ用型100は、例えば図2を参照して説明した製造方法で製造される。
図6に示すように、紫外線硬化樹脂34'が表面に付与されたベースフィルム42を、モスアイ用型100に押し付けた状態で、紫外線硬化樹脂34'に紫外線(UV)を照射することによって紫外線硬化樹脂34'を硬化する。紫外線硬化樹脂34'としては、例えばアクリル系樹脂を用いることができる。ベースフィルム42は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムまたはTAC(トリアセチルセルロース)フィルムである。ベースフィルム42は、図示しない巻き出しローラから巻き出され、その後、表面に、例えばスリットコータ等により紫外線硬化樹脂34'が付与される。ベースフィルム42は、図6に示すように、支持ローラ46および48によって支持されている。支持ローラ46および48は、回転機構を有し、ベースフィルム42を搬送する。また、円筒状のモスアイ用型100は、ベースフィルム42の搬送速度に対応する回転速度で、図6に矢印で示す方向に回転される。
その後、ベースフィルム42からモスアイ用型100を分離することによって、モスアイ用型100の反転されたモスアイ構造が転写された合成高分子膜34がベースフィルム42の表面に形成される。表面に合成高分子膜34が形成されたベースフィルム42は、図示しない巻き取りローラにより巻き取られる。
合成高分子膜34の表面は、モスアイ用型100のナノ表面構造を反転したモスアイ構造を有する。用いるモスアイ用型100のナノ表面構造に応じて、図1(a)および(b)に示した合成高分子膜34Aおよび34Bを作製することができる。合成高分子膜34を形成する材料は、紫外線硬化性樹脂に限られず、可視光で硬化可能な光硬化性樹脂を用いることもできる。
表面にモスアイ構造を有する合成高分子膜の殺菌性は、合成高分子膜の物理的構造のみならず、合成高分子膜の化学的性質とも相関関係を有する。例えば、本願出願人は、化学的な性質として、合成高分子膜の表面の接触角(特許文献5)、表面に含まれる窒素元素の濃度(特許文献6)、窒素元素の濃度に加えさらにエチレンオキサイド単位(−CH2CH2O−)の含有率(特許文献7)との相関関係を見出した。
図7に上記特許文献6(図8)に示されているSEM像を示す。図7(a)および(b)は、図1(a)に示したモスアイ構造を有する表面で死に至った緑膿菌をSEM(走査型電子顕微鏡)で観察したSEM像を示す図である。
これらのSEM像を見ると、凸部の先端部分が緑膿菌の細胞壁(外膜)内に侵入している様子が見て取れる。また、図7(a)および図7(b)を見ると、凸部が細胞壁を突き破ったように見えず、凸部が細胞壁に取り込まれたかのように見える。これは、非特許文献1のSupplemental Informationにおいて示唆されているメカニズムで説明されるかもしれない。すなわち、グラム陰性菌の外膜(脂質二重膜)が凸部と近接して変形することによって、脂質二重膜が局所的に1次の相転移に似た転移(自発的な再配向)を起こし、凸部に近接する部分に開口が形成され、この開口に凸部が侵入したのかもしれない。あるいは、細胞が有する、極性を有する物質(栄養源を含む)を取り込む機構(エンドサイトーシス)によって、凸部が取り込まれたのかもしれない。
本発明者が、水を含む液体を殺菌するために好適に用いられる合成高分子膜をさらに検討したところ、特許文献5から7に記載された合成高分子膜は、量産性(転写性)において、改善の余地が残されていることがわかった。その原因として、特許文献5から7に記載の合成高分子膜が、ウレタン結合を有するアクリレートを含む光硬化性樹脂を用いて形成されていたことが考えられる。ウレタン結合を有するアクリレートは粘度が比較的高いので、離型性を低下させる傾向にある。したがって、例えば、ロール・ツー・ロール方式で量産する際に生産性の低下を招く。
なお、量産性および耐水性の観点からは、本出願人による特願2017−164299号に記載されているように、窒素元素およびフッ素元素を含まない合成高分子膜が好ましい。窒素元素を含む、4級アンモニウム塩やアミノ基、アミド基を含有した化合物は離型剤への浸透性が高いため、離型性を低下させることが懸念される。したがって、例えば、ロール・ツー・ロール方式で量産する際に生産性の低下を招く。また、窒素元素を含む上記化合物は極性が高いので、耐水性に対して不利に作用する。ただし、アミノ基(アミン)の内、第3級アミノ基(第3級アミン)は、第1級および第2級アミノ基(アミン)よりも極性が低いので、量産性(転写性)および/または耐水性の低下に対する悪影響は小さい。一方、フッ素元素を含むアクリレートを用いると、離型性には有利に作用するが、撥水性が高く、水が浸透しにくくなる。その結果、水を含む液体を殺菌する効果が弱まることが懸念される。参考のために特願2017−164299号の開示内容のすべてを本明細書に援用する。
窒素元素は、殺菌作用を増大させる性質を有するので、窒素元素を含まない合成高分子膜における殺菌作用の低下が懸念されるが、上記特願2017−164299号に記載の様に、架橋構造に窒素元素およびフッ素元素を含まない、殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜を得ることができる。
本発明者が、種々の組成の光硬化性樹脂を用いて形成した合成高分子膜の殺菌性を評価したところ、合成高分子膜がある種の有機カルボン酸を含んでいる場合、モスアイ構造を有する表面による殺菌性が向上させられることを見出した。有機カルボン酸は、合成高分子膜に含まれていればよく、光硬化性樹脂が、光分解によって有機カルボン酸を生成してもよい。光分解によって有機カルボン酸を生成する化合物は、開始剤(光重合開始剤)であってもよいし、開始剤として機能しない化合物(「光酸発生剤」ということにする。)であってもよい。光硬化性樹脂として、ラジカル重合性の光硬化性樹脂を用いる場合、ラジカルを発生せず、有機カルボン酸を生成する、光酸発生剤を用いればよい。
有機カルボン酸および/または光分解によって有機カルボン酸を生成する化合物(開始剤および/または光酸発生剤)は、光硬化性樹脂組成物の全体に対して、概ね1質量%以上10質量%以下混合すればよい。1質量%未満であると殺菌性を向上させる効果が得られないことがあり、約10質量%を超えると、硬化物(光硬化された樹脂組成物)の物性を低下させる恐れがある。硬化物の物性への影響を抑制するためには約5質量%以下が好ましい。具体的には、光硬化性樹脂の種類、有機カルボン酸および/または光分解によって有機カルボン酸を生成する化合物の種類に応じて、配合量を適宜調整すればよい。
ある種の有機カルボン酸は、殺菌性(または抗菌性)を有しており、例えば、食品の保存料として用いられている。有機カルボン酸は、種々のメカニズムで、殺菌性(抗菌性)を発現すると考えられている。メカニズムには、(1)周囲のpHを低下させることによるもの、および(2)非解離の酸が細胞膜を通過し、細胞内のpHを低下させることによるものがある。メカニズム(2)は、弱酸(解離定数が小さい)ほど寄与が大きくなる。例えば、Rosa M. Raybaudi-Massilia他、"Control of Pathogenic and Spoilage Microorganisms in Fresh-cut Fruits and Fruit Juices by Traditional and Alternative Natural Antimicrobials", COMPREHENSIVE REVIEWS IN FOOD SCIENCE AND FOOD SAFETY, Vol.8, pp.157-180,2009(特にp.162)を参照。
後に実験例を示して説明するように、本発明の実施形態よる有機カルボン酸を含む合成高分子膜の殺菌性は、上記のメカニズム(1)および(2)によって向上させられたと考えられる。
本発明の実施形態による合成高分子膜は、ロール・ツー・ロール方式で量産することができる。したがって、量産性を考慮すると、上述した様に、架橋構造が窒素元素(ウレタン結合を構成する)を含まない合成高分子膜を用いることが好ましい。しかしながら、本発明の実施形態による合成高分子は、これに限られず、種々の方法で製造することができるので、架橋構造が窒素元素を含んでもよい。
[合成高分子膜]
組成の異なる紫外線硬化性樹脂を用いて、図1(a)に示したフィルム50Aと同様の構造を有する試料フィルムを作製した。使用した原材料を表1に示す。
合成高分子膜の試料フィルムとしては、特許文献5〜7に記載の合成高分子膜の様に、窒素元素を含む参考例、本発明の実施形態による実施例または参考例1から16、および比較例1〜6を作製した。参考例の組成を表2に、実施例または参考例1〜16の組成を表3に、比較例1〜6の組成を表4にそれぞれ示す。なお、参考例15は、参考例3と同じ紫外線硬化性樹脂組成物に、水を加えた樹脂組成物を用いた。水は合成高分子膜にほとんど残らないと考えられるので、表1の組成には含めていない。水の添加量は、アクリルモノマー(M280)100gに対して5gとした。水を含む組成物の全体を100%として組成を表すと、M280:93.9%、819:1.4%、水:4.7%である。
ベースフィルム42Aとしては、厚さが50μmのPETフィルム(東洋紡株式会社製A4300)を用いた。合成高分子膜の製造方法は、図6を参照して説明したのと同様の方法で、モスアイ用型100Aを用いて、表面にモスアイ構造を有する合成高分子膜34Aを作製した。露光量は約200mJ/cm2(波長が375nmの光を基準)とした。各試料フィルムにおけるDpは約200nm、Dintは約200nm、Dhは約150nmであった。いずれも無溶剤で合成高分子膜を作製した。
なお、表1中の有機酸の水溶性の欄に記載の数値は、下記の溶解度指数を示す。
溶質が約20℃〜約25℃の水に溶ける程度を、溶質1gまたは1mLを溶かすのに必要な水の量に基づいて、下記に示す、溶解度指数(1〜7)および用語を用いる。
1:極めて溶けやすい 1mL未満
2:溶けやすい 1mL以上 10mL未満
3:やや溶けやすい 10mL以上 30mL未満
4:やや溶けにくい 30mL以上 100mL未満
5:溶けにくい 100mL以上 1000mL未満
6:極めて溶けにくい 1000mL以上 10000mL未満
7:ほとんど溶けない 10000mL以上
各試料フィルムについて、殺菌性、転写性およびフィルム表面特性の評価結果を下記の表5〜7に示す。表5は参考例、表6は実施例または参考例1〜16、表7は比較例1〜6について示す。フィルム表面特性としては、合成高分子膜表面における水滴の濡れ広がりやすさおよび水滴のpHの変化を評価した。
[殺菌性の評価]
試料フィルム上に飛散した菌液(水)に対する殺菌性を評価した。菌液を付与した試料フィルムを室温・大気中に放置した際の殺菌性を評価した。ここでは、黄色ブドウ球菌に対する殺菌性を評価した。具体的な評価方法は以下の通りである。各試料フィルムについて、N=3で実験を行った。
各試料フィルムは、予め25℃、RH50%または60℃、RH90%で2週間放置した後、エタノールを含ませたベンコットン(旭化成株式会社製、キュプラ長繊維不織布)で表面を拭取ったものを用いた。
(1)初期菌数が1E+06CFU/mLとなるように、黄色ブドウ球菌を含む菌液を1/500NB培地を用いて調製した。
(2)各試料フィルム(5cm角)の上に、上記菌液10μLを滴下した。
(3)室温(約25℃)、大気中に、15分間、放置した後、SCDLP培地を試料フィルムにかけ流し、菌を洗い出した(洗い出し液)。
(4)洗い出し液を適宜PBSで希釈を行い、標準寒天培地等で培養し、菌数をカウントした。
殺菌性は、参照フィルムの殺菌性を基準に評価した。参照フィルムとして、ベースフィルムとして用いた、厚さが50μmのPETフィルム(東洋紡株式会社製A4300)を用いた。PETフィルムについて、上記の手順で菌数をカウントし、このPETフィルムについて得られた菌数に対する、各試料フィルムの菌数の比率(%)で、各試料フィルムの殺菌性を評価した。具体的には、下記の式に従って、生菌率を求めた。
生菌率(%)=各試料フィルムの菌数(N=3の合計)/PETフィルムの菌数(N=3の合計)×100
殺菌性の判定基準は、25℃、RH50%および60℃、RH90%の両方の条件について、生菌率に基づいて、◎:0%、〇:0%超10%未満、△:10%以上50%未満、×:50%以上とした。すなわち、生菌率が50%未満であれば使用可とした。
[転写性の評価]
転写性を評価するために、ガラス基板(約5cm×約5cm)上にアルミニウム膜(厚さ:約1μm)を形成し、このアルミニウム膜に陽極酸化とエッチングとを交互に繰り返すことによって、上記同様のポーラスアルミナ層(Dpは約200nm、Dintは約200nm、Dhは約150nm)を形成した。得られたポーラスアルミナ層の表面に酸素プラズマ洗浄(100W、25秒)を施し、水に対する接触角を125°〜130°に調整した。これは、紫外線硬化性樹脂に対する型の表面の離型性を低下させるためである。
紫外線硬化性樹脂を用いて、PETフィルム上に、合成高分子膜を10回作製した。PETフィルム上に合成高分子膜を形成することを、合成高分子膜をPETフィルム上に転写すると表現する。紫外線照射には、Fusion UV Systems社製のUVランプ(製品名:LIGHT HANMAR6J6P3)を用い、露光量は約200mJ/cm2(375nmの光を基準)とした。なお、転写は、手で行い、10回転写し、転写時の軽さ(型を合成高分子膜から引きはがすのに必要な力の程度)の感覚、および転写時の型の表面の状態を指標とした。
◎: 初期から10回目まで変わらず軽く剥離できる。
〇: 初期は軽いが、徐々に重くなる傾向がある。
△: 初期から重いが、型の表面に合成高分子膜(紫外線硬化樹脂)が残存する等の不具合の発生なし。
×: 10回の転写中に、型の表面に合成高分子膜が残存する不具合が発生。
ここで、◎、〇および△のものを使用可とした。
[フィルム表面特性の評価:合成高分子膜上の水の広がり程度およびpH測定]
脱イオン水を0.01mol/L−塩酸および0.011mol/L−水酸化ナトリウムにてpH=7.0±0.1に調整した。すなわち、このようにして、中性の水を用意した。
各試料フィルム表面にマイクロピペットにて上記pH調整水を0.2cc(200μL)滴下後、5minまでの最大広がり径(面積円相当径)を測定し、各5回の平均値を用いた。
pHの測定は、以下の様にして行った。
上記と同様に、各試料フィルム表面にマイクロピペットにて上記pH調整水を0.2cc(200μL)滴下し、5分経過後に、各試料フィルム表面の水溶液(水に合成高分子からの抽出物が溶解したもの)を下記の平板用電極にて測定を行い、各5回の平均値を用いた。
ただし、水の広がりが20mmに満たない試料フィルムについては、pH測定時に水滴の径が広がってしまうため、サンプリングシートを用い評価を行った。
電極:株式会社堀場製作所製、pH電極、型番:0040−10D(半導体センサ)
サンプリングシート:株式会社堀場製作所製、サンプリングシートB、型番:Y011A
[酸の同定]
各試料フィルムから水に抽出される酸をGC−MS(ガスクロマトグラフ質量分析計)を用いて以下のようにして同定した。
ガラス容器に各試料フィルム100cm2に対し10mLのTHFを加え50℃×3日間浸漬した後、0.45μmメンブレンフィルターにてろ過を行った。
溶出液0.1mLを熱分解用カップ中で濃縮後、メチル化剤Tetramethylammonium Hydroxide水溶液を10μL添加し、メチル化処理を行ったのち下記条件にて測定を行った。
熱分解装置:FRONTIER LAB 社製 EGA/PY−3030D
条件: 400℃/30sec
GC−MS装置: Agilent Technologies 社製 7890A(GC) 5975C(MS)
カラム: FRONTIER LAB 製 UA5HT−30M−0.1F
条件:オーブン 40℃⇒320℃(20℃/min)
カラム流量 1mL/min
スプリット比 100:1
表5に示した参考例の試料フィルムは、合成高分子膜がウレタン結合を有するので、転写性が悪い。したがって、殺菌性には優れるものの、量産性に乏しいという欠点がある。
参考例A以外の参考例、実施例および比較例の試料フィルムは、いずれも、合成高分子膜がウレタン結合を有しないので、転写性に優れている。
実施例または参考例1〜16の合成高分子膜は、エチレンオキサイド単位(EO単位)を有するアクリルモノマー(M280)を含む紫外線硬化性樹脂組成物を用いて形成されている。したがって、適度な親水性を有しており、モスアイ構造を有する表面は、超親水性表面となっている。なお、実施例10〜13の合成高分子膜は、ACMO(単官能アクリモノマー)を含む。これは、比較例2の合成高分子膜において、ドデカン二酸を溶解するためにACMOを添加したので、それとアクリルモノマー成分を整合させるためである。ACMOは窒素元素を含むが、その窒素元素は第3級アミンを構成するものであり、第1級および第2級アミンほど極性は強くない。
比較例6の合成高分子膜は、エチレンオキサイド単位を含まない。したがって、親水性が乏しい。これは、表7において、水が広がる程度(面積円相当径)が20mm以下と小さいことに現れている。
比較例5も水の広がる程度が小さい。比較例5は、参考例16と離型剤の種類が違うだけで、他の成分の組成は同じである。このことから、フッ素含有の離型剤を用いると、転写性は改善される反面、殺菌性が低下することがわかる。また、その原因として、水の広がる程度が重要であることがわかる。殺菌性が認められている試料で、水の広がる程度がもっとも小さいのは、参考例の28.5mmであり、少なくとも20mm以上であることが好ましく、30mm以上がさらに好ましいと考えられる。一方、シリコーン系界面活性剤を用いた参考例16では、転写性が向上させられるとともに、水が広がる程度も大きくなり、殺菌性にも優れている。離型剤としては、シリコーン系界面活性剤のように、表面に局在し、水が広がる程度をより大きくするとともに転写性を向上させるものが好ましい。
実施例または参考例と比較例との比較から、殺菌性は、水の広がりの程度に加え、水溶液のpHとも相関があることがわかる。
まず、参考例1と比較例1とを比較する。参考例1と比較例1との違いは、重合開始剤の種類だけである。参考例1で用いた重合開始剤819は、光分解によって、2,4,6−トリメチル安息香酸(TMBA)を生成する。これはGC−MASによって確認された。一方、比較例1で用いた重合開始剤OXE02は、光分解によって酸を発生しない。その結果、比較例1は水の広がりの程度は30mmであり、参考例1の水の広がりの程度31.5mmと遜色ないにも拘わらず、pHが7.2であるため、殺菌性を有していない。
参考例1〜4で用いた重合開始剤819は光分解によってTMBAを生成する。参考例5、6で用いた重合開始剤TPOは、TMBAとジフェニルホスホン酸(DPPA)とを生成する。実施例7、8で用いた重合開始剤OXE01は、安息香酸(BA)を生成する。したがって、実施例または参考例1〜8の合成高分子膜の水溶液のpHは5以下であり、かつ、水が広がる程度も30mm以上であり、良好な殺菌性を有する。参考例1〜4で用いた重合開始剤819は、1分子当り、最大2分子のTMBAを生成することができるので、好ましい。また、参考例1〜4の結果から、光硬化性樹脂組成物の全体に対する重合開始剤819の含有率は、2質量%以上であることが好ましい。
実施例または参考例9〜14は、酸を生成しない重合開始剤OXE02を用いて、別途、それぞれ有機カルボン酸を添加した。いずれも良好な殺菌性を有している。これら有機カルボン酸の水に対する溶解度は、いずれも、有機カルボン酸1gを溶解するために必要な水の量が、10mL以上10000mL未満(溶解度指数が3〜6)である。100mL以上であることが好ましく、200mL以上であることがさらに好ましく、2000mL未満であることが好ましい。有機カルボン酸の水に対する溶解度が高すぎると、高温高湿度下における殺菌効果が早く低下してしまう。
参考例14は、参考例9の組成に、さらにフェニルホスホン酸(PPA)を添加したものであり、参考例9よりも、殺菌性が優れている。これは、TMBAよりも強い酸であるPPAを添加することによって、TMBAの解離が抑制された結果、TMBAが細胞内に取り込まれることによる殺菌作用が発現したと考えられる。
このように、合成高分子膜の表面に滴下した水が早く濡れ広がることが殺菌性に有利に作用する。この過程で、水に抽出された酸によって、水溶液(水滴)のpHが比較的短時間で低下する(酸性になる)。このpHの低下による殺菌作用が効果的に働く。5分後のpHは5以下であることが好ましい。pHが5以下であると、解離してない有機カルボン酸が細胞内に取り込まれることによる殺菌作用が効果的に働く。また、りん酸やスルホン酸など、有機カルボン酸よりも強い酸を含むと、有機カルボン酸の解離がさらに抑制されるので好ましい。
比較例2のドデカン二酸は水に対する溶解度(溶解度指数7)が非常に低いので、有機カルボン酸による殺菌効果を発現していない。一方、比較例3の酢酸および比較例4のフェニルホスホン酸は、水に対する溶解度(溶解度指数1)が極めて高いので、殺菌性が低く、特に、高温高湿における殺菌性が低い。
本発明の実施形態による合成高分子膜に好適に用いられる有機カルボン酸としては、下記のものを挙げることができる。
ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸などの脂肪酸類
安息香酸、2,4,6−トリメチル安息香酸、サリチル酸などの芳香族カルボン酸類
コハク酸、フマル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、o−フタル酸等の2塩基酸類などが挙げられる。
溶解度や安全性の観点から、スベリン酸、セバシン酸および2,4,6−トリメチル安息香酸が好適に用いられる。これらの有機カルボン酸1gを溶解するために必要な水の量は、200mL以上2000mL未満である。
有機カルボン酸は、合成高分子膜に含まれていればよく、光硬化性樹脂が、光分解によって有機カルボン酸を生成してもよい。光分解によって有機カルボン酸を生成する化合物は、上述したように、開始剤であってもよいし、開始剤として機能しない光酸発生剤であってもよい。光硬化性樹脂として、ラジカル重合性の光硬化性樹脂を用いる場合、ラジカルを発生せず、有機カルボン酸を生成する、光酸発生剤を用いればよい。光分解によって有機カルボン酸を生成する化合物は、転写性を低下させ難いという利点も有する。また、有機カルボン酸と、他の水溶性の有機酸(カルボン酸よりも強い酸)とを同時に発生させることができるという利点も有し得る。
有機カルボン酸を生成する光酸発生剤としては、公知の光酸発生剤から選択すればよく、例えば、6−ジアゾ−5,6−ジヒドロ−5−オキソ−1−ナフタレンスルホン酸等のナフタレンジアジド系、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系、4−{4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]−α,α−ジメチルベンジル}フェノール等の多価フェノール系等を挙げることができる。
参考例15は、上述した様に、参考例3と同じ紫外線硬化性樹脂組成物に水を加えた樹脂組成物を用いた。表6の結果から、参考例15は参考例3よりも優れた殺菌性を有している。参考例3で用いた紫外線硬化性樹脂組成物に水を加えることによって、有機カルボン酸が抽出され易くなり、pHを低下させ、また、表面の親水性が増すことによって、水が広がる程度が増大したと考えられる。
紫外線硬化樹脂組成物に水を添加・混合すると、安定性が低下するので、水の添加は、上述した製造方法における光照射工程の直前に行うことが好ましい。水の量は、光硬化性樹脂組成物の全体に対して、1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。1質量%よりも少ないと添加した効果が得られないことがあり、10質量%を超えると、均一な組成物が得られないことがある。
紫外線硬化性樹脂に含まれる重合開始剤の種類を変えて、参考例17〜19の試料フィルムを作製した。参考例17〜19の組成を表8に示す。参考例17〜19の試料フィルムは、上述の実施例または参考例1〜16と同様の方法で作製し、実施例または参考例1〜16と同様の方法で、殺菌性、転写性およびフィルム表面特性の評価を行った。参考例17〜19の試料フィルムについて、殺菌性、転写性およびフィルム表面特性の評価結果を表9に示す。
参考例17〜19は、重合開始剤の種類においてのみ異なる。参考例17では重合開始剤として819を用い、参考例18では重合開始剤としてTPOを用い、参考例19では重合開始剤として819およびTPOを用いた。光硬化性樹脂組成物の全体に対する重合開始剤の含有率は、参考例17〜19のいずれにおいても2質量%とした。
参考例17〜19の合成高分子膜は、いずれも、5分後の水溶液のpHが5以下であり、かつ、水が広がる程度も20mm以上であり、良好な殺菌性を有する。また、参考例17〜19の合成高分子膜は、いずれもウレタン結合を有しないので、転写性に優れている。表9の結果から、参考例19は参考例17よりも優れた殺菌性を有している。参考例19は、TMBAに加えて、TMBAよりも強い酸であるDPPAをさらに有することによって、TMBAの解離が抑制され、優れた殺菌性を発現したと考えられる。なお、参考例18もTMBAとDPPAとを有するが、参考例19は参考例18に比べても優れた殺菌性を有している。重合開始剤TPOは、1分子当り、最大1分子のTMBAを生成することができるのに対し、重合開始剤819は、1分子当り、最大2分子のTMBAを生成することができるので、重合開始剤819およびTPOの両方を有する参考例19が優れた殺菌性を有していると考えられる。例えば、光硬化性樹脂組成物の全体に対する重合開始剤819の含有率が1質量%以上であり、重合開始剤TPOの含有率が1質量%以上であることが好ましい。
ここまで、表面にモスアイ構造を有する合成高分子膜を例示してきたが、本発明の実施形態はこれに限られない。本発明の実施形態による合成高分子膜は、表面に複数の凸部を有しており、合成高分子膜の法線方向から見たとき、複数の凸部の2次元的な大きさは500nm以上であってもよい。このような構造を有する合成高分子膜においても、表面にモスアイ構造を有する合成高分子膜と同様の効果が得られる。また、凸部に限られず、凹部であってもよく、本発明の実施形態による合成高分子膜は、表面に複数の凸部または凹部を有し、合成高分子膜の法線方向から見たとき、複数の凸部または凹部の2次元的な大きさは500nm以上であってもよい。
表10に示す組成の紫外線硬化性樹脂を用いて、実施例20および参考例21の試料フィルムを作製した。実施例20および参考例21の組成を表10に示す。実施例20および参考例21の試料フィルムは、図1(a)に示したフィルム50Aと、合成高分子膜34Aの表面構造において異なる。実施例20および参考例21の試料フィルムが有する合成高分子膜を作製するために、以下のような型試料を用意した。実施例20の型試料は、ガラス基板(5cm×10cm)上にアルミニウム合金層(厚さ:0.6μm)を形成し、アルミニウム合金層の上に高純度アルミニウム層(厚さ:0.4μm、アルミニウムの純度:99.99質量%以上)を形成することによって得た。アルミニウム合金層は、アルミニウム(Al)とチタン(Ti)とを含み、アルミニウム合金層中のTiの含有率は、0.5質量%であった。参考例21の型試料は、ガラス基板(5cm×10cm)上に高純度アルミニウム層(厚さ:4μm、アルミニウムの純度:99.99質量%以上)を形成することによって得た。このような型試料を用いたこと以外は上述の実施例または参考例1〜16と同様の方法で、実施例20および参考例21の試料フィルムを作製した。
本出願人による国際公開第2016/084745号に記載されているように、AlとTiとを含むアルミニウム合金層の組成および/または成膜条件(例えばアルミニウム合金層の厚さ)を調整することにより、アルミニウム合金層の表面に存在する複数の結晶粒の結晶粒径を調整することができる。また、本出願人による国際公開第2011/052652号に記載されているように、基板(例えばガラス基板)上に形成するアルミニウム膜の成膜条件を調整することにより、アルミニウム膜の表面に存在する複数の結晶粒の結晶粒径を調整することができる。このようなアルミニウム合金層またはアルミニウム膜に対して、陽極酸化とエッチングとを交互に行うことにより得られたポーラスアルミナ層を型として用いると、アンチグレア機能を発現する反射防止膜を形成することができる。ただし、実施例20および参考例21の試料フィルムを形成するための型試料は、高純度アルミニウム層に対して陽極酸化およびエッチングを施さずに得たものである。国際公開第2016/084745号および国際公開第2011/052652号の開示内容の全てを参考のために本明細書に援用する。
図8(a)に実施例20の型試料の表面のSEM像を示し、図8(b)に参考例21の型試料の表面のSEM像を示す。SEM像から複数の結晶粒の2次元的な大きさを以下のようにして求めた。
図8(a)および図8(b)に示すように、型試料の表面SEM像(10000倍)から9μm×12μmの領域を選択した。選択した領域の中から、大部分の結晶粒と比べて不連続的に大きな結晶粒(「異常粒子」ということがある。)を除いて、結晶粒を20個任意に選択し、それらの面積円相当径の平均値を求めた。例えば、図8(a)のSEM像の右上および上部中央付近に見える、粒径が特に大きい粒子が異常粒子である。実施例20および参考例21の型試料は、結晶粒に対応する凸部を有し、結晶粒界に凹部を有している。
実施例20および参考例21の試料フィルムは、型試料の表面形状を反転させた形状を有しており、表11に示す、実施例20および参考例21の「2次元的な大きさ」は、実施例20および参考例21の型試料が表面に有する複数の凸部の2次元的な大きさとした。
実施例20および参考例21の試料フィルムについて、上述した実施例または参考例1〜16と同様の方法で、殺菌性、転写性およびフィルム表面特性の評価を行った。実施例20および参考例21の試料フィルムについて、殺菌性、転写性およびフィルム表面特性の評価結果を下記の表11に示す。
実施例20および参考例21の合成高分子膜は、いずれも、5分後の水溶液のpHが5以下であり、かつ、水が広がる程度も20mm以上であり、良好な殺菌性を有する。また、実施例20および参考例21の合成高分子膜は、いずれもウレタン結合を有しないので、転写性に優れている。
実施例20および参考例21の結果から、本発明の実施形態による合成高分子膜が表面に有する複数の凹部が、例えば500nm以上1μm以下の範囲内にあるものは、良好な殺菌性を有する。すなわち、5分後の水溶液のpHが5以下であり、かつ、水が広がる程度も20mm以上であれば、合成高分子膜が表面に有する構造が、複数の凸部であっても複数の凹部であっても良好な殺菌性を有すると考えられる。このとき、複数の凸部または複数の凹部の2次元的な大きさは、20nm超1μm以下の範囲内にあればよいと考えられる。
実施例20および参考例21の型試料は、所望の大きさ(例えば、平均粒径が500nm以上1μm以下)の結晶粒径を形成するだけで得られるので(すなわちモスアイ用型の様に陽極酸化等を行う必要が無いので)、低コストで製造され得る。また、転写性に優れるという利点も有している。
ここでは、紫外線硬化性樹脂を例示したが、可視光硬化性樹脂を用いることもできる。ただし、保存性や作業性の観点から、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
本発明の実施形態による合成高分子膜は、その表面に付着した水を短時間で殺菌することができる。したがって、ハンドドライヤの手挿入空間の内面に配置することによって、感染を抑制・防止することができる。
本発明の実施形態による合成高分子膜は、短時間で水を殺菌することが望まれる用途に好適に用いられる。
34A、34B 合成高分子膜
34Ap、34Bp 凸部
42A、42B ベースフィルム
50A、50B フィルム
100、100A、100B モスアイ用型

Claims (8)

  1. 複数の凸部または凹部を有する表面を備え、前記表面が殺菌作用を有する合成高分子膜であって、
    架橋構造を有し、前記架橋構造は、ウレタン構造を構成する窒素元素を含まず、
    前記合成高分子膜は、有機カルボン酸を含み、前記有機カルボン酸1gを溶解するために必要な水の量が10mL以上10000mL未満であり、
    前記合成高分子膜の前記表面に200μLの水を滴下後、5分後の水溶液のpHが5以下であり、前記水溶液の面積円相当径が20mm以上であり、
    前記複数の凸部または凹部は、モスアイ構造を構成する複数の凸部であって、前記合成高分子膜の法線方向から見たときの2次元的な大きさが20nm超500nm未満の範囲内にある複数の凸部、または、アルミニウム層が有する複数の結晶粒の表面形状が反転された複数の凹部であって、前記合成高分子膜の法線方向から見たときの2次元的な大きさが500nm以上1μm以下の範囲内にある複数の凹部であり、
    前記合成高分子膜は、光重合開始剤を含む光硬化性樹脂から形成されており、
    前記有機カルボン酸は、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、安息香酸、サリチル酸、コハク酸、フマル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸およびo−フタル酸からなる群から選択された少なくとも1つを含む、合成高分子膜。
  2. 前記合成高分子膜は、前記有機カルボン酸よりも強い酸をさらに含む、請求項1に記載の合成高分子膜。
  3. 前記有機カルボン酸は、スベリン酸またはセバシン酸である、請求項1または2に記載の合成高分子膜。
  4. 前記有機カルボン酸は、前記光重合開始剤の光分解によって生成されたものを含む、請求項1から3のいずれかに記載の合成高分子膜。
  5. 前記光重合開始剤は、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシドを含む、請求項4に記載の合成高分子膜。
  6. 前記光重合開始剤は、ジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシドをさらに含む、請求項5に記載の合成高分子膜。
  7. 前記架橋構造はエチレンオキサイド単位を含む、請求項1から6のいずれかに記載の合成高分子膜。
  8. 請求項1から7のいずれかに記載の合成高分子膜の前記表面に、水を含む液体を接触させることによって、前記液体を殺菌する方法。
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