JP6039397B2 - 防眩フィルム製造用金型の製造方法および防眩フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、防眩フィルムおよびそのための金型の製造方法、防眩フィルムの製造方法に関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、従来から画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するために防眩フィルムが使用されている。

このような防眩フィルムとして、たとえば特開２００８−２１６５３９号公報（特許文献１）には、白ちゃけが発生せず、十分な防眩性を得るために反射鮮明度を所定の範囲内とした防眩フィルムとして、透明基材上に、バインダマトリックス、粒子を含む防眩層を備える防眩フィルムであって、該防眩フィルムの防眩層を備えた側の表面での５°反射率が２．４％〜４．４％であり、且つ、該防眩フィルムの防眩層を備えた側での反射鮮明度（Ｃ_{（０．５）}＋Ｃ_{（１．０）}＋Ｃ_{（２．０）}）が２０％〜７０％であり、且つ、前記バインダマトリックスの屈折率と前記粒子の屈折率との屈折率差が０．０７以下であることを特徴とする防眩フィルムが開示されている。

また、たとえば特開２００６−０５３３７１号公報（特許文献２）には、白ちゃけが発生せず、十分な防眩性を得るために反射鮮明度を所定の範囲内とした防眩フィルムとして、表面に凹凸が形成されている防眩フィルムであって、垂直入射光に対するヘイズが５％以下であり、暗部と明部の幅が０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである３種類の光学くしを用いて光の入射角４５゜で測定される反射鮮明度の合計が５０％以下であり、そして入射角３０゜で入射した光に対し、反射角３０゜の反射率Ｒ（３０）が１％以下であり、反射角４０゜の反射率Ｒ（４０）が０．０００５％以上であり、かつ、反射角６０°以上の任意の方向における反射率をＲ（６０以上）として、Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）の値が０．００１以下であることを特徴とする防眩フィルムが開示されている。また、特許文献２には、研磨された金属の表面に微粒子をぶつけることにより凹凸を形成し、その凹凸面に無電解ニッケルメッキを施して金型とし、該金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写し、次いで凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを特徴とする防眩フィルムの製造方法も開示されている。

特開２００８−２１６５３９号公報 特開２００６−０５３３７１号公報

しかしながら、特許文献１に開示された防眩フィルムは、反射鮮明度の値が２０％以上であるため、防眩性が不十分であった。また、特許文献１に開示された防眩フィルムでは、防眩性を向上させた場合には正反射除去方式で測定した視感反射率が１．２％を超える可能性が高く、結果として白ちゃけが発生する虞があった。

また特許文献２に開示された防眩フィルムについても、白ちゃけが発生し、画像表示装置の表面に配置した際のコントラスト、特に明所コントラストが低下するという可能性が高い。また、特許文献２に開示された防眩フィルムは、サンドブラスト加工によって凹凸形状を形成した金型を使用して作製されるため凹凸形状の精度の点で充分でなく、特に、５０μｍ以上の周期を持つ比較的大きな凹凸形状を有する場合があるため「ギラツキ」が発生しやすかった。

防眩フィルムには、（１）優れた防眩性、画像表示装置の表面に配置した際に良好なコントラストを発現すること、（２）画像表示装置の表面に配置した際に散乱光によって表示面全体が白っぽくなり、表示が濁った色になる、いわゆる「白ちゃけ」の発生を抑制すること、ならびに、（３）画像表示装置の表面に配置した際に画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉し、結果として輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」の発生を抑制することが要望されている。さらに、ムラなどの品質上の不具合が無いことが必要である。

このように防眩フィルムは優れた防眩性を発現することが好ましいが、優れた防眩性を発現させるために微細凹凸表面の凹凸の高低差を大きくすると、白ちゃけが発生し、画像表示装置の表面に配置した際のコントラスト、特に明所コントラストが低下するという問題があった。

優れた防眩性を得るためには、たとえば以下の方法が考えられる：
（Ａ）防眩層の上に反射防止層（たとえば透明支持体／防眩層／低屈折率層や透明支持体／防眩層／高屈折率層／低屈折率層などの構成が挙げられる）を形成し、反射率の低減によって防眩性の不足を補う方法、
（Ｂ）防眩層の表面凹凸形状の高低差を大きくし、表面凹凸形状から発生するヘイズを大きくする方法、
（Ｃ）防眩層内部に粒子を添加し、防眩層内部にヘイズを持たせて、防眩層の表面凹凸形状が形成されている側とは反対側からの反射を散乱させて、見かけの防眩性を向上させる方法。

しかしながら、上記（Ａ）の方法では、防眩層の上に均一な膜厚を有する反射防止層を形成する必要があるため、コスト高になるという不具合が考えられ、また、反射防止層の膜厚の均一性が不十分な場合にはムラなどの品質上の不具合が発生することとなる。また上記（Ｂ）の方法では、防眩性は向上するが、正反射除去方式で測定した視感反射率も増加し、コントラストが低下するという不具合がある。また、上記（Ｃ）の方法では、内部ヘイズによってコントラストが低下してしまう。

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、反射鮮明度が十分に低く、優れた防眩性を示しつつ、画像表示装置に配置した際の白ちゃけの発生が非常に少なく、明所でのコントラストが良好である防眩フィルムを提供することである。また本発明は、上述のような防眩フィルムを製造するための金型を製造する方法、ならびに、当該金型を用いた防眩フィルムの製造方法を提供することもその目的とする。

本発明の防眩フィルムは、透明支持体、および、該透明支持体上に形成され該透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を含む防眩フィルムであって、正反射除去方式で測定した視感反射率が１．２％以下であり、暗部と明部の幅が０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである３種類の光学くしを用いて光の入射角４５゜で測定される反射鮮明度の合計が２０％以下であることを特徴とする。

本発明の防眩フィルムは、暗部と明部の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定される透過鮮明度の合計が１５０％以上であることが好ましい。

本発明の防眩フィルムは、ヘイズが０．５％以上４％以下であることが好ましい。
本発明はまた、上述した本発明の防眩フィルムを製造するために用いられる金型を製造する方法であって、金型用基材の表面に銅めっきを施す第１めっき工程と、第１めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜を形成する感光性樹脂膜形成工程と、感光性樹脂膜上にパターン露光する露光工程と、パターン露光された感光性樹脂膜を現像する現像工程と、現像された感光性樹脂膜をマスクとしてエッチング処理を行い、めっき面に凹凸を形成する第１エッチング工程と、エッチング処理後に感光性樹脂膜を剥離する感光性樹脂膜剥離工程と、第１エッチング工程によって形成された凹凸面をエッチング処理によって鈍らせる第２エッチング工程と、第２エッチング工程によって鈍らされた凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含み、前記パターンのパワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが空間周波数０．０３μｍ^−１以上０．０８μｍ^−１以下に極大値を有し、かつ、該極大値の位置をＡμｍ^−１とし、第２エッチング工程のエッチング深さをＢμｍとしたときに以下の関係式を満たすことを特徴とする防眩フィルム製造用金型の製造方法についても提供する。

本発明はさらに、上述した本発明の防眩フィルム製造用金型の製造方法により製造された金型の凹凸面の形状を透明樹脂フィルムに転写した後、金型の凹凸面の形状が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを含む防眩フィルムの製造方法についても提供する。

本発明によれば、反射鮮明度が十分に低いため非常に優れた防眩性を示しつつ、正反射除去方式で測定した視感反射率が１．２％以下であるため、画像表示装置に配置した際の白ちゃけの発生が非常に少なく、明所でのコントラストが良好な防眩フィルムが提供できる。また本発明は、上述のような防眩フィルムを好適に製造するための金型を製造する方法、ならびに、当該金型を用いた防眩フィルムの製造方法を提供することができる。

正反射除去方式で視感反射率を測定するための光学系を模式的に示す図である。 二次元パワースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を周波数空間における原点からの距離ｆで平均化する方法を説明する模式図である。 本発明の防眩フィルムを製造するために用いたパターンである画像データの一部を表わした図である。 図３に示した画像データの階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を原点からの距離ｆの関数として表した図である。 ギラツキの評価に用いたフォトマスクを模式的に示す平面図である。 図５に示したフォトマスクを用いたギラツキの評価の様子を模式的に示す図である。 実施例３の防眩フィルム製造用金型の製造に使用したパターンである。 実施例４の防眩フィルム製造用金型の製造に使用したパターンである。 実施例５の防眩フィルム製造用金型の製造に使用したパターンである。

＜防眩フィルム＞
本発明の防眩フィルムは、透明支持体、および、該透明支持体上に形成され該透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を含む。本発明の防眩フィルムは、正反射除去方式で測定した視感反射率が１．２％以下であることをその特徴の１つとする。

図１は、正反射除去方式で視感反射率を測定するための光学系を模式的に示す図である。図１には、拡散照明方式の光学系が示されている。拡散照明方式は、積分球などを使って、試料をあらゆる方向から均等に照明する方法であり、図１では、積分球１２（光をほぼ完全に拡散反射する硫酸バリウムなどの白い塗料で内面を塗布した球）が設置されている。光源１３から出た光は、積分球１２の内部で拡散され、サンプル１４の表面で反射される。受光部に対して、正反射方向にある積分球１２の位置にはライトトラップ１５（図１では、円錐形の空洞を有する治具がとりつけられており、円錐形の空洞に入った光は、空洞内で吸収され、積分球１２中には戻らない仕組みになっている。）が設置されており、受光部に対して正反射方向の光が、サンプル表面にはあたらないようになっている。

このようなライトトラップを用いた光学系は正反射除去モード（ＳＣＥモード）と呼ばれる。ＳＣＥモードで測定したサンプルの反射スペクトルからＪＩＳ Ｚ ８７２２記載の方法に従って計算される視感反射率がすなわち正反射除去方式で測定した視感反射率である。

この正反射除去方式で測定した視感反射率が１．２％を上回る場合には、防眩フィルムの表面において使用環境における環境光の使用者方向への反射光が強いこととなり、結果として防眩フィルムの白ちゃけ、明所コントラストの低下が生じることとなる。この正反射除去方式で測定した視感反射率は１．０％以下であることがより好ましく、０．７％以下であることがさらに好ましい。

また本発明の防眩フィルムは、入射角４５゜の光に対する反射鮮明度が２０％以下であることもその特徴の１つとする。反射鮮明度は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に規定される方法で測定される。このＪＩＳでは、像鮮明度の測定に用いる光学くしとして、暗部と明部の幅の比が１：１で、その幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類が規定されている。このうち、幅０．１２５ｍｍの光学くしを用いた場合、本発明で規定する防眩フィルムにおいては、その測定値の誤差が大きくなることから、幅０．１２５ｍｍの光学くしを用いた場合の測定値は和に加えないこととし、幅が０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである３種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度の和をもって反射鮮明度と呼ぶことにする。この定義による場合の反射鮮明度の最大値は３００％である。この定義による反射鮮明度が２０％を超えると、光源などの像が鮮明に映り込むことになり、防眩性に劣るなどの不具合がある。

本発明の防眩フィルムは、透過鮮明度が１５０％以上であることが好ましい。ここで透過鮮明度は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に規定される方法で測定され、暗部と明部の幅の比が１：１で、その幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度の和を指す。この定義による透過鮮明度の最大値は４００％である。この定義による透過鮮明度が１５０％を下回ると、ギラツキが発生する傾向があり好ましくない。この透過鮮明度は１７５％以上であることがより好ましく、２００％以上であることがさらに好ましい。

また、本発明の防眩フィルムは、ヘイズが０．５％以上４％以下であることが好ましい。ここで、防眩フィルムのヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠して測定される。ヘイズが４％を上回る場合には白ちゃけが発生し、明所コントラストが低下する可能性があるため好ましくない。また、ヘイズが０．５％を下回る場合には防眩性が低下する虞があるため好ましくない。本発明の防眩フィルムのヘイズは１％以上２．５％以下であることがより好ましい。

本発明の防眩フィルムのヘイズは防眩フィルム表面の微細凹凸によって主に発生していることが好ましい。従来の防眩フィルムは、微粒子を分散させた樹脂溶液を透明支持体上に塗布し、塗布膜厚を調整して微粒子を塗布膜表面に露出させることでランダムな凹凸をシート上に形成する方法などによって製造されている。このような微粒子を分散させることにより製造された従来の防眩フィルムでは、防眩フィルム表面の微細凹凸以外にバインダー樹脂と微粒子との間の屈折率差によって発生するヘイズ（内部ヘイズ）を有していることが多い。そのような従来の防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置した際には、微粒子とバインダー樹脂界面における光の散乱によって、コントラストが低下するため好ましくない。従って、コントラストの低下の原因となる内部ヘイズは小さければ小さいほど好ましい。また、内部ヘイズを発生させないために防眩フィルムは光を散乱させる微粒子を含まないことが好ましい。

＜金型の製造方法＞
本発明は、上述した本発明の防眩フィルムを製造するために用いられる金型を製造する方法であって、以下の工程を含む金型の製造方法についても提供する。本発明の金型の製造方法は、（１）第１めっき工程、（２）研磨工程、（３）感光性樹脂膜形成工程、（４）露光工程、（５）現像工程、（６）第１エッチング工程、（７）感光性樹脂膜剥離工程、（８）第２エッチング工程、ならびに、（９）第２めっき工程を含み、露光工程において感光性樹脂膜上に露光するパターンを、そのパワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが空間周波数０．０３μｍ^−１以上０．０８μｍ^−１以下に極大値を有し、かつ、該極大値の位置をＡμｍ^−１とし、第２エッチング工程のエッチング深さをＢμｍとしたときに以下の関係式を満たすことを特徴とする。

ここで、「パターン」とは、本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面を形成するための画像データや透光部と遮光部を有するマスクのことなどを意味する。このようなパターンとすることで、上述のような特性を有する本発明の防眩フィルムを好適に製造することができる。

パターンのパワースペクトルは、たとえば画像データであれば、画像データの階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表し、式（２）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求める。

ここで、ｘおよびｙは画像データ面内の直交座標を表し、ｆ_ｘおよびｆ_ｙはｘ方向の周波数およびｙ方向の周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。また、式（２）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。さらに＜ｇ＞は二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）の平均値である。得られた二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによって、二次元パワースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求めることができる。

実際のパターンのパワースペクトルを求める場合には、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は離散関数として得られる場合が一般的である。よって得られた離散関数ｇ（ｘ，ｙ）と式（３）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）が求まり、離散関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによって二次元パワースペクトルの離散関数Ｇ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）が求められる。

ここで、ＭおよびＮはそれぞれパターンのｘ方向およびｙ方向のデータ数であり、ｌは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｍは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。また、ΔｘおよびΔｙはｘ方向およびｙ方向のデータ間隔であり、Δｆ_ｘおよびΔｆ_ｙはそれぞれｘ方向およびｙ方向の周波数間隔である。ここで、精度良くパターンの特性を評価するためには、データ間隔ΔｘおよびΔｙは５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、データ数ＭおよびＮは２００個以上が好ましく、ともに５００個以上がより好ましい。

ここで、本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面は凹凸をランダムに形成するため、周波数空間（空間周波数領域）における二次元パワースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は原点（ｆ_ｘ＝０，ｆ_ｙ＝０）を中心に対称となる。よって、二次元関数Ｇ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、周波数空間における原点からの距離ｆ（単位：μｍ^−１）を変数とする一次元関数Ｇ^２（ｆ）に変換することができる。

具体的には、まず、図２に示すように周波数空間において、原点Ｏ（ｆ_ｘ＝０，ｆ_ｙ＝０）から（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点（図２中の黒丸の点）の個数Ｎｎを計算する。図２に示した例ではＮｎ＝１６個である。次に、原点Ｏから（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点のＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の合計値Ｇ^２ _ｎ（図２中の黒丸の点におけるＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の合計値）を計算し、式（６）に示すように、その合計値Ｇ^２ _ｎを点の個数Ｎｎで割ったものをＧ^２（ｆ）の値とした。

ここで、Ｍ≧Ｎの場合、ｎは０以上Ｎ／２以下の整数であり、Ｍ＜Ｎの場合、ｎは０以上Ｍ／２以下の整数である。また、Δｆは（Δｆ_ｘ＋Δｆ_ｙ）／２とした。

図３は、本発明の防眩フィルムを作製するために用いたパターンである画像データの一部を表わした図である。図３に示したパターンである画像データは３３ｍｍ×３３ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作製した。

図４は、図３に示した画像データの階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を原点からの距離ｆの関数として表した図である。これより図３に示したパターンは空間周波数０．０４９μｍ^−１に極大値を持つことが分かる。

防眩フィルムを作製するためのパターンのパワースペクトルが０．０３μｍ^−１以上０．０８μｍ^−１以下に極大値を持つ場合には、結果として得られる防眩フィルムに１３μｍから３５μｍの周期を有する表面形状が主に形成されることとなり、効果的に防眩性を向上することができる。また、防眩性の効果的な向上とギラツキの抑制の観点から、防眩フィルムを作製するためのパターンのパワースペクトルが０．０４μｍ^−１以上０．０７μｍ^−１以下に極大値をもつことがより好ましい。この場合には結果として得られる防眩フィルムに１５μｍから２５μｍの周期を有する表面形状が主に形成されることとなる。

パワースペクトルが０．０３μｍ^−１以上０．０８μｍ^−１以下に極大値を持つパターンを作製するためには、１０μｍ以上２０μｍ未満のドット径をランダムかつ均一に配置すればよい。ランダムに配置するドット径は１種類でも良いし、複数種類でも良い。また、このようにドットをランダムに配置して作製したパターンから、空間周波数において０．０３μｍ^−１以上である特定の空間周波数以下の成分を除去するハイパスフィルターを通過させて得られたパターンを用いて、防眩フィルム作製用のパターンとしてもよい。さらに、ドットをランダムに配置して作製したパターンから、空間周波数において０．０３μｍ^−１以上の空間周波数以下の成分と０．０８μｍ^−１以下である特定の空間周波数以上の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて得られたパターンを用いて、防眩フィルム作製用のパターンとしても良い。ハイパルフィルターやバンドパスフィルターなどを通過させる手法を用いてパターンを作製する場合には、フィルターを通過させる前のパターンとして、乱数もしくは計算機によって生成された擬似乱数により濃淡を決定したランダムな明度分布を有するパターンを用いることもできる。

本発明の防眩フィルム製造用金型の製造方法においては、パターンのパワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフの極大値の位置をＡμｍ^−１としたとき、第２エッチング工程のエッチング深さをＢμｍは以下の関係式を満たすように設定する。

ここでパターンのパワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフの極大値の位置Ａμｍ^−１は露光工程における露光部と露光部の平均距離（もしくは非露光部と非露光部の平均距離）、第１エッチング工程によって形成された凹凸表面の凸部と凸部の平均距離（もしくは凹部と凹部の平均距離）の逆数を示しており、第２エッチング工程におけるエッチング深さＢμｍが上記の関係式を満たすことは、第２エッチング工程におけるエッチング深さが第１エッチング工程によって形成された凹凸表面の凸部と凸部の平均距離の１／２以下であることを意味する。第２エッチング工程におけるエッチング深さが第１エッチング工程によって形成された凹凸表面の凸部と凸部の平均距離の１／２を上回る場合には、第２エッチング工程による第１エッチング工程によって形成された凹凸面を鈍らせる効果が強すぎることとなり防眩性が不十分となる傾向がある。

以下、本発明の金型の製造方法における各工程について説明する。
（１）第１めっき工程
まず、第１めっき工程では、金型用基材の表面に、銅めっきを施す。これは、被覆性が高く、平滑化作用が強い銅めっきを施すことにより、金型用基材の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。

第１めっき工程において用いられる銅としては、銅の純金属であってもよく、銅を主体とする合金であってもよい。したがって、本明細書でいう「銅」は、銅および銅合金を含む意味である。銅めっきは、それぞれ電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきが採用される。銅めっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地となる金型用基材の表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。形成される銅めっき層の厚みの上限は、コストの観点から、一般的には５００μｍ程度で十分である。

なお、金型用基材の形成に好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性から、軽量なアルミニウムがより好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウムまたは鉄を主体とする合金であってもよい。

また、金型用基材の形状は、当分野において従来より採用されている適宜の形状であれば特に制限されず、平板状であってもよいし、円柱状または円筒状のロールであってもよい。ロール状の基材を用いて金型を製造すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。

（２）研磨工程
続く研磨工程では、第１めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する。当該工程を経て、銅めっき層の表面を鏡面に近い状態に研磨する。これは、金型用基材（金属板や金属ロールなど）は、その表面形状を所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあり、また、めっきした状態で表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。

銅めっき層の表面を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法が例示される。また、研磨工程において切削工具を用いて鏡面切削することによって、銅めっき層の表面を鏡面としてもよい。その際の切削工具の材質や形状などは特に制限されるものではなく、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することができるが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。

（３）感光性樹脂膜形成工程
続く感光性樹脂膜形成工程では、上述した研磨工程で研磨された面に感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜を形成する。感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができ、たとえば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては分子中にアクリル基またはメタアクリル基を有するアクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などを用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としてはフェノール樹脂系やノボラック樹脂系などを用いることができる。また、感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤などの各種添加剤を配合してもよい。

これらの感光性樹脂を銅めっき層の表面に塗布する際には、良好な塗膜を形成するために、適当な溶媒に希釈して塗布することが好ましく、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒などを使用することができる。

感光性樹脂溶液の塗布形式としては、該溶液の物性に応じて従来公知の形式を適宜選択しうるが、中でも、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、リングコートが好ましく採用される。また、感光性樹脂溶液を塗布した後、加熱、乾燥処理を施すのが好ましい。

（４）露光工程
続く露光工程では、形成された感光性樹脂膜上に、上述したパターンを露光する。露光工程に用いる光源は塗布された感光性樹脂の感光波長や感度などに合わせて適宜選択すればよく、たとえば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）などを用いることができる。

本発明の金型の製造方法において表面の凹凸形状を精度良く形成するためには、露光工程において、上述した特徴を有するパターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましい。本発明の金型の製造方法においては、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精度よく露光するために、コンピュータ上でパターンを画像データとして作製し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザ描画を行うに際しては印刷版作製用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。

（５）現像工程
続く現像工程では、パターン露光された感光性樹脂膜を現像する。感光性樹脂膜にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域は現像液によって溶解され、露光されていない領域のみが銅めっき層上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして作用する。また、感光性樹脂膜にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域のみ現像液によって溶解され、露光された領域が銅めっき層上に残存し、続く第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。

現像工程に用いる現像液については従来公知のものを使用することができる。たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどの第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミンなどの第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩、ピロール、ピヘリジンなどの環状アミン類などのアルカリ性水溶液、キシレン、トルエンなどの有機溶剤などを挙げることができる。

現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。

（６）第１エッチング工程
続く第１エッチング工程では、現像された感光性樹脂膜をマスクとして、主に銅めっき層のマスクの無い領域をエッチングし、めっき面に凹凸を形成する。第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ_３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ_２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２）などを用いて、金属表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。第１エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。エッチング量（エッチングにより削られる基材の厚み）は、エッチング処理の手法、エッチング処理に使用する処理液の組成、エッチング処理温度、エッチング処理時間などを調整することにより、制御することができる。

（７）感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でのエッチング処理後に、感光性樹脂膜を剥離する。感光性樹脂膜剥離工程では、通常、剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができるが、ｐＨ、温度、濃度および浸漬時間などを変化させること、たとえば、現像液よりもｐＨ、温度、濃度を高くしたり、浸漬時間を長くしたりすることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬剥離、スプレー剥離、ブラシ剥離、超音波剥離などの方法を用いることができる。

（８）第２エッチング工程
続く第２エッチング工程では、第１エッチング工程によって形成された凹凸形状を、エッチング処理によって鈍らせる。この第２エッチング工程でのエッチング処理によって、第１エッチング工程でのエッチング処理によって形成された凹凸形状における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。

第２エッチング工程でのエッチング処理も、第１エッチング工程と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ_３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ_２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２）などを用い、表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。

エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、エッチング手法、および第１エッチング工程により得られた凹凸のサイズと深さなどによって変わりうるが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程と同様に、エッチングにより削られる銅めっき層の厚みである。第２エッチング工程におけるエッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。

（９）第２めっき工程
続く第２めっき工程では、第２エッチング工程によって鈍らされた凹凸面に、クロムめっきを施す。クロムめっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われ、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ_３）と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。微細な凹凸形状が形成された銅めっき層の表面に、クロムめっきにより被覆性の高い保護めっき層を形成することによって、工業的に有利に凹凸形状が鈍らせられ、その凹凸形状が防眩フィルム製造用金型として好ましい方向に変化する。

上述のような各工程を経て、かつ、前記パターンのパワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが空間周波数０．０３μｍ^−１以上０．０８μｍ^−１以下に極大値を有し、かつ、上記式（１）を満たすようにすることで、上述した特性を備える防眩フィルムを製造するために好適な金型を製造することができる。

＜防眩フィルムの製造方法＞
本発明の防眩フィルムは、上述のようにして製造された防眩フィルム製造用金型の表面の凹凸形状を透明樹脂フィルムに転写した後、該凹凸形状が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを含む製造方法により、製造することができる。

たとえば、上述のようにして製造された防眩フィルム製造用金型の表面の凹凸形状を、透明支持体上の光硬化性樹脂層などに転写し、次いで該凹凸形状が転写された防眩層と透明支持体とを金型から剥がすことによって、防眩フィルムを作製することを特徴とするエンボス法によって製造することができる。

ここで、エンボス法としては、光硬化性樹脂を用いるＵＶエンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示され、中でも、生産性の観点から、ＵＶエンボス法が好ましい。ＵＶエンボス法は、透明支持体の表面に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が光硬化性樹脂層に転写される方法である。具体的には、透明支持体上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金型の凹凸面に密着させた状態で透明支持体側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層が形成された透明支持体を剥離することにより、金型の凹凸形状を紫外線硬化型樹脂に転写する。

ＵＶエンボス法を用いる場合、透明支持体としては、実質的に光学的に透明なフィルムであればよく、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。

また、ＵＶエンボス法を用いる場合における紫外線硬化型樹脂の種類は特に限定されないが、市販の適宜のものを用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂に適宜選択された光開始剤を組み合わせて、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることも可能である。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら２種以上を混合して用い、それと、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの光重合開始剤とを混合したものを好適に用いることができる。

一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明支持体を加熱状態で金型に押し付け、金型の表面形状を透明支持体に転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明支持体としては、実質的に透明なものであればいかなるものであってもよく、たとえば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどを用いることができる。これらの透明樹脂フィルムはまた、上で説明したＵＶエンボス法における紫外線硬化型樹脂を塗工するための透明支持体としても好適に用いることができる。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。

（正反射除去方式で測定する視感反射率）
分光測色計ＣＭ２００２（コニカミノルタセンシング製）を用いて、防眩フィルムの正反射除去方式での視感反射率を測定した。サンプルの微細凹凸表面とは反対側からの反射を除去し、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるように黒色アクリル板に貼合してから、測定に供した。

（透過鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの透過鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層の微細な凹凸形状面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。この状態でガラス側から光を入射させ、測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の透過鮮明度の最大値は４００％となる。

（反射鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層の微細な凹凸形状面が表面となるように黒色アクリル基板に貼合してから、測定に供した。この状態で凹凸形状面側から光を４５°で入射させ、測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の反射鮮明度の最大値は３００％となる。

（ヘイズ）
防眩フィルムのヘイズは、防眩フィルムを光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層形成面とは反対側の面でガラス基板に貼合し、該ガラス基板に貼合された防眩フィルムについて、ガラス基板側から光を入射させ、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠した（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」型を用いて測定した。

（映り込み、白ちゃけの目視評価）
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無、白ちゃけの程度を目視で評価した。映り込みおよび白ちゃけは、それぞれ１から３の３段階で次の基準により評価した。

映り込み １：映り込みが観察されない、
２：映り込みが少し観察される、
３：映り込みが明瞭に観察される。

白ちゃけ １：白ちゃけが観察されない、
２：白ちゃけが少し観察される、
３：白ちゃけが明瞭に観察される。

（ギラツキの評価）
ギラツキは次の手順で評価した。すなわち、まず図５に平面図で示すようなユニットセルのパターンを有するフォトマスクを用意した。この図において、ユニットセル４０は、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターン４１が形成され、そのクロム遮光パターン４１の形成されていない部分が開口部４２となっている。ここでは、ユニットセルの寸法が２１１μｍ×７０μｍ（図の縦×横）、したがって開口部の寸法が２０１μｍ×６０μｍ（図の縦×横）のものを用いた。図示するユニットセルが縦横に多数並んで、フォトマスクを形成する。

そして、図６に模式的な断面図で示すように、フォトマスク４３のクロム遮光パターン４１を上にしてライトボックス４５に置き、ガラス板４７に粘着剤で防眩フィルム１をその凹凸面が表面となるように貼合したサンプルをフォトマスク４３上に置く。ライトボックス４５の中には、光源４６が配置されている。この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置４９で目視観察することにより、ギラツキの程度を１から３の３段階で次の基準により評価した。

ギラツキ １：ギラツキが観察されない、
２：ギラツキがわずかに観察される、
３：ギラツキが明確に観察される。

（防眩フィルム製造用のパターンの評価）
作製したパターンデータの階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに２μｍとした。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して、二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求めた。二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Ｇ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Ｇ^２（ｆ）を計算した。

＜実施例１＞
（防眩フィルム製造用の金型の作製）
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図３に示したパターン（ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作製した）を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、および現像はＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。

その後、塩化第二銅液で第１エッチング工程としてのエッチング処理を行った。その際のエッチング量は３μｍとなるように設定した。第１エッチング工程後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２エッチング工程としてのエッチング処理を行った。その際のエッチング量は１０μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金型Ａを作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。

（防眩フィルムの形成）
以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０％で溶解されており、硬化後に１．５３の屈折率を示す紫外線硬化性樹脂組成物Ａを入手した。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
多官能ウレタン化アクリレート ４０部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応性生物）
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド ５部
この紫外線硬化性樹脂組成物Ａを厚み６０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、乾燥後の塗布厚みが７μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩フィルムＡを作製した。

＜実施例２＞
第１エッチング工程でのエッチング量を４μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｂを作製し、金型Ｂを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＢを作製した。

＜実施例３＞
図７に示すパターン（ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作製した）を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、第２エッチング工程でのエッチング量を６μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｃを作製し、金型Ｃを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＣを作製した。

＜実施例４＞
図８に示すパターン（ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作製した）を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例３と同様にして金型Ｄを作製し、金型Ｄを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＤを作製した。

＜実施例５＞
図９に示すパターン（ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作製した）を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、第１エッチング工程でのエッチング量を４μｍとなるように設定し、第２エッチング工程でのエッチング量を１２μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｅを作製し、金型Ｅを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＥを作製した。

＜比較例１＞
第１エッチング工程でのエッチング量を４μｍとなるように設定し、第２エッチング工程でのエッチング量を１２μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｆを作製し、金型Ｆを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＦを作製した。

＜比較例２＞
紫外線硬化性樹脂組成物Ａの固形分１００部に対して、重量平均粒子径が２．７μｍの多孔質シリカ粒子「サイリシア」（商品名、富士シリシア化学（株）製）を３部添加し、紫外線硬化性樹脂組成物Ｂを調製した。

この紫外線硬化性樹脂組成物Ｂを厚み６０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、乾燥後の塗布厚みが３μｍとなるように塗布し、８０℃に設定した乾燥機中で１分間乾燥させた。乾燥後のフィルムの紫外線硬化性樹脂組成物層側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で３００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射して、紫外線硬化性樹脂組成物層を硬化させて、表面に微細な凹凸形状を有する防眩層（硬化樹脂）を形成し、防眩フィルムＧを作製した。

＜比較例３＞
添加する多孔質シリカ粒子の添加部数を５部に変更したこと以外は比較例２と同様にして紫外線硬化性樹脂組成物Ｃを調整し、紫外線硬化性樹脂組成物Ｃを使用したこと以外は比較例２と同様にして防眩フィルムＨを作製した。

評価結果を表１および表２に示した。本発明の要件を全て満たす防眩フィルムＡ〜Ｄは非常に優れた防眩性と白ちゃけの抑制を示し、ギラツキも観察されなかった。防眩フィルムＥは非常に優れた防眩性と白ちゃけの抑制を示したが、わずかにギラツキが観察された。これは防眩フィルムＥの透過鮮明度が本発明の好ましい範囲を下回っていたためと考えられる。また、防眩フィルムＥの透過鮮明度が本発明の好ましい範囲を下回った理由は、金型Ｅを作製する際のパターンの極大値の位置が本発明の好ましい範囲をわずかに下回ったためだと考えられる。防眩フィルムＦは反射鮮明度が本発明の好ましい範囲を超えており、防眩性が不十分であった。これは金型Ｆを作製する際のパターンの極大値の位置と第２エッチング工程のエッチング深さの関係が本発明の要件を満たさなかったためと考えられる。また、金型を作製せずに作製した防眩フィルムＧ、Ｈは防眩性は高かったものの、白ちゃけが強く発生し、ギラツキも観察された。

Claims (4)

1. 防眩フィルムを製造するために用いられる金型を製造する方法であって、
   前記防眩フィルムは、透明支持体、および、該透明支持体上に形成され該透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を含み、正反射除去方式で測定した視感反射率が１．２％以下であり、暗部と明部の幅が０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである３種類の光学くしを用いて光の入射角４５゜で測定される反射鮮明度の合計が２０％以下であり、
   金型用基材の表面に銅めっきを施す第１めっき工程と、第１めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜を形成する感光性樹脂膜形成工程と、感光性樹脂膜上にパターン露光する露光工程と、パターン露光された感光性樹脂膜を現像する現像工程と、現像された感光性樹脂膜をマスクとしてエッチング処理を行い、めっき面に凹凸を形成する第１エッチング工程と、エッチング処理後に感光性樹脂膜を剥離する感光性樹脂膜剥離工程と、第１エッチング工程によって形成された凹凸面をエッチング処理によって鈍らせる第２エッチング工程と、第２エッチング工程によって鈍らされた凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含み、
   前記パターンのパワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが空間周波数０．０３μｍ^−１以上０．０８μｍ^−１以下に極大値を有し、かつ、該極大値の位置をＡμｍ^−１とし、第２エッチング工程のエッチング深さをＢμｍとしたときに以下の関係式を満たすことを特徴とする防眩フィルム製造用金型の製造方法。
   
2. 前記防眩フィルムは、暗部と明部の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定される透過鮮明度の合計が１５０％以上である、請求項１に記載の防眩フィルム製造用金型の製造方法。
3. 前記防眩フィルムは、ヘイズが０．５％以上４％以下である請求項１または請求項２のいずれかに記載の防眩フィルム製造用金型の製造方法。
4. 請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の方法により製造された金型の凹凸面の形状を透明樹脂フィルムに転写した後、金型の凹凸面の形状が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを含む防眩フィルムの製造方法。