JP5150945B2 - 金型の製造方法および当該方法によって得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法 - Google Patents
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図1は、本発明の金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図1には各工程での金型の断面を模式的に示している。本発明の金型の製造方法は、〔1〕第1めっき工程と、〔2〕研磨工程と、〔3〕感光性樹脂膜塗布工程と、〔4〕露光工程と、〔5〕現像工程と、〔6〕第1エッチング工程と、〔7〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔8〕第2エッチング工程と、〔9〕第2めっき工程を基本的に含む。以下、図1を参照しながら、本発明の金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。
本発明の金型の製造方法ではまず、金型に用いる基材の表面に、銅めっきまたはニッケルめっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すことにより、後の第2めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を上げることができる。すなわち、背景技術として上述したように、鉄などの表面にクロムめっきを施した場合、あるいはクロムめっき表面にサンドブラスト法やビーズショット法などで凹凸を形成してから再度クロムめっきを施した場合には、表面が荒れやすく、細かいクラックが生じて、金型の表面の凹凸形状が制御しにくくなる。これに対して、まず、基材表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施しておくことにより、このような不都合をなくすことができる。これは、銅めっきまたはニッケルめっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や巣などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっきまたはニッケルめっきの特性によって、後述する第2めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や巣に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきまたはニッケルめっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。
続く研磨工程では、上述した第1めっき工程にて銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する。当該工程を経て、基材表面は、鏡面に近い状態に研磨されることが好ましい。これは、基材となる金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきまたはニッケルめっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図1(a)には、平板状の金型用基材1が、第1めっき工程において銅めっきまたはニッケルめっきをその表面に施され(当該工程で形成した銅めっきまたはニッケルめっきの層については図示せず)、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面2を有するようにされた状態を模式的に示している。
続く感光性樹脂膜塗布工程では、上述した研磨工程によって鏡面研磨を施した基材1の表面2に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液として塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜を形成する。図1(b)には、基材1の表面2に感光性樹脂膜3が形成された状態を模式的に示している。
続く露光工程では、所定のパターンを上述した感光性樹脂膜塗布工程で形成された感光性樹脂膜3上に露光する。露光工程に用いる光源は塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、例えば、高圧水銀灯のg線(波長:436nm)、高圧水銀灯のh線(波長:405nm)、高圧水銀灯のi線(波長:365nm)、半導体レーザ(波長:830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAGレーザ(波長:1064nm)、KrFエキシマーレーザ(波長:248nm)、ArFエキシマーレーザ(波長:193nm)、F2エキシマーレーザ(波長:157nm)等を用いることができる。
続く現像工程においては、感光性樹脂膜3にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域5は現像液によって溶解され、露光された領域4のみ金型用基材上に残存し、続く第1エッチング工程においてマスクとして作用する。一方、感光性樹脂膜3にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域4のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域5が金型用基材上に残存して、続く第1エッチング工程におけるマスクとして作用する。
続く第1エッチング工程では、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用いて、主にマスクの無い箇所の金型用基材をエッチングする。図8は、本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図8(a)には第1エッチング工程によって、主にマスクの無い箇所7の金型用基材1がエッチングされる状態を模式的に示している。マスク6の下部の金型用基材1は金型用基材表面からはエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクの無い領域7からのエッチングが進行する。よって、マスク6とマスクの無い領域7の境界付近では、マスク6の下部の金型用基材1もエッチングされる。このようなマスク6とマスクの無い領域7の境界付近において、マスク6の下部の金型用基材1もエッチングされることを、以下ではサイドエッチングと呼ぶ。図9にはサイドエッチングの進行を模式的に示した。図9の点線8はエッチングの進行とともに変化する金型用基材の表面を段階に示している。
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第1エッチング工程でマスクとして使用した残存する感光性樹脂膜を完全に溶解し除去する。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができて、pH、温度、濃度、及び浸漬時間等を変化させることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法を用いることができる。
続く第2エッチング工程では、感光性樹脂膜をマスクとして用いた第1エッチング工程によって形成された第1の表面凹凸形状9を、エッチング処理によって鈍らせる。この第2エッチング処理によって、第1エッチング処理によって形成された第1の表面凹凸形状9における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。図8(c)には、第2エッチング処理によって、基材1の第1の表面凹凸形状9が鈍化し、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第2の表面凹凸形状10が形成された状態が示されている。
続いて、クロムめっきを施すことによって、表面の凹凸形状をさらに鈍らせる。図8(b)には、上述したように第2エッチング工程のエッチング処理によって表面凹凸形状を鈍らせる加工を施した後にクロムめっき層11を形成し、さらに表面12を鈍らせた状態が示されている。
本発明はまた、上述した本発明の金型の製造方法で得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法についても提供する。すなわち、本発明の防眩フィルムの製造方法は、本発明の金型の製造方法で製造された金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写する工程と、金型の凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がす工程とを含む。このような本発明の防眩フィルムの製造方法によって、好ましい光学特性を示す防眩フィルムが好適に製造される。
直径200mmのアルミロール(JISによるA5056)の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層/薄い銀めっき層/表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約200μmとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図10に示すパターンを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、および現像はLaser Stream FX((株)シンク・ラボラトリー製)を用いて行った。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用し、図10に示すパターンを露光することによって、マスクの金型用基材表面への投影面積の金型用基材表面において表面凹凸形状が形成される領域の面積に対する比率は45.9%であった。また、図10に示すパターンを繰り返し並べたパターンをレーザ光によって露光するため、金型用基材表面の100μm×100μmの領域におけるマスクの金型用基材表面への投影面積の標準偏差は1000μm2以下であった。
第2エッチング処理を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして金型を作製した。
実施例1および比較例1で得られた各金型についての表面形状について評価した。各表面形状を直接測定することは困難であるため、後述する実施例2および比較例2に記載の方法で防眩フィルムのサンプルを作製し、このサンプルの表面形状を測定して金型の表面形状として評価した。なお、防眩フィルム上の断面曲線は、金型上の断面曲線の上下が反転したものになるが、算術平均高さPa、平均長さPSmおよび最大断面高さPtは両者で同じになる。表面形状の測定にあたっては、共焦点顕微鏡PLμ2300(Sensofar社製)を用い、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は50倍とした。測定データをもとに、JIS B 0601に準拠した方法で計算することにより、算術平均高さPa、平均長さPSmおよび最大断面高さPtを算出した。結果を表1に示す。
光硬化性樹脂組成物GRANDIC 806T(大日本インキ化学工業(株)製)を酢酸エチルにて溶解して、50重量%濃度の溶液とし、さらに、光重合開始剤であるルシフェリンTPO(BASF社製、化学名:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド)を、硬化性樹脂成分100重量部あたり5重量部添加して塗布液を調製した。厚み80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム上に、この塗布液を乾燥後の塗布厚みが10μmとなるように塗布し、60℃に設定した乾燥機中で3分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、実施例1で得られた金型の凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でTACフィルム側より、強度20mW/cm2の高圧水銀灯からの光をh線換算光量で200mJ/cm2となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、TACフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とTACフィルムとの積層体からなる、実施例2の透明な防眩フィルムをそれぞれ得た。
金型として、比較例1で得られた金型を用いたこと以外は実施例2と同様にして透明な防眩フィルムを得た。
得られた比較例2の各防眩フィルムについて、以下のような光学特性および防眩性能の評価を行った。
防眩フィルムのヘイズは、JIS K 7136に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠したヘイズメータHM−150型(村上色彩技術研究所製)を用いてヘイズを測定した。防眩フィルムの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。一般的にヘイズが大きくなると、画像表示装置に適用したときに画像が暗くなり、その結果、正面コントラストが低下しやすくなる。それ故に、ヘイズは低い方が好ましい。
反射鮮明度は、JIS K 7105に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠した写像性測定器ICM−IDP(スガ試験機(株)製)を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この規格では、像鮮明度測定に用いる光学くしとして、暗部と明部の幅の比が1:1で、その幅が0.125mm、0.5mm、1.0mmおよび2.0mmである4種類が規定されている。このうち、幅0.125mmの光学くしを用いた場合、本発明で規定する防眩フィルムにおいては、その測定値の誤差が大きくなることから、幅0.125mmの光学くしを用いた場合の測定値は和に加えないこととし、幅が0.5mm、1.0mmおよび2.0mmである3種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度の和をもって反射鮮明度と呼ぶことにした。この定義による場合の反射鮮明度の最大値は300%である。この定義による反射鮮明度があまり大きくなると、光源などの像が映り込んで、防眩性が低下する傾向になりやすいため、100%以下であることが好ましく、50%以下であることがさらに好ましい。評価の際には、防眩フィルムの反りを防止するため、および裏面からの反射を防止するために、光学的に透明な粘着剤を用いて、防眩フィルムの凹凸面が表面となるように2mm厚みの黒色アクリル樹脂板に貼合してから、測定に供した。この状態で防眩フィルム側から光を入射させ、測定を行った。
60度光沢度は、JIS Z 8741に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠した光沢計PG−1M(日本電色工業(株)製)を用いて、防眩フィルムの光沢度を測定した。この場合も、防眩フィルムの反りを防止するため、および裏面からの反射を防止するために、光学的に透明な粘着剤を用いて、防眩フィルムを凹凸面が表面となるように2mm厚みの黒色アクリル樹脂板に貼合してから、測定に供した。この状態で防眩フィルム側から光を入射させ、測定を行った。一般的に60度光沢度が小さいことは、サンプル表面が曇っていることを意味し、その結果、白ちゃけが発生しやすくなる。それ故に、光沢度は高い方が好ましいが、光沢度が高すぎると映り込みが生じ、防眩性が低下するため、30〜90%程度の値が好ましい。
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無を、目視にて次の基準で3段階に評価した。
2:映り込みが少し観察される
3:映り込みが明瞭に観察される
(5)防眩性能の評価2:白ちゃけの目視評価
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、白ちゃけの程度を、目視にて次の基準で3段階に評価した。
2:白ちゃけが少し観察される
3:白ちゃけが明瞭に観察される
(6)防眩性能の評価3:ギラツキの評価
まず、図11に平面図で示すようなユニットセル31のパターンを有するフォトマスクを用意した。図11において、ユニットセル31は、透明な基板上に、線幅10μmでカギ形のクロム遮光パターン32が形成され、そのクロム遮光パターン32の形成されていない部分が開口部33となっている。次に、このフォトマスクを図12に示すように、フォトマスク41のクロム遮光パターン32を上にして、内部に光源43が設けられたライトボックス42に置き、1.1mm厚のガラス板44に20μm厚みの粘着剤で防眩フィルム51を貼合したサンプルをフォトマスク41上に置き、サンプルから約30cm離れた場所から目視観察することにより、ギラツキの程度を7段階で官能評価した官能評価の7段階のうち、レベル1はギラツキが全く認められない状態、レベル7はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル3はごくわずかにギラツキが観察される状態である。なお、フォトマスクのユニットセルは、図11におけるユニットセル縦×ユニットセル横が282μm×94μm、したがって同図における開口部縦×開口部横が272μm×84μmのものを用いた。このセルは90ppi(pixel per inch)の画素密度に相当する。
0.5mm光学くし: 11.4%
1.0mm光学くし: 42.7%
0.5mm光学くし: 23.9%
合計 78.0%
Claims (9)
- 金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施す第1めっき工程と、
第1めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、
研磨された面に感光性樹脂膜を塗布形成する感光性樹脂膜塗布工程と、
感光性樹脂膜上にパターンを露光する露光工程と、
パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する現像工程と、
現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行い、研磨されためっき面に凹凸を形成する第1エッチング工程と、
感光性樹脂膜を剥離する感光性樹脂膜剥離工程と、
感光性樹脂膜を完全に除去した後に、第1エッチング工程によって形成された凹凸面をエッチング処理によって鈍らせる第2エッチング工程と、
鈍らせた凹凸面にクロムめっきを施す第2めっき工程とを含む、金型の製造方法。 - 露光工程における感光性樹脂膜上へのパターンの露光が、コンピュータ上で作成されたパターンデータを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することによって行われる、請求項1に記載の製造方法。
- 現像工程後に溶解されずに残る感光性樹脂膜の金型用基材表面への投影面積が、金型用基材表面において表面凹凸形状が形成される領域の面積に対して1〜70%である、請求項1または2に記載の製造方法。
- 金型用基材表面の100μm×100μmの領域における現像工程後に溶解されずに残る感光性樹脂膜の金型用基材表面への投影面積の標準偏差が1000μm2以下である請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- 第1エッチング工程におけるエッチング量が1〜50μmである、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 第2エッチング工程におけるエッチング量が1〜50μmである、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いる、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
- クロムめっきにより形成されたクロムめっき層が1〜10μmの厚みを有する、請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の方法で製造された金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写する工程と、
金型の凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がす工程とを含む、防眩フィルムの製造方法。
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