CN104160303B - 防眩膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种防眩膜，是包括透明支承体和形成于该透明支承体上的防眩层、总雾度为1％以下的防眩膜，其特征在于，所述防眩层在与所述透明支承体相反一侧具备具有微细的凹凸的微细凹凸表面，所述微细凹凸表面的标高的一维功率谱H2(f)的常用对数的针对空间频率f的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm－1时小于0，在空间频率为0.02μm－1时大于0。

Description

防眩膜
技术领域
本发明涉及一种防眩性优异的防眩(antiglare)膜。
背景技术
液晶显示器或等离子体显示器面板、布劳恩管(阴极射线管：CRT)显示器、有机电致发光(EL)显示器等图像显示装置一旦有外来光照入其显示面，则可见性(視認性)就会明显地受损。为了防止此种外来光的照入，在重视画质的电视机或个人电脑、在外来光强烈的室外使用的摄像机或数码相机、利用反射光进行显示的携带电话等中，以往在图像显示装置的表面为了防止外来光的照入而使用了防眩膜。
作为此种防眩膜，例如在专利文献1(日本特开2006－53371号公报)中，记载有如下制作的防眩膜，即，在研磨基材、并实施喷砂加工后，通过实施非电解镀镍，而制造在表面具有微细的凹凸的辊，在将该辊的凹凸面向形成于TAC膜上的光固化性树脂层推压的同时进行固化而制作。即，公开有包括如下操作的防眩膜的制造方法，在将模具的凹凸面的形状向透明树脂膜转印后，将转印了模具的凹凸面的形状的透明树脂膜从模具剥离。
对于防眩膜要求如下，即，防眩性，在配置于图像显示装置的表面时显现出良好的对比度，在配置于图像显示装置的表面时抑制所谓“泛白”的发生，也就是因散射光而使整个显示面发白，使得显示变为不清楚的颜色，以及在配置于图像显示装置的表面时抑制所谓“晃眼(ギラツキ)”的发生，也就是图像显示装置的像素与防眩膜的表面凹凸形状发生干涉，其结果是产生亮度分布而难以观看。
但是，专利文献1中公开的防眩膜由于使用利用喷砂加工形成了凹凸形状的模具制作，因此在凹凸形状的精度的方面不够充分，特别是有时会形成具备具有50μm以上的周期的比较大的凹凸形状，因此容易产生“晃眼”。
另一方面，在专利文献2(日本特开2010－224427号公报)中公开了如下的内容，其是在透明支承体上形成具有微细的凹凸表面的防眩层而成的防眩膜，通过控制微细凹凸表面的标高的功率谱，而得到防眩性能优异的防眩膜。另外还公开有，使用控制了功率谱的图案来制造防眩膜。
具体来说公开有，通过将防眩膜的微细凹凸表面的标高的空间频率为0.01μm－1时的功率谱H1 2与空间频率为0.04μm－1时的功率谱H2 2之比H1 2/H2 2设为3～15的范围内，就可以得到具有足够的防眩性和晃眼的抑制等优异的性能的防眩膜。另外还公开有，使用功率谱在空间频率大于0μm－1且为0.04μm－1以下时不具有极大值的图案来制造防眩膜的方法。
专利文献2中公开的防眩膜通过将其微细凹凸表面的标高的功率谱之比H1 2/H2 2设为3～15的范围内，可以减少具有50μm以上的周期的表面凹凸形状的起伏，从而有效地抑制晃眼。
但是，为了显现出良好的对比度和抑制泛白的发生，作为防眩膜的光学特性之一的雾度越小越好。由此，为了进一步提高对比度和抑制泛白的发生，最好降低雾度，然而在单纯地降低雾度的情况下防眩性就会降低。所以，很难兼顾如下两方面，即，通过降低雾度而提高防眩膜的对比度，抑制泛白的发生，以及维持防眩膜的防眩性，抑制晃眼的发生。
可以认为，在专利文献2中记载的防眩膜中，在将防眩膜低雾度化时连有助于体现防眩性的具有100μm附近的周期的表面凹凸形状的起伏也减少，从而使得防眩性变得不充分。
而且，为了解决该防眩性不足的问题，可以考虑如下的方法，即，在防眩层上形成防反射层(例如，可以举出透明支承体/防眩层/低折射率层或透明支承体/防眩层/高折射率层/低折射率层等构成)，利用反射率的降低来弥补防眩性的不足。但是，在防眩层上形成防反射层的情况下，需要形成具有均匀的膜厚的防反射层，因此成本升高。另外，在防反射层的膜厚的均匀性不充分的情况下，会有产生不均等品质上的不佳状况的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006－53371号公报
专利文献2:日本特开2010－224427号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的目的在于，提供一种即使是低雾度也可以实现足够的防眩性和晃眼的抑制的防眩膜。
用于解决问题的方法
为了解决上述问题进行了深入研究，其结果是，本发明人等发现，如果在防眩膜的表面凹凸形状具有100μm附近的周期的起伏的同时，减少50μm附近的周期的起伏，则可以在低雾度化时体现出足够的防眩性的同时，抑制晃眼，从而完成了本发明。
即，本发明提供一种防眩膜，是包括透明支承体和形成于该透明支承体上的防眩层、总雾度为1％以下的防眩膜，其特征在于，
所述防眩层在与所述透明支承体相反一侧具备具有微细的凹凸的微细凹凸表面，
所述微细凹凸表面的标高的一维功率谱H2(f)的常用对数的针对空间频率f的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm－1时小于0，在空间频率为0.02μm－1时大于0。
所述微细凹凸表面当中的倾斜角度为5°以上的微小面的比例优选为小于1％。
所述微细凹凸表面的最大截面高度Rt优选为0.3μm以上且1μm以下。
另外，本发明还涉及一种防眩膜制造用模具的制造方法，其特征在于，
包括在模具用基材的表面形成基于给定的图案的表面形状的工序，
将所述图案的一维功率谱以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图在空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时具有1个极大值，并且在空间频率为0.05μm－1以上且0.1μm－1以下时具有1个极大值。
上述的防眩膜制造用模具的制造方法优选包括：
第一镀覆工序，对模具用基材的表面实施镀铜；
研磨工序，研磨利用第一镀覆工序实施了镀覆的所述模具用基材的表面；
感光性树脂膜形成工序，在被研磨了的所述模具用基材的表面涂布感光性树脂而形成感光性树脂膜；
曝光工序，在所述感光性树脂膜上将所述图案曝光；
显影工序，将所述图案被曝光了的所述感光性树脂膜显影；
第一蚀刻工序，以被显影了的所述感光性树脂膜作为掩模进行蚀刻处理，在所述模具用基材的实施了镀覆的表面形成凹凸；
感光性树脂膜剥离工序，在蚀刻处理后将感光性树脂膜剥离；
第二蚀刻工序，利用蚀刻处理使利用第一蚀刻工序形成的凹凸面变钝；
第二镀覆工序，对利用第二蚀刻工序变钝了的凹凸面实施镀铬。
另外，本发明还涉及一种防眩膜的制造方法，包括如下的操作，即，在将利用上述的方法制造的模具的凹凸面的形状向透明树脂膜转印后，将转印了模具的凹凸面的形状的透明树脂膜从模具剥离。
发明效果
根据本发明，可以提供即使是低雾度也可以实现足够的防眩性和晃眼的抑制的防眩膜。
另外，在本发明中，由于不需要另外在防眩层上形成防反射层等，因此不会使成本升高，可以抑制在防反射层等的膜厚的均匀性不足的情况下产生的不均等品质上的不佳状况。
附图说明
图1是示意性地表示本发明的防眩膜的一例的剖面图。
图2是示意性地表示本发明的防眩膜的一例的立体图。
图3是表示离散地得到表示标高的函数h(x，y)的状态的示意图。
图4是将本发明的防眩膜的微细凹凸表面的标高用二维的离散函数h(x，y)表示的图。
图5是说明将二维功率谱H2(fx，fy)用频率空间中的相对于原点的距离f加以平均化的方法的示意图。
图6是表示对图4中所示的防眩膜的微细凹凸表面的标高进行离散傅里叶变换而得的一维功率谱的常用对数logH2(f)的图。
图7是用于说明微细凹凸表面的倾斜角度的测定方法的示意图。
图8是表示防眩膜的微细凹凸表面的微小面的倾斜角度分布的直方图的一例的曲线图。
图9是示意性地表示作为为了制作本发明的防眩膜而使用的图案的图像数据的图。
图10是表示对图9中所示的图案进行离散傅里叶变换而得的功率谱G2(f)的图。
图11是示意性地表示在本发明的防眩膜的制造中优选使用的模具的制造方法的前半部分的优选的一例的图。
图12是示意性地表示在本发明的防眩膜的制造中优选使用的模具的制造方法的后半部分的优选的一例的图。
图13是表示晃眼评价用图案的单位单元(unitcell)的俯视图。
图14是表示晃眼评价的状态的剖面示意图。
图15是表示实施例2～4的模具制作时使用的图案的图。
图16是表示实施例5的模具制作时使用的图案的图。
图17是表示比较例1的模具制作时使用的图案的图。
图18是表示比较例2的模具制作时使用的图案的图。
图19是表示图15～18中所示的图案的一维功率谱G2(f)的图。
图20是表示实施例2～4的防眩膜的根据标高计算的一维功率谱的常用对数logH2(f)的图。
图21是表示实施例5及比较例1的防眩膜的根据标高计算的一维功率谱的常用对数logH2(f)的图。
图22是表示比较例2及比较例3的防眩膜的根据标高计算的一维功率谱的常用对数logH2(f)的图。
具体实施方式
本发明的防眩膜包括透明支承体和形成于该透明支承体上的防眩层，总雾度为1％以下。这里，防眩膜的总雾度如下所示地测定。在透明支承体上形成防眩层后，以使透明支承体的没有形成防眩层的一侧成为接合面的方式，将该防眩膜与玻璃基板使用透明粘合剂贴合，从玻璃基板侧射入光而依照JIS K 7136测定雾度。如此测定的雾度相当于防眩膜的总雾度。
本发明的防眩层的特征在于，在与透明支承体相反的一侧具备具有微细的凹凸的微细凹凸表面，
微细凹凸表面的标高的一维功率谱H2(f)的常用对数的针对空间频率f的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm－1时小于0，在空间频率为0.02μm－1时大于0。
(微细凹凸表面的标高的功率谱)
以下，对防眩膜的微细凹凸表面的标高的功率谱进行说明。图1是示意性地表示本发明的防眩膜的表面的剖面图。如图1所示，本发明的防眩膜1具有透明支承体101和形成于其上的防眩层102，防眩层102在与透明支承体101相反的一侧具备具有微细的凹凸2的微细凹凸表面。
这里，本发明中所说的所谓“微细凹凸表面的标高”，是指膜1表面的任意的点P与微细凹凸表面的平均高度中具有该高度的假想的平面103(标高作为基准是0μm)的在膜的主法线方向5(上述假想的平面103的法线方向)上的直线距离。
实际上防眩膜如图2中示意性所示，具有在二维平面上形成了微细的凹凸的防眩层。因此，微细凹凸表面的标高如图2所示，在将膜面内的正交坐标以(x，y)表示时，微细凹凸表面的标高可以表示为坐标(x，y)的二维函数h(x，y)。
微细凹凸表面的标高可以根据利用共聚集显微镜、干涉显微镜、原子力显微镜(AFM)等装置测定的表面形状的三维信息求出。对测量仪所要求的水平分辨率至少为5μm以下，优选为2μm以下，另外垂直分辨率至少为0.1μm以下，优选为0.01μm以下。作为适合该测定的非接触三维表面形状-粗糙度测量仪，可以举出New View 5000系列(ZygoCorporation公司制、在日本可以从Zygo(株)买到)、三维显微镜PLμ2300(Sensofar公司制)等。对于测定面积，由于标高的功率谱的分辨率需要为0.005μm－1以下，因此优选设为至少200μm×200μm以上，更优选为500μm×500μm以上。
下面，对由二维函数h(x，y)求出标高的功率谱的方法进行说明。首先，由二维函数h(x，y)，利用以式(1)定义的二维傅里叶变换求出二维函数H(fx，fy)。
[数1]
…式(1)
这里，fx及fy分别是x方向及y方向的频率，具有长度的倒数的量纲。另外，式(1)中的π为圆周率，i为虚数单位。通过将所得的二维函数H(fx，fy)平方，就可以求出二维功率谱H2(fx，fy)。该二维功率谱H2(fx，fy)表示防眩膜的微细凹凸表面的空间频率分布。
以下，对求出防眩膜的微细凹凸表面的标高的二维功率谱的方法进行更具体的说明。利用上述的共聚集显微镜、干涉显微镜、原子力显微镜等在实际中测定的表面形状的三维信息一般来说是离散的值，即，作为对应于多个测定点的标高得到。图3是表示离散性地得到表示标高的函数h(x，y)的状态的示意图。如图3所示，当将膜面内的正交坐标用(x，y)表示，且在膜投影面3上将x轴方向上每隔Δx分割的线及y轴方向上每隔Δy分割的线用虚线表示时，在实际的测定中可以作为膜投影面3上的各虚线的每个交点的离散的标高值得到微细凹凸表面的标高。
所得的标高值的数由测定范围和Δx及Δy决定，当如图3所示将x轴方向的测定范围设为X＝(M－1)Δx、将y轴方向的测定范围设为Y＝(N－1)Δy时，所得的标高值的数就是M×N个。
当如图3所示将膜投影面3上的着眼点A的坐标设为(jΔx，kΔy)(这里j为0以上且M－1以下，k为0以上且N－1以下。)时，则与着眼点A对应的膜面上的点P的标高可以表示为h(jΔx，kΔy)。
这里，测定间隔Δx及Δy依赖于测量仪器的水平分辨率，为了精度优良地评价微细凹凸表面，如上所述，优选Δx及Δy都为5μm以下，更优选为2μm以下。另外，测定范围X及Y如上所述，优选都为200μm以上，更优选都为500μm以上。
像这样在实际的测定中，表示微细凹凸表面的标高的函数可以作为具有M×N个值的离散函数h(x，y)得到。借助利用测定得到的离散函数h(x，y)和以式(2)定义的离散傅里叶变换求出离散函数H(fx，fy)，通过将离散函数H(fx，fy)平方可以求出二维功率谱的离散函数H2(fx，fy)。式(2)中的l是－M/2以上且M/2以下的整数，m是－N/2以上且N/2以下的整数。另外，Δfx及Δfy分别是x方向及y方向的频率间隔，由式(3)及式(4)定义。
[数2]
…式(2)
[数3]
…式(3)
[数4]
…式(4)
这里，如图4所示，由于本发明的防眩膜的微细凹凸表面随机地形成凹凸，因此频率空间(空间频率区域)中的二维功率谱H2(fx，fy)以原点(fx＝0，fy＝0)为中心地对称。因此，二维函数H2(fx，fy)可以变换为以频率空间中的相对于原点的距离f(单位：μm－1)作为变数的一维函数H2(f)。本发明的防眩膜具有如下的特征，即，以该一维函数H2(f)表示的一维功率谱一定。
具体来说，首先，如图5所示，在频率空间中，计算从原点O(fx＝0，fy＝0)起位于(n－1/2)Δf以上且小于(n+1/2)Δf的距离的所有的点(图5中的黑圆点)的个数Nn。图5所示的例子中Nn＝16个。然后，计算从原点O起位于(n－1/2)Δf以上且小于(n+1/2)Δf的距离的所有的点的H2(fx，fy)的合计值H2n(图5中的黑圆点的H2(fx，fy)的合计值)，如式(5)所示，将该合计值H2n用点的个数Nn除，将所得的值作为H2(f)的值。
[数5]
…式(5)
这里，在M≥N的情况下，n是0以上且N/2以下的整数，在M＜N的情况下，n是0以上且M/2以下的整数。而且，M及N如图3所示，分别意味着x轴方向的测定点的个数及y轴方向的测定点的个数。另外，将Δf设为(Δfx+Δfy)/2。
一般来说利用所述的方法求出的一维功率谱包含测定时的噪音。这里在求一维功率谱时，为了去除该噪音的影响，优选测定防眩膜上的多个部位的微细凹凸表面的标高，将根据各个微细凹凸表面的标高求出的一维功率谱的平均值作为一维功率谱H2(f)使用。测定防眩膜上的微细凹凸表面的标高的部位的数目优选为3处以上，更优选为5处以上。
图6中，表示如此得到的微细凹凸表面的标高的一维功率谱的常用对数logH2(f)。图6的一维功率谱的常用对数logH2(f)是将根据防眩膜上的5处不同的部位的微细凹凸表面的标高求出的一维功率谱平均而得的。
微细凹凸表面的标高的一维功率谱的对数logH2(f)的针对空间频率f的二阶导函数d2logH2(f)/df2可以根据一维功率谱的常用对数logH2(f)计算。具体来说，可以利用式(6)的差分法计算二阶导函数。
[数6]
…式(6)
图6中所示的标高的一维功率谱的常用对数logH2(f)的针对空间频率f的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm－1时为－11878，空间频率为0.02μm－1时为8081。因此，从图6中可以清楚地看到，将标高的一维功率谱的常用对数logH2(f)以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图在空间频率为0.01μm－1时具有向上凸的形状，在空间频率为0.02μm－1时具有向下凸的形状。
本发明的防眩膜的特征在于，根据微细凹凸表面的标高计算的一维功率谱的常用对数logH2(f)的针对空间频率f的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm－1时小于0，在空间频率为0.02μm－1时大于0。其结果是，将根据微细凹凸表面的标高计算的一维功率谱的常用对数logH2(f)作为空间频率f的函数表示时的曲线图在空间频率为0.01μm－1时具有向上凸的形状，在空间频率为0.02μm－1时具有向下凸的形状，防眩膜的表面凹凸形状在低雾度化时在有效地具有有助于防眩效果的100μm左右(以空间频率计相当于0.01μm－1)的周期的起伏的同时，还有效地减少了50μm附近(以空间频率计相当于0.02μm－1)的周期的起伏。
(微细凹凸表面的倾斜角度)
另外，本发明人等发现，在防眩膜中，如果构成微细凹凸表面的各微小面显示出特定的倾斜角度分布，则可以在显示出优异的防眩性能的同时，在有效地防止泛白的方面更加有效。即，本发明的防眩膜的微细凹凸表面当中的倾斜角度为5°以上的微小面的比例优选为小于1％。如果微细凹凸表面当中的倾斜角度为5°以上的微小面的比例大于1％，则凹凸表面的倾斜角度陡峭的微小面变多，将来自周围的光会聚，从而容易产生显示面整体上变白的泛白。为了抑制此种聚光效果、防止泛白，微细凹凸表面当中的倾斜角度为5°以上的微小面的比例越小越好，优选为小于0.5％，更优选为小于0.1％。
这里，本发明中所说的所谓“微细凹凸表面的微小面的倾斜角度”，是指在图2中所示的防眩膜1表面的任意的点P处，如后所述的将包含点P的微小面的凹凸考虑在内的局部的法线6与膜的主法线方向5所成的角度θ。对于微细凹凸表面的倾斜角度也可以与标高相同，根据利用共聚集显微镜、干涉显微镜、原子力显微镜(AFM)等装置测定的表面形状的三维信息求出。
图7是用于说明微细凹凸表面的微小面的倾斜角度的测定方法的示意图。如果要说明具体的倾斜角度的确定方法，则如图7所示，确定以虚线表示的假想的平面FGHI上的着眼点A，在穿过它的x轴上的着眼点A的近傍，相对于点A大致对称地取点B及D，另外在穿过点A的y轴上的着眼点A的近傍，相对于点A大致对称地取点C及E，确定与这些点B、C、D、E对应的膜面上的点Q、R、S、T。而且在图7中，将膜面内的正交坐标以(x，y)表示，将膜厚度方向的坐标以z表示。平面FGHI是由穿过y轴上的点C的平行于x轴的直线以及同样地穿过y轴上的点E的平行于x轴的直线、与穿过x轴上的点B的平行于y轴的直线以及同样地穿过x轴上的点D的平行于y轴的直线的各自的交点F、G、H、I形成的面。另外，在图7中，相对于平面FGHI，以使实际的膜面的位置处于上方的方式描画，当然，根据着眼点A所采取的位置，实际的膜面的位置既有处于平面FGHI的上方的情况，也有处于下方的情况。
此后，所得的表面形状数据的倾斜角度可以通过求出局部的法线(向量)6的极角(图2中是与膜的主法线方向5所成的角度θ)来得到，所述极角是将由对应于着眼点A的实际的膜面上的点P、和与在其近傍所取的4点B、C、D、E对应的实际的膜面上的点Q、R、S、T的合计5点所张设的多面体4个平面、即四个三角形PQR、PRS、PST、PTQ的各法线向量6a、6b、6c、6d平均而得到。对各测定点(微小面)求出倾斜角度后，计算直方图。
图8是表示防眩膜的微细凹凸表面的微小面的倾斜角度分布的直方图的一例的曲线图。图8中所示的曲线图中，横轴是倾斜角度，以0.5°的刻度分割。例如，最左边的纵棒表示倾斜角度在0～0.5°的范围中的集合的分布，以下随着向右行进角度逐次0.5°地变大。图中，横轴的每2个刻度显示的是值的上限值，例如，横轴中为“1”部分表示倾斜角度处于0.5～1°的范围中的微小面的集合的分布。另外，纵轴表示相对于该集合的整体的比例，是如果进行合计则为1的值。该例中，倾斜角度为5°以上的微小面的比例近似为0。
(微细凹凸表面的表面粗糙度参数)
本发明的防眩膜的微细表面凹凸形状优选依照JIS B 0601的规定的算术平均粗糙度Ra为0.04μm以上且0.1μm以下。另外，优选依照JIS B 0601的规定的最大截面高度Rt为0.3μm以上且0.6μm以下。另外，优选依照JIS B 0601的规定的平均长度RSm为50μm以上且130μm以下。
在算术平均粗糙度Ra低于0.04μm的情况下，将该凹凸形状向透明膜转印而得的防眩膜的防眩性有可能不够充分。而另一方面，在算术平均粗糙度Ra大于0.1μm的情况下，在将该凹凸形状向透明膜转印而得的防眩膜中有可能产生泛白。
在最大截面高度Rt低于0.3μm的情况下，将该凹凸形状向透明膜转印而得的防眩膜的防眩性有可能不够充分。而另一方面，在最大截面高度Rt大于0.6μm的情况下，在将该凹凸形状向透明膜转印而得的防眩膜中有可能产生泛白，表面凹凸形状的均匀性降低而有可能产生晃眼。
另外，在平均长度RSm低于50μm的情况下，将该凹凸形状向透明膜转印而得的防眩膜的防眩性有可能不够充分。而另一方面，在平均长度Rsm大于130μm的情况下，在将该凹凸形状向透明膜转印而得的防眩膜中有可能产生晃眼。
＜防眩膜的制造方法＞
本发明的防眩膜可以利用如下的制造方法来制作，即，是包括在模具基材的表面形成基于给定的图案的表面形状的工序的方法，包括如下的操作，制造防眩膜制造用模具，将所制造的模具的凹凸面的形状向透明树脂膜转印后，将转印了模具的凹凸面的形状的透明树脂膜从模具剥离。
为了精度优良地形成具有如上所述的特征的防眩膜的微细凹凸表面，优选将上述给定的图案的一维功率谱以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图在空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时具有1个极大值，并且在空间频率为0.05μm－1以上且0.1μm－1以下时具有1个极大值。这里，所谓“图案”，是指用于形成本发明的防眩膜的微细凹凸表面的图像数据或具有透光部和遮光部的掩模等。
另外，本发明的防眩膜制造用模具的制造方法中使用的图案的空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时的第一极大值的强度优选小于空间频率为0.05μm－1以上且0.1μm－1以下时的第二极大值的强度。在第一极大值的强度大于第二极大值的情况下，晃眼有变强的趋势，因此不够理想。
对于图案的二维功率谱，例如在图案为图像数据的情况下，可以在将图像数据变换为2个灰度(階調)的二值化图像数据后、将图像数据的灰度用二维函数g(x，y)表示，对所得的二维函数g(x，y)进行傅里叶变换而计算二维函数G(fx，fy)，通过将所得的二维函数G(fx，fy)平方而求出。这里，x及y表示图像数据面内的正交坐标，fx及fy表示x方向的频率及y方向的频率。
与求防眩层的微细凹凸表面的标高的二维功率谱的情况相同，对于求图案的二维功率谱的情况，一般的情况也是作为离散函数得到灰度的二维函数g(x，y)。该情况下，与求微细凹凸表面的标高的二维功率谱的情况相同，只要利用离散傅里叶变换计算二维功率谱即可。图案的一维功率谱可以根据图案的二维功率谱，与微细凹凸表面的标高的一维功率谱相同地求出。
图9是表示作为为了制作本发明的防眩膜而使用的图案的图像数据的一部分的图。图9中所示的作为图案的图像数据是33mm×33mm的大小，以12800dpi制成。
图10是将对图9中所示的灰度的二维离散函数g(x，y)进行离散傅里叶变换而得的二维功率谱G2(fx，fy)与微细凹凸表面的标高的一维功率谱相同地作为相对于原点的距离f的函数表示的图。由此可知，图9中所示的图案在空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时具有第一极大值，在空间频率为0.05μm－1以上且0.1μm－1以下时具有第二极大值。
通过使用于制作防眩膜(防眩层)的图案的一维功率谱在空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时具有第一极大值，在空间频率为0.05μm－1以上且0.1μm－1以下时具有第二极大值，就可以得到如下的防眩膜，即，将微细凹凸表面的标高的一维功率谱的常用对数以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图在空间频率为0.01μm－1时具有向上凸的形状，在空间频率为0.02μm－1时具有向下凸的形状。
为了制成一维功率谱在空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时具有第一极大值、在空间频率为0.05μm－1以上且0.1μm－1以下时具有第二极大值的图案，只要使之通过如下的带通滤波器即可，即，从随机地配置点而制成的图案、或根据随机数或由计算机生成的模拟随机数决定了浓淡的具有随机的亮度分布的图案中，除去特定的空间频率范围的成分。
本发明的防眩膜中，优选如上所述地恰当地形成防眩层的微细凹凸表面的空间频率分布。所以，本发明的防眩膜优选利用如下的压花法制造，即，使用上述的图案制造具有微细凹凸表面的模具，将所制造的模具的凹凸面向透明支承体上的光固化性树脂层等转印，然后将转印了凹凸面的防眩层和透明支承体从模具剥离。
这里，作为压花法，可以例示出使用光固化性树脂的UV压花法、使用热塑性树脂的热压花法，其中，从生产率的观点考虑，优选UV压花法。
UV压花法是通过在透明支承体的表面形成光固化性树脂层、在将该光固化性树脂层向模具的凹凸面按压的同时使之固化而将模具的凹凸面向光固化性树脂层转印的方法。具体来说，在透明支承体上涂布紫外线固化型树脂，在使所涂布的紫外线固化型树脂与模具的凹凸面密合的状态下从透明支承体侧照射紫外线而使紫外线固化型树脂固化，其后通过从模具将形成有固化后的紫外线固化型树脂层的透明支承体剥离，而将模具的形状向紫外线固化型树脂转印。
在使用UV压花法的情况下，透明支承体只要在实质上是光学上透明的膜即可，例如可以举出三乙酰纤维素膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚碳酸酯膜、以降冰片烯系化合物作为单体的非晶性环状聚烯烃等热塑性树脂的溶剂流延膜或挤出膜等树脂膜。
另外，使用UV压花法时的紫外线固化型树脂的种类没有特别限定，然而可以使用市售的合适的树脂。另外，也可以使用在紫外线固化型树脂中组合了恰当地选择的光引发剂、利用比紫外线的波长更长的可见光也可以固化的树脂。具体来说，可以分别单独地或者混合2种以上地使用三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯，可以合适地使用将其与Irgacure 907、Irgacure 184、Lucirin TPO(以上都是BASF公司制)等光聚合引发剂混合而得的材料。
另一方面，热压花法是将由热塑性树脂形成的透明支承体在加热状态下向模具推压，将模具的表面形状转印到透明支承体上的方法。作为热压花法中所用的透明支承体，只要是实质上透明的材料，无论是何种都可以，例如可以使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素、以降冰片烯系化合物作为单体的非晶性环状聚烯烃等热塑性树脂的溶剂流延膜或挤出膜等。另外，这些透明树脂膜还可以作为上面说明过的UV压花法中的用于涂布紫外线固化型树脂的透明支承体合适地使用。
＜防眩膜制造用的模具的制造方法＞
以下，对制造本发明的防眩膜的制造中所用的模具的方法进行说明。对于本发明的防眩膜的制造中所用的模具的制造方法，只要是可以得到上述的使用了图案的给定的表面形状的方法，就没有特别限制，然而为了精度优良、并且再现性良好地制造微细凹凸表面，优选基本上包含〔1〕第一镀覆工序、〔2〕研磨工序、〔3〕感光性树脂膜形成工序、〔4〕曝光工序、〔5〕显影工序、〔6〕第一蚀刻工序、〔7〕感光性树脂膜剥离工序、〔8〕第二蚀刻工序、〔9〕第二镀覆工序。
图11是示意性地表示本发明的防眩膜的制造中所用的模具的制造方法的前半部分的优选的一例的图。图11中示意性地表示出各工序中的模具的截面。以下，在参照图11的同时，对本发明的防眩膜的制造中所用的模具的制造方法的各工序进行详细说明。
〔1〕第一镀覆工序
本发明的防眩膜的制造中所用的模具的制造方法中，首先，对模具中所用的基材的表面实施镀铜。像这样，通过对模具用基材的表面实施镀铜，就可以提高后面的第二镀覆工序中的镀铬的密合性、光泽性。这是因为，镀铜的覆盖性高，另外平滑化作用强，因此会将模具用基材的微小的凹凸或气孔等填埋而形成平坦且具有光泽的表面。由于这些的镀铜的特性，即使在后述的第二镀覆工序中实施镀铬，也可以消除被认为是由存在于基材中的微小的凹凸或气孔引起的镀铬表面的粗糙，另外，由于镀铜的覆盖性高，因此可以减少细小的裂纹的产生。
第一镀覆工序中所用的铜除了可以是铜的纯金属以外，还可以是以铜为主体的合金，所以，本说明书中所说的“铜”是包括铜及铜合金的意味。镀铜既可以利用电镀来进行，也可以利用无电镀来进行，然而通常采用电镀。
在实施镀铜时，如果镀层太薄，则无法将基底表面的影响完全排除，因此其厚度优选为50μm以上。镀层厚度的上限没有限制，然而从成本等方面来看，一般来说500μm左右以内就足够。
而且，在本发明的模具的制造方法中，作为适用于基材的形成的金属材料，从成本的观点考虑可以举出铝、铁等。此外从处置的便利性考虑，更优选质轻的铝。这里所说的铝、铁也是除了可以分别是纯金属以外，还可以是以铝或铁为主体的合金。
另外，基材的形状只要是本领域中一直以来所采用的合适的形状，就没有特别限制，既可以是平板状，也可以是圆柱状或圆筒状的辊。如果使用辊状的基材来制作模具，则会具有可以以连续的卷筒状来制造防眩膜的优点。
〔2〕研磨工序
在接下来的研磨工序中，对上述的第一镀覆工序中实施了镀铜的基材表面进行研磨。本发明的模具的制造方法中，优选经过该工序，将基材表面研磨为接近镜面的状态。这是因为，为了将成为基材的金属板或金属辊制成所需的精度，多实施切削、研削等机械加工，由此就会在基材表面残留加工纹迹，即使在实施了镀铜的状态下，也会有残留这些加工纹迹的情况，另外，在镀覆后的状态下，表面也未必完全地平滑。即，即使对此种残留有深的加工纹迹等的表面实施后述的工序，也会有加工纹迹等凹凸比实施各工序后形成的凹凸更深的情况，从而有可能残留加工纹迹等的影响，在使用此种模具制造防眩膜的情况下，有时会对光学特性造成无法预期的影响。图11(a)中，示意性地表示出将平板状的模具用基材7在第一镀覆工序中对其表面实施镀铜(对于该工序中形成的镀铜的层没有图示)、再利用研磨工序使之具有被镜面研磨了的表面8的状态。
对于研磨实施了镀铜的基材表面的方法没有特别限制，可以使用机械研磨法、电解研磨法、化学研磨法的任意一种。作为机械研磨法，可以例示出超精加工法、精研(ラッピング)、流体研磨法、抛光研磨法等。另外，在研磨工序中，也可以通过使用切削工具进行镜面切削，而将模具用基材7的表面8制成镜面。此时的切削工具的材质、形状等没有特别限制，可以使用超硬刀具、CBN刀具、陶瓷刀具、金刚石刀具等，然而从加工精度的观点考虑，优选使用金刚石刀具。对于研磨后的表面粗糙度，优选依照JIS B 0601的规定的中心线平均粗糙度Ra为0.1μm以下，更优选为0.05μm以下。如果研磨后的中心线平均粗糙度Ra大于0.1μm，则有可能在最终的模具表面的凹凸形状中残留研磨后的表面粗度的影响，因此不够理想。另外，对于中心线平均粗糙度Ra的下限没有特别限制，从加工时间或加工成本的观点考虑，自然存在有极限，因而不需要特别指定。
〔3〕感光性树脂膜形成工序
在接下来的感光性树脂膜形成工序中，通过将感光性树脂制成溶解于溶剂中的溶液而涂布在利用上述的研磨工序实施了镜面研磨的基材7的表面8，并进行加热、干燥，而形成感光性树脂膜。图11(b)中，示意性地表示出在基材7的表面8形成了感光性树脂膜9的状态。
作为感光性树脂可以使用以往公知的感光性树脂。例如，作为具有感光部分发生固化的性质的负型的感光性树脂，可以使用在分子中具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基的丙烯酸酯的单体或预聚物、双叠氮和二烯橡胶的混合物、聚乙烯醇肉桂酸酯系化合物等。另外，作为具有利用显影将感光部分溶出、仅残留未感光部分的性质的正型的感光性树脂可以使用酚醛树脂系或线性酚醛树脂系等。另外，在感光性树脂中，也可以根据需要配合敏化剂、显影促进剂、密合性改性剂、涂布性改良剂等各种添加剂。
在将这些感光性树脂涂布在基材7的表面8时，为了形成良好的涂膜，优选稀释在适当的溶剂中后进行涂布，可以使用溶纤剂系溶剂、丙二醇系溶剂、酯系溶剂、醇系溶剂、酮系溶剂、高极性溶剂等。
作为涂布感光性树脂溶液的方法，可以使用弯月面涂布、喷注(fountain)涂布、浸渍涂布、旋转涂布、辊涂布、线棒涂布、气刀涂布、刮刀涂布、幕帘涂布、环状涂布等公知的方法。涂布膜的厚度优选在干燥后设为1～10μm的范围。
〔4〕曝光工序
在接下来的曝光工序中，在上述的感光性树脂膜形成工序中形成的感光性树脂膜9上曝光如下的图案，即，将上述的一维功率谱以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图在空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时具有1个极大值，并且在空间频率为0.05μm－1以上且0.1μm－1以下时具有1个极大值。曝光工序中所用的光源只要与所涂布的感光性树脂的感光波长或灵敏度等匹配地适当地选择即可，例如可以使用高压水银灯的g线(波长：436nm)、高压水银灯的h线(波长：405nm)、高压水银灯的i线(波长：365nm)、半导体激光(波长：830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG激光(波长：1064nm)、KrF准分子激光(波长：248nm)、ArF准分子激光(波长：193nm)、F2准分子激光(波长：157nm)等。
在本发明的模具的制造方法中为了精度优良地形成表面凹凸形状，在曝光工序中，优选将上述的图案在精密地控制的状态下在感光性树脂膜上进行曝光。在本发明的模具的制造方法中，为了将上述的图案在感光性树脂膜上精度优良地曝光，优选在计算机上将图案作为图像数据制成，利用从受计算机控制的激光头中发出的激光来描画基于该图像数据的图案。在进行激光描画时可以使用印刷版制作用的激光描画装置。作为此种激光描画装置，例如可以举出Laser Stream FX((株)Think Laboratory制)等。
图11(c)中，示意性地表示出在感光性树脂膜9上曝光图案后的状态。在用负型的感光性树脂形成感光性树脂膜的情况下，被曝光的区域10因曝光而进行树脂的交联反应，相对于后述的显影液的溶解性降低。由此，在显影工序中没有被曝光的区域11就被显影液溶解，只有被曝光了的区域10残留在基材表面上而成为掩模。另一方面，在用正型的感光性树脂形成感光性树脂膜的情况下，被曝光了的区域10因曝光而切断树脂的键，相对于后述的显影液的溶解性增大。由此，在显影工序中被曝光了的区域10被显影液溶解，只有没有被曝光的区域11残留在基材表面上而成为掩模。
〔5〕显影工序
在接下来的显影工序中，在感光性树脂膜9中使用了负型的感光性树脂的情况下，没有被曝光的区域11被显影液溶解，只有被曝光了的区域10残留于模具用基材上，在接下来的第一蚀刻工序中作为掩模发挥作用。另一方面，在感光性树脂膜9中使用了正型的感光性树脂的情况下，只有被曝光了的区域10被显影液溶解，没有被曝光的区域11残留于模具用基材上，作为接下来的第一蚀刻工序中的掩模发挥作用。
对于显影工序中所用的显影液可以使用以往公知的材料。例如可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠、氨水等无机碱类、乙胺、正丙胺等的伯胺类、二乙胺、二正丁胺等仲胺类、三乙胺、甲基二乙胺等叔胺类、二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基羟基乙基氢氧化铵等季铵盐、吡咯、哌啶等环状胺类等的碱性水溶液、二甲苯、甲苯等有机溶剂等。
对于显影工序中的显影方法没有特别限制，可以使用浸渍显影、喷雾显影、毛刷显影、超声波显影等方法。
图11(d)中，示意性地表示出在感光性树脂膜9中使用负型的感光性树脂、进行了显影处理的状态。图11(c)中，没有被曝光的区域11被显影液溶解，只有被曝光了的区域10残留于基材表面上而成为掩模12。图11(e)中，示意性地表示出在感光性树脂膜9中使用正型的感光性树脂、进行了显影处理的状态。图11(c)中，被曝光了的区域10被显影液溶解，只有没有被曝光的区域11残留于基材表面上而成为掩模12。
〔6〕第一蚀刻工序
在接下来的第一蚀刻工序中，将上述的显影工序后残留于模具用基材表面上的感光性树脂膜作为掩模使用，主要对没有掩模的部位的模具用基材的实施了镀覆的表面进行蚀刻。
图12是示意性地表示本发明的模具的制造方法的后半部分的优选的一例的图。图12(a)中示意性地表示出利用第一蚀刻工序主要蚀刻了没有掩模的区域13的模具用基材7的状态。掩模12的下部的模具用基材7没有从模具用基材表面蚀刻掉，而随着蚀刻的进行从没有掩模的区域13中的蚀刻逐渐推进。因此，在掩模12与没有掩模的区域13的交界附近，掩模12的下部的模具用基材7也受到蚀刻。对于此种在掩模12与没有掩模的区域13的交界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蚀刻的情况，以下称作侧蚀。
第一蚀刻工序中的蚀刻处理通常是通过使用氯化铁(FeCl3)液、氯化铜(CuCl2)液、碱蚀刻液(Cu(NH3)4Cl2)等腐蚀金属表面来进行，然而也可以使用盐酸、硫酸等强酸，还可以使用通过施加与电镀时相反的电位而进行的逆电解蚀刻。实施蚀刻处理时的模具用基材中形成的凹形状根据基底金属的种类、感光性树脂膜的种类及蚀刻手法等而不同，因此不能一概而论，然而在蚀刻量为10μm以下的情况下，从与蚀刻液接触的金属表面大致各向同性地蚀刻。这里所说的所谓蚀刻量，是利用蚀刻削掉的基材的厚度。
第一蚀刻工序中的蚀刻量优选为1～50μm，更优选为2～10μm。在蚀刻量小于1μm的情况下，在金属表面基本上不形成凹凸形状，成为几乎平坦的模具，因此不会显示出防眩性。另外，在蚀刻量大于50μm的情况下，形成于金属表面的凹凸形状的高低差变大，使用所得的模具制作的防眩膜会发生泛白，因此不够理想。第一蚀刻工序中的蚀刻处理既可以利用1次的蚀刻处理来进行，也可以分为2次以上地进行蚀刻处理。这里在将蚀刻处理分为2次以上地进行的情况下，2次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的合计优选为1～50μm。
〔7〕感光性树脂膜剥离工序
在接下来的感光性树脂膜剥离工序中，将第一蚀刻工序中作为掩模使用的残存的感光性树脂膜完全地溶解而除去。感光性树脂膜剥离工序中使用剥离液将感光性树脂膜溶解。作为剥离液，可以使用与上述的显影液相同的材料，通过改变pH、温度、浓度及浸渍时间等，在使用负型的感光性树脂膜的情况下将曝光部的感光性树脂膜完全地溶解除去，在使用正型的感光性树脂膜的情况下，将非曝光部的感光性树脂膜完全地溶解除去。对于感光性树脂膜剥离工序中的剥离方法也没有特别限制，可以使用浸渍显影、喷雾显影、毛刷显影、超声波显影等方法。
图12(b)示意性地表示出利用感光性树脂膜剥离工序将第一蚀刻工序中作为掩模使用的感光性树脂膜完全地溶解而除去的状态。借助利用感光性树脂膜的掩模12和蚀刻，在模具用基材表面形成第一表面凹凸形状15。
〔8〕第二蚀刻工序
第二蚀刻工序中，借助蚀刻处理使利用将感光性树脂膜作为掩模使用的第一蚀刻工序形成的第一表面凹凸形状15变钝。借助该第二蚀刻处理，在第一蚀刻处理中形成的第一表面凹凸形状15中的表面倾斜陡峭的部分消失，使用所得的模具制造的防眩膜的光学特性向理想的方向变化。图12(c)中，表示出借助第二蚀刻处理将模具用基材7的第一表面凹凸形状15钝化、使表面倾斜陡峭的部分变钝、形成具有平缓的表面倾斜的第二表面凹凸形状16的状态。
第二蚀刻工序的蚀刻处理也与第一蚀刻工序相同，通常是通过使用氯化铁(FeCl3)液、氯化铜(CuCl2)液、碱蚀刻液(Cu(NH3)4Cl2)等腐蚀金属表面来进行，然而也可以使用盐酸、硫酸等强酸，还可以使用通过施加与电镀时相反的电位而进行的逆电解蚀刻。实施蚀刻处理后的凹凸的变钝程度根据基底金属的种类、蚀刻手法、以及利用第一蚀刻工序得到的凹凸的尺寸和深度等而不同，因此不能一概而论，然而在控制变钝程度的方面最大的因素是蚀刻量。这里所说的蚀刻量也与第一蚀刻工序相同，是利用蚀刻削掉的基材的厚度。如果蚀刻量小，则使利用第一蚀刻工序得到的凹凸的表面形状变钝的效果不充分，将该凹凸形状向透明膜转印而得的防眩膜的光学特性不太优良。另一方面，如果蚀刻量过大，则凹凸形状大部分消失掉，变为几乎平坦的模具，因此不会显示出防眩性。所以，蚀刻量优选为1～50μm的范围内，更优选为4～20μm的范围内。对于第二蚀刻工序中的蚀刻处理，也与第一蚀刻工序相同，既可以利用1次的蚀刻处理来进行，也可以分为2次以上地进行蚀刻处理。这里在分为2次以上地进行蚀刻处理的情况下，2次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的合计优选为1～50μm。
〔9〕第二镀覆工序
接下来，通过实施镀铬，而使第二表面凹凸形状16变钝，并且保护模具表面。图12(d)中，表示出在如上所述地利用第二蚀刻工序的蚀刻处理形成的第二表面凹凸形状16上形成镀铬层17、使镀铬层的表面18变钝的状态。
本发明中，采用可以在平板或辊等的表面具有光泽、硬度高、摩擦系数小、赋予良好的脱模性的镀铬。镀铬的种类没有特别限制，然而优选使用被称作所谓的光泽镀铬或装饰用镀铬等的显现出良好的光泽的镀铬。镀铬通常利用电解来进行，作为其镀液，使用含有无水铬酸(CrO3)和少量的硫酸的水溶液。通过调节电流密度和电解时间，可以控制镀铬的厚度。
而且，在第二镀覆工序中，不优选使用镀铬以外的镀覆。这是因为，如果是铬以外的镀覆，则硬度或耐磨损性会降低，因此作为模具的耐久性降低，在使用中凹凸磨损减少、或模具产生损伤。由此种模具得到的防眩膜中，难以获得足够的防眩功能的可能性高，另外，在膜上产生缺陷的可能性也变高。在由利用镀铬制作的模具得到的防眩膜中，除了点状的凹凸以外，有时还会形成线状的凸部或凹部。因点状的凹凸和线状的凸部或凹部混合存在，而产生微细的散射，有望进一步提高防眩性。在存在此种线状的凸部或凹部的情况下，其比例也优选设为以相对于全部表面的面积比计为20％以下。
另外，在本发明也仍然不优选研磨镀覆后的表面。这是基于如下等理由，即，通过进行研磨，会在最外表面产生平坦的部分，因此有可能导致光学特性的恶化，另外，由于形状的控制因子增多，因此难以进行再现性良好的形状控制。
像这样在本发明中，优选在实施镀铬后，不研磨表面，而原样不变地将镀铬面作为模具的凹凸面使用。这是因为，通过对形成有微细表面凹凸形状的表面实施镀铬，而得到使凹凸形状变钝、并且提高了其表面硬度的模具。此时的凹凸的变钝程度根据基底金属的种类、利用第一蚀刻工序得到的凹凸的尺寸和深度、以及镀覆的种类或厚度等而不同，因此不能一概而论，然而在控制变钝程度的方面最大的因素仍然是镀覆厚度。如果镀铬的厚度薄，则使镀铬加工前得到的凹凸的表面形状变钝的效果不够充分，将该凹凸形状向透明膜转印而得的防眩膜的光学特性不太优良。另一方面，如果镀覆厚度过厚，则不仅生产率变差，而且会产生被称作结节的突起状的镀覆缺陷，因此不够理想。所以，镀铬的厚度优选为1～10μm的范围内，更优选为3～6μm的范围内。
利用该第二镀覆工序形成的镀铬层优选以使维氏硬度达到800以上的方式形成，更优选以达到1000以上的方式形成。这是因为，在镀铬层的维氏硬度小于800的情况下，不仅模具使用时的耐久性降低，而且在镀铬中硬度降低，该情况在镀覆处理时在镀液组成、电解条件等中产生异常的可能性高，对于缺陷的产生状况造成不理想的影响的可能性也高。
实施例
以下将举出实施例，对本发明进行更详细的说明，然而本发明并不受这些实施例限定。例中，表示含量或使用量的％及份只要没有特别记述，就是重量基准。另外，以下的例子中的模具或防眩膜的评价方法如下所示。
〔1〕防眩膜的表面形状的测定
(表面的标高的测定)
使用三维显微镜PLμ2300(Sensofar公司制)，测定出防眩膜的表面的标高。为了防止样品的翘曲，在使用光学上透明的粘合剂使凹凸面成为表面地贴合在玻璃基板上后用于测定。在测定时，将物镜的倍率设为10倍而进行测定。水平分辨率Δx及Δy都是1.66μm，测定面积为1270μm×950μm。
(微细表面凹凸的标高的功率谱)
从上面得到的测定数据的中央部取样512个×512个(以测定面积计是850μm×850μm)的数据，将防眩膜的微细凹凸表面的标高作为二维函数h(x，y)求出。对二维函数h(x，y)进行离散傅里叶变换而求出二维函数H(fx，fy)。将二维函数H(fx，fy)平方而计算二维功率谱的二维函数H2(fx，fy)，计算出作为相对于原点的距离f的函数的一维功率谱的一维函数H2(f)。对各样品测定5处的表面的标高，将根据这些数据计算的一维功率谱的一维函数H2(f)的平均值作为各样品的一维功率谱的一维函数H2(f)。
(微细凹凸表面的倾斜角度)
以上面得到的测定数据为基础，基于前述的算法进行计算，制成凹凸面的倾斜角度的直方图，从其中求出每个倾斜角度的分布，计算出倾斜角度为5°以上的面的比例。
(微细凹凸表面的表面粗糙度参数)
使用依照JIS B 0601的(株)三丰制的表面粗糙度测量仪Surftest SJ－301，测定出防眩膜的表面粗糙度参数。为了防止样品的翘曲，在使用光学上透明的粘合剂使凹凸面成为表面地贴合在玻璃基板上后用于测定。
〔2〕防眩膜的光学特性的测定
(雾度)
防眩膜的总雾度如下测定，即，将防眩膜使用光学上透明的粘合剂用与防眩层形成面相反一侧的面贴合在玻璃基板上，对该贴合在玻璃基板上的防眩膜，从玻璃基板侧射入光，使用依照JIS K 7136的(株)村上色彩技术研究所制的雾度计“HM－150”型测定。
(透射清晰度(鮮明度))
使用依照JIS K 7105的Suga试验机(株)制的映像性测定器“ICM－1DP”，测定出防眩膜的透射清晰度。在该情况下也是，为了防止样品的翘曲，在使用光学上透明的粘合剂使防眩层的微细的凹凸形状面成为表面地贴合在玻璃基板上后用于测定。在该状态下从玻璃侧射入光而进行测定。这里的测定值是使用暗部和亮部的宽度分别为0.125mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的4种光学梳测定的值的合计值。该情况下的透射清晰度的最大值为400％。
(反射清晰度)
使用依照JIS K 7105的Suga试验机(株)制的映像性测定器“ICM－1DP”，测定出防眩膜的反射清晰度。在该情况下也是，为了防止样品的翘曲，在使用光学上透明的粘合剂使防眩层的微细的凹凸形状面成为表面地贴合在黑色丙烯酸基板上后用于测定。在该状态下从凹凸形状面侧以45°射入光，进行了测定。这里的测定值是使用暗部和亮部的宽度分别为0.5mm、1.0mm及2.0mm的3种光学梳测定的值的合计值。该情况下的反射清晰度的最大值为300％。
〔3〕防眩膜的机械特性的测定
(铅笔硬度)
防眩膜的铅笔硬度是利用JIS K5600－5－4中规定的方法测定。具体来说，使用依照该标准的电动铅笔划痕硬度试验机((株)安田精机制作所制)以载荷500g进行测定。
〔4〕防眩膜的防眩性能的评价
(照入、泛白的目视评价)
为了防止来自防眩膜的背面的反射，以使凹凸面成为表面的方式在黑色丙烯酸树脂板上贴合防眩膜，在装有荧光灯的明亮的室内从凹凸面侧利用目视进行观察，利用目视评价了荧光灯的照入的有无、泛白的程度。照入及泛白分别以1到3的3个级别利用下面的基准进行了评价。
照入1：观察不到照入。
2：观察到少量照入。
3：清楚地观察到照入。
泛白1：观察不到泛白。
2：观察到少量泛白。
3：清楚地观察到泛白。
(晃眼的评价)
依照下面的步骤评价晃眼。即，首先准备了具有如图13中以俯视图表示的那样的单位单元的图案的光掩模。该图中，单位单元40在透明的基板上形成有线宽10μm且为钥匙形的铬遮光图案41，没有形成该铬遮光图案41的部分成为开口部42。这里，使用了单位单元的尺寸为211μm×70μm(图中的纵×横)、因而开口部的尺寸为201μm×60μm(图中的纵×横)的材料。图示的单位单元沿纵横排列多个，形成光掩模。
此后，如图14中以示意性的剖面图所示那样，将光掩模43的铬遮光图案41朝上地放置于灯箱45中，将在玻璃板47上用粘合剂将防眩膜1以使其凹凸面成为表面的方式贴合的样品放置于光掩模43上。在灯箱45中，配置有光源46。在该状态下，通过在距离样品约30cm的位置49进行目视观察，而对晃眼的程度以7个级别进行了官能评价。水平1是完全看不到晃眼的状态，水平7相当于强烈地观察到晃眼的状态，水平4是极微量地观察到晃眼的状态。
〔5〕防眩膜制造用的图案的评价
将所制成的图案数据变为2个灰度的二值化图像数据，用二维的离散函数g(x，y)来表示灰度。离散函数g(x，y)的水平分辨率Δx及Δy都设为2μm。对所得的二维函数g(x，y)进行离散傅里叶变换，求出二维函数G(fx，fy)。将二维函数G(fx，fy)平方而计算二维功率谱的二维函数G2(fx，fy)，计算出作为相对于原点的距离f的函数的一维功率谱的一维函数G2(f)。
＜实施例1＞
(防眩膜制造用的模具的制作)
准备了对直径200mm的铝辊(基于JIS的A5056)的表面实施了巴拉德镀铜(銅バラードめっき)的材料。巴拉德镀铜由铜镀层/薄的银镀层/表面铜镀层构成，整个镀层的厚度设定为约200μm。对该镀铜表面进行镜面研磨，在研磨了的镀铜表面涂布感光性树脂，干燥而形成感光性树脂膜。然后，将重复排列图9中所示的图案(使之通过从具有随机的亮度分布的图案中除去特定的空间频率范围的成分的带通滤波器而制成)而得的图案在感光性树脂膜上利用激光曝光、显影。借助激光的曝光及显影使用Laser Stream FX((株)ThinkLaboratory制)进行。在感光性树脂膜中使用了正型的感光性树脂。
其后，利用氯化铜液进行第一蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为4μm。从第一蚀刻处理后的辊中除去感光性树脂膜，再次用氯化铜液进行第二蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为11μm。其后，进行镀铬加工，制作出模具A。此时，镀铬厚度设定为4μm。
(防眩膜的形成)
将以下的各成分以固体成分浓度60％溶解在乙酸乙酯中，固化后得到显示出1.53的折射率的紫外线固化性树脂组合物A。
季戊四醇三丙烯酸酯 60份
多官能氨基甲酸酯化丙烯酸酯 40份
(六甲撑二异氰酸酯与季戊四醇三丙烯酸酯的反应生成物)
二苯基(2，4，6－三甲氧基苯甲酰基)氧化膦 5份。
将该紫外线固化性树脂组合物A以使干燥后的涂布厚度为7μm的方式涂布在厚60μm的三乙酰纤维素(TAC)膜上，在设定为60℃的干燥机中干燥3分钟。将干燥后的膜以使光固化性树脂组合物层为模具侧的方式用橡胶辊推压在先前得到的模具A的凹凸面而使之密合。在该状态下从TAC膜侧以h线换算光量计为200mJ/cm2地照射来自强度20mW/cm2的高压水银灯的光，使光固化性树脂组合物层固化。之后，将TAC膜与固化树脂一起从模具剥离，制作出在表面具有凹凸的由固化树脂与TAC膜的层叠体构成的透明的防眩膜A。
＜实施例2＞
除了将反复排列图15中所示的图案(使之通过从具有随机的亮度分布的图案中除去特定的空间频率范围的成分的带通滤波器而制成)而得的图案在感光性树脂膜上利用激光曝光以外，与实施例1相同地制作模具B，除了使用模具B以外，与实施例1相同地制作出防眩膜B。
＜实施例3＞
除了将第二蚀刻处理的蚀刻量设定为10μm以外，与实施例2相同地制作出模具C，除了使用模具C以外，与实施例2相同地制作出防眩膜C。
＜实施例4＞
除了将第二蚀刻处理的蚀刻量设定为12μm以外，与实施例2相同地制作出模具D，除了使用模具D以外，与实施例2相同地制作出防眩膜D。
＜实施例5＞
除了将反复排列图16中所示的图案(使之通过从具有随机的亮度分布的图案中除去特定的空间频率范围的成分的带通滤波器而制成)而得的图案在感光性树脂膜上利用激光曝光、将第一蚀刻处理的蚀刻量设定为3μm、将第二蚀刻处理的蚀刻量设定为10μm以外，与实施例1相同地制作出模具E，除了使用模具E以外，与实施例1相同地制作防眩膜E。
＜比较例1＞
除了将反复排列图17中所示的图案(使之通过从具有随机的亮度分布的图案中除去特定的空间频率范围的成分的带通滤波器而制成)而得的图案在感光性树脂膜上利用激光曝光以外，与实施例1相同地制作出模具F，除了使用模具F以外，与实施例1相同地制作出防眩膜F。
＜比较例2＞
除了将反复排列图18中所示的图案(使之通过从具有随机的亮度分布的图案中除去特定的空间频率范围的成分的带通滤波器而制成)而得的图案在感光性树脂膜上利用激光曝光以外，与实施例5相同地制作出模具G，除了使用模具G以外，与实施例1相同地制作出防眩膜G。
＜比较例3＞
对直径300mm的铝辊(基于JIS的A5056)的表面进行镜面研磨，对研磨了的铝面使用喷丸装置((株)不二制作所制)以喷射压力0.1MPa(表压、以下相同)、珠子使用量8g/cm2(辊的每1cm2表面积的使用量、以下相同)喷射氧化锆珠子TZ－SX－17(Tosoh(株)制、平均粒径：20μm)，对表面附加凹凸。对所得的带有凹凸的铝辊，进行非电解镀镍加工，制作出模具H。此时，将非电解镀镍厚度设定为15μm。除了使用所得的模具H以外，与实施例1相同地制作出防眩膜H。
[各模具的制造中所用的图案的一维功率谱]
上述图10相当于表示对防眩膜A(实施例1)的制作中所使用的图9中所示的图案进行离散傅里叶变换而得的功率谱G2(f)的图。另外，图19是表示防眩膜B～G(实施例2～4、5及比较例1、2)的制作中所使用的图案的一维功率谱G2(f)的图。
根据图10及图19可知，将防眩膜A～E(实施例1～5)的制作中所使用的图案的一维功率谱以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图在空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时具有第一极大值，在空间频率为0.05μm－1以上且0.1μm－1以下时具有第二极大值。另一方面可知，将防眩膜F及G(比较例1及2)的制作中所使用的图案的一维功率谱以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图在空间频率为0.007μm－1以上且0.015μm－1以下时不具有极大值。
[评价结果]
将对上述实施例及比较例进行了上述的防眩膜的评价的结果表示于表1中。
另外，图20中，针对防眩膜B～D(实施例2～4)，表示出根据标高计算的一维功率谱的常用对数logH2(f)的曲线图，图21中，表示出针对防眩膜E(实施例5)及防眩膜F(比较例1)的logH2(f)的曲线图，图22中，表示出针对防眩膜G(比较例2)及防眩膜H(比较例3)的logH2(f)的曲线图。而且，上述图6相当于针对防眩膜A表示根据标高计算的一维功率谱的常用对数logH2(f)的图。
[表1]
如表1所示，对于防眩膜A～E(实施例1～5)，标高的功率谱的常用对数的针对空间频率的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm－1时小于0，在空间频率为0.02μm－1时大于0。
与表1中所示的二阶导函数d2logH2(f)/df2的值对应，图6、图20及图21中所示的针对防眩膜A～E将标高的功率谱的常用对数以相对于空间频率的强度的形式表示的曲线图在空间频率为0.01μm－1时具有向上凸的形状，在空间频率为0.02μm－1时具有向下凸的形状。
另一方面，对于防眩膜F(比较例1)，表1中所示的标高的功率谱的常用对数的针对空间频率的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm－1及空间频率为0.02μm－1时大于0。与之对应，对于防眩膜F(比较例1)，将标高的功率谱的常用对数以相对于空间频率的强度的形式表示的曲线图(图21)在空间频率为0.01μm－1及空间频率为0.02μm－1时具有向下凸的形状。
另外，对于防眩膜G及H(比较例2及3)，标高的功率谱的常用对数的针对空间频率的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm－1时大于0，在空间频率为0.02μm－1时小于0。与之对应，对于防眩膜G及H(比较例2及3)，将标高的功率谱的常用对数以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图(图22)在空间频率为0.01μm－1时具有向下凸的形状，在空间频率为0.02μm－1时具有向上凸的形状。
满足本发明的要件的防眩膜A～E(实施例1～5)尽管是低雾度，也显现出必需程度的足够的防眩性和优异的晃眼抑制效果。另一方面，防眩膜F(比较例1)由于将标高的功率谱的常用对数以相对于空间频率的强度的形式表示的曲线图在空间频率为0.01μm－1及空间频率为0.02μm－1时具有向下凸的形状，因此虽然显示出优异的晃眼抑制效果，然而防眩性不足。另外，将标高的功率谱的常用对数以相对于空间频率的强度的形式表示的曲线图在空间频率为0.02μm－1时具有向上凸的形状的防眩膜G及H(比较例2及3)观察到强烈的晃眼。
而且，实施例1～5及比较例1～2中得到的防眩膜在利用光学显微镜观察其由光固化性树脂组合物的固化物构成的凹凸面时，除了观察到点状的凹凸以外，还观察到线状的凸部。而另一方面，对于比较例3中得到的防眩膜，仅观察到点状凹凸，没有观察到线状的凸或凹。
符号说明
1 防眩膜、
101 透明支承体、
102 防眩层、
103 假想的平面、
2 微细的凹凸、
3 膜的投影面、
5 膜的主法线方向、
6 局部的法线、
6a～6d 多面体面的法线向量、
7 模具用基材、
8 利用研磨工序研磨了的基材的表面、
9 感光性树脂膜、
10 被曝光的区域、
11 没有被曝光的区域、
12 掩模、
13 没有掩模的区域、
15 第一表面凹凸形状(第一蚀刻工序后的模具用基材表面的凹凸形状)、
16 第二表面凹凸形状(第二蚀刻工序后的模具用基材表面的凹凸形状)、
17 镀铬层、
18 镀铬层的表面、
40 光掩模的单位单元、
41 光掩模的铬遮光图案、
42 光掩模的开口部、
43 光掩模、
45 灯箱、
46 光源、
47 玻璃板、
49 晃眼的观察位置、
50 扩散板。

Claims (6)

1.一种防眩膜，其是包括透明支承体和形成于该透明支承体上的防眩层、总雾度为1％以下的防眩膜，其特征在于，
所述防眩层在与所述透明支承体相反一侧具备具有微细的凹凸的微细凹凸表面，
所述微细凹凸表面的标高的一维功率谱H2(f)的常用对数的针对空间频率f的二阶导函数d2logH2(f)/df2在空间频率为0.01μm-1时小于0，在空间频率为0.02μm-1时大于0，
其中所述微细凹凸表面的标高是指，所述防眩膜表面的任意的点与微细凹凸表面的平均高度中具有该高度的假想的平面的在所述防眩膜的主法线方向上的直线距离。
2.根据权利要求1所述的防眩膜，其中，
所述微细凹凸表面当中的倾斜角度为5°以上的微小面的比例小于1％，
其中所述倾斜角度是指，在防眩膜表面的任意的点P处，将包含点P的微小面的凹凸考虑在内的局部的法线与防眩膜的主法线方向所成的角度θ。
3.根据权利要求1或2所述的防眩膜，其中，
所述微细凹凸表面的依照JIS B 0601的规定的最大截面高度Rt为0.3μm以上且1μm以下。
4.权利要求1所述的防眩膜制造用模具的制造方法，其特征在于，
包括在模具用基材的表面形成基于给定的图案的表面形状的工序，
将所述图案的一维功率谱以相对于空间频率的强度的形式表示时的曲线图在空间频率为0.007μm-1以上且0.015μm-1以下时具有1个极大值，并且在空间频率为0.05μm-1以上且0.1μm-1以下时具有1个极大值。
5.根据权利要求4所述的防眩膜制造用模具的制造方法，其包括：
第一镀覆工序，对模具用基材的表面实施镀铜；
研磨工序，研磨利用第一镀覆工序实施了镀覆的所述模具用基材的表面；
感光性树脂膜形成工序，在被研磨了的所述模具用基材的表面涂布感光性树脂而形成感光性树脂膜；
曝光工序，在所述感光性树脂膜上将所述图案曝光；
显影工序，将所述图案被曝光了的所述感光性树脂膜显影；
第一蚀刻工序，以被显影了的所述感光性树脂膜作为掩模进行蚀刻处理，在所述模具用基材的实施了镀覆的表面形成凹凸；
感光性树脂膜剥离工序，在蚀刻处理后将感光性树脂膜剥离；
第二蚀刻工序，利用蚀刻处理使利用第一蚀刻工序形成的凹凸面变钝；
第二镀覆工序，对利用第二蚀刻工序变钝了的凹凸面实施镀铬。
6.权利要求1所述的防眩膜的制造方法，其包括：
将利用权利要求4或5所述的方法制造的模具的凹凸面的形状向透明树脂膜转印后，将转印了模具的凹凸面的形状的透明树脂膜从模具剥离。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014119650A (ja) * 2012-12-18 2014-06-30 Sumitomo Chemical Co Ltd 防眩性偏光板および画像表示装置
JP2015106038A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 住友化学株式会社 防眩フィルム
JP2015106039A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 住友化学株式会社 防眩フィルム
JP2015106041A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 住友化学株式会社 防眩フィルム
JP2015106040A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 住友化学株式会社 防眩フィルム
JP2015152658A (ja) * 2014-02-12 2015-08-24 住友化学株式会社 防眩フィルム
JP6471435B2 (ja) * 2014-09-11 2019-02-20 大日本印刷株式会社 ギラツキ定量的評価方法
JP6515566B2 (ja) * 2015-02-16 2019-05-22 住友化学株式会社 金型
JP6762655B2 (ja) * 2016-02-29 2020-09-30 ダイハツ工業株式会社 表面加工樹脂成形品
CN108700764B (zh) * 2016-03-04 2021-09-14 三菱瓦斯化学株式会社 车载用液晶显示装置的前面板
US11428847B2 (en) * 2017-05-15 2022-08-30 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Transparent product and method for producing transparent product
JP2019093687A (ja) * 2017-11-28 2019-06-20 トヨタ紡織株式会社 成形型及び成形型の製造方法
JP6801723B2 (ja) * 2019-01-16 2020-12-16 住友化学株式会社 防眩フィルム

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009150998A (ja) * 2007-12-19 2009-07-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置
JP2009288655A (ja) * 2008-05-30 2009-12-10 Nitto Denko Corp 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板、画像表示装置、防眩性ハードコートフィルムの評価方法および製造方法
CN101846754A (zh) * 2009-03-25 2010-09-29 住友化学株式会社 防眩膜
JP2011047982A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに金型の製造方法
CN102193132A (zh) * 2010-03-11 2011-09-21 住友化学株式会社 防眩性偏振片和使用其的图像显示装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4844254B2 (ja) * 2006-06-20 2011-12-28 住友化学株式会社 防眩フィルム及び画像表示装置
JP2010191412A (ja) * 2009-01-21 2010-09-02 Toppan Printing Co Ltd 防眩フィルム
JP5158443B2 (ja) * 2009-03-25 2013-03-06 住友化学株式会社 防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに金型の製造方法
JP2011107297A (ja) * 2009-11-16 2011-06-02 Sony Corp 防眩性フィルムおよび表示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009150998A (ja) * 2007-12-19 2009-07-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置
JP2009288655A (ja) * 2008-05-30 2009-12-10 Nitto Denko Corp 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板、画像表示装置、防眩性ハードコートフィルムの評価方法および製造方法
CN101846754A (zh) * 2009-03-25 2010-09-29 住友化学株式会社 防眩膜
JP2011047982A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに金型の製造方法
CN102193132A (zh) * 2010-03-11 2011-09-21 住友化学株式会社 防眩性偏振片和使用其的图像显示装置

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