CN101846755B - 防眩膜的制造方法和用于防眩膜制作的模具的制造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 181
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 120
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 108
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 108
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 60
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 46
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 42
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 39
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 39
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 36
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 23
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 17
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 17
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 16
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 238000007591 painting process Methods 0.000 claims description 6
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 claims description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 abstract description 3
- 230000004313 glare Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 40
- 239000002585 base Substances 0.000 description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 241000276489 Merlangius merlangus Species 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 206010052128 Glare Diseases 0.000 description 9
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 9
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 7
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 adopted sand-blast Substances 0.000 description 4
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 4
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 4
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 3
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 3
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 210000004276 hyalin Anatomy 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000003701 mechanical milling Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical class CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJFMDYQCCOOZHJ-UHFFFAOYSA-L 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].C[N+](C)(C)CCO.C[N+](C)(C)CCO RJFMDYQCCOOZHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 206010011376 Crepitations Diseases 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical class CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCQQWDCKLLORFE-UHFFFAOYSA-N [O].C1(=CC=CC=C1)PC1=CC=CC=C1 Chemical compound [O].C1(=CC=CC=C1)PC1=CC=CC=C1 XCQQWDCKLLORFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical class CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 210000001951 dura mater Anatomy 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- RIVIDPPYRINTTH-UHFFFAOYSA-N n-ethylpropan-2-amine Chemical compound CCNC(C)C RIVIDPPYRINTTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical class CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
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Abstract
本发明能够提供防眩膜的制造方法以及用于得到防眩膜的金属模具的制造方法,该防眩膜的制造方法包括基于无规配置有多个点径不同的多种点的图形在透明支持体上形成微细凹凸表面,其中平均点径为6~30μm,点径的变动系数为0.1~0.5,并且图形的能谱在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中不具有最大值,由此可以提供在显示优异的防眩性能的同时、防止泛白所致的辨识性的降低、配置于高清晰的图像显示装置的表面时不产生晃眼而显现高对比度通过该制造方法以及用于得到防眩膜的模具的制造方法。
Description
技术领域
本发明涉及低浊度且防眩特性优异的防眩(antiglare)膜的制造方法、用于得到该防眩膜的金属模具的制造方法。
背景技术
液晶显示器和等离子显示器面板、布劳恩管(阴极射线管:CRT)显示器、有机电致发光(EL)显示器等图像显示装置,如果外部光映入其显示面,则显著损害辨识性。为了防止这样的外部光的映入,在重视画质的电视机和个人电脑、在外部光强的室外使用的摄像机和数码相机、利用反射光进行显示的移动电话等中,目前为止在图像显示装置的表面设置有防止外光的映入的膜层。该膜层大致分为由实施了利用光学多层膜所致的干涉的无反射处理的膜形成的膜层和由实施了通过在表面形成微细的凹凸而使入射光散射并使映入像模糊的防眩处理的膜形成的膜层。其中,前者的无反射膜,由于有必要形成光学膜厚均匀的多层膜,因此成本升高。与其相对,后者的防眩膜能够比较低价地制造,因此已广泛用于大型的个人电脑、监视器等用途。
这样的防眩膜,目前为止,通过例如在基材片材上涂布分散有微粒的树脂溶液,调节涂布膜厚而使微粒在涂布膜表面露出,从而在片材上形成无规的凹凸的方法等来制造。但是,通过使这样的微粒分散而制造的防眩膜,凹凸的配置、形状由树脂溶液中的微粒的分散状态、涂布状态等控制,因此难以获得意向的凹凸,对于浊度低的防眩膜,存在不能获得充分的防眩效果的问题。此外,将这样的现有的防眩膜配置于图像显示装置的表面时,存在容易产生整个显示面因散射光而变得发白、成为显示浑浊的颜色的所谓“泛白”的问题。此外,伴随着最近的图像显示装置的高清晰化, 还具有容易产生图像显示装置的像素和防眩膜的表面凹凸形状发生干涉、结果产生亮度分布而难以看清的所谓“晃眼”现象的问题。为了消除晃眼,也尝试了在粘结剂树脂和分散微粒之间设置折射率差来使光散射,但将这样的防眩膜配置在图像显示装置的表面时,由于微粒和粘结剂树脂界面的光的散射,还存在对比度容易降低的问题。
另一方面,也尝试了在不含有微粒的情况下仅通过在透明树脂层的表面形成的微细的凹凸来显现防眩性。例如,特开2002-189106号公报(专利文献1)中公开了通过在压花铸型和透明树脂膜之间夹有电离放射线固化性树脂的状态下使该电离放射线固化性树脂固化,从而形成三维10点平均粗糙度和三维粗糙度基准面上的邻接凸部之间的平均距离分别满足规定值的微细的凹凸,在上述透明树脂膜上设置了形成有该凹凸的电离放射线固化性树脂层的形式的防眩膜。但是,即使利用专利文献1中公开的防眩膜也难以实现足够的防眩效果、泛白的抑制、高对比度和晃眼的抑制。
此外,作为不是在显示装置的显示面配置的防眩膜而是在液晶显示装置的背面侧配置的光扩散层,使用表面形成了微细凹凸的膜也公开于例如特开平6-34961号公报(专利文献2)、特开2004-45471号公报(专利文献3)、特开2004-45472号公报(专利文献4)等中。其中,在专利文献3、4中,作为在膜的表面形成凹凸的手法,公开了如下方法:将电离放射线固化性树脂液填充到具有使凹凸反转的形状的压花辊,使填充的树脂接触在辊凹版的旋转方向同步移动的透明基材,透明基材与辊凹版接触时,使辊凹版和透明基材之间的树脂固化,固化的同时使固化树脂与透明基材密合后,从辊凹版将固化后的树脂和透明基材的层合体剥离。
但是,对于这样的专利文献3、4中公开的方法,能够使用的电离放射线固化性树脂液的组成受到限制,而且不能期待用溶剂稀释而涂布时的流平性,因此预测膜厚的均匀性存在问题。此外,对于专利文献3、4中公开的方法,由于必须直接将树脂液填充到压花辊凹版,为了确保凹凸面的均一性,对压花辊凹版要求高机械精度,存在压花辊的制作难的问题。
其次,作为表面具有凹凸的膜的制作中使用的辊的制作方法,例如,上述专利文献2中公开了如下方法:使用金属等制作圆筒体,采用电子雕 刻、蚀刻、喷砂等方法在其表面形成凹凸。此外,特开2004-29240号公报(专利文献5)中公开了采用喷珠粒(beads shot)法制作压花辊的方法,特开2004-90187号公报(专利文献6)中公开了经过在压花辊的表面形成金属镀层的工序、对金属镀层的表面进行镜面研磨的工序以及根据需要进行喷丸处理的工序,制作压花辊的方法。
但是,这样在压花辊的表面实施了喷射处理的状态下,产生由喷射粒子的粒径分布引起的凹凸径的分布,同时难以控制由喷射得到的凹穴的深度,在再现性良好地得到防眩功能优异的凹凸形状方面存在问题。
此外,上述的专利文献1中,记载了优选使用在铁的表面镀铬得到的辊,采用喷砂法、喷珠粒法形成凹凸模面。还记载为了改善使用时的耐久性,优选对如此形成了凹凸的模面实施镀铬等后使用,由此能够实现硬膜化和防腐蚀。另一方面,上述专利文献3、4各自的实施例中记载了对铁芯表面镀铬,进行#250的液体砂喷射处理后,再次进行镀铬处理,在表面形成微细的凹凸形状。
但是,对于这样的压花辊的制作法,由于在硬度高的铬镀层上进行喷砂、喷珠粒,所以难以形成凹凸,并且难以精密地控制形成的凹凸的形状。此外,如特开2004-29672号公报(专利文献7)中也记载的那样,铬镀层依赖于成为基底的材质及其形状,常常表面粗糙,在通过喷射形成的凹凸上形成由铬镀层产生的细小裂纹,因此存在难以对能够形成什么样的凹凸进行设计的课题。此外,由于存在由铬镀层产生的细小裂纹,因此还存在最终得到的防眩膜的散射特性向不优选的方向变化的问题。此外,通过压花辊母材表面的材质和镀种的组合,精加工的辊表面有多种多样的变化,因此为了高精度地得到需要的表面凹凸形状,还存在必须选择适当的辊表面的材质和适当的镀种的问题。此外,即使得到了所希望的表面凹凸形状,因镀种的不同,也有使用时的耐久性变得不足的情况。
特开2000-284106号公报(专利文献8)中记载了对基材实施喷砂加工后,实施蚀刻工序和/或薄膜的层合工序,但对于喷砂工序前设置金属镀层既没有记载也没有暗示。此外,特开2006-53371号公报(专利文献9)中记载了研磨基材,实施喷砂加工后,实施非电解镀镍。此外,特开 2007-187952号公报(专利文献10)中记载了对基材实施镀铜或镀镍后,进行研磨,实施喷砂加工后,实施镀铬,制作压花版,此外,特开2007-237541号公报(专利文献11)中记载了实施镀铜或镀镍后,进行研磨,实施喷砂加工后,实施蚀刻工序或镀铜工序后实施镀铬,制作压花版。对于这些使用喷砂加工的制法,难以在精密控制的状态下形成表面凹凸形状,因此制作表面凹凸形状具有50μm以上的周期的比较大的凹凸形状。结果存在如下问题:这些大的凹凸形状和图像显示装置的像素干涉,容易发生产生亮度分布而难以看清的所谓晃眼。
发明内容
本发明的目的在于,提供显示优异的防眩性能、同时防止泛白所致的视认性的降低、配置在高清晰的图像显示装置的表面时不产生晃眼而显现高对比度的防眩膜的制造方法以及用于得到防眩膜的金属模具的制造方法。
本发明的防眩膜的制造方法,是包括基于无规配置有多个点径不同的多种点的图形而在透明支持体上形成微细凹凸表面的防眩膜的制造方法,其中,平均点径为6~30μm,点径的变动系数为0.1~0.5,并且图形的能谱在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中不具有最大值。
本发明的防眩膜的制造方法中,优选基于上述图形制作模具,将上述模具的凹凸面转印到透明支持体上,然后将转印了凹凸面的透明支持体从模具剥离。
本发明还提供一种方法,其为上述模具的制造方法,其包括:在模具用基材的表面实施镀铜或镀镍的第1镀敷工序、对通过第1镀敷工序实施了镀敷的表面进行研磨的研磨工序、在经研磨的面涂布形成感光性树脂膜的感光性树脂膜涂布工序、在感光性树脂膜上曝光上述图形的曝光工序,将曝光了上述图形的感光性树脂膜显影的显影工序、使用经显影的感光性树脂膜作为掩模进行蚀刻处理而在经研磨的镀敷面形成凹凸的蚀刻工序、将感光性树脂膜剥离的感光性树脂膜剥离工序、和对形成的凹凸面实施镀铬的第2镀敷工序。
本发明的模具的制造方法,优选在上述感光性树脂膜剥离工序和上述第2镀敷工序之间包含通过蚀刻处理使形成的凹凸面钝化的第2蚀刻工序。
本发明的模具的制造方法,还优选实施了镀铬后,不对表面进行研磨,将镀铬面直接用作模具的凹凸面。
本发明的模具的制造方法,还优选由镀铬形成的铬镀层具有1~10μm的厚度。
根据本发明的防眩膜的制造方法和模具的制造方法,能够再现性良好地制造显示优异的防眩性能、同时防止泛白所致的辨识性的降低、而且配置在高清晰的图像显示装置的表面时不产生晃眼而显现高对比度的防眩膜。
由与附图关联理解的与本发明有关的以下详细说明,本方法的上述和其他目的、特征、局面和优点变得清晰。
附图说明
图1为示意地表示本发明的防眩膜的制造方法中能使用的优选的一例图形的放大图。
图2为示意地表示点径的变动系数为0时的图形的放大图。
图3为示意地表示离散地得到表示图形的函数g(x,y)或t(x,y)的、离散地得到图形的灰度等级或透射率的状态的图。
图4为用灰度等级的二元离散函数g(x,y)表示图1所示图形的图像数据的图。
图5为用白和黑的层次表示将图4所示的灰度等级的二元离散函数g(x,y)进行离散傅立叶变换而得到的能谱G2(fx,fy)的图。
图6为表示图5所示的能谱G2(fx,fy)的fx=0的截面的图。
图7为示意地表示本发明的模具的制造方法的前半部分的优选一例的图。
图8为示意地表示本发明的模具的制造方法的后半部分的优选一例的图。
图9为示意地表示第1蚀刻工序中侧向蚀刻进行的状态的图。
图10为示意地表示由第1蚀刻工序形成的凹凸面通过第2蚀刻工序钝化的状态的图。
图11为用二元函数表示由比较例1的模具制作时使用的图形得到的图像数据的灰度等级的图。
图12为用二元函数表示由比较例2的模具制作时使用的图形得到的图像数据的灰度等级的图。
图13为表示比较例1和比较例2中使用的图形的能谱的fx=0的截面的图。
具体实施方式
<防眩膜的制造方法>
以下对本发明优选的实施方式进行详细说明。本发明的防眩膜的制造方法,包括为了高精度地形成具有特定的空间频率分布的微细凹凸表面形状(微细凹凸表面),基于无规地配置有多个具有平均点径为6~30μm、点径的变动系数为0.1~0.5的多种点径的点以使能谱在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中不具有最大值的图形,在透明支持体上形成微细凹凸表面。在这里,所谓“图形”,意味着用于形成防眩膜的微细凹凸表面的图像数据、具有透光部和遮光部的掩模等。
图1为示意地表示本发明的防眩膜的制造方法中能使用的优选的一例图形(具体为在后述的实施例1中使用的图形)的放大图。本发明中,将黑色圆形表示的区域1记为“点”,将点的直径记为“点径”,将图形中的全部点的点径的平均值记为“平均点径”。此外,所谓“点径的变动系数”是指用点径的标准差除以平均点径得到的值。图1所示的图形的平均点径为18μm,点径的变动系数为0.22。
从抑制晃眼的观点出发,防眩膜的微细凹凸表面优选不包含50μm以上的长周期成分。但是,对于只包含10μm以下的短周期成分的微细凹凸表面,不显现优异的防眩性能。因此,为了显现足够的防眩效果,同时充分地防止晃眼,优选形成含有具有10~50μm的周期的表面形状作为主要 成分的微细凹凸表面。
本发明人等发现,通过制作基于无规配置有多个点的图形而在透明支持体上形成了微细的凹凸形状的防眩膜,所述的点具有使平均点径和点径的变动系数分别为上述规定范围内的多种点径,从而使该防眩膜的微细凹凸表面显示特定的空间频率分布,在显现足够的防眩效果的同时,充分地防止晃眼。用于形成防眩膜的微细凹凸表面的图形的平均点径小于6μm时,在得到的防眩膜没有形成用于有效显现防眩性的周期大于10μm的微细凹凸表面。此外,平均点径大于30μm时,在得到的防眩膜上形成周期为50μm以上的微细凹凸表面,结果配置于高清晰的图像显示装置的表面时发生晃眼。
用于形成微细凹凸表面的图形的点径的变动系数小于0.1时,即使无规配置点,图形也具有局部的规则性。由这样的图形得到的微细凹凸表面也具有局部的规则性。具有带有局部规则性的微细凹凸表面的防眩膜,观察到干涉色,辨识性降低。此外,点径的变动系数大于0.5时,存在多个点径大的点,在由这样的图形得到的防眩膜容易形成周期为50μm以上的微细凹凸表面,结果配置于高清晰的图像显示装置的表面时发生晃眼。图2为示意地表示点径的变动系数为0时的图形的放大图。图2所示的实例中,产生局部规则排列的部位。
其次,对图形的能谱进行说明。图形的能谱,例如如果为图像数据,则在将图像数据转换为256灰度等级的灰色标度后,用二元函数g(x,y)表示图像数据的灰度等级,将得到的二元函数g(x,y)进行傅立叶变换而计算二元函数G(fx,fy),将得到的二元函数G(fx,fy)平方而求得。此外,如果是具有透光部和遮光部的掩模,用二元函数t(x,y)表示透射率,将得到的二元函数t(x,y)进行傅立叶变换而计算二元函数T(fx,fy),将得到的二元函数T(fx,fy)平方而求得。在这里,x和y表示图像数据面内或掩模面内的正交坐标,fx和fy表示x方向的频率和y方向的频率。在这里,傅立叶变换由式(1)定义。此外,式(1)中的π为圆周率,i为虚数单位,二元函数h(x,y)表示g(x,y)、t(x,y),二元函数H(fx,fy)表示G(fx,fy)、T(fx,fy)。
实际上求取图形的能谱时,二元函数g(x,y)、t(x,y)不是以函数形式得到,多是作为离散的数据点的集合即离散函数而得到。图3为示意地表示离散地得到表示图形的函数g(x,y)或t(x,y)的、离散地得到图形的灰度等级或透射率的状态的图。如图3所示,用(x,y)表示图形面内的正交坐标,在图形面上用虚线表示x轴方向上每Δx分割的线和y轴方向上每Δy分割的线,在实际的测定中,图像数据的灰度等级、掩模的透射率作为图形面上的各虚线的每个交点的离散的值而得到。
得到的值的数由测定范围和Δx及Δy决定,如图3所示,将x轴方向的测定范围记为X=MΔx,将y轴方向的测定范围记为Y=NΔy时,则得到的值的数为(M+1)×(N+1)个。
如图3所示,将膜投影面上的着眼点A的坐标记为(jΔx,kΔy)(其中,j为0~M,k为0~N。)时,则图形为图像数据时,着眼点A处的灰度等级可以表示为g(jΔx,kΔy),图形为掩模时,着眼点A处的灰度等级可以表示为t(jΔx,kΔy)。
在这里,就测定间隔Δx和Δy而言,为了高精度地评价图形的频率分布,优选Δx和Δy均为5μm以下,更优选为2μm以下。此外,计算范围x和Y,由于图形的能谱的分辨能力必须为0.01μm-1以下,所以优选x和Y均为2001μm以上,更优选X和Y均为5001μm以上。
这样,由作为(M+1)×(N+1)个值的集合得到的离散函数g(x,y)或t(x,y)和由式(2)定义的离散傅立叶变换求出离散函数G(fx,fy)或T(fx,fy),通过将离散函数G(fx,fy)或T(fx,fy)平方,求出能谱的离散函数G2(fx,fy)、离散函数T2(fx,fy)。其中,式(2)中的1为-(M+1)/2~(M+1)/2的整数,m为-(N+1)/2~(N+1)/2的整数。此外,Δfx和Δfy分别为x方向和y方向的频率间隔,由式(3)和式(4)定义。
图4为用灰度等级的二元离散函数g(x,y)表示图1所示的图形的图像数据。作为图4所示的图形的图像数据以12800dpi的256灰度等级制作。此外,图4所示的二元离散函数g(x,y)具有512×512个值,水平分辨能力Δx和Δy均为2μm。
图5为用白和黑的层次表示将图4所示的灰度等级的二元离散函数g(x,y)进行离散傅立叶变换而得到的能谱G2(fx,fy)的图。图5所示的离散函数G2(fx,fy)也具有512×512个值,水平分辨能力Δfx和Δfy为0.0010μm-1。如图4所示,为了制造本发明的防眩膜而制作的图形是无规的,因此图5的能谱以原点为中心而对称。因此,图形的能谱的最大值可由通过能谱的原点的截面求得。图6为表示图5所示的能谱G2(fx,fy)的fx=0的截面的图。由此可知,图4所示的图形在空间频率0.045μm-1具有最大值,但在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中不具有最大值。
在用于制作防眩膜的图形的能谱在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中具有最大值的情况下,在得到的防眩膜上容易形成周期为50μm以上的微细凹凸表面,其结果,配置于高清晰的图像显示装置的表面时产生晃眼。
具有使用了上述图形的微细凹凸表面的防眩膜,可以采用印刷法、图形曝光法、压花法等制造。例如,对于印刷法,可以通过使用了光固化性树脂或热固化性树脂的苯胺印刷、丝网印刷、喷墨印刷等,在透明支承体上印刷上述图形而制作后,进行干燥,或者通过活性光线或加热使其固化,从而制造本发明的防眩膜。
例如,在苯胺印刷中,制作基于上述图形的凸版即柔性版,在柔性版 的凸部涂布光固化性树脂,将涂布的光固化性树脂转印到透明支承体上后,通过活性光线进行固化,从而可以在透明支承体上形成基于上述图形的微细凹凸。如果是丝网印刷,可以制作基于上述图形的孔版即丝网,使用该丝网和光固化性树脂,在透明支承体上印刷上述图形后,利用活性光线将光固化性树脂固化,从而可以在透明支承体上形成微细凹凸。如果是喷墨印刷,直接使用光固化性树脂在透明支承体上印刷上述图形,然后利用活性光线将光固化性树脂固化,从而可以在透明支承体上形成微细凹凸。采用这样的印刷法形成的微细凹凸一般倾斜角度急陡,存在在透明支承体上没有形成树脂层的部位,因此优选在采用印刷法形成的微细凹凸上进一步涂布光固化性树脂,使倾斜角度平滑,同时在透明支承体上全面形成树脂层。
对于图形曝光法,在透明支承体上涂布了光固化性树脂后,通过使用了上述图形的利用激光进行的直描曝光、介由具有上述图形的掩模的全面曝光,进行图形曝光,根据需要显影后,通过活性光线或加热使其固化,从而可以制造本发明的防眩膜。对于利用激光进行的直描曝光,在透明支承体上涂布光固化性树脂后,利用激光光将上述图形直描曝光,通过显影使曝光的部位残存或溶解,进而对残存的光固化性树脂照射活性光线而使其完全固化,由此可以在透明支承体上形成基于上述图形的微细凹凸。通过这样的利用激光进行的直描曝光形成的微细凹凸,一般倾斜角度急陡,因此优选在通过利用激光进行的直描曝光形成的微细凹凸上进一步涂布光固化性树脂,使倾斜角度平滑。在介由掩模的全面曝光中,制作具有上述图形的掩模,在透明支承体上涂布光固化性树脂后,介由该掩模将光固化性树脂曝光,在显影工序中使曝光的部位残存或溶解,进而对残存的光固化性树脂照射活性光线而使其完全固化,从而可以在透明支承体上形成基于上述图形的微细凹凸。在介由掩模的全面曝光中,也可以通过适当控制接近间隙来控制微细凹凸的倾斜角度,也可以通过将掩模制作成灰度等级掩模来控制曝光的程度,从而控制微细凹凸的倾斜角度。
对于压花法,使用上述的图形制造具有微细凹凸表面的模具,将制造的模具的凹凸面转印到透明支承体上,接着从模具剥离转印了凹凸面的透 明支承体,从而可以制造本发明的防眩膜。在这里,从高精度并且再现性良好地制造微细凹凸表面的观点出发,本发明的防眩膜优选采用压花法制造。
在这里,作为压花法,可以例示使用光固化性树脂的UV压花法、使用热塑性树脂的热压花法,其中,从生产率的观点出发,优选UV压花法。
UV压花法是通过在透明支承体的表面形成光固化性树脂层,边将该光固化性树脂层压到模具的凹凸面边使其固化,从而将模具的凹凸面转印到光固化性树脂层的方法。具体地,将紫外线固化型树脂涂布到透明支承体上,在使涂布的紫外线固化型树脂与模具的凹凸面密合的状态下从透明支承体侧照射紫外线,使紫外线固化型树脂固化,然后从模具剥离形成了固化后的紫外线固化型树脂层的透明支承体,从而将模具的形状转印于紫外线固化型树脂。
使用UV压花法时,作为透明支承体,只要是基本上光学上透明的膜即可,可以列举例如三乙酰纤维素膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚碳酸酯膜、以降冰片烯系化合物为单体的非晶性环状聚烯烃等热塑性树脂的溶剂流延膜、挤出膜等树脂膜。
此外,对使用UV压花法时的紫外线固化型树脂的种类并无特别限定,可以使用市售的适宜产品。此外,也可以使用在紫外线固化型树脂中组合适当选择的光引发剂、即使是波长比紫外线长的可见光也可固化的树脂。具体地,可以分别单独使用三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯,或将它们的2种以上混合使用,优选使用将它们与Irgacure 907(汽巴特种化学品公司制)、Irgacure 184(汽巴特种化学品公司制)、Lucirin TPO(BASF公司制)等光聚合引发剂混合的产物。
另一方面,热压花法是在加热状态下将由热塑性树脂形成的透明支承体压于模具,将模具的表面形状转印于透明支承体的方法。作为热压花法中使用的透明支承体,只要是基本上透明的支承体,可以是任何支承体,可以使用例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素、以降冰片烯系化合物为单体的非晶性环状聚烯烃等热塑性树脂的溶剂流延膜、挤出膜等。这些透明树脂膜也适合用作上述说明的UV 压花法中用于涂布紫外线固化型树脂的透明支承体。
<防眩膜制作用的模具的制造方法>
以下对本发明的防眩膜的制造中使用的模具的制造方法进行说明。对于本发明的防眩膜的制造中使用的模具的制造方法,只要是能得到使用了上述图形的规定的表面形状的方法,并无特别限制,但为了高精度且再现性良好地制造微细凹凸表面,优选基本上包含[1]第1镀敷工序、[2]研磨工序、[3]感光性树脂膜涂布工序、[4]曝光工序、[5]显影工序、[6]第1蚀刻工序、[7]感光性树脂膜剥离工序和[8]第2镀敷工序。图7为示意地表示模具的制造方法的前半部分的优选一例的图。图7中示意地表示各工序中模具的截面。对于本发明的模具的制造方法,以下边参照图7边对本模具的制造方法的各工序进行详细说明。
[1]第1镀敷工序
在本模具的制造方法中,首先,对用于模具的基材的表面实施镀铜或镀镍。这样,通过对模具用基材的表面实施镀铜或镀镍,能够改善后面的第2镀敷工序中镀铬的密合性、光泽性。即,作为背景技术,如上所述,在对铁等的表面实施镀铬时,或者采用喷砂法、喷珠粒法等在镀铬表面形成凹凸后再次实施镀铬时,表面容易粗糙,产生细小的裂纹,模具的表面的凹凸形状变得难以控制。对此,首先,通过对基材表面实施镀铜或镀镍,能够消除这样的不利情况。这是因为,镀铜或镀镍的被覆性高,而且平滑化作用强,因此将模具用基材的微小的凹凸、空洞(cavity)等添埋而形成平坦且具有光泽的表面。由于这些镀铜或镀镍的特性,即使在后述的第2镀敷工序中实施镀铬,认为起因于基材上存在的微小凹凸、空穴的镀铬表面的粗糙得以消除,而且由于镀铜或镀镍的高被覆性,因此使细小的裂纹的产生减少。
作为第1镀敷工序中使用的铜或镍,除了可以是各自的纯金属外,也可以是以铜为主体的合金或者以镍为主体的合金,因此,本说明书中所说的“铜”是包括铜和铜合金的含义,而“镍”是包括镍和镍合金的含义。镀铜和镀镍可以分别用电解镀进行,也可以用非电解镀进行,但通常采用电解镀。
实施镀铜或镀镍时,如果镀层太薄,不能彻底排除基底表面的影响,因此其厚度优选为50μm以上。镀层厚度的上限不是临界值,从与成本的关系出发,一般至多500μm左右则足够。
再有,本发明的模具的制造方法中,作为基材的形成中适合使用的金属材料,从成本的观点出发,可以列举铝、铁等。此外,从处理的便利性出发,更优选轻质的铝。其中所说的铝、铁,除了可以各自是纯金属外,也可以是以铝或铁为主体的合金。
此外,就基材的形状而言,只要是本领域中以往采用的适当的形状,则并无特别限制,可以是平板状,也可以是圆柱状或圆筒状的卷材。如果使用卷状的基材制作模具,具有能够以连续的卷状制造防眩膜的优点。
[2]研磨工序
在接下来的研磨工序中,对在上述第1镀敷工序中实施了镀铜或镀镍的基材表面进行研磨。优选经过该工序将基材表面研磨到接近镜面的状态。这是因为,为了达到所需的精度,大多数情况下是对成为基材的金属板、金属卷实施切削、磨削等机械加工,由此在基材表面残留加工孔眼,在实施了镀铜或镀镍的状态下,有时也残留这些加工孔眼,而且在镀敷完的状态下并不一定表面变得完全平滑。即,即使对残留有这样深的加工孔眼等的表面实施了后述的工序,有时加工孔眼等的凹凸比实施了各工序后形成的凹凸还深,有可能残留加工孔眼等的影响,使用这样的模具制造防眩膜时,有时对光学特性产生不能预期的影响。图7(a)示意地表示平板状的模具用基材7具有在第1镀敷工序中对其表面实施镀铜或镀镍(对该工序中形成的镀铜或镀镍的层没有图示)、进而通过研磨工序进行了镜面研磨的表面8的状态。
对于对实施了镀铜或镀镍的基材表面进行研磨的方法,并无特别限制,可以使用机械研磨法、电解研磨法、化学研磨法的任何方法。作为机械研磨法,可以例示超精加工法、研磨法、流体研磨法、抛光(buff)研磨法等。研磨后的表面粗糙度,优选按照JIS B 0601的规定的中心线平均粗糙度Ra为0.1μm以下,更优选为0.05μm以下。如果研磨后的中心线平均粗糙度Ra大于0.1μm,有可能对最终的模具表面的凹凸形状残留研磨后的表面粗糙度的影响,所以不优选。此外,对于中心线平均粗糙度Ra的下限并无特别限制,从加工时间、加工成本的观点出发,自然存在限度,无特别指定的必要性。
[3]感光性树脂膜涂布工序
在接下来的感光性树脂膜涂布工序中,将感光性树脂溶解于溶剂得到的溶液涂布到通过上述研磨工序实施了镜面研磨的基材7的表面8,进行加热、干燥,从而形成感光性树脂膜。图7(b)示意地表示在基材7的表面8形成了感光性树脂膜9的状态。
作为感光性树脂,可以使用以往公知的感光性树脂。例如,作为具有感光部分固化的性质的负型的感光性树脂,可以使用分子中具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的丙烯酸酯的单体、预聚物,双叠氮化物(bisazide)和二烯橡胶的混合物,聚肉桂酸乙烯酯系化合物等。此外,作为具有通过显影使感光部分洗脱、只残留未感光部分的性质的正型的感光性树脂,可以使用酚醛树脂系、酚醛清漆树脂系等。此外,感光性树脂中根据需要可以配合增感剂、显影促进剂、密合性改进剂、涂布性改进剂等各种添加剂。
将这些感光性树脂涂布于基材7的表面8时,为了形成良好的涂膜,优选在适当的溶剂中稀释而涂布,可以使用溶纤剂系溶剂、丙二醇系溶剂、酯系溶剂、醇系溶剂、酮系溶剂、高极性溶剂等。
作为涂布感光性树脂溶液的方法,可以使用凸液涂布(meniscus coat)、喷泉式涂布、浸涂、旋转涂布、辊式涂布、绕线棒涂布、气刀涂布、刮刀涂布、帘式涂布等公知的方法。涂布膜的厚度优选在干燥后为1~6μm的范围。
[4]曝光工序
在接下来的曝光工序中,将上述能谱在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中不具有最大值的图形在上述感光性树脂膜涂布工序中形成的感光性树脂膜9上曝光。曝光工序中使用的光源可以按照涂布的感光性树脂的感光波长、感度等适当选择,可以使用例如高压水银灯的g线(波长:436nm)、高压水银灯的h线(波长:405nm)、高压水银灯的i线(波长:365nm)、半导体激光(波长:830nm、532nm、488m、405nm等)、YAG激光(波长:1064nm)、KrF准分子激光(波长:248nm)、ArF准分子激光(波长:193nm)、F2准分子激光(波长:157nm)等。
本发明的模具的制造方法中为了高精度地形成表面凹凸形状,优选在曝光工序中在精密控制的状态下将上述图形在感光性树脂膜上曝光。本发明的模具的制造方法中,为了高精度地将上述图形在感光性树脂膜上曝光,优选在计算机上将图形作成图像数据,利用从计算机控制的激光头发出的激光光描画基于该图像数据的图形。进行激光描画时,可使用印刷版制作用的激光描画装置。作为这样的激光描画装置,可以举出例如LaserStream FX((株)Think Laboratory制)等。
图7(c)示意地表示将图形曝光于感光性树脂膜9的状态。用负型的感光性树脂形成感光性树脂膜时,曝光的区域10通过曝光进行树脂的交联反应,相对于后述的显影液的溶解性下降。因此,显影工序中没有曝光的区域11被显影液溶解,只有曝光的区域10残留在基材表面上而成为掩模。另一方面,用正型的感光性树脂形成感光性树脂膜时,曝光的区域10通过曝光,将树脂的结合切断,相对于后述的显影液的溶解性增加。由此,显影工序中曝光的区域10被显影液溶解,只有未曝光的区域11残留在基材表面上而成为掩模。
[5]显影工序
在接下来的显影工序中,将负型的感光性树脂用于感光性树脂膜9时,未曝光的区域11被显影液溶解,只有已曝光的区域10残存在模具用基材上,在接下来的第1蚀刻工序中作为掩模发挥作用。另一方面,将正型的感光性树脂用于感光性树脂膜9时,只有已曝光的区域10被显影液溶解,未曝光的区域11残存在模具用基材上,作为接下来的第1蚀刻工序中的掩模发挥作用。
对于显影工序中使用的显影液,可以使用以往公知的显影液。可以列举例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、正硅酸钠、氨水等无机碱类,乙胺、正丙胺等伯胺类,二乙胺、二正丁胺等仲胺类,三乙胺、甲基二乙基胺等叔胺类,二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类,四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基羟乙基氢氧化铵等季铵盐,吡咯、哌啶等环状胺 类等碱性水溶液,二甲苯、甲苯等有机溶剂等。
对于显影工序中的显影方法并无特别限制,可以使用浸渍显影、喷射显影、刷涂显影、超声波显影等方法。
图7(d)示意地表示将负型的感光性树脂用于感光性树脂膜9进行了显影处理的状态。图7(c)中未曝光的区域11被显影液溶解,只有已曝光的区域10残留在基材表面上而成为掩模12。图7(e)示意地表示将正型的感光性树脂用于感光性树脂膜9进行了显影处理的状态。图7(c)中曝光的区域10被显影液溶解,只有未曝光的区域11残留在基材表面上而成为掩模12。
[6]第1蚀刻工序
在接下来的第1蚀刻工序中,使用上述显影工序后在模具用基材表面上残存的感光性树脂膜作为掩模,主要将无掩模的部位的模具用基材蚀刻。图8为示意地表示本模具的制造方法的后半部分的优选一例的图。图8(a)示意地表示通过第1蚀刻工序主要将无掩模的部位13的模具用基材7蚀刻的状态。掩模12的下部的模具用基材7没有从模具用基材表面被蚀刻,但随着蚀刻的进行,进行从无掩模的区域13的蚀刻。因此,在掩模12和无掩模的区域13的边界附近,掩模12的下部的模具用基材7也被蚀刻。在这样的掩模12和无掩模的区域13的边界附近,掩模12的下部的模具用基材7也被蚀刻,以下将此称为侧向蚀刻。图9中示意地示出侧向蚀刻的进行。图9的点线14阶段性地表示随蚀刻的进行而变化的模具用基材的表面。
第1蚀刻工序中的蚀刻处理,通常通过使用氯化铁(FeCl3)液、氯化铜(CuCl2)液、碱蚀刻液(Cu(NH3)4Cl2)等,将金属表面腐蚀而进行,但也可以使用盐酸、硫酸等强酸,也可以使用通过施加与电解镀时相反的电位的反电解蚀刻。在实施了蚀刻处理时的模具用基材上形成的凹形状,因基底金属的种类、感光性树脂膜的种类和蚀刻手法等而异,因此不能一概而论,蚀刻量为10μm以下时,从与蚀刻液接触的金属表面大致各向同性地被蚀刻。这里所说的蚀刻量,是由蚀刻削减的基材的厚度。
第1蚀刻工序中的蚀刻量优选为1~50μm。蚀刻量小于1μm时,金 属表面几乎无法形成凹凸形状,成为大致平坦的模具,因此不显示防眩性。此外,蚀刻量超过50μm时,金属表面形成的凹凸形状的高低差增大,使用得到的模具制作的防眩膜泛白,因此不优选。第1蚀刻工序中的蚀刻处理可以采用1次的蚀刻处理来进行,也可以分2次以上来进行蚀刻处理。在这里,分2次以上进行蚀刻处理时,2次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的合计优选为1~50μm。
[7]感光性树脂膜剥离工序
在接下来的感光性树脂膜剥离工序中,将第1蚀刻工序中作为掩模使用的残存的感光性树脂膜完全溶解除去。在感光性树脂膜剥离工序中使用剥离液将感光性树脂膜溶解。作为剥离液,可以使用与上述的显影液同样的液体,通过改变pH、温度、浓度和浸渍时间等,将使用了负型的感光性树脂膜时的曝光部的感光性树脂膜、使用了正型的感光性树脂膜时的非曝光部的感光性树脂膜完全溶解除去。对于感光性树脂膜剥离工序中的剥离方法,也无特别限制,可以使用浸渍显影、喷射显影、刷涂显影、超声波显影等方法。
图8(b)示意地表示通过感光性树脂膜剥离工序将第1蚀刻工序中作为掩模使用的感光性树脂膜完全溶解除去的状态。通过感光性树脂膜形成的掩模12和蚀刻,在模具用基材表面形成第1表面凹凸形状15。
[2]第2镀敷工序
接着,通过实施镀铬,使表面的凹凸形状钝化。图8(c)中示出在如上所述通过第1蚀刻工序的蚀刻处理形成的表面凹凸形状上形成铬镀层16,使表面17钝化的状态。
本发明中,在平板、卷材等的表面采用有光泽、硬度高、摩擦系数小、能赋予良好的脱模性的镀铬。镀铬的种类并无特别限制,优选使用称为所谓光泽镀铬、装饰用镀铬等的显现良好光泽的镀铬。通常通过电解进行镀铬,作为其镀浴,使用含有铬酸酐(CrO3)和少量硫酸的水溶液。可以通过调节电流密度和电解时间来控制镀铬的厚度。
上述的特开2002-189106号公报、特开2004-45472号公报、特开2004-90187号公报等中公开了采用镀铬,但因模具的镀敷前的基底和镀铬 的种类,常常在镀敷后表面粗糙,或产生大量由镀铬引起的微小的裂纹,其结果,制作的防眩膜的光学特性向不优选的方向发展。镀敷表面粗糙的状态的模具,不适合用于制造防眩膜。原因在于,一般为了消除不光滑,在镀铬后对镀敷表面进行研磨,如后所述,本发明中不优选镀敷后的表面的研磨。本发明中,通过对基底金属实施镀铜或镀镍,将容易因镀铬产生的这样的不利情况消除。
再有,在第2镀敷工序中,不优选实施镀铬以外的镀敷。原因在于,对于铬以外的镀敷,硬度、耐磨损性降低,因此作为模具的耐久性降低,使用中凹凸磨损,或者模具损伤。由这样的模具得到的防眩膜,难以获得足够的防眩功能的可能性高,此外,在膜上产生缺陷的可能性也升高。
此外,如上述的特开2004-90187号公报等中公开的那样研磨镀敷后的表面,对于本发明也不优选。其基于以下等理由:通过研磨,最外表面产生平坦的部分,因此有可能导致光学特性的恶化,而且形状的控制因素增加,因此再现性好的形状控制变得困难。
这样,对于本发明,优选实施镀铬后,不研磨表面而将镀铬面直接地用作模具的凹凸面。原因在于,通过对形成了微细表面凹凸形状的表面实施镀铬,使凹凸形状钝化,同时获得其表面硬度提高的模具。此时的凹凸的钝化情况,因基底金属的种类、由第1蚀刻工序得到的凹凸的尺寸和深度、以及镀敷的种类、厚度等而异,因此不能一概而论,在控制钝化情况方面最大的因素仍是镀敷厚度。如果镀铬的厚度薄,使镀铬加工前得到的凹凸的表面形状钝化的效果不足,将其凹凸形状转印到透明膜而得到的防眩膜的光学特性不会太好。另一方面,如果镀敷厚度过厚,则生产率变差,此外,产生称为结状物的突起状的镀敷缺陷,因此不优选。因此,镀铬的厚度优选为1~10μm的范围内,更优选为3~6μm的范围内。
该第2镀敷工序中形成的铬镀层,优选以维氏硬度达到800以上的方式形成,更优选以达到1000以上的方式形成。铬镀层的维氏硬度小于800时,模具使用时的耐久性降低,而且因镀铬而使硬度降低,这是因为镀敷处理时镀浴组成、电解条件等产生异常的可能性高,对缺陷的发生状况也造成不优选的影响的可能性高。
此外,用于制作本发明的防眩膜的模具的制造方法中,优选上述[7]感光性树脂膜剥离工序和[8]第2镀敷工序之间包含通过蚀刻处理使由第1蚀刻工序形成的凹凸面钝化的第2蚀刻工序。第2蚀刻工序中,通过蚀刻处理使由将感光性树脂膜用作掩模的第1蚀刻工序形成的第1表面凹凸形状15钝化。通过该第2蚀刻处理,由第1蚀刻处理形成的第1表面凹凸形状15中的表面倾斜急陡的部分消失,使用得到的模具制造的防眩膜的光学特性向优选的方向变化。图10中示出了通过第2蚀刻工序,基材7的第1表面凹凸形状15钝化,使表面倾斜急陡的部分钝化,形成具有缓和的表面倾斜的第2表面凹凸形状18的状态。
第2蚀刻工序的蚀刻处理也与第1蚀刻工序一样,通常通过使用氯化铁(FeCl3)液、氯化铜(CuCl2)液、碱蚀刻液(Cu(NH3)4Cl2)等,将表面腐蚀而进行,但也可以使用盐酸、硫酸等强酸,也可以使用通过施加与电解镀时相反的电位的反电解蚀刻。实施了蚀刻处理后的凹凸的钝化情况,因基底金属的种类、蚀刻手法和由第1蚀刻工序得到的凹凸的尺寸和深度等而异,因此不能一概而论,控制钝化情况方面最大的因素是蚀刻量。这里所说的蚀刻量,也与第1蚀刻工序一样是被蚀刻削减的基材的厚度。如果蚀刻量小,使由第1蚀刻工序得到的凹凸的表面形状钝化的效果不足,将其凹凸形状转印到透明膜而得到的防眩膜的光学特性不会太好。另一方面,如果蚀刻量过大,几乎不会成为凹凸形状,成为大致平坦的模具,因此无法显示防眩性。因此,蚀刻量优选为1~50μm的范围内,更优选为4~20μm的范围内。对于第2蚀刻工序中的蚀刻处理,也与第1蚀刻工序一样,可以采用1次的蚀刻处理来进行,也可以分2次以上来进行蚀刻处理。在这里,分2次以上进行蚀刻处理时,2次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的合计优选为1~50μm。
以下举出实施例对本发明进一步详细说明,但本发明并不限于这些实施例。例中,表示含量乃至使用量的%和份如无特别说明则为重量基准。此外,以下的例中模具或防眩膜的评价方法如下所述。
[1]防眩膜制作用的图形的评价
使制作的图像数据成为12800dpi、256灰度等级的灰色标度的图像数 据,用二元离散函数g(x,y)表示灰度等级。将得到的二元离散函数g(x,y)进行傅立叶变换而求出二元函数G(fx,fy)。将二元函数G(fx,fy)平方计算能谱的二元函数G2(fx,fy),由fx=0的截面曲线即G2(0,fy)求出空间频率大于0μm-1且绝对值最小的空间频率的最大值。计算时使用的图形的水平分辨能力Δx和Δy均为2μm。此外,计算范围为1000μm×1000μm。
[2]防眩膜的光学特性的测定
(浊度)
防眩膜的浊度采用JIS K 7136中规定的方法进行测定。具体地,使用按照该规格的浊度计HM-150型(村上色彩技术研究所制)测定浊度。为了防止防眩膜的翘曲,使用光学上透明的胶粘剂贴合到玻璃基板上以使凹凸面成为表面后,供于测定。一般地浊度越大,应用于图像显示装置时图像越暗,其结果,正面对比度容易降低。因此,优选浊度低。
[3]防眩膜的防眩性能的评价
(映入、泛白的目视评价)
为了防止来自防眩膜的背面的反射,将防眩膜贴合于黑色丙烯酸树脂板以使凹凸面成为表面,在带有荧光灯的明亮的室内从凹凸面侧目视观察,目视评价有无荧光灯的映入、泛白的程度。映入、泛白和质感分别用1到3的3等级按以下基准进行评价。
映入1:没有观察到映入。
2:观察到少量映入。
3:清楚地观察到映入。
泛白1:没有观察到泛白。
2:观察到少量泛白。
3:清楚地观察到泛白。
(晃眼的评价)
采用以下的方法评价晃眼。即,从市售的液晶电视(LC-32GH3(夏普(株)制)剥离表背两面的偏振板。代替这些原始偏振板,背面侧和显示面侧均通过胶粘剂贴合偏振板SUMIKARAN SRDB31E(住友化学(株) 制)以使各自的吸收轴与原始的偏振板的吸收轴一致,进而在显示面侧偏振板上通过胶粘剂贴合以下的各例中所示的防眩膜以使凹凸面成为表面。在该状态下,从距离样品约30cm的位置进行目视观察,由此用7等级对晃眼的程度进行官能评价。水平1是完全没有发现晃眼的状态,水平7相当于观察时严重晃眼的状态,水平3是相当少地观察到晃眼的状态。
[4]防眩膜制造用的图形的评价
使制作的图形数据为256灰度等级的灰色标度的图像数据,用二元的离散函数g(x,y)表示灰度等级。离散函数g(x,y)的水平分辨能力Δx和Δy均为2μm。将得到的二元函数g(x,y)进行离散傅立叶变换,求出二元函数G(fx,fy)。将二元函数G(fx,fy)平方,计算能谱的二元函数G2(fx,fy),由fx=0的截面曲线G2(0,fy),求出空间频率大于0μm-1并且绝对值最小的空间频率下的最大值。
<实施例1>
准备其表面实施了铜巴拉德镀敷(銅バラ一ドめつき)的直径200mm的铝卷(根据JIS的A5056)。铜巴拉德镀层由铜镀层/薄银镀层/表面铜镀层组成,镀层整体的厚度设定为约200μm。对其镀铜表面进行镜面研磨,在经研磨的镀铜表面涂布感光性树脂,进行干燥而形成感光性树脂膜。接着,用激光光将图8所示的图形反复并列而成的图形曝光于感光性树脂膜上,进行显影。采用激光光的曝光、和显影,使用Laser Stream FX((株)Think Laboratory制)进行。将正型的感光性树脂用于感光性树脂膜。
然后,用氯化铜液进行第1蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为7μm。从第1蚀刻处理后的卷材除去感光性树脂膜,再次用氯化铜液进行第2蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为18μm。然后,进行镀铬加工,制作模具A。此时,镀铬厚度设定为4μm。
用醋酸乙酯溶解光固化性树脂组合物GRANDIC 806T(大日本油墨化学工业(株)制),成为50重量%浓度的溶液,进而相对于100重量份固化性树脂成分添加5重量份光聚合引发剂Lucirin TPO(BASF公司制,化学名:2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基膦化氧),调制涂布液。将该涂布液涂布到厚度80μm的三乙酰纤维素(TAC)膜上,使干燥后的涂布厚度为 10μm,在设定为60℃的干燥机中干燥3分钟。用橡胶辊将干燥后的膜压到先前得到的模具A的凹凸面以使光固化性树脂组合物层成为模具侧而使它们密合。在该状态下从TAC膜侧照射强度20mW/cm2的来自高压水银灯的光以使以h线换算光量计达到200mJ/cm2,使光固化性树脂组合物层固化。然后,从模具与固化树脂一起剥离TAC膜,制作由表面具有凹凸的固化树脂和TAC膜的层合体构成的透明的防眩膜A。
<比较例1>
除了使用图11所示的图形(平均点径:22μm,点径的变动系数:0,能谱:在0.037μm-1具有最大值)作为利用激光光进行曝光的图形以外,与实施例1同样地得到模具B。除了使用得到的模具B以外,与实施例1同样地制作防眩膜B。
<比较例2>
除了使用图12所示的图形(平均点径:36μm,点径的变动系数:0,能谱:在0.019μm-1具有最大值)作为利用激光进行曝光的图形,将第1蚀刻处理的蚀刻量设定为10μm,将第2蚀刻处理的蚀刻量设定为30μm以外,与实施例1同样地得到模具C。除了使用得到的模具C以外,与实施例1同样地制作防眩膜C。
<比较例3>
准备其表面实施了铜巴拉德镀敷的直径200mm的铝卷(根据JIS的A5056)。铜巴拉德镀层由铜镀层/薄银镀层/表面铜镀层组成,镀层整体的厚度设定为约200μm。对其镀铜表面进行镜面研磨,在经研磨的镀铜面,使用喷射装置((株)不二制作所制),以喷射压力0.05MPa(表压,下同)、珠粒使用量8g/cm2(每1cm2卷的表面积的使用量,下同)喷射氧化锆珠粒TZ-SX-17(东曹(株)制,平均粒径:20μm),使表面产生凹凸。对得到的带凹凸的镀铜铝卷进行镀铬加工,制作金属模具D。此时,镀铬厚度设定为6μm。除了使用得到的模具D以外,与实施例1同样地制作防眩膜D。
<比较例4>
对直径300mm的铝卷(根据JIS的A5056)的表面进行镜面研磨,在 经研磨的铝面,使用喷射装置((株)不二制作所制),以喷射压力0.1MPa(表压,下同)、珠粒使用量8g/cm2(每1cm2卷的表面积的使用量,下同)喷射氧化锆珠粒TZ-SX-17(东曹(株)制,平均粒径:20μm),使表面产生凹凸。对得到的带凹凸的铝卷进行非电解镀镍加工,制作模具E。此时,非电解镀镍厚度设定为15μm。除了使用得到的模具E以外,与实施例1同样地制作防眩膜E。
将结果示于表1。
表1
此外,将比较例1和比较例2中使用的图形的能谱的fx=0的截面示于图13。由13可知,防眩膜B和C的制作中使用的图形的能谱在空间频率大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中具有最大值。
由表1所示的结果可知,全部满足本发明的要件的防眩膜A,没有发生晃眼,显示足够的防眩性,也没有产生泛白。此外,浊度也低,因此配置于图像显示装置时也不引起对比度的降低。由点径的变动系数不满足本发明要件且能谱在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中具有最大值的图形制作的防眩膜B,显示足够的防眩性,也没有发生泛白,但产生了晃眼。此外,由平均点径和点径的变动系数不满足本发明的要件且能谱在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中具有最大值的图形制作的防眩膜C,显示足够的防眩性,也没有发生泛白,但产生了晃眼。此外,没有使用规定的图形制作的防眩膜D和E,不能兼具足够的防眩性和晃眼的抑制。
Claims (6)
1.防眩膜的制造方法,其包括基于无规配置有多个点径不同的多种点的图形,利用印刷法、图形曝光法或压花法在透明支持体上形成微细凹凸表面,其中平均点径为6~30μm,点径的变动系数为0.1~0.5,并且图形的能谱在大于0μm-1且小于等于0.04μm-1中不具有最大值。
2.权利要求1所述的方法,其包括基于所述图形制作模具,将所述模具的凹凸面转印到透明支持体上,然后将转印了凹凸面的透明支持体从模具剥离。
3.一种权利要求2所述的模具的制造方法,其包括:
在模具用基材的表面实施镀铜或镀镍的第1镀敷工序;
对通过第1镀敷工序实施了镀敷的表面进行研磨的研磨工序;
在经研磨的面涂布形成感光性树脂膜的感光性树脂膜涂布工序;
在感光性树脂膜上曝光所述图形的曝光工序;
将曝光了所述图形的感光性树脂膜显影的显影工序;
使用已显影的感光性树脂膜作为掩模进行蚀刻处理,在经研磨的镀敷面形成凹凸的蚀刻工序;
将感光性树脂膜剥离的感光性树脂膜剥离工序;和
对形成的凹凸面实施镀铬的第2镀敷工序。
4.权利要求3所述的方法,其中在所述感光性树脂膜剥离工序和所述第2镀敷工序之间包含通过蚀刻处理使形成的凹凸面钝化的第2蚀刻工序。
5.权利要求3所述的方法,其中实施了镀铬后,不对表面进行研磨,将镀铬面直接用作模具的凹凸面。
6.权利要求3~5中任一项所述的方法,其中由镀铬形成的铬镀层具有1~10μm的厚度。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009074119A JP5158443B2 (ja) | 2009-03-25 | 2009-03-25 | 防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに金型の製造方法 |
JP2009074120A JP5158444B2 (ja) | 2009-03-25 | 2009-03-25 | 防眩フィルムの製造方法および防眩フィルム作製のための金型の製造方法 |
JP2009-074119 | 2009-03-25 | ||
JP2009-074120 | 2009-03-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101846755A CN101846755A (zh) | 2010-09-29 |
CN101846755B true CN101846755B (zh) | 2014-04-16 |
Family
ID=42771432
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201010144656.2A Active CN101846754B (zh) | 2009-03-25 | 2010-03-24 | 防眩膜 |
CN201010144719.4A Expired - Fee Related CN101846755B (zh) | 2009-03-25 | 2010-03-24 | 防眩膜的制造方法和用于防眩膜制作的模具的制造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201010144656.2A Active CN101846754B (zh) | 2009-03-25 | 2010-03-24 | 防眩膜 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (2) | CN101846754B (zh) |
TW (2) | TWI477822B (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011017829A (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルムおよびその製造方法 |
JP5801062B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2015-10-28 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルムおよび防眩性偏光板 |
WO2013129306A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルム |
TWI610805B (zh) * | 2012-06-08 | 2018-01-11 | 長春石油化學股份有限公司 | 夾層玻璃用之中間膜及含其之夾層玻璃 |
TWI549816B (zh) * | 2012-06-08 | 2016-09-21 | 長春石油化學股份有限公司 | 夾層玻璃用之中間膜及含其之夾層玻璃 |
JPWO2014034720A1 (ja) | 2012-08-31 | 2016-08-08 | 日本電気硝子株式会社 | 防眩・反射防止部材及びその製造方法 |
WO2015137196A1 (ja) * | 2014-03-14 | 2015-09-17 | 日本電気硝子株式会社 | ディスプレイのカバー部材及びその製造方法 |
JP6515566B2 (ja) * | 2015-02-16 | 2019-05-22 | 住友化学株式会社 | 金型 |
CN106646697B (zh) * | 2017-02-24 | 2019-05-21 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种抗闪光盖板的制造方法 |
CN111169056B (zh) * | 2018-11-12 | 2022-08-05 | 苏州维业达触控科技有限公司 | 一种防眩光扩散膜的制作方法 |
CN115216040B (zh) * | 2022-07-18 | 2024-07-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种防眩光膜层的制备方法、防眩光膜层以及显示装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN1914523A (zh) * | 2004-01-29 | 2007-02-14 | 日本油漆株式会社 | 防炫性涂料组合物、防炫薄膜及其制造方法 |
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JP2007108724A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-04-26 | Fujifilm Corp | 防眩性反射防止フィルム、これを用いた偏光板および液晶表示装置 |
JP2007187952A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-26 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム、その製造方法、そのための金型の製造方法、及び表示装置 |
WO2007097454A1 (ja) * | 2006-02-27 | 2007-08-30 | Zeon Corporation | 微細凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法 |
JP4155337B1 (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-24 | ソニー株式会社 | 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置 |
JP2008209867A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | スタンパおよび防眩性反射防止物品とその製造方法 |
WO2009008240A1 (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-15 | Konica Minolta Opto, Inc. | 防眩性フィルム、これを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置 |
-
2010
- 2010-03-24 TW TW099108639A patent/TWI477822B/zh active
- 2010-03-24 TW TW099108643A patent/TWI461746B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-03-24 CN CN201010144656.2A patent/CN101846754B/zh active Active
- 2010-03-24 CN CN201010144719.4A patent/CN101846755B/zh not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201044023A (en) | 2010-12-16 |
TWI461746B (zh) | 2014-11-21 |
TWI477822B (zh) | 2015-03-21 |
CN101846755A (zh) | 2010-09-29 |
CN101846754A (zh) | 2010-09-29 |
TW201042296A (en) | 2010-12-01 |
CN101846754B (zh) | 2014-08-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20140416 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |