TWI477822B

TWI477822B - 防眩膜

Info

Publication number: TWI477822B
Application number: TW099108639A
Authority: TW
Inventors: Tsutomu Furuya; Hiroshi Miyamoto; Toru Jinno
Original assignee: Sumitomo Chemical Co
Priority date: 2009-03-25
Filing date: 2010-03-24
Publication date: 2015-03-21
Also published as: CN101846755A; TW201042296A; CN101846754A; CN101846755B; TWI461746B; CN101846754B; TW201044023A

Description

防眩膜

本發明係關於一種低雜訊並且防眩特性優良的防眩(antiglare)膜。(「防眩」與「防炫」在此技術領域已經混用，均表示防止閃耀)

液晶顯示器或電漿顯示面板、布朗(Braun)管(陰極射線管：CRT(Cathode Ray Tube))、有機電致發光(EL：Electroluminescence)顯示器等影像顯示裝置係，當外光映射至該顯示面時，辨識性會顯著受損。為了防止如此之外光的映射，在重視畫質之電視及個人電腦、於外光較強的室外所使用之攝影機及數位照相機、利用反射光來進行顯示之行動電話等中，至今一直在影像顯示裝置的表面設置有防止外光的映射之膜層。此膜層可大致區分為：由經利用因光學多層膜所造成之干涉來施予無反射處理之膜所構成者、以及由經施予經由在表面形成細微凹凸使入射光散射而使映射像模糊化之防眩處理之膜所構成者。其中，前者的無反射膜由於必須形成均勻的光學膜厚之多層膜，所以成本較高。相對於此，後者的防眩膜由於可較價廉地製造，所以廣泛使用於大型的個人電腦或顯示器等用途中。

如此之防眩膜至今一直藉由下述方法等來製造，例如：將分散有微粒子之樹脂溶液塗佈於基材薄片上，並調整塗佈膜厚使微粒子在塗佈膜表面露出，而在薄片上形成不規則的凹凸之方法。然而，藉由使如此之微粒子分散而製得之防眩膜，由於凹凸的配置或形狀受到樹脂溶液中之微粒子的分散狀態或塗佈狀態等影響，所以難以獲得期望的凹凸，而有霧度較低者無法獲得充分的防眩效果之問題。再者，當將如此之習知的防眩膜配置在影像顯示裝置的表面時，顯示面全體會因散射光而變白，而有容易發生顯示成為混濁之顏色之所謂「泛白」之問題。此外，隨著近來影像顯示裝置的高精細化，影像顯示裝置的像素與防眩膜的表面凹凸形狀發生干涉，結果亦有容易發生因產生亮度分布以致於難以觀看之所謂「閃爍」現象的問題。為了消除閃爍，亦嘗試在黏結劑樹脂與分散微粒子之間設置折射率差以使光散射，但當將如此之防眩膜配置在影像顯示裝置的表面時，亦有因微粒子與黏結劑樹脂界面之光的散射而對比容易降低之問題。

另一方面，亦嘗試不含微粒子而僅藉由形成於透明樹脂層的表面之細微凹凸來顯現防眩性。例如日本特開2002-189106號公報(專利文獻1)中揭示一種防眩膜，係藉由在將游離輻射(ionization radiation)硬化性樹脂夾持於壓花鑄模與透明樹脂膜之間之狀態下使該游離輻射硬化性樹脂硬化來形成三維10點平均粗糙度以及三維粗糙度基準面上之鄰接之凸部彼此的平均距離分別滿足預定值之細微凹凸，而將形成有該凹凸之游離輻射硬化性樹脂層設置在前述透明樹脂膜之形態者。然而，即使藉由專利文獻1中所揭示之防眩膜，亦難以達成充分的防眩效果、泛白的抑制、高對比、以及閃爍的抑制。

此外，並非配置在顯示裝置的顯示面之防眩膜，而是使用在表面形成有細微凹凸之膜作為配置在液晶顯示裝置的背面側之光擴散層，亦揭示於例如：日本特開平6-34961號公報(專利文獻2)、日本特開2004-45471號公報(專利文獻3)、日本特開2004-45472號公報(專利文獻4)等中。其中，專利文獻3、4中揭示一種方法作為於膜表面形成凹凸之手法，該方法係將游離輻射硬化性樹脂液充填於具有使凹凸翻轉之形狀的壓花輥，使與輥凹版的旋轉方向同步地行進之透明基材與所充填的樹脂接觸，當透明基材與輥凹版接觸時，使位於輥凹版與透明基材之間之樹脂硬化，在硬化的同時使硬化樹脂與透明基材密著後，再從輥凹版將硬化後的樹脂與透明基材之積層體剝離之方法。

然而，如此之專利文獻3、4中所揭示之方法係，因所能夠使用之游離輻射硬化性樹脂液的組成受限，且無法期待如以溶劑稀釋後進行塗佈時之塗平性(leveling)，因此可預測仍有膜厚均勻性之課題。再者，專利文獻3、4中所揭示之方法係，因必須直接將樹脂液充填於壓花輥凹版，為了確保凹凸面的均勻性，而對壓花輥凹版要求高機械精度，而有難以製作壓花輥之課題。

接著，作為用於製作在表面具有凹凸之膜的輥之製作方法例如：上述專利文獻2中揭示一種使用金屬等來製作圓筒體，並於該表面上藉由電子雕刻、蝕刻、噴砂等手法來形成凹凸之方法。此外，日本特開2004-29240號公報(專利文獻5)中揭示一種藉由噴珠(Beads Shot)法來製作壓花輥之方法，日本特開2004-90187號公報(專利文獻6)中揭示一種經由將金屬鍍覆層形成於壓花輥的表面之步驟、將金屬鍍覆層的表面進行鏡面研磨之步驟、以及因應必要而進行珠擊(Peening)處理之步驟，來製作出壓花輥之方法。

然而，在如此對壓花輥的表面施予噴砂處理之狀態下，會因噴砂粒子的粒徑分布而產生凹凸徑的分布並且難以控制藉由噴砂所得之凹部的深度，而有再現性良好地獲得防眩功能優良的凹凸形狀之課題。

此外，上述專利文獻1中記載有較佳為使用經對鐵的表面進行鍍鉻之輥，並藉由噴砂法或噴珠法來形成凹凸模面。再者，亦記載有為了提升使用時的耐久性之目的，以對如此形成有凹凸之模面施予鍍鉻等後使用為佳，藉此謀求硬膜化及防腐蝕之要旨。另一方面，上述專利文獻3、4各自的實施例中記載有對鐵芯表面進行鍍鉻，並進行#250的液體噴砂處理後，再次進行鍍鉻，而在表面形成細微的凹凸形狀。

然而，如此之壓花輥的製法係，由於在硬度高的鍍鉻上進行噴砂或噴擊，所以難以形成凹凸，而且難以精密地控制所形成之凹凸的形狀。此外，亦如日本特開2004-29672號公報(專利文獻7)中所記載，鍍鉻係視基底之材質及形狀而定，表面常較粗糙，而在以噴砂所形成之凹凸上會形成因進行鍍鉻所產生之細微龜裂，所以有難以設計可形成何種凹凸之課題。再者，由於有因鍍鉻所產生之細微龜裂，所以亦有最後所得之防眩膜的散射特性朝較不佳的方向變化之課題。此外，由於精加工後的輥表面依壓花輥母材表面的材質與鍍覆種類的組合而有各式各樣的變化，所以為了能夠精度良好地獲得所需的表面凹凸形狀，亦具有必須選擇適當的輥表面材質與適當的鍍覆種類之課題。再者，即使獲得期望的表面凹凸形狀，亦因鍍覆種類的不同，亦有時使用時的耐久性不足。

日本特開2000-284106號公報(專利文獻8)中記載有對基材施予噴砂加工後，施予蝕刻步驟及/或薄膜的積層步驟，但並未記載或教示在噴砂步驟前設置金屬鍍覆層。此外，日本特開2006-53371號公報(專利文獻9)中記載有在研磨基材並施予噴砂加工後，施予無電解鍍鎳。此外，日本特開2007-187952號公報(專利文獻10)中記載有在對基材施予鍍銅或鍍鎳後，進行研磨並施予噴砂加工後，施予鍍鉻來製作壓花版，再者，日本特開2007-237541號公報(專利文獻11)中記載有施予鍍銅或鍍鎳後，進行研磨並施予噴砂加工後，施予蝕刻步驟或鍍銅步驟，然後施予鍍鉻來製作壓花版。此等使用噴砂加工之製法係，由於難以在精密控制之狀態下形成表面凹凸形狀，所以亦會製作出表面凹凸形狀具有50μm以上的週期之較大的凹凸形狀。結果，此等較大的凹凸形狀與影像顯示裝置的像素發生干涉，而有容易發生因產生亮度分布以致於難以觀看之所謂閃爍的問題。

本發明之目的為提供一種防眩膜，其係顯示優良的防眩性能同時防止因泛白造成辨識性降低，並且當配置在高精細之影像顯示裝置的表面時不會發生閃爍而顯現高對比。

本發明之防眩膜係在透明支撐體上形成具有細微凹凸表面之防眩層而成的防眩膜，其中，前述細微凹凸表面的標高之空間頻率0.01μm^-1 中的能譜H₁ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 之比H₁ ² /H₂ ² 係在3至15的範圍內。

本發明之防眩膜較佳是前述細微凹凸表面的標高之空間頻率0.1μm^-1 中的能譜H₃ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 之比H₃ ² /H₂ ² 為0.01以下。(「標高」的定義在後文中有說明)

本發明之防眩膜較佳是細微凹凸表面的傾斜角度為5°以下之面的比例係95%以上。

此外，本發明之防眩膜較佳是防眩層不含0.4μm以上的微粒子。

本發明之上述及其他目的、特徵、情況及優點可從與所附圖式相關聯而理解之關於本發明的下列詳細說明更加明瞭。

＜防眩膜＞

以下係詳細說明本發明之較佳的實施形態。

本發明之防眩膜係在透明支撐體上形成具有細微凹凸表面形狀(細微凹凸表面)之防眩層而成者，其特徵為：細微凹凸表面的標高之空間頻率0.01μm^-1 中的能譜H₁ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 之比H₁ ² /H₂ ² 係在3至15的範圍內。至目前為止，對於防眩膜之細微凹凸表面的週期，係以JIS B 0601中所記載之粗糙度曲線要素的平均長度RSm、剖面曲線要素的平均長度PSm、以及起伏曲線要素的平均長度WSm等來進行評估。然而，如此之習知的評估方法係無法正確地評估細微凹凸表面所含之複數個週期。因此，對於閃爍與細微凹凸表面之相關性以及防眩性與細微凹凸表面之相關性，亦無法正確地評估，因而難以製作兼具閃爍抑制與充分的防眩性能之防眩膜。

本發明人等發現，若在透明支撐體上形成具有細微凹凸表面之防眩層而成的防眩膜中使細微凹凸表面顯示特定的空間頻率分布，則可顯現充分的防眩效果並且充分地防止閃爍。亦即，根據本發明，藉由將細微凹凸表面的標高之空間頻率0.01μm^-1 中的能譜H₁ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 之比H₁ ² /H₂ ² 設定在特定範圍內，即可提供一種顯示優良的防眩性能同時防止因泛白造成辨識性降低，並且當配置在高精細之影像顯示裝置的表面時不會發生閃爍而顯現高對比之防眩膜。

首先說明防眩膜之細微凹凸表面的標高之能譜。第1圖係顯示本發明之防眩膜的表面之示意透視圖。如第1圖所示，本發明之防眩膜1係具有於其表面形成細微凹凸2而成之防眩層。在此，本發明中所謂「細微凹凸表面的標高」，係意指在膜1表面的任意點P之細微凹凸表面的最低點的高度中，從具有該高度之假想平面(標高係以0μm為基準)之膜的主法線方向5(上述假想平面之法線方向)上之直線距離。如第1圖所示，當以(x,y)來表示膜面內的直角座標時，細微凹凸表面的標高可表示為座標(x,y)的二維函數h(x,y)。第1圖中係以投影面3來表示膜全體。

細微凹凸表面的標高可從藉由共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM：Atomic Force Microscope)等裝置所測定之表面形狀的三維資訊求取。測定機所要求的水平解析度，至少為5μm以下，較佳為2μm以下，此外，垂直解析度至少為0.1μm以下，較佳為0.01μm以下。適於此測定之非接觸式三維表面形狀/粗糙度測定機，可列舉出New View 5000系列(Zygo Corporation公司製、在日本可從Zygo(股)取得)、三維顯微鏡PLμ2300(Sensofar公司製)等。測定面積，由於標高之能譜的解析度必須為0.01μm^-1 以下，所以較佳至少為200μm×200μm以上，尤佳為500μm×500μm以上。

接著說明從二維函數h(x,y)來求取標高的能譜之方法。首先，從二維函數h(x,y)藉由式(1)所定義之二維傅立葉(Fourier)轉換來求取二維函數H(f_x ,f_y )。

在此，f_x 及f_y 分別為x方向及y方向的頻率，係具有長度之倒數的維度。此外，式(1)中的π為圓周率，i為虛數單位。藉由將所得之二維函數H(f_x ,f_y )進行二次方運算，可求取能譜H² (f_x ,f_y )。此能譜H² (f_x ,f_y )係表示防眩膜之細微凹凸表面的空間頻率分布。

以下更具體地說明求取防眩膜之細微凹凸表面的能譜之方法。藉由上述共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡等所實際測定之表面形狀的三維資訊，一般可以離散值，亦即對應於多數個測定點之標高之形式獲得。第2圖係顯示離散地獲得表示標高之函數h(x,y)之狀態之示意圖。如第2圖所示，當以(x,y)表示膜面內的直角座標，並以虛線來表示膜投影面3上在x軸方向上每隔Δx分割成的線以及在y軸方向上每隔Δy分割成的線時，在實際的測定中，細微凹凸表面的標高可以膜投影面3上之各虛線的每個交叉點之離散的標高值之形式獲得。

所得之標高值的數目是由測定範圍與Δx及Δy所決定，如第2圖所示，當以x軸方向的測定範圍為X=MΔx，以y軸方向的測定範圍為Y=NΔy時，所得之標高值的數目為(M+1)×(N+1)個。

如第2圖所示，當將膜投影面3上之著眼點A的座標設為(jΔx,kΔy)(在此，j為0以上M以下，k為0以上N以下)時，對應於著眼點A之膜投影面3上之點P的標高可表示為h(jΔx,kΔy)。

在此，測定間隔Δx及Δy係視測定機器的水平解析度而定，為了精度良好地評估細微凹凸表面，如上述，較佳為Δx及Δy均為5μm以下，尤佳為2μm以下。此外，測定範圍如上述，較佳均為200μm以上，尤佳均為500μm以上。

如此，在實際的測定中，表示細微凹凸表面的標高之函數，可以具有(M+1)×(N+1)個值之離散函數h(x,y)之形式獲得。藉由測定而獲得之離散函數h(x,y)與式(2)所定義之離散傅立葉轉換來求取離散函數H(f_x ,f_y )，並藉由將離散函數H(f_x ,f_y )進行二次方運算，可求取能譜的離散函數H² (f_x ,f_y )。式(2)中的1為-(M+1)/2以上(M+1)/2以下之整數，m為-(N+1)/2以上(N+1)/2以下之整數。此外，Δf_x 及Δf_y 分別為x方向及y方向的頻率間隔，並由式(3)及式(4)所定義。

第3圖係以二維離散函數h(x,y)來表示本發明之防眩膜之細微凹凸表面的標高之圖。第3圖中，標高係以白與黑的階度來表示。第3圖所示之離散函數h(x,y)係具有512×512個值，水平解析度Δx及Δy為1.66μm。

此外，第4圖係以白與黑的階度來表示將第3圖所示之二維函數h(x,y)進行離散傅立葉轉換所得之能譜H² (f_x ,f_y )之圖。第4圖所示之能譜H² (f_x ,f_y )亦為具有512×512個值之離散函數，水平解析度Δf_x 及Δf_y 為0.0012μm^-1 。

如第3圖所示，由於本發明之防眩膜的細微凹凸表面係不規則地形成有凹凸，所以第4圖的能譜係以原點為中心呈對稱。因此，可從通過二維函數之能譜H² (f_x ,f_y )的原點之剖面來求取空間頻率0.01μm^-1 中的能譜H₁ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 。第5圖係顯示第4圖所示之能譜H² (f_x ,f_y )中的f_x =0時之剖面之圖。從該圖中可得知，空間頻率0.01μm^-1 中的能譜H₁ ² 為4.8，空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 為0.35，比H₁ ² /H₂ ² 為14。

如上述，本發明之防眩膜的特徵為前述細微凹凸表面的標高之空間頻率0.01μm^-1 中的能譜H₁ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 之比H₁ ² /H₂ ² 在3至15的範圍內者。能譜之比H₁ ² /H₂ ² 低於3，係表示防眩膜的細微凹凸表面所含之100μm以上的長週期之凹凸形狀較少，未達25μm的短週期之凹凸形狀較多。此時，無法有效地防止外光的映射，而無法獲得充分的防眩性能。此外，相對於此，能譜之比H₁ ² /H₂ ² 高於15，係表示細微凹凸表面所含之100μm以上的長週期之凹凸形狀較多，未達25μm的短週期之凹凸形狀較少。此時，當配置在高精細的影像顯示裝置時，防眩膜有發生閃爍之傾向。此外，細微凹凸表面所含之未達10μm的短週期成分，未有效地有助於防眩性，使入射至細微凹凸表面的光產生散射而成為泛白之原因，故較少者較佳。具體而言，若以空間頻率0.1μm^-1 中的能譜為H₃ ² 時，能譜之比H₃ ² /H₂ ² 較佳為0.1以下，尤佳為0.01以下。在第5圖所示之能譜中，空間頻率0.1μm^-1 中的能譜H₃ ² 為0.00076。從該結果可得知比H₃ ² /H₂ ² 為0.0022。

此外，本發明人等發現，在防眩膜中，只要使細微凹凸表面顯示特定的傾斜角度分布，則可顯示優良的防眩性能並且更有效地防止泛白。亦即，本發明之防眩膜係以細微凹凸表面的傾斜角度為5°以下之面的比例為95%以上者較佳。當細微凹凸表面的傾斜角度為5°以下之面的比例低於95%時，凹凸表面的傾斜角度變陡，使來自周圍的光聚集，而容易發生顯示面全體變白之泛白現象。為了抑制此聚光效果以防止泛白，細微凹凸表面的傾斜角度為5°以下之面的比例愈高愈佳，較佳為97%以上，尤佳為99%以上。

在此，本發明中所謂「細微凹凸表面的傾斜角度」，係意指在第1圖所示之防眩膜1表面的任意點P，相對於膜的主法線方向5，將該處之凹凸加成而之局部的法線6所形成之角度ψ。關於細微凹凸表面的傾斜角度亦與標高相同，可從藉由共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)等裝置所測定之表面形狀的三維資訊求取。

在此，第6圖係用以說明細微凹凸表面之傾斜角度的測定方法之示意圖。說明具體的傾斜角度決定方法，如第6圖所示，決定以虛線所示之假想平面FGHI上的著眼點A，在通過該處之x軸上的著眼點A附近取相對於點A幾乎呈對稱之點B及D，且在通過點A之y軸上的著眼點A附近取相對於點A幾乎呈對稱之點C及E，決定對應於此等點B、C、D、E之膜面上的點Q、R、S、T。第6圖中，以(x,y)表示膜面內的直角座標，以z來表示膜厚度方向的座標。平面FGHI為由通過y軸上的點C且平行於x軸的直線及同樣通過y軸上的點E且平行於x軸的直線、與通過x軸上的點B且平行於y軸的直線及同樣通過x軸上的點D且平行於y軸的直線之各個交叉點F、G、H、I所形成之面。此外，第6圖中，係以實際之膜面的位置相對於平面FGHI往上方移之方式來描繪，但依著眼點A的取點位置，當然實際之膜面的位置有時會往平面FGHI的上方移或，亦有時會往下方移。

然後，所得之表面形狀資料的傾斜角度，可藉由求取將由對應於著眼點A之實際膜面上的點P、與對應於在其附近所取點之4點B、C、D、E之實際膜面上的點Q、R、S、T的合計5點所展開之多邊形的4個平面，亦即四個三角形PQR、PRS、PST、PTQ的各法線向量6a、6b、6c、6d平均所得之平均法線向量6的極角而獲得。對各測定點求取傾斜角度，計算直方圖。

第7圖係顯示防眩膜的細微凹凸表面之傾斜角度分布的直方圖的一例之圖表。第7圖所示之圖表中，橫軸為傾斜角度，且以每隔0.5°來分割。例如最左邊的縱條係表示傾斜角度在0至0.5°的範圍之集合的分布，以下，隨著往右方移動，角度每次增加0.5°。圖中係表示橫軸的每2個刻度之值的下限值，例如，橫軸中「1」的部分係表示傾斜角度在1至1.5°的範圍之集合的分布。此外，縱軸表示傾斜角度的分布，是合計為1之值。此例中，傾斜角度為5°以下之面的比例大致為100%。

再者，本發明之防眩膜，當配置在影像顯示裝置的表面時，就能夠有效地顯現高對比之觀點來看，較佳為防眩層中不含0.4μm以上的微粒子。習知的防眩膜係藉由下述方法等來製造：將分散有微粒子之樹脂溶液塗佈於基材薄片上，並調整塗佈膜厚使微粒子在塗佈膜表面露出，而在薄片上形成不規則的凹凸之方法。藉由使如此之微粒子分散而製得之防眩膜，為了消除閃爍，較多是在黏結劑樹脂與微粒子之間設置折射率差以使光散射。當將如此之防眩膜配置在影像顯示裝置的表面時，會因微粒子與黏結劑樹脂界面之光的散射而導致對比降低。本發明之防眩膜中，由於適當地設計細微凹凸表面的頻率分布，所以無須使光散射來消除閃爍。因此，較佳為不含成為對比降低的原因之0.4μm以上的微粒子。

＜防眩膜的製造方法＞

為了精度良好地形成具有上述頻率分布之細微凹凸表面，本發明之防眩膜較佳係使用能譜在大於0μm^-1 且0.04μm^-1 以下不具有極大值之圖案來製作。在此，所謂「圖案」，係意指用以形成本發明之防眩膜的細微凹凸表面之影像資料、或是具有透光部與遮光部之遮罩等。

圖案的能譜，例如若為影像資料時，可藉由在將影像資料轉換為256階調之灰階後，以二維函數g(x,y)來表示影像資料的階調，並將所得之二維函數g(x,y)進行離散傅立葉轉換而計算出二維函數G(f_x ,f_y )，然後將所得之二維函數G(f_x ,f_y )進行二次方運算而求取。此外，若為具有透光部與遮光部之遮罩時，可藉由以二維函數t(x,y)來表示穿透率，並將所得之二維函數t(x,y)進行離散傅立葉轉換而計算出二維函數T(f_x ,f_y )，然後將所得之二維函數T(f_x ,f_y )進行二次方運算而求取。在此，x及y係表示影像資料面內或遮罩面內的直角座標，f_x 及f_y 表示x方向的頻率及y方向的頻率。

與求取細微凹凸表面的標高之能譜相同，關於求取圖案的能譜時，階調的二維函數g(x,y)或穿透率的二維函數t(x,y)，一般是以離散函數之形式獲得。此時，與求取細微凹凸表面的標高之能譜相同，只要藉由離散傅立葉轉換來計算出能譜即可。

第8圖係以階調的二維離散函數g(x,y)來表示用於製作本發明之防眩膜之圖案(後述實施例1之模具製作時所使用的圖案)的影像資料的一部分之圖。第8圖所示之二維離散函數g(x,y)係具有512×512個值，水平解析度Δx及Δy為2μm。此外，第8圖所示之圖案的影像資料為2mm×2mm的大小，且以12800dpi來製作。

第9圖係以白與黑的階度來表示將第8圖所示之階調的二維函數g(x,y)進行離散傅立葉轉換所得之能譜G² (f_x ,f_y )之圖。第8圖所示之離散函數G² (f_x ,f_y )亦具有512×512個值，水平解析度Δf_x 及Δf_y 為0.0010μm^-1 。如第8圖所示，由於為了製造本發明之防眩膜而製作之圖案為不規則，所以第9圖的能譜係以原點為中心呈對稱。因此，可從通過能譜的原點之剖面，來求取圖案之能譜的極大值。第10圖係顯示第9圖所示之能譜G² (f_x ,f_y )中的f_x =0時之剖面的圖。從該圖中可得知，第8圖所示之圖案在空間頻率0.045μm^-1 中具有極大值，但在大於0μm^-1 且0.04μm^-1 以下不具有極大值。

當用以製作防眩膜之圖案的能譜在大於0μm^-1 且0.04μm^-1 以下具有極大值時，結果所得之防眩膜之細微凹凸表面的頻率分布無法滿足本發明的要件，所以無法兼具閃爍消除以及充分的防眩性。

為了製作能譜在大於0μm^-1 且0.04μm^-1 以下不具有極大值之圖案，可不規則且均勻地配置未達20μm之點徑。不規則地配置之點徑可為1種或複數種。

具有使用上述圖案之細微凹凸表面的防眩膜，可藉由印刷法、圖案曝光法、壓花法等來製造。例如在印刷法中，可藉由使用光硬化性樹脂或熱硬化性樹脂之柔版印刷、網版印刷、噴墨印刷等，將上述圖案印刷於透明支撐體而製作後，乾燥或是藉由活性光線或加熱使硬化，而製造本發明之防眩膜。

例如在柔版印刷中，首先製作出依據上述圖案之凸版的柔版，將光硬化性樹脂塗佈於柔版的凸部，將所塗佈的光硬化性樹脂轉印至透明支撐體上後，藉由活性光線使硬化，藉此可在透明支撐體上形成依據上述圖案之細微凹凸。為網版印刷時，首先製作出依據上述圖案之孔版的網版，使用該網版與光硬化性樹脂，將上述圖案印刷於透明支撐體上後，藉由活性光線使光硬化性樹脂硬化，藉此可在透明支撐體上形成細微凹凸。為噴墨印刷時，可使用光硬化性樹脂直接將上述圖案印刷於透明支撐體上，然後藉由活性光線使光硬化性樹脂硬化，藉此可在透明支撐體上形成細微凹凸。藉由如此之印刷法所形成之細微凹凸，一般而言傾斜角度較陡，而於透明支撐體上會存在有未形成樹脂層之處，因此，較佳為於藉由印刷法所形成之細微凹凸上再塗佈光硬化性樹脂，使傾斜角度平滑化並且將樹脂層形成於透明支撐體上全面。

在圖案曝光法中，將光硬化性樹脂塗佈於透明支撐體上後，可使用上述圖案且藉由雷射進行直接曝光、或是隔著具有上述圖案之遮罩來進行全面曝光，藉此進行圖案曝光，且在因應必要而進行顯影後，藉由活性光線或加熱使硬化，而製造本發明之防眩膜。在藉由雷射所進行之直接曝光中，係將光硬化性樹脂塗佈於透明支撐體上後，藉由雷射光將上述圖案進行直接曝光，並藉由顯影使曝光處殘留或溶解，然後對殘留的光硬化性樹脂照射活性光線使完全硬化，藉此可將依據上述圖案之細微凹凸形成於透明支撐體上。藉由如此之藉由雷射所進行之直接曝光所形成的細微凹凸，一般而言傾斜角度較陡，因此，較佳為於藉由雷射所進行之直接曝光所形成的細微凹凸上再塗佈光硬化性樹脂，使傾斜角度平滑化。在隔著遮罩所進行之全面曝光中，首先製作出具有上述圖案之遮罩，將光硬化性樹脂塗佈於透明支撐體上後，隔著該遮罩將光硬化性樹脂進行曝光，並在顯影步驟中使曝光處殘留或溶解，然後對殘留的光硬化性樹脂照射活性光線使完全硬化，藉此可將依據上述圖案之細微凹凸形成於透明支撐體上。在隔著遮罩所進行之全面曝光中，細微凹凸的傾斜角度，可藉由適當地控制近接間距來控制，亦可藉由將遮罩製作成階調遮罩以控制曝光程度來控制。

在壓花法中，首先使用上述圖案來製造出具有細微凹凸表面之模具，將製得之模具的凹凸面轉印至透明支撐體上，接著從模具將凹凸面經轉印之透明支撐體剝離，藉此可製造出本發明之防眩膜。在此，本發明之防眩膜，就精度良好且再現性良好地製造細微凹凸表面之觀點來看，較佳係藉由壓花法來製造。

在此，壓花法可例示出使用光硬化性樹脂之UV壓花法、使用熱塑性樹脂之熱壓花法，其中，就生產性之觀點來看，較佳為UV壓花法。

UV壓花法係於透明支撐體的表面形成光硬化性樹脂層，並一邊將該光硬化性樹脂層按壓於模具的凹凸面一邊進行硬化，藉此將模具的凹凸面轉印至光硬化性樹脂層之方法。具體而言，將紫外線硬化型樹脂塗佈於透明支撐體上，在將所塗佈的紫外線硬化型樹脂密著於模具的凹凸面之狀態下從透明支撐體側照射紫外線使紫外線硬化型樹脂硬化，然後從該模具將形成有硬化後的紫外線硬化型樹脂層之透明支撐體剝離，藉此將模具的形狀轉印至紫外線硬化型樹脂。

當使用UV壓花法時，透明支撐體只要是實質上呈光學透明之膜即可，例如有三乙酸纖維素膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚碳酸酯膜、以降莰烯系化合物作為單體之非結晶性環狀聚烯烴等熱塑性樹脂的溶劑鑄膜或擠壓膜等樹脂膜。

此外，使用UV壓花法時之紫外線硬化型樹脂的種類並無特別限定，可使用市售的適當品。此外，亦可將適當選擇的光起始劑與紫外線硬化型樹脂組合，而使用可藉由波長較紫外線還長之可見光進行硬化之樹脂。具體而言，可分別單獨使用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯或是混合此等的2種以上來使用，宜使用將此與Irgacure 907(Ciba Specialty Chemicals公司製)、Irgacure 184(Ciba Specialty Chemicals公司製)、Lucirin TPO(BASF公司製)等光聚合起始劑混合而成者。

另一方面，熱壓花法係在加熱狀態下將由熱塑性樹脂所形成之透明支撐體按壓於模具，而將模具的表面形狀轉印至透明支撐體之方法。熱壓花法所使用之透明支撐體，只要是實質上呈光學透明者均可，例如可使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、三乙酸纖維素、以降莰烯系化合物作為單體之非結晶性環狀聚烯烴等熱塑性樹脂的溶劑鑄膜或擠壓膜等。此等透明樹脂膜，亦宜使用作為上述所說明之UV壓花法之用以塗佈紫外線硬化型樹脂之透明支撐體。

＜製造防眩膜用模具之製造方法＞

以下係說明用於製造本發明之防眩膜的模具之製造方法。關於用於製造本發明之防眩膜的模具之製造方法，只要是可使用上述圖案獲得預定表面形狀之方法，則無特別限制，為了精度良好且再現性良好地製造細微凹凸表面，較佳係基本上包含下述步驟：[1]第1鍍覆步驟、[2]研磨步驟、[3]感光性樹脂膜塗佈步驟、[4]曝光步驟、[5]顯影步驟、[6]第1蝕刻步驟、[7]感光性樹脂膜剝離步驟、以及[8]第2鍍覆步驟。第11圖係顯示模具的製造方法之前半部分的較佳一例之示意圖。第11圖中係示意地顯示各步驟中之模具的剖面。以下參照第11圖，詳細地說明本模具之製造方法的各步驟。

[1]第1鍍覆步驟

本模具的製造方法中，首先對模具所使用之基材的表面施予鍍銅或鍍鎳。如此，藉由對模具用基材的表面施予鍍銅或鍍鎳，可提升之後的第2鍍覆步驟中之鍍鉻的密著性與光澤性。亦即，作為先前技術，如上述，當對鐵等的表面施予鍍鉻時，或是藉由噴砂法或噴珠法等於鍍鉻表面形成凹凸後再次施予鍍鉻時，容易使表面粗糙化，產生細微龜裂，而難以控制模具表面的凹凸形狀。相對於此，首先藉由預先對基材表面施予鍍銅或鍍鎳，可消除如此之不良情形。此係由於鍍銅或鍍鎳的被覆性高且平滑化作用強，所以可埋填模具用基材的微小凹凸或孔洞(Cavity)等而形成平坦且具光澤的表面之故。因此等鍍銅或鍍鎳的特性，即使在後述的第2鍍覆步驟中施予鍍鉻，亦可消除被視為起因於存在於基材的微小凹凸或孔洞(Cavity)之鍍鉻表面的粗糙化，且由於鍍銅或鍍鎳的被覆性高，而能夠減少細微龜裂的產生。

第1鍍覆步驟中所使用之銅或鎳，除了分別可為純金屬之外，亦可為以銅為主體之合金或以鎳為主體之合金，因此，本說明書中所謂「銅」，係意指包含銅及銅合金，此外，「鎳」係意指包含鎳及鎳合金。鍍銅及鍍鎳可分別藉由電解鍍覆來進行或是無電解鍍覆來進行，一般係採用電解鍍覆。

施予鍍銅或鍍鎳時，當鍍覆層太薄時，無法完全排除基底表面的影響，所以其厚度較佳為50μm以上。鍍覆層厚度的上限並非為臨界值，就與成本等之關聯來看，一般500μm左右即足夠。

本模具的製造方法中，基材的形成時宜使用之金屬材料，就成本的觀點來看，可列舉出鋁、鐵等。此外，就處理便利性來看，尤佳為輕量的鋁。在此所謂的鋁或鐵，除了分別可為純金屬之外，亦可分別為以鋁或鐵為主體之合金。

此外，基材的形狀，只要是在該領域中至今所採用之適當的形狀者即可，並無特別限制，可為平板狀、或是圓柱狀或圓筒狀的輥。若使用輥狀的基材來製作模具，則具有能夠以連續的輥狀來製造防眩膜之優點。

[2]研磨步驟

在接著的研磨步驟中，將上述第1鍍覆步驟中經施予鍍銅或鍍鎳之基材表面進行研磨。在本模具的製造方法中，較佳係經由該步驟將基材表面研磨至接近鏡面之狀態。此係由於，為了達到期望精度，成為基材之金屬板或金屬輥常經施予切割或研磨等機械加工，因而在基材表面殘留加工痕跡，即使在經施予鍍銅或鍍鎳之狀態下，有時亦殘留此等加工痕跡，且在經鍍覆之狀態下，表面不一定會完全地平滑之故。亦即，即使對如此之殘留有較深的加工痕跡之表面施予後述步驟，有時加工痕跡等凹凸亦較施予各步驟後所形成之凹凸還深，有加工痕跡的影響殘留之可能性，當使用如此之模具來製造防眩膜時，有時對光學特性產生無法預期之影響。第11圖(a)中係示意地顯示使平板狀的模具用基材7具有在第1鍍覆步驟中經對該表面施予鍍銅或鍍鎳(該步驟中所形成之鍍銅或鍍鎳的層未圖示)再經藉由研磨步驟而鏡面研磨之表面8的狀態。

關於將經施予鍍銅或鍍鎳之基材表面進行研磨之方法並無特別限定，可使用機械研磨法、電解研磨法、化學研磨法的任一者。機械研磨法可例示出超精加工法、磨光法、流體研磨法、拋光研磨法等。研磨後的表面粗糙度較佳為依據JIS B 0601的規定之中心線平均粗糙度Ra為0.1μm以下，尤佳為0.05μm以下。當研磨後的中心線平均粗糙度Ra大於0.1μm時，有研磨後之表面粗糙度的影響殘留在最後形成之模具表面的凹凸形狀之可能性。此外，中心線平均粗糙度Ra的下限並無特別限制，就加工時間及加工成本之觀點來看，本身即存在極限，所以無需特別指定。

[3]感光性樹脂膜塗佈步驟

在接著的感光性樹脂膜塗佈步驟中，將在溶劑中溶解有感光性樹脂之溶液塗佈於藉由上述研磨步驟經施予鏡面研磨之基材7的表面8並進行加熱/乾燥而形成感光性樹脂膜。第11圖(b)中係示意地顯示在基材7的表面8形成有感光性樹脂膜9之狀態。

感光性樹脂可使用習知的感光性樹脂。例如，作為感光部分具有硬化之性質的負型感光性樹脂，可使用於分子中具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基之丙烯酸酯的單體或預聚物、雙疊氮化物與二烯橡膠之混合物、聚肉桂酸乙烯酯系化合物等。此外，作為具有藉由顯影使感光部分溶出而僅殘留未感光部分之性質的正型感光性樹脂，可使用酚樹脂系或酚醛樹脂系等。此外，在感光性樹脂中，可因應必要而調配敏化劑、顯影促進劑、密著性改質劑、塗佈性改良劑等各種添加劑。

當將此等感光性樹脂塗佈於基材7的表面8時，為了形成良好的塗膜，較佳係稀釋於適當的溶劑來塗佈，可使用溶纖劑系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶劑、高極性溶劑等。

塗佈感光性樹脂溶液之方法，可使用凹凸塗佈、噴泉塗佈、浸漬塗佈、旋轉塗佈、輥塗佈、線棒塗佈、氣刀塗佈、刮刀塗佈、簾幕塗佈等習知方法。塗佈膜的厚度較佳係使乾燥後成為1至6μm之範圍。

[4]曝光步驟

在接著的曝光步驟中，於上述感光性樹脂膜塗佈步驟中所形成之感光性樹脂膜9上將前述能譜在大於0μm^-1 且0.04μm^-1 以下不具有極大值之圖案曝光。曝光步驟所使用之光源，可配合感光性樹脂的感光波長或感度等來適當地選擇，例如可使用高壓水銀燈的g射線(波長：436nm)、高壓水銀燈的h射線(波長：405nm)、高壓水銀燈的i射線(波長：365nm)、半導體雷射(波長：830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG雷射(波長：1064nm)、KrF準分子雷射(波長：248nm)、ArF準分子雷射(波長：193nm)、F2準分子雷射(波長：157nm)等。

本模具的製造方法中，為了精度良好地形成表面凹凸形狀，在曝光步驟中，較佳係在精密地控制之狀態下於感光性樹脂膜上將上述圖案曝光。本發明之模具的製造方法中，為了精度良好地於感光性樹脂膜上將上述圖案曝光，較佳係在電腦上製作圖案作為影像資料，並藉由從經電腦控制的雷射頭所發出之雷射光來描繪依據該影像資料之圖案。進行雷射描繪時，可使用印刷版製作用的雷射描繪裝置。如此之雷射描繪裝置，可列舉出Laser Stream FX((股)Think Laboratory製)等。

第11圖(c)中，係示意地顯示於感光性樹脂膜9將圖案曝光之狀態。當以負型感光性樹脂來形成感光性樹脂膜時，經曝光的區域10係藉由曝光使樹脂的交聯反應進行，使相對於後述顯影液之溶解性降低。因此，顯影步驟中未曝光的區域11藉由顯影液所溶解，僅經曝光的區域10殘留於基材表面上而成為遮罩。另一方面，當以正型感光性樹脂來形成感光性樹脂膜時，經曝光的區域10係藉由曝光使樹脂的鍵結切斷，使相對於後述顯影液之溶解性增加。因此，顯影步驟中經曝光的區域10藉由顯影液所溶解，僅未曝光的區域11殘留於基材表面上而成為遮罩。

[5]顯影步驟

在接著的顯影步驟中，當使用負型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9時，未曝光的區域11藉由顯影液所溶解，僅有經曝光的區域10殘留於模具用基材上，並在接著的第1蝕刻步驟中發揮遮罩之作用。另一方面，當使用正型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9時，僅有經曝光的區域10藉由顯影液所溶解，未曝光的區域11殘留於模具用基材上，並在接著的第1蝕刻步驟中發揮遮罩之作用。

顯影步驟中所使用之顯影液，可使用習知者。例如可列舉出氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水等無機鹼類；乙胺、正丙胺等一級胺類；二乙胺、二正丁胺等二級胺類；三乙胺、甲基二乙基胺等三級胺類；二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類；氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化三甲基羥乙基銨等四級銨鹽；吡咯、哌啶等環狀胺類等鹼性水溶液；二甲苯、甲苯等有機溶劑等。

顯影步驟中的顯影方法並無特別限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、磁刷顯影、超音波顯影等方法。

第11圖(d)中，係示意地顯示在感光性樹脂膜9中使用負型感光性樹脂來進行顯影處理之狀態。第11圖(c)中，未曝光的區域11藉由顯影液所溶解，僅經曝光的區域10殘留於基材表面上而成為遮罩12。第11圖(e)中，係示意地顯示使用正型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9來進行顯影處理之狀態。第11圖(c)中，經曝光的區域10藉由顯影液所溶解，僅未曝光的區域11殘留於基材表面上而成為遮罩12。

[6]第1蝕刻步驟

在接著的第1蝕刻步驟中，將上述顯影步驟後殘留於模具用基材表面上之感光性樹脂膜使用作為遮罩，主要對無遮罩之處的模具用基材進行蝕刻。第12圖係顯示本模具的製造方法之後半部分的較佳一例之示意圖。第12圖(a)中，係示意地顯示藉由第1蝕刻步驟主要對無遮罩之處13的模具用基材7進行蝕刻之狀態。遮罩12下部的模具用基材7，雖未從模具用基材表面進行蝕刻，但會與蝕刻的進行一起從無遮罩之區域13進行蝕刻。因此，在遮罩12與無遮罩之區域13的交界附近，亦將遮罩12下部的模具用基材7進行蝕刻。以下，將在如此之遮罩12與無遮罩之區域13的交界附近亦將遮罩12下部的模具用基材7進行蝕刻者稱為側蝕(side etching)。第13圖係示意地顯示側蝕的進行。第13圖的虛線14係階段性地顯示與蝕刻的進行一起產生變化之模具用基材的表面。

第1蝕刻步驟之蝕刻處理，一般係藉由使用氯化鐵(FeCl₃ )液、氯化銅(CuCl₂ )液、鹼性蝕刻液(Cu(NH₃ )₄ Cl₂ )等使金屬表面腐蝕來進行，但亦可使用鹽酸或硫酸等強酸，亦可使用藉由施加與電解鍍覆時相反的電位來進行之逆電解蝕刻。施予蝕刻處理時之形成於模具用基材之凹形狀係因基底金屬的種類、感光性樹脂膜的種類及蝕刻手法等而異，無法一概而論，但當蝕刻量為10μm以下時，可從與蝕刻液接觸之金屬表面大致等向性地進行蝕刻。在此所謂蝕刻量，是指藉由蝕刻所去除之基材的厚度。

第1蝕刻步驟之蝕刻量，較佳為1至50μm。當蝕刻量未達1μm時，金屬表面幾乎未形成凹凸形狀而成為幾乎平坦之模具，所以無法顯示防眩性。此外，當蝕刻量超過50μm時，形成於金屬表面之凹凸形狀的高低差增大，使用所得之模具所製作之防眩膜會產生泛白，故較不佳。第1蝕刻步驟之蝕刻處理，可藉由1次的蝕刻處理來進行，亦可將蝕刻處理分為2次以上來進行。在此，當將蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之蝕刻處理的蝕刻量合計較佳為1至50μm。

[7]感光性樹脂膜剝離步驟

在接著的感光性樹脂膜剝離步驟中，將第1蝕刻步驟中使用作為遮罩之殘留之感光性樹脂膜完全地溶解而去除。感光性樹脂膜剝離步驟中，係使用剝離液來溶解感光性樹脂膜。剝離液可使用與上述顯影液為相同者，藉由改變pH、溫度、濃度及浸漬時間等，當使用負型感光性樹脂時將曝光部的感光性樹脂膜完全地溶解，當使用正型感光性樹脂時將非曝光部的感光性樹脂膜完全地溶解而去除。關於感光性樹脂膜剝離步驟中之剝離方法亦無特別限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、磁刷顯影、超音波顯影等方法。

第12圖(b)中，係示意地顯示藉由感光性樹脂膜剝離步驟將第1蝕刻步驟中使用作為遮罩之感光性樹脂膜完全地溶解而去除之狀態。藉由感光性樹脂膜所形成之遮罩12以及蝕刻，於模具用基材表面形成第1表面凹凸形狀15。

[8]第2鍍覆步驟

接著，藉由施予鍍鉻使表面的凹凸形狀鈍化。第12圖(c)中，係顯示將鍍鉻層16形成於如上述藉由第1蝕刻步驟的蝕刻處理所形成之表面凹凸形狀，以使表面17鈍化之狀態。

本模具的製造方法中，在平板或輥等的表面上採用具光澤、硬度高、摩擦係數小、且可賦予良好地脫模性之鍍鉻。鍍鉻的種類並無限制，較佳為使用稱為所謂光澤鍍鉻或裝飾用鍍鉻等之可顯現良好的光澤之鍍鉻。鍍鉻一般是藉由電解來進行，其鍍覆浴可使用含有無水鉻酸(CrO₃ )與少量硫酸之水溶液。藉由調節電流密度與電解時間，可控制鍍鉻的厚度。

上述日本特開2002-189106號公報、日本特開2004-45472號公報、日本特開2004-90187號公報等中揭示採用鍍鉻，但依模具之鍍覆前的基底與鍍鉻種類，常在鍍覆後表面粗糙化，或是產生許多由鍍鉻所造成之微小龜裂，結果會導致所製作之防眩膜的光學特性變差。鍍覆表面粗糙化之狀態的模具不適於防眩膜的製造。此係由於一般為了消除粗糙而在鍍鉻後將鍍覆表面進行研磨，但如後述，本發明中於鍍覆後進行表面研磨較不佳之故。本模具的製造方法中，藉由對基底金屬施予鍍銅或鍍鎳，可消除容易因鍍鉻所產生之不良情形。

在第2鍍覆步驟中，施予鍍鉻以外的鍍覆較不佳。此係由於鍍鉻以外的鍍覆由於硬度及耐磨耗性較低，所以使作為模具的耐久性降低，而在使用中凹凸磨損或模具產生損傷之故。由如此之模具所製得之防眩膜，難以獲得充分的防眩功能之可能性高，並且在膜上產生缺陷之可能性亦高。

此外，如上述日本特開2004-90187號公報等中所揭示，將鍍覆後的表面進行研磨在本模具的製造方法中亦不佳。此係依據下列理由等，亦即，進行研磨會在最表面產生平坦部分，而有導致光學特性惡化之可能性、及形狀的控制因素增加，而難以進行再現性良好之形狀控制。

如此，本模具的製造方法中，較佳係在施予鍍鉻後，不進行表面研磨而直接將鍍鉻面使用作為模具的凹凸面。此係由於藉由對形成有細微表面凹凸形狀之表面施予鍍鉻，可使凹凸形狀鈍化並獲得表面硬度提高之模具之故。此時之凹凸的鈍化程度係因基底金屬的種類、由第1蝕刻步驟所得之凹凸的尺寸及深度、以及鍍覆的種類及厚度等而異，無法一概而論，但控制鈍化程度之最大因素仍是鍍覆厚度。當鍍鉻厚度較薄時，使鍍鉻加工前所得之凹凸的表面形狀鈍化之效果不足，將該凹凸形狀轉印至透明膜所製得之防眩膜的光學特性不甚良好。另一方面，當鍍鉻厚度太厚時，除了生產性惡化外，更會產生稱為突粒之突起狀的鍍覆缺陷，故較不佳。因此，鍍鉻厚度較佳為在1至10μm之範圍內，尤佳為在3至6μm之範圍內。

該第2鍍覆步驟中所形成之鍍鉻層，較佳係以使維氏(Vickers)硬度成為800以上之方式形成，尤佳為以成為1000以上之方式形成。此係由於，當鍍鉻層的維氏硬度未達800時，模具使用時的耐久性降低並且鍍鉻層的硬度降低，於鍍覆處理時鍍覆浴組成、電解條件等產生異常之可能性高，且亦對於缺陷的產生狀況產生較不佳的影響之可能性高之故。

此外，本發明之製作防眩膜用模具之製造方法中，較佳係在上述[7]感光性樹脂膜剝離步驟與[8]第2鍍覆步驟之間包含藉由蝕刻處理使由第1蝕刻步驟所形成之凹凸面鈍化之第2蝕刻步驟。在第2蝕刻步驟中，係藉由蝕刻處理使由使用感光性樹脂膜作為遮罩之第1蝕刻步驟所形成之第1表面凹凸形狀15鈍化。藉由此第2蝕刻處理，可消除由第1蝕刻步驟所形成之第1表面凹凸形狀15之表面傾斜較陡的部分，使使用所得之模具製得之防眩膜的光學特性往較佳的方向變化。第14圖中，係示意地顯示藉由第2蝕刻處理使基材7的第1表面凹凸形狀15鈍化，使表面傾斜較陡的部分鈍化，而形成有具有和緩的表面傾斜之第2表面凹凸形狀18之狀態。

第2蝕刻步驟之蝕刻處理亦與第1蝕刻步驟相同，一般係藉由使用氯化鐵(FeCl₃ )液、氯化銅(CuCl₂ )液、鹼性蝕刻液(Cu(NH₃ )₄ Cl₂ )等使表面腐蝕來進行，但亦可使用鹽酸或硫酸等強酸，亦可使用藉由施加與電解鍍覆時為相反的電位來進行之逆電解蝕刻。施予蝕刻處理後之凹凸的鈍化程度係因基底金屬的種類、蝕刻手法、以及藉由第1蝕刻步驟所得之凹凸的尺寸及深度等而異，無法一概而論，但控制鈍化程度之最大因素為蝕刻量。在此所謂蝕刻量，與第1蝕刻步驟相同，是指藉由蝕刻所去除之基材的厚度。當蝕刻量較小時，使藉由第1蝕刻步驟所得之凹凸的表面形狀鈍化之效果不足，將該凹凸形狀轉印至透明膜而製得之防眩膜的光學特性不甚良好。另一方面，當蝕刻量太大時，凹凸形狀幾乎消失而成為幾乎平坦之模具，所以無法顯示防眩性。因此，蝕刻量較佳為在1至50μm之範圍內，尤佳為在4至20μm之範圍內。關於第2蝕刻步驟之蝕刻處理亦與第1蝕刻步驟相同，可藉由1次的蝕刻處理來進行，亦可將蝕刻處理分為2次以上來進行。在此，當將蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之蝕刻處理的蝕刻量合計較佳為1至50μm。

以下係列舉出實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於此等實施例。例中，表示含量及使用量之%及份，只要無特別記載即為重量基準。此外，下列例子之模具或防眩膜的評估方法係如以下所述。

[1]　防眩膜之表面形狀的測定

使用三維顯微鏡PLμ2300(Sensofar公司製)來測定防眩膜的表面形狀。為了防止樣本的翹曲，而使用光學透明之黏著劑，以使凹凸面成為表面之方式貼合於玻璃基板後，再提供於測定。測定時，將物鏡的倍率設為10倍來進行測定。水平解析度Δx及Δy均為1.66μm，測定面積為850μm×850μm。

(能譜之比H₁ ² /H₂ ² 與H₃ ² /H₂ ² )

從以上所測得之資料求取防眩膜之細微凹凸表面的標高作為二維函數h(x,y)，將所得之二維函數h(x,y)進行離散傅立葉轉換而求得二維函數H(f_x ,f_y )。將二維函數H(f_x ,f_y )進行二次方運算以計算出能譜的二維函數H² (f_x ,f_y )，並從f_x =0的剖面曲線之H² (0,f_y )求取空間頻率0.01μm^-1 中的能譜H₁ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² ，並計算出能譜之比H₁ ² /H₂ ² 。此外，求取空間頻率0.1μm^-1 中的能譜H₃ ² ，並計算出能譜之比H₃ ² /H₂ ² 。

(細微凹凸表面的傾斜角度)

根據以上所測得之資料，並根據前述演算法進行計算，製作出凹凸面的傾斜角度之直方圖，從該圖求取每個傾斜角度之分布，並計算出傾斜角度為5°以下之面的比例。

[2]　防眩膜之光學特性的測定

(霧度)

防眩膜的霧度係藉由JIS K 7136所規定之方法來進行測定。具體而言，係使用依據此規格之霧度計HM-150型(村上色彩技術研究所製)來測定霧度。為了防止防眩膜的翹曲，使用光學呈透明之黏著劑，以使凹凸面成為表面之方式貼合於玻璃基板後，再提供於測定。一般而言，當霧度增大時，運用在影像顯示裝置時之影像會變暗，結果容易使正面對比降低。因此，霧度較低者為佳。

[3]　防眩膜之防眩性能的評估

(映射、泛白的目視評估)

為了防止來自防眩膜內面之反射，以使凹凸面成為表面之方式將防眩膜貼合於黑色丙烯酸樹脂板，在打開螢光燈之明亮室內，從凹凸面側以目視來觀察，並以目視來評估螢光燈之映射的有無、泛白的程度。映射、泛白及質感，係分別以1至3的3階段，藉由下列基準來評估。

映射1：未觀察到映射。

2：觀察到些許映射。

3：明顯地觀察到映射。

泛白1：未觀察到泛白。

2：觀察到些許泛白。

3：明顯地觀察到泛白。

(閃爍的評估)

閃爍係以下列方法來評估。亦即，從市售的液晶電視(LC-32GH3(Sharp(股)製))將內外兩面的偏光板剝離。然後將偏光板Sumikalan SRDB31E(住友化學(股)製)，以使各自的吸收軸與原先偏光板的吸收軸一致之方式，經由黏著劑貼合於背面側與顯示面側，以取代原先的偏光板，然後將下列各例所示之防眩膜，以使凹凸面成為表面之方式，經由黏著劑貼合於顯示面側偏光板上。在此狀態下，從距離樣本約30cm之位置以目視進行觀察，藉此，以7階段將閃爍的程度進行官能性評估。等級1相當於完全未觀察到閃爍之狀態，等級7相當於觀察到極嚴重的閃爍之狀態，等級3為觀察到極些微閃爍之狀態。

[4]　防眩膜製造用圖案的評估

以製得的圖案資料作為256階調之灰階的影像資料，並以二維的離散函數g(x,y)來表示階調。離散函數g(x,y)的水平解析度Δx及Δy均為2μm。將所得之二維函數g(x,y)進行離散傅立葉轉換而求得二維函數G(f_x ,f_y )。將二維函數G(f_x ,f_y )進行二次方運算以計算出能譜的二維函數G² (f_x ,f_y )，並從f_x =0的剖面曲線之G² (0,f_y )求取空間頻率大於0μm^-1 且絕對值為最小之空間頻率中的極大值。

＜實施例1＞

首先準備在直徑200mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面經施予銅巴拉德(Copper Ballard Plating)鍍覆者。銅巴拉德鍍覆是由鍍銅層/薄鍍銀層/表面鍍銅層所構成者，鍍覆層全體的厚度係設定為大約200μm。將該鍍銅表面進行鏡面研磨，將感光性樹脂塗佈於經研磨的鍍銅表面，並進行乾燥而形成感光性樹脂膜。接著將重複排列有第8圖所示之圖案的圖案，於感光性樹脂膜上藉由雷射光進行曝光與顯影。藉由雷射光所進行之曝光與顯影，係使用Laser Stream FX((股)Think Laboratory製)來進行。感光性樹脂膜係使用正型感光性樹脂。

然後以氯化銅液進行第1蝕刻處理。此時之蝕刻量係設定為7μm。第1蝕刻處理後，從輥去除感光性樹脂膜，再次以氯化銅液進行第2蝕刻處理。此時之蝕刻量係設定為18μm。然後進行鍍鉻加工而製作出模具A。此時，鍍鉻厚度係設定為4μm。

將光硬化性樹脂組成物GRANDIC 806T(大日本油墨化學工業(股)製)溶解於乙酸乙酯，製作成50重量%濃度的溶液，然後以硬化性樹脂成分每100重量份添加5重量份之方式添加光聚合起始劑的Lucirin TPO(BASF公司製、化學名稱：2,4,6-三甲基苯甲醯二苯基膦氧化物)，調製出塗佈液。在厚度80μm的三乙酸纖維素(TAC)膜上，以使乾燥後的塗佈厚度成為10μm之方式塗佈此塗佈液，在設定為60℃之乾燥機中進行3分鐘的乾燥。以使光硬化性樹脂組成物層成為模具側之方式，藉由橡膠輥將乾燥後的膜按壓於先前所得之模具A的凹凸面使密著。在此狀態下，從TAC膜側，以換算為h射線的光量計成為200mJ/cm² 之方式，照射來自強度20mW/cm² 之高壓水銀燈的光，使光硬化性樹脂組成物層硬化。然後以每個硬化樹脂為單位，將TAC膜從模具剝離，而製作出由表面具有凹凸之硬化樹脂與TAC膜之積層體所構成的透明防眩膜A。

＜實施例2＞

除了使用第15圖所示之圖案作為藉由雷射光進行曝光之圖案之外，其他與實施例1同樣進行而製作出模具B。第15圖所示之圖案的影像資料為1mm×1mm的大小，且以6400dpi來製作。除了使用所得之模具B之外，其他與實施例1同樣進行而製作出防眩膜B。

＜比較例1＞

除了使用第16圖所示之圖案作為藉由雷射光進行曝光之圖案之外，其他與實施例1同樣進行而製作出模具C。第16圖所示之圖案的影像資料為2mm×2mm的大小，且以12800dpi來製作。除了使用所得之模具C之外，其他與實施例1同樣進行而製作出防眩膜C。

＜比較例2＞

除了使用第17圖所示之圖案作為藉由雷射光進行曝光之圖案，且將第1蝕刻處理的蝕刻量設定為10μm，將第2蝕刻處理的蝕刻量設定為30μm之外，其他與實施例1同樣進行而製作出模具D。第17圖所示之圖案的影像資料為20mm×20mm的大小，且以3200dpi來製作。除了使用所得之模具D之外，其他與實施例1同樣進行而製作出防眩膜D。

＜比較例3＞

首先準備在直徑200mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面經施予銅巴拉德鍍覆者。銅巴拉德鍍覆是由鍍銅層/薄鍍銀層/表面鍍銅層所形成者，鍍覆層全體的厚度係設定為大約200μm。將該鍍銅表面進行鏡面研磨，並使用噴砂裝置((股)不二製作所製)，以噴砂壓力0.05MPa(計示壓，以下相同)、珠使用量8g/cm² (輥表面積每1cm² 之使用量，以下相同)，將二氧化鋯珠TZ-SX-17(Tosoh(股)製，平均粒徑：20μm)對經研磨的鍍銅面進行噴砂，對表面賦予凹凸。對所得之附有凹凸的鍍銅鋁輥進行鍍鉻加工，而製作出金屬模具E。此時，鍍鉻厚度係設定為6μm。除了使用所得之模具E之外，其他與實施例1同樣進行而製作出防眩膜E。

＜比較例4＞

首先將直徑300mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面進行鏡面研磨，並使用噴砂裝置((股)不二製作所製)，以噴砂壓力0.1MPa(計示壓，以下相同)、珠使用量8g/cm² (輥表面積每1cm² 之使用量，以下相同)，將二氧化鋯珠TZ-SX-17(Tosoh(股)製，平均粒徑：20μm)對經研磨的鋁面進行噴砂，對表面賦予凹凸。對所得之附有凹凸的鋁輥進行無電解鍍鎳加工，而製作出模具F。此時，無電解鍍鎳厚度係設定為15μm。除了使用所得之模具F之外，其他與實施例1同樣進行而製作出防眩膜F。

結果如表1所示。此外，第18圖係表示從顯示防眩膜B至F的細微凹凸表面的標高之二維函數所獲得之能譜中的f_x =0時之剖面。此外，第19圖係表示從用於製作防眩膜B至D之圖案所得之能譜中的f_x =0時之剖面。從第19圖中可得知，用於製作防眩膜B之圖案的能譜，在空間頻率大於0μm^-1 且0.04μm^-1 以下不具有極大值。相對於此，用於製作防眩膜C及D之圖案的能譜，在空間頻率大於0μm^-1 且0.04μm^-1 以下具有極大值。

從表1所示之結果可得知，滿足本發明的所有要件之防眩膜A及B，未發生閃爍，顯示充分的防眩性，且亦未產生泛白。此外，由於霧度亦低，配置在影像顯示裝置時，亦不會造成對比的降低。從能譜在大於0μm^-1 且0.04μm^-1 以下具有極大值之圖案所製得之防眩膜C及D，由於能譜之比H₁ ² /H₂ ² 未滿足本發明的要件，雖然顯示充分的防眩性，且亦未產生泛白，但卻發生閃爍。此外，未使用預定圖案所製得之防眩膜E及F，由於能譜之比H₁ ² /H₂ ² 未滿足本發明的要件，所以無法同時達成充分的防眩性以及閃爍的抑制。

1．．．防眩膜

2．．．細微凹凸

3．．．膜投影面

5．．．主法線方向

6．．．法線

6a、6b、6c、6d．．．法線向量

7．．．模具用基材

8．．．基材表面

9．．．感光性樹脂膜

10．．．經曝光的區域

11．．．未曝光的區域

12．．．遮罩

13．．．無遮罩之區域

14．．．虛線

15．．．第1表面凹凸形狀

16．．．鍍鉻層

17．．．表面

18．．．第2表面凹凸形狀

第1圖係顯示本發明之防眩膜的表面之示意透視圖。

第2圖係顯示離散地獲得表示標高之函數h(x,y)之狀態之示意圖。

第3圖係以二維離散函數h(x,y)來表示本發明之防眩膜之細微凹凸表面形狀的標高之圖。

第4圖係以白與黑的階度來表示將第3圖所示之二維函數h(x,y)進行離散傅立葉轉換所得之能譜H² (f_x ,f_y )之圖。

第5圖係顯示第4圖所示之能譜H² (f_x ,f_y )中的f_x =0時之剖面之圖。

第6圖係用以說明細微凹凸表面之傾斜角度的測定方法之示意圖。

第7圖係顯示防眩膜的細微凹凸表面之傾斜角度分布的直方圖的一例之圖表。

第8圖係以階調的二維離散函數g(x,y)來表示用於製作本發明之防眩膜之圖案的影像資料的一部分之圖。

第9圖係以白與黑的階度來表示將第8圖所示之階調的二維函數g(x,y)進行離散傅立葉轉換所得之能譜G² (f_x ,f_y )之圖。

第10圖係顯示第9圖所示之能譜G² (f_x ,f_y )中的f_x =0時之剖面之圖。

第11圖(a)至(e)係顯示模具的製造方法之前半部分的較佳一例之示意圖。

第12圖(a)至(c)係顯示模具的製造方法之後半部分的較佳一例之示意圖。

第13圖係顯示在第1蝕刻步驟中進行側蝕之狀態之示意圖。

第14圖(a)及(b)係顯示由第1蝕刻步驟所形成之凹凸面因第2蝕刻步驟而鈍化之狀態之示意圖。

第15圖係以二維函數來表示從實施例2之模具製作時所使用的圖案獲得之影像資料的階調之圖。

第16圖係以二維函數來表示從比較例1之模具製作時所使用的圖案獲得之影像資料的階調之圖。

第17圖係以二維函數來表示從比較例2之模具製作時所使用的圖案獲得之影像資料的階調之圖。

第18圖係表示從防眩膜B至F的細微凹凸表面形狀的標高之二維函數獲得之能譜中的f_x =0時之剖面之圖。

第19圖係表示實施例2、比較例1及比較例2中所使用的圖案之能譜中的f_x =0時之剖面之圖。

1．．．防眩膜

2．．．細微凹凸

3．．．膜投影面

5．．．主法線方向

6．．．法線

Claims

一種防眩膜，係在透明支撐體上形成具有細微凹凸表面之防眩層而成的防眩膜，其中，前述細微凹凸表面的標高之空間頻率0.01μm^-1 中的能譜H₁ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 之比H₁ ² /H₂ ² 係在3至15的範圍內。
如申請專利範圍第1項之防眩膜，其中，前述細微凹凸表面的標高之空間頻率0.1μm^-1 中的能譜H₃ ² 與空間頻率0.04μm^-1 中的能譜H₂ ² 之比H₃ ² /H₂ ² 為0.01以下。
如申請專利範圍第1或2項之防眩膜，其中，前述細微凹凸表面的傾斜角度為5°以下之面的比例係95%以上。
如申請專利範圍第1項之防眩膜，其中，前述防眩層不含0.4μm以上的微粒子。