KR102621208B1 - 디스플레이용 커버 부재 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

배경의 반사가 적고, 스파클링 방지성이 우수한 디스플레이를 실현할 수 있는 디스플레이용 커버 부재를 제공하는 것. 일방의 주면이 요철면에 의해서 구성되어 있고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이 (RSm) 가 1 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이고, 상기 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각 (θ) 과 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 쿠르토시스 (Rku) 의 비, θ/Rku 가 0.40°이상 1.08°이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재로 한다.

Description

디스플레이용 커버 부재 및 그 제조 방법{DISPLAY COVER MEMBER AND PRODUCTION METHOD THEREFOR}
본 발명은, 배경의 반사가 적고, 스파클링 방지성이 우수한 디스플레이용 커버 부재 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
종래, 디스플레이의 표면에 있어서의 배경의 반사를 억제하기 위해서, 안티글레어 (AG) 층을 갖는 커버 부재를 디스플레이의 전면 (前面) 에 배치하는 것이 제안되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 을 참조).
일본 공표특허공보 2012-521958호
커버 부재의 표면에 있어서의 배경의 반사를 억제하는 관점에서는, 커버 부재의 헤이즈가 커지도록, 안티글레어층의 표면 조도를 크게 하는 것이 바람직하다. 그러나, 헤이즈가 큰 커버 부재를 전면에 배치한 디스플레이에서는, 디스플레이의 화소와 커버 부재의 표면 요철이 간섭하여, 휘도 분포가 발생되어 잘 보이지 않게 되는, 소위 「스파클링 (sparkling)」이 발생된다는 문제가 있다. 따라서, 정반사를 억제하고, 배경의 반사를 억제하면서, 스파클링의 발생을 방지하는 것이 요망되고 있다.
본 발명은, 배경의 반사가 적고, 스파클링 방지성이 우수한 디스플레이를 실현할 수 있는 디스플레이용 커버 부재를 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.
본 발명에 관련된 제 1 디스플레이용 커버 부재는, 일방의 주면이 요철면에 의해서 구성되어 있고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이 (RSm) 가 1 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이고, 상기 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각 (θ) 과 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 쿠르토시스 (kurtosis) (Rku) 의 비, θ/Rku 가 0.40°이상 1.08°이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 관련된 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 일방의 주면이 요철면에 의해서 구성되어 있고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이 (RSm) 가 1 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이고, 상기 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각 (θ) 이 1.2°이상 7.0°이하이고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 쿠르토시스 (Rku) 가 2.2 이상 10 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 헤이즈가 1 ％ 이상 50 ％ 이하인 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 산술 평균 조도 (Ra) 가 0.04 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 스큐네스 (skewness) (Rsk) 의 절대치, ｜Rsk｜ 가 2 이하인 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 투광판과, 상기 투광판의 1 주면의 적어도 일부를 덮고 있고, 상기 요철면을 구성하고 있는 코팅막을 구비하고 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 상기 코팅막이 상기 투광판의 1 주면의 전체를 덮고 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 상기 코팅막이, 무기막에 의해서 구성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 상기 코팅막의 JIS K5600-5-4-1999 에서 규정되는 연필 경도가 6 H 이상인 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 상기 투광판이, 유리판에 의해서 구성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재는, 상기 유리판이, 강화 유리판에 의해서 구성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 디스플레이용 커버 부재의 제조 방법은, 상기 제 1 또는 제 2 디스플레이용 커버 부재를 제조하기 위한 방법으로서, 투광판 상에, 스프레이법에 의해서 상기 요철면을 구성하는 코팅막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 관련된 디스플레이용 커버 부재의 제조 방법은, 상기 투광판을 유리판에 의해서 구성하고, 상기 코팅막을 형성한 후에, 상기 유리판을 화학 강화하는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 디스플레이용 커버 부재의 제조 방법은, 상기 투광판으로서, 강화 유리판을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 배경의 반사가 적고, 스파클링 방지성이 우수한 디스플레이를 실현할 수 있는 디스플레이용 커버 부재를 제공할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 디스플레이용 커버 부재의 모식적 단면도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태의 일례에 대해서 설명한다. 단, 하기의 실시형태는 단순한 예시이다. 본 발명은 하기의 실시형태에 전혀 한정되지 않는다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 모식적 단면도이다. 디스플레이용 커버 부재 (1) 는, 디스플레이의 전면에 배치되어 사용되는 부재이다. 구체적으로는, 디스플레이용 커버 부재 (1) 는, 제 1 주면 (1a) 이 외측 (관찰자측) 을 향하고, 제 2 주면 (1b) 이 내측을 향하도록 디스플레이에 형성되어 사용된다. 디스플레이용 커버 부재 (1) 는, 예를 들어, 디스플레이의 전면판을 구성하는 부재여도 되고, 전면판 상에 형성되는 부재여도 된다.
디스플레이용 커버 부재 (1) 의 제 1 주면 (1a) 은, 요철면 (2) 에 의해서 구성되어 있다.
상세하게는, 본 실시형태에서는, 디스플레이용 커버 부재 (1) 는, 투광판 (10) 과 코팅막 (11) 을 갖는다. 단, 본 발명에 있어서, 디스플레이용 커버 부재 (1) 는, 요철면을 갖는 하나의 투명 부재에 의해서 구성되어 있어도 된다.
요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이 (RSm) 는, 1 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이다. RSm 이 상기 범위 내에 있고, 디스플레이의 화소 사이즈 (60 ∼ 100 ㎛ 정도) 보다 충분히 작으면, 스파클링 방지성이 우수한 디스플레이를 실현할 수 있다. RSm 은 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 8 ㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 10 ㎛ 이상인 것이 특히 바람직하다. RSm 이 지나치게 작으면, 요철의 볼록부의 폭이 작아지고, 표면의 내구성 (내찰상성) 이 저하되는 경우가 있다. 한편, RSm 은 25 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 22 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 20 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 18 ㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. RSm 이 지나치게 크면, 디스플레이의 스파클링이 발생되기 쉬워진다.
요철면 (2) 의 조도 곡선의 평균 경사각 (θ) 은, 요철면 (2) 의 평균적인 기울기를 나타내는 지표이다. θ 가 작을수록, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 또한, 평균 경사각 (θ) 은, 하기 수학식 (1) 로 정의된다.
평균 경사각 (θ) = tan-1Δa … (1)
수학식 (1) 에 있어서, Δa 는, 하기 수학식 (2) 에 나타내는 바와 같이, JIS B0601-2013 에 규정되는 조도 곡선의 기준 길이 l 에 있어서, 이웃하는 산의 정점과 골의 최하점의 차 (높이 h) 의 절대치의 합계 (h1 ＋ h2 ＋ h3… + hn) 를 상기 기준 길이 l 로 나눈 값이다.
Δa = (h1 ＋ h2 ＋ h3… + hn)/l … (2)
평균 경사각 (θ) 은, 구체적으로는, 아래와 같이 측정할 수 있다.
요철면 (2) 상을, 일 방향을 따라서 레이저나 촉침을 주사시킴으로써, 요철면 (2) 의 표면의 높이를 일 방향을 따라서 측정한다. 이 높이 측정을 행하는 일 방향을 따른 길이 (측정 길이) 는, 예를 들어, 200 ㎛ ∼ 350 ㎛ 정도로 할 수 있다. 높이의 측정은, 예를 들어, 0.5 ㎛ 간격으로 행할 수 있다.
다음으로, 중심선 L 을 결정한다. 구체적으로는, 요철면의 조도 곡선의 높이의 평균치를 통과하는 중심선 L 을 결정한다.
다음으로, 0.5 ㎛ 간격마다, 요철면 (2) 과 중심선 L 이 이루는 각의 크기의 절대치를 측정해 간다. 그리고, 0.5 ㎛ 간격마다 측정된 0.5 ㎛ 간격마다, 요철면 (2) 과 중심선 L 이 이루는 각의 크기의 절대치를 평균함으로써, 평균 경사각 (θ) 을 산출할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 요철면 (2) 의 조도 곡선의 평균 경사각 (θ) 은, 1.2°이상인 것이 바람직하고, 1.5°이상인 것이 보다 바람직하며, 1.8°이상인 것이 더욱 바람직하고, 2°이상인 것이 특히 바람직하다. θ 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, θ 는 7°이하인 것이 바람직하고, 5°이하인 것이 보다 바람직하며, 4°이하인 것이 더욱 바람직하고, 3°이하인 것이 특히 바람직하다. θ 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 쿠르토시스 (Rku) 는, 요철부의 선단의 뾰족함의 정도를 나타내는 지표이다. Rku 가 클수록, 요철부의 선단이 뾰족하게 되어 있는 것이 많아지기 때문에, 요철의 선단부 근방의 경사각은 커지지만, 다른 부분의 경사각은 작아져, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 또, Rku 가 작을수록, 요철부의 선단이 평탄해지는 것이 많아지기 때문에, 요철의 선단부의 경사각은 작아져, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 본 발명의 일 실시형태에 있어서, Rku 는, 1 이상인 것이 바람직하고, 1.5 이상인 것이 보다 바람직하며, 2 이상인 것이 더욱 바람직하고, 2.2 이상인 것이 특히 바람직하다. Rku 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, Rku 는 10 이하인 것이 바람직하고, 8 이하인 것이 보다 바람직하며, 6 이하인 것이 더욱 바람직하고, 4 이하인 것이 특히 바람직하다. Rku 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 요철면 (2) 의 조도 곡선의 평균 경사각 (θ) 과 요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 쿠르토시스 (Rku) 의 비 θ/Rku 는, 0.40°이상이고, 0.5°이상인 것이 바람직하고, 0.6°이상인 것이 보다 바람직하다. θ/Rku 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, θ/Rku 는, 1.08°이하이고, 1.0°이하인 것이 바람직하고, 0.95°이하인 것이 보다 바람직하며, 0.9°이하인 것이 특히 바람직하다. θ/Rku 가 지나치게 크면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다.
본 발명의 다른 실시형태에 있어서, θ 는 1.2°이상이고, 1.5°이상인 것이 보다 바람직하며, 1.8°이상인 것이 더욱 바람직하고, 2°이상인 것이 특히 바람직하다. θ 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, θ 는 7°이하이고, 5°이하인 것이 보다 바람직하며, 4°이하인 것이 더욱 바람직하고, 3°이하인 것이 특히 바람직하다. θ 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
본 발명의 다른 실시형태에 있어서, Rku 는, 2.2 이상이고, 2.3 이상인 것이 보다 바람직하며, 2.5 이상인 것이 특히 바람직하다. Rku 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, Rku 는, 10 이하이고, 8 이하인 것이 보다 바람직하며, 6 이하인 것이 더욱 바람직하고, 4 이하인 것이 특히 바람직하다. Rku 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
본 발명의 다른 실시형태에 있어서, θ 와 Rku 의 비 θ/Rku 는, 0.40°이상인 것이 바람직하고, 0.5°이상인 것이 바람직하며, 0.6°이상인 것이 보다 바람직하다. θ/Rku 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, θ/Rku 는, 1.08°이하인 것이 바람직하고, 1.0°이하인 것이 바람직하며, 0.95°이하인 것이 보다 바람직하고, 0.9°이하인 것이 특히 바람직하다. θ/Rku 가 지나치게 크면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다.
요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 산술 평균 조도 (Ra) 는, 0.04 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.05 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.06 ㎛ 이상인 것이 특히 바람직하다. Ra 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, Ra 는, 0.3 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.25 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.2 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 0.15 ㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. Ra 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 제곱 평균 제곱근 조도 (Rq) 는, 0.05 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.06 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.07 ㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.08 ㎛ 이상인 것이 특히 바람직하다. Rq 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, Rq 는, 0.4 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.3 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.26 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 0.2 ㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. Rq 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 최대 단면 높이 (Rt) 는, 0.2 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.3 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.4 ㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상인 것이 특히 바람직하다. Rt 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, Rt 는, 3 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 2 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 1.7 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1 ㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. Rt 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 10 점 평균 조도 (RzJIS) 는, 0.2 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.3 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.35 ㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.4 ㎛ 이상인 것이 특히 바람직하다. RzJIS 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, RzJIS 는, 1.6 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 1.4 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 1.2 ㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. RzJIS 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 스큐네스 (Rsk) 의 절대치, ｜Rsk｜ 는, 3 이하인 것이 바람직하고, 2.5 이하인 것이 보다 바람직하며, 2 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1.5 이하인 것이 특히 바람직하다. ｜Rsk｜ 가 클수록, 표면 요철 형상의, 평균선에 대한 비대칭성이 큰 것을 나타낸다. 표면 요철 형상의 비대칭성이 클 때, 급준한 산 부분과 완만한 골 부분이 존재하게 되어 (Rsk ＞ 0 일 때), 요철면 (2) 의 경사각 분포에 치우침이 발생되어 있는 것을 나타낸다. 즉, 산 부분은 경사각이 커지고, 골 부분은 경사각이 작아진다 (Sk ＜ 0 일 때에는 산과 골의 관계가 역전된다). 이와 같은 경우, 경사각이 작은 부분에서는, 배경의 반사가 발생되기 쉬워질 우려가 있다. 따라서, ｜Rsk｜ 가 지나치게 크면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다.
요철면 (2) 의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 제곱 평균 제곱근 경사 (RΔq) 는, 0.04 이상인 것이 바람직하고, 0.05 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.06 이상인 것이 특히 바람직하다. RΔq 가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, RΔq 는, 0.17 이하인 것이 바람직하고, 0.18 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.16 이하인 것이 특히 바람직하다. RΔq 가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
헤이즈는, 확산 투과광의 전광선 투과광에 대한 비율이다. 이 때문에, 헤이즈를 작게 함으로써, 확산 투과광을 적게 할 수 있다. 따라서, 높은 해상도를 실현할 수 있다. 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 헤이즈는, 1 ％ 이상인 것이 바람직하고, 2 ％ 이상인 것이 보다 바람직하며, 3 ％ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 5 ％ 이상인 것이 특히 바람직하다. 또한, 본 발명의 헤이즈는, JIS K7136-2000 에 준거한 방법에 의해서 측정한 값을 가리킨다. 헤이즈가 지나치게 작으면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 헤이즈는, 50 ％ 이하인 것이 바람직하고, 30 ％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 20 ％ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 15 ％ 이하인 것이 특히 바람직하다. 헤이즈가 지나치게 크면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다.
디스플레이용 커버 부재 (1) 의 글로스치는, 10 ％ 이상인 것이 바람직하고, 20 ％ 이상인 것이 보다 바람직하며, 30 ％ 이상인 것이 특히 바람직하다. 또한, 본 발명의 글로스치는, JIS Z8741-1997 에 준거한 방법에 의해서 입사각 60°에서 측정한 값을 가리킨다. 글로스치가 지나치게 작으면, 디스플레이의 해상도가 저하되는 경향이 있다. 한편, 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 글로스치는, 80 ％ 이하인 것이 바람직하고, 75 ％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 70 ％ 이하인 것이 특히 바람직하다. 글로스치가 지나치게 크면, 배경의 반사가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다.
투광판 (10) 및 투명 부재는, 디스플레이로부터의 광을 투과시키는 것인 한 특별히 한정되지 않는다. 투광판 (10) 및 투명 부재는, 예를 들어, 무알칼리 유리, 소다 석회 유리, 강화 유리 등의 유리판, Li2O-Al2O3-SiO2 계 결정화 유리 등의 결정화 유리판, 수지판 등에 의해서 구성할 수 있다. 예를 들어, 디스플레이용 커버 부재 (1) 에 높은 기계적 강도가 요구되는 경우에는, 투광판 (10) 및 투명 부재를 강화 유리판에 의해서 구성하는 것이 바람직하다.
투광판 (10) 및 투명 부재의 두께는, 특별히 한정되지 않는다. 투광판 (10) 및 투명 부재의 두께는, 예를 들어, 0.01 ㎜ ∼ 10 ㎜ 정도로 할 수 있다. 또한, 투광판 (10) 및 투명 부재는 강체이어도 되지만, 가요성을 갖고 있어도 된다. 투광판 (10) 및 투명 부재는 시트상이어도 된다.
또한, 투광판 (10) 및 투명 부재로서 바람직하게 사용되는 강화 유리판은, 유리 조성으로서 질량％ 로, SiO2 50 ％ 이상 80 ％ 이하, Al2O3 5 ％ 이상 25 ％ 이하, B2O3 15 ％ 이하, Na2O 1 ％ 이상 20 ％ 이하, K2O 10 ％ 이하를 함유하는 것이 바람직하다. 상기와 같이 각 성분의 함유 범위를 한정한 이유를 하기에 나타낸다. 또한, 각 성분의 함유 범위의 설명에 있어서, ％ 표시는 질량％ 를 가리킨다.
SiO2 는 유리의 네트워크를 형성하는 성분이다. SiO2 의 함유량은 50 ％ 이상 80 ％ 이하가 바람직하다. SiO2 의 함유량이 지나치게 적으면, 유리화되기 어려워지며, 또한 열 팽창 계수가 지나치게 높아져, 내열 충격성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, SiO2 의 함유량의 바람직한 하한 범위는 52 ％ 이상, 특히 55 ％ 이상이다. 한편, SiO2 의 함유량이 지나치게 많으면, 용융성이나 성형성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, SiO2 의 함유량의 바람직한 상한 범위는 75 ％ 이하, 72 ％ 이하, 70 ％ 이하, 특히 67.5 ％ 이하이다.
Al2O3 은, 이온 교환 성능을 높이는 성분이고, 또 변형점이나 영률을 높이는 성분이다. Al2O3 의 함유량은 5 ％ 이상 25 ％ 이하가 바람직하다. Al2O3 의 함유량이 지나치게 적으면, 열 팽창 계수가 지나치게 높아져, 내열 충격성이 저하되기 쉬워지는 것에 더하여, 이온 교환 성능을 충분히 발휘할 수 없을 우려가 생긴다. 따라서, Al2O3 의 함유량의 바람직한 하한 범위는 7 ％ 이상, 8 ％ 이상, 10 ％ 이상, 12 ％ 이상, 14 ％ 이상, 15 ％ 이상, 특히 16 ％ 이상이다. 한편, Al2O3 의 함유량이 지나치게 많으면, 유리에 실투 결정이 석출되기 쉬워져, 오버 플로 다운 드로법 등으로 유리판을 성형하기 어려워진다. 또 열 팽창 계수가 지나치게 낮아져, 주변 재료의 열 팽창 계수에 정합시키기 어려워지고, 나아가서는 고온 점성이 높아져, 용융성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, Al2O3 의 함유량의 바람직한 상한 범위는 22 ％ 이하, 20 ％ 이하, 19 ％ 이하, 18 ％ 이하, 특히 17 ％ 이하이다.
B2O3 은, 고온 점도나 밀도를 저하시킴과 함께, 유리를 안정화시켜 결정을 석출시키기 어렵게 하고, 액상 온도를 저하시키는 성분이다. 또 크랙 레지스턴스를 높이는 성분이다. B2O3 의 함유량은 15 ％ 이하가 바람직하다. B2O3 의 함유량이 지나치게 많으면, 이온 교환 처리에 의해서, 황변이라고 하는 표면의 착색이 발생되거나, 내수성이 저하되거나, 압축 응력층의 압축 응력치가 저하되거나, 압축 응력층의 응력 깊이가 작아지는 경향이 있다. 따라서, B2O3 의 함유량의 바람직한 상한 범위는, 15 ％ 이하, 12 ％ 이하, 10 ％ 이하, 8 ％ 이하, 6 ％ 이하, 특히 5 ％ 이하이다. 또한, 유리 조성 중에 B2O3 을 도입할 경우, B2O3 의 함유량의 바람직한 하한 범위는 0.1 ％ 이상, 1 ％ 이상, 1 ％ 초과, 1.5 ％ 이상, 특히 2 ％ 이상이다.
Na2O 는, 주요한 이온 교환 성분이고, 또 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이는 성분이다. 또, Na2O 는, 내실투성을 개선하는 성분이기도 하다. Na2O 의 함유량은 1 ％ 이상 20 ％ 이하가 바람직하다. Na2O 의 함유량이 지나치게 적으면, 용융성이 저하되거나, 열 팽창 계수가 저하되거나, 이온 교환 성능이 저하되기 쉬워진다. 따라서, Na2O 를 도입할 경우, Na2O 의 바람직한 하한 범위는 10 ％ 이상, 11 ％ 이상, 특히 12 ％ 이상이다. 한편, Na2O 의 함유량이 지나치게 많으면, 열 팽창 계수가 지나치게 높아져, 내열 충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열 팽창 계수에 정합시키기 어려워진다. 또 변형점이 지나치게 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 부족하여, 오히려 내실투성이 저하되는 경우가 있다. 따라서, Na2O 의 바람직한 상한 범위는 17 ％ 이하, 특히 16 ％ 이하이다.
K2O 는, 이온 교환을 촉진하는 성분으로서, 알칼리 금속 산화물 중에서는 압축 응력층의 응력 깊이를 증대시키는 효과가 큰 성분이다. 또 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이는 성분이다. 나아가서는, 내실투성을 개선하는 성분이기도 하다. K2O 의 함유량은 10 ％ 이하가 바람직하다. K2O 의 함유량이 지나치게 많으면, 열 팽창 계수가 지나치게 높아져, 내열 충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열 팽창 계수에 정합시키기 어려워진다. 또 변형점이 지나치게 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 부족하여, 오히려 내실투성이 저하되는 경향이 있다. 따라서, K2O 의 바람직한 상한 범위는 8 ％ 이하, 6 ％ 이하, 4 ％ 이하, 특히 2 ％ 미만이다.
상기 성분 이외에도, 예를 들어 이하의 성분을 도입해도 된다.
Li2O 는, 이온 교환 성분임과 함께, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이는 성분이다. 또 영률을 높이는 성분이다. 또한 알칼리 금속 산화물 중에서는 압축 응력치를 증대시키는 효과가 크다. 그러나, Li2O 의 함유량이 지나치게 많으면, 액상 점도가 저하되어, 유리가 실투하기 쉬워진다. 또, 열 팽창 계수가 지나치게 높아져, 내열 충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열 팽창 계수에 정합시키기 어려워진다. 또한, 저온 점성이 지나치게 저하되어, 응력 완화가 일어나기 쉬워지면, 오히려 압축 응력치가 작아지는 경우가 있다. 따라서, Li2O 의 함유량의 바람직한 상한 범위는, 3.5 ％ 이하, 2 ％ 이하, 1 ％ 이하, 0.5 ％ 이하, 특히 0.2 ％ 이하이다. 또한, 유리 조성 중에 Li2O 를 도입할 경우, Li2O 의 함유량의 바람직한 하한 범위는 0.01 ％ 이상이다.
Li2O ＋ Na2O ＋ K2O 의 바람직한 함유량은 5 이상 25 ％ 이하이다. Li2O ＋ Na2O ＋ K2O 의 함유량이 지나치게 적으면, 이온 교환 성능이나 용융성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, Li2O ＋ Na2O ＋ K2O 의 함유량의 바람직한 하한 범위는 10 ％ 이상, 15 ％ 이상, 특히 17 ％ 이상이다. 한편, Li2O ＋ Na2O ＋ K2O 의 함유량이 지나치게 많으면, 유리가 실투하기 쉬워지는 것에 더하여, 열 팽창 계수가 지나치게 높아져, 내열 충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열 팽창 계수에 정합시키기 어려워진다. 또 변형점이 지나치게 저하되어, 높은 압축 응력치가 얻어지기 어려워지는 경우가 있다. 또한 액상 온도 부근의 점성이 저하되어, 높은 액상 점도를 확보하기 어려워지는 경우도 있다. 따라서, Li2O ＋ Na2O ＋ K2O 의 함유량의 바람직한 상한 범위는 22 ％ 이하이다. 또한, 「Li2O ＋ Na2O ＋ K2O」는, Li2O, Na2O 및 K2O 의 합량이다.
MgO 는, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이거나, 변형점이나 영률을 높이는 성분으로서, 알칼리 토금속 산화물 중에서는, 이온 교환 성능을 높이는 효과가 큰 성분이다. 그러나, MgO 의 함유량이 지나치게 많으면, 밀도나 열 팽창 계수가 높아지기 쉽고, 또 유리가 실투하기 쉬워진다. 따라서, MgO 의 함유량의 바람직한 상한 범위는 12 ％ 이하, 10 ％ 이하, 8 ％ 이하, 5 ％ 이하, 특히 4 ％ 이하이다. 또한, 유리 조성 중에 MgO 를 도입할 경우, MgO 의 바람직한 하한 범위는 0.1 ％ 이상, 0.5 ％ 이상, 1 ％ 이상, 특히 2 ％ 이상이다.
CaO 는, 다른 성분과 비교하여, 내실투성의 저하를 수반하지 않고, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이거나, 변형점이나 영률을 높이는 효과가 크다. 그러나, CaO 의 함유량이 지나치게 많으면, 밀도나 열 팽창 계수가 높아지고, 또 유리 조성의 성분 밸런스가 부족하여, 오히려 유리가 실투하기 쉬워지거나, 이온 교환 성능이 저하되기 쉬워진다. 따라서, CaO 의 함유량의 바람직한 상한 범위는 5 ％ 이하, 4 ％ 이하, 3 ％ 이하, 특히 2.5 ％ 이하이다. 또한, 유리 조성 중에 CaO 를 도입할 경우, CaO 의 바람직한 하한 범위는 0.01 ％ 이상, 0.1 ％ 이상, 특히 1 ％ 이상이다.
SrO 는, 내실투성의 저하를 수반하지 않고, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이거나, 변형점이나 영률을 높이는 성분이다. 그러나, SrO 의 함유량이 지나치게 많으면, 밀도나 열 팽창 계수가 높아지거나, 이온 교환 성능이 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 부족하여, 오히려 유리가 실투하기 쉬워진다. SrO 의 함유량의 바람직한 상한 범위는 5 ％ 이하, 3 ％ 이하, 1 ％ 이하, 특히 0.1 ％ 미만이다.
BaO 는, 내실투성의 저하를 수반하지 않고, 고온 점도를 저하시켜, 용융성이나 성형성을 높이거나, 변형점이나 영률을 높이는 성분이다. 그러나, BaO 의 함유량이 지나치게 많으면, 밀도나 열 팽창 계수가 높아지거나, 이온 교환 성능이 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 부족하여, 오히려 유리가 실투하기 쉬워진다. BaO 의 함유량의 바람직한 상한 범위는 5 ％ 이하, 3 ％ 이하, 1 ％ 이하, 특히 0.1 ％ 미만이다.
ZnO 는, 이온 교환 성능을 높이는 성분이고, 특히 압축 응력치를 증대시키는 효과가 큰 성분이다. 또 저온 점성을 저하시키지 않고, 고온 점성을 저하시키는 성분이다. 그러나, ZnO 의 함유량이 지나치게 많으면, 유리가 분상 (分相) 되거나 내실투성이 저하되거나, 밀도가 높아지거나, 압축 응력층의 응력 깊이가 작아지는 경향이 있다. 따라서, ZnO 의 함유량의 바람직한 상한 범위는 6 ％ 이하, 5 ％ 이하, 1 ％ 이하, 0.5 ％ 이하, 특히 0.1 ％ 미만이다.
ZrO2 는, 이온 교환 성능을 현저하게 높이는 성분임과 함께, 액상 점도 부근의 점성이나 변형점을 높이는 성분인데, 그 함유량이 지나치게 많으면, 내실투성이 현저하게 저하될 우려가 있고, 또 밀도가 지나치게 높아질 우려가 있다. 따라서, ZrO2 의 바람직한 상한 범위는 10 ％ 이하, 8 ％ 이하, 6 ％ 이하, 특히 5 ％ 이하이다. 또한, 이온 교환 성능을 높이고자 할 경우, 유리 조성 중에 ZrO2 를 도입하는 것이 바람직하고, 그 경우, ZrO2 의 바람직한 하한 범위는 0.001 ％ 이상, 0.01 ％ 이상, 0.5 ％, 특히 1 ％ 이상이다.
P2O5 는, 이온 교환 성능을 높이는 성분이고, 특히 압축 응력층의 응력 깊이를 크게 하는 성분이다. 그러나, P2O5 의 함유량이 지나치게 많으면, 유리가 분상되기 쉬워진다. 따라서, P2O5 의 바람직한 상한 범위는 10 ％ 이하, 8 ％ 이하, 6 ％ 이하, 4 ％ 이하, 2 ％ 이하, 1 ％ 이하, 특히 0.1 ％ 미만이다.
청징제로서 As2O3, Sb2O3, SnO2, F, Cl, SO3 의 군 (바람직하게는 SnO2, Cl, SO3 의 군) 에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 0 ∼ 30000 ppm (3 ％) 도입해도 된다. SnO2 ＋ SO3 ＋ Cl 의 함유량은, 청징 효과를 적확하게 향수하는 관점에서, 바람직하게는 0 ∼ 10000 ppm, 50 ∼ 5000 ppm, 80 ∼ 4000 ppm, 100 ∼ 3000 ppm, 특히 300 ∼ 3000 ppm 이다. 여기서, 「SnO2 ＋ SO3 ＋ Cl」은, SnO2, SO3 및 Cl 의 합량을 가리킨다.
SnO2 의 바람직한 함유 범위는 0 ∼ 10000 ppm, 0 ∼ 7000 ppm, 특히 50 ∼ 6000 ppm 이고, Cl 의 바람직한 함유 범위는 0 ∼ 1500 ppm, 0 ∼ 1200 ppm, 0 ∼ 800 ppm, 0 ∼ 500 ppm, 특히 50 ∼ 300 ppm 이다. SO3 의 바람직한 함유 범위는 0 ∼ 1000 ppm, 0 ∼ 800 ppm, 특히 10 ∼ 500 ppm 이다.
Nd2O3, La2O3 등의 희토류 산화물은, 영률을 높이는 성분이고, 또 보색이 되는 색을 가하면, 소색 (消色) 하여, 유리의 색미 (色味) 를 컨트롤할 수 있는 성분이다. 그러나, 원료 자체의 비용이 높고, 또 다량으로 도입하면, 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, 희토류 산화물의 함유량은, 바람직하게는 4 ％ 이하, 3 ％ 이하, 2 ％ 이하, 1 ％ 이하, 특히 0.5 ％ 이하이다.
본 발명에서는, 환경면의 배려에서, 실질적으로 As2O3, F, PbO, Bi2O3 을 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기서, 「실질적으로 As2O3 을 함유하지 않는」이란, 유리 성분으로서 적극적으로 As2O3 을 첨가하지는 않지만, 불순물 레벨로 혼입되는 경우를 허용하는 취지이고, 구체적으로는, As2O3 의 함유량이 500 ppm 미만인 것을 가리킨다. 「실질적으로 F 를 함유하지 않는」이란, 유리 성분으로서 적극적으로 F 를 첨가하지는 않지만, 불순물 레벨로 혼입되는 경우를 허용하는 취지이고, 구체적으로는, F 의 함유량이 500 ppm 미만인 것을 가리킨다. 「실질적으로 PbO 를 함유하지 않는」이란, 유리 성분으로서 적극적으로 PbO 를 첨가하지는 않지만, 불순물 레벨로 혼입되는 경우를 허용하는 취지이고, 구체적으로는, PbO 의 함유량이 500 ppm 미만인 것을 가리킨다. 「실질적으로 Bi2O3 을 함유하지 않는」이란, 유리 성분으로서 적극적으로 Bi2O3 을 첨가하지는 않지만, 불순물 레벨로 혼입되는 경우를 허용하는 취지이고, 구체적으로는, Bi2O3 의 함유량이 500 ppm 미만인 것을 가리킨다.
투광판 (10) 은, 제 1 주면 (10a) 과 제 2 주면 (10b) 을 갖는다. 본 실시형태에서는, 제 1 및 제 2 주면 (10a, 10b) 은 각각 평탄면이다. 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 제 2 주면 (1b) 은, 투광판 (10) 의 제 2 주면 (10b) 에 의해서 구성되어 있다. 투광판 (10) 의 제 1 주면 (10a) 상에는, 코팅막 (11) 이 형성되어 있다. 이 코팅막 (11) 에 의해서, 요철면 (2) 을 구성하고 있는 제 1 주면 (10a) 의 적어도 일부가 덮여 있다. 코팅막 (11) 은, 예를 들어, 제 1 주면 (10a) 의 전체를 덮고 있어도 되고, 제 1 주면 (10a) 의 일 부분을 덮고 있어도 된다. 코팅막 (11) 은, 예를 들어, 도상 (島狀) 으로 형성되어 있어도 된다. 코팅막 (11) 이 제 1 주면 (10a) 의 일 부분을 덮고 있을 경우, 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 제 1 주면 (1a) 은, 코팅막 (11) 과 제 1 주면 (1a) 에 의해서 구성된다.
디스플레이용 커버 부재 (1) 가, 예를 들어 터치 센서 등에 사용되는 경우에는, 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 표면의 내구성 (내찰상성 등) 이 높을 것이 요구된다. 이 때문에, 코팅막 (11) 이 경질인 것이 바람직하다. 코팅막 (11) 의 JIS K5600-5-4-1999 에서 규정되는 연필 경도는, 6 H 이상인 것이 바람직하고, 7 H 이상인 것이 보다 바람직하며, 8 H 이상인 것이 더욱 바람직하고, 9 H 이상인 것이 더욱 더 바람직하다.
코팅막 (11) 은, 예를 들어, 산화규소, 산화티탄, 산화알루미늄, 산화지르코늄 등의 무기 산화물로 이루어지는 무기막에 의해서 구성할 수 있다. 그 중에서도, 코팅막 (11) 은, 산화규소에 의해서 구성되어 있는 것이 바람직하다.
코팅막 (11) 의 두께는, 예를 들어, 0.1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
또한, 본 실시형태에서는, 코팅막 (11) 이 투광판 (10) 의 제 1 주면 (10a) 의 바로 위에 직접 형성된 예에 대해서 설명한다. 단, 본 발명은, 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 코팅막과 투광판 사이에, 반사 방지막 등이 형성되어 있어도 된다. 또, 투광판 (10) 의 제 2 주면 (10b) 상에도 반사 방지막이나 투명 도전막 등이 형성되어 있어도 된다.
또한, 반사 방지막은, 예를 들어, 투광판 (10) 보다 굴절률이 낮은 저굴절률막, 혹은 상대적으로 굴절률이 낮은 저굴절률층과 상대적으로 굴절률이 높은 고굴절률층이 교대로 적층된 유전체 다층막이어도 된다. 반사 방지막은, 예를 들어, 스퍼터링법이나 CVD 법 등에 의해서 형성할 수 있다.
투명 도전막은, 투광판 (10) 을 커버 유리로서 사용할 경우에는, 터치 센서용의 전극으로서 기능한다. 투명 도전막으로는, 예를 들어, 주석 도프 산화인듐 (ITO) 막, 불소 도프 산화주석 (FTO) 막, 안티몬 도프 산화주석 (ATO) 막 등을 들 수 있다. 그 중에서도, ITO 막은 전기 저항이 낮기 때문에 바람직하게 사용된다. ITO 막은, 예를 들어, 스퍼터링법에 의해서 형성할 수 있다. 또, FTO 막이나 ATO 막은, CVD (Chemical Vapor Deposition) 법에 의해서 형성할 수 있다.
본 실시형태에서는, 코팅막 (11) 이 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 표면을 구성하고 있다. 단, 본 발명은 이 구성에 한정되지 않는다. 코팅막 상에, 예를 들어, 지문의 부착을 방지하고, 발수성, 발유성을 부여하기 위한 안티 지문막 (AF 막) 이나 반사 방지막, 투명 도전막, 방현 기능을 부여하여 시인성을 향상시키거나, 터치 펜 등에 의한 필기감을 향상시키거나 하기 위한 안티글레어막, 지문의 부착을 방지하고, 발수성, 발유성을 부여하기 위한 방오막 등의 다른 막이 추가로 형성되어 있어도 된다.
또한, 안티 지문막 (AF 막) 은, 주사슬 중에 규소를 함유하는 함불소 중합체를 함유하는 것이 바람직하다. 함불소 중합체로서는, 예를 들어, 주사슬 중에, -Si-O-Si-유닛을 갖고, 또한, 불소를 함유하는 발수성의 관능기를 측사슬에 갖는 중합체를 들 수 있다. 함불소 중합체는, 예를 들어 실란올을 탈수 축합함으로써 합성할 수 있다.
투명 도전막은, 투광판 (10) 의 이면측 (디스플레이 디바이스측, 투광판의 제 2 주면측) 에 형성되어도 된다. 투명 도전막은, 투광판 (10) 을 커버 유리로서 사용할 경우에는, 터치 센서용의 전극으로서 기능한다.
투명 도전막으로서는, 예를 들어, 주석 도프 산화인듐 (ITO) 막, 불소 도프 산화주석 (FTO) 막, 안티몬 도프 산화주석 (ATO) 막 등을 들 수 있다. 그 중에서도, ITO 막은 전기 저항이 낮기 때문에 바람직하게 사용된다. ITO 막은, 예를 들어, 스퍼터링법에 의해서 형성할 수 있다. 또, FTO 막이나 ATO 막은, CVD (Chemical Vapor Deposition) 법에 의해서 형성할 수 있다.
코팅막 (11) 의 요철면측 또는 투명 부재의 요철면에, 반사 방지막과 AF 막을 형성할 경우에는, 요철면 상에 반사 방지막이 형성되고, 반사 방지막 상에 AF 막이 형성되는 것이 바람직하다.
코팅막 (11) 은, 미립자 분산막 등과 같이 산란 입자를 함유하지 않고, 균질한 막인 것이 바람직하다. 그 경우, 해상도를 보다 높일 수 있음과 함께, 반사를 보다 효과적으로 억제할 수 있다.
코팅막 (11) 은, 투광판 (10) 보다 저굴절률인 것이 바람직하다. 그 경우, 반사를 보다 효과적으로 억제할 수 있다.
다음으로, 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 제조 방법의 일례에 대해서 설명한다.
먼저, 투광판 (10) 을 준비한다. 다음으로, 투광판 (10) 의 제 1 주면 (10a) 상에, 스프레이법에 의해서 투광성 재료를 도포하고, 건조시킴으로써 코팅막 (11) 을 성막한다. 스프레이법을 사용하여 코팅막 (11) 을 형성함으로써, RSm 이나 θ/Rku 를 바람직한 범위로 하기가 용이해진다.
보다 상세하게는, 코팅막 (11) 의 성막은, 아래와 같이 행할 수 있다. 코팅실 내에서, 투광판 (10) 을 반송하면서, 투광판 (10) 의 반송 방향에 대해서 수직인 방향으로 노즐을 왕복 주사시키면서, 노즐로부터 투광성 재료를 투광판 (10) 을 향하여 토출해 간다. 그 후, 얻어진 도포막을 건조시킴으로써 코팅막 (11) 을 완성시킬 수 있다. 성막 중에는, 코팅실에, 상방으로부터 하방을 향하여 흐르는 층류 (層流) 를 부여하는 것이 바람직하다.
제조되는 디스플레이용 커버 부재 (1) 의 RSm 이나 θ/Rku 는, 예를 들어, 노즐을 흐르는 에어의 유량, 단위 면적당 토출량, 층류의 유량 등을 제어함으로써 조절할 수 있다.
예를 들어, 노즐을 흐르는 에어의 유량을 작게 함으로써, 조도 곡선 요소의 평균 길이 (RSm) 를 작게 할 수 있다. 노즐을 흐르는 에어의 유량은, 153 L/분 이하인 것이 바람직하다.
예를 들어, 층류의 유량에 대한 단위 면적당 도포량의 비, 도포량 (g/㎡)/층류의 유량 (㎡/분) 을 작게 함으로써, θ/Rku 를 작게 할 수 있다. 도포량 (g/㎡)/층류의 유량 (㎡/분) 은, 예를 들어, 0.18 이하인 것이 바람직하다.
예를 들어, 노즐을 흐르는 에어의 유량에 대한 단위 면적당 도포량의 비, 도포량 (g/㎡)/에어 유량 (㎡/분) 을 작게 함으로써, θ/Rku 를 크게 할 수 있다. 도포량 (g/㎡)/에어 유량 (㎡/분) 은, 예를 들어, 0.05 이하인 것이 바람직하다.
또한, 투광판 (10) 을 강화 유리판에 의해서 구성할 경우에는, 강화 유리판 상에 코팅막 (11) 을 성막해도 되고, 유리판 상에 코팅막 (11) 을 성막한 후에, 유리판을 화학 강화나 풍랭 강화함으로써 강화해도 된다.
또, 디스플레이용 커버 부재 (1) 가 요철면을 갖는 하나의 투명 부재에 의해서 구성되어 있을 경우, 투명 부재의 주면에 대해서 프로스트 처리, 샌드 블라스트 처리, 웨트 블라스트 처리 등의 표면 처리를 실시하여, 원하는 요철을 형성하는 방법을 이용할 수 있다.
프로스트 처리는, 예를 들어, 불화수소와 불화암모늄의 혼합 용액에, 투명 부재를 침지하고, 침지면을 화학적으로 표면 처리함으로써, 투명 부재의 주면에 요철을 형성하는 처리이다. 특히, 불화수소 등의 약액을 사용한 프로스트 처리는, 피처리체 표면에 있어서의 마이크로 크랙이 발생되기 어렵고, 기계적 강도의 저하가 발생되기 어렵기 때문에 바람직하다.
샌드 블라스트 처리는, 예를 들어, 결정질 이산화규소분, 탄화규소분 등을 가압 공기로 투명 부재 표면에 내뿜음으로써, 투명 부재의 주면에 요철을 형성하는 처리이다. 또, 이와 같이 하여 요철을 만든 후에, 표면 형상을 고르게 하기 위해서, 유리 표면을 화학적으로 에칭하는 것이 일반적으로 행해지고 있다. 이렇게 함으로써, 샌드 블라스트 처리 등에 의해서 발생된 크랙을 제거할 수 있다. 에칭으로는, 불화수소를 주성분으로 하는 용액에, 피처리체인 투명 기체를 침지하는 방법이 바람직하게 이용된다.
웨트 블라스트 처리는, 알루미나 등의 개체 입자로 구성되는 지립과 물 등의 액체를 균일하게 교반하여 슬러리로 한 것을, 압축 에어를 사용하여 분사 노즐로부터 투명 부재의 표면에 고속으로 분사함으로써, 투명 부재의 주면에 요철을 형성하는 처리이다. 웨트 블라스트 처리에 의해서 투명 부재의 주면에 형성되는 요철면의 표면 조도는, 주로 슬러리에 포함되는 지립의 입도 분포와, 슬러리를 투명 부재에 분사할 때의 분사 압력에 의해서 조정 가능하다. 웨트 블라스트 처리에 있어서는, 슬러리를 투명 부재에 분사했을 경우, 액체가 지립을 투명 부재까지 옮기기 때문에, 샌드 블라스트 처리에 비해서 미세한 지립을 사용할 수 있음과 함께, 지립이 워크에 충돌할 때의 충격이 작아져, 정밀한 가공을 행하는 것이 가능하다.
실시예
이하, 본 발명에 대해서, 구체적인 실시예에 기초하여, 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 전혀 한정되는 것이 아니고, 그 요지를 변경하지 않는 범위에서 적절히 변경하여 실시하는 것이 가능하다.
(실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 4)
강화 유리 평판 (닛폰 전기 유리 주식회사 제조 강화 유리 평판, 두께 0.7 ㎜) 상에, 산화규소 성분을 함유하는 액을 스프레이법에 의해서 도포하고, 건조시킴으로써, 산화규소로 이루어지는 코팅막을 형성하여, 디스플레이용 커버 부재를 얻었다. 상세한 조건은, 표 1, 2 에 나타낸다.
(요철면의 표면 성상 파라미터의 측정)
실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 4 의 디스플레이용 커버 부재의 요철면에 있어서의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 표면 성상 파라미터 (RSm, θ, Rku, Ra, Rq, Rt, RzJIS, ｜Rsk｜, Rdq) 를, 비접촉 표면ㆍ층 단면 형상 계측 시스템 VertScan2.0 (료카 시스템사 제조) 을 사용하여 측정하였다. 결과를 표 1, 2 에 나타낸다.
(헤이즈의 측정)
JIS K7136-2000 에 기초하여, 실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 4 의 디스플레이용 커버 부재의 헤이즈를, NDH-5000 (닛폰 전색사 제조) 을 사용하여 측정하였다. 결과를 표 1, 2 에 나타낸다.
(글로스치의 측정)
JIS Z8741-1997 에 기초하여, 실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 4 의 디스플레이용 커버 부재에 있어서의 입사각 60°의 글로스치를, IG-331 (호리바 제작소사 제조) 을 사용하여 측정하였다. 결과를 표 1, 2 에 나타낸다.
(반사 정도의 평가)
디스플레이용 커버 부재의 이면에 멘딩 테이프 (3M 사 제조) 를 첩부하고, 커버 부재 요철면에 형광등을 반사시켰다. 그 반사시킨 형광등이 희미해져 전혀 보이지 않는 것을 ◎, 약간 보이기는 하지만 희미한 것을 ○, 형광등이 보이지만 약간 희미한 것을 △, 형광등이 선명하게 보이는 것을 × 라는 판정을 행하였다. 결과를 표 1, 2 에 나타낸다.
(스파클링 정도의 평가)
화소 피치 264 ppi 의 디스플레이 상에 실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 4 의 디스플레이용 커버 부재를 배치하고, 스파클링 정도를 관찰하였다. 그 때, 스파클링을 확인할 수 없었던 것을 ○, 스파클링을 확인할 수 있던 것을 × 라는 판정을 행하였다. 결과를 표 1, 2 에 나타낸다.
(연필 경도의 평가)
JIS K5600-5-4-1999 에 기초하여, 실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 4 의 디스플레이용 커버 부재에 있어서의 코팅막의 연필 경도를, HEIDON 표면성 시험기를 사용하여, 연필 각도 45°, 스크래치 속도 100 ㎜/분, 하중 750 g 의 조건에서, 미츠비시 연필 HI-uni 를 사용하여 평가하였다. 결과를 표 1, 2 에 나타낸다.
Figure 112017123153580-pct00002
실시예 1 ∼ 9 는, RSm 이 12.70 ㎛ ∼ 17.79 ㎛ 이고, θ 가 1.81°∼ 5.29°이며, Rku 가 2.32 ∼ 6.99 이고, θ/Rku 가 0.56°∼ 1.07°이었기 때문에, 배경의 반사가 적고, 스파클링 방지성이 우수하였다. 한편, 비교예 1 및 2 는, RSm 이 32.53 ㎛, 35.25 ㎛ 로 크기 때문에, 스파클링이 확인되었다. 또, 비교예 3 은, θ 가 1.14°이고, θ/Rku 가 0.38°로 작기 때문에, 반사가 확인되었다. 또, 비교예 4 는, Rku 가 2.14 로 작고, θ/Rku 가 1.09°로 크기 때문에, 반사가 확인되었다.
본 발명은, 배경의 반사가 적고, 스파클링 방지성이 우수한 디스플레이용 커버 부재에 바람직하다.
1 : 커버 부재
1a : 제 1 주면
1b : 제 2 주면
2 : 요철면
10 : 투광판
10a : 제 1 주면
10b : 제 2 주면
11 : 코팅막

Claims (14)

  1. 일방의 주면이 요철면에 의해서 구성되어 있고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이 (RSm) 가 1 ㎛ 이상 18 ㎛ 이하이고, 상기 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각 (θ) 과 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 쿠르토시스 (Rku) 의 비, θ/Rku 가 0.40°이상 1.08°이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  2. 일방의 주면이 요철면에 의해서 구성되어 있고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선 요소의 평균 길이 (RSm) 가 1 ㎛ 이상 18 ㎛ 이하이고, 상기 요철면의 조도 곡선의 평균 경사각 (θ) 이 1.2°이상 7°이하이고, 상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 쿠르토시스 (Rku) 가 2.2 이상 10 이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    헤이즈가 1 ％ 이상 50 ％ 이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 산술 평균 조도 (Ra) 가 0.04 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 요철면의 JIS B0601-2013 에서 규정되는 조도 곡선의 스큐네스 (Rsk) 의 절대치, ｜Rsk｜ 가 2 이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    투광판과, 상기 투광판의 1 주면의 적어도 일부를 덮고 있고, 상기 요철면을 구성하고 있는 코팅막을 구비하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 코팅막이 상기 투광판의 1 주면의 전체를 덮고 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 코팅막이, 무기막에 의해서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 코팅막의 JIS K5600-5-4-1999 에서 규정되는 연필 경도가 6 H 이상인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 투광판이, 유리판에 의해서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 유리판이, 강화 유리판에 의해서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재.
  12. 제 6 항에 기재된 디스플레이용 커버 부재를 제조하는 방법으로서,
    상기 투광판 상에, 스프레이법에 의해서 상기 요철면을 구성하는 코팅막을 형성하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재의 제조 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 투광판을 유리판에 의해서 구성하고,
    상기 코팅막을 형성한 후에, 상기 유리판을 화학 강화하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재의 제조 방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 투광판으로서, 강화 유리판을 사용하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 커버 부재의 제조 방법.
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