WO2021153469A1 - ガラス基板、表示装置、及びガラス基板の製造方法 - Google Patents

ガラス基板、表示装置、及びガラス基板の製造方法 Download PDF

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貴之 掛川
佑紀 赤間
暁 留野
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Ａｇｃ株式会社
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    • C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
    • C03C2204/08—Glass having a rough surface

Definitions

  • the present invention relates to a glass substrate used for a display device or the like, which suppresses glare and has excellent detergency, a display device provided with the glass substrate, or a method for manufacturing the glass substrate.
  • a cover made of glass is arranged on the display surface side of a display device such as an LCD (Liquid Crystal Display) device to protect the display device.
  • a display device such as an LCD (Liquid Crystal Display) device to protect the display device.
  • an anti-glare treatment for forming an uneven shape on the surface of a glass plate.
  • the anti-glare treatment include means such as etching the surface of the glass plate (see, for example, Patent Document 1) and forming a film having an uneven shape on the surface of the glass plate (see, for example, Patent Document 2). ..
  • the anti-glare treatment suppresses reflections as described above, reduces reflections, and provides an antifouling effect, but may have disadvantages such as glare and reduced cleaning resistance.
  • glare occurs on the glass substrate, it becomes difficult for the viewer of the display image to visually recognize the display image, and the viewer receives an unpleasant impression.
  • Glitter occurs when the roughness of the anti-glare treated surface of the glass substrate is larger than the pitch between the pixels of the display device, or when there is unevenness in the surface unevenness size of the glass substrate, unevenness in the unevenness depth, etc. Becomes noticeable. As the definition of display devices has become higher and the pixel size and pixel pitch have become smaller, it is expected that the problem of glare on the glass substrate will become more and more prominent in the future. Further, as described above, in the display device, oil or the like easily adheres to the surface of the glass substrate, but there is a problem that the detergency of the oil or the like tends to be deteriorated by applying the anti-glare treatment.
  • an object of the present invention is to provide a glass substrate including an etched surface in which glare is suppressed and excellent in detergency.
  • the present inventors have found that by etching a glass having a specific composition, a glass substrate including an etched surface, which suppresses glare and has excellent detergency, can be obtained.
  • the invention was completed.
  • the gist of the present invention is as follows. 1.
  • the molar percentage is displayed based on the oxide.
  • a region of 285.12 ⁇ m ⁇ 213.77 ⁇ m is measured with a laser microscope to obtain XYZ data of the surface shape.
  • the number of protrusions is obtained when the quantum detection is set to the threshold level of 50.0000 nm after the leveling of the entire surface.
  • the glare S a is quantified by the following method in the etching surface is 8 or less, a glass substrate according to any one of the 1-4.
  • the distance d between the fixed image sensor and the glass plate is 568 mm, and the camera lens uses a 23FM50SP lens having a focal length of 50 mm at the aperture 16.
  • the measurement is performed by the Ratio Image Method (DIM), and 0 is input to the Pixel Radio value to obtain a glare Sa.
  • DIM Ratio Image Method
  • a display device including the glass substrate according to any one of 1 to 6 above. 8.
  • a method for manufacturing a glass substrate, wherein at least one of the main surfaces includes an etching surface having 400 or more and 2000 or less protrusions which is obtained by the following method.
  • a method for manufacturing a glass substrate which comprises a step of frosting the glass substrate containing the above.
  • a region of 285.12 ⁇ m ⁇ 213.77 ⁇ m is measured with a laser microscope to obtain XYZ data of the surface shape.
  • the number of protrusions is obtained when the quantum detection is set to the threshold level of 50.0000 nm after the leveling of the entire surface.
  • the glass substrate of the embodiment of the present invention effectively suppresses glare and exhibits excellent detergency by having a glass matrix composition in a specific range and surface characteristics in a specific range. ..
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing an example of a measuring apparatus used in measuring the glare S a.
  • FIG. 2 is a diagram schematically showing an example of a measuring device used when measuring the reflection image diffusivity index value R.
  • composition of the glass can be simply determined by semi-quantitative analysis by the fluorescence X-ray method, but more accurately, it can be measured by a wet analysis method such as ICP emission spectrometry. Unless otherwise specified, the content of each component shall be expressed as an oxide-based molar percentage.
  • the glass substrate of the embodiment of the present invention has an oxide-based molar percentage display as a matrix composition.
  • SiO 2 50-75% Al 2 O 3 : 0.1 to 25% B 2 O 3 : 0-10% Y 2 O 3 : 0-5%
  • MgO 0 to 20%
  • CaO 0 to 15% Li 2 O: 0 to 15% Na 2 O: 1 to 25%
  • K 2 O 0.1 to 20%
  • SiO 2 is a component constituting the skeleton of glass. In addition, it is a component that increases chemical durability and reduces the occurrence of cracks when the glass surface is scratched (indented).
  • the content of SiO 2 in the glass substrate of this embodiment is 50% or more.
  • the content of SiO 2 is preferably 54% or more, 58% or more, 60% or more, 63% or more, 66% or more, 68% or more in a stepwise manner.
  • the content of SiO 2 in the glass substrate of the present embodiment is 75% or less, preferably 74% or less, more preferably 73% or less, still more preferably 72% or less, particularly preferably 71% or less, most preferably. Is 70% or less.
  • the number of protrusions on the etching surface can be increased, glare can be suppressed, and cleanability can be improved.
  • the content of Al 2 O 3 is 0.1% or more, preferably 0.3% or more and 0.5 in stages. % Or more, 0.7% or more, 0.8% or more, 0.9% or more, 1% or more, 5% or more.
  • the content of Al 2 O 3 in the glass substrate of the present embodiment is 25% or less, preferably 20% or less, more preferably 18% or less, still more preferably 16% or less, and particularly preferably 14% or less. Is.
  • Y 2 O 3 is a component that improves the crushability of chemically strengthened glass, and may be contained.
  • the content is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, further preferably 1.5% or more, and particularly preferably 2 % Or more, most preferably 2.5% or more.
  • the content of Y 2 O 3 in the glass substrate of the present embodiment is 5% or less, preferably 4% or less, and more preferably 3% or less.
  • MgO is a component that increases the surface compressive stress of chemically strengthened glass when chemically strengthened, and is a component that improves crushability, and may be contained.
  • the content is preferably 3% or more, more preferably 4% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more in stages. , 8% or more.
  • the content of MgO in the glass substrate of the present embodiment is 20% or less, preferably 15% or less, more preferably 14% or less, 13% or less, 12% or less, 11% in stages. Below, it is 10% or less.
  • CaO is a component that improves the meltability of glass, and is a component that improves the crushability of chemical glass when chemically strengthened, and may be contained.
  • the content is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, further preferably 2% or more, particularly preferably 3% or more, and most preferably. Is 5% or more.
  • the CaO content in the glass substrate of the present embodiment is set to 15% or less.
  • the CaO content is preferably 10% or less, more preferably 9% or less, still more preferably 8% or less.
  • Li 2 O is also a component that forms surface compressive stress by ion exchange and is a component that improves the crushability of chemically strengthened glass.
  • the content of Li 2 O in the glass substrate of the present embodiment is preferably 3% or more, more preferably 4% or more, still more preferably. Is 5% or more, particularly preferably 6% or more, typically 7% or more.
  • the content of Li 2 O in the glass substrate of the present embodiment exceeds 15%, the acid resistance of the glass is remarkably lowered.
  • the content of Li 2 O is 15% or less, preferably 14% or less, more preferably 13% or less, still more preferably 12% or less, and particularly preferably 11% or less.
  • the magnitude of compressive stress decreases when the Li 2 O content in the glass substrate of the present embodiment exceeds 3%.
  • the content of Li 2 O is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, further preferably 1% or less, particularly preferably 0.5% or less, and most preferably Li 2 O substantially. Does not contain.
  • substantially not contained means that it is not contained except for unavoidable impurities contained in raw materials and the like, that is, it is not intentionally contained. Specifically, it means that the content in the glass composition is less than 0.1 mol%.
  • the number of protrusions on the etching surface can be increased, glare can be suppressed, and detergency can be improved.
  • it is a component that improves the meltability of glass, and forms a surface compressive stress layer when ion exchange is performed.
  • the content of Na 2 O in the glass substrate of the present embodiment is 1% or more, preferably 2% or more, more preferably 3% or more, from the viewpoint of improving the characteristics of the etched surface such as an increase in the number of protrusions. ..
  • the Na 2 O content in the glass substrate of the present embodiment exceeds 25%, the acid resistance of the glass is significantly lowered.
  • the Na 2 O content is 25% or less, preferably 20% or less, more preferably 18% or less, still more preferably 16% or less, and particularly preferably 14% or less.
  • the number of protrusions on the etching surface can be increased, glare can be suppressed, and detergency can be improved. Further, the ion exchange performance can be improved by containing K 2 O.
  • the K 2 O content in the glass substrate of the present embodiment is 0.1% or more, preferably 0.5% or more, more preferably It is 1% or more, more preferably 2% or more, and particularly preferably 3% or more.
  • the K 2 O content in the glass substrate of the present embodiment is 20% or less. ..
  • the K 2 O content is preferably 15% or less, more preferably 12% or less, more preferably 10% or less, particularly preferably 8% or less, and most preferably 6% or less.
  • the content of K 2 O in the glass substrate of the present embodiment is higher than the content of Na 2 O. Less is preferable.
  • the Na 2 O content / K 2 O content is preferably 1.1 or more, more preferably 1.5 or more, still more preferably 2 or more, particularly preferably 2.5 or more, and most preferably 3. That is all.
  • the total content of Na 2 O, K 2 O and Li 2 O (Na 2 O + K 2 O + Li 2 O) in the glass substrate of the present embodiment is preferably 30% or less, more preferably 28% or less, still more preferably. It is 26% or less, particularly preferably 25% or less.
  • Na 2 O + K 2 O + Li 2 O is 30% or less, a decrease in RSm can be suppressed and detergency can be improved.
  • TiO 2 is a component that improves the crushability of chemically strengthened glass when chemically strengthened, and may be contained.
  • the content is preferably 0.1% or more, more preferably 0.15% or more, still more preferably 0.2% or more.
  • the content of TiO 2 in the glass substrate of the present embodiment is 1% or less, preferably 0.8% or less, more preferably 0.5% or less, still more preferably 0.25% or less.
  • ZrO 2 is a component that increases the surface compressive stress due to ion exchange, has the effect of improving the crushability of glass, and may be contained.
  • the content is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more.
  • the content of ZrO 2 in the glass substrate of the present embodiment is 2% or less, preferably 1.8% or less, more preferably 1.6% or less, still more preferably 1.4% or less, and particularly preferably 1. It is 2% or less.
  • B 2 O 3 is a component that improves the chipping resistance of glass and also improves the meltability. B 2 O 3 is not mandatory. When B 2 O 3 is contained in the glass substrate of the present embodiment, the content is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 2% or more in order to improve the meltability. Is.
  • the content of B 2 O 3 in the glass substrate of this embodiment is 10% or less. By setting it to 10% or less, it is possible to suppress the occurrence of veins at the time of melting, and the quality of the glass is unlikely to deteriorate.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 5% or less, more preferably 4% or less, still more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less. It is preferably not contained in order to increase acid resistance.
  • P 2 O 5 is a component that improves ion exchange performance and chipping resistance.
  • P 2 O 5 in the glass substrate of the present embodiment may not be contained, but the content of the case of containing a P 2 O 5 is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, more preferably Is more than 2%.
  • the content of the P 2 O 5 in the glass substrate of the present embodiment is not more than 4%, friability and acid resistance of the chemically tempered glass is improved. Therefore, the content of P 2 O 5 is preferably 4% or less, more preferably 3% or less, still more preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less. It is preferably not contained in order to increase acid resistance.
  • SrO is a component that improves the meltability of the chemically strengthened glass, and is a component that improves the crushability of the chemically strengthened glass, and may be contained.
  • the content is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, further preferably 2% or more, particularly preferably 3% or more, and most preferably 5. % Or more.
  • the SrO content in the glass substrate of the present embodiment exceeds 20%, the ion exchange performance is significantly reduced, so 20% or less is preferable.
  • the content of SrO is more preferably 14% or less, and further preferably 10% or less, 8% or less, 6% or less, 3% or less, 1% or less in a stepwise manner.
  • BaO is a component that improves the meltability of the chemically strengthened glass, and is a component that improves the crushability of the chemically strengthened glass, and may be contained.
  • the content is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, further preferably 2% or more, particularly preferably 3% or more, and most preferably. Is 5% or more.
  • the content of BaO in the glass substrate of the present embodiment is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, 8% or less, 6% or less, 3% or less, 1% or less in stages. ..
  • ZnO is a component that improves the meltability of glass and may be contained.
  • the content is preferably 0.25% or more, more preferably 0.5% or more.
  • the ZnO content in the glass substrate of the present embodiment is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, still more preferably 5% or less, particularly preferably 2% or less, and most preferably 1% or less.
  • La 2 O 3 and Nb 2 O 5 are components that improve the crushability of glass and may be contained.
  • the content of each of these components is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 1.5% or more, and particularly preferably 1.5% or more. Is 2% or more, most preferably 2.5% or more.
  • the contents of La 2 O 3 and Nb 2 O 5 in the glass substrate of the present embodiment are preferably 8% or less, more preferably 6% or less, further preferably 5% or less, and particularly preferably 4% or less, respectively. It is preferably 3% or less.
  • Ta 2 O 5 and Gd 2 O 3 may be contained in a small amount in order to improve the crushability of the glass, but 1% or less is preferable because the refractive index and the reflectance are increased. , 0.5% or less, more preferably not contained.
  • a coloring component may be added within a range that does not hinder the achievement of the desired chemical strengthening properties.
  • the coloring component include Co 3 O 4 , MnO 2 , Fe 2 O 3 , NiO, CuO, Cr 2 O 3 , V 2 O 5 , Bi 2 O 3 , SeO 2 , TIO 2 , CeO 2 , Er 2. O 3 and Nd 2 O 3 and the like are mentioned as suitable ones.
  • the content of the coloring component is preferably in the range of 7% or less in total in terms of molar percentage display based on oxides. If it exceeds 7%, the glass tends to be devitrified, which is not desirable. This content is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, still more preferably 1% or less. When giving priority to the visible light transmittance of glass, it is preferable that these components are not substantially contained.
  • SO 3 may be appropriately contained as a clarifying agent when the glass is melted. It is preferable that As 2 O 3 is not contained. When Sb 2 O 3 is contained, it is preferably 0.3% or less, more preferably 0.1% or less, and most preferably not contained.
  • the glass substrate of the present embodiment can be imparted with antibacterial properties by having silver ions on the surface.
  • Examples of the base composition of the glass substrate of the present embodiment include the following glass compositions. SiO 2 is 55 to 72%, Al 2 O 3 is 0.1 to 18%, B 2 O 3 is 0 to 4%, Y 2 O 3 is 0 to 1%, MgO is 2 to 12%, and CaO is 0. ⁇ 10%, Li 2 O 0 ⁇ 11%, Na 2 O 3 ⁇ 20%, K 2 O 0.1 ⁇ 10%, TiO 2 0 ⁇ 0.2%, ZrO 2 0 ⁇ 1. Glass composition containing 5%.
  • the glass substrate of this embodiment includes an etching surface on at least one of the main surfaces.
  • the "etched surface” refers to a surface from which a certain amount of glass material has been removed by a chemical method (ie, acid etching) to obtain a specific surface texture / roughness.
  • the etched surface of a glass substrate is characterized by its surface and optical properties.
  • the etching surface of the glass substrate of the present embodiment has 400 or more protrusions obtained by the following method.
  • the number of protrusions is obtained when the quantum detection is set to the threshold level of 50.0000 nm after the leveling of the entire surface.
  • the number of protrusions is preferably 500 or more, more preferably 600 or more, still more preferably 700 or more, and particularly preferably 800 or more.
  • the number of protrusions is 2000 or less, preferably 1600 or less, more preferably 1400 or less, and further preferably 1200 or less.
  • the number of protrusions is 400 or more, glare can be suppressed and visibility can be improved.
  • the number of protrusions is 2000 or less, it is possible to suppress a decrease in RSm, which will be described later, and improve detergency.
  • the value of the unevenness average interval (RSm) on the etching surface is preferably 30 or less, more preferably 28 or less, still more preferably 26 or less, and particularly preferably 25 or less. If RSm is 30 or less, can be suppressed glare by reducing the glare S a will be described later.
  • the lower limit of RSm is preferably 5 or more, more preferably 8 or more, further preferably 12 or more, and particularly preferably 15 or more. When RSm is 5 or more, detergency can be improved.
  • the unevenness average interval (RSm) generally refers to the average value of the unevenness period in the roughness curve formed on the cross section of the object to be measured.
  • the average unevenness interval (RSm) can be calculated from a calculation formula based on JIS-B0601 (2013).
  • the arithmetic mean inclination angle (R ⁇ a) on the etching surface is preferably 1.50 or more, more preferably 1.60 or more, still more preferably 1.70 or more under the condition that there is no cutoff value. , Especially preferably 1.80 or more.
  • R ⁇ a is 1.50 or more, glare can be suppressed and visibility can be improved.
  • R ⁇ a is preferably 15 or less, more preferably 12 or less, and further preferably 10 or less. When R ⁇ a is 15 or less, detergency can be improved.
  • R ⁇ a For the arithmetic mean slope angle (R ⁇ a), the contour curve is divided horizontally at regular intervals ⁇ X, the absolute value of the slope (angle) of the line segment connecting the start points of the contour curve in each section is calculated, and the values are averaged.
  • R ⁇ a is measured and calculated using a laser microscope.
  • the number of measurement points shall be a plurality of points, and at least 10 points, preferably 12 or more points.
  • the data analysis may be horizontal or vertical with respect to the measured data.
  • the cutoff value ⁇ s, the phase compensation type high frequency filter ⁇ c and the phase compensation type low frequency filter ⁇ f are absent.
  • the arithmetic mean roughness (Ra) on the etched surface is preferably 0.02 or more, more preferably 0.04 or more, and further preferably 0.06 or more.
  • Ra is preferably 0.50 or less, more preferably 0.40 or less, and further preferably 0.30 or less.
  • Ra when Ra is 0.02 or more, glare can be reduced. When Ra is 0.50 or less, detergency can be improved. Ra can be calculated by a formula according to JIS-B0601 (2013).
  • the maximum height (Rz) of the surface roughness on the etched surface is preferably 0.10 or more, more preferably 0.20 or more, and further preferably 0.30 or more.
  • the Rz is preferably 2.50 or less, more preferably 2.40 or less, still more preferably 2.30 or less.
  • Rz When Rz is 0.10 or more, glare can be reduced. When Rz is 2.50 or less, detergency can be improved. Rz can be calculated by a calculation formula based on JIS-B0601 (2013).
  • the haze ratio of transmitted light in the visible light region measured according to JIS K 7136 (2000) on the etching surface is preferably 0.2% or more, more preferably 0.5% or more. , More preferably 1% or more.
  • the haze rate is preferably 75% or less, more preferably 70% or less, still more preferably 65% or less. When the haze ratio is within the above range, the reflection of light can be significantly suppressed.
  • glare S a As an indicator of glare, using glare S a is measured by the following procedure.
  • the glare S a is scattered by the surface of a glass plate when the light from the display image (image) is transmitted through the glass plate, is scattered light unevenness of bright points caused by the mutual interference, how It indicates whether it is detected, and it has been confirmed that it shows a good correlation with the result of visual glare judgment by the observer. For example, a glass plate having a large glare Sa tends to have a remarkable glare, and a glass plate having a small glare Sa tends to suppress the glare.
  • Glass substrate of the present embodiment glare S a measured by the following method in the etched surface, preferably 8 or less, more preferably 7 or less, more preferably 6 or less, particularly preferably 5 or less.
  • the measurement method of the glare S a will be described.
  • the display device 54 [iPad (TM) -Air2; Resolution 264Ppi] Prepare the.
  • a cover for the purpose of preventing damage may be provided on the display surface side of the display device.
  • the sample to be measured that is, the glass substrate 50 is arranged on the display surface side of the display device.
  • the first main surface 52 which is one of the main surfaces of the glass substrate 50, includes an etching surface
  • the first main surface 52 of the glass substrate 50 is on the opposite side of the display device 54 (the surface brightness measuring device 75 side). It is arranged on the display surface side of the display device so as to be. That is, the second main surface 53, which is the other main surface, is arranged on the display device 54.
  • an analysis device (SMS-1000; manufactured by Display-Mestechnik & System [DM & S]) is used to perform image analysis of the degree of glare of the glass substrate 50.
  • SMS-1000 manufactured by Display-Mestechnik & System [DM & S]
  • glare S a is obtained expressed as Sparkle value.
  • a single green image composed of RGB (0,255,0) is displayed on the entire display screen of the display device 54. This is to minimize the influence of the difference in appearance due to the difference in display color.
  • the distance d between the tip of the image pickup camera lens of the apparatus and the transparent substrate having an antiglare function is 568 mm.
  • the Pixel Ratio value measured at this time (a value indicating how many times the pitch of one pixel of the display device corresponds to the pixel pitch of the imaging camera) is 2.45.
  • a 23FM50SP lens having a focal length of 50 mm has an aperture of 16.
  • the evaluation area ROI is set to 200 ⁇ 200.
  • the measurement is performed by the Ratio Image Method (DIM), and 0 is input to the Pixel Radio value to obtain a glare Sa.
  • DIM Ratio Image Method
  • 0 is input to the Pixel Radio value to obtain a glare Sa.
  • Single Image Method can be carried out the same measurement even (SIM), because the absolute value of the glare S a obtained in this case different, it is necessary to distinguish.
  • the glare S a has been confirmed to exhibit the result of the determination of glare by observer visually good correlation.
  • a transparent substrate having a large glare Sa tends to have a remarkable glare
  • a transparent substrate having a small glare Sa tends to suppress the glare.
  • the mirror surface gloss GS (60 °) (hereinafter abbreviated as G60) of 60 degree mirror surface gloss defined in JIS Z 8741 (1997) on the etching surface is preferably 10 or more. It is preferably 15 or more, more preferably 20 or more.
  • the G60 is preferably 140 or less, more preferably 135 or less, and even more preferably 130 or less.
  • the G60 is preferably 10 or more and 140 or less, more preferably 15 or more and 135 or less, and further preferably 20 or more and 130 or less.
  • Reflective image diffusivity index value R the reflection image diffusive index value measured by the following procedure. Reflection image diffusion indicates how well the reflected image of an object (for example, lighting) placed around the glass plate matches the original object, and is observed. It has been confirmed that it shows a good correlation with the result of visual judgment of antiglare. For example, a glass plate having a small reflection image diffusivity index value R (closer to 0) is inferior in antiglare property, and conversely, a glass having a large reflection image diffusivity index value R (closer to 1 is larger). The board has good anti-glare properties.
  • the reflected image diffusivity index value R on the etching surface is preferably 0.01 or more, more preferably 0.05 or more, and further preferably 0.1 or more. Sufficient antiglare can be obtained when the reflected image diffusivity index value R is in the above range.
  • FIG. 2 schematically shows an example of a measuring device used when measuring the reflection image diffusivity index value R.
  • the measuring device 70 includes a linear light source device 71 and a surface brightness measuring device 75, and a sample to be measured, that is, a glass substrate 50 having an antiglare function (transparent substrate (transparent substrate (transparent substrate)) is contained in the measuring device 70.
  • a transparent substrate (50) having an antiglare function that has been subjected to antiglare processing is arranged.
  • the linear light source device 71 includes a light source 711 and a black flat plate 712, and the black flat plate 712 is provided with a light source 711 at a slit-shaped opening.
  • the glass substrate 50 has a first main surface 52 including an etching surface and a second main surface 53.
  • the linear light source device 71 is arranged toward the glass substrate 50 and in the direction perpendicular to the paper surface in FIG.
  • the surface brightness measuring device 75 is arranged at the center of the linear light source device 71 in the vertical direction of the paper surface and on a plane perpendicularly intersecting with the linear light source device 71.
  • the focus of the surface luminance measuring device 75 is aligned with the image of the linear light source device 71 reflected by the glass substrate 50. That is, the focused surface of the image is aligned with the black flat plate 712.
  • the glass substrate 50 is arranged so that the first main surface 52 is on the side of the linear light source device 71 and the surface luminance measuring device 75.
  • a black plate is arranged on the second main surface 53 side of the glass substrate 50. Therefore, the light detected by the surface luminance measuring device 75 is the reflected light reflected by the glass substrate 50.
  • the light rays coming from this direction are observed by the surface luminance measuring instrument 75 as an image of a portion where the black flat plate 712 and the virtual incident light 733-2 (light rays incident at an incident angle equal to the reflection angle of the light rays 734) intersect. ..
  • the surface brightness measuring device 75 when the surface brightness is acquired by the surface brightness measuring device 75, the light scattered on the first main surface 52 of the glass substrate 50 spreads to the left and right of the emission line centering on the emission line corresponding to the specular reflection of the linear light source device 71. Image is obtained. The luminance cross-section profile in the direction perpendicular to this emission line is extracted. In addition, in order to improve the measurement accuracy, the data may be integrated in the direction parallel to the emission line.
  • the luminance of the first reflected light 732 is specularly reflected among the light incident on the first major surface 52 of the glass substrate 50 and R 1.
  • the incident angle ⁇ i of the first incident light 731 is 5.7 °
  • the reflection angle ⁇ r of the first reflected light 732 is 5.7 °.
  • the angle at which the light beam changes due to reflection by the glass substrate 50 (transparent substrate 50) can be written as ⁇ r ⁇ i, which is 0 °. Since the implementation includes an error, ⁇ r ⁇ i is in the range of 0 ° ⁇ 0.1 °.
  • the reflected image diffusivity index value R shows a good correlation with the visual judgment result of the antiglare property of the observer.
  • the glass substrate 50 having a small (closer to 0) reflection image diffusivity index value R has inferior antiglare properties, and conversely has a large reflection image diffusivity index value R (closer to 1).
  • the glass substrate 50 has good antiglare properties.
  • Such measurement can be performed by using, for example, an apparatus SMS-1000 manufactured by DM & S.
  • a C1614A lens with a focal length of 16 mm is used with an aperture of 5.6.
  • the distance from the first main surface 52 of the transparent substrate 50 constituting the glass substrate 50 to the camera lens is about 300 mm, and the Imaging Scale is set in the range of 0.0276 to 0.0278.
  • the slit-shaped opening formed by the black flat plate 712 of the linear light source device 71 is 101 mm ⁇ 1 mm.
  • the method for producing a glass substrate of the present embodiment includes a step of forming an etching surface by frosting a glass substrate having the above-mentioned mother composition.
  • the frost treatment can be carried out, for example, by immersing a glass substrate as an object to be treated in a mixed solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride, and chemically surface-treating the immersed surface.
  • Examples of the surface treatment carried out for the above purpose include a method of applying a frost treatment to the first main surface of the glass substrate.
  • the frost treatment for example, the first main surface of the glass substrate to be treated is immersed in a mixed solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride, a mixed solution of hydrofluoric acid and potassium fluoride, or the like. This can be done by chemically surface-treating the immersed surface.
  • the method of performing a frost treatment that chemically surface-treats with a chemical solution such as hydrofluoric acid is preferable because microcracks are less likely to occur on the surface to be treated and the mechanical strength is less likely to decrease.
  • Examples of the etching method include a method of immersing a glass plate as an object to be treated in a treatment solution containing hydrogen fluoride as a main component.
  • Examples of the components other than hydrogen fluoride include hydrochloric acid, nitric acid, citric acid, sulfuric acid and the like, and among these, hydrochloric acid and sulfuric acid are particularly preferable. By containing these, it is possible to suppress the reaction between the alkaline component contained in the glass and hydrogen fluoride to cause a local precipitation reaction, and the etching can proceed uniformly in the plane.
  • the glass plate is a glass plate formed by a float method, a down draw method, or the like. Further, not only a glass plate having a flat shape but also a glass plate having a curved surface may be used.
  • the thickness of the glass plate is not particularly limited, and for example, a glass plate having a thickness of 10 mm or less can be used. The thinner the thickness, the lower the absorption of light can be suppressed, which is preferable for applications for the purpose of improving the transmittance.
  • the glass substrate may be a tempered glass plate.
  • the tempered glass plate is a glass plate that has been subjected to a tempering treatment.
  • the strengthening treatment improves the strength of the glass, and makes it possible to reduce the plate thickness while maintaining the strength, for example.
  • a strengthening treatment a treatment for forming a compressive stress layer on the surface of a glass plate is generally known.
  • the means for forming the compressive stress layer on the surface of the glass plate include an air cooling strengthening method (physical strengthening method) and a chemical strengthening method.
  • the thickness of the glass plate subjected to the chemical strengthening treatment is preferably 0.1 to 3.0 mm, particularly preferably 0.3 to 1.5 mm.
  • the physical strengthening treatment and the chemical strengthening treatment of the glass may be performed before forming the etching surface on the main surface of the glass plate, or may be performed after forming the etching surface.
  • Example preparation> [Examples 1 to 14]
  • the glass plate of this embodiment was manufactured by the following procedure.
  • an acid-resistant protective film was attached to the main surface of the glass plate on the side that does not form the etching surface.
  • a frost treatment was performed according to the following procedure to form an etched surface on the glass plate.
  • the glass plate was immersed in an aqueous hydrofluoric acid solution to remove stains adhering to the main surface on the side where the protective film of the glass plate was not attached, and the thickness of the glass plate was adjusted as a pretreatment. Further, the glass plate is immersed in a mixed solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride, and the main surface on the side where the protective film of the glass plate is not attached is frosted to form the main surface of the glass plate. Many fine recesses were formed.
  • the surface shape of the main surface having the etched surface was measured with a laser microscope (manufactured by KEYENCE, trade name VK-X250) for a region of 285.12 ⁇ m ⁇ 213.77 ⁇ m observed with a 50x objective lens.
  • XYZ data was obtained.
  • the image processing software SPIP 6.4.3 manufactured by Image Meterolgy the number of protrusions detected when the quantum detection was set to the threshold level of 50.0000 nm was measured after leveling the entire surface.
  • RSm, R ⁇ a, Ra, Rz The surface shape of the main surface of the glass plate having an etched surface was analyzed by a laser microscope (manufactured by KEYENCE CORPORATION, trade name VK-X250) using a 50x objective lens. RSm, R ⁇ a, Ra, and Rz were obtained by analysis using a multi-file analysis application manufactured by KEYENCE CORPORATION. The measurement of Ra, RSm, and Rz was calculated by a formula according to JIS B 0601 (2013). In the data analysis, the cutoff value ⁇ s, the phase-compensated high-frequency filter ⁇ c, and the phase-compensated low-frequency filter ⁇ f were eliminated.
  • haze rate For the glass plate, the haze ratio (%) on the etched surface was measured. The haze rate was measured using a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., trade name: HZ-V3) in accordance with JIS K 7136 (2000).
  • a glass plate (100 mm ⁇ 100 mm ⁇ 1.3 mmt) is installed so that the first main surface side faces up, and the brightness of the reflected light obtained by radiating a slit-shaped light with a width of 101 mm from above is measured by SMS & S. It was measured by SMS-1000 manufactured by the company. At this time, in order to eliminate the reflected light (back surface reflection) from the second main surface, a matte black plate was installed on the second main surface side.
  • a C1614A lens with a focal length of 16 mm is used with an aperture of 5.6, the distance from the first main surface of the glass plate to the camera lens is set to 300 mm, and the Imaging Scale is set in the range of 0.0276 to 0.0278. did.
  • Examples 1-11 are examples of the present invention are within the mother glass composition is defined, therefore, shape counts, glare S a and RSm is good, glare Was effectively suppressed, and the detergency was excellent.
  • Example 12 is a comparative example not within the specified range the content of K 2 O, the value of shape counts is the prescribed range, glare S a is not preferable.
  • the RSm was also slightly higher than that of the examples.
  • Example 13 is a comparative example, not within the scope of the content of Al 2 O 3 is defined, the value of shape counts is the prescribed range, glare S a and RSm is not preferable.
  • Example 14 which is a comparative example, the total content of Na 2 O, K 2 O and Li 2 O was 30% or more, and the shape count value was out of the specified range.
  • RSm was also lower than that of Examples, suggesting that it was inferior in detergency.

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Abstract

本発明の実施形態は、特定の母組成を有し、かつ主表面の少なくとも一方に、２８５．１２μｍ×２１３．７７μｍの領域のレーザー顕微鏡で測定した表面形状のＸＹＺデータをＩｍａｇｅ　Ｍｅｔｒｏｌоｇｙ社製画像処理ソフトウェアＳＰＩＰを用いて形状解析して得られる突起数が４００個以上２０００個以下であるエッチング面を含む、ガラス基板に関する。

Description

ガラス基板、表示装置、及びガラス基板の製造方法
　本発明は、表示装置等に用いられる、ぎらつきが抑制され、かつ洗浄性に優れたガラス基板、および該ガラス基板を備える表示装置、ないし該ガラス基板の製造方法に関する。
　近年、例えば、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）装置等の表示装置の表示面側には、該表示装置の保護のため、ガラスで構成されたカバーが配置される。
　しかしながら、表示装置上にこのようなガラス板を設置した場合、ガラス板を介して表示装置の表示画を視認しようとした際に、ガラス板に、しばしば周辺に置かれているものの映り込みが発生する場合がある。ガラス板にそのような映り込みが生じると、表示画の視認者は、表示画を視認することが難しくなる上、不快な印象を受けるようになる。
　このような映り込みを抑制するため、例えば、ガラス板の表面に、凹凸形状を形成するアンチグレア処理を施すことが試みられている。アンチグレア処理には、例えば、ガラス板表面をエッチングする（例えば、特許文献１参照。）、ガラス板表面に凹凸形状を有する膜を形成する（例えば、特許文献２参照。）等の手段が挙げられる。
　一方で、このような表示装置においては、カバーをなすガラス基板表面に人の指等が触れる機会が多く、人の指等が触れた場合に、ガラス基板表面に脂等が付着し易い。そして、脂等が付着した場合には視認性に影響を及ぼすことから、従来、アンチグレア処理が施されたガラス基板の表面に防汚処理が施されたものが用いられている。
国際公開第２０１４／１１９４５３号 米国特許第８００３１９４号明細書
　アンチグレア処理により、上記したように映り込みが抑制され、反射を低減するとともに、防汚効果が得られる一方で、ぎらつきが生じたり、耐洗浄性が低下するといったデメリットが生じ得る。ガラス基板上にぎらつきが生じると、表示画の視認者は、表示画を視認することが難しくなる上、不快な印象を受けるようになる。
　ぎらつきは、ガラス基板のアンチグレア処理された表面の粗さが、表示装置の画素間のピッチよりも大きい場合や、ガラス基板の表面凸凹サイズの不均一、凸凹深さの不均一等がある場合に顕著になる。表示装置の高精細化とともに、画素サイズも画素ピッチも小さくなってきているため、今後、ガラス基板のぎらつきの問題は、ますます顕著になるものと予想される。また、上記したように、表示装置においてはガラス基板表面に脂等が付着し易いが、アンチグレア処理を施すことにより脂等の洗浄性が低下しやすいという問題がある。
　したがって、本発明は、ぎらつきが抑制され、かつ洗浄性に優れたエッチング面を含む、ガラス基板の提供を目的とする。
　上記課題について、本発明者らは、特定の組成を有するガラスをエッチング処理することにより、ぎらつきが抑制され、かつ洗浄性に優れた、エッチング面を含むガラス基板が得られることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明の要旨は以下の通りである。
１．母組成として、酸化物基準のモル百分率表示で、
　ＳｉＯ２：５０～７５％
　Ａｌ２Ｏ３：０．１～２５％
　Ｂ２Ｏ３:０～１０％
　Ｙ２Ｏ３：０～５％
　ＭｇＯ：０～２０％
　ＣａＯ：０～１５％
　Ｌｉ２Ｏ：０～１５％
　Ｎａ２Ｏ：１～２５％
　Ｋ２Ｏ：０．１～２０％
　ＴｉＯ２：０～１％
　ＺｒＯ２：０～２％
を含有し、かつ
　主表面の少なくとも一方に、下記方法により求められる突起数が４００個以上２０００個以下であるエッチング面を含む、ガラス基板。
　方法：２８５．１２μｍ×２１３．７７μｍの領域をレーザー顕微鏡で測定して表面形状のＸＹＺデータを得る。Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｒｏｌоｇｙ社製画像処理ソフトウェアＳＰＩＰを用いた前記ＸＹＺデータの形状解析において、全体面のレベリング後、量子検出を閾値レベル５０．００００ｎｍとしたときの突起数を求める。
２．前記エッチング面における凹凸平均間隔ＲＳｍの値が３０以下である、前記１に記載のガラス基板。
３．前記エッチング面における算術平均傾斜角ＲΔａが、カットオフ値なしの条件で、１．５０以上である、前記１又は２に記載のガラス基板。
４．前記エッチング面におけるＪＩＳ　Ｋ　７１３６（２０００年）に準拠する方法で測定した透過光のヘーズ率が０．２～７５％である、前記１～３のいずれか１に記載のガラス基板。
５．前記エッチング面における下記方法で定量化されるぎらつきＳａが８以下である、前記１～４のいずれか１に記載のガラス基板。
　方法：解像度２６４ｐｐｉである表示装置の表示面側に、前記エッチング面が接するようにガラス板を配置する。前記表示装置にＲＧＢ（０，２５５，０）で構成される緑単色の画像を表示させた状態で、前記ガラス板の上方に設置したＤＭ＆Ｓ社製ＳＭＳ―１０００を用いた画像解析により求められたＳｐａｒｋｌｅ値をぎらつきＳａとする。固定撮像素子と前記ガラス板との間の距離ｄは５６８ｍｍとし、カメラレンズは焦点距離が５０ｍｍの２３ＦＭ５０ＳＰレンズを絞り１６で使用する。測定はＤｉｆｆｅｒｅｎｃｅ　Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｈｏｄ（ＤＩＭ）で行い、Ｐｉｘｅｌ　Ｒａｔｉｏ値に０を入力し、ぎらつきＳａを得る。
６．前記母組成は、酸化物基準のモル百分率表示で、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ及びＬｉ２Ｏの合計含有量が３０％未満である前記１～５のいずれか１に記載のガラス基板。
７．前記１～６のいずれか１に記載のガラス基板を備える表示装置。
８．主表面の少なくとも一方に、下記方法により求められる突起数が４００個以上２０００個以下であるエッチング面を含む、ガラス基板の製造方法であって、酸化物基準のモル百分率表示で、
　ＳｉＯ２：５０～７５％
　Ａｌ２Ｏ３：０．１～２５％
　Ｂ２Ｏ３:０～１０％
　Ｙ２Ｏ３：０～５％
　ＭｇＯ：０～２０％
　ＣａＯ：０～１５％
　Ｌｉ２Ｏ：０～１５％
　Ｎａ２Ｏ：１～２５％
　Ｋ２Ｏ：０．１～２０％
　ＴｉＯ２：０～１％
　ＺｒＯ２：０～２％
を含有するガラス基板をフロスト処理する工程を含む、ガラス基板の製造方法。
　方法：２８５．１２μｍ×２１３．７７μｍの領域をレーザー顕微鏡で測定して表面形状のＸＹＺデータを得る。Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｒｏｌоｇｙ社製画像処理ソフトウェアＳＰＩＰを用いた前記ＸＹＺデータの形状解析において、全体面のレベリング後、量子検出を閾値レベル５０．００００ｎｍとしたときの突起数を求める。
　本発明の実施形態のガラス基板は、ガラスの母組成が特定範囲の組成であり、かつ、特定範囲の表面特性を有することにより、ぎらつきを効果的に抑制し、かつ優れた洗浄性を示す。
図１は、ぎらつきＳａを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示す図である。 図２は、反射像拡散性指標値Ｒを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示す図である。
　以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
＜ガラスの母組成＞
　ガラスの組成は、簡易的には蛍光エックス線法による半定量分析によって求めることも可能であるが、より正確には、ＩＣＰ発光分析等の湿式分析法により測定できる。なお、各成分の含有量は、特に断りのない限り、酸化物基準のモル百分率表示で表すものとする。
　本発明の実施形態のガラス基板は、母組成として、酸化物基準のモル百分率表示で、
　ＳｉＯ２：５０～７５％
　Ａｌ２Ｏ３：０．１～２５％
　Ｂ２Ｏ３:０～１０％
　Ｙ２Ｏ３：０～５％
　ＭｇＯ：０～２０％
　ＣａＯ：０～１５％
　Ｌｉ２Ｏ：０～１５％
　Ｎａ２Ｏ：１～２５％
　Ｋ２Ｏ：０．１～２０％
　ＴｉＯ２：０～１％
　ＺｒＯ２：０～２％
を含有することを特徴とする。
　ＳｉＯ２はガラスの骨格を構成する成分である。また、化学的耐久性を上げる成分であり、ガラス表面に傷（圧痕）がついた時のクラックの発生を低減させる成分である。
　本実施形態のガラス基板におけるＳｉＯ２の含有量は５０％以上である。ＳｉＯ２の含有量は、好ましくは、以下、段階的に、５４％以上、５８％以上、６０％以上、６３％以上、６６％以上、６８％以上である。
　一方、ＳｉＯ２の含有量が７５％超であると溶融性が著しく低下する。そのため、本実施形態のガラス基板におけるＳｉＯ２の含有量は７５％以下であり、好ましくは７４％以下、より好ましくは７３％以下、さらに好ましくは７２％以下、特に好ましくは７１％以下、最も好ましくは７０％以下である。
　本実施形態のガラス基板はＡｌ２Ｏ３を含有することにより、エッチング面における突起数を増加させて、ぎらつきを抑制し、かつ洗浄性を向上できる。突起数の増加などのエッチング面の特性を向上する点から、Ａｌ２Ｏ３の含有量は０．１％以上であり、好ましくは、以下、段階的に、０．３％以上、０．５％以上、０．７％以上、０．８％以上、０．９％以上、１％以上、５％以上である。
　一方、Ａｌ２Ｏ３の含有量が２５％超であるとガラスの耐酸性が低下し、または失透温度が高くなる。また、ガラスの粘性が増大し溶融性が低下する。そのため、本実施形態のガラス基板におけるＡｌ２Ｏ３の含有量は、２５％以下であり、好ましくは２０％以下、より好ましくは１８％以下、さらに好ましくは１６％以下、特に好ましくは１４％以下である。
　Ｙ２Ｏ３は、化学強化ガラスの破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板にＹ２Ｏ３を含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは１．５％以上、特に好ましくは２％以上、最も好ましくは２．５％以上である。
　Ｙ２Ｏ３の含有量は５％超であると溶融時にガラスが失透しやすくなり品質が低下する場合がある。そのため、本実施形態のガラス基板におけるＹ２Ｏ３の含有量は、５％以下であり、好ましくは４％以下、より好ましくは３％以下である。
　ＭｇＯは、化学強化する際に化学強化ガラスの表面圧縮応力を増大させる成分であり、破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板にＭｇＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは３％以上であり、より好ましくは、以下、段階的に、４％以上、５％以上、６％以上、７％以上、８％以上である。
　一方、ＭｇＯの含有量が２０％超であるとガラスが溶融時に失透しやすくなる。そのため、本実施形態のガラス基板におけるＭｇＯの含有量は２０％以下であり、好ましくは１５％以下、より好ましくは、以下、段階的に、１４％以下、１３％以下、１２％以下、１１％以下、１０％以下である。
　ＣａＯは、ガラスの溶融性を向上させる成分であり、化学強化する際に化学ガラスの破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板にＣａＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上、最も好ましくは５％以上である。
　一方、ＣａＯの含有量が１５％超となるとイオン交換性能が低下するため、本実施形態のガラス基板におけるＣａＯの含有量は１５％以下とする。ＣａＯの含有量は、好ましくは１０％以下、より好ましくは９％以下、さらに好ましくは８％以下である。
　Ｌｉ２Ｏは、またイオン交換により表面圧縮応力を形成させる成分であり、化学強化ガラスの破砕性を改善する成分である。ガラス表面のＬｉイオンをＮａイオンに交換する化学強化処理を行う場合、本実施形態のガラス基板におけるＬｉ２Ｏの含有量は、好ましくは３％以上であり、より好ましくは４％以上、さらに好ましくは５％以上、特に好ましくは６％以上、典型的には７％以上である。
　一方、本実施形態のガラス基板におけるＬｉ２Ｏの含有量が１５％超ではガラスの耐酸性が著しく低下する。Ｌｉ２Ｏの含有量は、１５％以下であり、好ましくは１４％以下、より好ましくは１３％以下、さらに好ましくは１２％以下、特に好ましくは１１％以下である。
　一方、ガラス表面のＮａイオンをＫイオンに交換する化学強化処理を行う場合、本実施形態のガラス基板におけるＬｉ２Ｏの含有量が３％超であると、圧縮応力の大きさが低下する場合がある。この場合、Ｌｉ２Ｏの含有量は、３％以下が好ましく、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下、最も好ましくはＬｉ２Ｏを実質的に含有しない。
　なお、本明細書において「実質的に含有しない」とは、原材料等に含まれる不可避の不純物を除いて含有しない、すなわち、意図的に含有させたものではないことを意味する。具体的には、ガラス組成中の含有量が、０．１モル％未満であることを指す。
　Ｎａ２Ｏを含有することにより、エッチング面における突起数を増加させて、ぎらつきを抑制し、かつ洗浄性を向上できる。また、ガラスの溶融性を向上させる成分であり、イオン交換する場合には表面圧縮応力層を形成させる。
　突起数の増加などのエッチング面の特性を向上する点から、本実施形態のガラス基板におけるＮａ２Ｏの含有量は１％以上であり、好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上である。
　一方、本実施形態のガラス基板におけるＮａ２Ｏの含有量が２５％超ではガラスの耐酸性が著しく低下する。耐酸性の点から、Ｎａ２Ｏの含有量は２５％以下であり、好ましくは２０％以下、より好ましくは１８％以下、さらに好ましくは１６％以下、特に好ましくは１４％以下である。
　Ｋ２Ｏを含有することにより、エッチング面における突起数を増加させて、ぎらつきを抑制し、かつ洗浄性を向上できる。また、Ｋ２Ｏを含有することによりイオン交換性能を向上できる。
　突起数の増加などのエッチング面の特性を向上する点から、本実施形態のガラス基板におけるＫ２Ｏの含有量は、０．１％以上であり、好ましくは０．５％以上、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。
　一方、Ｋ２Ｏの含有量が２０％超であると、突起数の低下など、エッチング面の特性が低下するため、本実施形態のガラス基板におけるＫ２Ｏの含有量は２０％以下である。Ｋ２Ｏの含有量は、好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以下、さらに好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％以下、最も好ましくは６％以下である。
　Ｋ２Ｏの含有量がＮａ２Ｏの含有量を超えるとエッチング面の突起数が不十分となることから、本実施形態のガラス基板におけるＫ２Ｏの含有量はＮａ２Ｏの含有量より少ないことが好ましい。例えば、Ｎａ２Ｏの含有量／Ｋ２Ｏの含有量は、１．１以上が好ましく、より好ましくは１．５以上、さらに好ましくは２以上、特に好ましくは２．５以上、最も好ましくは３以上である。
　本実施形態のガラス基板におけるＮａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ及びＬｉ２Ｏの含有量の合計（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＋Ｌｉ２Ｏ）は、３０％以下が好ましく、より好ましくは２８％以下、さらに好ましくは２６％以下、特に好ましくは２５％以下である。Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＋Ｌｉ２Ｏが３０％以下であることにより、ＲＳｍの低下を抑制し、洗浄性を向上できる。
　ＴｉＯ２は、化学強化する際に化学強化ガラスの破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板においてＴｉＯ２を含有させる場合の含有量は、好ましくは０．１％以上であり、より好ましくは０．１５％以上、さらに好ましくは０．２％以上である。
　一方、ＴｉＯ２の含有量が１％超であると溶融時に失透しやすくなり、化学強化ガラスの品質が低下する恐れがある。本実施形態のガラス基板におけるＴｉＯ２の含有量は１％以下であり、好ましくは０．８％以下、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．２５％以下である。
　ＺｒＯ２は、イオン交換による表面圧縮応力を増大させる成分であり、ガラスの破砕性を改善する効果があり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板においてＺｒＯ２を含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上である。
　一方、ＺｒＯ２の含有量が２％超であると溶融時に失透しやすくなり、品質が低下する恐れがある。本実施形態のガラス基板におけるＺｒＯ２の含有量は２％以下であり、好ましくは１．８％以下、より好ましくは１．６％以下、さらに好ましくは１．４％以下、特に好ましくは１．２％以下である。
　Ｂ２Ｏ３は、ガラスのチッピング耐性を向上させ、また溶融性を向上させる成分である。Ｂ２Ｏ３は必須ではない。本実施形態のガラス基板においてＢ２Ｏ３を含有させる場合の含有量は、溶融性を向上するために好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは２％以上である。
　一方、本実施形態のガラス基板におけるＢ２Ｏ３の含有量は１０％以下である。１０％以下とすることにより溶融時に脈理が発生するのを抑制し、ガラスの品質が低下しにくい。Ｂ２Ｏ３の含有量は、好ましくは５％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以下であり、特に好ましくは１％以下である。耐酸性を高くするためには含有しないことが好ましい。
　Ｐ２Ｏ５は、イオン交換性能およびチッピング耐性を向上させる成分である。本実施形態のガラス基板においてＰ２Ｏ５は含有させなくてもよいが、Ｐ２Ｏ５を含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは２％以上である。
　一方、本実施形態のガラス基板におけるＰ２Ｏ５の含有量が４％以下であることにより、化学強化ガラスの破砕性及び耐酸性が向上する。そのため、Ｐ２Ｏ５の含有量は、好ましくは４％以下、より好ましくは３％以下、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。耐酸性を高くするためには含有しないことが好ましい。
　ＳｒＯは、化学強化用ガラスの溶融性を向上する成分であり、化学強化ガラスの破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板にＳｒＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上、最も好ましくは５％以上である。
　一方、本実施形態のガラス基板におけるＳｒＯの含有量が２０％超となるとイオン交換性能が著しく低下するため、２０％以下が好ましい。ＳｒＯの含有量は、より好ましくは１４％以下であり、さらに好ましくは、以下、段階的に、１０％以下、８％以下、６％以下、３％以下、１％以下である。
　ＢａＯは、化学強化用ガラスの溶融性を向上する成分であり、化学強化ガラスの破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板においてＢａＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上、最も好ましくは５％以上である。
　一方、ＢａＯの含有量が１５％超となるとイオン交換性能が著しく低下する。本実施形態のガラス基板におけるＢａＯの含有量は、１５％以下が好ましく、より好ましくは、以下、段階的に、１０％以下、８％以下、６％以下、３％以下、１％以下である。
　ＺｎＯはガラスの溶融性を向上させる成分であり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板においてＺｎＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは０．２５％以上であり、より好ましくは０．５％以上である。
　一方、ＺｎＯの含有量が１０％超となるとガラスの耐候性が著しく低下する。本実施形態のガラス基板におけるＺｎＯの含有量は、１０％以下が好ましく、より好ましくは７％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。
　Ｌａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５は、ガラスの破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。本実施形態のガラス基板において、これらの成分を含有させる場合のそれぞれの含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは１．５％以上、特に好ましくは２％以上、最も好ましくは２．５％以上である。
　一方、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５の含有量がそれぞれ８％超であると、溶融時にガラスが失透しやすくなりガラスの品質が低下する恐れがある。本実施形態のガラス基板におけるＬａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５の含有量はそれぞれ、８％以下が好ましく、より好ましくは６％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好ましくは４％以下、最も好ましくは３％以下である。
　本実施形態のガラス基板において、Ｔａ２Ｏ５、Ｇｄ２Ｏ３は、ガラスの破砕性を改善するために少量含有してもよいが、屈折率や反射率が高くなるので１％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、含有しないことがさらに好ましい。
　さらに、ガラスに着色を行い使用する際は、所望の化学強化特性の達成を阻害しない範囲において着色成分を添加してもよい。着色成分としては、例えば、Ｃｏ３Ｏ４、ＭｎＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｃｒ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｅＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｅｒ２Ｏ３、及びＮｄ２Ｏ３等が好適なものとして挙げられる。
　本実施形態のガラス基板において、着色成分の含有量は、酸化物基準のモル百分率表示で、合計で７％以下の範囲が好ましい。７％を超えるとガラスが失透しやすくなり望ましくない。この含有量は好ましくは５％以下であり、より好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下である。ガラスの可視光透過率を優先させる場合は、これらの成分は実質的に含有しないことが好ましい。
　本実施形態のガラス基板において、ガラスの溶融の際の清澄剤として、ＳＯ３、塩化物、及びフッ化物などを適宜含有してもよい。Ａｓ２Ｏ３は含有しないことが好ましい。Ｓｂ２Ｏ３を含有する場合は、０．３％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましく、含有しないことが最も好ましい。
　また、本実施形態のガラス基板は、銀イオンを表面に有することで、抗菌性を付与できる。
　本実施形態のガラス基板の母組成としては、例えば、以下のガラス組成が挙げられる。
　ＳｉＯ２を５５～７２％、Ａｌ２Ｏ３を０．１～１８％、Ｂ２Ｏ３を０～４％、Ｙ２Ｏ３を０～１％、ＭｇＯを２～１２％、ＣａＯを０～１０％、Ｌｉ２Ｏを０～１１％、Ｎａ２Ｏを３～２０％、Ｋ２Ｏを０．１～１０％、ＴｉＯ２を０～０．２％、ＺｒＯ２を０～１．５％含有するガラス組成。
　本実施形態のガラス基板は主表面の少なくとも一方に、エッチング面を含む。本発明において、「エッチング面」とは、化学的な方法（すなわち酸エッチング）によってある量のガラス材料が除去されて、特定の表面テクスチャー／粗さが得られた表面を指す。ガラス基板のエッチング面は、その表面特性および光学特性によって特徴付けられる。
＜表面特性＞
　本実施形態のガラス基板におけるエッチング面の表面特性について以下説明する。
（シェイプカウント）
　本実施形態のガラス基板におけるエッチング面は、下記方法により求められる突起数が４００個以上である。方法：２８５．１２μｍ×２１３．７７μｍの領域をレーザー顕微鏡で測定して表面形状のＸＹＺデータを得る。Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｒｏｌоｇｙ社製画像処理ソフトウェアＳＰＩＰを用いた前記ＸＹＺデータの形状解析において、全体面のレベリング後、量子検出を閾値レベル５０．００００ｎｍとしたときの突起数を求める。
　前記突起数は、好ましくは５００個以上、より好ましくは６００個以上、さらに好ましくは７００個以上、特に好ましくは８００個以上である。また、前記突起数は２０００個以下であり、好ましくは１６００個以下、より好ましくは１４００個以下、さらに好ましくは１２００個以下である。
　突起数が４００個以上であると、ぎらつきを抑制し、視認性を向上できる。突起数が２０００個以下であると、後述するＲＳｍの低下を抑制し、洗浄性を向上できる。
（ＲＳｍ）
　本実施形態のガラス基板は、エッチング面における凹凸平均間隔（ＲＳｍ）の値は、３０以下が好ましく、より好ましくは２８以下、さらに好ましくは２６以下、特に好ましくは２５以下である。ＲＳｍが３０以下であると、後述するぎらつきＳａを低減してぎらつきを抑制できる。
　ＲＳｍの下限としては、好ましくは５以上、より好ましくは８以上、さらに好ましくは１２以上、特に好ましくは１５以上である。ＲＳｍが５以上であると洗浄性を向上できる。
　凹凸平均間隔（ＲＳｍ）とは、一般的に、測定対象物の断面に形成された粗さ曲線における凹凸周期の平均値を指す。なお、凹凸平均間隔（ＲＳｍ）は、ＪＩＳ－Ｂ０６０１（２０１３年）に準じた計算式から算出できる。
（ＲΔａ）
　本実施形態のガラス基板は、エッチング面における算術平均傾斜角（ＲΔａ）が、カットオフ値なしの条件で、１．５０以上が好ましく、より好ましくは１．６０以上、さらに好ましくは１．７０以上、特に好ましくは１．８０以上である。ＲΔａが１．５０以上であると、ぎらつきを抑制し、視認性を向上できる。
　本実施形態のガラス基板において、ＲΔａは好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは１０以下である。ＲΔａが１５以下であると、洗浄性を向上できる。
　算術平均傾斜角（ＲΔａ）は、輪郭曲線を一定間隔ΔＸで横方向に区切り、各区間内における輪郭曲線の終始点を結ぶ線分の傾き（角度）の絶対値を求め、その値を平均したものを指す。ＲΔａはレーザー顕微鏡を用いて測定、算出する。測定箇所は複数箇所とし、少なくとも１０箇所、好ましくは１２箇所以上とする。
　測定手順としては、線粗さ解析を選択し、任意の位置で解析を行う。データ解析は、測定データに対して横方向でもよいし、縦方向でもよい。データ解析は、カットオフ値λｓ、位相補償形高域フィルタλｃ及び位相補償形低域フィルタλｆは、無しとする。
（Ｒａ）
　本実施形態のガラス基板は、エッチング面における算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０２以上が好ましく、より好ましくは０．０４以上、さらに好ましくは０．０６以上である。
　また、本実施形態のガラス基板において、Ｒａは、０．５０以下が好ましく、より好ましくは０．４０以下、さらに好ましくは０．３０以下である。
　本実施形態のガラス基板において、Ｒａが０．０２以上であると、ぎらつきを低減できる。Ｒａが０．５０以下であると、洗浄性を向上できる。
　ＲａはＪＩＳ－Ｂ０６０１（２０１３年）に準じた計算式で算出できる。
（Ｒｚ）
　本実施形態のガラス基板は、エッチング面における表面粗さの最大高さ（Ｒｚ）は、０．１０以上が好ましく、より好ましくは０．２０以上、さらに好ましくは０．３０以上である。
　また、本実施形態のガラス基板において、Ｒｚは２．５０以下が好ましく、より好ましくは２．４０以下、さらに好ましくは２．３０以下である。
　Ｒｚが０．１０以上であると、ぎらつきを低減できる。Ｒｚが２．５０以下であると、洗浄性を向上できる。ＲｚはＪＩＳ－Ｂ０６０１（２０１３年）に準じた計算式で算出できる。
＜光学特性＞
（ヘーズ率）
　本実施形態のガラス基板は、エッチング面におけるＪＩＳ　Ｋ　７１３６（２０００年）に準じて測定した可視光領域の透過光のヘーズ率は、０．２％以上が好ましく、より好ましくは０．５％以上、さらに好ましくは１％以上である。また、上記ヘーズ率は、７５％以下が好ましく、より好ましくは７０％以下、さらに好ましくは６５％以下である。ヘーズ率が前記範囲であると、光の映りこみを有意に抑制できる。
（ぎらつきＳａ）
　本願明細書では、ぎらつきの指標として、以下の手順で測定されるぎらつきＳａを用いる。ぎらつきＳａとは、表示画像からの光（像）がガラス板を透過する際にガラス板表面によって散乱され、散乱された光が相互に干渉することによって生じる輝点のムラが、どの程度検出されるかを表すものであり、観察者の目視によるぎらつきの判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、ぎらつきＳａが大きなガラス板は、ぎらつきが顕著であり、逆にぎらつきＳａが小さなガラス板は、ぎらつきが抑制される傾向にある。
　本実施形態のガラス基板は、エッチング面における下記方法により測定したぎらつきＳａは、８以下が好ましく、より好ましくは７以下、さらに好ましくは６以下、特に好ましくは５以下である。
　図１を参照し、ぎらつきＳａの測定方法について説明する。ぎらつきＳａを測定する際には、まず、表示装置５４［ｉＰａｄ（登録商標）－Ａｉｒ２；解像度２６４ｐｐｉ］を準備する。表示装置の表示面側には、破損防止目的等のカバーを備えてもよい。
　次に、表示装置の表示面側に、被測定試料、すなわちガラス基板５０が配置される。なお、ガラス基板５０の一方の主面である第１主面５２にエッチング面を含む場合、ガラス基板５０は、この第１主面５２が表示装置５４の反対側（面輝度測定器７５側）になるようにして、表示装置の表示面側に配置される。すなわち他方の主面である、第２主面５３を表示装置５４上に配置する。
　次に、表示装置をＯＮにして画像を表示させた状態で、解析装置（ＳＭＳ－１０００；Ｄｉｓｐｌａｙ－Ｍｅｓｓｔｅｃｈｎｉｋ＆Ｓｙｓｔｅｍｅ［ＤＭ＆Ｓ］社製）を使用して、ガラス基板５０のぎらつき度合いを画像解析する。これにより、Ｓｐａｒｋｌｅ値として表されるぎらつきＳａが求められる。
　なお、測定に際して、ＲＧＢ（０，２５５，０）で構成される緑単色の像が、表示装置５４の表示画面全体に表示されることが好ましい。表示色の違いによる見え方の違い等の影響を極力小さくするためである。装置の撮像カメラレンズ先端と防眩機能を有する透明基体との間の距離ｄは５６８ｍｍとする。この時測定したＰｉｘｅｌ　Ｒａｔｉｏ値（表示装置の１画素のピッチが撮像カメラの画素ピッチの何倍に相当するかを表す値）は２．４５となる。カメラレンズとしては、焦点距離が５０ｍｍの２３ＦＭ５０ＳＰレンズが絞り１６とする。評価領域ＲＯＩは２００×２００に設定する。測定はＤｉｆｆｅｒｅｎｃｅ　Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｈｏｄ（ＤＩＭ）で行い、Ｐｉｘｅｌ　Ｒａｔｉｏ値に０を入力し、ぎらつきＳａを得る。なお、Ｓｉｎｇｌｅ　Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｈｏｄ（ＳＩＭ）でも同様の測定を行うことが出来るが、この場合に得られるぎらつきＳａの絶対値は異なるので、区別する必要がある。
　この、ぎらつきＳａは、観察者の目視によるぎらつきの判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、ぎらつきＳａが大きな透明基体は、ぎらつきが顕著であり、逆にぎらつきＳａが小さな透明基体は、ぎらつきが抑制される傾向にある。
（Ｇ６０）
　本実施形態のガラス基板は、エッチング面におけるＪＩＳ　Ｚ　８７４１（１９９７年）に定められた６０度鏡面光沢の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）（以下、Ｇ６０と略す）は、１０以上が好ましく、より好ましくは１５以上、さらに好ましくは２０以上である。また、Ｇ６０は、１４０以下が好ましく、より好ましくは１３５以下、さらに好ましくは１３０以下である。また、Ｇ６０は、１０以上１４０以下が好ましく、より好ましくは１５以上１３５以下、さらに好ましくは２０以上１３０以下である。Ｇ６０が前記範囲であることにより、光の映り込みが抑制される。
（反射像拡散性指標値Ｒ）
　本願明細書では、防眩性の指標として、以下の手順で測定される反射像拡散性指標値（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ　ｉｍａｇｅ　ｄｉｆｆｕｓｉｖｅｎｅｓｓ　ｉｎｄｅｘ　ｖａｌｕｅ）Ｒを用いる。反射像拡散性（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ　ｉｍａｇｅ　ｄｉｆｆｕｓｉｖｅｎｅｓｓ　ｉｎｄｅｘ　ｖａｌｕｅ）とは、ガラス板の周辺に置かれている物体（例えば照明）の反射像が、元の物体とどの程度一致しているかを表すものであり、観察者の目視による防眩性の判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、反射像拡散性指標値Ｒが小さな（０に近い）値を示すガラス板は防眩性が劣り、逆に反射像拡散性指標値Ｒが大きな値（１に近いほど大きい）を示すガラス板は、良好な防眩性を有する。
　本実施形態のガラス基板は、エッチング面における反射像拡散性指標値Ｒは、０．０１以上が好ましく、より好ましくは０．０５以上、さらに好ましくは０．１以上である。反射像拡散性指標値Ｒが前記範囲であることにより十分な防眩性が得られる。
　図２を参照し、ガラス基板５０の反射像拡散性指標値Ｒの測定方法について説明する。図２には、反射像拡散性指標値Ｒを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示す。
　図２に示すように、測定装置７０は、線状光源装置７１および面輝度測定器７５を有し、測定装置７０内に、被測定試料、すなわち防眩機能を有するガラス基板５０（透明基体（または防眩加工が施された防眩機能を有する透明基体）５０）が配置される。線状光源装置７１は、光源７１１と黒色平板７１２からなり、黒色平板７１２にスリット状の開口部に光源７１１が設けられている。ガラス基板５０は、エッチング面を含む第１主面５２と、第２主面５３とを有する。線状光源装置７１は、ガラス基板５０に向かい、かつ図２で紙面に垂直方向に配置される。面輝度測定器７５は線状光源装置７１の紙面垂直方向中央で、線状光源装置７１と垂直に交わる平面上に配置される。面輝度測定器７５の焦点は、ガラス基板５０で反射した線状光源装置７１の像に合わせる。つまり、像の焦点があう面を黒色平板７１２に一致させる。ここで線状光源装置７１から入射してガラス基板５０で反射し、面輝度測定器７５に入射した光のうち、入射角θｉと反射角θｒが等しい光線（以下、第１の入射光７３１，第１の反射光７３２とする）に着目すると、θｉ＝θｒ＝５．７°である。
　なお、ガラス基板５０は、第１主面５２が線状光源装置７１および面輝度測定器７５の側となるように配置される。ガラス基板５０の第２主面５３側には黒色板を配置する。従って、面輝度測定器７５が検出する光は、ガラス基板５０で反射された反射光である。
　次に、測定方法について説明する。例えば入射角θｉと反射角θｒの差θｒ－θｉ＝０．５°である光線７３３，７３４に着目すると、この光線７３４はガラス基板５０で、正反射から０．５°ずれた方向に散乱された成分を表す。この方向から来る光線は、面輝度測定器７５では、黒色平板７１２と仮想入射光７３３－２（入射角が光線７３４の反射角と等しい角度から入射する光線）が交わる部分の像として観測される。つまり面輝度測定器７５で面輝度を取得すると、線状光源装置７１の正反射に対応する輝線を中心に、ガラス基板５０の第１主面５２で散乱された光が前記輝線の左右に広がった画像が得られる。この輝線に垂直な方向の輝度断面プロファイルを抽出する。なお、測定精度を上げるために輝線に平行な方向にデータを積算してもよい。
　まず、ガラス基板５０の第１主面５２に入射した光のうち正反射される第１の反射光７３２の輝度をＲ１とする。第１の入射光７３１の入射角θｉは５．７°、第１の反射光７３２の反射角θｒは５．７°である。ガラス基板５０（透明基体５０）による反射によって光線が変化する角度はθｒ－θｉと書け、０°である。実施には誤差が含まれるので、θｒ－θｉは０°±０．１°の範囲となる。
　次に、入射角θｉと反射角θｒの差θｒ－θｉ＝０．５°である光線７３３，７３４の輝度をＲ２とする。この光線はガラス基板５０（透明基体５０）で、正反射から０．５°ずれた方向に散乱された成分を表す。実際には誤差が含まれるので、θｒ－θｉ＝０．５°±０．１°である。
　同様にθｒ－θｉ＝－０．５°である光線７３５，７３６の輝度をＲ３とする。この光線はガラス基板５０（透明基体５０）で、正反射から－０．５°ずれた方向に散乱された成分を表す。実際には誤差が含まれるので、θｒ－θｉ＝－０．５°±０．１°である。
　得られた各輝度Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３を用いて、以下の式（Ｉ）により、ガラス基板５０の反射像拡散性指標値Ｒが算出される。
　反射像拡散性指標値Ｒ＝（Ｒ２＋Ｒ３）／（２×Ｒ１）　　式（Ｉ）
　反射像拡散性指標値Ｒは、観察者の目視による防眩性の判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、反射像拡散性指標値Ｒが小さな（０に近い）値を示すガラス基板５０は防眩性が劣り、逆に反射像拡散性指標値Ｒが大きな値（１に近いほど大きい）を示すガラス基板５０は、良好な防眩性を有する。
　なお、このような測定は、例えば、ＤＭ＆Ｓ社製の装置ＳＭＳ－１０００を使用することにより実施できる。この装置を使用する場合、カメラレンズの焦点距離が１６ｍｍのＣ１６１４Ａレンズが絞り５．６で使用する。また、ガラス基板５０を構成する透明基体５０の第１主面５２からカメラレンズまでの距離は、約３００ｍｍであり、Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｓｃａｌｅは、０．０２７６～０．０２７８の範囲に設定される。線状光源装置７１の黒色平板７１２により形成されるスリット状開口部は１０１ｍｍ×１ｍｍである。
＜製造方法＞
　本実施形態のガラス基板の製造方法は、上記した母組成のガラス基板をフロスト処理することによりエッチング面を形成する工程を含む。フロスト処理は、例えば、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液に、被処理体であるガラス基板を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することで実施できる。
　上記の目的で実施する表面処理としては、例えば、ガラス基板の第１主面にフロスト処理を施す方法が挙げられる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液、あるいは、フッ化水素酸とフッ化カリウムの混合溶液等に、被処理体であるガラス基板の第１主面を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することで実施できる。特に、フッ化水素酸等の薬液を用いて化学的に表面処理するフロスト処理を施す方法では、被処理面にマイクロクラックが生じ難く、機械的強度が低下しにくいため好ましい。
　このようにして凹凸を作成した後に、表面形状を整えるために、ガラス表面を化学的にエッチングすることが好ましい。こうすることで、サンドブラスト処理等で生じたクラックを除去でき、またギラツキを効果的に抑制できる。
　エッチングの方法としては、例えば、フッ化水素を主成分とする処理溶液に、被処理体であるガラス板を浸漬する方法が挙げられる。フッ化水素以外の成分としては、例えば、塩酸、硝酸、クエン酸、及び硫酸等が挙げられ、これらの中でも特に塩酸、硫酸が好ましい。これらを含有することで、ガラスに入っているアルカリ成分とフッ化水素とが反応して析出反応が局所的に生じることを抑制し、エッチングを面内均一に進行できる。
　ガラス板は、フロート法やダウンドロー法等により成形されたガラス板である。また、平坦な形状のガラス板のみでなく、曲面を有する形状のガラス板でもよい。ガラス板の厚みは特に限定されず、例えば、厚み１０ｍｍ以下のガラス板を使用できる。厚みが薄いほど光の吸収を低く抑えられるため、透過率向上を目的とする用途にとって好ましい。
　ガラス基板は、強化ガラス板であってもよい。強化ガラス板は、強化処理が施されたガラス板である。強化処理により、ガラスの強度が向上し、たとえば強度を維持しながら板厚みを削減することが可能となる。強化処理としては、ガラス板表面に圧縮応力層を形成させる処理が一般的に知られている。ガラス板表面に圧縮応力層を形成する手段としては、例えば、風冷強化法（物理強化法）と、化学強化法が挙げられる。
　化学強化処理が施されるガラス板の板厚みは、０．１～３．０ｍｍが好ましく、０．３～１．５ｍｍが特に好ましい。ガラスの物理強化処理及び化学強化処理は、ガラス板の主面にエッチング面を形成する前に行ってもよく、形成した後に行ってもよい。
　以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
＜試料作製＞
［例１～１４］
　以下の手順により、本実施形態のガラス板を製造した。ガラス基板として強化していない表１に示す組成のガラス板（サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．０ｍｍ）を用いた。
　まず、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のエッチング面を形成しない側の主面に貼合した。次いで、以下の手順でフロスト処理を行い、ガラス板にエッチング面を形成した。
　ガラス板を、フッ化水素酸水溶液に浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを調整した。さらに、ガラス板をフッ化水素酸とフッ化アンモニウムとの混合溶液に浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行い、ガラス板の主面に微細な凹部を多数形成した。
＜評価方法＞
　上記の例１～１４で作製したガラス板の特性を以下の方法により評価した。結果を表１に示す。例１～１１は実施例であり、例１２～１４は比較例である。また、表１中の「－」は未測定であることを示す。
（シェイプカウント）
　ガラス板について、エッチング面を有する主面の表面形状を、５０倍の対物レンズで観察される２８５．１２μｍ×２１３．７７μｍの領域についてレーザー顕微鏡（キーエンス社製、商品名ＶＫ－Ｘ２５０）で測定してＸＹＺデータを得た。Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｒｏｌоｇｙ社製画像処理ソフトウェアＳＰＩＰ６．４．３を用いた該ＸＹＺデータの形状解析において、全体面のレベリング後、量子検出を閾値レベル５０．００００ｎｍとしたとき検出される突起の数を測定した。
（ＲＳｍ、ＲΔａ、Ｒａ、Ｒｚ）
　ガラス板について、エッチング面を有する主面の表面形状を、レーザー顕微鏡（キーエンス社製、商品名ＶＫ－Ｘ２５０）によって、５０倍の対物レンズを用いて解析した。ＲＳｍ、ＲΔａ、Ｒａ、Ｒｚを、キーエンス社製マルチファイル解析アプリケーションを用いた解析によって得た。Ｒａ、ＲＳｍ、Ｒｚの測定はＪＩＳ　Ｂ　０６０１（２０１３年）に準じた計算式で算出した。データ解析は、カットオフ値λｓ、位相補償形高域フィルタλｃ及び位相補償形低域フィルタλｆは、無しとした。
（ヘーズ率）
　ガラス板について、エッチング面におけるヘーズ率（％）の測定をした。ヘーズ率の測定は、ヘーズメーター（スガ試験機株式会社製、商品名：ＨＺ－Ｖ３）を用いてＪＩＳ　Ｋ　７１３６（２０００年）に準拠して行った。
（反射像拡散性指標値Ｒ）
　ガラス板（１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．３ｍｍｔ）を、第１主面側が上になるように設置し、その上方から１０１ｍｍ幅のスリット状の光を放射して得られた反射光の輝度を、ＤＭ＆Ｓ社製ＳＭＳ－１０００により測定した。この際、第２の主面からの反射光（裏面反射）をなくすために、第２の主面側に艶消しの黒色板を設置した。カメラレンズは焦点距離が１６ｍｍのＣ１６１４Ａレンズを絞り５．６で使用し、ガラス板の前記第１主面からカメラレンズまでの距離は３００ｍｍ、Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｓｃａｌｅは０．０２７６～０．０２７８の範囲に設定した。
　前記ガラス板の厚さ方向と平行な方向を角度φ＝０゜とした時に、角度φ＝５．７°±０．１°の角度から前記光を放射し、全反射する際の角度φ＝－５．７°を基準（角度α＝０°）とした。角度α＝０°±０．１°の範囲の反射光の輝度の平均値をＲ１、角度α＝０．５°±０．１°の範囲の反射光の輝度の平均値をＲ２、角度α＝－０．５°±０．１°の範囲の反射光の輝度の平均値をＲ３とした場合に、下記式（１）により算出される値を反射像拡散性指標値Ｒとした。
　　反射像拡散性指標値Ｒ＝（Ｒ２＋Ｒ３）／（２×Ｒ１）　　式（１）
（ぎらつきＳａ）
　解像度２６４ｐｐｉである表示装置［ｉＰａｄ（登録商標）－Ａｉｒ、アップル社製］の表示面側に、ガラス板（１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．６ｍｍｔ）の第２の主面が接するように設置した。前記表示装置にＲＧＢ（０，２５５，０）で構成される緑単色の画像を表示させた状態で、前記ガラス板の上方に設置したＤＭ＆Ｓ社製ＳＭＳ－１０００を用いた画像解析により求められたＳｐａｒｋｌｅ値をぎらつきＳａとした。固定撮像素子と前記ガラス板との間の距離ｄは５４０ｍｍとし、カメラレンズは焦点距離が５０ｍｍの２３ＦＭ５０ＳＰレンズを絞り１６で使用した。
（Ｇ６０）
　ガラス板のエッチング面におけるＪＩＳ　Ｚ　８７４１（１９９７年）に準拠して６０度鏡面光沢の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）を求めた。測定はコニカミノルタ製Ｒｈｏｐｏｉｎｔ　ＩＱ－Ｓを用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、本発明の実施例である例１～１１は、ガラスの母組成が規定の範囲内であり、そのため、シェイプカウント、ぎらつきＳａ及びＲＳｍが良好であり、ぎらつきが効果的に抑制され、洗浄性に優れていた。
　一方、比較例である例１２はＫ２Ｏの含有量が規定範囲内になく、シェイプカウントの値が規定範囲外となり、ぎらつきＳａが好ましくなかった。また、ＲＳｍも実施例と比較してやや高くなっていた。
　また、比較例である例１３は、Ａｌ２Ｏ３の含有量が規定の範囲内になく、シェイプカウントの値が規定範囲外となり、ぎらつきＳａ及びＲＳｍが好ましくなかった。
　さらに、比較例である例１４は、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ及びＬｉ２Ｏの合計含有量が３０％以上であり、シェイプカウントの値が規定範囲外となっていた。また、ＲＳｍも実施例と比較して低く、洗浄性に劣ることが示唆された。
　以上、図面を参照しながら各種の実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。また、発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上記実施の形態における各構成要素を任意に組み合わせてもよい。
　なお、本出願は、２０２０年１月３０日出願の日本特許出願（特願２０２０－０１３６９５）に基づくものであり、その内容は本出願の中に参照として援用される。
　５０　ガラス基板（透明基体）
　５２　第１主面
　５３　第２主面
　５４　表示装置
　７０　測定装置
　７１　線状光源装置
　７５　面輝度測定器
　７１１　光源
　７１２　黒色平板
　７３１　第１の入射光
　７３２　第１の反射光
　７３３、７３４、７３５、７３６　光線
　７３３－２　仮想入射光
　θｉ　入射角
　θｒ　反射角

Claims (8)

  1. 　母組成として、酸化物基準のモル百分率表示で、
    　ＳｉＯ２：５０～７５％
    　Ａｌ２Ｏ３：０．１～２５％
    　Ｂ２Ｏ３:０～１０％
    　Ｙ２Ｏ３：０～５％
    　ＭｇＯ：０～２０％
    　ＣａＯ：０～１５％
    　Ｌｉ２Ｏ：０～１５％
    　Ｎａ２Ｏ：１～２５％
    　Ｋ２Ｏ：０．１～２０％
    　ＴｉＯ２：０～１％
    　ＺｒＯ２：０～２％
    を含有し、かつ
    　主表面の少なくとも一方に、下記方法により求められる突起数が４００個以上２０００個以下であるエッチング面を含む、ガラス基板。
    　方法：２８５．１２μｍ×２１３．７７μｍの領域をレーザー顕微鏡で測定して表面形状のＸＹＺデータを得る。Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｒｏｌоｇｙ社製画像処理ソフトウェアＳＰＩＰを用いた前記ＸＹＺデータの形状解析において、全体面のレベリング後、量子検出を閾値レベル５０．００００ｎｍとしたときの突起数を求める。
  2. 　前記エッチング面における凹凸平均間隔ＲＳｍの値が３０以下である、請求項１に記載のガラス基板。
  3. 　前記エッチング面における算術平均傾斜角ＲΔａが、カットオフ値なしの条件で、１．５０以上である、請求項１又は２に記載のガラス基板。
  4. 　前記エッチング面におけるＪＩＳ　Ｋ　７１３６（２０００年）に準拠する方法で測定した透過光のヘーズ率が０．２～７５％である、請求項１～３のいずれか１項に記載のガラス基板。
  5. 　前記エッチング面における下記方法で定量化されるぎらつきＳａが８以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載のガラス基板。
    　方法：解像度２６４ｐｐｉである表示装置の表示面側に、前記エッチング面が接するようにガラス板を配置する。前記表示装置にＲＧＢ（０，２５５，０）で構成される緑単色の画像を表示させた状態で、前記ガラス板の上方に設置したＤＭ＆Ｓ社製ＳＭＳ―１０００を用いた画像解析により求められたＳｐａｒｋｌｅ値をぎらつきＳａとする。固定撮像素子と前記ガラス板との間の距離ｄは５６８ｍｍとし、カメラレンズは焦点距離が５０ｍｍの２３ＦＭ５０ＳＰレンズを絞り１６で使用する。測定はＤｉｆｆｅｒｅｎｃｅ　Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｈｏｄ（ＤＩＭ）で行い、Ｐｉｘｅｌ　Ｒａｔｉｏ値に０を入力し、ぎらつきＳａを得る。
  6. 　前記母組成は、酸化物基準のモル百分率表示で、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ及びＬｉ２Ｏの合計含有量が３０％未満である請求項１～５のいずれか１項に記載のガラス基板。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載のガラス基板を備える表示装置。
  8. 　主表面の少なくとも一方に、下記方法により求められる突起数が４００個以上２０００個以下であるエッチング面を含む、ガラス基板の製造方法であって、酸化物基準のモル百分率表示で、
    　ＳｉＯ２：５０～７５％
    　Ａｌ２Ｏ３：０．１～２５％
    　Ｂ２Ｏ３:０～１０％
    　Ｙ２Ｏ３：０～５％
    　ＭｇＯ：０～２０％
    　ＣａＯ：０～１５％
    　Ｌｉ２Ｏ：０～１５％
    　Ｎａ２Ｏ：１～２５％
    　Ｋ２Ｏ：０．１～２０％
    　ＴｉＯ２：０～１％
    　ＺｒＯ２：０～２％
    を含有するガラス基板をフロスト処理する工程を含む、ガラス基板の製造方法。
    　方法：２８５．１２μｍ×２１３．７７μｍの領域をレーザー顕微鏡で測定して表面形状のＸＹＺデータを得る。Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｒｏｌоｇｙ社製画像処理ソフトウェアＳＰＩＰを用いた前記ＸＹＺデータの形状解析において、全体面のレベリング後、量子検出を閾値レベル５０．００００ｎｍとしたときの突起数を求める。
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