TWI842898B - 玻璃基體及車載顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明係關於一種玻璃基體，該玻璃基體具有：具有第1主面及與上述第1主面對向之第2主面之一對主面；沿著與上述一對主面正交之方向配置之端面；及配置於上述第1主面與上述端面之間之連接面；且上述連接面具有複數個孔，距上述第1主面20 μm之部分中之上述孔之50%粒徑與距上述端面20 μm之部分中之上述孔之50%粒徑的差為10 μm以下。

Description

玻璃基體及車載顯示裝置

本發明係關於一種玻璃基體及車載顯示裝置。

一直以來於顯示裝置中，為了保護液晶面板等顯示面板而使用有保護罩構件。

為了提高顯示面板之視認性，大多於保護罩構件中設置抗反射層或防污層等功能層。 又，為了提高設計性或隱蔽配線，大多於保護罩構件之外周部設置遮光層。

且說，於汽車等車輛中搭載有汽車導航裝置等車載顯示裝置、或後座用車載顯示裝置(具體而言，用於供後座乘坐者來視聽影像等之後座娛樂(RSE)裝置)。RSE裝置大多安裝於前座之背面側來使用。

於該等車載顯示裝置中，就保護顯示面板之觀點而言，亦設置有保護罩構件，近年來，就質感之觀點而言，期望使用玻璃製之保護罩構件而並非膜製之保護罩構件。

對於用作車載顯示裝置之保護罩構件之玻璃基體，就安全性之觀點而言，要求當發生車輛之碰撞事故等交通事故時，即便與乘坐者之頭部等碰撞亦不至於破裂之高耐衝擊性。 尤其是於乘坐者之頭部自相對於保護罩構件主面之斜方向而並非垂直方向與保護罩構件之端部碰撞的情形時，存在保護罩構件以該端部為起點發生破裂之情形。

專利文獻1中揭示有可藉由如下方式來提高對於來自斜方向之碰撞之端部耐衝擊性，即，使配置於主面與側面之間之交界面具有複數個凹部，且使上述凹部底部之曲率之頻度分佈中之最大曲率的頻度未達3%。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特願2017-192590號

[發明所欲解決之問題]

然而，本發明者等人發現，於應用上述技術之情形時，存在以下問題。 即，發現當於應用上述專利文獻1中所記載之技術之玻璃基體之主面之外周部及交界面設置有印刷層時，存在印刷層之外周端之直線性變差，而有損外觀之情形。

又，發現當於應用上述專利文獻1中所記載之技術之玻璃基體之主面及交界面設置有功能層時，存在設置有功能層之主面、與設置有功能層之交界面之色調不同，而有損外觀之情形。

因此，本發明之目的在於提供一種提高對於來自斜方向之碰撞之端部耐衝擊性，且亦提高印刷層或功能層之外觀之玻璃基體。 [解決問題之技術手段]

本發明者等人為了解決上述問題進行了銳意研究，結果完成了本發明。 即，本發明之玻璃基體具有：具有第1主面及與上述第1主面對向之第2主面之一對主面；沿著與上述一對主面正交之方向配置之端面；及配置於上述第1主面與上述端面之間之連接面；且上述連接面具有複數個孔，距上述主面20 μm之部分中之上述孔之50%粒徑與距上述端面20 μm之部分中之上述孔之50%粒徑的差為10 μm以下。 [發明之效果]

根據本發明，可獲得一種提高對於來自斜方向之碰撞之端部耐衝擊性，且亦提高印刷層或功能層之外觀之玻璃基體。

首先，對於發展至本實施形態之經過進一步詳細地進行說明。本發明者等人發現，當於應用專利文獻1中所記載之技術之玻璃基體之主面之外周部及交界面設置有印刷層時，存在印刷層之外周端之直線性變差，而有損外觀之情形。 又，發現當於應用上述專利文獻1中所記載之技術之玻璃基體之主面及交界面設置有功能層時，存在設置有功能層之主面、與設置有功能層之交界面之色調不同，而有損外觀之情形。

本發明者等人進行了銳意研究，結果推定出以下因素。 即，推定出當於應用專利文獻1中所記載之技術之玻璃基體之主面及交界面設置有印刷層時，由於上述交界面之一部分過於平滑，故上述印刷層之外周端與玻璃基體之接觸角降低，於上述交界面上印刷層之外周端之一部分滑落，由此導致直線性受損。

又，推定出當於應用專利文獻1中所記載之技術之玻璃基體設置功能層時，由於上述玻璃基體之交界面之一部分過於平滑，故導致上述功能層產生光學干涉，而使得主面與交界面之色調變得不同。

另一方面，若交界面過於粗糙，則對於來自斜方向之碰撞之端部耐衝擊性降低。

本發明者等人基於上述推定發現，根據以下技術，可維持對於來自斜方向之碰撞之端部耐衝擊性，且亦可提高印刷層或功能層之外觀。 即，本發明之玻璃基體具有：具有第1主面及第2主面之一對主面；沿著與上述一對主面正交之方向配置之端面；及配置於上述第1主面與上述端面之間之連接面；且上述連接面具有複數個孔，距上述第1主面20 μm之部分中之上述孔之50%粒徑與距上述端面20 μm之部分中之上述孔之50%粒徑的差為10 μm以下。

上述第1主面與上述連接面所成之角度較佳為40度以上55度以下。若處於該範圍內，則可更加提高印刷層之直線性。

上述第1主面與上述連接面之交界曲線之曲率半徑R較佳為350 μm以下，又，較佳為50 μm以上。若處於該範圍內，則可進一步提高印刷層之直線性。

存在於上述連接面之表面之孔之粒徑的分散較佳為5 μm以下，又，較佳為1 μm以上。若處於該範圍內，則可抑制端部耐衝擊性之不均。又，可減少功能層之光學干涉，從而減少主面與連接面之色差。又，可減少因孔徑過於一致而導致散射光配向。

上述孔之90%粒徑較佳為10 μm以上。若處於該範圍內，則可進一步抑制端部耐衝擊性之不均。

以下，對本實施形態之各構成之詳情進行說明。

(玻璃基體) 作為可用作玻璃基體之玻璃，可列舉：以二氧化矽作為主成分之一般玻璃，例如包含鈉鈣矽酸鹽玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃、石英玻璃等玻璃之基體。

玻璃基體之組成較佳為能夠實現成形或利用化學強化處理之強化之組成，更佳為包含鈉。

玻璃基體之組成並無特別限定，可使用具有各種各樣之組成之玻璃。例如可列舉：以氧化物基準之莫耳%記法計具有以下組成之鋁矽酸鹽玻璃。 (i)含有SiO₂ 50～80%、Al₂ O₃ 2～25%、Li₂ O 0～20%、Na₂ O 0～18%、K₂ O 0～10%、MgO 0～15%、CaO 0～5%、Y₂ O₃ 0～5%及ZrO₂ 0～5%之玻璃 (ii)含有SiO₂ 50～74%、Al₂ O₃ 1～10%、Na₂ O 6～14%、K₂ O 3～11%、MgO 2～15%、CaO 0～6%及ZrO₂ 0～5%，且SiO₂ 及Al₂ O₃ 之含量之合計為75%以下，Na₂ O及K₂ O之含量之合計為12～25%，MgO及CaO之含量之合計為7～15%之玻璃 (iii)含有SiO₂ 68～80%、Al₂ O₃ 4～10%、Na₂ O 5～15%、K₂ O 0～1%、MgO 4～15%及ZrO₂ 0～1%之玻璃 (iv)含有SiO₂ 67～75%、Al₂ O₃ 0～4%、Na₂ O 7～15%、K₂ O 1～9%、MgO 6～14%及ZrO₂ 0～1.5%，且SiO₂ 及Al₂ O₃ 之含量之合計為71～75%，Na₂ O及K₂ O之含量之合計為12～20%，且於含有CaO之情形時其含量未達1%之玻璃。

玻璃基體之製造方法並無特別限定。可藉由如下方式進行製造：將所需之玻璃原料投入至熔融爐中，於1500～1600℃下進行加熱熔融，澄清後供給至成形裝置，將熔融玻璃成形為板狀，並使之緩冷。再者，玻璃基體之成形方法並無特別限定，例如可使用：下拉法(例如：溢流下拉法、流孔下引法、再曳引法等)、浮式法、輾平法、壓製法等。

為了提高玻璃基體之強度，較佳為實施化學強化處理。 於實施化學強化處理之情形時，較佳為於下述之倒角及蝕刻處理之後來進行。

化學強化處理之方法並無特別限定，對玻璃基體之主面進行離子交換，而形成會殘留壓縮應力之表面層。具體而言，於玻璃轉移點以下之溫度下，將基體之主面附近之玻璃中所含有之離子半徑較小的鹼金屬離子(例如：Li離子、Na離子)置換為離子半徑更大之鹼金屬離子(例如，相對於Li離子為Na離子或K離子，相對於Na離子為K離子)。藉此，於玻璃基體之主面殘留壓縮應力，而使玻璃基體之強度提高。

玻璃基體較佳為滿足以下所示之條件。再者，此類條件可藉由進行上述化學強化處理而滿足。 即，玻璃基體之表面壓縮應力(以下，稱為CS)較佳為400 MPa以上1200 MPa以下，更佳為700 MPa以上900 MPa以下。若CS為400 MPa以上，則作為實用上之強度足夠。又，若CS為1200 MPa以下，則可承受本身之壓縮應力，並無自然地遭到破壞之顧慮。玻璃基體之CS進而較佳為700 MPa以上850 MPa以下。

進而，玻璃基體之應力層之深度(以下，稱為DOL)較佳為15 μm以上50 μm，更佳為20 μm以上40 μm。若DOL為15 μm以上，則即便使用玻璃切割機等銳利之治具，亦無容易產生劃痕而遭到破壞之顧慮。又，若DOL為40 μm以下，則可承受基體本身之壓縮應力，並無自然地遭到破壞之顧慮。玻璃基體之DOL進而較佳為25 μm以上35 μm以下。

於玻璃基體含有Li₂ O之情形時，藉由實施化學強化處理2次以上，可進一步提高強度。 具體而言，例如於第1次處理中，例如使上述玻璃基體與主要含有硝酸鈉鹽之無機鹽組合物進行接觸，進行Na與Li之離子交換。繼而，於第2次處理中，例如使上述玻璃基體與主要含有硝酸鉀鹽之無機鹽組合物進行接觸，進行K與Na之離子交換。藉此可形成DOL較深，表面應力較高之壓縮應力層，故較佳。

玻璃基體之厚度可視用途而適當選擇。例如，較佳為0.1 mm以上5 mm以下，更佳為0.2 mm以上2 mm以下，進而較佳為0.7 mm以上1.5 mm以下。 於對玻璃基體進行上述化學強化處理之情形時，為了有效地進行該處理，玻璃基體之厚度通常較佳為5 mm以下，更佳為3 mm以下。

又，玻璃基體之尺寸可視用途而適當選擇。於用於汽車導航裝置等車載顯示裝置之情形時，玻璃基體之尺寸較佳為50 mm×100 mm以上2000×1500 mm以下，且厚度為0.5 mm以上4 mm以下。 於用於RSE裝置等之情形時，玻璃基體之尺寸較佳為100 mm×100 mm以上400×600 mm以下，且厚度為0.5 mm以上4 mm以下。

玻璃基體之形狀不僅可為平坦之形狀，亦可為如具有一處以上之彎曲部之基體之具有曲面之形狀。最近，出現了顯示裝置之顯示面被製成曲面者。

於玻璃基體具有曲面之情形時，玻璃基體表面可整體由曲面所構成，亦可由曲面之部分與平坦之部分所構成。作為整個表面由曲面所構成之情形時之例，例如可列舉玻璃基體之剖面為圓弧狀之情形。

於玻璃基體具有曲面之情形時，其曲率半徑(以下，亦稱為「玻璃基體之R」)可視玻璃基體之用途、種類等而適當設定，並無特別限定，較佳為25000 mm以下，更佳為1 mm以上5000 mm以下，進而較佳為5 mm以上3000 mm以下。若玻璃基體之R為上述上限值以下，則與平板相比設計性優異。若玻璃基體之R為上述下限值以上，則於曲面表面亦可均勻地形成功能層。

本實施形態之玻璃基體之至少一主面亦可經防眩處理(亦稱為「抗眩(anti-glare)處理」、「AG處理」)。防眩處理方法並無特別限定，可利用如下方法：對玻璃基體之主面實施表面處理而形成所需凹凸。

具體而言，可列舉對玻璃基體之主面進行化學處理之方法、例如實施凍結處理之方法。凍結處理例如能夠藉由如下方式實施：於氟化氫與氟化銨之混合溶液中浸漬作為被處理體之玻璃基體以對浸漬面進行化學表面處理。

又，除此種利用化學處理之方法以外，亦可應用如下利用物理處理之方法，例如：將結晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等利用加壓空氣吹送至玻璃基體之表面之所謂噴砂處理；或利用附著有結晶二氧化矽粉、碳化矽粉等之刷子經水潤濕者進行研磨等。

尤其是於實施使用氟化氫等藥液來進行化學表面處理之凍結處理之方法中，由於被處理體表面不易產生微裂，不易產生機械強度之降低，故可適宜地用作實施玻璃基體之表面處理之方法。再者，於玻璃基體之藉由防眩處理而形成有凹凸之表面亦可具有最大深度未達3 μm之微裂。其原因在於：若為該程度，則不易引起機械強度降低。

如此藉由化學表面處理(凍結處理)或物理表面處理而製成凹凸後，為了整理表面形狀，通常對玻璃表面進行化學蝕刻。藉此，可藉由蝕刻量將霧度調整為所需值，可去除因噴砂處理等產生之裂痕，又，可抑制閃耀。

蝕刻可較佳地使用如下方法：將作為被處理體之玻璃基體浸漬於以氟化氫作為主成分之溶液中。作為氟化氫以外之成分，亦可含有鹽酸、硝酸、檸檬酸等酸。藉由含有酸，可抑制進入至玻璃中之陽離子成分與氟化氫反應而局部地引起析出反應，而可面內均勻地進行蝕刻。

關於AG處理後之表面形狀，表面粗糙度(RMS)較佳為0.01 μm以上0.5 μm以下，更佳為0.01 μm以上0.3 μm以下，進而較佳為0.01 μm以上0.2 μm以下。 RMS可依據JIS B 0601(2001)中所規定之方法來測定。具體而言，藉由如下方式算出：藉由雷射顯微鏡(基恩士公司製造，商品名：VK-9700)，對於試樣之測定面，設定270 μm×200 μm之視野範圍，測定基板之高度資訊，並進行臨界值修正，求出所獲得之高度之均方根。於進行該測定時，臨界值較佳為使用0.08 mm。又，試樣表面所觀察到之孔之大小較佳為10 μm以下。藉由處於此種範圍內，能夠兼具防閃耀性及防眩性。

於實施防眩處理之情形時，較佳為於下述之倒角之前實施。

(連接面) 本實施形態之玻璃基體具有一對主面；沿著與一對主面正交之方向配置之端面；及配置於上述主面與上述端面之間之連接面。 此處，所謂「正交之方向」，意指上述主面之於上述端面附近之切面、與包含上述端面之平面所成之角度成為大致90度的位置關係。

上述連接面亦可與上述主面及上述端面具有超過0度且未達180度之角度來相交。於該情形時，上述連接面與上述主面相交之角度較佳為40度以上55度以下，更佳為42度以上52度以下，進而較佳為44度以上49度以下。若處於該範圍內，則即便印刷層之外周端、與上述連接面之接觸角較小，亦可抑制印刷層之端部於連接面滑落，而變得容易維持印刷層之直線性。

上述連接面亦可與上述主面順滑地連接。於該情形時，上述主面與上述連接面之交界曲線之曲率半徑(以下，亦稱為「交界曲線之R」)較佳為50 μm以上350 μm以下，更佳為70 μm以上350 μm以下，進而較佳為90 μm以上300 μm以下。藉由設為此種範圍，即便印刷層之外周端、與上述連接面之接觸角較小，亦可抑制印刷層之端部於連接面滑落，而變得容易維持印刷層之直線性。

上述連接面之粗糙度(JIS B0601(2001)中所規定之Ra)較佳為0.05 μm以上0.5 μm以下，更佳為0.07 μm以上0.45 μm以下，進而較佳為0.1 μm以上0.4 μm以下。若處於該範圍內，則可維持端部耐衝擊性，且維持印刷層之外周端與連接面之接觸角較高，或可減少功能層之於連接面之光學干涉。

上述連接面具有複數個凹部(孔)。當自法線方向觀察連接面時，孔亦可呈大致圓形狀。各孔之交界部亦可呈銳利之突起形狀(亦稱為隆起緣)。孔之粒徑係基於雷射顯微鏡之測定結果，根據以下之順序算出。首先，求出連接面表面之各測定點距離基準面之高度。基準面係進行過傾斜修正者，且係與表面之最小平方平面平行者。繼而，將高度之累積分佈(數量基準)中與累積數90%對應之高度設為基準高度。即，基準高度係指如下高度，即，當將測定點以高度之順序排列並以高度自低到高之順序計數測定點之累積數時，該累積數成為測定點之總數之90%時的高度。

繼而，將雷射顯微鏡之圖像二值化成高度超過基準高度之部分、與高度為基準高度以下之部分。如此，將每個高度為基準高度以下且相連之部分定義為孔。每個孔均求出長邊方向尺寸(長徑)及與長邊方向尺寸正交之方向之尺寸(短徑)，算出長徑及短徑之均方根(長徑之平方與短徑之平方之平均值之平方根)。將所算出之均方根設為各孔之孔徑(粒徑)。

孔徑之累積分佈(數量基準)中與累積數90%對應之孔徑較佳為40 μm以下。

孔之粒徑之分散較佳為5 μm以下，更佳為4 μm以下。藉由設為該範圍，可獲得減少端部耐衝擊性之不均之效果。又，孔之粒徑之分散較佳為1 μm以上，更佳為1.5 μm以上。藉由處於該範圍內，可獲得如下效果，即減少孔徑過於一致而導致散射光配向。

關於存在於上述連接面之表面之孔，距上述主面20 μm之部分中之50%粒徑與距上述端面20 μm之部分中之50%粒徑的差較佳為10 μm以下，更佳為7 μm以下。所謂距主面20 μm之部分，係指距主面之外周端20 μm之部分。又，所謂距端面20 μm之部分，係指距端面之外周端20 μm之部分。藉由處於該範圍內，可獲得具有端部耐衝擊性並且可使色調變得均勻之效果。 此處，所謂50%粒徑，係指於孔徑之累積分佈(數量基準)中與累積數50%對應之孔徑。

上述連接面較佳為處於上述端面之兩側。藉由設置於兩側，可更加提高端部耐衝擊性。

於上述連接面處於上述端面之兩側之情形時，形狀於兩側可不同。例如，組裝至顯示裝置時對於處於人側之主面側之連接面可設為曲線狀(R倒角)，對於處於殼體側之主面側之連接面可設為直線狀(C倒角)。

上述連接面之形成方法並無特別限定，例如可藉由如下方式獲得：實施利用磨石對端面進行研磨之倒角後，使用含有酸之蝕刻液來實施蝕刻處理。

倒角中，於玻璃基體形成端面及連接面。 倒角方法並無特別限定，可使用公知之方法，例如可適宜地列舉利用使用磨石之研磨之方法。作為磨石，例如可使用旋轉磨石等。 作為旋轉磨石之一例，形成有於圓周方向上延伸之環狀研削槽，且研削槽之壁面包含氧化鋁、碳化矽、金剛石等研磨粒。 研磨粒較佳為400粒度以下，更佳為600粒度以下。藉此，可容易地使下述蝕刻處理後之孔之形狀成為規定之範圍。

因倒角而容易於端面及連接面形成微細之傷痕。認為該傷痕會降低端部耐衝擊性。因此，為了減少該微細之傷痕以提高端部耐衝擊性，較佳為實施蝕刻處理。

蝕刻處理係使端面及連接面與含有酸之蝕刻液進行接觸之處理。藉由該蝕刻處理，使得因倒角產生之微細傷痕擴大，而於連接面形成複數個凹部(孔)。

作為蝕刻液，若為可對玻璃基體進行蝕刻者，則無特別限定，可適宜地列舉含有氟化氫(HF)之蝕刻液。作為此類蝕刻液之具體例，可列舉：含有氟化氫與硫酸、硝酸、乙酸及氟矽酸之至少1種酸之混酸等。

蝕刻量係藉由與液接觸之時間來控制。根據玻璃之種類或蝕刻量，來調整蝕刻液中之氟化氫之濃度。蝕刻量較佳為25 μm以上100 μm以下，更佳為30 μm以上90 μm以下。藉由將蝕刻量設為該範圍，可一面具有端部耐衝擊性一面維持印刷之直線性。

為了優先地對端面及連接面進行蝕刻處理，較佳為於蝕刻處理之前事先將保護膜貼合於一對主面。藉此，防止主面被蝕刻，例如於對主面實施防眩處理之情形時可維持防眩效果。

保護膜若為對於蝕刻液具有耐受性者，則無特別限定，例如可適宜地使用聚丙烯(PP)膜、聚乙烯(PE)膜、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜等樹脂膜。較佳為於保護膜上設置有可黏著於玻璃基體之黏著劑。黏著劑之材料無特別限定，例如可適宜地使用矽酮系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚胺酯系黏著劑。

保護膜之面積較佳為大於玻璃基體之面積。保護膜之外周端、與玻璃基體之端面之距離較佳為0.3 mm以上1.5 mm以下。藉此可獲得如下效果：防止蝕刻液回流至主面，並且可均勻地對端面及連接面進行蝕刻。

保護膜之厚度較佳為50 μm以上200 μm以下。藉由設為該範圍，可抑制保護膜較玻璃基體突起之部分下垂，可遍及連接面整個區域均勻地進行蝕刻處理。

關於使連接面及端面與蝕刻液接觸之方法，例如可列舉：浸漬於蝕刻液中之方法、向連接面及端面噴霧蝕刻液之方法等。

於本實施形態中，連接面之孔較佳為距主面20 μm之部分中之50%粒徑與距上述端面20 μm之部分中之50%粒徑的差為10 μm以下。即，較佳為遍及連接面整個區域均勻地進行蝕刻處理。先前技術(專利文獻1)中，並未特別考慮到連接面整個區域之均勻性。因此，為了提高端部耐衝擊性，需要充分地處理不易被蝕刻之部位。因此明確了如下情況：不易被蝕刻之部位以外之部位變得過於平滑，例如於設置有印刷層之情形時發生墨水垂流而使得外觀受損，或於設置有功能層之情形時產生光學干涉，出現連接面與主面之色調有所不同之現象等。

上述孔之均勻性例如可藉由向連接面及端面噴霧蝕刻液而達成。此時，噴霧條件較佳為設為：自端面之法線方向進行噴霧，且將噴霧量設為每單位平方cm為每分鐘50 mL以上300 mL以下。藉此，蝕刻液充分地遍及至連接面之主面附近，且防止保護主面之膜剝離而蝕刻液滲入至主面側，因此均勻地形成孔。

又，亦可藉由在與蝕刻液接觸之前事先使端面及連接面與純水、聚丙烯酸水溶液或者0.5%氫氟酸水溶液接觸而達成。藉此，防止氣泡進入至保護主面之膜與連接面之間而阻礙蝕刻，從而均勻地形成孔。

(印刷層) 玻璃基體亦可於主面及連接面具備印刷層。印刷層可為光遮蔽部，其遮蔽如配置於顯示面板之外側周邊部之配線電路之觀察顯示時會進入視線而造成妨礙之部分，以提高顯示之視認性及美觀，亦可為文字或花紋等印刷層。

印刷層係利用印刷墨水之方法所形成者。作為印刷法，可列舉：棒式塗佈法、反向塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法、輥塗法、網版法、噴墨法等，就可簡便地印刷，而且可印刷於各種各樣之基材，又，可匹配基材之尺寸來印刷之方面而言，較佳為網版法或噴墨法。

墨水無特別限定。作為墨水，可使用包含陶瓷焙燒體等之無機系墨水、與包含如染料或顏料般之色料與有機系樹脂之有機系墨水。

作為無機系墨水中所含有之陶瓷，可列舉：氧化鉻、氧化鐵等氧化物；碳化鉻、碳化鎢等碳化物；碳黑、雲母等。印刷層係使包含上述陶瓷與二氧化矽之墨水熔融，以所需之圖案印刷後，進行焙燒而獲得。該無機系墨水需要熔融、焙燒，一般可用作玻璃專用墨水。

有機系墨水係包含染料或顏料與有機系樹脂之組合物。作為有機系樹脂，可列舉：環氧系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚芳酯、聚碳酸酯、透明ABS(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)樹脂、酚系樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯樹脂、聚胺酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯(polyvinyl)、聚乙烯醇縮丁醛、聚醚醚酮、聚乙烯(polyethylene)、聚酯、聚丙烯、聚醯胺、聚醯亞胺等之均聚物、及包含與能夠與該等樹脂之單體共聚之單體之共聚物之樹脂。又，染料或者顏料若為具有遮光性者，則可無特別限定地使用。 無機系墨水與有機系墨水中，就焙燒溫度較低之方面而言，較佳為使用有機系墨水。又，就耐化學品性之觀點而言，更佳為包含顏料之有機系墨水。

印刷層之外周端之至少一部分較佳為處於連接面上。藉由使上述外周端處於連接面，可有效地遮蔽至玻璃基體之端部，就美觀方面而言較佳。

此處，參照圖1。於印刷層15之外周端之至少一部分處於連接面14上之情形時，根據連接面14之性狀不同，存在印刷層15之墨水16與連接面14之接觸角較低，墨水16局部地滑落，導致印刷層15之外周端之直線性變差之情形。圖1係例示出此種情形時之連接面附近者。

此處，所謂直線性，如下述般定義。首先，使用光學顯微鏡(例如基恩士公司製造之VHX-5000)，以倍率1000倍觀察印刷層之外周端，於處於視野範圍內之1 mm長度之外周線中，自印刷層側畫出與外周線相接之直線L。其次，使直線L1自直線L之位置向垂直於直線L之方向且為印刷層之外側之方向進行移動，並使之移動至直線L1與印刷層之外周端於1點相接之位置。將直線性定義為直線L與直線L1之距離。於直線性為0之情形時，印刷層之外周端為完全之直線，於大於0之情形時，在自連接面朝向端面之方向上存在印刷層局部突起之部分。於可視認此種突起部分之情形時，印刷層之美觀受損，故存在問題。

於本實施形態中，藉由調整連接面之孔之粒徑，能夠將墨水與玻璃基體之接觸角保持為相對較高。即，根據所謂Cassie-Baxter式或者Wenzel式，可藉由凹凸使接觸角相對變高，而可抑制墨水之局部滑落。

直線性較佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下。若為200 μm以下，則藉由目視難以視認，直線性視認為良好。

(功能層) 較佳為於玻璃基體之主面、連接面及端面之至少一部分形成有功能層。功能層係單層或積層複數層而成之積層體。作為功能層，例如可列舉：防污層、防眩層、抗反射層(低反射層)、密接層等。以下，對於各功能層之詳情進行說明。

[防污層] 防污層係指抑制有機物、無機物附著於表面之膜，或帶來即便於在表面附著有有機物、無機物之情形時亦可藉由擦拭等清潔而容易地去除附著物之效果的層。 較佳為於下述密接層之表面上具備防污層。作為防污層，若為可對玻璃基體賦予防污性者，則無特別限定，較佳為包含含氟有機矽化合物覆膜，該含氟有機矽化合物覆膜係藉由使含氟有機矽化合物進行水解縮合反應來硬化而獲得。

又，防污層之厚度並無特別限定，於防污層包含含氟有機矽化合物覆膜之情形時，較佳為2 nm以上20 nm以下，更佳為2 nm以上15 nm以下，進而較佳為2 nm以上10 nm以下。防污層之厚度若為2 nm以上，則就耐摩擦性之觀點而言耐於實用。又，若防污層之厚度為20 nm以下，則於形成有防污層之狀態下玻璃基體之霧度值等光學特性良好。

形成防污層之組合物係含有含氟水解性矽化合物之組合物，若為藉由乾式成膜法能夠形成防污層之組合物，則無特別限制。防污層形成用組合物可含有除含氟水解性矽化合物以外之任意成分，亦可僅由含氟水解性矽化合物所構成。作為任意成分，可列舉於不妨礙本實施形態之效果之範圍內可使用之不具有氟原子之水解性矽化合物(以下稱為「非氟水解性矽化合物」)、觸媒等。

再者，當於覆膜形成用組合物中調配含氟水解性矽化合物、及任意之非氟水解性矽化合物時，各化合物可直接調配於覆膜形成用組合物中，亦可以其部分水解縮合物之形式調配於覆膜形成用組合物中。又，亦可以該化合物與其部分水解縮合物之混合物之形式調配於覆膜形成用組合物中。

又，於組合使用2種以上之水解性矽化合物之情形時，各化合物可直接調配於覆膜形成用組合物中，亦可各自以部分水解縮合物之形式調配於覆膜形成用組合物中，進而亦可以2種以上化合物之部分水解共縮合物之形式調配於覆膜形成用組合物中。又，亦可為該等化合物、部分水解縮合物、部分水解共縮合物之混合物。但，所使用之部分水解縮合物、部分水解共縮合物係設為能夠藉由乾式成膜法形成之程度之聚合度。以下，水解性矽化合物之用語係以除化合物本身以外還包括此種部分水解縮合物、部分水解共縮合物之含義來使用。

關於本實施形態之含氟有機矽化合物覆膜之形成所使用之含氟水解性矽化合物，若所獲得之含氟有機矽化合物覆膜具有撥水性、撥油性等防污性者，則無特別限定。

具體而言，可列舉具有選自由全氟聚醚基、全氟伸烷基及全氟烷基所組成之群中之1種以上之基之含氟水解性矽化合物。該等基以經由連結基或直接鍵結於水解性矽烷基之矽原子之含氟有機基的形式存在。作為市售之具有選自由全氟聚醚基、全氟伸烷基及全氟烷基所組成之群中之1種以上之基之含氟有機矽化合物(含氟水解性矽化合物)，可適宜地使用：KP-801(商品名，信越化學工業公司製造)、X-71(商品名，信越化學工業公司製造)、KY-130(商品名，信越化學工業公司製造)、KY-178(商品名，信越化學工業公司製造)、KY-185(商品名，信越化學工業公司製造)、KY-195(商品名，信越化學工業公司製造)、Afluid(註冊商標)S-550(商品名，AGC公司製造)、OPTOOL(註冊商標)DSX(商品名，大金工業公司製造)等。上述之中，更佳為使用KY-195、OPTOOL DSX、S-550。

[密接層] 密接層係為了提高防污層之耐久性而設置於玻璃基體與上述防污層之間。密接層之最表層就與防污層之密接性之觀點而言，較佳為以氧化矽作為主成分。又，藉由形成單層之密接層或積層複數層形成密接層，亦可同時地獲得抗反射性能等。 再者，此處所謂「主成分」，係指該層中含有80質量%以上者。

又，關於密接層，於包含積層體之情形時，亦可作為低反射層來構成，該低反射層積層有下述低折射率層與高折射率層，且與防污層相接之層作為包含氧化矽(SiO₂ )之低折射率層來構成。於該情形時，該低反射層作為包含積層體之密接層發揮功能。

密接層之與防污層相接之層之表面粗糙度以算術平均粗糙度(Ra)計，較佳為3 nm以下，更佳為2 nm以下，進而較佳為1.5 nm以下。若Ra為3 nm以下，則布等可隨著防污層之凹凸形狀來變形，因此防污層表面整體大致均勻地受到負載。因此，認為防污層之剝落得到抑制，耐磨性提高。

再者，當測定密接層之算術平均粗糙度(Ra)時，於主面具有凹凸形狀之情形時，只要以不挑選該凹凸形狀之方式設定測定區域即可。若上述孔之直徑或均方根粗糙度(RMS)處於上述較佳範圍內，則能夠將測定區域設定為例如將凹凸之稜線除外之區域等而測定密接層之Ra。

於玻璃基體之主面具有凹凸形狀之情形時，密接層之與防污層相接之層之均方根粗糙度(RMS)較佳為10 nm以上，更佳為20 nm以上。又，較佳為1500 nm以下，更佳為1000 nm以下，進而較佳為500 nm以下，特佳為200 nm以下。若RMS為上述範圍內，則不僅抑制防污層之剝落，提高耐磨性，亦可兼具防閃耀性及防眩性。當測定凹凸形狀之RMS時，與上述密接層之算術平均粗糙度(Ra)之測定相反地，只要以於測定區域中包含足夠多之孔之方式選擇測定區域即可。又，如上所述，密接層或防污層之表面粗糙度足夠平滑，故可認為於存在密接層或防污層之狀態下藉由上述方法所測得之RMS之值係與凹凸形狀之RMS同值。

[低反射層] 所謂低反射層，係指如下膜，其會帶來降低反射率之效果，減少由光之映入導致之眩光，除此以外，亦可提高來自顯示裝置等之光之透過率，可提高顯示裝置等之視認性。 本實施形態之玻璃基體較佳為於主面、連接面及端面之至少一部分與防污層之間具備低反射層。作為低反射層之構成，若為可抑制光之反射之構成，則無特別限定，例如可設為積層有高折射率層與低折射率層之構成，該高折射率層係波長550 nm下之折射率為1.9以上者，該低折射率層係波長550 nm下之折射率為1.6以下者。又，低反射層亦可為僅1層之構成。

低反射層中之高折射率層與低折射率層可為各包含1層之形態，亦可為各包含2層以上之構成。於包含高折射率層與低折射率層各2層以上之情形時，較佳為高折射率層與低折射率層交替積層之形態。

為了提高低反射性，低反射層較佳為積層複數層而成之積層體。例如，該積層體較佳為整體積層有2層以上10層以下之層，更佳為積層有2層以上8層以下之層，進而較佳為積層有4層以上6層以下之層。此處之積層體較佳為如上述般積層高折射率層與低折射率層而成者，更佳為高折射率層及低折射率層之各層數之合計為上述範圍內。

高折射率層、低折射率層之材料並無特別限定，可考慮所要求之低反射性之程度或生產性等而適當選擇。作為構成高折射率層之材料，例如可適宜地使用選自氧化鈮(Nb₂ O₅ )、氧化鈦(TiO₂ )、氧化鋯(ZrO₂ )、氧化鉭(Ta₂ O₅ )、氮化矽(Si₃ N₄ )之1種以上。作為構成低折射率層之材料，可適宜地使用選自氧化矽(SiO₂ )、包含Si與Sn之混合氧化物之材料、包含Si與Zr之混合氧化物之材料、包含Si與Al之混合氧化物之材料之1種以上。

就生產性、或折射率之觀點而言，較佳為如下構成：高折射率層為以選自氧化鈮、氧化鉭、氮化矽之1種作為主成分之層，低折射率層為以氧化矽作為主成分之層。 又，如上所述，藉由使低反射層之最表層以氧化矽作為主成分，亦可用作密接層。

[功能層之形成方法] 本實施形態之功能層係藉由乾式成膜法所形成。作為乾式成膜法，可列舉：蒸鍍法、離子束輔助蒸鍍法、離子鍍覆法、濺鍍法、電漿CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法。其中，可適宜地使用蒸鍍法或濺鍍法。

於功能層包含複數層之情形時，亦可組合上述方法來形成。例如亦可利用濺鍍法形成密接層，其後利用蒸鍍法形成防污層。

於形成防污層之情形時，較佳為使用蒸鍍法。蒸鍍法之中，可更佳地使用電阻加熱方式或電子束蒸鍍方式。

於形成密接層或低反射層之情形時，較佳為使用蒸鍍法或濺鍍法。蒸鍍法之中，為了獲得更加緻密之膜，更佳為使用一面形成電漿一面進行蒸鍍之離子輔助蒸鍍、或濺鍍法。 濺鍍法中，通常使用磁控濺鍍法，其中，進而較佳為脈衝磁控濺鍍法、AC磁控濺鍍法及後氧化磁控濺鍍法。 若使用此種方法，則可獲得緻密且厚度得到精密控制之功能層。

功能層由於如上述般為奈米厚度，故若功能層平滑，則於膜內會產生光學干涉。一般而言，若產生光學干涉，則根據觀察功能層之角度不同而色調產生變化。當於主面與連接面設置有功能層之情形時，連接面之一部分與主面具有大於0度之角度。於該情形時，連接面之色調與主面之色調看起來明顯不同，美觀方面存在問題。

如上所述，於專利文獻1中並未特別考慮到連接面整個區域之均勻性，為了提高端部耐衝擊性，需要充分地處理不易被蝕刻之部位。因此，明確具有如下問題：除上述不易被蝕刻之部位以外之部位變得過於平滑，於連接面在膜內產生光學干涉而使得色調與主面有明顯不同。

於本實施形態中，藉由將孔之粒徑設為10 μm以上，而抑制連接面明顯地變得平滑，減少功能層之於膜內之光學干涉。藉此，可抑制主面與連接面之顯著之色調差異。

又，於本實施形態中，關於存在於連接面表面之孔，距主面20 μm之部分中之50%粒徑與距端面20 μm之部分中之50%粒徑之差較佳為10 μm以下。藉此，連接面具有均勻之孔徑，因此整個區域成為均勻之色調。

再者，此處所謂色調，係指JIS Z 8781-4：2013中所規定之色調(a*、b*)。 主面之色調之測定係使用ASTM E 1164：2012中所規定之測定器，於SCI模式下進行。 根據下述式，求出主面與連接面之色差。 ΔE＝√[(Δa*)² +(Δb*)² ] Δa*(Δb*)分別為主面與連接面之a*(b*)之差。 本實施形態之附有功能層之玻璃基體中，設置有功能層之主面與連接面之色差ΔE較佳為0以上10以下。

又，本發明之一實施形態包括具有上述附有印刷層之玻璃之附有功能層之玻璃基體。上述附有功能層之玻璃基體在與設置有上述印刷層之主面相反側之主面(第2主面)與上述端面之間具有第2連接面。上述第2連接面亦可具有複數個孔。距上述第2主面20 μm之部分中之上述孔之50%粒徑與距上述端面20 μm之部分中之上述孔之50%粒徑的差可為10 μm以下。於上述第2主面與上述第2連接面之至少一部分設置有功能層，設置有上述功能層之上述第2主面與上述第2連接面之色差ΔE可為0以上10以下。

又，本發明之一實施形態包括設置有上述玻璃基體、附有印刷層之玻璃基體、或附有功能層之玻璃基體之車載顯示裝置。 [實施例]

以下，藉由實施例等對本發明具體地進行說明，但本發明並不受該等例限定。

以下，例1～例5為實施例，例11及例12為比較例。

首先，所有例中，玻璃基體係使用尺寸為130 mm×280 mm且厚度為1.3 mm之鋁矽酸鹽玻璃(AGC公司製造，註冊商標Dragontrail)。

(例1) 首先，藉由磨石對玻璃基體之側面進行倒角加工。倒角形狀設為C倒角，倒角寬設為0.15 mm。所使用之磨石係電鍍金剛石磨石，粒度號數設為粗加工325粒度、精加工700粒度，轉速設為6000 rpm。 其次，準備將以PET為基材並塗佈有丙烯酸糊劑之厚度70 μm之保護膜(SUMIRON公司製造)切成131 mm×281 mm而成者。 其次，利用貼合機，將上述保護膜以自玻璃基體之外周端突出0.5 mm之方式貼合於玻璃基體之兩主面之整個面，而獲得附有保護膜之玻璃基體。 其次，將混合有氫氟酸5質量%、鹽酸2質量%之蝕刻液以150 mL/(分鐘・cm² )之流量噴霧於上述附有保護膜之玻璃基體，並以蝕刻量成為60 μm之方式進行蝕刻。 此時，將蝕刻液之相對於上述玻璃基體之噴霧角度設為90度，將噴霧噴嘴與上述玻璃基體之距離設為2 cm，將自噴霧噴嘴噴霧之水量設為150 mL/分鐘。 又，蝕刻量係藉由如下方式所測得：於基板配置二點對準標記，利用三維測定機(Mitutoyo公司製造)測定蝕刻處理前後之玻璃形狀，求出差量。 其次，自玻璃基體剝離兩面之保護膜，獲得基板端部經蝕刻之玻璃基體。

(例2) 將蝕刻液之鹽酸2質量%變更為硝酸2質量%，除此以外，與例1同樣地進行處理。

(例3) 將蝕刻量設為80 μm，除此以外，與例1同樣地進行處理。

(例4) 將與例1同樣地製作之附有保護膜之玻璃基體浸漬於混合有氫氟酸5質量%、鹽酸2質量%之蝕刻液中來進行蝕刻。此時，事先對上述玻璃基體之端部噴霧純水而進行處理以被覆基板端部。又，浸漬時間係以蝕刻量成為60 μm之方式調整。 如此，獲得了端部經蝕刻處理之玻璃基體。

(例5) 將與例1相同之保護膜切成130.6 mm×280.6 mm之尺寸，並與例1同樣地貼合至進行過倒角之玻璃基體。此時，以保護膜之外周自玻璃基體之外周突出0.3 mm之方式貼合。 除此以外，與例1同樣地進行處理。

(例11) 例11係與專利文獻1中所記載之例4對應者。首先，將與例1相同之保護膜切成134 mm×284 mm之尺寸，並與例1同樣地貼合至進行過倒角之玻璃基體。此時，以保護膜之外周自玻璃基體之外周突出2 mm之方式貼合。其次，浸漬於混合有氫氟酸2質量%、鹽酸18質量%之蝕刻液中來進行蝕刻。此時，未進行如於例4中進行之事先之噴霧。又，浸漬時間係以蝕刻量成為40 μm之方式調整。

(例12) 對玻璃基體之側面進行R倒角，除此以外，與例1同樣地進行處理。具體而言，磨石係使用電鍍金剛石磨石，粒度號數設為粗加工325粒度、精加工700粒度，轉速設為6000 rpm。又，倒角部之曲率半徑設為0.5 mm，連接面與主面所成之角度設為68°，倒角寬設為0.55 mm。

將例1～例5、例11及例12之處理條件匯總並一覽地示於下述表1中。

[表1]

	例1	例2	例3	例4	例5	例11	例12
端面之研削方法	CNC C面	CNC C面	CNC C面	CNC C面	CNC C面	CNC C面	CNC R面
保護膜之基材厚度(μm)	70	70	70	70	70	70	30
自基板之突出量(mm)	0.5	0.5	0.5	0.5	0.3	2	0.5
蝕刻法	噴霧	噴霧	噴霧	浸漬	噴霧	浸漬	噴霧
噴霧量(ml/分鐘・cm2 )	150	150	150	-	150	-	150
氫氟酸濃度(質量%)	5	5	5	5	5	2	5
追加酸種類	鹽酸	硝酸	鹽酸	鹽酸	鹽酸	鹽酸	鹽酸
酸濃度(質量%)	2	2	2	2	2	18	2
蝕刻時間(分鐘)	14	14	20	14	20	19	14
蝕刻量(μm)	60	60	80	60	60	40	60
蝕刻前之液接觸處理	無	無	無	有	無	無	無
端面附近與主面附近之粒徑差(μm)	8.2	7.8	5.2	4.8	5	17	16
90%粒徑(μm)	27	30	50	30	31	26	35
主面與連接面所成之角度(°)	45	53	41	47	41	54	65
主面與連接面交界之R(μm)	122	120	303	80	140	258	442
粒徑分散(μm)	2.9	3.2	4.8	2.1	1.9	2.2	4.2
印刷直線性(μm)	40	40	90	50	80	320	280
色調分佈∆E	3.6	4.7	2.7	3.2	6.2	12.1	10.8
HIT結果	A	A	A	A	A	A	B

對於依據上述順序所製成之各例，實施以下之評價。

(孔徑之測定) 使用雷射顯微鏡(基恩士公司 VK-9700)，針對連接面，對擴大至1000倍之270 μm×200 μm之範圍之圖像進行高度測定。此時，橫(X)向、縱(Y)向之測定間隔設為0.1 μm，高度(Z)方向之精度設為0.001 μm。繼而，將所獲得之高度之累積分佈(數量基準)中與累積數90%對應之高度設為基準高度。基準高度係指如下高度，即，當將測定點以高度之順序排列並以高度自低到高之順序計數測定點之累積數時，該累積數成為測定點之總數之90%時的高度。 繼而，將上述雷射顯微鏡之圖像二值化成高度超過基準高度之部分、與高度為基準高度以下之部分。 如此，將高度為基準高度以下之部分設為孔。 繼而，每個孔均求出長邊方向尺寸(長徑)及與長邊方向尺寸正交之方向之尺寸(短徑)，算出長徑及短徑之均方根(長徑之平方與短徑之平方之平均值之平方根)。將所算出之均方根設為各孔之孔徑(粒徑)。 又，對於各孔之孔徑算術性地求出分散。 繼而，使用各孔之孔徑，將自孔徑較小者起之累積分佈(數量基準)中與累積數90%對應之孔徑設為90%孔徑。

又，於距主面20 μm之附近、與距端面20 μm之附近取得同樣之二值化圖像，分別取得自孔徑較小者起之累積分佈(數量基準)中與累積數50%對應之50%孔徑，求出其差。

(主面與連接面所成之角度之測定) 首先，自與主面之法線及連接面之法線兩者正交之線之方向，藉由光學顯微鏡(基恩士公司製造之VHX-5000)獲得100倍之圖像。 圖2中例示在例1中所獲得之測定圖像。以下，基於圖2進行說明。 其次，將通過主面12側距離主面12與連接面14之連接點200 μm之點A與距離上述連接點700 μm之點B的直線設為直線1。其次，將通過連接面14側距離主面12與連接面14之連接點80 μm之點C與距離上述連接點180 μm之點D的直線設為直線2。將該等2條直線所成之角度定義為自180度減去主面12與連接面14所成之角度所得之值。

(印刷直線性) 於玻璃基體之一主面之距外周端20 mm寬度之區域藉由網版法塗佈黑色墨水，形成印刷層。此時，以印刷層之外周端和主面與連接面相交之線一致之方式調整印刷版來進行塗佈。 其後，將上述附有印刷層之玻璃基體放入至乾燥爐中，於130度下乾燥60分鐘。 其次，如下述般觀察上述附有印刷層之玻璃基體之外周端部，並評價印刷直線性。 首先，使用數位顯微鏡(基恩士公司製造之VHX-5000)，取得了將外周端擴大至1000倍之圖像。 圖3中例示在例1中所獲得之圖像。以下，基於圖3進行說明。 繼而，於處於上述圖像之視野範圍內之1 mm長度之印刷層15之外周線中，自印刷層15側畫出與上述外周線相接之直線，將之設為直線L。其次，使直線L1自上述直線L之位置向垂直於上述直線L之方向且為印刷層15之外側之方向進行移動，並使之移動至直線L1與印刷層15之外周端於1點相接之位置。將直線性定義為直線L與直線L1之距離。

(色調分佈) 於各例中所獲得之玻璃基體中，藉由以下之方法於一主面及連接面形成抗反射層。

首先，將各例之玻璃基體導入至腔室內。其次，一面將於氬氣中混合10體積%之氧氣而成之混合氣體導入至腔室內，一面使用長度1000 mm×外徑150 mm之氧化鈮圓筒靶(商品名：NBO靶，AGC陶瓷公司製造)，於壓力0.5 Pa、頻率40 kHz、功率15 kW之條件下進行AC雙室旋轉磁控濺鍍，形成厚度13 nm之包含氧化鈮(niobia)之高折射率層(第1層)。

繼而，一面將於氬氣中混合40體積%之氧氣而成之混合氣體導入至腔室內，一面使用1000 mm長度×外徑150 mm之矽圓筒靶(AGC陶瓷公司製造)，於壓力0.3 Pa、頻率40 kHz、功率10 kW下進行AC雙室旋轉磁控濺鍍，而於上述高折射率層上形成厚度35 nm之包含氧化矽(silica)之低折射率層(第2層)。

繼而，與第1層同樣地於第2層之低折射率層上形成厚度115 nm之包含氧化鈮(niobia)之高折射率層。繼而，與第2層同樣地形成厚度80 nm之包含氧化矽(silica)之低折射率層。如此，形成將氧化鈮(niobia)層與氧化矽(silica)層積層總計4層而成之密接層(低反射層)。 如此，獲得附有抗反射層之玻璃基體。

其次，對於所獲得之附有抗反射層之玻璃基體之主面及連接面實施顏色測定。利用顯微分光測定器(Olympus公司製造之USPM RUIII)作為測定裝置，取得分光反射率。再者，當進行測定時，預先求出反射率成為最大之基體之位置，並以可取得正反射率之方式調整。根據該分光反射率求出主面及連接面之色調(a*、b*)。

其次，根據下述式，求出主面與連接面之色差。 ΔE＝√[(Δa*)² +(Δb*)² ] 此處，Δa*(Δb*)分別為主面與連接面之a*(b*)之差。

(頭部碰撞試驗) 與專利文獻1中所記載之頭部碰撞試驗同樣地進行試驗。 頭部碰撞試驗之結果為，將玻璃基體未破裂之情形作為「A」，將玻璃基體破裂之情形作為「B」。若為「A」，則可評價為對於來自斜方向之碰撞之端部耐衝擊性優異。

將以上之評價結果總結示於表1。 例1～例5中，端面附近與主面附近之孔徑之差較小為4.8 μm～8.2 μm，因此墨水之直線性亦成為40 μm～90 μm，為不會被視認之範圍，故良好。 相對於此，例11中，端面附近與主面附近之孔徑之差較大為17 μm，因此墨水之直線性為320 μm，為可視認之程度，外觀上存在問題。再者，例11係與專利文獻1之例4對應。 例12中，端面附近與主面附近之孔徑之差較大為16 μm，主面與連接面之交界曲線之R較大為442 μm，端部形狀較蝕刻前發生較大崩壞。

詳細地或參照特定之實施態樣對本發明進行了說明，但對於本領域技術人員而言可明確的是於不脫離本發明之精神與範圍之情況下可加上各種各樣之變更或修正。 本申請案係基於2019年5月17日提出申請之日本專利申請2019-093387，其內容作為參考併入至本文中。

1:第1主面 2:第2主面 11:玻璃基體 12:主面 13:端面 14:連接面 15:印刷層 16:墨水

圖1係例示出先前例中之連接面附近之構成之圖。 圖2係對印刷之直線性進行說明之圖。 圖3係對連接面與主面之角度進行說明之圖。

14:連接面

15:印刷層

Claims (11)

1. 一種玻璃基體，其具有：具有第1主面及與上述第1主面對向之第2主面之一對主面；沿著與上述一對主面正交之方向配置之端面；及配置於上述第1主面與上述端面之間之連接面；且上述連接面具有複數個孔，距上述第1主面20μm之部分中之上述孔之50%粒徑與距上述端面20μm之部分中之上述孔之50%粒徑的差為10μm以下。
2. 如請求項1之玻璃基體，其中上述第1主面與上述連接面所成之角度為40度以上55度以下。
3. 如上述請求項1或2之玻璃基體，其中上述第1主面與上述連接面之交界曲線之曲率半徑R為350μm以下。
4. 如請求項1或2之玻璃基體，其中存在於上述連接面之表面之孔之粒徑之分散為5μm以下。
5. 如請求項1或2之玻璃基體，其中上述孔之90%粒徑為10μm以上。
6. 一種附有印刷層之玻璃基體，其係具有如請求項1至5中任一項之玻璃基體者，且 於上述第1主面及上述連接面之至少一部分設置有印刷層，上述印刷層之外周端之至少一部分處於上述連接面上，上述外周端之直線性為100μm以下。
7. 一種附有功能層之玻璃基體，其係具有如請求項1至5中任一項之玻璃基體者，且於上述第1主面及上述連接面之至少一部分設置有功能層，設置有上述功能層之上述第1主面與上述連接面之色差△E為0以上10以下。
8. 一種附有功能層之玻璃基體，其係具有如請求項6之附有印刷層之玻璃基體者，且於上述第2主面與上述端面之間具有第2連接面，上述第2連接面具有複數個孔，距上述第2主面20μm之部分中之上述孔之50%粒徑與距上述端面20μm之部分中之上述孔之50%粒徑的差為10μm以下，於上述第2主面與上述第2連接面之至少一部分設置有功能層，設置有上述功能層之上述第2主面與上述第2連接面之色差△E為0以上10以下。
9. 一種車載顯示裝置，其設置有如請求項1至5中任一項之玻璃基體。
10. 一種車載顯示裝置，其設置有如請求項6之附有印刷層之玻璃基體。
11. 一種車載顯示裝置，其設置有如請求項7或8之附有功能層之玻璃基體。