JP5626636B2 - 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、装置、その方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として製造された成形体、反射防止物品および撥水性物品 - Google Patents
陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、装置、その方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として製造された成形体、反射防止物品および撥水性物品 Download PDFInfo
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- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 127
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 67
- 239000005871 repellent Substances 0.000 title claims description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 99
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 98
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 96
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 91
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 47
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 45
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 37
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 32
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 claims description 27
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 20
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 12
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 45
- 239000010408 film Substances 0.000 description 41
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 27
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 24
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 24
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical class BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical class CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;oxirane Chemical compound C1CO1.CCC(CO)(CO)CO RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical class C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTRAYOBSWCVTIN-UHFFFAOYSA-N OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N Chemical compound OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N OTRAYOBSWCVTIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Chemical class 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical class COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- VQIPSVLHHAYQJH-UHFFFAOYSA-N 1-(7-acridin-1-ylheptyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(CCCCCCCC=4C5=CC6=CC=CC=C6N=C5C=CC=4)=CC=CC3=NC2=C1 VQIPSVLHHAYQJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGJQNPIOBWKQAW-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)(C)C BGJQNPIOBWKQAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNZYOYGFWBZAQY-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methyloxirane Chemical compound CC1CO1.CCC(CO)(CO)CO SNZYOYGFWBZAQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004864 4-thiomethylphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOXCOSORKWZXBI-UHFFFAOYSA-N CC(CCC(C)(C)C)[PH2]=O Chemical compound CC(CCC(C)(C)C)[PH2]=O HOXCOSORKWZXBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- YTJUXOIAXOQWBV-UHFFFAOYSA-N butoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(C)C YTJUXOIAXOQWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000004113 cell culture Methods 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QKLCQKPAECHXCQ-UHFFFAOYSA-N ethyl phenylglyoxylate Chemical class CCOC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 QKLCQKPAECHXCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- UFUASNAHBMBJIX-UHFFFAOYSA-N propan-1-one Chemical compound CC[C]=O UFUASNAHBMBJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007717 redox polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N tetratert-butyl silicate Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPGKIATZDCVHL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(propoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(C)C PHPGKIATZDCVHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
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Description
配列されている陽極酸化ポーラスアルミナを得ることが可能になる。
(a)アルミニウム基材の表面に上述のような方法で陽極酸化ポーラスアルミナ層を形成する工程。
(b)前記アルミナ層を除去する工程。
(c)前記工程(b)の後、再び陽極酸化を施して細孔を形成する工程。
(d)細孔に孔径拡大処理を施す工程。
(e)前記工程(d)の後、再び陽極酸化を施す工程。
(f)前記工程(d)および工程(e)を交互に繰り返す工程。
図1は、比較のために、従来の通常の陽極酸化システムを示している。図1に示すように、アルミニウム材1が電解液2の浴中に浸漬され、通常の陽極酸化では、アルミニウム材1の温度調節は、電解液2を用いて行うことになる。陽極酸化処理により、アルミニウム材1の表面に陽極酸化ポーラスアルミナ3の多孔性皮膜が形成される。反応熱によりアルミニウム材1の温度が上昇するが、この熱4は電解液2中に逃がされる。したがって、前述の如く、電解液2の温度、ひいては陽極酸化処理温度を安定して所定の温度に維持することが難しくなる場合がある。
(a):アルミニウム基材の表面に前述した方法で陽極酸化ポーラスアルミナ層を形成する工程。
(b):アルミナ層を除去する工程。
(c):工程(b)の後、再び陽極酸化を施して細孔を形成する工程。
(d):細孔に孔径拡大処理を施す工程。
(e):工程(d)の後、再び陽極酸化を施す工程。
(f):工程(d)および工程(e)を交互に繰り返す工程。
上述の工程(a)の後、工程(a)により形成された酸化皮膜42を除去することにより、図5(b)に示すように、除去された酸化皮膜42の底部(バリア層と呼ばれる)に対応する周期的な窪み、すなわち、細孔発生点43を形成する(酸化皮膜除去工程(b))。このように、形成された酸化皮膜42を一旦除去し、陽極酸化の細孔発生点43を形成することで、最終的に形成される細孔の規則性を向上させることができる(例えば、益田,応用物理,vol.69,No.5,p558(2000)参照。)。
ついで、細孔発生点43が形成されたアルミニウム原型40を電解液中、定電圧下で再度陽極酸化し、再び酸化皮膜を形成する(第2の酸化皮膜形成工程(c))。工程(c)では、化成電圧さえ同じであれば必ずしも工程(a)と同様の条件(電解液濃度、電解液温度等)下で陽極酸化する必要はない。また、背面冷却も行っても行わなくてもよい。背面冷却を行う場合の条件は工程(a)の項で説明した条件が好ましい。
このような(c)工程の後には、(c)工程で形成された細孔44の径を拡大させる孔径拡大処理工程(d)を行って、図5(d)に示すように、細孔44の径を図5(c)の場合よりも拡径する。
(d)工程の後には、再び陽極酸化を行って図5(e)に示すように、細孔44の形状を径の異なる2段の円柱状とする。陽極酸化の具体的方法は(c)工程と同じである。
ついで、再度(d)工程を行う。このように(d)工程と(e)工程を繰り返す繰り返し工程(f)工程により、図5(f)に示すように、細孔44の形状を開口部から深さ方向に徐々に径が縮小するテーパー形状にでき、その結果、周期的に微細凹凸構造が形成された陽極酸化アルミナを表面に備えたスタンパ50を得ることができる。
以上説明した表面に陽極酸化アルミナが形成されたスタンパを用いることによって、このスタンパの微細凹凸構造が転写された転写面を有する成形体を製造できる。
(1)電流密度
最大化成電圧での最大電流値を陽極酸化面積で除した値とした。
表面に陽極酸化アルミナまたは陽極酸化アルミナから成る鋳型の縦断面または表面を1分間Pt蒸着し,日本電子製電界放出型走査電子顕微鏡JSM-6700Fにより加速電圧7.00kVで観察した.そして,細孔の周期及び観察中で得られた中で最も規則配列が得られた部分において,配列の欠陥を含まない理想配列した細孔の個数をカウントした。
製造された成形体の縦断面または表面を5分間Pt蒸着し、上記(2)の場合と同様の
装置および条件にて、凸部の周期、凸部の高さを測定した。この際、測定箇所10箇所の
平均値を求め、各値とした。
製造された成形体の裏面(微細凹凸構造が形成されていない面)を艶消し黒色スプレー
で塗り、これをサンプルとし、日立社製分光光度計U−4000を用いて入射角5°、波
長380〜780nmの範囲で成形体の表面(微細凹凸構造が形成された面)の相対反射
率を測定した。
自動接触角測定器(協和界面科学社製:DM501)を用いて水滴の接触角を測定し、物品の撥水性を評価した。物品ごとに1μLの水滴を5箇所に滴下し、それぞれの接触角をθ/2法で計算してその平均値を求めた。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した後、図3に示したような背面冷却陽極酸化装置に装着した。1.5M(飽和濃度)シュウ酸を電解液とし、浴温32℃、熱媒体としての背面冷却水の温度30℃、熱媒体流通速度2×10-1m/sec、電解液強攪拌条件下において、60Vの定電圧で10分間陽極酸化し、化成電圧を70Vに上昇させて10分間、化成電圧を80Vに上昇させて5分間、化成電圧を90Vに上昇させて5分間、最後に化成電圧を100Vに上昇させ、5分間陽極酸化を行うことにより、4cm2 ×4cm2 以上の面積において、陽極酸化ポーラスアルミナを得た。細孔周期200nm,縦、横最大で10個×8個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した後、図3に示したような背面冷却陽極酸化装置に装着した。8M硫酸を電解液とし、浴温16℃、背面冷却水16℃、熱媒体流通速度2×10-1m/sec、強攪拌条件下において、20Vの定電圧で20分間陽極酸化し、化成電圧を25Vに上昇させて5分間、化成電圧を30Vに上昇させて5分間、35Vに上昇させて5分間、40Vに上昇させて5分間、45Vに上昇させて5分間、50Vに上昇させて5分間、55Vに上昇させて5分間、60Vに上昇させて5分間、65Vに上昇させて5分間、70Vに上昇させて5分間、75Vに上昇させて5分間、80Vに上昇させて5分間、陽極酸化を行った。従来の陽極酸化では行うことのできない高電圧条件下で安定に陽極酸化を行えた。その結果、細孔周期109nmの陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した後、図3に示したような背面冷却陽極酸化装置に装着した。8M硫酸を電解液とし、浴温16℃、背面冷却水16℃、熱媒体流通速度2×10-1m/sec、強攪拌条件下において、50Vの定電圧で1分間陽極酸化を行うことにより、細孔が113nm周期で縦、横最大で10個×10個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した。その後、試
料Al板の端のみを0.1M五ホウ酸アンモニウム水溶液を用いて300Vで1分間陽極酸化を行い、マスキング処理を施した。マスキング処理を施したAl板を背面冷却陽極酸化装置に装着した。0.3Mリン酸を電解液とし、浴温-1℃ 、背面冷却水-1℃ 、熱媒体流通速度2× 10-1m/sec、強攪拌条件下において、195Vの定電圧で1時間陽極酸化を行うことにより、細孔が500nm周期で縦、横最大で8個×6個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した.その後、試料Al板の端のみを0.1M五ホウ酸アンモニウム水溶液を用いて300Vで1分間陽極酸化を行い、マスキング処理を施した.マスキング処理を施したAl板を背面冷却陽極酸化装置に装着した。あらかじめ10Ah/Lの条件で前電解を行った1.9M硫酸を電解液とし,浴温0.1℃、背面冷却水0.1℃、熱媒体流通速度2×10-1m/sec、強攪拌条件下において、200mA/cm2の定電流で陽極酸化を開始し、電圧が120Vになった後に定電圧条件に切り替えて10分間の陽極酸化を行った。その結果、細孔が200nm周期で縦、横最大で8個×8個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
化成電圧を60V10分、70V10分と段階的に上げて、最後に80Vで15分陽極酸化した以外は実施例1と同様の方法で行った。その結果細孔が160nm周期で縦、横最大で13個×15個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
硬化組成物を配置し、さらにその上に透明基材として三菱レイヨン社製アクリルフィルム「アクリプレンHBK003(商品名)」を積層し、硬化性組成物がスタンパに接触した状態で、このアクリルフィルムを介して1000mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射し、硬化組成物を硬化させた。
トリメチロールエタン・アクリル酸・無水コハク酸縮合エステル:40質量部
ヘキサンジオールジアクリレート:40質量部
信越化学社製商品名「x−22−1602」:10質量部
チバ・スペシャリティケミカルズ社製商品名「イルガキュア184」:2.7質量部
チバ・スペシャリティケミカルズ社製商品名「イルガキュア819」:0.18質量部
れ、鋳型表面の微細凹凸構造が良好に転写された微細凹凸構造が形成されていた。
範囲で0.09〜0.22%であり、反射防止物品として良好な性能を備えていた。また、水の接触角は134℃であり撥水性物品として良好な性能を備えていた。
シュウ酸水溶液の濃度を1M(飽和濃度)に、温度を20℃、背面冷却水の温度を20℃にした以外は実施例1と同様の方法で2cm2×2cm2以上の面積において、陽極酸化ポーラスアルミナを得た。細孔が205nm周期で縦、横最大で10個×8個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
シュウ酸水溶液の濃度を0.05M、温度を3℃で背面冷却を行わずに段階的に電圧を上げずにいきなり化成電圧80Vで陽極酸化を行った以外は実施例6と同様の方法で行った。隣り合う細孔間の間隔が200nm程度で規則性配列がない陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
背面冷却を行わなかった以外は実施例6と同様の方法で陽極酸化を行った。その結果60Vでヤケを生じた。
背面冷却を行わなかった以外は実施例7と同様の方法で陽極酸化を行った。その結果70Vで発熱を制御できなくなりヤケを生じた。
2、14、21、33 電解液
3、18 陽極酸化ポーラスアルミナ
4、17、25 熱
12、24、32 熱媒体
13、23 治具
15 陽極酸化部位側の面
16 背面側の面
26、34 対極
27、35 電源
28、36 攪拌子
37 スターラー
40 アルミニウム原型
41 細孔
42 酸化皮膜
43 細孔発生点
44 細孔
45 酸化皮膜
50 スタンパ
Claims (26)
- アルミニウム材を陽極酸化するに際し、アルミニウム材の陽極酸化部位に電解液を接触させるとともに、それとは異なる部位に電解液以外の液体を熱媒体として接触させ、アルミニウム材の温度を電解液温度とは独立して制御するとともに、電解液としてシュウ酸水溶液を用い、最大化成電圧での電流密度を50〜1000mA/cm 2 とすることを特徴とする、陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- アルミニウム材の温度を電解液温度とは独立して予め定めた所定の温度に制御することにより、細孔が規則性をもつて配列された陽極酸化ポーラスアルミナを作製する、請求項1に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- アルミニウム材の温度を電解液温度とは独立して予め定めた所定の温度に制御すると共に、陽極酸化処理中、化成電圧を所定の電圧に維持する、請求項1または2に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 陽極酸化処理中、化成電圧を段階的に上昇させる、請求項1または2に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- アルミニウム材の前記陽極酸化部位の背面側部位に前記熱媒体を接触させる、請求項1〜4のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記電解液の接触部位とは異なる部位に対し、前記熱媒体を流通させる、請求項1〜 5のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記熱媒体の流通速度が1×10-2m/s以上である、請求項6に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記熱媒体の流通速度が1×10-lm/s以上である、請求項7に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記アルミニウム材を冶具に固定し、該治具およびアルミニウム材の前記陽極酸化部位の背面側部位に対し前記熱媒体を接触させる、請求項1〜8のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 中央部に穴が形成された筒状のアルミニウム材を使用し、該穴の内側に前記熱媒体を接触させ、前記アルミニウム材の外側を陽極酸化する、請求項1〜9のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記アルミニウム材に形成された穴が貫通している、請求項10に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 最大化成電圧が41〜200Vである、請求項1〜11のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- シュウ酸水溶液の濃度が0.3M〜飽和水溶液である、請求項1〜12のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- シュウ酸水溶液の温度が10〜40℃である、請求項1〜13のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 下記の工程を有する、陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型の製造方法。
(a)アルミニウム基材の表面に請求項1〜14のいずれかに記載の方法で陽極酸化ポーラスアルミナ層を形成する工程。
(b)前記アルミナ層を除去する工程。
(c)前記工程(b)の後、再び陽極酸化を施して細孔を形成する工程。
(d)細孔に孔径拡大処理を施す工程。
(e)前記工程(d)の後、再び陽極酸化を施す工程。
(f)前記工程(d)および工程(e)を交互に繰り返す工程。 - 前記工程(f)においては、孔径拡大処理で該工程が終了する、請求項15に記載の陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型の製造方法。
- 請求項15または16に記載の方法により細孔に連続的に細孔径が変化するテーパー形状を付与した陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型、あるいは該陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として作製したスタンパを鋳型として用いることを特徴とする、少なくとも一方の表面に微細凹凸構造を有する成形体の製造方法。
- 請求項17の方法で得られた成形体からなる反射防止物品。
- 請求項17の方法で得られた成形体からなる撥水性物品。
- 請求項1〜 14のいずれかに記載の方法に用いる装置であって、電解液の温度制御手段と、電解液温度とは独立して制御可能な熱媒体温度制御手段とを有することを特徴とする陽極酸化ポーラスアルミナの製造装置。
- さらに、前記熱媒体の流通速度制御手段を有している、請求項20に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造装置。
- 請求項1〜 14のいずれかの方法により製造され、陽極酸化により形成された細孔の少なくとも一部が三角格子状に規則配列した陽極酸化ポーラスアルミナ。
- 三角格子状に規則配列した細孔の周期が50nm〜600nmの範囲にある、請求項22に記載の陽極酸化ポーラスアルミナ。
- 前記規則配列した細孔が縦、横4個×4個以上の範囲で理想三角格子状に配列されている、請求項22または23に記載の陽極酸化ポーラスアルミナ。
- 前記規則配列した細孔が縦、横6個×6個以上の範囲で理想三角格子状に配列されている、請求項24に記載の陽極酸化ポーラスアルミナ。
- 前記規則配列した細孔が縦、横10個×10個以上の範囲で理想三角格子状に配列されている、請求項25に記載の陽極酸化ポーラスアルミナ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010215100A JP5626636B2 (ja) | 2009-09-28 | 2010-09-27 | 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、装置、その方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として製造された成形体、反射防止物品および撥水性物品 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009222660 | 2009-09-28 | ||
JP2009222660 | 2009-09-28 | ||
JP2010215100A JP5626636B2 (ja) | 2009-09-28 | 2010-09-27 | 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、装置、その方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として製造された成形体、反射防止物品および撥水性物品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011089200A JP2011089200A (ja) | 2011-05-06 |
JP5626636B2 true JP5626636B2 (ja) | 2014-11-19 |
Family
ID=44107695
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010215100A Active JP5626636B2 (ja) | 2009-09-28 | 2010-09-27 | 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、装置、その方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として製造された成形体、反射防止物品および撥水性物品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5626636B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013112892A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-10 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | ナノ構造体作製用型体の製造方法、製造装置、ナノ構造体作製用型体及びナノ構造体 |
JP5561284B2 (ja) * | 2012-01-11 | 2014-07-30 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルムの作製に用いられる型の製造方法 |
JP6287628B2 (ja) * | 2014-06-26 | 2018-03-07 | 三菱ケミカル株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有するモールドの製造方法 |
JP6874426B2 (ja) * | 2017-03-07 | 2021-05-19 | 三菱ケミカル株式会社 | モールドの製造方法、物品の製造方法及び物品 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06306679A (ja) * | 1993-04-26 | 1994-11-01 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 局部陽極酸化処理方法及び装置 |
JPH08144097A (ja) * | 1994-11-21 | 1996-06-04 | Ricoh Co Ltd | 陽極酸化処理方法 |
JP2934830B2 (ja) * | 1995-07-27 | 1999-08-16 | 工業技術院長 | 金属−多孔質金属酸化物接合管の製造方法及び装置 |
JP2942819B2 (ja) * | 1997-06-05 | 1999-08-30 | 工業技術院長 | 強化セラミックス管の製造方法およびその装置 |
JP2002004087A (ja) * | 2000-06-22 | 2002-01-09 | Canon Inc | ナノ構造体の製造方法及びナノ構造体 |
JP4136723B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2008-08-20 | キヤノン株式会社 | 構造体及び構造体の製造方法 |
KR20080038385A (ko) * | 2005-08-26 | 2008-05-06 | 카나가와 아카데미 오브 사이언스 앤드 테크놀로지 | 다공성 고분자막 및 그 제조 방법, 및 그 제조에 이용하는스탬퍼의 제조 방법 |
JP5283846B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2013-09-04 | 三菱レイヨン株式会社 | 成形体とその製造方法 |
-
2010
- 2010-09-27 JP JP2010215100A patent/JP5626636B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011089200A (ja) | 2011-05-06 |
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|
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|
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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