JP2011089200A - 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、装置、その方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として製造された成形体、反射防止物品および撥水性物品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アルミニウム材11を陽極酸化するに際し、アルミニウム材の陽極酸化部位に電解液を接触させるとともに、それとは異なる部位に電解液以外の液体を熱媒体12として接触させ、アルミニウム材の温度を電解液温度とは独立して所定の温度に制御する。電解液温度とアルミニウム材の温度を独立して制御することが可能となるため、陽極酸化反応に伴うアルミニウム材の発熱の除去や、アルミニウム材の加温による陽極酸化反応の高速化が可能となる。とくに、高規則性をもって配列された細孔の形成や高電圧での安定した陽極酸化処理が可能となる。
【選択図】図2
Description
配列されている陽極酸化ポーラスアルミナを得ることが可能になる。
(a)アルミニウム基材の表面に上述のような方法で陽極酸化ポーラスアルミナ層を形成する工程。
(b)前記アルミナ層を除去する工程。
(c)前記工程(b)の後、再び陽極酸化を施して細孔を形成する工程。
(d)細孔に孔径拡大処理を施す工程。
(e)前記工程(d)の後、再び陽極酸化を施す工程。
(f)前記工程(d)および工程(e)を交互に繰り返す工程。
図1は、比較のために、従来の通常の陽極酸化システムを示している。図1に示すように、アルミニウム材1が電解液2の浴中に浸漬され、通常の陽極酸化では、アルミニウム材1の温度調節は、電解液2を用いて行うことになる。陽極酸化処理により、アルミニウム材1の表面に陽極酸化ポーラスアルミナ3の多孔性皮膜が形成される。反応熱によりアルミニウム材1の温度が上昇するが、この熱4は電解液2中に逃がされる。したがって、前述の如く、電解液2の温度、ひいては陽極酸化処理温度を安定して所定の温度に維持することが難しくなる場合がある。
(a):アルミニウム基材の表面に請求項1〜16記載の方法で陽極酸化ポーラスアルミナ層を形成する工程。
(b):アルミナ層を除去する工程。
(c):工程(b)の後、再び陽極酸化を施して細孔を形成する工程。
(d):細孔に孔径拡大処理を施す工程。
(e):工程(d)の後、再び陽極酸化を施す工程。
(f):工程(d)および工程(e)を交互に繰り返す工程。
上述の工程(a)の後、工程(a)により形成された酸化皮膜42を除去することにより、図5(b)に示すように、除去された酸化皮膜42の底部(バリア層と呼ばれる)に対応する周期的な窪み、すなわち、細孔発生点43を形成する(酸化皮膜除去工程(b))。このように、形成された酸化皮膜42を一旦除去し、陽極酸化の細孔発生点43を形成することで、最終的に形成される細孔の規則性を向上させることができる(例えば、益田,応用物理,vol.69,No.5,p558(2000)参照。)。
ついで、細孔発生点43が形成されたアルミニウム原型40を電解液中、定電圧下で再度陽極酸化し、再び酸化皮膜を形成する(第2の酸化皮膜形成工程(c))。工程(c)では、化成電圧さえ同じであれば必ずしも工程(a)と同様の条件(電解液濃度、電解液温度等)下で陽極酸化する必要はない。また、背面冷却も行っても行わなくてもよい。背面冷却を行う場合の条件は工程(a)の項で説明した条件が好ましい。
このような(c)工程の後には、(c)工程で形成された細孔44の径を拡大させる孔径拡大処理工程(d)を行って、図5(d)に示すように、細孔44の径を図5(c)の場合よりも拡径する。
(d)工程の後には、再び陽極酸化を行って図5(e)に示すように、細孔44の形状を径の異なる2段の円柱状とする。陽極酸化の具体的方法は(c)工程と同じである。
ついで、再度(d)工程を行う。このように(d)工程と(e)工程を繰り返す繰り返し工程(f)工程により、図5(f)に示すように、細孔44の形状を開口部から深さ方向に徐々に径が縮小するテーパー形状にでき、その結果、周期的に微細凹凸構造が形成された陽極酸化アルミナを表面に備えたスタンパ50を得ることができる。
以上説明した表面に陽極酸化アルミナが形成されたスタンパを用いることによって、このスタンパの微細凹凸構造が転写された転写面を有する成形体を製造できる。
(1)電流密度
最大化成電圧での最大電流値を陽極酸化面積で除した値とした。
表面に陽極酸化アルミナまたは陽極酸化アルミナから成る鋳型の縦断面または表面を1分間Pt蒸着し,日本電子製電界放出型走査電子顕微鏡JSM-6700Fにより加速電圧7.00kVで観察した.そして,細孔の周期及び観察中で得られた中で最も規則配列が得られた部分において,配列の欠陥を含まない理想配列した細孔の個数をカウントした。
製造された成形体の縦断面または表面を5分間Pt蒸着し、上記(2)の場合と同様の
装置および条件にて、凸部の周期、凸部の高さを測定した。この際、測定箇所10箇所の
平均値を求め、各値とした。
製造された成形体の裏面(微細凹凸構造が形成されていない面)を艶消し黒色スプレー
で塗り、これをサンプルとし、日立社製分光光度計U−4000を用いて入射角5°、波
長380〜780nmの範囲で成形体の表面(微細凹凸構造が形成された面)の相対反射
率を測定した。
自動接触角測定器(協和界面科学社製:DM501)を用いて水滴の接触角を測定し、物品の撥水性を評価した。物品ごとに1μLの水滴を5箇所に滴下し、それぞれの接触角をθ/2法で計算してその平均値を求めた。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した後、図3に示したような背面冷却陽極酸化装置に装着した。1.5M(飽和濃度)シュウ酸を電解液とし、浴温32℃、熱媒体としての背面冷却水の温度30℃、熱媒体流通速度2×10-1m/sec、電解液強攪拌条件下において、60Vの定電圧で10分間陽極酸化し、化成電圧を70Vに上昇させて10分間、化成電圧を80Vに上昇させて5分間、化成電圧を90Vに上昇させて5分間、最後に化成電圧を100Vに上昇させ、5分間陽極酸化を行うことにより、4cm2 ×4cm2 以上の面積において、陽極酸化ポーラスアルミナを得た。細孔周期200nm,縦、横最大で10個×8個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した後、図3に示したような背面冷却陽極酸化装置に装着した。8M硫酸を電解液とし、浴温16℃、背面冷却水16℃、熱媒体流通速度2×10-1m/sec、強攪拌条件下において、20Vの定電圧で20分間陽極酸化し、化成電圧を25Vに上昇させて5分間、化成電圧を30Vに上昇させて5分間、35Vに上昇させて5分間、40Vに上昇させて5分間、45Vに上昇させて5分間、50Vに上昇させて5分間、55Vに上昇させて5分間、60Vに上昇させて5分間、65Vに上昇させて5分間、70Vに上昇させて5分間、75Vに上昇させて5分間、80Vに上昇させて5分間、陽極酸化を行った。従来の陽極酸化では行うことのできない高電圧条件下で安定に陽極酸化を行えた。その結果、細孔周期109nmの陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した後、図3に示したような背面冷却陽極酸化装置に装着した。8M硫酸を電解液とし、浴温16℃、背面冷却水16℃、熱媒体流通速度2×10-1m/sec、強攪拌条件下において、50Vの定電圧で1分間陽極酸化を行うことにより、細孔が113nm周期で縦、横最大で10個×10個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した。その後、試
料Al板の端のみを0.1M五ホウ酸アンモニウム水溶液を用いて300Vで1分間陽極酸化を行い、マスキング処理を施した。マスキング処理を施したAl板を背面冷却陽極酸化装置に装着した。0.3Mリン酸を電解液とし、浴温-1℃ 、背面冷却水-1℃ 、熱媒体流通速度2× 10-1m/sec、強攪拌条件下において、195Vの定電圧で1時間陽極酸化を行うことにより、細孔が500nm周期で縦、横最大で8個×6個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
純度99.99%のAl板を、過塩素酸/エタノールを用いて電解研磨を施した.その後、試料Al板の端のみを0.1M五ホウ酸アンモニウム水溶液を用いて300Vで1分間陽極酸化を行い、マスキング処理を施した.マスキング処理を施したAl板を背面冷却陽極酸化装置に装着した。あらかじめ10Ah/Lの条件で前電解を行った1.9M硫酸を電解液とし,浴温0.1℃、背面冷却水0.1℃、熱媒体流通速度2×10-1m/sec、強攪拌条件下において、200mA/cm2の定電流で陽極酸化を開始し、電圧が120Vになった後に定電圧条件に切り替えて10分間の陽極酸化を行った。その結果、細孔が200nm周期で縦、横最大で8個×8個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
化成電圧を60V10分、70V10分と段階的に上げて、最後に80Vで15分陽極酸化した以外は実施例1と同様の方法で行った。その結果細孔が160nm周期で縦、横最大で13個×15個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
硬化組成物を配置し、さらにその上に透明基材として三菱レイヨン社製アクリルフィルム「アクリプレンHBK003(商品名)」を積層し、硬化性組成物がスタンパに接触した状態で、このアクリルフィルムを介して1000mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射し、硬化組成物を硬化させた。
トリメチロールエタン・アクリル酸・無水コハク酸縮合エステル:40質量部
ヘキサンジオールジアクリレート:40質量部
信越化学社製商品名「x−22−1602」:10質量部
チバ・スペシャリティケミカルズ社製商品名「イルガキュア184」:2.7質量部
チバ・スペシャリティケミカルズ社製商品名「イルガキュア819」:0.18質量部
れ、鋳型表面の微細凹凸構造が良好に転写された微細凹凸構造が形成されていた。
範囲で0.09〜0.22%であり、反射防止物品として良好な性能を備えていた。また、水の接触角は134℃であり撥水性物品として良好な性能を備えていた。
シュウ酸水溶液の濃度を1M(飽和濃度)に、温度を20℃、背面冷却水の温度を20℃にした以外は実施例1と同様の方法で2cm2×2cm2以上の面積において、陽極酸化ポーラスアルミナを得た。細孔が205nm周期で縦、横最大で10個×8個の範囲で理想三角格子状に規則配列したドメイン構造からなる陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
シュウ酸水溶液の濃度を0.05M、温度を3℃で背面冷却を行わずに段階的に電圧を上げずにいきなり化成電圧80Vで陽極酸化を行った以外は実施例6と同様の方法で行った。隣り合う細孔間の間隔が200nm程度で規則性配列がない陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
背面冷却を行わなかった以外は実施例6と同様の方法で陽極酸化を行った。その結果60Vでヤケを生じた。
背面冷却を行わなかった以外は実施例7と同様の方法で陽極酸化を行った。その結果70Vで発熱を制御できなくなりヤケを生じた。
2、14、21、33 電解液
3、18 陽極酸化ポーラスアルミナ
4、17、25 熱
12、24、32 熱媒体
13、23 治具
15 陽極酸化部位側の面
16 背面側の面
26、34 対極
27、35 電源
28、36 攪拌子
37 スターラー
40 アルミニウム原型
41 細孔
42 酸化皮膜
43 細孔発生点
44 細孔
45 酸化皮膜
50 スタンパ
Claims (28)
- アルミニウム材を陽極酸化するに際し、アルミニウム材の陽極酸化部位に電解液を接触させるとともに、それとは異なる部位に電解液以外の液体を熱媒体として接触させ、アルミニウム材の温度を電解液温度とは独立して制御することを特徴とする、陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- アルミニウム材の温度を電解液温度とは独立して予め定めた所定の温度に制御することにより、細孔が規則性をもつて配列された陽極酸化ポーラスアルミナを作製する、請求項1に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- アルミニウム材の温度を電解液温度とは独立して予め定めた所定の温度に制御すると共に、陽極酸化処理中、化成電圧を所定の電圧に維持する、請求項1または2に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 陽極酸化処理中、化成電圧を段階的に上昇させる、請求項1または2に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- アルミニウム材の前記陽極酸化部位の背面側部位に前記熱媒体を接触させる、請求項1〜4のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記電解液の接触部位とは異なる部位に対し、前記熱媒体を流通させる、請求項1〜 5のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記熱媒体の流通速度が1×10-2m/s以上である、請求項6に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記熱媒体の流通速度が1×10-lm/s以上である、請求項7に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記アルミニウム材を冶具に固定し、該治具およびアルミニウム材の前記陽極酸化部位の背面側部位に対し前記熱媒体を接触させる、請求項1〜8のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 中央部に穴が形成された筒状のアルミニウム材を使用し、該穴の内側に前記熱媒体を接触させ、前記アルミニウム材の外側を陽極酸化する、請求項1〜9のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 前記アルミニウム材に形成された穴が貫通している、請求項10に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 電解液として硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液のいずれかを用いる、請求項1〜11のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 電解液としてシュウ酸水溶液を用い、最大化成電圧での電流密度が50〜1000mA/cm2である、請求項1〜12のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 電解液としてシュウ酸水溶液を用い、最大化成電圧が41〜200Vである、請求項1〜13のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 電解液としてシュウ酸水溶液を用い、シュウ酸水溶液の濃度が0.3M〜飽和水溶液である、請求項1〜14のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 電解液としてシュウ酸水溶液を用い、シュウ酸水溶液の温度が10〜40℃である、請求項1〜15のいずれかに記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法。
- 下記の工程を有する、陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型の製造方法。
(a)アルミニウム基材の表面に請求項1〜16のいずれかに記載の方法で陽極酸化ポーラスアルミナ層を形成する工程。
(b)前記アルミナ層を除去する工程。
(c)前記工程(b)の後、再び陽極酸化を施して細孔を形成する工程。
(d)細孔に孔径拡大処理を施す工程。
(e)前記工程(d)の後、再び陽極酸化を施す工程。
(f)前記工程(d)および工程(e)を交互に繰り返す工程。 - 前記工程(f)においては、孔径拡大処理で該工程が終了する、請求項17に記載の陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型の製造方法。
- 請求項17または18に記載の方法により細孔に連続的に細孔径が変化するテーパー形状を付与した陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型、あるいは該陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として作製したスタンパを鋳型として用いることを特徴とする、少なくとも一方の表面に微細凹凸構造を有する成形体の製造方法。
- 請求項19の方法で得られた成形体からなる反射防止物品。
- 請求項19の方法で得られた成形体からなる撥水性物品。
- 請求項1〜 16のいずれかに記載の方法に用いる装置であって、電解液の温度制御手段と、電解液温度とは独立して制御可能な熱媒体温度制御手段とを有することを特徴とする陽極酸化ポーラスアルミナの製造装置。
- さらに、前記熱媒体の流通速度制御手段を有している、請求項22に記載の陽極酸化ポーラスアルミナの製造装置。
- 請求項1〜 18のいずれかの方法により製造され、陽極酸化により形成された細孔の少なくとも一部が三角格子状に規則配列した陽極酸化ポーラスアルミナ。
- 三角格子状に規則配列した細孔の周期が50nm〜600nmの範囲にある、請求項24に記載の陽極酸化ポーラスアルミナ。
- 前記規則配列した細孔が縦、横4個×4個以上の範囲で理想三角格子状に配列されている、請求項24または25に記載の陽極酸化ポーラスアルミナ。
- 前記規則配列した細孔が縦、横6個×6個以上の範囲で理想三角格子状に配列されている、請求項26に記載の陽極酸化ポーラスアルミナ。
- 前記規則配列した細孔が縦、横10個×10個以上の範囲で理想三角格子状に配列されている、請求項27に記載の陽極酸化ポーラスアルミナ。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013112892A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-10 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | ナノ構造体作製用型体の製造方法、製造装置、ナノ構造体作製用型体及びナノ構造体 |
JP2013142800A (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルムの作製に用いられる型の製造方法 |
JP2016008345A (ja) * | 2014-06-26 | 2016-01-18 | 三菱レイヨン株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有するモールド及びその製造方法、並びに微細凹凸構造を表面に有する成形体 |
JP2018144360A (ja) * | 2017-03-07 | 2018-09-20 | 三菱ケミカル株式会社 | モールドの製造方法、物品の製造方法及び物品 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06306679A (ja) * | 1993-04-26 | 1994-11-01 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 局部陽極酸化処理方法及び装置 |
JPH08144097A (ja) * | 1994-11-21 | 1996-06-04 | Ricoh Co Ltd | 陽極酸化処理方法 |
JPH0995797A (ja) * | 1995-07-27 | 1997-04-08 | Agency Of Ind Science & Technol | 金属−多孔質金属酸化物接合管の製造方法及び装置 |
JPH10330993A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-15 | Agency Of Ind Science & Technol | 強化セラミックス管の製造方法およびその装置 |
JP2002004087A (ja) * | 2000-06-22 | 2002-01-09 | Canon Inc | ナノ構造体の製造方法及びナノ構造体 |
JP2004027360A (ja) * | 2002-03-27 | 2004-01-29 | Canon Inc | 構造体及び構造体の製造方法 |
WO2007023960A1 (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Kanagawa Academy Of Science And Technology | 多孔性高分子膜およびその製造方法並びにその製造に用いるスタンパの製造方法 |
JP2008197217A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 成形体とその製造方法 |
-
2010
- 2010-09-27 JP JP2010215100A patent/JP5626636B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06306679A (ja) * | 1993-04-26 | 1994-11-01 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 局部陽極酸化処理方法及び装置 |
JPH08144097A (ja) * | 1994-11-21 | 1996-06-04 | Ricoh Co Ltd | 陽極酸化処理方法 |
JPH0995797A (ja) * | 1995-07-27 | 1997-04-08 | Agency Of Ind Science & Technol | 金属−多孔質金属酸化物接合管の製造方法及び装置 |
JPH10330993A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-15 | Agency Of Ind Science & Technol | 強化セラミックス管の製造方法およびその装置 |
JP2002004087A (ja) * | 2000-06-22 | 2002-01-09 | Canon Inc | ナノ構造体の製造方法及びナノ構造体 |
JP2004027360A (ja) * | 2002-03-27 | 2004-01-29 | Canon Inc | 構造体及び構造体の製造方法 |
WO2007023960A1 (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Kanagawa Academy Of Science And Technology | 多孔性高分子膜およびその製造方法並びにその製造に用いるスタンパの製造方法 |
JP2008197217A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 成形体とその製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013112892A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-10 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | ナノ構造体作製用型体の製造方法、製造装置、ナノ構造体作製用型体及びナノ構造体 |
JP2013142800A (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルムの作製に用いられる型の製造方法 |
JP2016008345A (ja) * | 2014-06-26 | 2016-01-18 | 三菱レイヨン株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有するモールド及びその製造方法、並びに微細凹凸構造を表面に有する成形体 |
JP2018144360A (ja) * | 2017-03-07 | 2018-09-20 | 三菱ケミカル株式会社 | モールドの製造方法、物品の製造方法及び物品 |
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