WO2000046315A1 - Adhesif, structure de connexion d'electrodes, et procede de connexion d'electrodes - Google Patents

Adhesif, structure de connexion d'electrodes, et procede de connexion d'electrodes Download PDF

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Masami Yusa
Toshiyuki Yanagawa
Tohru Fujinawa
Itsuo Watanabe
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Hitachi Chemical Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to an adhesive interposed between opposing electrodes and electrically connecting the opposing electrodes, an electrode connection structure, and an electrode connection method.
  • the anisotropic conductive adhesive is a film-like adhesive containing a predetermined amount of conductive particles such as metal particles, and is used as a connection material for a circuit.
  • This adhesive is provided between the electronic components and the electrodes and circuits, and by applying pressure or heat and pressure, both the electrodes are electrically connected and the insulating property is given between the adjacent electrodes.
  • the electronic component and the circuit are bonded and fixed.
  • a thermoplastic material such as styrene or polyester, or a thermosetting material such as epoxy-silicon is known.
  • a curing agent is required, and the curing agent is inactive at room temperature in order to enhance the storage stability of the anisotropic conductive adhesive.
  • the reaction shall not one accompanied only by the activation temperature or more, c in order to cure the adhesive for this purpose, heat and pressure for the promotion of improvement in flowability of the resin component and the curing reaction Is required.
  • melting and flowing the adhesive, deforming the conductive particles to increase the contact area with the circuit, and increasing the temperature and pressure to increase the adhesion to the circuit member require the necessary temperature.
  • the pressure and pressure depend on the type of adhesive and the curing component.
  • anisotropic conductive adhesive having a form other than a film shape
  • a paste-like material using a photocurable resin is known, and these anisotropic conductive adhesives may be pressurized or pressed. Is to connect circuit members by heating and pressing, and then to cure the adhesive by light irradiation.
  • anisotropic conductive adhesive for example, when connecting a circuit member such as a liquid crystal panel, there is a concern that the liquid crystal panel itself such as a polarizing plate may be affected. Require faster connection than before
  • anisotropic conductive adhesive if the connection is made under conditions where the temperature at the time of heating and pressurizing is high, the material of the two opposing circuit members is different, and the difference in the coefficient of thermal expansion (h) is different. If it is large, there is a high possibility that circuit displacement will occur. This is more likely to occur as the pitch between adjacent circuits becomes narrower.
  • an object of the present invention is to provide a connection at a lower temperature than before by using light irradiation in combination, to reduce the thermal effect on circuit members, and to be superior in reliability of a connection portion after connection.
  • An object of the present invention is to provide an adhesive capable of electrically connecting electrodes, an electrode connection structure, and an electrode connection method. Disclosure of the invention
  • the first present invention is characterized by comprising ( a ) a light-powered thione polymerizable compound, (b) a light-powered thione polymerization initiator, (c) a photo-radical polymerizable compound, and (d) a photo-radical polymerization initiator. It is a glue.
  • the second present invention provides a first layer containing ( a ) a light-powered thione polymerizable compound and (b) a light-powered thione polymerization initiator, (c) a photo-radical polymerizable compound, and (d) a photo-radical polymerization initiator. It is a multi-layered adhesive having a second layer containing an agent.
  • the adhesive according to the first and second inventions is interposed between the facing electrodes, and the facing electrodes are electrically connected by heating and pressurizing the facing electrodes and simultaneously using light irradiation. I do.
  • the adhesive according to the present invention can reduce the heating temperature by the combined use of heating and pressurization and light irradiation, and can be connected at a lower temperature than before. As a result, the thermal effect on the circuit member is reduced, and the reliability of the connection after connection is excellent.
  • each adhesive component is as follows with respect to (a) the content of the light-powered thione-polymerizable compound and (a) 100 parts by weight of the sum of the light-powered thione-polymerizable compound and (c) the photoradical-polymerizable compound.
  • the content of the light-powered thione polymerization initiator is: 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound, wherein the content of (c) the photo-radical polymerizable compound is (a) the photo-radical thione polymerizable compound and (c) the photo-radical polymerizable compound.
  • the content of the photoradical polymerization initiator is (C)
  • the photo-radical polymerizable compound is preferably used in an amount of 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight.
  • the content of the light-powered thione polymerization initiator and the content of the photo-radical polymerization initiator are each set to 0.05 to 10 parts by weight. If the content is less than 0.05, the amount of the initiator is too small and the curing is performed. This is because there is a risk of causing defects, and if the content exceeds 10 parts by weight, the physical properties of the cured product may be reduced.
  • the adhesive may further contain a hydroxyl group-containing resin having a molecular weight of 1000 or more, and may be modified with a phenoxy resin, a carboxyl group-containing elastomer, or an epoxy group-containing elastomer. Resins are preferred. Further, acryl rubber can be contained in the adhesive.
  • the adhesive can be applied on a peelable substrate, dried and used as a film.
  • the adhesive may contain conductive particles, and the content of the conductive particles is 0.1 to 30 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the matrix component of the adhesive. It can be. By containing conductive particles, the reliability of the electrical connection is improved.
  • the thickness of the first layer and the second layer is preferably 5 to 50 m.
  • the multi-layered adhesive according to the second invention can include a third layer composed of a non-polymerizable component between the first layer and the second layer:
  • non-polymerizable component examples include compounds that do not have a chaotic polymerizable functional group or a radical polymerizable functional group, such as phenoxy resin, polyvinyl alcohol, polybutyral, acrylic rubber, and polyurethane.
  • the first circuit member having the first electrode and the second circuit member having the second electrode connect the first electrode and the second electrode.
  • the adhesive according to the first or second invention is interposed between the first electrode and the second electrode, which are arranged to face each other, and the first electrode is arranged to face the first electrode. And the second electrode are electrically connected.
  • the adhesive according to the first or second invention is interposed between the opposing electrodes, and the opposing electrodes are heated and pressurized while light irradiation is performed.
  • the electrodes facing each other are electrically connected.
  • the electrode connection structure of the present invention it is preferable that at least one of the first circuit member and the second circuit member has translucency. This is because the adhesive can be easily irradiated with light from the outside through the circuit member.
  • a first circuit member having a first electrode is formed by forming a wiring having an electrode on a glass substrate, and a second circuit member having a second electrode is formed by: A wiring having electrodes on a polyimide substrate may be formed.
  • the first circuit member having the first electrode and the second circuit member having the second electrode face the first electrode and the second electrode.
  • An adhesive that acts on the first or second invention is interposed between the first electrode and the second electrode that are arranged opposite to each other, and heat and pressure and light irradiation are used in combination. By doing so, the first electrode and the second electrode, which are opposed to each other, are electrically connected.
  • An electrode connection method is a method for connecting an electrode according to the second aspect, wherein a first circuit member having a first electrode and a second circuit member having a second electrode are interposed with an adhesive according to the second invention.
  • the first circuit member is a first circuit member on which a wiring having connection terminals is formed on a glass substrate
  • the second circuit member is a second circuit member.
  • the adhesive is interposed between the first electrode and the second electrode that are arranged to face each other, and light irradiation is performed while heating and pressing the opposed electrodes.
  • the electrodes facing each other are electrically connected.
  • the heating and pressurizing time is preferably 5 to 30 seconds. If it is shorter than 5 seconds, the fluidity of the adhesive is insufficient, and if it is longer than 30 seconds, the workability is reduced.
  • the time of the predetermined interval after the heating and pressurization is preferably 1 to 10 seconds. If the time is shorter than 1 second, the curing of the adhesive starts before the conduction between the electrodes is secured, which causes a poor connection. This is because the time required for light irradiation is shortened and curing failure of the adhesive is caused.
  • the light irradiation time is preferably 3 to 30 seconds. If the time is shorter than 3 seconds, the curing of the adhesive may be a factor.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a state in which electrodes of a circuit board are connected using an adhesive according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a method of connecting the electrodes of the circuit board shown in FIG. 1.
  • FIG. 3 is a state in which the electrodes of the circuit board are connected using an adhesive according to another embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing
  • FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a state in which electrodes of a circuit board are connected using an adhesive according to still another embodiment.
  • FIG. 1 schematically shows a structure for connecting electrodes of a circuit board using an adhesive according to an embodiment of the present invention, and shows a first circuit member 1 having a first electrode 11.
  • the adhesive 20 according to the present invention is interposed between the third electrode 3 and the second circuit member # 7 having the second electrode 15.
  • the adhesive 20 allows the first electrode 11 and the first electrode 11 to be interposed.
  • the second electrode 15 is adhesively fixed and electrically connected.
  • the first circuit member] 3 is a substrate of a flexible printed circuit (FPC)
  • the first electrode 1] is an FPC circuit-similarly
  • the second circuit member 17 is a glass substrate
  • the second electrode 15 is an ITO electrode circuit formed on a glass substrate.
  • FIG. 2 shows a method of bonding and fixing the first electrode 11 and the second electrode 15, and the first circuit member 13 is connected to the second electrode 15 by the heating and pressurizing head 31.
  • the circuit member 17 is pressed toward the translucent base 33 on which the circuit member 17 is placed, and at the same time, the light source 35 irradiates the adhesive 20 with light.
  • the light from the light source 35 passes through the light-transmitting base 33 and the light-transmitting second circuit member 17 and is irradiated on the adhesive 20.
  • FIG. 3 shows the adhesive 22 having a two-layer structure of the first layer 21 and the second layer 23
  • FIG. 4 shows the adhesive 22 having the first layer 21 and the second layer 23. Three layers with a third layer 25 between the two layers 23 The adhesive 24 having a structure is shown.
  • the single-layer adhesive 20 shown in FIG. 1 contains a light-powered thione polymerizable compound, a light-powered thione polymerization initiator, a photo-radical polymerizable compound, and a photo-radical polymerization initiator.
  • the multi-layer adhesives 22 and 24 shown in FIGS. 3 and 4 each contain a photo-thione polymerizable compound and a photo-thione polymerization initiator in the first layer 21 and the photo-radical polymerization in the second layer 23.
  • a photoactive thione polymerizable compound used for the adhesives 20, 22, and 24 according to the present invention is a compound having a functional group that is polymerized by a cationic species. And epoxy compounds, vinyl ether compounds, and cyclic ether compounds.
  • the epoxy compound is a compound having two or more epoxy groups in one molecule, for example, bisphenol type eboxyl resin derived from epichlorohydrin and bisphenol A or bisphenol F, polyglycidyl ether, Examples thereof include polyglycidyl esters, aromatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, novolak epoxy compounds, glycidylamine epoxy compounds, and glycidyl ester epoxy compounds.
  • butyl ether compound examples include an alkyl vinyl ether compound, an alkenyl vinyl ether compound, an alkynyl vinyl ether compound, and an aryl vinyl ether compound.
  • Examples of the cyclic ether compound include an oxetane compound, a tetrahydrofuran compound, a tetrahydropyran compound, and the like.
  • the photoinitiated thione polymerization initiator used in the present invention may be an aromatic diazonium salt, a sulfonium salt, an odonium salt, a phosphonium salt, a selenodim salt or the like, a metal salt complex such as a metal arene complex, silanolnoaluminum.
  • Complex compounds such as complexes, benzoin tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, and the like can be used.
  • Hexafluoroantimonate, hexafluorophosphate, tetrafluoroborate, tetrakis (bentafluorophenyl) borate and the like are used as anions in forming a salt.
  • the photo-radical polymerizable compound used in the present invention is a substance having a functional group that is polymerized by an active radical, such as an acrylate compound, a methacrylate compound, and a maleimide compound.
  • Photo-radical polymerizable compound is monomer, oligo
  • the monomer can be used in any state, and a monomer and an oligomer can be used in combination.
  • acrylate compounds and methacrylate compounds include photopolymerizable oligomers such as epoxy acrylate oligomers, polyurethane acrylate oligomers, polyether acrylate oligomers, polyester acrylate copolymers, trimethylolpropane triacrylate, and polyethylene glycol diacrylate.
  • photopolymerizable oligomers such as epoxy acrylate oligomers, polyurethane acrylate oligomers, polyether acrylate oligomers, polyester acrylate copolymers, trimethylolpropane triacrylate, and polyethylene glycol diacrylate.
  • Acrylate poly (a-no-alkylene glycol diacrylate), pentaerythritol acrylate, 2-cyanoethynolea acrylate, cyclohexinole acrylate, dicyclopentenino acrylate, dicyclopentenyloxy acrylate, 2- (2-ethoxyethyl ethoxylate) Rate, 2-ethoxyhexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-hexyl acrylate , 2-hydroxy acrylate, hydroxypropyl acrylate, isobornyl acrylate, isodesyl acrylate, isooctyl acrylate, n-lauryl atarilate, 2-methoxyl acrylate, 2-phenoxy Acrylic acid esters such as photopolymerizable monofunctional and polyfunctional acrylate monomers such as shetino urea acrylate, tetrahydrofuronorefreyl monoacrylate,
  • methacrylic acid esters such as photopolymerizable monofunctional and polyfunctional methacrylate monomers such as isodecyl methacrylate, n-laurino oleate tallate, stearyl remethal acrylate, tridecyl methacrylate, glycidyl methacryl
  • mold resins there are mold resins, and these resins may be used alone or as a mixture if necessary.However, in order to suppress curing shrinkage of the cured adhesive and to give flexibility, a urethane acrylate copolymer is blended. Is preferred.
  • a monomer such as a photopolymerizable polyfunctional acrylate monomer having a low viscosity for viscosity adjustment. One or more of them may be used in combination to obtain agent properties.
  • Maleimide compounds contain at least two maleimide groups in the molecule
  • 1-methyl-2,4-bismaleimide benzene N, N'-m-phenylenebismaleide, N, N'-p-phenylenebismaleide, N, X "-m- Tonorei Lenvismaleimid, N, N'-14,4-biphenylenebismaleimid, X, N'-14,4— (3,3'-dimethyl-1-biphenylene) bismaleimid, N, N '1-4, 4- (3,3, -Dimethyldiphenylmethane) Bismaleide, N, N '-, 4,1- (3,3'-Jetyldiphenylinolemethane) Bismaleide, N, N'-4,4-Diphenylmethanebisma Raymid, N, N '—4,4-diphenylbroban bismaleimide, N, N, —4,4-diphenyletherenolevismaleimid,
  • the photoradical polymerization initiator used in the present invention a compound that generates an active radical upon irradiation with light can be used.
  • the photo-radical polymerization initiator used in the present invention include benzoine ethenolate, benzophenatenole such as isopropylpropylbenzone, benzinole, benzinoleketal such as hydroxycyclohexylpheninoleketone, benzophenenone, and acetophenone.
  • ketones and derivatives thereof There are ketones and derivatives thereof, thioxanthones, bisimidazoles, and the like. If necessary, sensitizers such as amines, thio compounds, and phosphorus compounds may be added to these photoinitiators at any ratio. Good. At this time, it is necessary to select an optimal photoinitiator according to the wavelength of the light source used, the desired curing characteristics, and the like.
  • an organic peroxide-based curing agent can be used as a compound that generates an active radical upon irradiation with light.
  • One or more organic peroxides are selected from disilver oxide, dialkyl peroxide, veroxydicarbonate, peroxyester, heroxyketal, hydroperoxide, silyl peroxide, etc. it can.
  • chlorine ions and organic acids contained in the organic peroxide curing agent are preferably 5,000 ppm or less in order to suppress corrosion of electrodes of circuit members. Further, those having less organic acid generated after thermal decomposition are more preferable.
  • Organic peroxides have a decomposition temperature of at least 40 ° C with a half-life of 10 hours and a decomposition temperature of 180 or less with a half-life of 1 minute from the viewpoint of high reactivity and storage stability. It is more preferable that the decomposition temperature at which the half-life becomes 10 hours is 70 ° C. or higher in order to suppress the hindrance of the resin flow when performing low-temperature curing.
  • diazyl peroxides examples include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, otatanyl peroxide, and lauroyl peroxide. , Stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoinoleoxytonolene, benzoinolevate oxide and the like.
  • dialkyl peroxides ⁇ , bis (t-butyloxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl 2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butyl Cumyl veroxide and the like.
  • peroxydicarbonates examples include di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, bis (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and G2-ethoxymethoxyperoxide.
  • peroxyesters examples include cumyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl 1-methineolechinolivero Kishinoedekanoe Ichito, key Silver O carboxymethyl neodecanoate to t one, t Buchiruba one Okishibibareto, 1, 1, 3, 3-tetramethylbutyl bar one Okishi into single 2-Echiru Kisanoneto, 2, 5-dimethyl 2, 5-di (2-Echiru to Kisano Inorepaokishi) hexane, 1 - cycloheteroalkyl Kishiru 1 one methyl E chill Per O carboxymethyl Kisanoneto into single 2 Echinore, t into single ashore Honoré Per O carboxymethyl one 2-Echinore Kisanoneto, t 1-butylperoxy-2-ethylhexanoate,
  • silyl peroxides examples include t-butyl trimethylsilyl halide, bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxyside, t-butyltrivinylsilyl peroxide, and bis (t-butyl) dibutylsilyl peroxide. Id, tris (t-butyl) vinylsilyl peroxide, t. Monobutyl triarylsilyl halide, bis (t-butyl) diarylsilyl peroxide, tris (t-butyl) ) There is Arylsilyl peroxyside.
  • These free radical generators can be used alone or as a mixture, and may be used as a mixture with a decomposition accelerator, an inhibitor and the like. Microcapsules formed by coating these radical generators with a polyurethan-based or polyester-based high-molecular substance or the like are preferable because the working life is extended.
  • benzoin ethers such as the above-mentioned benzoethyl ether and isopropyl benzoin ether, benzyl ketals such as benzyl, hydroxycyclohexynolephenyl ketone, and ketones such as benzophenone and acetophenone.
  • benzyl ketals such as benzyl, hydroxycyclohexynolephenyl ketone
  • ketones such as benzophenone and acetophenone.
  • thioxanthones, bisimidazoles, etc. can also be used as an appropriate mixture.
  • sensitizers such as amines, thio compounds, and phosphorus compounds may be added to these photoinitiators in any ratio.
  • sensitizer examples include aliphatic amines, aromatic group-containing amines, those in which nitrogen forms part of a ring system such as piperidine, o-tolylthiourea, and sodium getyldithiopho.
  • Sulfate, soluble salt of aromatic sulfinic acid N, N'-dimethyl-p-aminobenzonitrile, N, N, 1-ethyl-p-aminobenzonitrile, N, N'-di ( ⁇ -cyanoethyl) - ⁇ -aminobenzonitrinole , ,, N'-di (/ 3-chloroethyl) - ⁇ -aminobenzonitrinole, tri- ⁇ -butylphosphine and the like.
  • hydroxyl group-containing resin that can be used in the present invention, a resin having good handleability when contained and having excellent stress relaxation upon curing is preferable, and when having a functional group such as a hydroxyl group, the adhesiveness to an adherend is improved. More preferred. More preferably, each polymer is modified with a radical polymerizable functional group. The molecular weight of these polymers is preferably 1000 or more, but if it is 100 or more, the miscibility between (a) the photoactive thione polymerizable compound and (c) the photoradical polymerizable compound is poor. Become.
  • the polyisocyanate resin may be used alone or in combination of two or more.
  • These hydroxyl group-containing resins having a molecular weight of 1000 or more may be modified with a carboxyl group-containing elastomer, an epoxy group-containing elastomer, or a radical polymerizable functional group. Also changes with radical polymerizable functional groups. A modified material is preferable because the heat resistance is improved.
  • a phenoxy resin modified with a carboxyl group-containing elastomer or a phenoxy resin modified with an epoxy group-containing elastomer can be used.
  • the acrylic rubber that can be used in the present invention is acrylic acid.
  • a copolymer acryl polymer containing methacrylate is preferably used.
  • a silane coupling agent can be mixed with the adhesive resin to increase the adhesive strength with the adherend.
  • the silane coupling agent include vinyl trichlorosilane, vinyl triethoxy silane, vinyl-tris-methoxy silane) silane, ⁇ -methacryloxyb mouth bil trimethoxy silane, ⁇ -glycidoxy propyl trimethoxy silane, ⁇ -amino propyl triethoxy silane; — (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, brovirtriethoxysilane isocyanate, etc., but (a) to increase the reactivity with photoionizable thione polymerizable compound or (c) photoradical polymerizable compound It is more preferable to use ⁇ -metaryloxypropyltrimethoxysilane.
  • the light used for curing generally used ultraviolet light can be used, and it can be generated by a mercury lamp, a metal halide lamp, an electrodeless lamp, or the like.
  • a radical reaction is used as a curing reaction, Since oxygen acts as a reaction inhibitor, the amount of oxygen in the atmosphere of light irradiation affects the curing of the photocurable resin. Since this largely depends on the type and concentration of the photocurable resin, photoinitiator, sensitizer, etc., it is necessary to study in detail for each compounding system.
  • the circuit members include chip parts such as semiconductor chips, resistor chips, and capacitor chips, substrates such as printed circuit boards, flexible wiring boards based on polyimide / polyester, and indium oxide on glass such as liquid crystal panels. ( ⁇ ⁇ ⁇ ) ⁇ Transparent electrodes wired with chrome, aluminum, etc. are used.
  • circuit members are usually provided with a large number of terminals (electrodes) (in some cases, a single terminal may be provided), and at least one of the circuit members has a light-transmitting property. At least one part of the terminals provided on these circuit members is opposed to each other, an adhesive is interposed between the vertically arranged terminals, and the opposed terminals are electrically connected by applying heat and pressure and irradiating light. To make a connected body. At this time, the thickness of the light-transmitting circuit member is preferably 1.2 mm or less in terms of light-transmitting properties.
  • the use of a film-like form is advantageous in that the handleability is superior and that the connection thickness can be made uniform as compared with the conventional base circuit connection material.
  • the connection material is heated to ensure conduction between the terminal and the conductive particles and the terminal. After that, it is possible to increase the melt viscosity of the connection material again by introducing a cooling process, thereby maintaining the pressure-contact state of the conductive particles by only heating and cooling and fixing the resin. .
  • the adhesive of the present invention does not include the conductive particles, a more stable connection can be obtained when the adhesive contains the force S for obtaining the connection by direct contact of the opposing circuit electrodes at the time of connection and the conductive particles.
  • the conductive particles include Au, Ag, Ni, Cu, metal particles such as solder, and iron, etc., and in order to obtain sufficient storage stability, the surface layer is Ni, Cu, etc.
  • the transition metals are preferably Au, Ag, and platinum group noble metals, and Au is more preferred. Further, the surface of a transition metal such as Ni may be coated with a noble metal such as Au.
  • the conductive layer described above may be formed on a nonconductive glass, ceramic, plastic, or the like by coating or the like, and the outermost layer may be coated with a noble metal.
  • plastic As a nucleus or hot-melt metal particles, they are deformable by heating and pressing, so that the contact area with the electrode increases at the time of connection and reliability is improved.
  • the thickness of the noble metal coating layer is preferably 100 angstroms or more.
  • a layer of a noble metal is provided on a transition metal such as Ni, free radicals are generated due to the redox effect of the transition metal caused by the loss of the noble metal layer or the loss of the noble metal layer caused by mixing and dispersion of conductive particles.
  • the conductive particles are properly used in a range of 0.1 to 30 parts (volume) with respect to 100 parts (volume) of the adhesive resin component. In order to prevent a short circuit in an adjacent circuit due to excessive conductive particles, the amount is more preferably 0.1 to 10 parts (volume).
  • coupling agents, inorganic fillers, organic fillers, white pigments may contain an additive selected from a combination inhibitor, a sensitizer and a combination thereof.
  • the amount of the additive is preferably 1 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the adhesive resin component, but the type and properties of the additive may not adversely affect the reliability of the obtained circuit board. It must be used within a range that is extremely low.
  • Epoxy acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK Oligo EA-10020) was used as the photo-radical polymerizable compound.
  • Hexafluorolin salt mixture of triarylsulfonium (manufactured by Union Carbide, trade name Cyracure UV I-69090) was used as the photoinitiated thione polymerization initiator.
  • Dicumyl veroxide (trade name Parkmill D, manufactured by NOF Corporation) was used as the photoradical polymerization initiator.
  • a 0.2 ⁇ m-thick nickel layer was provided on the surface of the particles having polystyrene as a core, and a 0.02 / m-thick gold layer was provided outside the nickel layer to obtain an average particle size of 5 and a specific gravity of 2 .5 conductive particles were produced.
  • a flexible circuit board (FPC) having 500 copper circuits (electrodes) 11 having a line width of 50 ⁇ m, a pitch of 100 ⁇ m, and a thickness of 18 ⁇ m was used.
  • Insulating substrate Polyimide film Thickness: 1 2 5 // m) 13 and 0.2 ⁇ m acid Glass with a thin layer of indium nitride (IT ⁇ ) 15 (thickness 1.1 mm, surface resistance 2
  • the photoactive thione polymerizable compound of the film adhesive used in Example 1 was converted to an alicyclic liquid epoxy resin (3,4-epoxycyclohexylmethyl-1,3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, Daicel Chemical Co., Ltd.).
  • a connector was produced in the same manner as in Example 1 except that the product was changed to Celloxide 2021, trade name: epoxy equivalent: 128 to 140), manufactured by Kogyo Co., Ltd.
  • Example 1 was the same as Example 1 except that the photoradical polymerizable compound of the film adhesive used in Example 1 was replaced with a urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK Oligo UA-51-2).
  • a connector was produced in the same manner.
  • the photo-radical polymerization initiator of the film adhesive used in Example 1 was replaced with a benzofuninone derivative (3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, manufactured by NOF Corporation.
  • a connection body was produced in the same manner as in Example 1 except that the name was changed to “BTTB”.
  • Example 1 The conductive particles of the film adhesive used in Example 1 were replaced with nickel particles having an average particle size of 5 ⁇ m (manufactured by Daido Special Co., Ltd., trade name: DSP3101, specific gravity: 8.5). Is A connector was produced in the same manner as in Example 1.
  • Hexafluorolin salt mixture of triarylsulfonium (manufactured by Union Carbide, trade name Cyracure UV I-6990) was used as the photoinitiated thione polymerization initiator.
  • a nickel layer having a thickness of 0.2 m was provided on the surface of the particles having polystyrene as a nucleus, and a gold layer having a thickness of 0.02 ⁇ was provided according to the ⁇ H rule of the nickel layer.
  • Conductive particles with specific gravity of 2.5 were prepared.
  • Phenoxy resin 50, light-powered thione polymerizable compound 50, and light-powered thione polymerization initiator 5 were blended in a solid weight ratio, and 1.5 volumes of conductive particles were further added. . /.
  • an epoxy acrylate oligomer manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name “Oligo-1002” was used.
  • Dicumyl peroxide (trade name Parkmill D, manufactured by NOF Corporation) was used as the photoradical polymerization initiator.
  • the phenoxy resin 50, the photo-radical polymerizable compound 50, and the photo-radical polymerization initiator 5 are blended so as to be a solid weight ratio, and the above-mentioned conductive particles are further dispersed by 1.5 vol% to obtain a thickness of 80.
  • a fluororesin film with a thickness of 10 m was applied to the fluororesin film with a thickness of 10 m by using a coating device and dried with hot air at 70 ° C for 10 minutes (see Fig. 3). Obtained.
  • the film-like adhesive 21 and the film-like adhesive 23 were adhered to each other using a mouth laminator to obtain a two-layer film-like adhesive having an adhesive layer thickness of 20 im as shown in Fig. 3. .
  • a flexible circuit board (FPC) having 500 copper circuits with a line width of 50 ⁇ , a pitch of 100 jum, and a thickness of 18 ⁇ m, and an oxidation rate of 0.2 / m
  • a glass thickness: 1.1 mm, surface resistance: 20 ⁇
  • ITO indium
  • UV-irradiation type thermocompression bonding device heating and pressurizing at 130 ° C and 2 MPa for 20 seconds and UV irradiation from the IT ⁇ glass side were performed simultaneously to connect over a width of 2 mm, and after a lapse of time, the pressure was released to produce a connected body.
  • the amount of ultraviolet irradiation applied to the adhesive was 2.O jZcnf.
  • heat-press at 70 ° C and 0.5 MPa for 5 seconds to make a temporary connection. was peeled off and connected to the other adherend, FPC.
  • ultraviolet irradiation was started for 17 seconds after 3 seconds had elapsed after only heating and pressurization was started, and the two processes were simultaneously completed after 20 seconds of heating and pressurization.
  • the photoactive thione polymerizable compound of the film adhesive 21 used in Example 6 was converted to an alicyclic liquid epoxy resin (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, Daicel Chemical Industries, Ltd.).
  • a connector was produced in the same manner as in Example 6, except that Celloxide 201, trade name, manufactured by Co., Ltd., and epoxy equivalent 128-140) were used. .
  • connection body was produced in the same manner as in 6.
  • the photo-radical polymerization initiator of the film adhesive 23 used in Example 6 was replaced with a benzophenone derivative (3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, manufactured by NOF Corporation.
  • a connection body was produced in the same manner as in Example 6, except that the product was replaced with BTTB (trade name).
  • connection body was produced in the same manner as in Example 6, except that the particles were replaced by particles (trade name: DSP3101, specific gravity: 8.5, manufactured by Daido Special Co., Ltd.).
  • connection body was produced in the same manner as in Example 1, except that the phenoxy resin of the film adhesive used in Example 1 was replaced with a phenoxy resin modified with a carboxyl group-containing elastomer.
  • a phenoxy resin modified with an elastomer containing a hydroxyl group was obtained by the following method.
  • phenoxy resin solution YPB-40 AM40 (hydroxyl equivalent 349 g / equivalent, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.
  • the resulting solution was clear and the solution viscosity was about 1 000 cP.
  • the negative part of the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate a solid resin, washed with methanol, and dried under reduced pressure.
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene of the obtained elastomer-modified phenoxy resin was determined by gel permeation chromatography (conditions: column: TSKgel G500OHXL + TSKge1G200OHXL (trade name of Tosoichi Co., Ltd.)) Eluent: It was 40,000 when measured with tetrahydrofuran (sample concentration 0.5 wt. 0 ).
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene of YPB-40 AM40 is 30,000.
  • the fuoxy resin of the film adhesive used in Example 1 was replaced with an epoxy group-containing A connector was produced in the same manner as in Example 1 except that the phenoxy resin modified with a stoma was used.
  • the fuoxy resin modified with an epoxy group-containing elastomer was obtained by replacing the terminal carboxyl group-containing butadiene-acrylonitrile copolymer of Example 11 with a terminal epoxy group-containing butadiene-acrylonitrile copolymer (Hy car ETBN 13). 00 X 40, manufactured by Ube Industries, Ltd.).
  • Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the phenolic resin (solid weight ratio 50) of the film adhesive used in Example 1 was a mixture of phenoxy resin 40 and acrylic rubber 10 in solid weight ratio. A connection body was produced.
  • the acrylic rubber was prepared by copolymerizing butyl acrylate (40 parts), ethyl acrylate (30 parts), atarilononitrile (30 parts), and glycidyl metharylate (3 parts) by a conventional method (weight average molecular weight). : 850,000). 150 g of this solid content was dissolved in 8550 g of ethyl acetate to obtain a 15% solution.
  • Hexafluorolin salt mixture of triarylsulfonium (manufactured by Union Carbide, trade name Cyracure UV 1-690) was used as a photoinitiated thione polymerization initiator.
  • a 0.2 ⁇ m-thick nickel layer was provided on the surface of the polystyrene core particles, and a 0.02 m-thick gold layer was provided outside the nickel layer. The average particle size was 5 m and the specific gravity was 2 .5 conductive particles were produced.
  • the phenoxy resin 50, the light-powered thione-polymerizable compound 50, and the light-powered thione-polymerization initiator 5 were blended in a solid weight ratio, and 3 volumes of conductive particles were further added. It is applied to a fluororesin film with a thickness of 80 ⁇ using a coating device, and dried with hot air at 70 ° C for 10 minutes to form a film adhesive with an adhesive layer thickness of 20 ⁇ . Obtained. /
  • the flexible circuit board copper circuitry having a thickness of 1 8 mu m to 5 0 0 inborn (FPC insulating board: polyimide (Film thickness: 125 ⁇ m) and glass (thickness: 1.1 mm, surface resistance: 20 ⁇ ) formed with a thin layer of 0.2 ⁇ m indium oxide (ITO).
  • FPC insulating board polyimide (Film thickness: 125 ⁇ m) and glass (thickness: 1.1 mm, surface resistance: 20 ⁇ ) formed with a thin layer of 0.2 ⁇ m indium oxide (ITO).
  • connection was made over a width of 2 mm, and after a lapse of time, the pressure was released, and a connected body was produced.
  • the amount of ultraviolet irradiation applied to the adhesive was 2.0 J / cm 2 .
  • it is heated and pressed at 70 ° C and 0.5 MPa for 5 seconds to temporarily connect, and then the fluororesin film was peeled off and connected to the other adherend, FPC.
  • ultraviolet irradiation was started for 17 seconds after 3 seconds had elapsed after only heating and pressurization was started, and the two processes were completed simultaneously after 20 seconds of heating and pressurization.
  • Dicumyl peroxide (manufactured by NOF CORPORATION, trade name Parkmill D) was used as the photoradical polymerization initiator.
  • a 0.2 m thick nickel layer is provided on the surface of the polystyrene core particles, and a 0.02 ⁇ thick gold layer is provided outside the nickel layer to have an average particle size of 5 ⁇ m and specific gravity. 2.5 Conductive particles were produced.
  • a glass (thickness: 1.1 mm, surface resistance: 20 ⁇ ) on which a thin layer of indium oxide ( ⁇ ⁇ ) of 0.2 ⁇ has been formed is combined with a UV-irradiation type thermocompression bonding machine (heating method: constant heat type, Toray) Heating and pressurizing at 30 ° C, 2MPa for 20 seconds and irradiating UV rays from the IT ⁇ glass side at the same time and connecting over a width of 2mm using a Then, a connection body was produced.
  • Ultraviolet ray irradiation amount irradiated to the adhesive was 2. 0 J / c ra 2.
  • heat-press at 70 ° C and 0.5 MPa for 5 seconds to temporarily connect, and then use the fluororesin film was peeled off and connected to the other adherend, FPC.
  • ultraviolet irradiation was started for 17 seconds after 3 seconds had elapsed after only heating and pressurization, and the two processes were simultaneously completed after 20 seconds of heating and pressurization. -.
  • connection bodies obtained in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated for initial resistance and adhesiveness.
  • initial resistance after connecting the circuit members, the resistance value between the adjacent circuits of the FPC including the above-mentioned connection portions was measured with a multimeter. The measurement current was 1 mA, and the resistance value was shown as the average of 150 resistance points between adjacent circuits.
  • the adhesive strength was measured and evaluated by a 90-degree peeling method according to JIS-Z0237.
  • a measuring device Tensilon UTM-4 manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. (peeling speed: 5 Omm / min, 25 ° C) was used.
  • peeling speed 5 Omm / min, 25 ° C
  • the connection bodies obtained in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 and 2 each had an initial resistance of 1 to 2 ⁇ .
  • Example 1 to 13 and Comparative Examples 1 and 2 the heating temperature at each bonding was set at 130 ° C, and the temperature was lower than 170 ° C, which was conventionally required for bonding.
  • Comparative Examples 1 and 2 peeling occurred at 53 ONZm or less, and the connection strength was inferior to Examples 1 to 13. Further, in Examples 1 to 13, there was almost no selectivity of the adhesive strength to the adherend, but a comparative example using an adhesive composed of a light-powered thione polymerizable compound and a light-powered thione polymerization initiator was used. 1.In the case of Comparative Example 2 using an adhesive composed of a photo-radical polymerizable compound and a photo-radical polymerization initiator, the adhesive strength to one adherend is high and the adhesive strength to the other adherend is high. The strength decreased, indicating the selectivity of the adhesive strength to the adherend.
  • Example 4 8 4 0 Peel off with adhesive layer
  • Example 6 7 6 0 Peel off with adhesive layer
  • Example 8 8 6 0 Peel off with adhesive layer
  • Example 9 8 2 0 Peel off with adhesive layer
  • Example 1 2 7 2 0 Peel off with adhesive layer
  • Example 1 3 7 2 0 Peel off with adhesive layer
  • the present invention is used as an adhesive suitable for electrically connecting opposing electrodes on a circuit board, an electrode connection structure using the adhesive, and an electrode connection method.

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Description

明細書 接着剤、 電極の接続構造及び電極の接続方法 技術分野
本発明は、 相対峙する電極間に介在され、 相対向する電極を電気的に接続する接着 剤、 電極の接続構造及び電極の接続方法に関する。 背景技術
一般に、 この種の接着剤において、 異方導電性接着剤は、 金属粒子等の導電性粒子 を所定量含有したフィルム状の接着剤であり、 回路の接続材料として用いられている ものがある。 この接着剤は、 電子部品と電極や回路の間に設け、 加圧または加熱加圧 を行うことによって、 両者の電極同士を電気的に接続すると共に、 隣接する電極間に は絶縁性を付与して、 電子部品と回路とを接着固定するものである。 異方導電性接着 剤としては、 スチレン系やポリエステル系等の熱可塑性物質や、 エポキシ系ゃシリコ ーン系等の熱硬化性物質が知られている。 これらの物質を含む接着剤を硬化させるに は硬化剤が必要であり、 さらにその硬化剤には、 異方導電性接着剤の保存安定性を高 めるために、 常温では不活性であり、 活性温度以上でのみ反応するという潜在性が伴 つていなければならなレ、c このため接着剤を硬化させるためには、 樹脂成分の流動性 の向上および硬化反応の促進のための加熱加圧が必要となる。 すなわち、 接着剤を溶 融、 流動させ、 導電性粒子を変形して回路との接触面積を増大し、 かつ回路部材との 密着性を高めるために温度や圧力が必要となり、 これらの必用な温度や圧力は、 接着 剤の種類や硬化成分による。
この他にフィルム状以外の形態を有する異方導電性接着剤としては、 光硬化性樹脂 を用いたペース ト状材料が知られているが、 これらの異方導電性接着剤は加圧もしく は加熱加圧によって回路部材を接続し、 その後光照射によって接着剤を硬化させるも のである。
これらの従来技術では、 接着剤が十分な接着強度を得るためには、 1 7 0〜2 0 0 °Cの加熱温度を必要としていた。 しかしながら、樹脂硬化の際の加熱加圧に伴う回路部材に対する熱や圧力の影響は その大小を問わず存在し、 特に熱的な影響に関しては、 回路部材自体への影響のみな らず、 回路部材接続時の影響も大きい。
すなわち、 前者の異方導電性接着剤の場合、 例えば液晶パネル等の回路部材を接続 する際、 偏光板等液晶パネル自体に対する影響が懸念され、 これによつて従来より低 温での接続、 あるいは従来より短時間での接続が要求されている
また後者の異方導電性接着剤の場合、加熱加圧時の温度が高い条件で接続を行うと、 対向する 2つの回路部材の材質が異なっておりそれぞれの熱膨張係数 （ひ） の差が大 きい場合には、 回路の位置ずれが発生する可能性が高い。 このことは隣接回路間のピ ツチが狭くなるにつれてさらに発生確率が高くなる。
そこで、 本発明の目的は、 光照射を併用することによって従来より低温での接続が 可能で、 回路部材に対する熱的影響を軽減し、 かつ接続後における接続部の信頼性に 優れる、 相対峙する電極同士を電気的に接続することを可能とする接着剤、 電極の接 続構造及び電極の接続方法を提供することにある。 発明の開示
第一の本発明は、 （a ) 光力チオン重合性化合物、 （b ) 光力チオン重合開始剤、 ( c ) 光ラジカル重合性化合物、 （d ) 光ラジカル重合開始剤を含むことを特徴とす る接着剤である。
また第二の本発明は、 （a ) 光力チオン重合性化合物および （b ) 光力チオン重合 開始剤を含む第一層と、 （c ) 光ラジカル重合性化合物および （d ) 光ラジカル重合 開始剤を含む第二層を備えた多層構成の接着剤である。
これら第一及び第二の発明にかかる接着剤を対峙する電極間に介在させて、 対峙す る電極を加熱加圧しつつ同時に光照射を併用して、相対峙する電極同士を電気的に接 続する。 本発明にかかる接着剤は、 加熱加圧と光照射との併用により加熱温度を小さ くでき、 従来より低温での接続が可能となる。 これにより、 回路部材に対する熱的影 響を軽減し、 かつ接続後における接続部の信頼性に優れる。
( a ) 光力チオン重合性化合物として、 エポキシ化合物、 ビニルェ一テル化合物及 び環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも 1種、 （c ) 光ラジカル重合性化合物 として、 ァクリル酸エステル化合物、 メタクリル酸エステル化合物及びマレイミ ド化 合物から選ばれる少なく とも 1種を含有することが硬化性が良好であるので好まし レ、。
( b ) 光力チオン重合開始剤としてォニゥム塩が、 光力チオン重合性化合物、 特に エポキシ化合物に対する硬化性が高いので好ましく、 （d ) 光ラジカル重合開始剤と して有機過酸化物が、 光硬化に加え、 熱反応による硬化促進を図るため好ましい。 それぞれの接着剤成分の含有量としては、 （a ) 光力チオン重合性化合物の含有量 ( a ) 光力チオン重合性化合物と （c ) 光ラジカル重合性化合物の和 1 0 0重量部 に対して 5〜9 5重量部、 好ましくは 2 0〜 8 0重量部、 より好ましくは 4 0〜 6 0 重量部、 （b ) 光力チオン重合開始剤の含有量が （a ) 光力チオン重合性化合物 1 0 0重量部に対して 0 . 0 5〜 1 0重量部、 （c ) 光ラジカル重合性化合物の含有量が ( a ) 光力チオン重合性化合物と （c ) 光ラジカル重合性化合物の和 1 0 0重量部に 対して 5〜9 5重量部、 好ましくは 2 0〜 8 0重量部、 より好ましくは 4 0〜 6 0重 量部、 （d ) 光ラジカル重合開始剤の含有量が （c ) 光ラジカル重合性化合物 1 0 0 重量部に対して 0 . 0 5〜 1 0重量部の範囲内で用いることが好ましい。
光力チオン重合開始剤と光ラジカル重合開始剤との含有量を夫々 0 . 0 5〜 1 0重 量部としているのは、 夫々 0 . 0 5未満だと開始剤の量が少なすぎて硬化不良を引き 起こすおそれがあり、 1 0重量部を超えると硬化物の物性の低下をまねくおそれがあ るからである。
接着剤中にさらに分子量 1 0 0 0 0以上の水酸基含有樹脂を含有することができ、 フエノキシ樹脂、 カルボキシル基含有のエラストマ一で変性されたフエノキシ樹脂、 エポキシ基含有のエラストマ一で変性されたフエノキシ樹脂が好ましい。 さらに接着 剤中にァクリルゴムを含有することができる。
これらは硬化時の応力緩和に優れ、 被着体との接着性を向上させ、 接続信頼性を向 上させる。 また、 流動性を向上させたり、 内部応力の緩和による物性の向上をもたら す。
これらの接着剤は剥離性基材上に塗布、 乾燥してフィルム状として用いることがで きる。 フィルム状とすることにより、 取り扱い性に優れるとともに接続厚みの均一化 が図り易い c 上記接着剤には、 導電性粒子を含有でき、 導電性粒子の含有量を接着剤のマトリク ス成分 1 0 0容量部に対して 0 . 1〜 3 0容量部とした異方導電性接着剤とすること ができる。 導電性粒子を含有することにより、 電気的接続の信頼性が向上する。
第二の発明において、 第一層及び第二層の層厚みが 5〜5 0 mであることが好ま しい。
5 ^u mよりも小さいと第一層と第二層に分けた効果を十分に発揮できなく、 5 0 μ よりも大きいと接着剤のはみ出し量が多くなり、作業性を低下させるおそれがあり、 電極の高さの 0 . 8から 1 . 5倍程度の接着剤厚みが必要だからである。
第二の発明にかかる多層構成の接着剤は、 第一層と第二層の間に、 非重合性成分か ら成る第三層を備えることができる：
非重合性成分としては、 フエノキシ樹脂、 ポリビニルアルコール、 ポリビュルプチ ラール、 アクリルゴム、 ポリウレタンなどのカオチン重合性官能基やラジカル重合性 官能基を有しない化合物が挙げられる。
また、 第三の発明の電極の接続構造は、 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第 二の電極を有する第二の回路部材とが、第一の電極と第二の電極を対向して配置され ており、 前記対向配置した第一の電極と第二の電極の間に、 第一または第二の発明に かかる接着剤が介在されており、前記対向配置した第一の電極と第二の電極が電気的 に接続されているものである。
第三の発明にかかる電極の接続構造によれば、第一または第二の発明にかかる接着 剤を対峙する電極間に介在させて、 対峙する電極を加熱加圧しつつ光照射を併用して、 相対峙する電極同士を電気的に接続する。加熱加圧時に光照射を併用することにより、 対峙する第一の電極と第二の電極との接続に要する温度を従来より低くすることが 可能で、 優れた接着強度を得ることができ、 良好な電気的導通を得ることができ、 優 れた信頼性を有する電極の接続構造を得ることができる。
本発明の電極の接続構造は、 第一の回路部材と第二の回路部材の少なくとも一方が 透光性を有するものが好ましい。外部から回路部材を通して容易に接着剤に光照射で きるからである。
本発明の電極の接続構造は、 第一の電極を有する第一の回路部材が、 ガラス基板に 電極を有する配線が形成されたものであり、第二の電極を有する第二の回路部材が、 ポリイミ ド基板に電極を有する配線が形成されたものであることができる。
第四の発明にかかる電極の接続方法は、 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第 二の電極を有する第二の回路部材とが、第一の電極と第二の電極を対向して配置され ており、前記対向配置した第一の電極と第二の電極の間に第一または第二の発明にか 力 る接着剤が介在されており、 加熱加圧および光照射を併用することによって、 前記 対向配置した第一の電極と第二の電極を電気的に接続するものである。
第五の発明にかかる電極の接続方法は、 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第 二の電極を有する第二の回路部材とを、第二の発明にかかる接着剤を介在させて対向 配置し、 加熱加圧および光照射を併用することによって、 前記対向配置した第一の電 極と第二の電極を電気的に接続させる電極の接続方法であって、接着剤における第一 層の被着対象が第一回路部材であり、 第一回路部材は、 ガラス基板に接続端子を有す る配線が形成されたものであり、 第二層の被着対象が第二回路部材であり、 第二回路 部材がポリイミ ド基板に接続端子を有する配線が形成されたものである電極の接続 方法。
第四及び第五の電極の接続方法によれば、接着剤を対向して配置した第一の電極と 第二の電極との間に介在させて、対向する電極を加熱加圧しつつ光照射を併用して、 相対峙する電極同士を電気的に接続する。加熱加圧するときに光照射を併用すること によって従来より低温での接続が可能で、 回路部材に対する熱的影響を軽減し、 かつ 接続後における接続部の信頼性に優れる、相対峙する電極同士を電気的に接続する二 とを可能とする電極の接続方法を得ることができる。 更に、 第五の電極の接続方法で は、 第一回路部材がガラス基板であるから、 回路部材側から接着剤に照射することが でき、 外側から容易に光照射が可能である D
第四及び第五の電極の接続方法において、 一定時間の加熱加圧の開始後、 所定間隔 経過後に一定時間の光照射を開始し、 光照射が行なわれている間は加熱加圧状態が保 持される方法が使用される。
加熱加圧時間は、 5〜 3 0秒が好ましい。 5秒より少ないと接着剤の流動性が不十 分であり、 3 0秒より多いと作業性が低下するからである。
加熱加圧後の所定間隔の時間は、 1〜 1 0秒が好ましい。 1秒より少ないと電極間 の導通が確保される前に接着剤の硬化が始まり導通不良の原因となり、 1 0秒より多 いと光照射に要する時間が短くなり、 接着剤の硬化不良を引き起こすからである.： 光照射時間は、 3〜 3 0秒が好ましい。 3秒より少なレ、と接着剤の硬化不良の要因 となり、 3 0秒より多いと作業性が低下するからである。 図面の簡単な説明
図 1は、本発明の実施の形態にかかる接着剤を用いて回路基板の電極を接続する状 態を模式的に示した断面図である。
図 2は、 図 1に示す回路基板の電極を接続する方法を模式的に示した断面図である 図 3は、他の実施の形態にかかる接着剤を用いて回路基板の電極を接続する状態を 模式的に示した断面図である。
図 4は、 更に他の実施の形態にかかる接着剤を用いて回路基板の電極を接続する状 態を模式的に示した断面図である。 発明を実施するための最良の形態
図 1は、本発明の実施の形態にかかる接着剤を用いて回路基板の電極を接続する構 造を模式的に示したものであり、第一の電極 1 1を有する第一の回路部材 1 3と第二 の電極 1 5を有する第二の回路部材〗 7との間に、本発明にかかる接着剤 2 0が介在 されており、 この接着剤 2 0により、 第一の電極 1 1と第二の電極 1 5とを接着固定 して電気的に接続する。 第一の回路部材] 3は、 フレキシブルプリント配線回路 （F P C ) の基板であり、 第一の電極 1 ]は、 F P C回路である- 同様に第二の回路部材 1 7は、 ガラス基板であり、 第二の電極 1 5は、 ガラス基板上に形成された I T Oの 電極回路である。
図 2は、 第一の電極 1 1 と第二の電極 1 5とを接着固定する方法を示しており、 加 熱加圧へッド 3 1により、第一の回路部材 1 3を第二の回路部材 1 7が載置されてい る透光性のベース 3 3に向けて押圧しており、 同時に光源 3 5から接着剤 2 0に光を 照射している。 尚、 光源 3 5からの光は、 透光性のベース 3 3及び透光性の第二の回 路部材 1 7を透過して接着剤 2 0に照射される。
図 3は、第一層 2 1 と第二層 2 3との二層構造とした接着剤 2 2を示したものであ り、 図 4は、 接着剤 2 2を第一層 2 1 と第二層 2 3との間に第三層 2 5を設けた 3層 構造とした接着剤 2 4を示したものである。
図 1に示す単層の接着剤 2 0は、 光力チオン重合性化合物、 光力チオン重合開始剤、 光ラジカル重合性化合物、 光ラジカル重合開始剤を含んでいる。
図 3及び図 4の多層の接着剤 2 2、 2 4は、 第一層 2 1に光力チオン重合性化合物 および光力チオン重合開始剤を含んでおり、第二層 2 3に光ラジカル重合性化合物お よび光ラジカル重合開始剤を含んでいる- 本発明にかかる接着剤 2 0、 2 2、 2 4に用いる光力チオン重合性化合物としては、 カチオン種によって重合する官能基を有する化合物であり、 エポキシ化合物、 ビニル エーテル化合物、 環状エーテル化合物等が挙げられる。 エポキシ化合物としては、 1 分子中に 2個以上のエポキシ基を有する化合物であり、 例えば、 ェピクロルヒ ドリン とビスフエノール Aやビスフエノール F等から誘導されるビスフエノール型ェボキ シ樹脂や、 ポリグリシジルエーテル、 ポリグリシジルエステル、 芳香族エポキシ化合 物、 脂環式エポキシ化合物、 ノボラック型エポキシ化合物、 グリシジルァミン系ェボ キシ化合物、 グリシジルエステル系エポキシ化合物等が挙げられる。
ビュルェ一テル化合物としては、 アルキルビニルエーテル化合物、 アルケニルビ二 ルェ一テル化合物、 アルキニルビニルエーテル化合物、 ァリールビニルエーテル化合 物等が挙げられる。
環状エーテル化合物としては、 ォキセタン化合物、 テトラヒ ドロフラン化合物、 テ トラヒ ドロピラン化合物等が挙げられる。
本発明に用いる光力チオン重合開始剤としては、 芳香族ジァゾニゥム塩、 スルホ二 ゥム塩、 ョ一ドニゥム塩、 ホスホニゥム塩、 セレノ二ゥム塩等のォニゥム塩ゃ金属ァ レーン錯体、 シラノールノアルミニウム錯体等の錯体化合物、 ベンゾイントシレート、 o—ニトロべンジルトシレート等を用いることができる。 また、 塩を形成する際の対 ァニオンとしてはへキサフルォロアンチモネート、 へキサフルォロホスフェート、 テ トラフルォロボレート、 テトラキス （ベンタフルオロフェニル） ボレート等が用いら れる。
本発明に用いる光ラジカル重合性化合物としては、活性ラジカルによって重合する 官能基を有する物質であり、 アクリル酸エステル化合物、 メタクリル酸エステル化合 物、 マレイミ ド化合物等が挙げられる。 光ラジカル重合性化合物はモノマー、 オリゴ マーいずれの状態で用いることが可能であり、モノマーとオリゴマーを併用すること も可能である。
ァクリル酸エステル化合物、 メタク リル酸エステル化合物としてはエポキシァクリ レートオリゴマー、 ゥレタンァクリ レートオリゴマ一、 ポリエーテルァクリ レートォ リゴマー、 ボリエステルアタリ レートオリゴマー等の光重合性オリゴマー、 トリメチ ロールプロパントリアクリ レート、 ポリエチレングリコールジァクリ レート、 ポリア ノレキレングリコールジァクリ レート、 ペンタエリスリ トールァクリ レート、 2—シァ ノエチノレアクリ レート、 シクロへキシノレアタリ レート、 ジシクロべンテニノレアクリ レ ート、 ジシクロペンテ二ロキシェチルアタ リ レート、 2— ( 2—エトキシエトキシ） ェチルアタリ レート、 2—エトキシェチルアタリ レート、 2—ェチルへキシルアタリ レート、 n—へキシノレァクリ レート、 2—ヒ ドロキシェチノレアクリ レート、 ヒ ドロキ シプロピルァク リ レート、 ィソボル二ルァクリ レート、 ィソデシルァクリ レート、 ィ ソォクチルアタリ レート、 n—ラウリルアタリ レート、 2—メ トキシェチルアタリ レ ート、 2—フエノキシェチノレアクリ レート、 テトラヒ ドロフノレフリ一ノレァクリ レート、 ネオペンチルグリコールジアタリ レート、 ジペンタエリスリ トールへキサアタリ レー ト等の光重合性単官能および多官能ァクリレートモノマー等といったァクリル酸ェ ステル等、 およびこれらと類似した t 一ブチルアミノエチルメタタリレート、 シクロ へキシノレメタクリ レート、 ジシクロペンテ二ロキシェチルメタタリ レート、 2—ヒ ド 口キシェチルメタクリ レート、 ィソボルニルメタクリ レート、 ィソデシルメタクリ レ ート、 n—ラウリノレアタリレート、 ステアリノレメタタリレート、 ト リデシルメタタリ レート、 グリシジルメタクリレート等の光重合性単官能および多官能メタクリレート モノマーといったメタクリル酸エステル等に代表される光重合型の樹脂があり、必要 に応じてこれらの樹脂を単独あるいは混合して用いてもよいが、接着剤硬化物の硬化 収縮を抑制し、柔軟性を与えるためにはウレタンアタリレートオリゴマーを配合する のが好ましい。 また上述した光重合性オリゴマーは高粘度であるために、 粘度調整の ために低粘度の光重合性多官能ァクリレートモノマー等のモノマーを配合するのが 好ましいが、 その際には所望の接着剤特性を得るために 1種あるいは 2種類以上を混 合して用いてもよい。
マレイミ ド化合物としては、分子中にマレイミ ド基を少なくとも 2個以上含有する もので、 例えば、 1—メチルー 2、 4一ビスマレイミ ドベンゼン、 N， N' — m—フ ェニレンビスマレイ ミ ド、 N， N' — p—フエ二レンビスマレイ ミ ド、 N, X" -m ー トノレイ レンビスマレイ ミ ド、 N， N' 一 4， 4ービフエ二レンビスマレイ ミ ド、 X, N' 一 4， 4— (3, 3 ' —ジメチル一ビフエ二レン） ビスマレイミ ド、 N， N' 一 4， 4— (3， 3， ージメチルジフエニルメタン） ビスマレイミ ド、 N， N' —4, 4一 （3， 3 ' ージェチルジフエ二ノレメタン） ビスマレイミ ド、 N， N' —4, 4一 ジフエニルメタンビスマレイミ ド、 N， N' — 4， 4ージフエニルブロバンビスマレ イ ミ ド、 N， N， — 4， 4—ジフエニルエーテノレビスマレイ ミ ド、 N， N' 一 3， 3 ' —ジフエニルスノレホンビスマレイミ ド、 2， 2—ビス （4一 （4一マレイミ
キシ） フエニル） ブロハン、 2， 2—ビス （3— s—ブチルー 4— 8 (4—マ ドフエノキシ） フエニル） プロパン、 1， 1一ビス （4— (4一マレイミ ドフニノキ シ） フエニル） デカン、 4， 4 ' —シクロへキシリデンービス （ 1— (4マレイミ ド フエノキシ） 一 2—シクロへキシルベンゼン、 2， 2—ビス （4— (4—マレイミ ド フエノキシ） フエニル） へキサフルォロプロパンなどを挙げることができる： これら は単独でもまた組み合わせても使用できる。
本発明に用いる光ラジカル重合開始剤としては、 光照射によって活性ラジカルを発 生する化合物を用いることができる。 本発明に用いる光ラジカル重合開始剤としては ベンゾィンェチノレエーテノレ、 ィソプロピルべンゾィンェ一テノレ等のベンゾィンエーテ ノレ、 ベンジノレ、 ヒ ドロキシシクロへキシルフェニノレケトン等のベンジノレケタール、 ベ ンゾフエノン、 ァセトフエノン等のケトン類およびその誘導体、 チォキサントン類、 ビスイミダゾール類等があり、 これらの光開始剤に必要に応じてアミン類、 ィォゥ化 合物、 リン化合物等の増感剤を任意の比で添加してもよい。 この際、 用いる光源の波 長や所望の硬化特性等に応じて最適な光開始剤を選択する必要がある。
また、 光照射によって活性ラジカルを発生する化合物として有機過酸化物系硬化剤 を用いることができる。 有機過酸化物としてはジァシルバーオキサイ ド、 ジアルキル パーォキサイ ド、 バーオキシジカーボネート、 パーォキシエステル、 ハーォキシケタ ール、 ハイ ドロパーォキサイ ド、 シリルパーォキサイ ド等から 1種または 2種以上を 選定できる。 これらは回路部材の電極の腐食を抑制するために、 有機過酸化物硬化剤 中に含有される塩素イオンや有機酸は 5 000 p pm以下であることが好ましく、 さ らに加熱分解後に発生する有機酸が少ないものがより好ましい。
有機過酸化物の種類は高反応性と保存安定性の点から、 半減期が 1 0時間となる分 解温度が 4 0 °C以上かつ半減期が 1分となる分解温度が 1 8 0 以下であるものが 好ましく、低温硬化を行う場合の樹脂流動の妨げを抑制するためには半減期が 1 0時 間となる分解温度が 7 0 °C以上であることがより好ましい
ジァシルパ一オキサイ ド類としては、 イソブチルバ一オキサイ ド、 2， 4ージクロ 口ベンゾィルパーオキサイ ド、 3， 5， 5—トリメチルへキサノィルパ一オキサイ ド、 オタタノィルパーォキサイ ド、 ラウロイルハ一ォキサイ ド、 ステアロイルパーォキサ ィ ド、 スクシニックパーォキサイ ド、 ベンゾィノレハーォキシトノレェン、 ベンゾイノレバ 一オキサイ ド等がある。 ジアルキルハーオキサイ ド類では、 α， ひ' ビス （ tーブチ ルバーオキシ） ジイソプロピルベンゼン、 ジクミルパーオキサイ ド、 2 , 5—ジメチ ルー 2， 5—ジ （ t 一ブチルパーォキシ） へキサン、 tーブチルクミルバーオキサイ ド等がある。
パーォキシジカーボネート類としては、 ジ一 n —プロピルバーオキシジカーボネー ト、 ジイソプロピルパーォキシジカーボネート、 ビス （4— tーブチルシクロへキシ ル） パーォキシジカーボネート、 ジー 2—エトキシメ トキシパーォキシジカーボネー ト、 ジ （2—ェチルへキシルバーォキシ） ジカーボネート、 ジメ トキシブチルバ一才 キシジカーボネート、 ジ （3—メチルー 3—メ トキシブチルバーォキシ） ジカーボネ 一ト等がある。
パーォキシエステル類としては、 クミルパーォキシネオデカノエート、 1 , 1， 3， 3—テトラメチルブチルパーォキシネオデカノエ一ト、 1ーシク口へキシルー 1ーメ チノレエチノレバーォキシノエデカノェ一ト、 t 一へキシルバーォキシネオデカノエート、 tーブチルバ一ォキシビバレート、 1， 1， 3， 3—テトラメチルブチルバ一ォキシ 一 2—ェチルへキサノネート、 2， 5—ジメチルー 2， 5—ジ （2—ェチルへキサノ イノレパーォキシ） へキサン、 1 —シクロへキシルー 1 一メチルェチルパーォキシ一 2 ーェチノレへキサノネート、 t 一へキシノレパーォキシ一 2—ェチノレへキサノネート、 t 一ブチルパーォキシ一 2—ェチルへキサノネ一ト、 t—ブチルパーォキシィソブチレ ート、 1， 1 一ビス （ t —ブチノレパーォキシ） シクロへキサン、 t —へキシノレバーオ キシイソプロピルモノカーボネート、 t 一ブチルバーオキシー 3， 5 , 5—トリメチ ノレへキサノネート、 tーブチルバ一ォキシラウレート、 2， 5—ジメチル一 2， 5— ジ （m—トルオイルパーォキシ） へキサン、 t —ブチルパーォキシイソプロビルモノ カーボネート、 tーブチノレパーォキシ一 2—ェチルへキシノレモノカーボネート、 t— へキシルバーォキシベンゾエート、 t—ブチルバ一ォキシァセテ一ト等がある： パーォキシケタール類では、 1 , 1 一ビス （ t一へキシルバーォキシ） 一 3， 3， 5—トリメチノレシクロへキサン、 1， 1 —ビス （ t 一へキシルバーォキシ） シクロへ キサン、 1， 1 一ビス （tーブチルバ一ォキシ） 一 3， 3 , 5—トリメチノレシクロへ キサン、 1， 1 一 （ t 一ブチルハーォキシ） シクロ ドデカン、 2， 2 —ビス （ tーブ チルバーォキシ） デカン等がある- ハイ ドロバーオキサイ ド類では、 ジイソプロピルベンゼンハイ ドロパーォキサイ ド、 クメンハイ ドロパーォキサイ ド等がある。
シリルパーォキサイ ド類としては t 一ブチルトリメチルシリルハーォキサイ ド、 ビ ス （ tーブチル） ジメチルシリルパーォキサイ ド、 t 一ブチルトリビニルシリルバー ォキサイ ド、 ビス （ tーブチル） ジビュルシリルバーオキサイ ド、 トリ ス （ t—ブチ ノレ） ビニルシリルバーオキサイ ド、 t. 一ブチルトリァリルシリルハーォキサイ ド、 ビ ス （ tーブチル） ジァリルシリルパーオキサイ ド、 トリ ス （ tーブチル） ァリルシリ ルパーォキサイ ド等がある。
これらの遊離ラジカル発生剤は単独または混合して使用することができ、 分解促進 剤、 抑制剤等を混合して用いてもよい。 また、 これらのラジカル発生剤をボリウレタ ン系、 ポリエステル系の高分子物質等で被覆してマイクロカブセル化したものは、 可 使時間が延長されるために好ましい。
また、 有機過酸化物の他に前述のベンゾィンェチルエーテル、 ィソプロピルべンゾ インエーテノレ等のベンゾインェ一テノレ、 ベンジル、 ヒ ドロキシシクロへキシノレフエ二 ルケトン等のベンジルケタール、 ベンゾフエノン、 ァセトフエノン等のケトン類およ びその誘導体、 チォキサントン類、 ビスイミダゾール類等を適宜混合して用いること もできる。 さらに、 これらの光開始剤に必要に応じてアミン類、 ィォゥ化合物、 リン 化合物等の増感剤を任意の比で添加してもよい。
増感剤としては、 脂肪族ァミン、 芳香族基を含むァミン、 ピぺリジンのように窒素 が環系の一部をなしているもの、 o—トリルチオ尿素、 ナトリウムジェチルジチォホ スフヱート、 芳香族スルフィン酸の可溶性塩、 N， N ' —ジメチルー p—ァミノベン ゾニトリル、 N， N， 一ジェチルー p—ァミノべンゾニトリル、 N， N ' —ジ ( β — シァノエチル） 一 ρ—ァミノべンゾニトリノレ、 Ν , N ' —ジ （/3—クロロェチル） — ρ—アミノベンゾニトリノレ、 トリ一 η—ブチルホスフィン等がある。
また、 プロピオフエノン、 ァセ トフヱノン、 キサントン、 4—メチルァセトフエノ ン、 ベンゾフエノン、 フノレオレン、 トリフエ二レン、 ビフエ二ノレ、 チォキサントン、 アントラキノン、 4， 4 ' 一ビス （ジメチルァミノ） ベンゾフエノン、 4， 4 ' —ビ ス （ジェチルァミノ） ベンゾフエノン、 フエナントレン、 ナフタレン、 4一フエニル ァセトフエノン、 4一フエニルベンゾフエノン、 1—ョードナフタレン、 2—ョ一ド ナフタレン、 ァセナフテン、 2—ナフトニトリル、 1—ナフトニトリル、 タリセン、 ベンジル、 フルオランテン、 ピレン、 1 ， 2—ベンゾアントラセン、 ァクリジン、 ァ ントラセン、 ペリレン、 テトラセン、 2—メ トキシナフタレン等の非色素系増感剤、 チォニン、 メチレンプノレー、 ノレミフラビン、 リボフラビン、 ノレミクロム、 クマリン、 ソラレン、 8—メ トキシソラレン、 6—メチルクマリン、 5—メ トキシソラレン、 5 ーヒ ドロキシソラレン、 タマリノレピロン、 ァクリジンオレンジ、 ァクリフラビン、 プ ロフラビン、 フノレ才レセイン、 ェォシン Υ、 ェォシン Β， エリ トロシン、 ローズベン ガル等の色素系増感剤を用いることができる。
本発明に使用できる水酸基含有樹脂として、含有した場合の取扱い性がよく硬化時 の応力緩和に優れるものが好ましく、水酸基等の官能基を有する場合には被着体との 接着性が向上するためより好ましい。 各ポリマーをラジカル重合性の官能基で変性し たものがより好ましい。 これらポリマーの分子量は 1 0 0 0 0以上が好ましいが 1 0 0 0 0 0 0以上になると （a ) 光力チオン重合性化合物と （c ) 光ラジカル重合性化 合物との混合性が悪くなる。 また、 水酸基含有樹脂とポリスチレン、 ポリエチレン、 ポリビニルブチラール、 ポリ ビニルホルマール、 ポリイミ ド、 ポリアミ ド、 ボリエス テル、 ポリ塩化ビュル、 ポリフエ二レンオキサイ ド、 尿素樹脂、 メラミン樹脂、 フエ ノール樹脂、 キシレン樹脂、 エポキシ樹脂、 ボリイソシァネート樹脂を 1種あるいは 2種類以上を混合して用いることができる。 これら分子量 1 0 0 0 0以上の水酸基含 有樹脂は、 カルボキシル基含有エラストマ一、エポキシ基含有エラストマ一、 ラジカ ル重合性の官能基によって変性されていてもよい。 またラジカル重合性の官能基で変 性したものは耐熱性が向上するため好ましい。 フエノキシ樹脂は、 カルボキシル基含 有のエラス トマ一で変性されたフエノキシ樹脂やエポキシ基含有のエラストマ一で 変性されたフエノキシ樹脂を使用することができる - 本発明に使用できるアクリルゴムとしては、 アクリル酸、 アクリル酸エステル、 メ タクリル酸エステルまたはァク リロ二ト リルのうち少なく ともひとつをモノマー成 分とした重合体または共重合体があげられ、 中でもグリシジルエーテル基を含有する グリシジルァクリ レートゃグリシジルメタクリ レ一トを含む共重合体系ァクリルゴ ムが好適に用いられる。
また、被着体が無機物の場合にはシラン力ップリング剤を接着剤樹脂に混合して被 着体との接着強度を高めることが可能である。 シランカップリング剤としてはビニル トリクロルシラン、 ビニルトリエトキシシラン、 ビニルー トリス —メ トキシェ トキシ） シラン、 γ —メタクリロキシブ口ビルトリメ トキシシラン、 γ—グリシドキ シプロビルトリメ トキシシラン、 γ —ァミノプロピルトリエトキシシラン、 ；3— （3， 4エポキシシクロへキシル） ェチルトリメ トキシシラン、 イソシアン酸ブロビルトリ エトキシシラン等があるが、 （a ) 光力チオン重合性化合物又は （c ) 光ラジカル重 合性化合物との反応性を高めるには γ—メタタリロキシプロピルトリメ トキシシラ ンを用いるのがより好ましい。
硬化に用いる光は、 一般的に広く使用されている紫外線を用いることができ、 水銀 ランプ、 メタルハライ ドランプ、 無電極ランプ等で発生させることができる： また、 硬化反応としてラジカル反応を用いた場合、酸素が反応禁止剤として作用するので、 光照射の雰囲気中の酸素量は光硬化性樹脂の硬化に影響を与える。 これは光硬化性樹 月旨、 光開始剤、 増感剤等の種類や濃度にも大きく左右されるので、 個々の配合系で詳 細に検討する必要がある。
本発明において、 回路部材としては半導体チップ、 抵抗体チップ、 コンデンサチッ プ等のチップ部品、 プリント基板等の基板、 ポリイミ ドゃポリエステルを基材とした フレキシブル配線板、 液晶パネル等ガラス上に酸化インジウムースズ （ Ι Τ Ο ) ゃク ロム、 アルミニウム等で配線した透明電極等が用いられる。
これらの回路部材には端子 （電極） が通常は多数 （場合によっては単数でも良い） 設けられており、少なくとも一方が透光性を有する前記回路部材の少なくとも〗組を、 それらの回路部材に設けられた端子の少なくとも 1部を対向配置し、 对向配置した端 子間に接着剤を介在させ、加熱加圧および光照射して対向配置した端子同士を電気的 に接続して接続体とする。 この時、 透光性を有する回路部材の厚みは、 1 . 2 mm以 下が透光性の面で好ましい。
また、 形態をフィルム状とすることで、 従来のベースト状回路接続材料に比べて取 扱い性が優れている点や接続厚みの均一化が図れる点等で有利である。 さらに、 回路 部材との密着性を高めるために、硬化反応がほとんど進行せず樹脂が流動する程度の 加熱を行う場合、接続材料の加熱を行って端子一導電性粒子一端子間の導通を確保し た後、冷却工程を導入することによって接続材料の溶融粘度を再上昇させることが可 能であり、 これによつて加熱一冷却のみによる導電性粒子の圧接状態を維持し樹脂の 固定が図れる。
本発明の接着剤は導電性粒子がなくても、接続時に相対向する回路電極の直接接触 により接続が得られる力 S、 導電粒子を含有した場合、 より安定した接続が得られる。 導電性粒子としては、 A u、 A g、 N i 、 C u、 はんだ等の金属粒子や力一ボン等 があり、 十分な保存安定性を得るためには、 表層は N i、 C uなどの遷移金属類では なく A u、 A g、 白金族の貴金属類が好ましく A uがより好ましい。 また、 N iなど の遷移金属類の表面を A u等の貴金属類で被覆したものでもよい。 また、 非導電性の ガラス、 セラミック、 プラスチック等に前記した導通層を被覆等により形成し最外層 を貴金属類で被覆したものでもよい。 プラスチックを核とした場合や熱溶融金属粒子 の場合、加熱加圧により変形性を有するので接続時に電極との接触面積が増加し信頼 性が向上するので好ましい。 貴金属類の被覆層の厚みは良好な抵抗を得るためには、 1 0 0オングス トローム以上が好ましい。 しかし、 N i等の遷移金属の上に貴金属類 の層を設ける場合では、 貴金属類層の欠損や導電粒子の混合分散時に生じる貴金属類 層の欠損等により生じる遷移金属による酸化還元作用で遊離ラジカルが発生し保存 性の低下を引き起こすため、 3 0 0オングス トローム以上が好ましい。 導電性粒子は、 接着剤樹脂成分 1 0 0部 （体積） に対して 0 . 1〜3 0部 （体積） の範囲で用途によ り使い分ける。 過剰な導電性粒子による隣接回路の短絡等を防止するためには 0 . 1 〜 1 0部 （体積） とするのがより好ましい。
本発明には用途に応じてカップリング剤、 無機充填剤、 有機充填剤、 白色顔料、 重 合抑制剤、 増感剤およびその組合せから選択される添加物を含有してもよい。 その添 加量としては接着剤樹脂成分 1 00重量部に対して 1〜 1 00重量部が好ましいが、 添加物の種類や性質が得られる回路板の信頼性に悪影響を及ぼす可能性がなレ、、 ある いは著しく低くなるような範囲内で用いる必要がある。
以下に、 本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、 本発明はこれに限定される ものではない。
(実施例 1 )
フエノキシ樹脂 （ユニオン力一バイ ド社製、 商品名 PKHC、 平均分子量 4 5， 0 00) 40 gを、 重量比でトルエン （沸点 1 1 0. 6°C、 S P値 8. 90) /酢酸ェ チル （沸点 7 7. 1 °C、 S P値 9. 1 0) = 5 0 / 5 0の混合溶剤 6 0 gに溶解して、 固形分 40 %の溶液とした。 光力チオン重合性化合物は、 ビスフエノール型液状ェボ キシ樹脂 （ビスフエノール A型エポキシ樹脂、 油化シェルエポキシ株式会社製、 商品 名工ピコート 8 2 8、 エポキシ当量 1 84) を用いた。 光ラジカル重合性化合物とし てはエポキシァクリレートオリゴマー （新中村化学工業株式会社製、 商品名 NKオリ ゴ EA— 1 02 0) を用いた。 光力チオン重合開始剤としてはトリァリ一ルスルホニ ゥムのへキサフルォロリン塩混合物 （ユニオンカーバイ ド社製、 商品名サイラキュア UV I - 6 9 90) を用いた。 光ラジカル重合開始剤としてはジクミルバーオキサイ ド （日本油脂株式会社製、 商品名パークミル D) を用いた。 またポリスチレンを核と する粒子の表面に、 厚み 0. 2 μ mのニッケル層を設け、 このニッケル層の外側に、 厚み 0. 0 2 / mの金層を設け、 平均粒径 5 、 比重 2. 5の導電性粒子を作製し た。
固形重量比でフユノキシ樹脂 5 0、 光力チオン重合性化合物 2 5、 光ラジカル重合 性化合物 2 5、 光力チオン重合開始剤 2. 5、 光ラジカル重合開始剤 2. 5となるよ うに配合し、 さらに導電性粒子を 3体積％配合分散させ、 厚み 8 0 μ mのフッ素樹脂 フィルムに塗工装置を用いて塗布し、 7 0 ：、 1 0分の熱風乾燥によって接着剤層の 厚みが 2 0 μηιのフィルム状接着剤 2 0 (図 1参照） を得た。
上記によって得たフィルム状接着剤 2 0を用いて、 ライン幅 50 μ ΐΏ、 ピッチ 1 0 0 μ m、厚み 1 8 μ mの銅回路（電極） 1 1を 5 00本有するフレキシブル回路板（F P C、 絶縁基板：ポリイミ ドフィルム 厚み： 1 2 5 // m) 1 3と、 0. 2 β mの酸 化インジウム （I T〇） の薄層 1 5を形成したガラス （厚み 1. 1 mm, 表面抵抗 2
0 Ω) 1 7とを、 紫外線照射併用型熱圧着装置 （加熱方式： コンスタントヒート型、 東レエンジニアリング株式会社製） 3 1を用いて 1 30°C、 2MP aで 20秒間の加 熱加圧および I T〇ガラス側からの紫外線照射を同時に行って幅 2 mmにわたり接 続し、 時間経過後圧力開放して、 接続体を作製した。 光源 35から接着剤 20に照射 される紫外線照射量は 2. O J/cm2 とした。 この時、 あらかじめ I TOガラス上 に、 フィルム状接着剤 20の接着面を貼り付けた後、 70°C、 0. 5MP aで 5秒間 加熱加圧して仮接続し、 その後フッ素樹脂フィルムを剥離してもう一方の被着体であ る F PCと接続した。 また 20秒間の接続の際、 加熱加圧のみを開始して 3秒経過し た後 1 7秒間の紫外線照射を開始し、加熱加圧 20秒後に 2工程が同時に終了するよ うにした。
(実施例 2)
実施例 1で使用したフィルム状接着剤の光力チオン重合性化合物を、脂環式液状ェ ポキシ樹脂 （3, 4—エポキシシクロへキシルメチル一 3， 4—エポキシシクロへキ サンカルボキシレート、 ダイセル化学工業株式会社製、 商品名セロキサイド 2021、 エポキシ当量 1 28〜140) に代えた他は、 実施例 1と同様にして接続体を作製し た。
(実施例 3)
実施例 1で使用したフィルム状接着剤の光ラジカル重合性化合物を、 ウレタンァク リレートオリゴマー （新中村化学工業株式会社製、 商品名 NKオリゴ UA— 5 1 2) に代えた他は、 実施例 1と同様にして接続体を作製した。
(実施例 4)
実施例 1で使用したフィルム状接着剤の光ラジカル重合開始剤を、ベンゾフニノン 誘導体 （3, 3 ' ， 4, 4 ' ーテトラ （ t一ブチルパーォキシカルボニル） ベンゾフ ヱノン、 日本油脂株式会社製、 商品名 BTTB) に代えた他は、 実施例 1と同様にし て接続体を作製した。
(実施例 5)
実施例 1で使用したフィルム状接着剤の導電性粒子を、 平均粒径 5 u mの二ッケル 粒子 （大同特殊綱株式会社製、 商品名 DS P 3 1 01、 比重 8. 5) に代えた他は、 実施例 1と同様にして接続体を作製した。
(実施例 6)
フエノキシ樹脂 （ユニオン力一バイ ド社製、 商品名 PKHC、 平均分子量 45, 0 00) 40 gを、 重量比でトルエン （沸点 1 1 0. 6°C、 S P値 8. 90) Z酢酸ェ チル （沸点 77. 1°C、 S P値 9. 1 0) 50 / 50の混合溶剤 60 gに溶解して 、 固形分 40%の溶液とした。 光力チオン重合性化合物は、 ビスフエノール型液状ェ ポキシ樹脂 （ビスフユノール A型エポキシ樹脂、 油化シェルエポキシ株式会社製、 商 品名工ピコ一ト 828、 エポキシ当量 1 84) を用いた。 光力チオン重合開始剤とし てはトリアリールスルホニゥムのへキサフルォロリン塩混合物 （ユニオンカーバイ ド 社製、 商品名サイラキュア UV I— 6990) を用いた。 またポリスチレンを核とす る粒子の表面に、 厚み 0. 2 mのニッケル層を設け、 このニッケル層の^ H則に、 厚 み 0. 02 μιηの金層を設け、 平均粒径 5 m、 比重 2. 5の導電性粒子を作製した 固形重量比でフエノキシ樹脂 50、 光力チオン重合性化合物 50、 光力チオン重合 開始剤 5となるように配合し、 さらに導電性粒子を 1. 5体積。 /。配合分散させ、 厚み 80 imのフッ素樹脂フィルムに塗工装置を用いて塗布し、 70°C、 10分の熱風乾 燥によって接着剤層の厚みが 10 μπιのフィルム状接着剤 21 (図 3参照） を得た。 光ラジカル重合性化合物としてはエポキシァクリレートオリゴマー （新中村化学ェ 業株式会社製、 商品名 ΝΚオリゴ ΕΑ— 1 020) を用いた。 光ラジカル重合開始剤 としてはジクミルパーォキサイ ド （日本油脂株式会社製、 商品名パークミル D) を用 いた。
固形重量比で前述のフエノキシ樹脂 50、 光ラジカル重合性化合物 50、 光ラジカ ル重合開始剤 5となるように配合し、 さらに前述の導電性粒子を 1. 5体積％配合分 散させ、 厚み 80 μ mのフッ素樹脂フィルムに塗工装置を用いて塗布し、 70°C'、 1 0分の熱風乾燥によって接着剤層の厚みが 1 0 mのフィルム状接着剤 23 (図 3参 照） を得た。
フィルム状接着剤 2 1とフィルム状接着剤 23を口一ルラミネーターを用いて貼 り合わせ、接着剤層の厚みが 20 i mの図 3に示すような 2層構成のフィルム状接着 剤を得た。 上記製法によって得たフィルム状接着剤を用いて、 ライン幅 50 μπι、 ピッチ 10 0 ju m、 厚み 18 μ mの銅回路を 500本有するフレキシブル回路板 （F P C) と、 0. 2 / mの酸化インジウム （ I TO) の薄層を形成したガラス （厚み 1. 1 mm, 表面抵抗 20 Ω) とを、 紫外線照射併用型熱圧着装置 （加熱方式： コンスタントヒー ト型、 東レエンジニアリング株式会社製） を用いて 130°C、 2MP aで 20秒間の 加熱加圧および I T〇ガラス側からの紫外線照射を同時に行って幅 2mmにわたり 接続し、 時間経過後圧力開放して、 接続体を作製した。 接着剤に照射される紫外線照 射量は 2. O jZcnfとした。 この時、 あらかじめ I TOガラス上に、 フィルム状回 路接続材料の接着面を貼り付けた後、 70 °C、 0. 5 M P aで 5秒間加熱加圧して仮 接続し、 その後、 フッ素樹脂フィルムを剥離してもう一方の被着体である FPCと接 続した。 また 20秒間の接続の際、 加熱加圧のみを開始して 3秒経過した後- 1 7秒間 の紫外線照射を開始し、 加熱加圧 20秒後に 2工程が同時に終了するようにした。 (実施例 7)
実施例 6で使用したフィルム状接着剤 21の光力チオン重合性化合物を、脂環式液 状エポキシ樹脂 （3， 4一エポキシシクロへキシルメチルー 3， 4一エポキシシクロ へキサンカルボキシレート、 ダイセル化学工業株式会社製、 商品名セロキサイ ド 20 1、 エポキシ当量 128〜140) に代えた他は、 実施例 6と同様にして接続体を 作製した。 .
(実施例 8 )
実施例 6で使用したフィルム状接着剤 23の光ラジカル重合性化合物を、 ウレタン ァクリレートオリゴマー （新中村化学工業株式会社製、 商品名 NKオリゴ UA— 51 2) に代えた他は、 実施例 6と同様にして接続体を作製した。
(実施例 9)
実施例 6で使用したフィルム状接着剤 23の光ラジカル重合開始剤を、ベンゾフエ ノン誘導体 （3， 3 ' ， 4， 4' ーテトラ （ t—ブチルパーォキシカルボニル） ベン ゾフエノン、 日本油脂株式会社製、 商品名 BTTB) に代えた他は、 実施例 6と同様 にして接続体を作製した。
(実施例 10)
実施例 6で使用したフィルム状接着剤の導電性粒子を、平均粒径 5 μ mのニッケル 粒子 （大同特殊綱株式会社製、 商品名 DS P 3 1 01、 比重 8. 5) に代えた他は、 実施例 6と同様にして接続体を作製した。
(実施例 1 1 )
実施例 1で使用したフィルム状接着剤のフエノキシ樹脂を、 カルボキシル基含有の エラストマ一で変性されたフエノキシ樹脂に代えた他は、 実施例 1 と同様にして接続 体を作製した。
力ルポキシル基含有のェラストマ一で変性されたフエノキシ樹脂は以下の方法に よって得た。
窒素導入管、 温度計、 冷却管及びメカニカルスターラーを取り付けた 1 リットルの 四つ口フラスコに、 フヱノキシ樹脂溶液 YPB— 40 AM40 (水酸基当量 349 g /当量、 東都化成株式会社製、 臭素化物） をメタノール中に注ぎ再沈精製し-て得たフ エノキシ樹月旨 242. 29 gを N、 N '—ジメチルァセトアミ ド 565. 33 gに溶 解した溶液、及び末端カルボキシル基含有ブタジエン—ァクリロニトリル共重合体 （ Hy c a r CTBNX 1 009— S P、 宇部興産株式会社製） 50. 88 gを入れ 攪拌混合しながら十分に窒素置換した。
次に窒素雰囲気下で攪拌混合し、 温度を徐々に上げながら溶剤が還流する状態で、 8. 5時間加熱して、 目的のカルボキシル基含有エラストマ一変性フ ノキシ樹脂の N、 N—ジ.メチルァセトアミ ド溶液を得た。
得られた溶液は透明であり、 溶液粘度は約 1 000 c Pであった。 反応溶液の —部を大量のメタノール中に注いで固形樹脂を析出させ、 メタノール洗浄、 減圧乾燥 した。
得られたエラストマ一変性フエノキシ樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量を、 ゲルパーミエーションクロマトグラフィー （条件：カラム ： TSKg e l G 500 OHXL + TSKg e 1 G 200 OHXL (東ソ一株式会社商品名） 溶離液：テト ラヒ ドロフラン、 試料濃度 0. 5重量0ん） により測定したところ、 40, 000であ つた。 なお、 YPB— 40 AM40のポリスチレン換算重量平均分子量は 30， 00 0である。
(実施例 1 2)
実施例 1で使用したフィルム状接着剤のフユノキシ樹脂を、エポキシ基含有のエラ ストマ一で変性されたフエノキシ樹脂に代えた他は、 実施例 1と同様にして接続体を 作製した。
エポキシ基含有のエラストマ一で変性されたフユノキシ樹脂は、 実施例 1 1の末端 カルボキシル基含有ブタジエン—ァクリロニトリル共重合体の代わりに、末端ェポキ シ基含有ブタジエン一アクリロニトリル共重合体（Hy c a r ETBN 1 3 00 X 40、 宇部興産株式会社製）を用いた以外実施例 1 1と同様にした。
(実施例 1 3 )
実施例 1で使用したフィルム状接着剤のフ ノキシ樹脂 （固形重量比 5 0) を、 固 形重量比でフエノキシ樹脂 40、 アクリルゴム 1 0の混合物とした他は実施例 1と同 様にして接続体を作製した。
アクリルゴムはブチルアタリ レート （40部） 、 ェチルアタリ レート （30部） 、 アタリロニトリノレ （3 0部） 、 及びグリシジルメタタリレート （3部） を常法により 共重合して作製した （重量平均分子量： 8 5 0， 000) 。 この固形分 1 5 0 gを酢 酸ェチル 8 5 0 gに溶解し、 1 5 %溶液を得た。
(比較例 1)
フエノキシ樹脂 （ユニオンカーバイ ド社製、 商品名 PKHC、 平均分子量 4 5， 0 00) 40 gを、 重量比でトルエン （沸点 1 1 0. 6。C、 S Pィ直 8. 9 0) /酢酸ェ チル （沸点 7 7. 1°C、 S P値 9. 1 0) = 5 0/5 0の混合溶剤 6 0 gに溶解して、 固形分 40%の溶液とした。 光力チオン重合性化合物は、 ビスフエノール型液状ェポ キシ樹脂 （ビスフエノール A型エポキシ樹脂、 油化シェルエポキシ株式会社製、 商品 名工ピコート 8 28、 エポキシ当量 1 84) を用いた。 光力チオン重合開始剤として はトリアリールスルホニゥムのへキサフルォロリン塩混合物 （ユニオンカーバイ ド社 製、 商品名サイラキュア UV 1 — 6 9 9 0) を用いた。 またポリスチレンを核とする 粒子の表面に、 厚み 0. 2 μ mのニッケル層を設け、 このニッケル層の外側に、 厚み 0. 0 2 mの金層を設け、 平均粒径 5 m、 比重 2. 5の導電性粒子を作製した。 固形重量比でフエノキシ樹脂 5 0、 光力チオン重合性化合物 5 0、 光力チオン重合 開始剤 5となるように配合し、 さらに導電性粒子を 3体積。ん配合分散させ、 厚み 80 μπιのフッ素樹脂フィルムに塗工装置を用いて塗布し、 7 0°C、 1 0分の熱風乾燥に よって接着剤層の厚みが 2 0 μπιのフィルム状接着剤を得た。 /
上記によって得たフィルム状接着剤を用いて、 ライン幅 5 0 M m、 ピッチ Ι Ο Ο μ m、 厚み 1 8 μ mの銅回路を 5 0 0本有するフレキシブル回路板 （F P C 絶縁基 板：ポリイミ ドフィルム 厚み： 1 2 5 μ m) と、 0. 2 μ mの酸化インジウム （ I TO) の薄層を形成したガラス （厚み 1. 1 mm, 表面抵抗 2 0 Ω) とを、 紫外線照 射併用型熱圧着装置 （加熱方式： コンスタントヒート型、 東レエンジニアリング株式 会社製） を用いて 1 3 0°C、 2 MP aで 2 0秒間の加熱加圧および I TOガラス側力 らの紫外線照射を同時に行って幅 2 m mにわたり接続し、 時間経過後圧力開放して、 接続体を作製した。 接着剤に照射される紫外線照射量は 2. 0 J / c m2 とした。 こ の時、 あらかじめ I T〇ガラス上に、 フィルム状接着剤の接着面を貼り付けた後、 7 0°C, 0. 5 MP aで 5秒間加熱加圧して仮接続し、 その後、 フッ素樹脂フィルムを 剥離してもう一方の被着体である F P Cと接続した。 また 20秒間の接続の際、 加熱 加圧のみを開始して 3秒経過した後 1 7秒間の紫外線照射を開始し、加熱加圧 20秒 後に 2工程が同時に終了するようにした。
(比較例 2)
フエノキシ樹脂 （ユニオンカーバイ ド社製、 商品名 PKHC、 平均分子量 45， 0 00) 4 0 gを、 重量比でトルエン （沸点 1 1 0. 6°C、 S P値 8. 9 0) /酢酸ェ チル （沸点 7 7. 1°C、 S P値 9. 1 0) = 5 0Z5 0の混合溶剤 6 0 gに溶解して、 固形分 4 0%の溶液とした。光ラジカル重合性化合物としてはエポキシァクリ レート オリゴマー （新中村化学工業株式会社製、 商品名 NKオリゴ EA— 1 020) を用い た。 光ラジカル重合開始剤としてはジクミルパーォキサイド （日本油脂株式会社製、 商品名パークミル D) を用いた。 またポリスチレンを核とする粒子の表面に、 厚み 0. 2 mのニッケル層を設け、 このニッケル層の外側に、 厚み 0. 0 2 μιηの金層を設 け、 平均粒径 5 μ m、 比重 2. 5の導電性粒子を作製した。
固形重量比でフユノキシ樹脂 5 0、 光ラジカル重合性化合物 5 0、 光ラジカル重合 開始剤 5となるように配合し、 さらに導電性粒子を 3体積。 /。配合分散させ、 厚み 8 0 μπιのフッ素樹脂フィルムに塗工装置を用いて塗布し、 7 0°C、 1 0分の熱風乾燥に よって接着剤層の厚みが 2 0 μιηのフィルム状回路接続材料を得た。
上記製法によって得たフィルム状回路接続材料を用いて、 ライン幅 50 m、 ピッ チ 1 00 μ πι、厚み 1 8 i mの銅回路を 5 0 0本有するフレキシブル回路板（ F P C ) と、 0. 2 μπιの酸化インジウム （ Ι ΤΟ) の薄層を形成したガラス （厚み 1. 1 m m、 表面抵抗 20Ω) とを、 紫外線照射併用型熱圧着装置 （加熱方式： コンスタント ヒート型、 東レエンジニアリング株式会社製） を用いて 1 30°C、 2MP aで 20秒 間の加熱加圧および I T〇ガラス側からの紫外線照射を同時に行って幅 2 m mにわ たり接続し、 時間経過後圧力開放して、 接続体を作製した。 接着剤に照射される紫外 線照射量は 2. 0 J / c ra2 とした。 この時、 あらかじめ I T〇ガラス上に、 フィル ム状回路接続材料の接着面を貼り付けた後、 70°C、 0. 5MP aで 5秒間加熱加圧 して仮接続し、 その後、 フッ素樹脂フィルムを剥離してもう一方の被着体である F P Cと接続した。 また 20秒間の接続の際、 加熱加圧のみを開始して 3秒経過した後 1 7秒間の紫外線照射を開始し、加熱加圧 20秒後に 2工程が同時に終了するようにし た。 -.
実施例 1〜1 3、 比較例 1〜2で得た接続体について初期抵抗、 接着性について評 価した。 初期抵抗については、 回路部材の接続後、 上記接続部を含む F P Cの隣接回 路間の抵抗値を、 マルチメータで測定した。 測定電流は 1mAとし、 抵抗値は隣接回 路間の抵抗 1 50点の平均で示した。
F PCならびに I TOガラスに対する接着性については、接着強度を J I S-Z 0 237に準じて 90度剥離法で測定し評価した。測定装置は東洋ボールドウィン株式 会社製テンシロン UTM— 4 (剥離速度 5 Omm/m i n、 25 °C) を使用した。 ― その結果、 実施例 1〜 1 3、 比較例 1、 2で得た接続体については、 初期抵抗がい ずれも 1〜2 Ωとなった。
実施例 1〜 1 3及び比較例 1、 2では、 各接着時の加熱温度を 1 30 °Cとし、 従来 接着に必用としていた温度 1 70°Cより低い温度でおこなつたが、 このように、 低い 温度で接着した各実施例 1〜1 0及び比較例 1、 2における接着強度を測定したので、 その結果を下記表 1に示す。
表 1から明らかなように、 実施例 1〜1 3で得た接続体については、 どの被着体に 対しても 700〜1 00 ONZmと高い値が得られ、 良好な接続状態の確保が可能と なった。
これに対して、 比較例 1、 2は、 いずれも 53 ONZm以下で剥離が生じ、 接続強 度が実施例 1〜 1 3よりも劣っていた。 また、 実施例 1〜1 3では、 被着体に対する接着強度の選択性はほとんどなかった が、光力チオン重合性化合物および光力チオン重合開始剤から成る接着剤を用いてレ、 る比較例 1、 そして光ラジカル重合性化合物および光ラジカル重合開始剤から成る接 着剤を用いている比較例 2の場合、 一方の被着体に対する接着強度は高く、 他方の被 着体に対しては接着強度が低くなり、 被着体に対する接着強度の選択性を示した。
接着強度 NZm
実施例 1 7 0 0 接着剤層で剥離
実施例 2 7 9 0 接着剤層で剥離
実施例 3 8 2 0 接着剤層で剥離
実施例 4 8 4 0 接着剤層で剥離
実施例 5 8 0 0 接着剤層で剥離
実施例 6 7 6 0 接着剤層で剥離
実施例 7 8 1 0 接着剤層で剥離
実施例 8 8 6 0 接着剤層で剥離
実施例 9 8 2 0 接着剤層で剥離
実施例 1 0 7 8 0 接着剤層で剥離
実施例 1 1 7 0 0 接着剤層で剥離
実施例 1 2 7 2 0 接着剤層で剥離
実施例 1 3 7 2 0 接着剤層で剥離
比較例 1 5 3 0 F P CZ接着剤層界面で剥離- 比較例 2 3 1 0 I T OZ接着剤層界面で剥離
産業上の利用可能性
以上のように、 本発明は、 回路基板における対峙する電極を電気的に接続するのに 適した接着剤、 この接着剤を用いた電極の接続構造及び電極の接続方法として用いら れる。

Claims

請求の範囲
1. (a) 光力チオン重合性化合物、 （b) 光力チオン重合開始剤、 （c) 光ラジ カル重合性化合物、 （d) 光ラジカル重合開始剤を含む接着剤。 2. (a) 光力チオン重合性化合物および （b) 光力チオン重合開始剤を含む第一 層と、 （c) 光ラジカル重合性化合物および （d) 光ラジカル重合開始剤を含む第二 層を備えた接着剤。
3. 第一層及び第二層の層厚みが 5〜 5 0 mである請求項 2項に記載の接着剤。
4. 第一層と第二層の間に、 非重合性成分から成る第三層を備えた請求項 2または 3項に記載の接着剤。
5. (a) 光力チオン重合性化合物がエポキシ化合物、 ビニルエーテル化合物及び 環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも 1種、
(c) 光ラジカル重合性化合物がアクリル酸エステル化合物、 メタクリル酸エステル 化合物及びマレイミ ド化合物から選ばれる少なくとも 1種である請求項 1〜4のい ずれか 項に記載の接着剤。
6. (b) 光力チオン重合開始剤がォニゥム塩である請求項 1〜5のいずれか一項 に記載の接着剤。
7. (d) 光ラジカル重合開始剤が有機過酸化物である請求項 1〜 5のいずれか一 項に記載の接着剤。
8. (a) 光力チオン重合性化合物の含有量が、 （a) 光力チオン重合性化合物と (c) 光ラジカル重合性化合物の和 1 00重量部に対して 5〜9 5重量部、
(b) 光力チオン重合開始剤の含有量が、 （a) 光力チオン重合性化合物 1 00重量 部に対して 0. 05〜1 0重量部、
(c) 光ラジカル重合性化合物の含有量が、 （a) 光力チオン重合性化合物と （c) 光ラジカル重合性化合物の和 1 00重量部に対して 5〜 9 5重量部、
(d) 光ラジカル重合開始剤の含有量が、 （c) 光ラジカル重合性化合物 1 00重量 部に対して 0. 0 5〜1 0重量部である請求項 1〜7のいずれか一項に項記載の接着 剤。
9. 接着剤中に分子量 1 0000以上の水酸基含有樹脂を含有する請求項 1〜 8の レ、ずれか一項に記載の接着剤。
1 0 . 分子量 1 0 0 0 0以上の水酸基含有樹脂がフユノキシ樹脂である請求項 9記 載の接着剤。
1 1 . 分子量 1 0 0 0 0以上の水酸基含有樹脂がカルボキシル基含有のエラス トマ 一で変性されたフ ノキシ樹脂であることを特徴とする請求項 1 0記載の接着剤：
1 2 . 分子量 1 0 0 0 0以上の水酸基含有樹脂がエポキシ基含有のエラストマ一で 変性されたフユノキシ樹脂である請求項 1 0記載の接着剤。
1 3 . 接着剤中にアクリルゴムを含有する請求項 1〜 1 2のいずれか一項に記載の
1 4 . 形態がフィルム状である請求項 1〜 1 3のいずれか一項に記載の接着剤： 1 5 . 接着剤中に導電性粒子を含む請求項 1〜 1 4のいずれか一項に項記載の接着 剤。
1 6 . 接着剤のマトリクス樹脂成分 1 0 0容量部に対して導電性粒子 0 . 1〜 3 0 容量部を含み異方導電性を有する請求項 1〜 1 5のいずれか一項に記載の接着剤： 1 7 . 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第二の電極を有する第二の回路部材 とが、 第一の電極と第二の電極を対向して配置されており、 前記対向配置した第一の 電極と第二の電極の間に、請求項 1〜 1 6のいずれか一項に記載の接着剤が介在され ており、 前記対向配置した第一の電極と第二の電極が電気的に接続されている電極の
1 8 . 第一の回路部材と第二の回路部材の少なくとも一方が透光性である請求項 1 7記載の電極の接続構造。
1 9 . 第一の電極を有する第一の回路部材がガラス基板に電極を有する配線が形成 されたものであり、 第二の電極を有する第二の回路部材がポリイミ ド基板に電極を有 する配線が形成されたものである請求項 1 8記載の電極の接続構造。
2 0 . 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第二の電極を有する第二の回路部材 とを、 請求項 1〜1 6項のいずれか一項に記載の接着剤を介在させて対向配置し、 加 熱加圧および光照射を併用することによって、前記対向配置した第一の電極と第二の 電極を電気的に接続させる電極の接続方法。
2 1 . 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第二の電極を有する第二の回路部材 とを、 請求項 2〜4項のいずれか一項に記載の接着剤を介在させて対向配置し、 加熱 加圧および光照射を併用することによって、 前記対向配置した第一の電極と第二の電 極を電気的に接続させる電極の接続方法であって、接着剤における第一層の被着对象 が第一回路部材であり、 第一回路部材は、 ガラス基板に接続端子を有する配線が形成 されたものであり、 第二層の被着対象が第二回路部材であり、 第二回路部材がポリイ ミ ド基板に接続端子を有する配線が形成されたものである電極の接続方法。
2 2 . —定時間の加熱加圧の開始後、 所定間隔経過後に一定時間の光照射を開始し、 光照射が行なわれている間は加熱加圧状態が保持されている請求項 2 0または 2 1 に記載の電極の接続方法。
補正書の請求の範囲
[2000年 6月 29日 （29. 06. 00 ) 国際事務局受理：出願当初の請求の範囲 6 及び 7は取り下げられた；出願当初の請求の範囲 i一 5, 8— 1 7, 20及び 2 1は補正 された；他の請求の範囲は変更なし。 （3頁）]
1. (補正後） （a ) 少なくとも 2つ以上のエポキシ基、 ビニルエーテル基または環 状エーテル化合物を有する化合物から選ばれる光力チオン重合性化合物、 （b) ォニ ゥム塩、 （c) 少なくともァクリロイル基、 メタクリロイル基、 マレイミ ド基から選 ばれる光ラジカル重合性化合物、 （ d ) 有機過酸化物を本質的に含む回路接続材料。
2. (補正後） （a ) 少なくとも 2つ以上のエポキシ基、 ビュルエーテル基または環 状エーテル化合物を有する化合物から選ばれる光力チオン重合性化合物および （b) ォニゥム塩から本質的に構成される第一層と、 （c) 少なくともァクリロイル基、 メ タクリロイル基、 マレイミ ド基から選ばれる光ラジカル重合性化合物および （d) 有 機過酸化物から本質的に構成される第二層を備えた回路接続材料-
3. (補正後） カップリング剤、 無機充填剤、 有機充填剤、 白色顔料、 重合抑制剤、 増感剤よりなる群から選択される少なくとも 1種の添加剤を含有する請求項 1また は 2に記載の回路接続材料。
4. (補正後） 第一層及ぴ第二層の層厚みが 5〜 50 ju mである請求項 2または 3に 記載の回路接続材料。
5. (補正後） 第一層と第二層の間に、 非重合性成分から成る第三層を備えた請求項
2乃至 4のいずれか 1項に記載の回路接続材料。
6. (削除）
7. (削除）
8. (補正後） （a) 光力チオン重合性化合物の含有量が、 （a ) 光力チオン重合性 化合物と （c) 光ラジカル重合性化合物の和 1 00重量部に対して 5〜9 5重量部、
(b) ォニゥム塩の含有量が、 （a) 光力チオン重合性化合物] 0 0重量部に対して 0. 05〜 1 0重量部、
(c) 光ラジカル重合性化合物の含有量が、 （a ) 光力チオン重合性化合物と （c) 光ラジカル重合性化合物の和 1 00重量部に対して 5〜9 5重量部、
(d) 有機過酸化物の含有量が、 （c) 光ラジカル重合性化合物】 00重量部に対し て 0. 0 5〜 1 0重量部である請求項〗〜 7のいずれか一項に項記載の回路接続材料 c
9. (補正後） 分子量 1 0000以上の水酸基含有樹脂を含有する請求項〗〜 8のい
27
捕正された用 （条約第 19条） ずれか一項に記載の回路接続材料。
1 0 . (補正後） 分子量 1 0 0 0 0以上の水酸基含有樹脂がフユノキシ樹脂である請 求項 9記載の回路接続材料。
1 1 . (補正後） 分子量 1 0 0 0 0以上の水酸基含有樹脂がカルボキシル基含有のェ ラストマーで変性されたフユノキシ樹脂であることを特徴とする請求項 1 0記載の 回路接続材料。
1 2 . (補正後） 分子量 1 0 0 0 0以上の水酸基含有樹脂がエポキシ基含有のエラス トマ一で変性されたフエノキシ樹脂であろ請求項 1 0記載の回路接続材料。
1 3 . (補正後） アクリルゴムを含有する請求項 1〜 1 2のいずれか一項に記載の回 路接続材料。
1 4 . (補正後） 形態がフィルム状である請求項 1〜 1 3のいずれか一項に記載の回 路接続材料。
1 5 . (補正後） 導電性粒子を含む請求項 1〜 1 4のいずれか一項に項記載の回路接 続材料。
1 6 . (補正後） マトリクス樹脂成分 1 0 0容量部に対して導電性粒子 0 . 1〜 3 0 容量部を含み異方導電性を有する請求項 1〜 1 5のいずれか一項に記載の回路接続 材料。
1 7 . (補正後） 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第二の電極を有する第二の 回路部材とが、 第一の電極と第二の電極を対向して配置されており、 前記対向配置し た第一の電極と第二の電極の間に、請求項 1〜 1 6のいずれか一項に記載の回路接続 材料が介在されており、前記対向配置した第一の電極と第二の電極が電気的に接続さ れている電極の接続構造。
1 8 . 第一の回路部材と第二の回路部材の少なくとも一方が透光性である請求項 1 7記載の電極の接続構造。
1 9 . 第一の電極を有する第一の回路部材がガラス基板に電極を有する配線が形成 されたものであり、第二の電極を有する第二の回路部材がポリイミ ド基板に電極を有 する配線が形成されたものである請求項 1 8記載の電極の接続構造。
2 0 . (補正後） 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第二の電極を有する第二の 回路部材とを、請求項 1〜1 6項のいずれか一項に記載の回路接続材料を介在させて
28 補正された用紙 （条約 19条） 対向配置し、 加熱加圧および光照射を併用することによって、 前記対向配置した第一 の電極と第二の電極を電気的に接続させる電極の接続方法。
2 1 . (補正後） 第一の電極を有する第一の回路部材と、 第二の電極を有する第二の 回路部材とを、請求項 2〜 4項のいずれか一項に記載の回路接続材料を介在させて対 向配置し、 加熱加圧および光照射を併用することによって、 前記対向配置した第一の 電極と第二の電極を電気的に接続させる電極の接続方法であって、 回路接続材料にお ける第一層の被着対象が第一回路部材であり、 第一回路部材は、 ガラス基板に接続端 子を有する配線が形成されたものであり、 第二層の被着対象が第二回路部材であり、 第二回路部材がポリイミ ド基板に接続端子を有する配線が形成されたものである電 極の接続方法。
2 2 . 一定時間の加熱加圧の開始後、 所定間隔経過後に一定時間の光照射を開始し、 光照射が行なわれている間は加熱加圧状態が保持されている請求項 2 0または 2 1 に記載の電極の接続方法。
29 補正された用紙 （条約第 19条) 条約 1 9条に基づく説明書 請求の範囲第 1項は、 原請求の範囲 5項、 6項、 7項の内容を加えて、 構成 要件をそれぞれ具体的に限定して明確にすると と もに、 発明の名称を回路接続 材料と して発明の内容を明確にした。 各引用例は、 本発明の構成要件の一部の物質を備えることが開示されている ものの、 本発明の請求の範囲の全ての構成要件を備えることが開示されていな い ώ 本発明は、 回路接続材料を対峙する電極間に介在させて、 対峙する電極を加 熱加圧しつつ同時に光照射を併用して、 相対峙する電極同士を電気的に接続す るものであり、 本発明の回路接続材料は、 加熱加圧と光照射との併用により加 熱温度を小さ くでき、 従来よ り低温での接続が可能となる。 これによ り、 回路 部材に対する熱的影響を軽減し、 かつ接続後における接続部の信頼性に優れる という効果を得たものである。
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Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002097443A (ja) * 2000-09-21 2002-04-02 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物及びこれを用いた回路接続材料並びに接続体
JP2002201437A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物、それを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造
JP2003301159A (ja) * 2002-04-09 2003-10-21 Sekisui Chem Co Ltd 光硬化型粘接着剤組成物及び光硬化型粘接着シート
JP2005015719A (ja) * 2003-06-27 2005-01-20 Ricoh Co Ltd 接合構造、接合方法及び接合装置
WO2005092981A1 (ja) * 2004-03-26 2005-10-06 Kaneka Corporation 光ラジカル硬化／光カチオン硬化併用硬化性組成物
JP2005290211A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Sekisui Chem Co Ltd ポリエステル系接着剤組成物
JP2006111806A (ja) * 2004-10-18 2006-04-27 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続材料及びそれを用いた回路接続構造体
JP2006127956A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Hitachi Chem Co Ltd 異方導電フィルム、異方導電フィルムの製造方法、これを用いた接続体および半導体装置
JP2006127776A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続材料並びに回路端子の接続構造体及び接続方法
JP2006265483A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Kaneka Corp 熱ラジカル硬化／熱カチオン硬化併用硬化性組成物
JP2006307093A (ja) * 2005-05-02 2006-11-09 Sekisui Chem Co Ltd 光反応型接着剤組成物および液晶表示装置の製造方法
JP2007100065A (ja) * 2005-09-06 2007-04-19 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物、回路接続材料、接続体及び回路部材の接続方法
JP2008260879A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Okura Ind Co Ltd 活性エネルギー線硬化型接着性組成物、それを用いた偏光板及びその製造方法
JP2009102605A (ja) * 2007-10-04 2009-05-14 Hitachi Chem Co Ltd ゴム変性フェノキシ樹脂及びこれを用いた樹脂組成物、回路部材接続用接着剤並びに回路接続構造体
JP2010031183A (ja) * 2008-07-30 2010-02-12 Furukawa Electric Co Ltd:The エネルギー線硬化型チップ保護用フィルム
WO2010095715A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 ヘンケル コーポレイション 電極の接続方法およびそれに使用される接続組成物
JP2010192900A (ja) * 2009-02-19 2010-09-02 General Electric Co <Ge> 埋め込みチップ集積を容易にするチップ取り付け接着剤、並びに関連するシステム及び方法
US20100285305A1 (en) * 2008-11-20 2010-11-11 Sony Chemical & Information Device Corporation Connecting film, and joined structure and method for producing the same
JP2010260353A (ja) * 2010-06-21 2010-11-18 Hitachi Chem Co Ltd 異方導電フィルムの製造方法
JP2012062471A (ja) * 2010-09-20 2012-03-29 Lg Chem Ltd 偏光板用接着剤及びこれを含む偏光板
WO2012073633A1 (ja) * 2010-11-30 2012-06-07 Dic株式会社 カチオン重合性樹脂組成物、それを用いて得られる光学用材料、積層体
US8247697B2 (en) 2008-03-27 2012-08-21 Sony Chemical & Information Device Corporation Anisotropic conductive film, joined structure and method for producing the joined structure
JP2012188463A (ja) * 2011-03-08 2012-10-04 Hitachi Chemical Co Ltd 半導体用接着剤組成物、半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2013150005A (ja) * 2006-04-26 2013-08-01 Hitachi Chemical Co Ltd 接着テープ及びそれを用いた太陽電池モジュール
JP2013183000A (ja) * 2012-03-01 2013-09-12 Sekisui Chem Co Ltd 半導体接合用接着剤、半導体接合用接着フィルム、半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2014043574A (ja) * 2012-08-03 2014-03-13 Dexerials Corp 異方性導電フィルム及びその製造方法
WO2014046082A1 (ja) * 2012-09-18 2014-03-27 デクセリアルズ株式会社 異方性導電フィルム、異方性導電フィルムの製造方法、接続体の製造方法、及び接続方法
KR20140091055A (ko) 2011-11-14 2014-07-18 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 이방성 도전 필름, 접속 방법 및 접합체
KR20140113416A (ko) 2013-03-15 2014-09-24 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 접속체의 제조 방법, 및 전자 부품의 접속 방법
KR20140148421A (ko) 2012-03-23 2014-12-31 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 접속체의 제조 방법 및 전자 부품의 접속 방법
JP2015110769A (ja) * 2013-11-07 2015-06-18 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 導電性接着剤、導電性接着シート、配線デバイス、および配線デバイスの製造方法
WO2015137008A1 (ja) * 2014-03-11 2015-09-17 デクセリアルズ株式会社 異方性導電接着剤、接続体の製造方法及び電子部品の接続方法
JP2016210997A (ja) * 2012-09-18 2016-12-15 デクセリアルズ株式会社 異方性導電フィルム、異方性導電フィルムの製造方法、接続体の製造方法、及び接続方法

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100025089A1 (en) * 2004-01-07 2010-02-04 Jun Taketatsu Circuit connection material, film-shaped circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP2005320455A (ja) * 2004-05-10 2005-11-17 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物、回路接続材料、回路部材の接続構造及び半導体装置
CN101831246B (zh) * 2004-06-09 2012-07-04 日立化成工业株式会社 粘结剂组合物、电路连接材料、电路部材的连接结构以及半导体装置
CN101600295B (zh) * 2005-05-11 2012-03-21 日立化成工业株式会社 各向异性导电薄膜及使用该薄膜的电路板
CN102510661B (zh) * 2005-05-11 2014-11-19 日立化成株式会社 各向异性导电薄膜及使用该薄膜的电路板
KR100773640B1 (ko) * 2005-12-08 2007-11-05 엘에스전선 주식회사 다이 접착용 페이스트 조성물
KR100773641B1 (ko) * 2005-12-08 2007-11-05 엘에스전선 주식회사 다이 접착용 페이스트 조성물
KR100773638B1 (ko) * 2005-12-08 2007-11-05 엘에스전선 주식회사 다이 접착용 페이스트 조성물
TW200722493A (en) * 2005-12-08 2007-06-16 Ls Cable Ltd Die-attaching paste composition and method for hardening the same
KR100922658B1 (ko) * 2006-09-12 2009-10-19 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 이방도전 필름 및 이를 이용한 회로판
KR100902454B1 (ko) * 2008-07-07 2009-06-11 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 이방도전 필름 및 이를 이용한 회로판
KR100924889B1 (ko) * 2009-06-02 2009-11-02 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 이방도전 필름 및 이를 이용한 회로판
JP2011065761A (ja) * 2009-09-15 2011-03-31 Harison Toshiba Lighting Corp メタルハライドランプ
CN103081236B (zh) * 2010-08-06 2016-03-09 旭化成电子材料株式会社 各向异性导电性粘接膜及固化剂
KR20130139134A (ko) 2012-06-12 2013-12-20 제일모직주식회사 접착제 조성물, 이를 이용한 편광판, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 광학 부재
JP6232855B2 (ja) 2013-08-30 2017-11-22 デクセリアルズ株式会社 ラジカル重合型接着剤組成物、及び電気接続体の製造方法
JP6384234B2 (ja) * 2014-09-25 2018-09-05 デクセリアルズ株式会社 ラジカル重合型接着剤組成物、及び電気接続体の製造方法
PL3330338T3 (pl) * 2016-12-05 2020-08-10 Henkel Ag & Co. Kgaa Ciekła kompozycja klejowa, folia klejąca i sposób łączenia klejowego
KR102566971B1 (ko) * 2017-08-08 2023-08-14 미쯔비시 케미컬 주식회사 광경화성 점착 시트, 광경화성 점착 시트 적층체, 광경화성 점착 시트 적층체의 제조 방법 및 화상 표시 패널 적층체의 제조 방법
CN108962963B (zh) * 2018-08-01 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制造方法、显示装置
DE102018216868A1 (de) * 2018-10-01 2020-04-02 Tesa Se Latent reaktiver Klebefilm
KR102217314B1 (ko) * 2020-03-18 2021-02-19 한국과학기술원 이방성을 가지는 다결정성 열전물질의 제조방법, 열전물질 및 이를 포함하는 열전소자
CN111732923A (zh) * 2020-07-19 2020-10-02 张家港保税区汇英聚福材料科技合伙企业(有限合伙) 一种紫外光固化导电胶及其制备方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2109798A (en) * 1981-11-02 1983-06-08 Grace W R & Co Heat activatable adhesive or sealant compositions
JPS644682A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Toshiba Chem Corp Heat-resistant adhesive composition
JPH0216179A (ja) * 1988-05-02 1990-01-19 Henkel Kgaa 光で誘起されて暗所で硬化する接着剤
JPH0258528A (ja) * 1988-08-25 1990-02-27 Mitsui Petrochem Ind Ltd 活性エネルギー光線硬化型組成物およびこの組成物を用いた光ディスク基板とハブとの接着方法
US5532105A (en) * 1992-08-07 1996-07-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photolithographically viahole-forming photosensitive element comprising two photosensitive layers for the fabrication process of multilayer wiring board
JPH08248630A (ja) * 1995-03-07 1996-09-27 Hitachi Chem Co Ltd フォトビア形成用感光性エレメント
JPH08319461A (ja) * 1995-03-20 1996-12-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体装置
EP0819746A2 (en) * 1996-07-15 1998-01-21 Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Sheet form, curable pressure-sensitive adhesive
JPH10273628A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Hitachi Chem Co Ltd フィルム状接着剤及び回路板の製造法
JPH10324858A (ja) * 1997-05-26 1998-12-08 Sumitomo Seika Chem Co Ltd 接着剤
JPH1143654A (ja) * 1997-07-25 1999-02-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性アディティブ接着剤フィルム
JPH1143653A (ja) * 1997-07-25 1999-02-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性アディティブ接着剤フィルム

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5252694A (en) * 1992-01-22 1993-10-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-polymerization adhesive, coating, film and process for making the same
JPH08248636A (ja) * 1995-03-13 1996-09-27 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料および画像形成方法
US6190834B1 (en) * 1997-05-15 2001-02-20 Hitachi, Ltd. Photosensitive resin composition, and multilayer printed circuit board using the same
US6086979A (en) * 1997-11-11 2000-07-11 Hitachi Chemical Company, Ltd. Electromagnetically shielding bonding film, and shielding assembly and display device using such film
JP2000227665A (ja) * 1998-11-02 2000-08-15 Kansai Paint Co Ltd パターン形成方法

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2109798A (en) * 1981-11-02 1983-06-08 Grace W R & Co Heat activatable adhesive or sealant compositions
JPS644682A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Toshiba Chem Corp Heat-resistant adhesive composition
JPH0216179A (ja) * 1988-05-02 1990-01-19 Henkel Kgaa 光で誘起されて暗所で硬化する接着剤
JPH0258528A (ja) * 1988-08-25 1990-02-27 Mitsui Petrochem Ind Ltd 活性エネルギー光線硬化型組成物およびこの組成物を用いた光ディスク基板とハブとの接着方法
US5532105A (en) * 1992-08-07 1996-07-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photolithographically viahole-forming photosensitive element comprising two photosensitive layers for the fabrication process of multilayer wiring board
JPH08248630A (ja) * 1995-03-07 1996-09-27 Hitachi Chem Co Ltd フォトビア形成用感光性エレメント
JPH08319461A (ja) * 1995-03-20 1996-12-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体装置
EP0819746A2 (en) * 1996-07-15 1998-01-21 Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Sheet form, curable pressure-sensitive adhesive
JPH10273628A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Hitachi Chem Co Ltd フィルム状接着剤及び回路板の製造法
JPH10324858A (ja) * 1997-05-26 1998-12-08 Sumitomo Seika Chem Co Ltd 接着剤
JPH1143654A (ja) * 1997-07-25 1999-02-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性アディティブ接着剤フィルム
JPH1143653A (ja) * 1997-07-25 1999-02-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性アディティブ接着剤フィルム

Cited By (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002097443A (ja) * 2000-09-21 2002-04-02 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物及びこれを用いた回路接続材料並びに接続体
JP2002201437A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物、それを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造
JP2003301159A (ja) * 2002-04-09 2003-10-21 Sekisui Chem Co Ltd 光硬化型粘接着剤組成物及び光硬化型粘接着シート
JP2005015719A (ja) * 2003-06-27 2005-01-20 Ricoh Co Ltd 接合構造、接合方法及び接合装置
WO2005092981A1 (ja) * 2004-03-26 2005-10-06 Kaneka Corporation 光ラジカル硬化／光カチオン硬化併用硬化性組成物
JP5002261B2 (ja) * 2004-03-26 2012-08-15 株式会社カネカ 光ラジカル硬化／光カチオン硬化併用硬化性組成物
US7781495B2 (en) 2004-03-26 2010-08-24 Kaneka Corporation Composition curable by radical photo curing and cationic photo curing in combination
JP4516343B2 (ja) * 2004-03-31 2010-08-04 積水化学工業株式会社 ポリエステル系接着剤組成物
JP2005290211A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Sekisui Chem Co Ltd ポリエステル系接着剤組成物
JP2006111806A (ja) * 2004-10-18 2006-04-27 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続材料及びそれを用いた回路接続構造体
JP2006127776A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続材料並びに回路端子の接続構造体及び接続方法
JP4534716B2 (ja) * 2004-10-26 2010-09-01 日立化成工業株式会社 回路接続材料並びに回路端子の接続構造体及び接続方法
JP2006127956A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Hitachi Chem Co Ltd 異方導電フィルム、異方導電フィルムの製造方法、これを用いた接続体および半導体装置
JP4555943B2 (ja) * 2004-10-29 2010-10-06 日立化成工業株式会社 異方導電フィルム、異方導電フィルムの製造方法、これを用いた接続体および半導体装置
JP2006265483A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Kaneka Corp 熱ラジカル硬化／熱カチオン硬化併用硬化性組成物
JP2006307093A (ja) * 2005-05-02 2006-11-09 Sekisui Chem Co Ltd 光反応型接着剤組成物および液晶表示装置の製造方法
JP2007100065A (ja) * 2005-09-06 2007-04-19 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物、回路接続材料、接続体及び回路部材の接続方法
US8969707B2 (en) 2006-04-26 2015-03-03 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive tape and solar cell module using the same
JP2013150005A (ja) * 2006-04-26 2013-08-01 Hitachi Chemical Co Ltd 接着テープ及びそれを用いた太陽電池モジュール
US8969706B2 (en) 2006-04-26 2015-03-03 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive tape and solar cell module using the same
JP2008260879A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Okura Ind Co Ltd 活性エネルギー線硬化型接着性組成物、それを用いた偏光板及びその製造方法
JP2009102605A (ja) * 2007-10-04 2009-05-14 Hitachi Chem Co Ltd ゴム変性フェノキシ樹脂及びこれを用いた樹脂組成物、回路部材接続用接着剤並びに回路接続構造体
US8247697B2 (en) 2008-03-27 2012-08-21 Sony Chemical & Information Device Corporation Anisotropic conductive film, joined structure and method for producing the joined structure
US8980043B2 (en) 2008-03-27 2015-03-17 Dexerials Corporation Anisotropic conductive film, joined structure and method for producing the joined structure
JP2010031183A (ja) * 2008-07-30 2010-02-12 Furukawa Electric Co Ltd:The エネルギー線硬化型チップ保護用フィルム
US9023464B2 (en) 2008-11-20 2015-05-05 Dexerials Corporation Connecting film, and joined structure and method for producing the same
US20100285305A1 (en) * 2008-11-20 2010-11-11 Sony Chemical & Information Device Corporation Connecting film, and joined structure and method for producing the same
US8524032B2 (en) 2008-11-20 2013-09-03 Dexerials Corporation Connecting film, and joined structure and method for producing the same
JP2010192900A (ja) * 2009-02-19 2010-09-02 General Electric Co <Ge> 埋め込みチップ集積を容易にするチップ取り付け接着剤、並びに関連するシステム及び方法
JP5490089B2 (ja) * 2009-02-20 2014-05-14 ヘンケル コーポレイション 電極の接続方法およびそれに使用される接続組成物
WO2010095715A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 ヘンケル コーポレイション 電極の接続方法およびそれに使用される接続組成物
JP2010260353A (ja) * 2010-06-21 2010-11-18 Hitachi Chem Co Ltd 異方導電フィルムの製造方法
JP2012062471A (ja) * 2010-09-20 2012-03-29 Lg Chem Ltd 偏光板用接着剤及びこれを含む偏光板
WO2012073633A1 (ja) * 2010-11-30 2012-06-07 Dic株式会社 カチオン重合性樹脂組成物、それを用いて得られる光学用材料、積層体
JP5013029B2 (ja) * 2010-11-30 2012-08-29 Ｄｉｃ株式会社 カチオン重合性樹脂組成物、それを用いて得られる光学用材料、積層体
JP2012188463A (ja) * 2011-03-08 2012-10-04 Hitachi Chemical Co Ltd 半導体用接着剤組成物、半導体装置及び半導体装置の製造方法
KR20140091055A (ko) 2011-11-14 2014-07-18 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 이방성 도전 필름, 접속 방법 및 접합체
TWI579865B (zh) * 2011-11-14 2017-04-21 迪睿合股份有限公司 各向異性導電膜、連接方法、及接合體
JP2013183000A (ja) * 2012-03-01 2013-09-12 Sekisui Chem Co Ltd 半導体接合用接着剤、半導体接合用接着フィルム、半導体装置の製造方法及び半導体装置
KR20140148421A (ko) 2012-03-23 2014-12-31 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 접속체의 제조 방법 및 전자 부품의 접속 방법
JP2014043574A (ja) * 2012-08-03 2014-03-13 Dexerials Corp 異方性導電フィルム及びその製造方法
WO2014046082A1 (ja) * 2012-09-18 2014-03-27 デクセリアルズ株式会社 異方性導電フィルム、異方性導電フィルムの製造方法、接続体の製造方法、及び接続方法
US10373926B2 (en) 2012-09-18 2019-08-06 Dexerials Corporation Anisotropic conductive film, method for producing anisotropic conductive film, method for producing connection body, and connection method
JP2016210997A (ja) * 2012-09-18 2016-12-15 デクセリアルズ株式会社 異方性導電フィルム、異方性導電フィルムの製造方法、接続体の製造方法、及び接続方法
JP2014077124A (ja) * 2012-09-18 2014-05-01 Dexerials Corp 異方性導電フィルム、異方性導電フィルムの製造方法、接続体の製造方法、及び接続方法
US9960139B2 (en) 2012-09-18 2018-05-01 Dexerials Corporation Anisotropic conductive film, method for producing anisotropic conductive film, method for producing connection body, and connection method
KR20140113416A (ko) 2013-03-15 2014-09-24 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 접속체의 제조 방법, 및 전자 부품의 접속 방법
JP2014179498A (ja) * 2013-03-15 2014-09-25 Dexerials Corp 接続体の製造方法、及び電子部品の接続方法
JP2015110769A (ja) * 2013-11-07 2015-06-18 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 導電性接着剤、導電性接着シート、配線デバイス、および配線デバイスの製造方法
JP2015172109A (ja) * 2014-03-11 2015-10-01 デクセリアルズ株式会社 異方性導電接着剤、接続体の製造方法及び電子部品の接続方法
WO2015137008A1 (ja) * 2014-03-11 2015-09-17 デクセリアルズ株式会社 異方性導電接着剤、接続体の製造方法及び電子部品の接続方法

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