TW495837B - Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device by using photolithography to form pattern - Google Patents

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Description

495837 έΐ C8 D8 Γ . 卜 六、申請專利範圍 • 整。 10、如申請專利範圍第6項之曝光方法，其中，前述 可動台係採模組方式來組裝在曝光裝置。. Π、一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物體 及第2物體之一方，將另一方曝光，具有·· 可動台，移動第2物體； 台室，容納可動台； 搬送系統，搬送第2物體至台室內，； 第1對準系統，在台室內，相對於可動台將第2物體 對準； 第2對準系統，將設置在可動台的第2物體與曝光位 置對準。 12、 如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，前 述第1對準系統包含外形檢測系統，檢測前述第2物體的 外形位置資訊； 前述第2對準系統包含標記檢測系統，檢測前述第2 物體上的對準用標記之位置資訊。 13、 如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，前 述搬送系統包含第3對準系統，以外形基準來進行前述第 2物體的對準。 14、 如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，在 藉由前述搬送系統進行前述第2物體搬送之路徑上，配置 溫度控制系統以進行前述第2物體的溫度控制。 15、 如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，前 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 495837 i C8 D8 ^ -六、申請專利範圍 述第1對準系統進一步具有搬入用的第1機械臂與搬出用 • 的第2機械臂； — 前述第1及第2機械臂分別具有可沿前述可動台的移 動方向自由滑動之保持保持部。 16、如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，前 述第2物體包含第1基板與第2基板，前述可動台具有第 1可動台(移動第1基板)與第2可動台(移動第2基板）； 前述第1對準系統包含前述第1可動台用的對準系統 與第2可動台用的對準系統，前述第2對準系統也包含前 述第1可動台用的對準系統和第2可動台用的對準系統。 - 17、如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，具 有： 搬送室，容納前述搬送系統； 被覆構件，具有可撓性且將前述台室與前述搬送室間 的空間和外部氣體實質地隔離；及 氣體供應裝置，將前述曝光光束透射之氣體供應給前 述台室及則述搬送室內。 18、 如申請專利範圍第17項之曝光裝置，其中，至 少在即述台室及搬送室之任何一室，進一步具有氧氣濃度 感測器。 19、 如申請專利範圍第15項之曝光裝置，其中，在 可動台部上，進一步具有保持器(保持第2物體），保持器 形成有對應前述機械臂保持部的缺口。 20、 如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，進 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂： 線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 495837 a. - _______ 六、申請專利範圍 一步具有第2物體的支撐板，當搬出第2物體時，急速停 止可動台(載置且移動第2物體），藉此將第2物體搬出到 支撐體上。 21、 如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，進 一步具有：保持環，搬送臂以既定間隔設置用以保持第2 物體的爪部；.及搬送臂，用以支撐搬送保持環。 22、 如申請專利範圍第11項之曝光裝置，其中，係 以模組方式，將前述台室與可動台組裝在曝光裝置。 23、 一種曝光裝置，藉由曝光光束，透過第1物體及 第2物體之一方，將另一方曝光，具有： - 可動台，進行第2物體的定位；及 - 搬送系統，搬送該第2物體至可動台上；並且，該搬 送系統，具有：搬運機構，爲了從外部取入該第2物體， 具有二個以上的位移自由度； 外形檢測系統，檢測保持在搬運機構之該第2物體的 外形位置資訊； 機械臂機構：爲了將由搬運機構所運交之該第2物體 沿g亥可動台方向搬送，至少具有一個位移的自由度。 24、 如申請專利範圍第23項之曝光裝置，其中，前 述搬運機構包含旋轉台；第1把手，以可自由旋轉方式固 定在該旋轉台上；及第2把手，以可自由旋轉方式設置在 該第1把手的前端部，並於前端部保持前述第2物體； 前述機械臂機構具有機械臂(保持前述第2物體)與驅 動裝置(在前述可動台的方向驅動該機械臂）。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) .......................0^...............訂................線· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 495837 - C8 • D8 六、申請專利範圍 25、 如申請專利範圍第23項之曝光裝置，其中，進 •一步具有溫度控制系統，該溫度控制系統係進行從前述搬 * 運機構所運交之前述第2物體的溫度調整。 26、 如申請專利範圍第23項之曝光裝置，其中，進 一步具有：台室，具有氣密性且可容納前述可動台；及第 1搬送室，具有氣密性且可容納前述搬運機構；及第2搬 送室，具有氣密性且可容納前述機械臂機構； 在前述第2搬送室與前述台室間、前述第1搬送室與 前述第2物體的搬送線間、及前述第1搬送室與前述第2 搬送室間，分別形成可開閉的開口。 - 27、如申請專利範圍第26項之曝光裝置，其中，在 • 前述第2搬送室與前述台室間所形成的開口，比第1搬送 室與前述第2搬送室間所形成的開口小。 28、 如申請專利範圍第26項之曝光裝置，其中，在 第2搬送室中，進一步具有溫度調節裝置，調節第2物體 的溫度。 29、 如申請專利範圍第23項之曝光裝置，其中，係 以模組方式將前述可動台組裝在曝光裝置。 30、 一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物 體，將第1基板及第2基板曝光，具有： 第1可動台，載置第1基板； 第2可動台，載置第2基板； 第1測量系統：在第1領域(包含曝光位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公愛) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 495837 - C8 D8 六、申請專利範圍 第1驅動系統，在第1領域進行該第1可動台或該第 • 2可動台的驅動； • 第2測量系統，在第2領域(包含對準位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第2驅動系統，在第2領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動； 台交換系統，在該第1驅動系統與該第2驅動系統 間，進行該第1可動台的至少一部分與該第2可動台的至 少一部分的交換； 投影系統，在前述第1領域，將前述第1物體的圖案 . 像投影在前述第2物體上；及 • 標記檢測系統，在前述第2領域，檢測前述第2物體 上的對準用標記的位置； 前述第1測量系統係以前述投影系統爲基準，進行測 量對象的可動台的位置測量； 前述第2測量系統係以前述標記檢測系統爲基準，進 行測量對象的可動台的位置測量。 31、一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物 體，將第1基板及第2基板曝光，具有： 第1可動台，載置第1基板； 第2可動台，載置第2基板； 第1測量系統：在第1領域(包含曝光位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第1驅動系統，在第1領域進行該第1可動台或該第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公愛) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -έ 線 A8B8C8D8 495837 六、申請專利範圍 2可動台的驅動； (請先閱讀背面之注意事項再塡寫本頁) 第2測量系統，在第2領域(包含對準位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第2驅動系統，在第2領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動；及 台交換系統，在該第1驅動系統與該第2驅動系統 間，與該第1可動台的至少一部分和該第2可動台的至少 一部分進行交換； 前述第2測量系統包含干涉計，從前述投影系統與前 述標記檢測系統間，將測量光束照射在測量對象的可動 台。 32、一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物 體，將第1基板及第2基板曝光，具有： 第1可動台，載置第1基板； 線 第2可動台，載置第2基板； 第1測量系統：在第1領域(包含曝光位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第1驅動系統，在第1領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動； 第2測量系統，在第2領域(包含對準位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第2驅動系統，在第2領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動；及 台交換系統，在該第1驅動系統與該第2驅動系統 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 495837 i C8 * D8 六、申請專利範圍 間，與該第1可動台的至少一部分和該第2可動台的至少 一部分進行交換； (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 該台交換系統係電磁鐵，該電磁鐵係安裝在第1及第 2可動台或第1及第2驅動系統的至少一方之內部。 33、 一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物 體，將第1基板及第2基板曝光，具有： 第1可動台，載置第1基板； 第2可動台，載置第2基板； 第1測量系統：在第1領域(包含曝光位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第1驅動系統，在第1領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動； 第2測量系統，在第2領域(包含對準位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第2驅動系統，在第2領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動； 台交換系統，在該第1驅動系統與該第2驅動系統 間，與該第1可動台的至少一部分和該第2可動台的至少 一部分進行交換；及 第1及第2可動交換工作台，分別載置第1可動台及 第2可動台。 34、 一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物 體，將第1基板及第2基板曝光，具有： 第1可動台，載置第1基板； 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 495837 - C8 D8 六、申請專利範圍 ‘ 第2可動台，載置第2基板； 第1測量系統：在第1領域(包含曝光位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第1驅動系統，在第1領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動； 第2測量系統，在第2領域(包含對準位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第2驅動系統，在第2領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動；及 台交換系統，在該第1驅動系統與該第2驅動系統 間，與該第1可動台的至少一部分和該第2可動台的至少 一部分進行交換； 該第1測量系統及第2測量系統包含干涉計，干涉計 的移動鏡係設置在第1及第2可動台的對向端部。 35、一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第i物 體，將第1基板及第2基板曝光，具有： 第1可動台，載置第1基板； 第2可動台，載置第2基板； 第1測量系統：在第1領域(包含曝光位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第1驅動系統，在第1領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動； 第2測量系統，在第2領域(包含對準位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； -----------裝— — (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂： 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐) A8B8C8D8 495837 六、申請專利範圍 第2驅動系統，在第2領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動；及 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 台交換系統，在該第1驅動系統與該第2驅動系統 間，與該第1可動台的至少一部分和該第2可動台的至少 一部分進行交換； 在第1領域與第2領域間，至少設置第1或第2測量 系統的一部分。 36、一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物 體，將第1基板及第2基板曝光，具有： 第1可動台，載置第1基板； 第2可動台，載置第2基板； 第1測量系統：在第1領域(包含曝光位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第1驅動系統，在第1領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動； 第2測量系統，在第2領域(包含對準位置)進行該第1 可動台或該第2可動台的位置測量； 第2驅動系統，在第2領域進行該第1可動台或該第 2可動台的驅動； 台交換系統，在該第1驅動系統與該第2驅動系統 間，與該第1可動台的至少一部分和該第2可動台的至少 一部分進行交換； 可動基座，透過空氣軸承，以可滑動方式將第1可動 台及第2可動台載置在曝光裝置上；及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 495837 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 定盤，透過空氣軸承，以可滑動方式將可動基座載置 在曝光裝置上。 37、 如申請專利範圍第36項之曝光裝置，其中，當 第1可動台及第2可動台在可動基座上移動時，可動基座 係在第1可動台及第2可動台間，能滿足動量不滅法則。 38、 一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物 體，將第2物體曝光，具有： 可動台，進行該第2物體的定位 投影系統，將該第1物體的圖案像投影在該第2物體 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ·裝
訂-- 標記檢測系統，檢測該第2物體上的對準用標記的位 置； 第1測量系統，係與該標記檢測系統一體性地配置的 第1測量系統，以參照物體爲基準，測量該可動台既定方 線 向的位置。 39、如申請專利範圍第38項之曝光裝置，其中，前 述既定的參照物體係前述投影系統； 設置第2測量系統，該第2測量系統係與前述標記檢 測系統一體性地配置，以前述標記檢測系統爲基準，測量 沿著與前述既定方向交叉的方向之前述可動台的位置。 4〇、如申請專利範圍第39項之曝光裝置，其中，前 述第2物體包含第1基板與第2基板，前述可動台包含第 1可動台(移動第1基板)和第2可動台(移動第2基板）； 前述標記檢測系統分別包含第1及第2可動台用的檢 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐) 495837 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 測器，前述第1測量系統分別包含前述第1及第2可動台 用的測量器。 .......................…… (請先閱讀背面之注意事項再塡寫本頁) 41、 如申請專利範圍第39項之曝光裝置，其中，第i 測量系統及第2測量系統分別爲雙程(double pass)方式的干 涉計。 42、 如申請專利範圍第41項之曝光裝置，其中，從 第1測量系統或第2測量系統的干涉計所射出的測定光束 係照射在與載置於可動台上之第2物體相同高度的位置。 43、 一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第丨物體 及投影系統，將第2物體曝光，具有： 防振台，至少一個； 基座構件，保持在防振台上； 可動台，自由移動地載置在該基座構件上，移動該第 1物體； 檢測系統，檢測該基座構件與該投影系統的相對位 移；及 控制裝置，根據檢測系統的檢測結果來控制防振台。 44、 如申請專利範圍第43項之曝光裝置，其中，檢 測系統係干涉計單元，該干涉計單元包含：反射鏡，配置 在基座構件的上面；及參照鏡，支撐在投影系統。 45、 如申請專利範圍第43項之曝光裝置，其中，防 振台係主動型防振台。 46、 一種曝光裝置，係用曝光光束，透過第1物體及 投影系統，將第2物體曝光，包含·· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210 X 297公釐) 495837 - C8 D8 六、申請專利範圍 基座構件； (請先間讀背面之注意事項再塡寫本頁) 可動台，自由移動地載置在該基座構件上，驅動前述 第2物體； 台室，容納該可動台； 支撐板：透過1個或複數個防振台，配置在前述基座 構件上，支撐前述投影系統； 檢測系統，檢測該台室與前述投影系統的相對位移， 根據前述檢測系統的檢測結果，控制前述防振台。 47、如申請專利範圍第46項之曝光裝置，其中，前 述檢測系統係干涉計單元，該干涉計單元包含：反射鏡， 設置在台室的上面；及參照鏡，被投影系統所支撐。 48 '如申請專利範圍第46項之曝光裝置，其中，防 振台係主動型防振台。 49、 一種曝光裝置，係藉由曝光光束，透過第1物體 及第2物體之一方，將另一方曝光，具有： 投影系統，將第1物體及第2物體一方的像投影在另 一方； 可動台，驅動第2物體； 台室，容納該可動台； 第1干涉計，在台室至少設置一部分，檢測該可動台 的位置資訊或速度資訊； 第2干涉計，檢測設置在第1干涉計的台室之部分及 與該投影系統的位移。 50、 如申請專利範圍第49項之曝光裝置，其中，進 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐)
3g88 95 ABCD 495837 六、申請專利範圍 一步包含： 另外一個可動台，驅動第1物體； 另外一個台室，容納用以驅動第1物體之可動台； 第3干涉計，在另外一個台室，至少設置一部分，檢 測該可動台的位置資訊或速度資訊； 第4干涉計：檢測設置在第3干涉計的台室之部分與 該投影系統的位移。 51、 一種以微影來形成圖案之元件製造方法，其特徵 係：包含採用如申請專利範圍第1項之曝光方法，將光罩 圖案轉印到工件上的製程。 52、 一種以微影來形成圖案之元件製造方法，其特徵 係：包含採用如申請專利範圍第6項之曝光方法，將光罩 圖案轉印到工件上的製程。 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
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