JP6170694B2 - 測長計の設置構造 - Google Patents

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Description

本発明は、真空中に置かれた被測定物の変位を光学式干渉計からなる測長計で測定するための、真空下における測長計の設置構造に関する。
一般に走査電子顕微鏡や半導体検査装置は、電子線によって試料の拡大像を生成する電子光学系、電子の像を撮影して装置内に取り込む電子線検出器、取り込んだ像から試料の欠陥などを検出する画像処理エンジン、試料の搬送や試料を高精度に位置決めしながら移動させるXYステージなどの機構系からなり、試料をXYステージ上に吸着固定させた状態で、XYステージにより試料を任意の方向に移動したり傾斜させたりしながら電子線を照射し、試料から発生した2次電子や反射電子を検出して試料の走査像を得るように構成されている。
前記XYステージにより移動せしめられる試料の正確な変位量を測定する手段としてはレーザー測長計が用いられ、サブnm〜μm以下の分解能を要する装置にあっては、試料を支持するXYステージとともに前記測長計も真空容器(チャンバ)内に設置される(例えば特許文献1,2参照)。
図10は従来装置における測長計の設置態様を示しており、同図に示されるように、測長計1は、ステージ取り付け台2で支持されたXYステージ3とともに真空容器A内に収納され、測長計1でXYステージ3の変位を測定することで当該ステージ上に吸引固着された試料(図示せず)の変位を検出するように設けてある。
詳しくは、XYステージ3は、定盤(図示せず)上に支持されたステージ取り付け台2上に設置したX、Y両方向のレールと駆動軸、駆動モータなどからなる駆動機構(図示せず)によりそれぞれの方向に移動自在に設けられ、その上面の所定位置に、同じく真空容器A内に収納された搬送機構(図示せず)により搬送された試料を吸引固定するように設けてある。XYステージ3の四隅コーナー部の一角には、当該コーナー部を挟んだ両側部に沿ってステージミラー4を取り付けてある。
また、測長計1は、XYステージ3の側方に設置された設置台5上に取り付けられ、測長計1の後面に真空容器Aの側壁A1の外側に設けた光軸調整器6から測定用レーザー光を入力し、測長計1の前面からステージミラー4に向けてレーザー光を出力するとともにステージミラー4に入射して反射したレーザー光を受光し、測長計1における干渉光を真空容器Aの側壁A1の外側に配置されたピックアップ部7に出力するように設けてある。
そして、ピックアップ部7に入力された検出信号は、図示されない測長演算器に入力されて、XYステージ3とともに移動する試料の変位量が測定されるようになっている。
図示した測長計1は、その前面に被測定物であるステージミラー4に向けたレーザー光の入力面、後面にピックアップ部7に向けた検出レーザー光の出力面をそれぞれ設けた構成のものであるが、これとは異なってレーザー光の入力面と出力面が直交する向きに配置された構成の測長計1を用いるときには、図11に示されるように、測長計1の側壁が対向する真空容器Aの側壁A1の外側に光軸調整器6とピックアップ部7が配置される。
特開2003−282423号公報 特開2005−327917号公報
測長計1を含む変位測長系のレーザー光の軸位置の調整は、真空容器Aの外側に配置された機器を操作するだけでなく、真空容器A内の測長計1の設置位置などを微妙に調整して行われる。
この場合、前記XYステージ3や測長計1が収納された真空容器A全体を開放して調整作業が行われるが、調整後、真空容器A内を排気して真空状態にした後で、調整が十分でなかったことが判ったり容器内を排気する過程で変位測長系に不具合が生じたりしたときには、再び真空容器Aを開放して大気圧に戻さなければならないという問題がある。
また、真空容器A内で被測定物であるXYステージ3の変位を測長計1で検出する場合、XYステージ3の可動範囲などの条件上、測長計1は真空容器A内の各側壁A1の略中央部に配置する必要があるが、レーザー光の入力面と出力面が直交する向きに配置された測長計1を用いるときは、前記図11に示されるように、測長計1に対する光軸調整器6とピックアップ部7の配置距離が長くならざるを得ない。
例えばAgilent社製の測長計である5軸平面鏡光学干渉計(Z4420,Z4421など)は、測長対象物の5点の位置を同時に測定することにより、ピッチング、ヨーイング、ローリングなどの姿勢を高精度で測定可能であるが、この測長計はレーザー光の入力面と出力面が直交するタイプであり、これを前記測長計1として使用する場合は以下のような問題がある。
すなわち、真空容器A内のXYステージ3を測長対象物とした場合、測長計1はXYステージ3の可動範囲などの条件上、真空容器Aの側壁A1の概ね中央部に配置する必要があり、測長計1に対するレーザー光の入力部や出力レーザー光のピックアップ部は測長計1からある程度距離をとった位置に配置せざるを得ない。
この場合に、真空容器Aの外側に配置された機器を操作して行うレーザー光の軸位置の調整は、測長計1までの光路距離が長いために精密な調整が必要となり、調整精度が低くなるのにともない調整難度が高くなって、作業に手間と時間を要するという問題がある。また、真空容器Aの内部に測長計1を設置したのでは、真空容器A自体が測長計1を設置するために大きくなってしまうという問題もある。
本発明は従来技術の有するこのような問題点に鑑み、真空容器内に設置された被測定物の変位を真空下で測定する測長計の設置構造において、真空容器を開放することなく測長計のレーザー光の軸位置を調整することができ、レーザー光の入力面と出力面が交差した測長計を用いた場合であってもレーザー光の軸位置を正確、且つ簡易な操作により調整し、被測定物の変位量の測定精度を高めることができるようにすることを課題とする。
前記従来技術の問題を解決する手段として、被測定物が収納される真空容器とは別に測長計が収納される真空容器を設けることが考えられるが、正確な測定を担保するためには、それぞれの真空容器の内部を大気圧から真空状態に又はその逆に変化させる過程で、測長計の取付け部が差圧の影響を受け難い構成とする必要がある。また、真空容器外部の気圧の微妙な変化、例えば低気圧通過時などの大気圧の変化などに対しても影響を受け難い構成とする必要がある。
そこで、本発明の測長計の設置構造は、真空中に置かれた被測定物の変位を測定する測長計の設置構造であって、被測定物が設置される真空容器Aとは別に測長計が収納される真空容器Bを設け、真空容器A及び/又は被測定部を支持する定盤に一体に取り付けられた設置台を真空容器Aの側部に設置するとともに、この設置台上に真空容器Bを、その側壁が、弾性シール部材などの真空シール手段を挟んで真空容器Aの側壁に重ね合わされるように配置して設置し、
測長計に入出力されるレーザー光が通る孔部を前記真空容器Aの側壁に設け、真空容器Aの当該側壁に重なり合った真空シール手段及び真空容器Bの側壁に対応位置に複数のレーザー光軸用孔を設けるとともに、前記真空容器Bの側壁と真空シール手段との接合境界部であって各レーザー光軸用孔の周縁部には真空シール部材を設け、
前記孔部と各レーザー光軸用孔を通して、真空容器B内に収納された測長計から真空容器A内にレーザー光が入射されるとともに被測定物に入射して反射されたレーザー光が真空容器Aから真空容器B内の測長計に入射されるようにした構成を有することを特徴とする。
これによれば、真空容器Bは、真空容器A及び/又は被測定物を支持する定盤に一体に取り付けた設置台上に設置してあるので、それぞれの容器内部を大気圧から真空状態に変化させたときに、真空容器Bに収納された測長計の取り付け位置が差圧の影響により、特に鉛直方向に沿ってずれるようなことはなく、レーザー光の軸位置を正確な調整位置に保持することができる。
前記構成において、真空容器Bは、測長計が収容される空間部を内部に備えた椀状の蓋体と、この蓋体の下部を閉鎖して当該容器B内の真空と外部の大気とを隔絶する下部板材とを備え、上面に測長計を取り付けて設置台に固定された前記下部板材上に、軸シール部材などの真空シール部材からなる真空シール手段を介して前記蓋体が取り付けられているとともに、レーザー光軸用孔が形成された側壁と真空容器Aとの境界部であって各レーザー光軸用孔の周縁部に、弾性Oリングなどの真空シール部材からなる真空シール手段を設けた構成を有することが好ましい。
これによれば、真空容器Bを、その内部に測長計の収容スペースを確保しつつコンパクトに、且つ高い気密性と耐圧性を具備させて構成することができる。
前記構成において、真空容器B内への測長計の着脱操作やレーザー光の軸位置の調整を簡易に行えるように、真空容器Bの蓋体を下部板材に対して着脱自在に設けた構成とするのが好ましい。
前記構成の他の態様として、測長計が収容される空間部を内部に備えていてその下端部を測長計が固定された設置台の上面に接合させて設置台上で測長計を収容する真空容器Bと、設置台を挟んで当該設置台の下面に設置される真空容器Cを備え、前記真空容器Bは、その下端部に沿って設けた真空シール手段を介して設置台の上面に、且つ当該上面に沿って平行な方向への変位を許容可能に設けて設置され、前記真空容器Cは、その設置台下面との接続部が前記真空容器Bの下端部と略同形状に設けられ、且つ当該接続部に沿って前記真空容器Bの真空シール手段と真空シール面積が略同じ真空シール手段が設けられており、前記真空容器Bの真下の設置台の下面に真空容器Cがその接続部に沿って設けた真空シール手段を介して取り付けられた構成とすることができる。
これによれば、測長計を設置台に直接設置することが可能となり、より真空と大気の差圧の影響を少なくなって、測長計を当初の取り付け位置に固定して、レーザー光の軸位置を正確な調整位置に保持することができる。また、下部板材が不要となるため、測長計の取り付けや取り外しを簡易な操作で行えて微妙な取り付け位置の調整も容易となる。
前記真空容器Cを設置台の下面に設置する態様にあっては、設置台に形成された貫通孔を通して真空容器Bと真空容器Cの内部を連通させ、真空容器Bの真空引き動作に伴って両容器内を真空排気することができる。
或いは真空容器Cを設置台の下面に設置する場合に、真空容器Aと真空容器Cを真空配管で接続した構成とすることもできる。
これによれば、真空容器Aの真空引き動作に伴い、真空配管を通じて真空容器Cと真空容器Bの真空引きがなされるので、真空容器B内の高真空排気が可能となり、結果的に真空容器A内の高真空排気に寄与することとなる。
前記構成において、真空容器A内の被測定物に向けたレーザー光の入力面とピックアップ部に向けた検出レーザー光の出力面とが直交する形態の測長計が真空容器B内に収納され、設置台上に設置されたピックアップ部に面する真空容器Bの側壁に前記検出レーザー光が通るレーザー光軸用孔を設けた構成とすることができる。
これによれば、測長計に対する光軸調整器とピックアップ部の配置距離が短くなり、レーザー光の軸位置の調整を簡易な操作で正確に行うことが可能となる。また、真空容器Aのコンパクト化も図れる。
また、前記構成において、真空容器Aと真空容器Bとの間のレーザー光軸用孔及び/又は真空容器Bのピックアップ部とのレーザー光軸用孔内の各々に、弾性Oリングなどの真空シール部材からなる真空シール手段を設けた構成とすることができる。
これによれば、各レーザー光軸用孔の真空シール手段を個別に設けることで、各真空シール手段により高い気密性と耐圧性を実現して、真空と大気の差圧の影響を小さく抑えることができる。
また、前記構成において、真空容器Bの上部に着脱自在な蓋面部を設けるとともに、この蓋面部の着脱部に真空シール手段を設けた構成とすれば、真空容器B内の前記調整操作が蓋面部のみを取り外して行うことができ、さらに作業が容易となって好ましい。
本発明の測長計の設置構造によれば、被測定物が収納される真空容器Aとは別に真空容器Bを設け、これに測長計を収納し、両容器を連ねて真空下での変位測長系が構成される。測長計を真空容器Bに収納してあるので、真空容器Aを開放せずに、レーザー光の軸位置を調整する作業を行え、また、両容器はともにその下部を定盤で支持されているので、それぞれの容器内部を大気圧から真空状態に変化させたときの差圧の影響や、各容器外部の大気圧の微妙な変化による影響を受け難く、レーザー光の軸位置を正確な調整位置に保持することができる。
また、レーザー光の入力面と出力面が交差した測長計を用いた場合でも、測長計に対する光軸調整器とピックアップ部の配置距離を短くして、レーザー光の軸位置の調整を簡易な操作で正確に行うことができ、被測定物の変位量の測定精度を高めることができ、真空容器Aのコンパクト化も図れる。
また、設置台を挟んで真空容器Bとは反対側の設置台の下面に真空容器Cを設置し、両容器内を設置台に形成した貫通孔を介して連通させた構成とすれば、測長計を設置台に直接設置することが可能となり、より真空と大気の差圧の影響を少なくして、測長計を当初の取り付け位置に固定して、レーザー光の軸位置を正確な調整位置に保持することができる。また、下部板材が不要となるため、測長計の取り付けや取り外しを簡易な操作で行えて微妙な取り付け位置の調整も容易となる。
さらに前記真空容器Cを真空容器Aと真空配管で接続した構成とすれば、真空容器B内の高真空排気が可能となり、結果的に真空容器A内の高真空排気に寄与する。
本発明の設置構造における変位測長系の構成を示した図である。 本発明の一実施形態における設置台上に取り付けた真空容器Bのレーザー光入力面側の概略外観図である。 図2とは反対側の真空容器Bの内部透過図である。 設置台上に取り付けた状態の真空容器Bの側面図である。 真空容器Aと真空容器Bの接続部に沿った概略断面図である。 測長計のレーザー光入力面に交差する方向に沿った真空容器Bの概略断面図である。 本発明の他の実施形態における真空容器Aと真空容器Bの接続部に沿った概略断面図である。 同じく他の実施形態における測長計のレーザー光入力面に交差する方向に沿った真空容器Bの概略断面図である。 本発明のさらに他の実施形態における測長計のレーザー光入力面に交差する方向に沿った真空容器Bの概略断面図である。 測長計を真空容器内に収納した従来の変位測長系の構成を示した図である。 図10とは異なる形態の測長計を真空容器内に収納した他の変位測長系の構成を示した図である。
本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。なお、前記図示した従来の変位測長系と同一の構成要素には同一番号を付して説明を省略する。また、後述する真空容器A,Bの送気・排気手段は図示を省略してある。
図1は本発明の測長計の設置構造による変位測長系の構成を示している。
同図に示されるように、これは、真空容器A内には周側部にステージミラー4を装備したXYステージ3が、定盤10(図4参照)上に設けられたステージ取り付け台2上に設置されており、これとは別に形成された真空容器Bが真空容器Aの側壁A1の外側に配置された設置台5上に取り付けられ、この真空容器B内に測長計1を収納するとともに、設置台5上に測長計1にレーザー光を入力する光軸調整器6と測長計1からの検出レーザー光を受光するピックアップ部7を配置して、真空下での変位測長系を構成したものである。
図2〜図6は本発明の設置構造の一実施形態を示しており、各図に示されるように、真空容器Bは蓋体8と下部板材9からなり、その内部に測長計1を収納して、真空容器Aの外側に配置された設置台5上に取り付けてある。
真空容器Bの蓋体8は、アルミ合金などを加工してなり、その内部に測長計1が収容される椀状の空間部を備え、当該容器内部に収容される測長計1の被測定対象である前記ステージミラー4に向けたレーザー光入力面が面する蓋体8の側壁8aに、複数のレーザー光軸用孔8a1が形成され、また、前記測長計1のピックアップ部7に向けたレーザー光出力面が面する蓋体8の側壁8bにも、複数のレーザー光軸用孔8b1が形成してある。
また、下部板材9は、アルミ合金やステンレス鋼などを加工してなる、前記蓋体8の下部を閉鎖して当該容器B内の真空と外部の大気とを隔絶する板状の部材であり、設置台5の上面に一体に固定してある。
設置台5は、図4に示されるように、その脚部51を真空容器Aの下部を支持する定盤10に固着し、真空容器Bを支持する上面を真空容器Aの側壁A1の外側に水平に張り出して前記定盤10に一体に取り付けてある。
測長計1は、レーザー光の入力面と出力面が直交する形態のもの(例えばAgilent社製の5軸平面鏡光学干渉計;Z4420,Z4421など)であり、図5に示されるように、その筐体正面のレーザー光の入力面を真空容器Aの側壁A1に向けて真空容器Bの下部板材9上に載せて支持させるとともに、その下部フランジ1aに挿通させた固定ボルト11を設置台5の上面に螺合して、前記下部板材9とともに設置台5上に締着固定してある。
真空容器Bは、下部板材9とともに測長計1を設置台5の上面に固定した状態で、下部板材9上にリング形の軸シール部材からなる真空シール部材12を介して蓋体8を重ね合わせるとともに、真空容器Aの側壁A1に面する蓋体8の側壁8aの外側に、表面に複数のレーザー光軸用孔13aが形成された側部板材13を重ね合わせて当該側壁8aを真空容器Aの側壁A1側に圧接させた状態で、蓋体8の側壁8aの両側に突設したフランジ部8a2に固定ボルト11を挿通し、前記側壁A1に螺合して側壁8aを側部板材13とともに真空容器Aに締着固定し、また、これと反対側の蓋体8の側壁8cの下端に水平に突設したフランジ部8c1を固定ボルト11で前記下部板材9に締着固定して設置台5上に取り付けてある。前記側部板材13が面する真空容器Aの側壁A1には、測長計1に入出力されるレーザー光が通る孔部A1aが形成してある。
前記蓋体8に形成されたレーザー光軸用孔8a1と側部板材13に形成されたレーザー光軸用孔13aは、ともに真空容器B内に固定された測長計1のレーザー出力面から出射されるレーザー光及び当該面に入力される反射レーザー光の各光軸の位置と位置対応させて設けてあり、また、蓋体8の側壁8aと側部板材13との接合境界部であって各レーザー光軸用孔8a1,13aの周縁部には弾性Oリングからなる真空シール部材14を装着してある。
また、真空容器Bの蓋体8の側壁8bの外面には、表面に前記側壁8bに形成されたレーザー光軸用孔8b1と位置対応させてレーザー光軸用孔15aが形成されたガラス取り付け板15の一面を重ねて取り付けてあり、当該ガラス取り付け板15の他面には、光軸調整器6とピックアップ部7が設置台5上に配置して取り付けられており、蓋体8の側壁8bに形成されたレーザー光軸用孔8b1とガラス取り付け板15に形成されたレーザー光軸用孔15aを通して、光軸調整器6からレーザー光が真空容器B内に設置された測長計1に入力されるとともに、測長計1から検出レーザー光がピックアップ部7に入力されるように設けてある。
前記側壁8bとガラス取り付け板15の接合境界部であって各レーザー光軸用孔8b1,15aの周縁部にも弾性Oリングからなる真空シール部材14を装着してある。真空シール部材14は、フッ素ゴムなどの耐食性を有する弾性材を用いることが好ましい。
このように構成された本形態の測長計1の設置構造によれば、真空容器Bの蓋体8を取り外した状態で、測長計1の着脱操作やレーザー光の軸位置の調整操作を行うことができる。
真空容器Bはその蓋体8を真空容器Aと下部板材9に締着固定することにより密閉され、蓋体8と下部板材9との間に設けた真空シール部材12と各レーザー光軸用孔に設けた真空シール部材13により容器内部の気密性が保たれ、図示されない排気手段を動作させて容器内部を真空にすることができる。
そして、真空容器Aと真空容器Bをともに真空にした状態で、光軸調整器6から測長計1に測定用レーザー光が入力されると、測長計1の筐体前面からレーザー光が出力され、このレーザー光が蓋体8のレーザー光軸用孔8a1、側部板材13のレーザー光軸用孔13a及び真空容器Aの側壁A1の孔部A1aを通って真空容器Aに収納されたXYステージ3のステージミラー4に入射するとともに、ステージミラー4に入射して反射したレーザー光が前記レーザー光軸用孔13a,8a1を通って測長計1に入射され、測長計1における干渉光が、設置台5上に配置したピックアップ部7に入力され、ピックアップ部7に入力された検出信号が、図示されない測長演算器に入力されて、XYステージ3とともに移動する試料の変位量が測定されるようになっている。
なお、本形態の真空容器Bは、その蓋体8を取り外すことで容器内の調整操作が行えるように設けたが、蓋体8の上部などの真空容器Bの上部に、着脱自在な蓋面部を設け、且つこの蓋面部の着脱部に真空シール手段を設けた構成とし、蓋面部のみを取り外して容器内の調整操作を行えるようにしてもよい。
図7及び図8は、本発明の他の実施形態を示しており、これは、測長計1を収容する真空容器Bを設置台5の上面に、真空容器Cを設置台5の下面にそれぞれ設置し、両容器B,Cの内部を、設置台5に形成した貫通孔52を介して連通したものである。
詳しくは、両図に示されるように、本形態の真空容器Bは、前記椀状の蓋体8を、測長計が収容される空間部を内部に備えた筒状の容器本体81と、その上面に被せて容器本体81内を密閉する蓋面部82とで構成したものであり、前記下部板材9は用いずに、測長計1を設置台5の上面に固定ボルト11で直接固定するように設けてある。
容器本体81の下端部には、その面内に沿って弾性Oリングからなる真空シール部材16が設けてあり、また、測長計1のピックアップ部7に向けたレーザー光出力面が面する側壁8bと対向する位置の側壁8dと両側壁間の側壁8cの下端部には外方へ水平に突出したフランジ部8c1,8d1を各々設けてある。側壁8aの下端部にもフランジ8a3を設けてある。側壁8aにレーザー光軸用孔8a1、側壁8bにもレーザー光軸用孔8b1がそれぞれ設けてあること、側壁8aの両側にフランジ部8a2を設けてあることは前記形態の蓋体8と同様である。
また、蓋面部82は、容器本体81の上端部に着脱自在に設けられ、その容器本体81の上端部との接合部の面内に沿って弾性Oリングからなる真空シール部材16を設けてある。
真空容器Cは、図8に示されるように、上面を開口した皿状の容器本体17からなり、その設置台5の下面との接続部である周壁上端部17aが、真空容器Bの容器本体81の下端部と略同形状に設けられ、且つその面内に沿って前記容器本体81の下端部に設けた真空シール部材16と真空シール面積が略同じ真空シール部材16を設けた構成としてある。
本形態の設置構造は、真空容器Bの容器本体81を設置台5の上面に載せ、その側壁8aを側部板材13に重ね合わせて真空容器Aの側壁A1側に圧接させた状態で、前記フランジ部8a2に固定ボルト11を挿通し、前記側壁A1に螺合して側壁8aを側部板材13とともに真空容器Aに締着固定するとともに、容器本体81の側壁8aのフランジ部8a3に上方への変位を規制する逆L字形のストッパー18aを、フランジ部8c1、8d1を同じく逆L字形のストッパー18b,18cを各々係合させて取り付けてある。
ストッパー18b,18cは、固定ボルト11で設置台5の上面に固着されるが、容器本体81は、両ストッパー18b,18cとフランジ8c1,8d1の側端面との間に適宜な大きさの隙間を開けて取り付けられており、例えば真空容器Bが真空と大気との差圧で生じる微少な変形を吸収できるように、真空容器Bを設置台5の上面に沿って平行な方向への微少な変位を許容可能に構成してある。
測長計1は、真空容器Bの蓋面部82を容器本体81から取り外した状態で、設置台5の上面に定ボルト11で留め付けて直接固定される。
また、真空容器Cは、真空容器Bの真下の設置台5の下面に、その周壁上端部17aを、真空シール部材16を介して接合して取り付けてある。このとき、真空容器Cの底面部17bと設置台5の下面との間に、適宜な大きさ(幅)の空間部が確保されるように取り付けられる。真空容器Cは、図示されない支持手段、或いは前記と同様に逆L字形のストッパーを用いて設置台5の下方に設置することができる。
そして、図8に示されるように、設置台5に形成された一つ以上の貫通孔52を通して、真空容器Bと真空容器Cの内部を連通させてある。
なお、レーザー光路の構成は前記形態と同様である。真空容器Bの蓋面部82は、その上方にストッパーを設けて上方への変位が規制されるようにしてもよい。
本形態の測長計の設置構造によれば、測長計1を設置台5の上面に直接固定することで、前記下部板材9が不要となり、また、設置台5を挟んで、測長計1が取り付けられた設置台5の上面空間と下面空間を、真空容器Bと真空容器Cで囲い且つ貫通孔52を介して連通した閉塞空間としてあるので、真空容器B内を真空状態にした際に真空容器Cによって設置台5の下方空間も真空となるため、差圧による設置台5の上面の変動が極めて小さく抑えられ、より真空と大気の差圧の影響が少なくなって、測長計1を当初の取り付け位置に固定して、レーザー光の軸位置を正確な調整位置に保持することが可能となる。
図9は、真空容器Cを用いたさらに他の実施形態を示しており、これは、真空容器Cの頂面に孔部17cを設け、この孔部17cに真空配管18の一端を接続し、真空配管18の他端を真空容器Aに接続して、真空容器Aの真空引き動作に伴い、真空配管18を通じて真空容器Cと真空容器Bの真空引きがなさるように設けたものである。
このように構成することで、真空容器B内の高真空排気が可能となり、結果的に真空容器A内の高真空排気に寄与することとなる。
なお、図示した形態では、レーザー光の入力面と出力面が直交する形態の測長計1を用いたが、図10に示されるように、レーザー光の入力面と出力面を筐体の前面と後面に設けた形態の測長計を用いてもよい。
図示した形態では、真空容器Aと真空容器Bの間に側部板材13を設けたが、側部板材13に代えて適宜な真空シール手段が、両容器の側壁間に設置されていてもよい。図示した各構成要素の形態は一例であり、本発明はこれに限定されず、他の適宜な形態で構成することが可能である。
1 測長計、2 ステージ取り付け台、3 XYステージ、4 ステージミラー、5 設置台、6 光軸調整器、7 ピックアップ部、8 蓋体、81 容器本体、82 蓋面部、9 下部板材、10 定盤、11 固定ボルト、12 真空シール部材、13 側部板材、14 真空シール部材、15 ガラス取り付け板、16 真空シール部材、17 容器本体、17a 周壁上端部、17b 底面部、19 真空配管、A,B,C 真空容器、


Claims (9)

  1. 真空中に置かれた被測定物の変位を測定する測長計の設置構造であって、
    被測定物が設置される真空容器Aとは別に測長計が収納される真空容器Bを設け、真空容器A及び/又は被測定部を支持する定盤に一体に取り付けられた設置台を真空容器Aの側部に設置するとともに、この設置台上に真空容器Bを、その側壁が真空シール手段を挟んで真空容器Aの側壁に重ね合わされるように配置して設置し、
    測長計に入出力されるレーザー光が通る孔部を前記真空容器Aの側壁に設け、真空容器Aの当該側壁に重なり合った真空シール手段及び真空容器Bの側壁に対応位置に複数のレーザー光軸用孔を設けるとともに、前記真空容器Bの側壁と真空シール手段との接合境界部であって各レーザー光軸用孔の周縁部には真空シール部材を設け、
    前記孔部と各レーザー光軸用孔を通して、真空容器B内に収納された測長計から真空容器A内にレーザー光が入射されるとともに被測定物に入射して反射されたレーザー光が真空容器Aから真空容器B内の測長計に入射されるようにした構成を有することを特徴とする測長計の設置構造。
  2. 真空容器Bは、測長計が収容される空間部を内部に備えた椀状の蓋体と、この蓋体の下部を閉鎖して当該容器B内の真空と外部の大気とを隔絶する下部板材とを備え、上面に測長計を取り付けて設置台に固定された前記下部板材上に真空シール手段を介して前記蓋体が取り付けられた構成を有することを特徴とする請求項1に記載の測長計の設置構造。
  3. 真空容器Bの蓋体を下部板材に対して着脱自在に設けた構成を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の測長計の設置構造。
  4. 測長計が収容される空間部を内部に備えていてその下端部を測長計が固定された設置台の上面に接合させて設置台上で測長計を収容する真空容器Bと、設置台を挟んで当該設置台の下面に設置される真空容器Cを備え、
    前記真空容器Bは、その下端部に沿って設けた真空シール手段を介して設置台の上面に、且つ当該上面に沿って平行な方向への変位を許容可能に設けて設置され、
    前記真空容器Cは、その設置台下面との接続部が前記真空容器Bの下端部と略同形状に設けられ、且つ当該接続部に沿って前記真空容器Bの真空シール手段と真空シール面積が略同じ真空シール手段が設けられており、
    前記真空容器Bの真下の設置台の下面に真空容器Cがその接続部に沿って設けた真空シール手段を介して取り付けられた構成を有することを特徴とする請求項1に記載の測長計の設置構造。
  5. 真空容器Bと真空容器Cを設置台に形成された貫通孔を通して内部を連通させた構成を有することを特徴とする請求項4に記載の測長計の設置構造。
  6. 真空容器Aと真空容器Cが真空配管で接続された構成を有することを特徴とする請求項4又は5に記載の測長計の設置構造。
  7. 真空容器A内の被測定物に向けたレーザー光の入力面とピックアップ部に向けた検出レーザー光の出力面とが直交する形態の測長計が真空容器B内に収納され、設置台上に設置されたピックアップ部に面する真空容器Bの側壁に前記検出レーザー光が通るレーザー光軸用孔を設けた構成を有することを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の測長計の設置構造。
  8. 真空容器Aと真空容器Bとの間のレーザー光軸用孔及び/又は真空容器Bのピックアップ部とのレーザー光軸用孔内の各々に真空シール手段を設けた構成を有することを特徴とする請求項1〜7の何れかに記載の測長計の設置構造。
  9. 真空容器Bの上部に着脱自在な蓋面部を設けるとともに、この蓋面部の着脱部に真空シール手段を設けた構成を有することを特徴とする請求項1〜8の何れかに記載の測長計の設置構造。


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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6602388B6 (ja) * 2015-03-25 2020-01-15 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. メトロロジ方法、メトロロジ装置、及びデバイス製造装置
CN107289881A (zh) * 2016-12-20 2017-10-24 天津全汇聚能科技发展有限公司 一种平面度检测仪
JP6829993B2 (ja) * 2016-12-28 2021-02-17 株式会社キーエンス 光走査高さ測定装置
JP7377428B2 (ja) 2020-01-29 2023-11-10 株式会社東京精密 測定装置
CN113670261B (zh) * 2021-09-24 2024-04-02 广东粤能工程管理有限公司 一种电力工程信息化现场监理装置及监理方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5398781A (en) * 1976-11-25 1978-08-29 Jeol Ltd Electron ray exposure unit
JPS62170503U (ja) * 1986-04-18 1987-10-29
US6023068A (en) * 1991-05-30 2000-02-08 Canon Kabushiki Kaisha Semiconductor device manufacturing apparatus
JPH04352410A (ja) * 1991-05-30 1992-12-07 Canon Inc 半導体製造装置
JPH11337309A (ja) * 1998-05-25 1999-12-10 Mitsutoyo Corp 変位測定装置
JP2000055611A (ja) * 1998-08-11 2000-02-25 Nikon Corp 光波干渉測定装置
TWI282909B (en) * 1999-12-23 2007-06-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and a method for manufacturing a device
JP2001308003A (ja) * 2000-02-15 2001-11-02 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP3689737B2 (ja) * 2002-01-21 2005-08-31 国立大学法人 東京大学 微小距離投げ上げ式絶対重力計
JP4335495B2 (ja) 2002-03-27 2009-09-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ 定圧チャンバ、それを用いた照射装置及び回路パターンの検査装置
GB0222970D0 (en) * 2002-10-04 2002-11-13 Renishaw Plc Vacuum compatible laser interferometer
JP2005327917A (ja) 2004-05-14 2005-11-24 Nikon Corp 光学式計測装置
US7342235B1 (en) * 2006-04-27 2008-03-11 Metrosol, Inc. Contamination monitoring and control techniques for use with an optical metrology instrument
DE102007036814A1 (de) * 2007-08-03 2009-02-12 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Koordinaten-Messmaschine zum Vermessen von Strukturen auf einem Substrat
EP2691812B1 (en) * 2011-03-30 2019-11-20 ASML Netherlands B.V. Lithography system with differential interferometer module

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