KR100724579B1

KR100724579B1 - 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비 및 이를이용한 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법

Info

Publication number: KR100724579B1
Application number: KR1020060009854A
Authority: KR
Inventors: 김희환
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2006-02-01
Filing date: 2006-02-01
Publication date: 2007-06-04
Also published as: US7796238B2; US20070177120A1

Abstract

본 발명은 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비 및 이를 이용한 웨이퍼의 프리 얼라인먼트 방법을 제공한다. 상기 노광설비는 웨이퍼들이 적재되며, 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 일차적으로 보정하여 상기 웨이퍼들에 대해 노광을 수행하는 복수개의 노광장비들; 및 선택되는 상기 노광장비들 각각에 따라, 상기 일차적으로 보정되는 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들로부터 산출되는 고유오차값들이 각각 설정되고, 상기 고유오차값들에 따라, 상기 노광장비별로 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 중앙제어부를 포함한다. 또한, 이를 이용한 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법을 제시한다.

Description

웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비 및 이를 이용한 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법{EXPOSURE EQUIPMENT HAVING A WAFER PRE-ALIGNMENT UNIT AND WAFER PRE-ALIGNMENT METHOD USING THE SAME}

도 1a는 종래의 웨이퍼가 플랫존이 틀어지지 않은 상태로 안착된 것 보여주는 평면도이다.

도 1b는 종래의 웨이퍼가 플랫존이 틀어진 상태로 안착된 것 보여주는 평면도이다.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비를 도시한 사시도이다.

도 3은 도 2에 도시된 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비를 구체적으로 도시한 사시도이다.

도 4는 도 3에 도시된 플랫존 정렬부의 동작을 보여주는 평면도이다.

도 5는 본 발명에 따른 노광장비별 고유오차값 산출과정을 보여주는 순서도이다.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법을 보여주는 순서도이다.

**도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명**

100 : 노광장비들

200 : 중앙제어부

210 : 선택제어부

220 : 통계처리부

230 : 판단제어부

300 : 플랫존 정렬부

400 : 웨이퍼 이송부

600 : 웨이퍼 스테이지

700 : 광원

800 : 레티클 스테이지

본 발명은 노광설비에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 복수개의 디바이스별 웨이퍼의 얼라인을 실시할 수 있는 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비 및 이를 이용한 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 디바이스 제조공정에 있어서, 노광공정은 웨이퍼의 상면에 포토레지스트(photoresist, 이하 PR이라 함.)를 일정두께로 도포하는 공정에서부터 상기 웨이퍼 상에 원하는 회로패턴을 형성시킬 수 있도록 노광하여 현상하는 과정을 포함한다.

상기 노광공정은 원하는 회로패턴이 형성된 레티클로 광을 투과시켜 웨이퍼 상에 전사시키는 기술로서, 이와 같은 공정을 진행하는 경우에 상기 레티클의 하부에 배치되는 웨이퍼의 정렬이 매우 중요하다.

근래에 들어, 목적하고자 하는 메모리 종류에 따라 25매 또는 50매 단위의 웨이퍼들을 하나의 랏(lot)단위로 구성하여, 상기 랏별로 순차적 또는 선택적으로 노광공정을 진행하는데, 이 또한, 상기 랏단위별로 노광공정이 진행되는 각각의 웨이퍼에 대한 정렬작업이 중요하다.

이와 같은 웨이퍼의 정렬은 상기 웨이퍼들이 노광유닛으로 이송되기 이전에 얼라인유닛을 통해 정렬하는 것이 일반적이다.

좀 더 상세하게는 상기 웨이퍼를 정렬하는 방법은 크게 두 가지로 나뉠 수 있다. 첫 번째, 웨이퍼 상에 최초 노광(이하 제1스텝이라 한다.)을 진행하기 이전에 웨이퍼의 플랫존을 이용하여 정렬하는 프리 얼라인작업인 1차정렬방법과, 두 번째, 최초 노광을 한 후에, 다른 레티클을 사용하여 재노광(이하, 제 2스텝이라 한다.)시 상기 제1스텝에서 형성된 얼라인마크를 이용하여 웨이퍼를 정렬하는 2차정렬작업이 있다.

여기서, 상기 1차정렬방법은 '대한민국 공개특허공보 공개번호 특2003-0087732(공개일자 2003년11월5일)'에 이미 공개되어 있다. 상기 공개된 발명에 따르면, 제1스텝을 진행하기 이전에 웨이퍼의 회전각도를 확인하고, 이를 보정함으로써 차후의 웨이퍼상으로 진행되는 노광의 정밀도를 향상시킨다.

그러나, 이와 같은 방법은 상기 랏별로 적재된 각각의 웨이퍼들을 정렬하는 경우에, 각각의 웨이퍼들에 대한 회전각도를 확인하고, 보정하기 때문에 1차정렬작업에 소요되는 시간이 증가된다.

예컨대, 각 메모리 종류별로 구분된 랏들이 4개이고, 각 랏단위가 웨이퍼 25매라고 한다면, 총 100매의 웨이퍼에 대해 회전각도와, 이를 통한 보정작업에 소요되는 시간이 증가되는 것이다.

한편, 종래에는 상기와 같이 복수개의 랏단위로 웨이퍼들이 마련되는 경우에, 1차정렬작업에서 기준웨이퍼를 사용하여 보정되는 웨이퍼의 틀어짐 각도가 설정된다.

즉, 최초로 정렬되어지는 웨이퍼는 얼라인유닛에 의해 그 플랫존의 위치가 검출되며, 그에 따라 웨이퍼의 틀어짐 각도를 산출한다. 이어, 산출된 틀러짐 각도는 제어부에 설정되고, 상기 제어부는 설정된 틀어짐 각도를 보정할 수 있도록 상기 얼라인유닛의 동작을 제어한다. 따라서, 상기 최초 정렬되어지는 웨이퍼는 그 틀어짐 각도가 보정된다.

여기서, 종래에는 상기 최초로 검출된 틀어짐 각도는 기준보정각도로 되어, 나머지 웨이퍼들에 대한 1차정렬작업시에 동일하게 적용하여 웨이퍼들을 정렬한다.

그러나, 이와 같이 각 랏단위로 적재된 웨이퍼들에 대해 상기 기준보정각도를 동일하게 적용하는 경우에, 상기 웨이퍼들 중 적어도 하나 이상의 웨이퍼들에서 틀어짐이 발생된다.

이러한 경우에, 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 상기 제1스텝에서 상기 플랫존 (FZ)이 틀어진 웨이퍼(W’)에 형성된 얼라인마크들(W1)은 상기 웨이퍼(W’)에 제2스텝을 진행하기 위하여 2차정렬작업을 할 경우에, 노광유닛에서의 얼라인마크 확인부(P)가 상기 얼라인마크들(W1)을 발견하지 못하는 문제점이 있다. 여기서 도 1a에서의 ‘W‘는 플랫존(FZ)의 틀어짐 없이 정상적으로 정렬된 웨이퍼(W)의 경우로써, 이러한 경우에는 상기 확인부(P)가 얼라인마크들(W1)을 즉시 발견한다. 미설명부호 A는 웨이퍼 상의 축소 투영된 격자상의 노광영역 또는 샷영역이다.

따라서, 작업자는 상기 2차정렬작업시에 상기 얼라인마크(W1)를 찾아 상기 웨이퍼(W)를 정렬하는 추가정렬작업을 수행하여야 한다. 이에 따라, 상기 1차정렬작업시에 웨이퍼들이 틀어진 상태(W’)에서 제1스텝이 진행되면, 이후에, 상기 웨이퍼들(W’)에 대해 추가로 정렬작업을 수행하여야 하기 때문에, 전체적인 플랫존 틀어짐 정렬작업에 투입되는 시간적 손실이 증대되고, 이로 인해 제품생산률이 하락되는 문제점이 있다.

본 발명은 전술한 문제점들을 해소하고자 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 디바이스별로 랏단위로 적재된 웨이퍼들에 대해 플랫존을 이용한 프리 얼라인먼트를 수행하는 경우에, 상기 각각의 디바이스에 적용되는 웨이퍼 플랫존 틀어짐을 보정할 수 있는 보정각도를 각각 평균적으로 산출하고, 이를 디바이스별로 일률적으로 적용하여 웨이퍼 플랫존의 틀어짐 각도를 정확하게 보정함으로써, 프리 얼라인먼트에 소요되는 시간을 감소시킬 수 있는 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비 및 이를 이용한 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법을 제공함에 있다.

본 발명의 다른 목적은 상기와 같이 통계적으로 산출된 웨이퍼 플랫존 틀어짐 보정각도를 각각의 디바이스에 적용하여 빠른 시간에 정확하게 웨이퍼들를 정렬하고, 제 1스텝 진행 시에 웨이퍼에 형성되는 얼라인마크의 위치를 일정하게 형성시킴으로써, 제2스텝을 진행할 경우에 상기 제1스텝에서 형성된 얼라인마크를 별도로 서치하는데 소요되는 추가정렬시간을 감소시킬 수 있고, 이에 따라 제품생산률을 향상시킬 수 있는 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비 및 이를 이용한 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법을 제공함에 있다.

본 발명은 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비 및 이를 이용한 웨이퍼의 프리 얼라인먼트 방법을 제공한다.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비는 웨이퍼들이 적재되며, 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 일차적으로 보정하여 상기 웨이퍼들에 대해 노광을 수행하는 복수개의 노광장비들; 및 선택되는 상기 노광장비들 각각에 따라, 상기 일차적으로 보정되는 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들로부터 산출되는 고유오차값들이 각각 설정되고, 상기 고유오차값들에 따라, 상기 노광장비별로 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 중앙제어부를 포함한다.

여기서, 상기 노광장비들 각각은 상기 고유오차값들에 따라, 상기 노광장비별로 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 플랫존 정렬부와, 웨이퍼 이송부 및 웨이퍼 스테이지를 구비하되,

상기 플랫존 정렬부는 상기 웨이퍼가 안착되는 제 1진공척과, 상기 제 1진공척의 저부에 연결되는 제 1회전축이 구비되는 제 1모터 및 상기 중앙제어부와 전기적으로 연결되며, 상기 제 1진공척에 안착된 상기 웨이퍼의 플랫존을 검출함을 통해 산출되는 상기 플랫존의 틀어짐 각도값을 상기 중앙제어부로 전송하는 제 1센서가 구비되되, 상기 제 1모터는 상기 중앙제어부로부터 전송받는 상기 고유오차값에 따라 회전력이 발생되고,

상기 웨이퍼 이송부는 상기 노광장비로부터 소정 거리 이격되도록 배치되어 상기 웨이퍼들을 상기 플랫존 정렬부로 순차적으로 이송하며,

상기 웨이퍼 스테이지는 상기 웨이퍼를 진공으로 흡착하는 제 2진공척과, 상기 제 2진공척의 저부에 연결되는 제 2회전축이 구비되는 제 2모터 및 상기 중앙제어부와 전기적으로 연결되며, 상기 제 2진공척에 안착되는 상기 웨이퍼의 플랫존을 검출함을 통해 산출되는 상기 플랫존의 틀어짐 각도값을 상기 중앙제어부로 전송하는 제 2센서가 더 구비되되, 상기 제 2모터는 상기 중앙제어부로부터 전송 받아 상기 고유오차값에 따라 회전력이 발생되는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 중앙제어부는 상기 선택되는 노광장비에 적재된 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐을 재차 보정하기 위하여, 상기 고유오차값들 중 상기 선택되는 노광장비에 해당하는 고유오차값을 선택하여 상기 플랫존 정렬부로 전기적 신호를 전송하는 선택제어부를 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 중앙제어부는 통계처리부를 구비히되, 상기 통계처리부는 상기 각각의 노광장비에 적재되는 상기 웨이퍼들을 상기 플랫존 정렬부를 통해 일정 횟 수로 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 보정을 반복하여 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들을 각각 산출하고, 상기 각각 산출된 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들을 평균처리하여 상기 고유오차값을 산출하고, 상기 산출된 고유오차값을 상기 중앙제어부에 설정시키는 것이 바람직하다.

한편, 상기 중앙제어부는 상기 선택되는 노광장비에 적재된 상기 웨이퍼들의 플랫존을 정렬하기 위하여, 상기 고유오차값들 중 상기 선택되는 노광장비에 해당하는 고유오차값을 선택하여 상기 플랫존 정렬부로 전기적 신호를 전송하는 선택제어부를 구비하는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 중앙제어부는 상기 선택되는 노광장비에 적재된 상기 웨이퍼들이 최초 노광인지 여부를 판단하여, 상기 최초 노광이 아닌 경우에, 상기 선택된 노광장비을 제외한 나머지 상기 노광장비들 중 어느 하나를 선택하도록 하는 판단제어부를 구비하는 것이 바람직하다.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법은 플랫존 각도값이 일차적으로 보정된 웨이퍼들이 적재된 노광장비들 중 적어도 어느 하나를 선택하는 단계; 및 중앙제어부를 이용하여 상기 선택된 상기 노광장비에 해당하는 고유오차값에 따라 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 단계를 포함한다.

여기서, 상기 노광장비들을 선택하기 이전에,

상기 노광장비들 각각의 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들을 산출하 는 단계와, 상기 산출된 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들을 각 노광장비별로 평균처리하여 상기 고유오차값을 산출하는 단계와, 상기 노광장비별로 산출된 상기 고유오차값들을 중앙제어부에 설정하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 노광장비들을 순차적으로 선택하는 단계에서,

상기 선택되는 노광장비에 해당하는 웨이퍼들이 최초 노광 인가를 판단하여, 상기 웨이퍼들이 최초 노광이 아닌 경우에, 상기 선택된 노광장비를 제외한 나머지 노광장비들 중 어느 하나를 선택하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 재차 보정된 웨이퍼들을 상기 웨이퍼 상에 노광이 진행될 웨이퍼 스테이지에 순차적으로 안착시키고, 상기 웨이퍼에 순차적으로 최초 노광을 진행시켜 상기 최초 노광이 진행된 상기 웨이퍼를 순차적으로 반출시키는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 보정된 웨이퍼들을 상기 웨이퍼 스테이지에 안착시킨 후에, 상기 선택된 상기 노광장비에 해당하는 고유오차값에 따라 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐을 보정하는 단계를 더 포함할 수도 있다.

이하에서는 첨부된 도면을 참조로 하여, 전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비 및 이를 이용한 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법에 대해 설명하도록 한다.

먼저, 도 2 내지 도 4를 참조로 하여, 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비의 구성을 설명하도록 한다.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비를 도시한 사시도이며, 도 3은 도 2에 도시된 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비를 구체적으로 도시한 사시도이다. 도 4는 도 3에 도시된 플랫존 정렬부의 동작을 보여주는 평면도이다.

도 2 내지 도 4를 참조로 하면, 상기 웨이퍼 프리 얼라인먼트 유니트를 갖는 노광설비는 웨이퍼들(W)에 대하여 플랫존 틀어짐 각도값을 일차적으로 보정하고, 상기 웨이퍼들(W)에 대하여 노광을 실시하는 복수개의 노광장비들(100)과, 상기 노광장비(100)별 고유오차값들이 설정되는 중앙제어부(200)와, 상기 노광장비(100)별 고유오차값에 따라 이에 해당하는 노광장비(100)의 웨이퍼들(W)의 플랫존(FZ) 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 중앙제어부(200)를 포함한다.

상기 복수개의 노광장비들(100) 각각은 목적하고자 하는 메모리 용도별로 분류되어, 예컨대 256메가 DDR, 512메가 DDR과 같이 분류되어 노광공정이 진행되는 복수매의 웨이퍼들(W)이 적재된다. 여기서, 상기 노광장비들(100) 각각은 그 내부에 웨이퍼들(W)이 랏(lot)단위로 적재되되, 그 적재 매수는 25매 또는 50매일 수 있다.

상기 복수개의 노광장비들(100) 각각의 구성은 다음과 같다.

상기 노광장비(100)는 복수매의 웨이퍼(W)가 적재되는 케리어(150)와, 플랫존 정렬부(300)와, 노광부를 포함하며, 상기 케리어(150)에서 웨이퍼(W)를 상기 플랫존 정렬부(300)로 이송하는 제 1웨이퍼 이송부(400)와, 플랫존 정렬부(300)로부터 노광부로 웨이퍼(W)를 이송하는 제 2웨이퍼 이송부(500)를 구비한다.

상기 플랫존 정렬부(300)는 상기 제 1웨이퍼 이송부(400)에 의해 이송되는 웨이퍼(W)가 안착되는 제 1진공척(310)과, 상기 제 1진공척(310)의 저부에 연결되는 제 1회전축(321)이 마련되는 제 1모터(320)와, 상기 중앙제어부(200)와 전기적으로 연결되며, 상기 제 1진공척(310)에 안착되는 웨이퍼(W)의 플랫존(FZ)을 검출하여 산출되는 상기 플랫존(FZ)의 틀어짐 각도값을 상기 중앙제어부(200)로 전송하는 제 1센서(330)를 구비한다.

상기 제 1웨이퍼 이송부(400)는 X축을 따라 배치되는 제 1레일(410)과, 상기 제 1레일(410)의 제1이동홀(411)을 통해 안내되며 Y축을 따라 제 1레일(410) 상에 배치되는 제 2레일(420)과, 상기 제 2레일(420)의 제 2이동홀(421)을 따라, 즉, X축을 따라 이동되도록 배치되는 실린더(440)와, 상기 실린더(440)에 설치되며 회전됨과 아울러 Y축을 따라 승강되는 회동축(441)과, 상기 회동축(441)에 연결된 웨이퍼 암(430)으로 구성될 수 있다. 또한, 이하 언급될 제 2웨이퍼 이송부(500)의 구성은 상기와 동일하다.

상기 노광부는 상기 플랫존 틀어짐 각도값의 보정을 마친 웨이퍼(W)가 안착되는 웨이퍼 스테이지(600)와, 상기 웨이퍼 스테이지(600)의 상부에 배치되는 광원(700)과, 상기 웨이퍼 스테이지(600)와 상기 광원(700)의 사이에 배치되며, 일정 회로패턴이 형성되는 레티클(810)이 제공되는 레티클 스테이지(800)를 구비한다.

한편, 상기 중앙제어부(200)는 선택되는 상기 노광장비(100)별로 상기 웨이퍼들(W)의 플랫존(FZ) 틀어짐 각도값들로부터 산출된 고유오차값이 각각 설정된다.

좀 더 상세하게 설명하자면, 상기 중앙제어부(200)는 선택제어부(210)와 통 계처리부(220) 및 판단제어부(230)를 구비한다.

상기 선택제어부(210)는 선택되는 상기 노광장비들(100) 각각에 적재된 상기 웨이퍼들(W)의 플랫존(FZ) 틀어짐을 보정하기 위하여, 상기 고유오차값들 중에 상기 선택되는 노광장비(100)에 해당하는 고유오차값을 선택하여, 상기 플랫존 정렬부(300)로 전기적 신호를 전송할 수 있다.

즉, 상기 통계처리부(220)는 상기 노광장비(100)를 선택하고, 상기 선택되는 상기 노광장비(100)에 적재되는 웨이퍼들(W)을 상기 플랫존 정렬부(300)를 통해 일정 횟수로 상기 플랫존(FZ)의 틀어짐 보정을 반복하여 상기 웨이퍼들(W)의 틀어짐 각도값들을 산출하고, 상기 각각 산출된 상기 웨이퍼들(W)의 플랫존(FZ) 틀어짐 각도값들을 평균처리하여 상기 중앙제어부(200)에 설정시킬 수 있다.

따라서, 상기 중앙제어부(200)에 설정되는 평균처리된 값이 고유오차값이고, 상기 중앙제어부(200)에는 각각 노광장비(100)별로 고유오차값들이 설정된다.

한편, 판단제어부(230)는 선택되는 노광장비(100)의 웨이퍼들(W)이 최초 노광, 즉, 제 1스텝이 진행이 될 웨이퍼들(W) 인지 여부를 판단한다. 만일, 상기 선택되는 노광장비(100)의 웨이퍼들(W)이 최초 노광이 아닌 경우에, 상기 판단제어부(230)는 상기 선택된 노광장비(100)를 제외한 나머지 상기 노광장비(100)들 중에 어느 하나를 선택하도록 한다.

또 한편, 상기 웨이퍼 스테이지(600)는 상기 중앙제어부(200)와 전기적으로 연결되며, 상기 웨이퍼(W)를 진공으로 흡착하는 제 2진공척(610)과, 상기 제 2진공척(610)의 저부에 연결되는 제 2회전축(621)이 구비되는 제 2모터(620)를 구비한 다.

이에 더하여, 상기 제 2진공척(610)에 안착되는 웨이퍼(W)의 플랫존(FZ)의 양 에지단을 검출함을 통해 산출되는 상기 플랫존(FZ)의 틀어짐 각도값을 상기 중앙제어부(200)로 전송하는 제 2센서(미도시)를 더 구비될 수도 있다. 그리고, 상기 제 2모터(620)는 상기 중앙제어부(200)로부터 전송 받아 고유오차값인 상기 평균보정각도값에 따라 회전력이 발생되는 것이 바람직하다.

도 2에서 미설명부호인 340은 진공제공부이고, 341은 진공제공부로부터 진공척의 상부와 연결된 진공라인이다.

다음, 상기의 구성을 갖는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 프리 얼라이먼트 유니트를 갖는 노광설비의 작동 및 효과를 설명하기로 한다. 또한, 이하의 설명을 전개하기 이전에, 도 2에 도시된 복수개의 노광장비들(100)을 각각 제 1노광장비(110), 제 2노광장비(120),...,제 n노광장비(130)라고 명명하기로 한다. 여기서,n은 노광장비의 인식번호일 수 있다. 이러한 인식번호는 목적하고자하는 메모리 용도별에 따라 분류되는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 노광장비들(100) 각각은 25매의 웨이퍼들(W)을 처리하는 노광장비인 것으로 한다.

먼저, 상기 선택제어부(210) 및 통계처리부(220)의 동작을 설명하도록 한다.

상기 선택제어부(210)는 제 1,..., 제 n노광장비(110,120,130)들 중에 어느 히나를 선택한다. 예컨대, 제 1노광장비(110)를 선택한 경우에, 상기 통계처리부(220)는 전기적으로 연결되는 제 1웨이퍼 이송부(400)에 전기적 신호를 전송한다.

이어, 상기 제 1웨이퍼 이송부(400)는 상기 제 1노광장비(100)에 적재된 복수매의 웨이퍼들(W)을 순차적으로 인출하여, 플랫존 정렬부(300)의 제 1진공척(310)에 안착시킨다. 상기 제 1진공척(310)에 안착된 웨이퍼(W)는 제 1센서(330)에 의해 상기 웨이퍼(W)의 플랫존(FZ)의 양 에지단이 감지되고, 이에 따라 상기 플랫존(FZ)의 양 에지단에 대한 X,Y좌표가 검출된다.

즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 센서(330)는 좌표(-X0,Y0)와 (X2,Y1)을 검출한다. 상기 검출된 플랫존(FZ)의 좌표는 상기 통계처리부(220)로 전송된다.

상기 통계처리부(220)는 기설정된 기준좌표, 즉, 도 3에 도시된 (-X1,Y0)와 (X1,Y0)좌표에서 상기 검출된 좌표(-X0,Y0)와 (X2,Y1)를 서로 비교한다. 이어, 상기 통계처리부(220)는 상기 웨이퍼(W)의 플랫존(FZ) 틀어짐 각도값(θ1)을 산출할 수 있고, 동시에 버퍼(미도시)에 저장할 수 있다. 이에 따라 상기 틀어짐 각도값을 보정할 수 있도록, 상기 검출된 좌표(-X0,Y0)와 (X2,Y1)를 상기 기준좌표(-X1,Y0)와 (X1,Y0)에 일치되도록 할 수 있다.

즉, 상기 통계처리부(220)는 상기 제 1모터(320)로 구동신호를 전송하고, 상기 제 1모터(320)는 상기 제 1회전축(321)으로 회전력을 제공한다. 상기 제 1회전축(321)의 회전에 따라 이에 연결된 제 1진공척(310)이 회전된다. 여기서, 상기 제 1회전축(321)이 회전되는 방향은 상기 플랫존(FZ) 틀어짐 각도값을 보정할 수 있는 방향, 도 3에 도시된 화살표 방향으로 -θ1만큼 회전되는 것이 바람직하다.

따라서, 상기 회전되는 제 1진공척(310) 상에 안착된 웨이퍼(W)가 회전될 수 있다. 이때, 상기 제 1센서(330)는 실시간으로 상기 회전되는 웨이퍼(W)의 플랫존 (FZ)의 양 에지단의 좌표를 검출한다. 그리고, 상기 검출되는 좌표(-X0,Y0)와 (X2,Y1)가 상기 기준좌표(-X1,Y0)와 (X1,Y0)와 일치되는 경우에, 상기 통계처리부(220)는 상기 제 1모터(320)의 동작을 중지시킨다. 그러므로, 최초 선택되어 제 1진공척(310)에 안착된 웨이퍼(W)의 플랫존 틀어짐 각도값을 보정할 수 있다.

이어, 상기 플랫존(FZ)이 정렬된 웨이퍼(W)는 상기 제 1웨이퍼 이송부(400)에 의해 이송되어 상기 제 1노광장비(110)의 케리어(150)의 원래 적재위치에 적재될 수도 있다.

다음, 제 1웨이퍼 이송부(400)는 상기 제 1노광장비(110)에서 나머지 웨이퍼들(W)을 순차적으로 인출하고, 상기 통계처리부(220)는 상기와 같이 각 웨이퍼들(W)의 플랫존 틀어짐 각도값을 버퍼에 저장함과 아울러, 상기 플랫존 틀어짐 각도값을 보정하여, 상기 보정된 웨이퍼들(W)을 순차적으로 상기 웨이퍼 이송부(400)의 이송동작에 의해 상기 제 1노광장비(110)의 케리어(150)에 다시 적재시킬 수 있다.

따라서, 상기 통계처리부(220)의 버퍼에는 25매의 웨이퍼들(FZ)에 대한 플랫존 틀어짐 각도값들이 저장된 상태이다. 이어, 상기 통계처리부(220)는 상기 플랫존 각도값들은 평균 처리되어 하나의 평균보정각도값으로 산출하여, 상기 중앙제어부(200)에 설정한다. 따라서, 상기 제 1노광장비(100)에 해당하는 상기 평균보정각도값이 θ1으로, 고유오차값으로써 중앙제어부(200)에 설정된다.

그러므로, 상기와 같이 산출되는 평균보정각도값이 상기 제 1노광장비(110)의 고유오차값인 것이다.

이와 같이, 제 1노광장비(110)에 적재된 웨이퍼들(W)의 플랫존 틀어짐 보정 을 모두 마친 후에, 상기 통계처리부(220)는 제 2노광장비(120),..., 제 n노광장비(130)에 대하여 상기 제 1노광장비(110)에서와 동일한 방법으로 각 노광장비(100)별에 해당하는 고유오차값인 θ2,...,θn을 산출하여 상기 중앙제어부(200)에 설정한다.

따라서, 상기 통계처리부(220)로부터 평균처리된 각 노광장비(100)별에 따른 각각의 고유오차값들(θ1,θ2,...,θn)이 중앙제어부(200)에 설정되는 것이다.

그러므로, 이후에 상기 선택제어부(210)로부터 선택되어지는 노광장비(100)의 종류가 상기 제 1,2,...n노광장비(110,120,130)인 경우에, 상기 선택제어부(210)는 상기 노광장비(100)들 중 어느 하나를 선택하고, 상기 중앙제어부(200)는 상기와 같이 설정된 노광장비(100)별에 따라 기설정된 각 고유오차값들(θ1,θ2,...,θn)을 선택된 노광장비(100)에 해당하는 값을 채택하여 상기 웨이퍼들(W)의 플랫존(FZ)의 틀어짐 각도값을 재차 보정하여 정렬할 수 있다.

따라서, 상기 통계처리부(220)를 통해 노광장비(100)별에 따른 고유오차값들(θ1,θ2,...,θn)을 미리 설정하면, 상기와 같은 재차 보정작업을 반복하는 경우에, 상기 제 1센서(330)를 사용하여 각각의 웨이퍼들(W)의 플랫존(FZ)의 틀어짐을 일차적으로 보정하는데서 발생되는 고유오차를 줄일 수 있다.

이에 더하여, 상기 고유오차값들(θ1,θ2,...,θn)을 오차범위 1% 이내로 설정하여 통계적으로 산출하면, 플랫존(FZ)의 틀어짐 각도값 보정을 종래에 비해 더욱 정확하게 개선할 수도 있다.

즉, 상기 노광장비(100)별 웨이퍼들(W)의 플랫존(FZ) 틀어짐 보정을 종래에 비해 더욱 신속하고 정확하게 개선시킴으로써, 차후에 제 2스텝을 진행하기 위해 도 1a에 도시된 얼라인마크(W1)를 사용하여 웨이퍼(W)를 정렬하는 경우에, 상기 제 1스텝에서 소정 위치에 형성된 얼라인마크(W1)를 노광설비의 확인부(P)가 용이하게 검출할 수 있다. 따라서, 제 1스텝 진행 시에 얼라인마크(W1)를 검출하기 위해 웨이퍼(W)를 회전시켜 정렬하는 추가정렬작업시간을 용이하게 감축시켜 제품생산률을 증대시킬 수 있다.

이어, 중앙제어부(200)는 제 2웨이퍼 이송부(500)로 전기적 싱호를 전송하여 상기와 같이 재차 보정된 웨이퍼들(W)을 웨이퍼 스테이지(600)에 안착되도록 한다.

상기 웨이퍼 스테이지(600)에 상기 웨이퍼(W)가 안착되면, 상기 웨이퍼(W)에 대하여 제 1스텝을 진행시킨다.

즉, 상기 광원(700)은 일정 회로패턴이 형성된 레티클(810)로 광을 조사한다. 레티클(810)을 통과한 광은 투영광학계(820)를 거쳐 웨이퍼(W)의 상면으로 조사된다. 이때, 상기 웨이퍼(W) 상면에는 소정 두께의 PR이 도포된 상태이다. 따라서, 웨이퍼(W)의 상면에는 일정 회로패턴이 전사됨과 아울러 제 2스텝 진행 시에 웨이퍼(W)를 얼라인을 할 수 있는 얼라인마크(W1, 도 1a 참조)가 일정 간격으로 형성된다.

이어, 상기 제 1스텝을 마친 웨이퍼(W)는 제 2웨이퍼 이송부(500)의 이송동작에 의해 다음 공정으로 진행되는 공간으로 이송되어 반출된다.

이와 같이, 한 매의 웨이퍼(W)에 대한 노광을 마치면, 상기 중앙제어부(200)는 제 1노광장비(100)에 적재된 나머지 웨이퍼들(W)에 대해서도 상기와 같은 과정 을 반복한다.

이후, 제 1노광장비(110)에 적재된 25매의 웨이퍼들(W)에 대한 정렬 및 노광을 모두 마치면, 상기 중앙제어부(200)는 제 2,...,n노광장비(120,130)에 이르기까지 상기 제 1노광장비(110)과 동일한 방법으로 플랫존 틀어짐 보정 및 노광시킨다.

한편, 상기 웨이퍼(W)에 대해 제 1스텝이 이루어지는 웨이퍼 스테이지(600)에서 재차 보정된 웨이퍼(W)의 플랫존 틀어짐 보정작업을 추가로 수행하게 할 수도 있다.

즉, 중앙제어부(200)에 의해 상기 플랫존 정렬부(300)에서 웨이퍼(W) 플랫존(FZ)의 틀어짐 각도값을 재차 보정되고, 제 1스텝이 이루어 지기전에, 상기 웨이퍼 스테이지(600)에서 추가로 웨이퍼 플랫존(FZ)의 틀어짐 각도값을 추가로 보정함으로써, 제 2웨이퍼 이송부(500)에서 이송되는 동안에 플랫존(FZ)이 틀어지는 등의 오차를 더욱 정교하게 줄일 수 있다.

따라서, 제 1스텝 진행시 웨이퍼(W)에 얼라인마크(W1)를 형성시키고, 이후에 제 2스텝 진행시, 설비의 확인부(P)가 상기 얼라인마크(W1)를 찾지 못하는 이유로, 별도로 상기 얼라인마크(W1)를 찾아 웨이퍼(W)를 플랫존을 얼라인하는 추가정렬시간을 현저하게 줄일 수 있다.

다음은, 전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법을 설명하기로 한다.

도 5는 본 발명에 따른 노광장비별 고유오차값 산출과정을 보여주는 순서도 이다. 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법을 보여주는 순서도이다.

도 2, 4 및 도 5, 6을 참조로 하면, 상기 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법은 먼저, 각 노광장비(100)에 적재된 웨이퍼들(W)을 노광장비(100)별로 인출하여 상기 웨이퍼들(W)의 플랫존(FZ) 틀어짐 각도값들을 노광장비(100)별로 고유오차값을 산출한다.

도 5를 참조하면, 노광장비들(100) 중 어느 하나를 선택한다(S100). 상기 선택된 노광장비(100)에 적재된 웨이퍼들(W)의 플랫존 틀어짐 각도값들을 검출한다(S110). 이어, 상기 웨이퍼들(W)의 플랫존 틀어짐 각도값들이 모두 검출되면(S120), 상기 검출된 상기 웨이퍼들(W)의 플랫존 틀어짐 각도값들을 평균처리하여, 고유오차값으로 중앙제어부(200)에 저장한다(S130).

이어, 선택될 노광장비(100)가 더 있는지의 여부를 판단한 뒤에(S140) 있으면, 다른 노공장비(100)를 선택하여 상기와 같은 공정을 진행하고, 없으면 종료한다.

따라서, 중앙제어부(200)에는 노광장비(100)별 고유오차값들이 각각 설정된다.

이어, 도 2,4,6을 참조하면, 선택제어부(210)는 정렬하고자하는 상기 노광장비들(100)을 순차적 또는 선택적으로 선택한다(S200).

예컨대, 상기 선택제어부(210)에 의해 제 1노광장비(110)가 선택되면, 상기 제 1노광장비(110)에 적재된 웨이퍼들(W)이 최초 노광인가를 판별하는 단계를 거친 다(S210).

만일, 상기 제 1노광장비(110)에 적재된 웨이퍼들(W)이 최초 노광인 경우에, 중앙제어부(200)에 설정된 상기 제 1노광장비(110)에 해당하는 고유오차값인 θ1에 따라 상기 웨이퍼들(W)의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 단계를 거친다(S230).

이어, 선택된 웨이퍼들(W)에 대하여 플랫존 틀어짐 보정을 모두 마친 경우에, 상기 플랫존 틀어짐 각도값이 보정된 웨이퍼들(W)은 제 1웨이퍼 이송부(400)의 이송동작에 의해, 플랫존 정렬부(300)로 인출되기 전 적재되어있던 상기 노광장비(100)에 적재하는 단계를 거칠 수도 있다.

한편, 도 6을 참조로 하면, 상기 플랫존 틀어짐 각도값을 고유오차값으로 순차적으로 보정된 웨이퍼들(W)을 제 2웨이퍼 이송부(500)의 이송동작에 의해 제 1스텝이 진행될 웨이퍼 스테이지(600) 상에 안착시킬 수 있다(S300).

이어, 상기 웨이퍼 스테이지(600)상에 안착된 웨이퍼(W)에 원하는 회로패턴 및 얼라인마크(W1, 도 1a참조)를 형성시킬 수 있다. 그리고, 제 1스텝을 마친 후의 상기 웨이퍼(W)는 제 2웨이퍼 이송부(600)의 이송동작에 의해 다음 공정으로 안내되도록 상기 웨이퍼 스테이지(600)로부터 반출될 수 있다.

또 한편, 상기와 같이 상기 웨이퍼(W)에 대하여 제 1스텝을 진행하기 이전에, 상기 정렬된 웨이퍼(W)를 상기 웨이퍼(W) 상에 노광이 진행될 웨이퍼 스테이지(600)에 안착시킨 상태에서, 상기 웨이퍼(W)의 플랫존 틀어짐 각도값을 추가로 보정할 수도 있다(S310). 이어, 상기 추가로 보정된 웨이퍼(W)에 제 1스텝을 진행시 키도록 할 수도 있다.

그리고, 상기 제 1노광장비(110)에 적재된 나머지 웨이퍼들(W)은 상기와 동일하게 웨이퍼(W) 플랫존 정렬을 실시하고, 25매의 웨이퍼들(W)에 대한 정렬작업을 모두 마치면, 선택될 노광장비(100)가 더 있는지를 판단하여(S320) 있으면, 다음을 진행한다.

즉, 선택제어부(210)는 제 2,...,n노광장비(120,130)를 순차적으로 선택하고, 중앙제어부(200)는 상기 선택되는 노광장비(100)별에 따른 θ2,...,θn에 따라 웨이퍼들(W)의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 작업을 실시하는데, 이는 상기 제 1노광장비(110)에 대하여 웨이퍼(W) 플랫존 틀어짐 보정을 실시한 바와 동일하게 수행된다.

또 한편, 선택될 노광장비(100)가 더 있는지를 판단하여(S320) 없고, 선택제어부(210)에서 선택되는 노광장비(100)의 웨이퍼들(W)이 제 1스텝을 마친 후라면, 상기 선택제어부(210)는 나머지 노광장비들(100) 중 어느 하나를 선택하여 상기와 같이 동일하게 웨이퍼(W) 플랫존 틀어짐을 보정할 수 있다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 노광장비별로 랏단위로 적재된 웨이퍼들에 대해 플랫존 틀어짐 각도값 보정을 통한 1차정렬작업을 수행하는 경우에, 상기 각각의 노광장비에 적용되는 웨이퍼들에 대한 고유오차값을 각각 통계적으로 산출하고, 이를 노광장비별로 적용하여 웨이퍼의 플랫존의 틀어짐 각도값을 재차로 정확하게 보정함으로써, 매 웨이퍼 마다 수행하였던 플랫존을 검출하는 시 간을 감소시켜 정렬작업에 소요되는 시간을 감축시킬 수 있는 효과가 있다.

이에 더하여, 상기와 같이 통계적으로 산출된 고유오차값을 각각의 노광장비에 적용하여 빠른 시간에 정확하게 웨이퍼를 정렬하고, 제 1스텝 진행 시에 웨이퍼에 형성되는 얼라인마크의 형성위치를 일정하게 형성시킴으로써, 차후공정인 제2스텝을 진행할 경우에 상기 제1스텝에서 형성된 얼라인마크를 별도로 서치(search)하는데 소요되는 추가정렬시간을 감소시킬 수 있고, 이에 따라 제품생산률을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims

일정 매수의 웨이퍼들이 적재되며, 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 일차적으로 보정하여 상기 웨이퍼들에 대해 노광을 수행하는 복수개의 노광장비들;

선택되는 상기 노광장비들 각각에 따라, 상기 일차적으로 보정되는 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들로부터 산출되어, 통계처리된 고유오차값들이 각각 설정되고,

상기 고유오차값들에 따라, 상기 노광장비별로 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하여, 상기 재차 보정된 웨이퍼들을 상기 선택된 노광장비로 적재하고,

상기 적재된 웨이퍼들을 상기 선택된 노광장비에서 노광이 이루이지도록 하는 중앙제어부; 및

상기 중앙제어부와 전기적으로 연결되며, 상기 선택되는 노광장비에 적재된 상기 웨이퍼들이 최초 노광인지 여부를 판단하여, 상기 최초 노광이 아닌 경우에, 상기 선택된 노광장비를 제외한 나머지 상기 노광장비들 중 어느 하나를 선택하도록 하는 판단제어부를 포함하는 웨이퍼 프리 얼라인 유니트를 갖는 노광설비.
제 1항에 있어서,

상기 노광장비들 각각은 상기 웨이퍼들이 적재되는 캐리어와, 상기 고유오차값들에 따라 상기 노광장비별로 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 플랫존 정렬부와, 웨이퍼 이송부와, 웨이퍼 스테이지와, 상기 웨이퍼 스테이지 상부에 배치되는 투영광학계와, 상기 투영광학계의 상부에 배치되는 레티클과, 상기 레티클의 상부에 배치되어 상기 레티클로 광을 조사하는 광원을 구비하되,

상기 플랫존 정렬부는 상기 웨이퍼가 안착되는 제 1진공척과, 상기 제 1진공척의 저부에 연결되는 제 1회전축이 구비되는 제 1모터 및 상기 중앙제어부와 전기적으로 연결되며, 상기 제 1진공척에 안착된 상기 웨이퍼의 플랫존을 검출함을 통해 산출되는 상기 플랫존의 틀어짐 각도값을 상기 중앙제어부로 전송하는 제 1센서가 구비되되, 상기 제 1모터는 상기 중앙제어부로부터 전송받는 상기 고유오차값에 따라 회전력이 발생되고,

상기 웨이퍼 이송부는 상기 노광장비들로부터 소정 거리 이격되도록 배치되어 상기 웨이퍼들을 상기 플랫존 정렬부로 순차적으로 이송하고, 상기 재차 보정된 웨이퍼들을 상기 캐리어로 적재하고,

상기 웨이퍼 스테이지는 상기 웨이퍼 이송부에 의하여 순차적으로 이송되는 상기 재차 보정되어 상기 캐리어에 적재된 웨이퍼들을 진공으로 흡착하는 제 2진공척과, 상기 제 2진공척의 저부에 연결되는 제 2회전축이 구비되는 제 2모터 및 상기 중앙제어부와 전기적으로 연결되며, 상기 제 2진공척에 안착되는 상기 웨이퍼의 플랫존을 검출함을 통해 산출되는 상기 플랫존의 틀어짐 각도값을 상기 중앙제어부로 전송하는 제 2센서가 더 구비되되, 상기 제 2모터는 상기 중앙제어부로부터 전송 받아 상기 고유오차값에 따라 회전력이 발생되고,

상기 레티클을 통과한 광은 투영광학계를 통하여 상기 제 2진공척에 안착된 상기 웨이퍼에 상기 레티클의 패턴을 투영하여 노광하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프리 얼라인 유니트를 갖는 노광설비.
제 2항에 있어서,

상기 중앙제어부는 상기 선택되는 노광장비에 적재된 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐을 재차 보정하기 위하여, 상기 고유오차값들 중 상기 선택되는 노광장비에 해당하는 고유오차값을 선택하여 상기 플랫존 정렬부로 전기적 신호를 전송하는 선택제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프리 얼라인 유니트를 갖는 노광설비.
제 2항에 있어서,

상기 중앙제어부는 통계처리부를 구비히되, 상기 통계처리부는 상기 각각의 노광장비에 적재되는 상기 웨이퍼들을 상기 플랫존 정렬부를 통해 일정 횟수로 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 보정을 반복하여 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들을 각각 산출하고, 상기 각각 산출된 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들을 평균처리하여 상기 고유오차값을 산출하고, 상기 산출된 고유오차값을 상기 중앙제어부에 설정시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프리 얼라인 유니트를 갖는 노광설비.
제 2항에 있어서,

상기 중앙제어부는 상기 선택되는 노광장비에 적재된 상기 웨이퍼들의 플랫존을 정렬하기 위하여, 상기 고유오차값들 중 상기 선택되는 노광장비에 해당하는 고유오차값을 선택하여 상기 플랫존 정렬부로 전기적 신호를 전송하는 선택제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프리 얼라인 유니트를 갖는 노광설비.
삭제
플랫존 각도값이 일차적으로 보정된 웨이퍼들이 적재된 노광장비들 중 적어도 어느 하나를 선택하는 단계; 및

중앙제어부를 이용하여 상기 선택된 상기 노광장비에 해당하는 고유오차값에 따라 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값을 재차 보정하는 단계를 포함하는 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법.
제 7항에 있어서,

상기 노광장비들을 선택하기 이전에,

상기 노광장비들 각각의 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들을 산출하는 단계와,

상기 산출된 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐 각도값들을 각 노광장비별로 평균처리하여 상기 고유오차값을 산출하는 단계와,

상기 노광장비별로 산출된 상기 고유오차값들을 중앙제어부에 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법.
제 7항에 있어서,

상기 노광장비들을 순차적으로 선택하는 단계에서,

상기 선택되는 노광장비에 해당하는 웨이퍼들이 최초 노광 인가를 판단하여, 상기 웨이퍼들이 최초 노광이 아닌 경우에, 상기 선택된 노광장비를 제외한 나머지 노광장비들 중 어느 하나를 선택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법.
제 7항에 있어서,

상기 재차 보정된 웨이퍼들을 상기 웨이퍼 상에 노광이 진행될 웨이퍼 스테이지에 순차적으로 안착시키고, 상기 웨이퍼에 순차적으로 최초 노광을 진행시켜 상기 최초 노광이 진행된 상기 웨이퍼를 순차적으로 반출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법.
제 10항에 있어서,

상기 보정된 웨이퍼들을 상기 웨이퍼 스테이지에 안착시킨 후에, 상기 선택된 상기 노광장비에 해당하는 고유오차값에 따라 상기 웨이퍼들의 플랫존 틀어짐을 보정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프리 얼라인먼트 방법.