JPH07240366A

JPH07240366A - 露光装置

Info

Publication number: JPH07240366A
Application number: JP6032223A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Aoyama; 正昭青山; Kousuke Fujita; 浩裕藤田
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-03-02
Filing date: 1994-03-02
Publication date: 1995-09-12

Abstract

(57)【要約】【目的】ウエハローダ系、又はレチクルローダ系で発
生した塵等が露光装置本体に混入する確率を低減させ
る。【構成】第２の独立チャンバ３２内にウエハステージ
１０を含む露光装置本体部を設置し、第３の独立チャン
バ３３の下部チャンバ３３Ａ内にウエハローダ系３８を
設置し、独立チャンバ３３の上部チャンバ３３Ｂ内にレ
チクルローダ系６５を設置し、３個の空調ユニットを有
する空調装置３４を用いて、独立チャンバ３２、下部チ
ャンバ３３Ａ、上部チャンバ３３Ｂ内を独立に空調す
る。また、ウエハローダ系３８の縦スライダ本体４８を
介して露光装置本体部とのウエハの受渡しを行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子製造
工程で使用される露光装置に関し、特に位置決め用の切
欠き（オリエンテーションフラットやノッチ）を備えた
ウエハをウエハステージ上に搬入（ロード）すると共
に、そのウエハステージからウエハを搬出（アンロー
ド）するためのウエハローダ系を備えた露光装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子を製造するためのフォトリソ
グラフィ工程で使用されている露光装置では、フォトマ
スク又はレチクルのパターンを効率的に１ロットのウエ
ハ上に露光するために、ウエハの搬入及び搬出を行うた
めのウエハローダ系が備えられている。更に、露光装置
には、多数のレチクルの中から所望のレチクルを選択し
て露光位置に設定するためのレチクルローダ系も備えら
れている。

【０００３】図１１は、従来のウエハローダ系を備えた
露光装置を示す平面図であり、この図１１において、外
気からほぼ隔離されたチャンバ１内に空調装置２が備え
られ、空調装置２から通気管３及び塵除去用のＨＥＰＡ
フィルタ（High EfficiencyParticlate Air Filter ）
４を介して清浄な空気がチャンバ１内にサイドフローと
して吹き出され、チャンバ１内を流通した空気がリター
ン（排気口）５及び通気管６を介して空調装置２に戻さ
れる。

【０００４】また、チャンバ１の床７上に防振台８が設
置され、この防振台８上に露光対象のウエハ１１Ａが載
置されるウエハステージ１０が設置され、ウエハステー
ジ１０は、ベース上でＹ方向に移動するＹステージ９
Ｙ、Ｘ方向に移動するＸステージ、及びウエハを保持す
るウエハホルダ９Ｔ等から構成されている。そのウエハ
ステージ１０の側面部に、且つ防振台８上にウエハロー
ダ系１２が配置されている。ウエハ１１Ａの外周の一部
には切欠き部（オリエンテーションフラット部又はノッ
チ部）が形成され、ウエハローダ系１２はその切欠き部
がウエハステージ１０に対して所定の位置関係になるよ
うに、ウエハステージ１０上にウエハ１１Ａを設置（ロ
ード）する。

【０００５】ウエハローダ系１２は基本的に、Ｘ方向に
延びた横スライダ本体１３上に、Ｙ方向に延びた縦スラ
イダ本体１８を固定して構成されている。横スライダ本
体１３の側面部の２つの設置台２１Ａ及び２１Ｂ上に、
それぞれプロセスウエハ用の保管棚２２Ａ及び２２Ｂが
載置され、これら保管棚２２Ａ及び２２Ｂ内にこれから
露光されるウエハ、又は既に露光されたウエハが保管さ
れている。

【０００６】横スライダ本体１３上には、保管棚２２Ａ
内のウエハを取り出すためのランダムアクセス部（進退
自在なウエハ吸着アーム）１４Ａ、保管棚２２Ｂ内のウ
エハを取り出すためのランダムアクセス部（進退自在な
ウエハ吸着アーム）１４Ｂ、ウエハ受渡し部１５、及び
位置決め台１６が取り付けられ、位置決め台１６内にタ
ーンテーブル１７が植設されている。更に、横スライダ
本体１３の手前側にエッジ部に沿ってＸ方向に移動自在
に搬送アーム２０が配置され、縦スライダ本体１８の左
側のエッジ部に沿って移動自在に２つの搬送アーム１９
Ａ及び１９Ｂが設けられている。ランダムアクセス部１
４Ａ、又は１４Ｂで取り出されたウエハが、搬送アーム
２０によりターンテーブル１７上に搬送される。

【０００７】図１２は、図１１中のウエハローダ系１２
の構成を示し、この図１２に示すように、位置決め台１
６（ターンテーブル１７を含む）上に位置補正部２５が
配置されている。位置補正部２５からそのターンテーブ
ル上で回転しているウエハの外周部に接触するようにピ
ン（不図示）が突き出され、このピンの接触状態に基づ
いてウエハの中心位置、及び切欠き部の位置が検出さ
れ、この検出結果に基づいてウエハの中心、及び切欠き
部の位置が所定の位置に設定される。その後、ターンテ
ーブル上のウエハが搬送アーム１９Ａによりウエハステ
ージ側に搬送される。更に、図１２において、Ａ部は、
コータ・ディベロッパーとのウエハの受渡しを行うイン
ライン受渡しユニットを、横スライダ本体１３の左端に
設けた状態を示す。インライン受渡しユニットとは、フ
ォトレジストのコータ等から露光装置にウエハを搬入す
る搬送装置、又は露光装置から現像装置（ディベロッパ
ー）等へ露光済みのウエハを搬出する搬送装置のことを
言う。Ｂ部は、ウエハローダ系１２に増設用のランダム
アクセス部１４Ｃ、及びウエハの保管棚を備えた設置台
２１Ｃを設けた状態を示し、Ｃ部は、インライン受渡し
ユニットを、横スライダ本体１３の右端に設けた状態を
示す。

【０００８】図１１に戻り、第１のインライン受渡しユ
ニット２３は、アーム２３ａ及びスライド軸２３ｂより
なり、第２のインライン受渡しユニット２４は、アーム
２４ａ、スライド軸２４ｂ及び回転部２４ｃよりなる。
インライン受渡しユニット２３のアーム２３ａがコータ
・ディベロッパー（不図示）から受け取ったウエハ１１
Ｂが、位置Ｐ１で搬送アーム２０に渡される。同様に、
インライン受渡しユニット２４のアーム２４ａがコータ
・ディベロッパー（不図示）から受け取ったウエハ１１
Ｃが、位置Ｐ２及び位置Ｐ３を経て搬送アーム２０に渡
される。あるいは逆に、インライン受渡しユニット２３
及び２４からコータ・ディベロッパー（不図示）に対し
てウエハが渡される。

【０００９】上記の従来のウエハローダ系１２におい
て、搬送アーム２０、搬送アーム１９Ａ、搬送アーム１
９Ｂ、アーム２３ａ、アーム２４ａ、ランダムアクセス
部１４Ａ，１４Ｂ、位置決め台１６、及びターンテーブ
ル１７は、それぞれアルミナセラミックス（Ａｌ₂Ｏ₃
が９５％以上含まれたもの）より形成され、ウエハの保
管棚２２Ａ及び２２Ｂとしては、主に実際のプロセスで
用いられている樹脂性の保管棚（ウエハが２５枚入るも
の）が代用されていた。

【００１０】更に、ウエハローダ系１２と共にレチクル
ローダ系（不図示）も防振台８上に設置されていた。レ
チクルローダ系では、レチクルケース内から所望のレチ
クルを取り出して露光位置に設置する。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、防振台８上に、ウエハステージ１０と共に
ウエハローダ系１２及びレチクルローダ系が設置されて
いた。従って、ウエハローダ系１２又はレチクルローダ
系でウエハ又はレチクルを搬送するときの振動がウエハ
ステージ１０側に伝わり、ウエハステージ１０の位置決
め精度が悪化する恐れがあるという不都合があった。更
に、ウエハ又はレチクルを搬送する際の各アームの位置
決め機構の駆動により、チャンバ１内のウエハステージ
１０の周囲に塵が混入するか、又はその周囲の温度が変
動することがあった。

【００１２】また、１台の空調装置２と、１組のＨＥＰ
Ａフィルタ４及びリターン５とで、チャンバ１内の全体
の空調を行うため、ウエハの露光部、ウエハローダ系１
２の横スライダ本体１３、及びレチクルローダ系等にお
いてそれぞれに必要な空調性能が得られないか、あるい
はオーバスペックとなることがあった。これに関して、
例えばウエハローダ系１２が露光部の風上にある場合、
そのウエハローダ系１２で発生したパーティクル、又は
温度変化が風下の露光部に悪影響を与えることもあっ
た。

【００１３】更に、図１１に示すように、例えばコータ
・ディベロッパーとウエハの受渡しを行う際には、専用
のインライン受渡しユニット２３及び２４等を設置する
必要があり、全体の構造が複雑化していた。また、ウエ
ハをウエハステージ１０上にロードする際に、ターンテ
ーブル１７上でウエハに対して実際にピンを接触させる
方式でウエハの位置決めを行っていたため、高精度な位
置決めが困難であった。そのため従来は、ウエハステー
ジ１０上にウエハを設置した後、Ｘステージ９Ｘ又はＹ
ステージ９Ｙを移動させてウエハの位置を修正するか、
又はエアーフローによりウエハをウエハステージ１０か
ら浮上させてウエハを位置決め部材に押し当てる等して
ウエハの再位置決めを行う必要があり、制御が複雑とな
り、更にはエアーフローによる発塵の問題等があった。

【００１４】また、搬送アーム２０等に、アルミナセラ
ミックス（Ａｌ₂Ｏ₃が９５％以上）あるいは樹脂を用
いていたため、ウエハあるいは搬送アームの帯電による
塵の付着等の問題があった。同様に、ウエハの保管棚２
２Ａ，２２Ｂもプロセス用の樹脂性のものであるため、
上記の帯電による塵の付着、及び棚の変形によるウエハ
のアクセスミス等の問題があった。その他に、保管棚２
２Ａ，２２Ｂ内のウエハのエッジ部及び裏面からレジス
トが脱落したときに、微細粒子がそれより下段のウエハ
に付着するという不都合もあった。

【００１５】これに関して、従来はウエハの搬送面及び
ウエハホルダ９Ｔ上のウエハとの接触面の清掃は、マニ
ュアルで簿板円板を各接触面に軽く押し当てて滑らすこ
とで行っており、清掃に要する時間が長かった。

【００１６】斯かる点に鑑み、本発明の第１の目的は、
ウエハローダ系により順次搬送されて来るウエハ上に、
それぞれレチクルのパターンを露光する露光装置におい
て、ウエハローダ系でウエハを搬送するときに生ずる振
動が露光装置本体（露光部）に伝わりにくくすると共
に、ウエハローダ系で発生した塵等が露光装置本体に混
入する確率を低減させることである。

【００１７】更に本発明の第２の目的は、その露光装置
にレチクルローダ系を設けた場合に、このレチクルロー
ダ系で発生した塵等が露光装置本体に混入する確率を低
減させることである。また、本発明の第３の目的は、そ
のウエハローダ系を介して外部の装置（レジストのコー
タ、又は現像装置等）とウエハの受渡しを行う際に、特
に付加的な機構を設けることなく、ウエハの受渡しが容
易にできるようにすることである。

【００１８】また、本発明の第４の目的は、そのウエハ
ローダ系により搬送されるウエハの帯電を減少させるこ
と、あるいは帯電したウエハの電荷を除去することであ
り、本発明の第５の目的は、ウエハの搬送面の清掃を行
う際に、露光装置の稼働率低下、チャンバ内の温度変
動、及び微細粒子の室外からの混入等を防止することで
ある。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明による露光装置
は、マスク上のパターンを連続的に搬送されて来る感光
基板（１１Ａ）上にそれぞれ露光する露光装置におい
て、そのマスクパターンを外部から搬入される感光基板
（１１Ａ）上に露光する露光本体部（１０，６２，６
３）を第１の環境維持室（３２）内に設置し、露光され
た感光基板を搬出すると共に、感光基板の保管部（５
５）から感光基板を取り出す基板搬送手段（３８）を、
第１の環境維持室（３２）と独立に設けられた第２の環
境維持室（３３Ａ）内のベース上に設置し、第１の環境
維持室（３２）と第２の環境維持室（３３Ａ）との境界
部の開口（３２ａ，３３ｂ）を通して、その基板搬送手
段がその露光本体部に対して感光基板の搬出及び搬入を
行うようにしたものである。

【００２０】この場合、第２の環境維持室（３３Ａ）上
に、マスク（６４Ａ）の搬出及び搬入を行うマスク搬送
手段（６５）が収納された第３の環境維持室（３３Ｂ）
を積み重ね、第１の環境維持室（３２）、第２の環境維
持室（３３Ａ）、及び第３の環境維持室（３３Ｂ）内の
空調を互いに独立に行う空調手段（３４）を設け、第１
の環境維持室（３２）と第３の環境維持室（３３Ｂ）と
の境界部の開口（３２ｂ，３３ｇ）を通して、マスク搬
送手段（６５）がその露光本体部に対してマスクの搬出
及び搬入を行うことが望ましい。

【００２１】また、その露光本体部内でマスク及び感光
基板をそれぞれ露光位置に吸着保持するための第１の真
空吸着源（６１Ａ）と、その基板搬送手段内で搬送時に
感光基板を吸着保持するための第２の真空吸着源（６１
Ｃ）と、そのマスク搬送手段内で搬送時にそのマスクを
吸着保持するための第３の真空吸着源（６１Ｂ）と、を
互いに独立に設けることが望ましい。

【００２２】また、その基板搬送手段の一例は、所定の
軸を中心として回転自在、且つその所定の軸から半径方
向へ伸縮自在な２つの自由度を有する基板保持部（４
７）と、この基板保持部を所定のガイド（３９）に沿っ
て移動させる移動手段（４１）と、第１の環境維持室
（３２）と第２の環境維持室（３３Ａ）との境界部の開
口（３２ａ，３３ｂ）を通して、基板保持部（４７）と
その露光本体部との間の感光基板の授受を行う基板受渡
し手段（４８，４９Ａ，５１，５２）と、この基板受渡
し手段に付設された送光手段（７６Ａ〜７６Ｄ，５３）
と受光手段（７８Ａ〜７８Ｄ，７５）とよりなり、この
受光手段からの光電変換信号に基づいてその感光基板の
位置及び回転角を検出する基板状態検出手段と、を有す
るものである。

【００２３】また、その基板搬送手段（３８）と感光基
板との接触部を導電性セラミックスより形成することが
望ましい。更に、その感光基板の保管部（５５）を、箱
体（５５）と、この箱体に収納される感光基板を１枚ず
つ隔離する仕切り板（７９₁，７９₂，…）とより形成
し、その箱体及びそれら仕切り板をそれぞれ導電性材料
から形成することが望ましい。

【００２４】また、その感光基板の保管部（５５）内
に、検査又は清掃用の基板を収納する棚（７９_N）を確
保することが望ましい。

【００２５】

【作用】斯かる発明によれば、２つの環境維持室（３
２，３３Ａ）が独立に設けられ、第１及び第２の環境維
持室内にそれぞれ独立に露光本体部（１０，６２，６
３）及び基板搬送手段（３８）が設置され、基板搬送手
段はそれら２つの環境維持室の境界部の開口を通して感
光基板の受渡しを行う。従って、基板搬送手段を介して
感光基板を搬送する際に発生する振動、又は塵等が露光
本体部に伝わりにくくなっている。

【００２６】また、第２の環境維持室（３３Ａ）上に、
マスク（６４Ａ）の搬出及び搬入を行うマスク搬送手段
（６５）が収納された第３の環境維持室（３３Ｂ）を積
み重ねた場合には、マスク搬送手段（６５）の駆動時に
発生する振動や塵等が露光本体部に伝わりにくいと共
に、基板搬送手段（３８）内の塵等とマスク搬送手段
（３８）内の塵等とが互いに相手に悪影響を与えない。
更に、第１の環境維持室（３２）、第２の環境維持室
（３３Ａ）、及び第３の環境維持室（３３Ｂ）内の空調
を互いに独立に行う空調手段（３４）を設けた場合に
は、一般に、露光本体部、基板搬送手段、及びマスク搬
送手段で必要とされる気体の温度精度、クリーンネス、
圧力、流量は各々異なるため、その空調手段（３４）か
ら各部にそれぞれ最適な気体を供給する。また、第１〜
第３の環境維持室の構造も、それぞれ露光本体部、基板
搬送手段、及びマスク搬送手段で必要とされる剛性が得
られる構造とする。

【００２７】次に、その露光本体部内でマスク及び感光
基板をそれぞれ露光位置に吸着保持するための第１の真
空吸着源（６１Ａ）と、その基板搬送手段内で搬送時に
感光基板を吸着保持するための第２の真空吸着源（６１
Ｃ）と、そのマスク搬送手段内で搬送時にそのマスクを
吸着保持するための第３の真空吸着源（６１Ｂ）と、を
互いに独立に設けた場合、例えば基板搬送手段内で感光
基板の吸着又は分離を行っても、その影響が露光本体部
及びマスク搬送手段側に伝わらない。また、露光本体部
で真空吸着源（６１Ａ）に圧力変動が伝わると、マスク
又は感光基板の位置ずれの恐れがあるが、本発明では真
空吸着源（６１Ａ）が独立であるためそれらの位置ずれ
が起こらない。

【００２８】更に、その基板搬送手段が、所定の軸を中
心として回転自在、且つその所定の軸から半径方向へ伸
縮自在な２つの自由度を有する基板保持部（４７）と、
この基板保持部を所定のガイド（３９）に沿って移動さ
せる移動手段（４１）とを有する場合、２つの自由度を
有する基板保持部（４７）が別設の外部装置（感光材の
コータ、又は現像装置等）との感光基板の受渡しを行
う。その外部装置が基板搬送手段に対して、左右又は前
方等の何れから接近して配置されても、その基板保持部
（４７）により感光基板の受渡しを行うことができる。
また、従来のように別途設けたインライン受渡しユニッ
トを使用する必要がないため、感光基板の受渡しの回数
が減少し、発塵の可能性が低下し、動作の信頼性が向上
する。

【００２９】また、基板受渡し手段（４８，４９Ａ，５
１，５２）に、送光手段（７６Ａ〜７６Ｄ，５３）と受
光手段（７８Ａ〜７８Ｄ，７５）とよりなり、この受光
手段からの光電変換信号に基づいてその感光基板の位置
及び回転角を検出する基板状態検出手段を設けた場合に
は、この基板状態検出手段により、光学的に非接触で感
光基板の中心位置、及び感光基板の切欠き部の位置等を
高精度に検出する。この検出結果に基づいて、基板保持
部（４７）が基板受渡し手段（４８，４９Ａ，５１，５
２）に感光基板を渡す際に、この感光基板の中心位置を
２次元平面内で所定の位置に位置決めする。その後、感
光基板を受けた基板受け渡し手段が、例えばその感光基
板の切欠き部が所定の位置に来るようにその感光基板の
回転角を調整する。これにより、従来使用されていた接
触式の感光基板の切欠き部の検出装置、及び感光基板の
プリアライメント機構（ウエハを浮上させてセンタリン
グする機構、あるいはＸＹステージを用いた機構等）が
不要となる。

【００３０】また、感光基板の中心位置、及び切欠き部
の位置が高精度に検出されるため、その感光基板をその
中心を軸として容易に回転させることができる。そこ
で、その回転中の感光基板の周縁部に、投光手段を介し
てその感光基板を露光させる露光光と同じ波長帯の光を
照射してもよい。これにより、感光基板の周縁部のみを
露光する所謂周辺露光が可能となる。周辺露光は、感光
基板の周縁部が未露光の場合に、現像等の処理後にその
周縁部から塵等が発生するのを防止するために行われ
る。周辺露光による感光基板上での露光幅は、回転中の
感光基板の中心の位置合わせ精度によってばらつくこと
になる。このばらつきを小さくしたい場合には、その投
光手段、又は感光基板の回転手段をその感光基板の回転
位置に応じてその感光基板の半径方向に移動させればよ
い。

【００３１】更に、基板搬送手段（３８）の感光基板と
の接触部を例えば緻密な表面を持つ導電性セラミックス
を用いて形成した場合には、感光基板とのひっかかり
が小さくなり発塵が少なくなる、その接触部及び感光
基板の帯電が回避されて集塵作用が低減される、帯電
した感光基板の静電気が除去されて感光基板の静電破壊
が防止されると共に、感光基板の集塵作用が低減され
る、その接触部が緻密なことにより、パーティクル
（微細粒子）付着時のアンカー効果（引きずり効果）が
低減され、清掃が容易になる、等の作用効果を奏する。
従って、感光基板の裏面、又は表面へのパーティクルの
付着の可能性が低減され、露光時の歩留りの向上が期待
できる。

【００３２】次に、感光基板の保管部（５５）の箱体
（５５）、及び仕切り板を導電性材料から形成した場合
にも、その保管部（５５）及び感光基板での集塵作用が
低減されて、露光時の歩留まりが向上する。更に、仕切
り板を設けたことにより、上段の感光基板の裏面あるい
はエッジ部より発生する塵が脱落して下段の感光基板の
表面に付着することが回避される。また、それら仕切り
板上に設けられた例えば３個（あるいはそれ以上）のピ
ン上に感光基板を設置するようにした場合には、従来の
保管部のように隙間のある棚上に感光基板を載置する方
式と比較して、特に結晶的にもろく、フォトレジストが
付着する可能性のある感光基板のエッジが保管部（５
５）に接触することが回避できる。

【００３３】また、感光基板の保管部（５５）内に、検
査又は清掃用の基板を収納する棚（７９_N）を確保した
場合には、通常の露光用の感光基板の枚数を例えば２５
×Ｎ（Ｎは０以上の整数）枚とすると、その保管部（５
５）には、（２５×Ｎ＋１）枚の感光基板が収納可能と
なる。例えば基板搬送手段（３８）の清掃時には、その
保管部（５５）からその検査又は清掃用の基板を基板搬
送手段（３８）内に取り込み、その基板搬送手段（３
８）内で移動させた後、再びその保管部（５５）に戻す
ようにする。これにより、環境維持室（３３Ａ）を開閉
してマニュアルで清掃用の基板をセット又は取り出すこ
とにより清掃を行う場合と比べて、塵の混入、温度変化
等が回避される。それにより、清掃の回数を減らすこと
もできる。これにより、露光装置の稼働率の向上が計れ
る。

【００３４】

【実施例】以下、本発明による露光装置の第１実施例に
つき図面を参照して説明する。図１は、本実施例の露光
装置のチャンバの平面断面図であり、この図１におい
て、互いに独立な３つの独立チャンバ３１，３２及び３
３を並べて配置する。図２は、図１のＡＡ線に沿う断面
図であり、この図２に示すように、第３の独立チャンバ
３３を、仕切り板３３ａにより、下部チャンバ３３Ａと
上部チャンバ３３Ｂとに分離する。

【００３５】第１の独立チャンバ３１内には、３つの互
いに独立に動作する空調ユニットよりなる空調装置３４
を設置し、空調装置３４内の第１の空調ユニットで温度
調整された空気を、第１の配管３５Ａ、及び図２の第２
の独立チャンバ３２の天井に設置された塵除去用のＨＥ
ＰＡフィルタ５９Ａを介してその独立チャンバ３２内に
吹き出させ、独立チャンバ３２の床に設置されたリター
ン６０Ａ、及び第１の配管３６Ａを介してその第１の空
調ユニットに戻す。また、空調装置３４内の第２及び第
３の空調ユニットで温度調整された空気を、それぞれ第
２の配管３５Ｂ、及び第３の配管３５Ｃを介して、図２
の第３の独立チャンバ３２の下部チャンバ３３Ａの天井
に設置されたＨＥＰＡフィルタ５９Ｃ、及び上部チャン
バ３３Ｂの天井に設置されたＨＥＰＡフィルタ５９Ｂに
導く。そして、ＨＥＰＡフィルタ５９Ｃから下部チャン
バ３３Ａにダウンフローしてリターン６０Ｃに達した空
気、及びＨＥＰＡフィルタ５９Ｂから上部チャンバ３３
Ｂにダウンフローしてリターン６０Ｂに達した空気を、
それぞれ第２の配管３６Ｂ及び第３の配管３６Ｃを介し
て第２及び第３の空調ユニットに戻す。

【００３６】なお図示していないが、露光装置本体及び
ウエハローダ系等を設置する独立チャンバ３２，３３
Ａ，３３Ｂ内に存在するイオン（例えばＮＨ₄ ⁺，ＳＯ₄
^2-)、二酸化硫黄（ＳＯ₂)等の進入を防止するケミカル
フィルタをＨＥＰＡフィルタ５９Ａ〜５９Ｃと一緒に設
けるとよい。これにより、硫酸アンモニウム（（ＮＨ₄)
₂ＳＯ₄)等が生成されて照明光学系を構成する光学素子
に付着してその反射率又は透過率を低下させる現象、及
びレジストパターンの断面形状がＴ字状になる現象の発
生を防止できる。このケミカルフィルタは３つのＨＥＰ
Ａフィルタ５９Ａ〜５９Ｃの各々に対応して設ければよ
い。但し、少なくともＨＥＰＡフィルタ５９Ａにはケミ
カルフィルタを設けるようにして、他のＨＥＰＡフィル
タ５９Ｂ，５９Ｃにはケミカルフィルタを設けないよう
にしてもよい。。

【００３７】図２において、第２の独立チャンバ３２内
には露光装置本体を設置する。即ち、独立チャンバ３２
の床上には防振パッド３７ａ及び３７ｂを介して防振台
３７を設置し、防振台３７上にウエハステージ１０を設
置し、露光時にはウエハステージ１０上にフォトレジス
トが塗布されたウエハ１１Ａをロードする。防振台３７
上にコラム６２を植設し、コラム６２の中段に投影光学
系６３を固定し、コラム６２の上端部のレチクルホルダ
上に露光対象とするレチクル６４Ａを載置する。

【００３８】図１に戻り、ウエハステージ１０は、ベー
ス９Ｂ、Ｙステージ９Ｙ、Ｘステージ９Ｘ、及びウエハ
ホルダ９Ｔ等から構成され、ウエハホルダ９Ｔ上に露光
対象のウエハ１１Ａが真空吸着により保持される。ウエ
ハ１１Ａの円形の外周の一部にオリエンテーションフラ
ット（又はノッチ）と呼ばれる切欠き部が形成されてお
り、この切欠き部が所定の方向を向くように、且つウエ
ハ１１Ａの中心がウエハホルダ９Ｔに対して所定の位置
関係になるように、ウエハホルダ９Ｔ上にウエハ１１Ａ
をロードする。本実施例では、そのウエハホルダ９Ｔ上
へのウエハの搬入（ロード）、及びそのウエハホルダ９
Ｔからのウエハの搬出（アンロード）を行うためのウエ
ハローダ系３８を、第３の独立チャンバ３３の下部チャ
ンバ３３Ａ（図２参照）内の床上に設置する。

【００３９】ウエハローダ系３８のガイド部を、Ｘ方向
に延びた横スライダ本体３９、及びＹ方向に延びた縦ス
ライダ本体４８より構成し、横スライダ本体３９上にＸ
方向に摺動自在にスカラー型ロボットハンド４７を配置
する。スカラー型ロボットハンド４７は、横スライダ本
体３９に沿ってＸ方向に移動するＸ軸移動部４１、この
Ｘ軸移動部４１上でＸＹ平面に垂直なＺ方向に伸縮する
Ｚ軸移動部４２、このＺ軸移動部４２の中心４２ａを軸
として回転するθ軸回転部４３、このθ軸回転部４３の
先端に回転自在に設けられたＲ軸回転部４４、このＲ軸
回転部４４の先端に回転自在に設けられたハンド部４５
より構成し、ハンド部４５の先端部に真空吸着部４６を
取り付ける。θ軸回転部４３を中心４２ａを軸として回
転することにより、ハンド部４５はθ方向に回転し、Ｒ
軸回転部４４及びハンド部４５の回転角を組み合わせる
ことにより、ハンド部４５の中心４２ａから半径方向
（Ｒ方向）への位置を調整できる。

【００４０】また、横スライダ本体３９の側面部に設置
された設置台２１Ａ及び５４上にそれぞれウエハを保管
するための保管棚２２Ａ及び５５を固定し、更にウエハ
を一次的に載置するためのウエハの仮置き台５６Ａ及び
５６Ｂを設置する。仮置き台５６Ａ及び５６Ｂ上には、
ウエハ載置用の複数個（図１では４個）のピンを植設す
る。保管棚２２Ａ及び５５の近傍、並びに仮置き台５６
Ａ及び５６Ｂの近傍の独立チャンバ３３の側面には、そ
れぞれ外部から保管棚等を交換するための開口３３ｄ及
び３３ｅを設ける。スカラー型ロボットハンド４７のハ
ンド部４５を独立チャンバ３３の左側面の開口３３ｃか
ら突き出すことにより、外部装置（外部のフォトレジス
トのコータ、又は現像装置等）に対するウエハ１１Ｄの
受け渡しを行うことができ、別の位置Ｑ１でもウエハ１
１Ｅの受け渡しを行うことができる。更に、スカラー型
ロボットハンド４７を位置Ｑ７に移動させて、独立チャ
ンバ３３の右側面の開口３３ｆからハンド部を突き出す
ことにより、外部装置とのウエハ１１Ｆの受け渡しを行
うことができ、別の位置Ｑ８でもウエハ１１Ｇの受け渡
しを行うことができる。同様に、スカラー型ロボットハ
ンド４７を位置Ｑ３、Ｑ５、又はＱ６に移動することに
より、それぞれ保管棚５５、仮置き台５６Ａ又は仮置き
台５６Ｂに対するウエハの受け渡しを行うことができ
る。

【００４１】また、縦スライダ本体４８は、独立チャン
バ３２の側面の開口３２ａ及び独立チャンバ３３の下部
チャンバ３３Ａの側面の開口３３ｂを通して独立チャン
バ３２内に突き出ており、縦スライダ本体４８の側面に
長手方向に摺動自在に、ウエハとの接触部がコの字型の
２個のスライダ４９Ａ及び４９Ｂを取り付ける。これら
２個のスライダ４９Ａ及び４９Ｂは、それぞれ真空吸着
によりウエハを保持した状態で、独立チャンバ３２内と
下部チャンバ３３Ａ内との間を独立に移動する。そし
て、スカラー型ロボットハンド４７は例えば保管棚５５
からウエハを取り出した後、位置Ｑ４において、上下動
可能なターンテーブル５２を介してスライダ４９Ａ又は
４９Ｂにウエハを渡す。その後、スライダ４９Ａ又は４
９Ｂから露光後のウエハを同様にターンテーブル５２の
上下動を介して受け取ったスカラー型ロボットハンド４
７は、そのウエハを例えば保管棚５５に戻す。

【００４２】また、スカラー型ロボットハンド４７のハ
ンド部４５、スライダ４９Ａ、スライダ４９Ｂのように
ウエハと接触する部分は、表面が緻密な導電性セラミッ
クスより形成する。但し、そのウエハとの接触部の表面
に緻密な導電性セラミックスをコーティング等により被
着してもよい。次に、横スライダ本体３９と縦スライダ
本体４８とが交差する領域付近、即ち位置Ｑ４の近傍
に、センサ台５０を設置し、このセンサ台５０にウエハ
の中心位置を検出するための中心位置センサ（後述）を
配置する。センサ台５０の上側に調整台５１を配置し、
調整台５１の上部にＸＹ平面に垂直な軸を中心として回
転する導電性セラミックス製のターンテーブル５２を設
け、この調整台５１上で且つターンテーブル５２とセン
サ台５０との間の位置に、ウエハの外周部の直線状の切
欠き部（オリエンテーションフラット）の位置を検出す
るための切欠き検出センサの投光部５３、及び１次元Ｃ
ＣＤ等からなるラインセンサ７５（図２参照）を配置す
る。投光部５３は、ウエハ上のフォトレジストに対して
非感光性のスリット状の光ビームをラインセンサ７５に
照射し、ラインセンサ７５は、そのスリット状の光ビー
ムの内の遮光された部分の長さを検出し、検出結果を不
図示の制御系に供給する。

【００４３】図３は、図１中のＢ部の拡大図であり、こ
の図３において、スカラー型ロボットハンド４７からタ
ーンテーブル５２上にウエハ１１Ｊを渡すときに、ウエ
ハ１１Ｊは先ずセンサ台５０の中を通過する。図３のＣ
Ｃ線に沿う断面図である図４に示すように、センサ台５
０の上部には４個の投光部７６Ａ〜７６Ｄを設置し、セ
ンサ台５０の下部には投光部に対向するように４個の受
光部７８Ａ〜７８Ｄを設置しておき、ウエハ１１Ｊには
それら投光部７６Ａ〜７６Ｄと受光部７８Ａ〜７８Ｄと
の間を通過させる。投光部７６Ａ〜７６Ｄからは、ウエ
ハ上のフォトレジストに対して非感光性のビーム状の照
明光が射出される。

【００４４】この場合、図３に示すように、ウエハ１１
Ｊはほぼ円形であるため、ウエハ１１Ｊのターンテーブ
ル５２方向への位置と、図４の受光部７８Ａ〜７８Ｄの
それぞれでウエハ１１Ｊにより光が遮光されてから再び
光が受光されるまでのタイミングとの関係から、不図示
の制御系によりウエハ１１の中心位置を求める。そし
て、スカラー型ロボットハンド４７は、ウエハ１１Ｊの
中心位置がターンテーブル５２の回転中心に合致するよ
うに、ターンテーブル５２上にウエハ１１Ｊを載置す
る。この際にウエハ１１Ｊの裏面にスライダ４９Ａを移
動させておく。また、前記中心位置情報に基づいて、ス
カラー型ロボットハンド４７のＲ軸の制御及びθ軸（あ
るいはＸ軸）の制御を行うことにより、ウエハ１１Ｊは
中心が合致するようにターンテーブル５２上に載置され
る。ターンテーブル５２上でウエハ１１Ｊは真空吸着さ
れる。このような位置決め方式により、ほぼ±０．２ｍ
ｍ程度の精度でターンテーブル５２の中心に対してウエ
ハの中心が位置決めされる。

【００４５】その状態でターンテーブル５２を回転させ
ると、ウエハ１１Ｊの周縁部が切欠き検出センサの投光
部５３とラインセンサ７５（図２参照）との間で回転
し、ウエハ１１Ｊの切欠き部（オリエンテーションフラ
ット又はノッチ）がラインセンサ７５上を通過する際に
遮光部の長さが減少することから、不図示の制御系がそ
のウエハ１１Ｊの切欠き部の位置を検出する。この検出
結果に応じて、ウエハ１１Ｊの切欠き部が例えば横スラ
イダ本体３９に対向する位置でターンテーブル５２の回
転を停止する。その後、ターンテーブル５２によるウエ
ハ１１Ｊの吸着を解除し、ターンテーブル５２が下降し
て、スライダ４９Ａの上面にウエハ１１Ｊを真空吸着し
て、そのスライダ４９Ａを縦スライダ本体４８に沿って
図１の独立チャンバ３２側に移動させ、不図示のウエハ
受渡し手段（例えばウエハホルダ９Ｔ内に設けられ、上
下動（図１の紙面と垂直な方向に）可能な、表面に真空
吸着用の溝が形成された可動ピンである）によりそのス
ライダ４９Ａからウエハホルダ９Ｔ上にウエハ１１Ｊを
移す。この際に、ウエハ１１Ｊの中心及び切欠き部の位
置が正確に所定の状態になってウエハ１１Ｊがウエハホ
ルダ９Ｔ上に載置される。

【００４６】更に、ウエハホルダ９Ｔ上には一般に同心
円状の凸部があり、これら同心円状の凸部上にウエハ１
１Ｊが載置される。そこで、スカラー型ロボットハンド
４７、及びスライダ４９Ａ，４９Ｂにおけるそのウエハ
１１Ｊとの接触部は、そのウエハホルダ９Ｔ上での接触
部と異ならしめることが望ましい。すなわち、スカラー
型ロボットハンド４７、及びスライダ４９Ａ，４９Ｂと
接触するウエハ裏面の位置と、ウエハホルダ９Ｔの凸部
と接触するウエハ裏面の位置とを異ならしめる。このと
き、ウエハホルダ９Ｔの凸部の形状に応じて、スカラー
型ロボットハンド４７、及びスライダ４９Ａ，４９Ｂの
ウエハとの接触部の位置、面積を決めればよい。これに
より、ウエハホルダ９Ｔ上でのウエハの平面度を良好に
維持できる。これはウエハ裏面にスカラー型ロボットハ
ンド４７、及びスライダ４９Ａ，４９Ｂとの接触によっ
て異物が付着しても、その異物がウエハホルダ９Ｔの凸
部とウエハとの間に挟み込まれることがないためであ
る。

【００４７】なお、図２のラインセンサ７５の代わり
に、シリンドリカルレンズと１個の受光素子（例えばフ
ォトダイオード）とを組合せたアナログセンサを使用し
てもよい。このアナログセンサを使用すると、ウエハに
よる遮光部の長さに応じてその受光素子の受光量が変化
することから、その遮光部の長さを検出できる。また、
ウエハの円周方向の２箇所に、投光部５３とアナログセ
ンサとの組合せを２組配置し、２個のアナログセンサの
出力信号のバランスが取れるようにサーボ方式でターン
テーブル５２の回転位置を固定することによって、ウエ
ハ１１Ｊの切欠き部（オリエンテーションフラット又は
ノッチ）の位置決めを行ってもよい。

【００４８】図３に戻り、調整台５１の上方に、レチク
ルを照明するための露光光の一部を分離して得られた光
を導く光ガイド７７を配置する。図７は、図３のＥＥ線
に沿う断面図であり、この図７に示すように、光ガイド
７７の射出端７７ａをコの字型の移動台８５の上端部に
取り付け、移動台８５の下端部にその射出端７７ａに対
向するように１次元ＣＣＤよりなるラインセンサ８４を
固定し、移動台８５の底面に固定されたスライダ８５ａ
を、調整台５１に固定された支持台８６上のガイド部に
設置する。支持台８６には駆動モータ８７を固定し、移
動台８５の側面部にスライダ８５ａの摺動方向と平行に
送りねじ８８を螺合し、駆動モータ８７の回転軸にカッ
プリング８９を介してその送りねじ８８を結合する。移
動台８５の移動方向は、ターンテーブル５２を中心とし
た半径方向であり、駆動モータ８７を駆動することによ
り、移動台８５をその半径方向に沿って移動させること
ができる。

【００４９】そして、所謂周辺露光時には、光ガイド７
７の射出端７７ａから、ターンテーブル５２上に吸着さ
れているウエハ１１Ｊの周縁部に、ウエハ１１Ｊ上に塗
布されたフォトレジストを感光させるスリット状の露光
光を照射し、ラインセンサ８４では、その露光光の遮光
部の長さを検出し、この検出結果を不図示の制御系に供
給する。周辺露光とは、ウエハ１１Ｊの周縁部からの発
塵を防止するために、ウエハ１１Ｊの周縁部のフォトレ
ジストのみを感光させることを言う。この場合、本実施
例では、ターンテーブル５２の回転中心とウエハ１１Ｊ
の中心とがほぼ正確に合致しているため、移動台８５の
位置を調整して射出端７７ａから露光光を射出させるこ
とにより、ウエハ１１Ｊの周辺露光の幅を所望の値に正
確に設定できる。また、ウエハの切欠き位置が既知のた
め、ターンテーブル５２にエンコーダ付モータ又はステ
ッピングモータを採用して、ウエハ１１Ｊの切欠き部が
射出端７７ａとラインセンサ８４との間に達したときに
は、周辺露光の幅が一定になるように移動台８５の位置
を調整することにより、ウエハ１１Ｊの切欠き部でも一
定の幅で周辺露光を行うことができる。

【００５０】図２に戻り、独立チャンバ３３の上部チャ
ンバ３３Ｂ内のリターン６０Ｂ上にレチクルローダ系６
５を設置する。レチクルローダ系６５のガイド部は、独
立チャンバ３２の開口３２ｂ及び上部チャンバ３３Ｂの
開口３３ｇを通して独立チャンバ３２内に突き出た縦ス
ライダ本体７２より構成され、縦スライダ本体７２に沿
って摺動自在に２つのスライダ７３Ａ及び７３Ｂが取り
付けられている。そして、縦スライダ本体７２の支持台
の近傍に、ベース６６、このベース６６上でＸＹ平面に
垂直なＺ方向に伸縮するＺ軸移動部６７、このＺ軸移動
部６７の中心を軸として回転するθ軸回転部６８、この
θ軸回転部６８の先端に回転自在に設けられたＲ軸回転
部６９、このＲ軸回転部６９の先端に回転自在に設けら
れたハンド部７０よりなるスカラー型ロボットハンドを
設置する。

【００５１】また、そのレチクル用のスカラー型ロボッ
トハンドの近傍にレチクル用の保管棚７４を設置し、保
管棚７４からそのスカラー型ロボットハンドのハンド部
７０で真空吸着によりレチクルを取り出し、このように
取り出したレチクルを縦スライダ本体のスライダ７３Ａ
又は７３Ｂに渡す。その後、スライダ７３Ａ又は７３Ｂ
はレチクルを真空吸着により保持した状態で、縦スライ
ダ本体７２に沿って独立チャンバ３２内に移動し、不図
示のレチクル受渡し手段を介して露光装置本体部のコラ
ム６２上のレチクルホルダ上にそのレチクルを設置す
る。また、レチクルを交換する際には、そのレチクルホ
ルダから取り出されたレチクルが、スライダ７３Ａ又は
７３Ｂ、及びレチクル用のスカラー型ロボットハンドを
介して保管棚７４に戻される。このようにレチクルの搬
送時にもスカラー型ロボットハンドが使用されているた
め、レチクルローダ系６５が簡略化されている。

【００５２】更に図２において、第２の独立チャンバ３
２、第３の独立チャンバ３３の下部チャンバ３３Ａ、及
び上部チャンバ３３Ｂ内にはそれぞれ真空ポンプ６１
Ａ，６１Ｃ及び６１Ｂを設置し、真空ポンプ６１Ａで、
独立チャンバ３２内の露光装置本体での真空吸着用の負
圧を供給し、真空ポンプ６１Ｃで、チャンバ３３Ａ内の
ウエハローダ系３８での真空吸着用の負圧を供給し、真
空ポンプ６１Ｂで、チャンバ３３Ｂ内のレチクルハロー
ダ系６５での真空吸着用の負圧を供給する。このように
本実施例では、露光装置本体での真空吸着、ウエハロー
ダ系３８での真空吸着、及びレチクルローダ系６５での
真空吸着が独立に行われるため、互いにウエハの吸着又
は離脱時の影響が伝わらない利点がある。また、独立チ
ャンバ３２内の露光装置本体のウエハホルダ９Ｔ上に吸
着されたウエハにレチクルパターンを露光している間
に、ウエハローダ系３８、又はレチクルローダ系６５で
真空吸着のオン又はオフを行っても、ウエハホルダ９Ｔ
側では圧力変動がないため、ウエハが位置ずれしないと
いう利点もある。

【００５３】次に、図１中の保管棚５５の構成につき図
５及び図６を参照して詳細に説明する。図５は、図１の
矢視Ｄ方向から見た図であり、この図５に示すように、
保管棚５５は、導電性材料からなる箱体であり、前後が
抜けた構造となっている。また、その箱体の天板と底板
７９_Nとの間に、順に導電性材料からなる仕切り板７９
₁，７９₂，…がその箱体と一体に装着されている。こ
れにより、保管棚５５内にはＮ枚のウエハを格納でき、
Ｎ枚の一例は１以上の整数ｎを用いて、（２５×ｎ＋
１）枚、即ち、２６枚、５１枚、７６枚等である。ある
いはｎ＝０の場合は、Ｎ枚は１枚である。

【００５４】また、保管棚５５は、設置台５４上にねじ
止めにより固定し、保管棚５５内の仕切り板７９₁上に
は３個の導電性セラミックス製のピン８０Ａ，８１Ａ，
８２Ａを植設する。同様に、他の仕切り板７９₂，７９
₃，…及び底板７９_N上にもそれぞれ３個の導電性セラ
ミックス製のピンを植設する。例えば１ロットのウエハ
への露光を行う際には、仕切り板７９₁，７９₂，…，
底板７９_N上にはそれぞれウエハ１１₁，１１₂，…，
１１_Nが設置されている。そして、例えばウエハ１１₁
を保管棚５５から搬出する際には、図５のＦＦ線に沿う
断面図である図６に示すように、スカラー型ロボットハ
ンド４７のハンド部４５をウエハ１１₁の裏面と仕切り
板７９₁との間に差し込んで、そのウエハ１１₁を取り
出す。

【００５５】この場合、本実施例では、通常の露光時の
１ロットのウエハの枚数は２５×ｎ枚であるため、本実
施例の保管棚５５には更に１枚多いウエハを保管でき
る。但し、余分に保管できるウエハの枚数を複数枚にし
てもよい。その余分に保管できる部分には、例えばウエ
ハホルダ９Ｔ（図１参照）上の平面度計測用の高平面度
の基準ウエハ、装置の自己計測用のマスタウエハ、又は
ウエハの接触部清掃用のウエハ等を保管する。本実施例
では、このように余分に収納できる空間を保管棚５５の
一部に確保しているが、例えば図１の仮置き台５６Ａ，
５６Ｂのような独立した台を用いてもよい。

【００５６】次に、本実施例の保管棚５５は、前後が抜
けているため、前後からの検査用の光を通過させること
ができる。そこで、図１に示すように、チャンバの内側
面に保管棚５５を挟むように投光器５７及び受光器５８
を配置する。そして、保管棚５５内にウエハが無いとき
には、投光器５７から射出された光ビームが保管棚５５
内を通過して受光器５８で受光され、ウエハがあるとき
にはその光ビームが遮光されるようにする。これによ
り、保管棚５５内のウエハの有無をチェックできる。更
に保管棚５５の後方に壁があっても透明体であれば本機
能は達成できる。

【００５７】なお、図５に示すように、設置台５４上に
はねじ止めにより保管棚５５を固定しているが、開閉自
在なロック機構によりその保管棚５５を固定してもよ
い。このようにロック機構を持つことにより、設置台５
５上には従来のプロセスウエハ用の保管棚２２（図１参
照）をも固定できる。また、上述実施例では図３に示す
ように、ウエハ１１Ｊの中心位置、及び切欠き部（オリ
エンテーションフラット又はノッチ）の位置をそれぞ
れ、センサ台５０中の検出器、及び投光部５３を含む切
欠きセンサにより検出していた。しかしながら、図８に
示すように、調整台５１の上方の４箇所にスリット状の
光ビームを下方に照射する投光部９０Ａ〜９０Ｄを固定
し、これら投光部９０Ａ〜９０Ｄに対向し、且つウエハ
１１Ｊの周縁部を挟むようにラインセンサを配置しても
よい。この場合、ウエハ１１Ｊのエッジ部が各ラインセ
ンサ上で所定位置にくるように、サーボ方式でスカラー
型ロボットハンドのハンド部４５の位置をＲ方向、θ方
向、あるいはＸ方向に駆動して位置決めすることによ
り、ウエハ１１Ｊの中心位置を概略にターンテーブル５
２の中心位置に位置決めできる。

【００５８】また、それら４組の投光部及びラインセン
サの組合せの内の例えば投光部９０Ａと、これに対向す
るラインセンサとを用いることにより、ウエハ１１Ｊの
切欠き部（オリエンテーションフラット又はノッチ）の
検出を行うこともできる。この場合、ウエハ１１Ｊ上の
切欠き部がどの方向を向いていても、ラインセンサが４
個設けてあるためウエハ１１Ｊを最大で９０°程度回転
するだけでその切欠き部の位置を検出できる。なお、投
光部及びラインセンサの組合せは２組以上であれば同様
の位置決めが可能である。

【００５９】次に、本発明の第２実施例につき図９及び
図１０を参照して説明する。本実施例は、図１の実施例
においてウエハローダ系３８の横スライダ本体３９の長
さを短くしたものであり、図９及び図１０において、図
１及び図３に対応する部分には同一符号を付してその詳
細説明を省略する。図９はこの第２実施例のチャンバ内
の平面図であり、この図９において、第３の独立チャン
バ３３の下部チャンバ内にウエハローダ系を設置し、こ
のウエハローダ系のＸ方向のガイド部を、第１実施例の
場合より短い横スライダ本体３９Ａより構成する。この
横スライダ本体３９Ａに沿ってＸ方向に摺動自在に、ウ
エハを保持するためのスカラー型ロボットハンド４７を
載置する。このスカラー型ロボットハンド４７によりチ
ャンバの左側面の開口を通してウエハ１１Ｄ又は１１Ｅ
等の受渡しを行うことができ、保管棚５５又は２２Ａと
のウエハの受渡しをも行うことができる。

【００６０】また、横スライダ本体３９Ａの右端部に近
接してセンサ台５０を設置し、このセンサ台５０に図４
と同様に４組の投光部及び受光部を配置する。更に、そ
のセンサ台５０の右側に調整台５１を設置し、調整台５
１上にターンテーブル５２を回転自在に取り付け、調整
台５１の前側面に投光部５３を含むウエハの切欠き部
（オリエンテーションフラット又はノッチ）の検出セン
サを取り付ける。本実施例では、その調整台５１の更に
右側に縦スライダ本体４８が位置し、この縦スライダ本
体４８に沿って摺動自在にスライダ４９Ａ及び４９Ｂが
取り付けられている。また、調整台５１と縦スライダ本
体４８との間に光ガイド７７を含む周辺露光部を設置す
る。その他の構成は第１実施例と同様である。

【００６１】この場合、本実施例では、スカラー型ロボ
ットハンド４７で受け取ったウエハは、横スライダ本体
３９Ａの右端部で位置決めを行ってターンテーブル５２
上に設置される。図１０は、図９中のＧ部の拡大図であ
り、この図１０に示すように、この際にセンサ台５０に
よりウエハ１１Ｊの中心位置の検出が行われ、投光部５
３を含む切欠きセンサによりウエハ１１Ｊの切欠き部の
位置が検出される。また、光ガイド７７を含む周辺露光
部により、必要に応じてウエハ１１Ｊの周辺露光が行わ
れる。その後、ウエハ１１Ｊはスライダ４９Ａに渡さ
れ、露光装置本体側に搬送される。この第２実施例によ
れば、ウエハローダ系がコンパクトである。

【００６２】なお、本発明は上述実施例に限定されず、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る
ことは勿論である。

【００６３】

【発明の効果】本発明によれば、露光装置本体部と基板
搬送手段とが別の環境維持室内に設置されているため、
基板搬送手段（ウエハローダ系）で感光基板を搬送する
ときに生ずる振動が露光本体部に伝わりにくいと共に、
基板搬送手段で発生した塵等が露光本体部に混入する確
率が低減する利点がある。

【００６４】また、第３の環境維持室にマスク搬送手段
を設置した場合には、更にマスク搬送手段（レチクルロ
ーダ系）で発生した塵等が露光本体部に混入する確率が
低減する。更に、第１〜第３の真空吸着源を互いに独立
に設けた場合には、露光本体部、基板搬送手段、及びマ
スク搬送手段内での感光基板の吸着又は離脱の動作等が
他の部分に影響を与えない利点がある。

【００６５】また、基板搬送手段が、２つの自由度を有
する基板保持部を有する場合には、この基板保持部を介
して外部装置（感光材のコータ、又は現像装置等）と感
光基板の受渡しを行うことができるため、特に付加的な
機構を設けることなく、感光基板の受渡しが容易にでき
る利点がある。また、その付加的な機構による感光基板
の受渡しがなくなるため、感光基板の受渡し回数が減少
し、発塵が少なくなり、且つ搬送動作の信頼性が向上す
る。

【００６６】また、感光基板の位置及び回転角を光学的
に検出する基板状態検出手段を設けた場合には、感光基
板を傷付けることなく且つ高速にその感光基板の位置及
び回転角を検出できる利点がある。更に、感光基板の切
欠き部又はノッチ等の位置も容易に検出できる。次に、
基板搬送手段と感光基板との接触部を導電性セラミック
スから形成した場合には、その基板搬送手段により搬送
される感光基板の帯電が減少する利点がある。

【００６７】また、感光基板の保管部を、箱体と、この
箱体に収納される感光基板の仕切り板とより形成し、そ
れらの材料として導電性材料を用いた場合にも、感光基
板の帯電を防止でき、且つ感光基板相互の塵等の付着を
防止できる。更に、感光基板の間隔を十分に取れ、信頼
性が向上する。また、その保管部内に検査又は清掃用の
基板を収納する棚を確保した場合には、その保管棚から
取り出した基板を用いて感光基板の搬送面の清掃を行う
ことにより、露光装置の稼働率低下、環境維持室内の温
度変動、及び微細粒子の室外からの混入等を防止でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による露光装置の第１実施例のチャンバ
内の配置を示す平面断面図である。

【図２】図１のＡＡ線に沿う断面図である。

【図３】図１のＢ部の拡大図である。

【図４】図３のＣＣ線に沿う矢視図である。

【図５】図１のＤ方向からの矢視図の拡大図である。

【図６】図５のＦＦ線に沿う断面図である。

【図７】図３のＥＥ線に沿う断面図である。

【図８】第１実施例の調整台５１付近のセンサの他の例
を示す拡大平面図である。

【図９】本発明による露光装置の第２実施例のチャンバ
内の配置を示す平面断面図である。

【図１０】図９のＧ部の拡大平面図である。

【図１１】従来のウエハローダ系を備えた露光装置を示
す平面図である。

【図１２】図１１中のウエハローダ系１２の構成を示す
斜視図である。

【符号の説明】

３１〜３３独立チャンバ３３Ａ下部チャンバ３３Ｂ上部チャンバ１０ウエハステージ１１Ａ〜１１Ｊウエハ３４空調装置３７防振台３８ウエハローダ系３９横スライダ本体４１Ｘ軸移動部４２Ｚ軸移動部４３ θ軸回転部４４Ｒ軸回転部４５ハンド部４７スカラー型ロボットハンド４８縦スライダ本体４９Ａ，４９Ｂスライダ５０センサ台５１調整台５２タンテーブル５４設置台５５ウエハの保管棚５３投光部５９Ａ〜５９ＣＨＥＰＡフィルタ６０Ａ〜６０Ｃリターン６５レチクルローダ系７５ラインセンサ７６Ａ〜７６Ｄ投光部７８Ａ〜７８Ｄ受光部７７光ガイド８４ラインセンサ８５移動台

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスク上のパターンを連続的に搬送され
て来る感光基板上にそれぞれ露光する露光装置におい
て、前記マスクパターンを外部から搬入される感光基板上に
露光する露光本体部を第１の環境維持室内に設置し、露光された感光基板を搬出すると共に、感光基板の保管
部から感光基板を取り出す基板搬送手段を、前記第１の
環境維持室と独立に設けられた第２の環境維持室内のベ
ース上に設置し、前記第１の環境維持室と前記第２の環境維持室との境界
部の開口を通して、前記基板搬送手段が前記露光本体部
に対して感光基板の搬出及び搬入を行うようにしたこと
を特徴とする露光装置。
【請求項２】前記第２の環境維持室上に、マスクの搬
出及び搬入を行うマスク搬送手段が設置された第３の環
境維持室を積み重ね、前記第１の環境維持室、第２の環境維持室、及び第３の
環境維持室内の空調を互いに独立に行う空調手段を設
け、前記第１の環境維持室と前記第３の環境維持室との境界
部の開口を通して、前記マスク搬送手段が前記露光本体
部に対してマスクの搬出及び搬入を行うようにしたこと
を特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】前記露光本体部内で前記マスク及び前記
感光基板をそれぞれ露光位置に吸着保持するための第１
の真空吸着源と、前記基板搬送手段内で搬送時に前記感
光基板を吸着保持するための第２の真空吸着源と、前記
マスク搬送手段内で搬送時に前記マスクを吸着保持する
ための第３の真空吸着源と、を互いに独立に設けたこと
を特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】基板搬送手段は、所定の軸を中心として
回転自在、且つ前記所定の軸から半径方向へ伸縮自在な
２つの自由度を有する基板保持部と；該基板保持部を所
定のガイドに沿って移動させる移動手段と；前記第１の
環境維持室と前記第２の環境維持室との境界部の開口を
通して、前記基板保持部と前記露光本体部との間の感光
基板の授受を行う基板受渡し手段と；該基板受渡し手段
に付設された送光手段と受光手段とよりなり、該受光手
段からの光電変換信号に基づいて前記感光基板の位置及
び回転角を検出する基板状態検出手段と；を有すること
を特徴とする請求項１、２、又は３記載の露光装置。
【請求項５】前記基板搬送手段と感光基板との接触部
を導電性セラミックスより形成したことを特徴とする請
求項１〜４の何れか一項記載の露光装置。
【請求項６】前記感光基板の保管部を、箱体と、該箱
体に収納される感光基板を１枚ずつ隔離する仕切り板と
より形成し、前記箱体及び前記仕切り板をそれぞれ導電
性材料から形成したことを特徴とする請求項１〜５の何
れか一項記載の露光装置。
【請求項７】前記感光基板の保管部内に、検査又は清
掃用の基板を収納する棚を確保したことを特徴とする請
求項６記載の露光装置。