JP4410871B2 - 荷電粒子線露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の荷電粒子線露光装置の一例として、図1に電子ビーム描画装置の概略構成図を示す。図中710は試料室であり、この試料室710内には半導体ウェーハ若しくはガラスマスク等の試料711を載置したXYステージ712が収容されている。 XYステージ712は、 XYステージ制御回路713によりX方向(紙面左右方向)及びY方向(紙面裏表方向)に駆動される。
【0003】
試料室710の上方には、電子ビーム光学系720が配置されている。この光学系720は、電子銃721,各種レンズ722〜727,ブランキング用偏向器731,ビーム寸法可変用偏向器732,ビーム走査用の主偏向器733,ビーム走査用の副偏向器734及びビーム成形アパーチャ等から構成されている。そして、主偏向器733により所定の副偏向領域(サブフィールド)に位置決めし、副偏向器734によりサブフィールド内での図形描画位置の位置決めを行うと共に、ビーム寸法可変用偏向器732及び成形アパーチャによりビーム形状を制御し、 XYステージ712を一方向に連続移動しながらLSIチップのフレーム領域を1回のXYステージ712連続移動により描画可能な範囲内で集めた描画ストライプ領域を描画処理する。更に、 XYステージ712を連続移動方向と直交する方向にステップ移動し、上記処理を繰り返して各描画ストライプ領域を順次描画処理するものとなっている。
【0004】
一方、主制御系は、描画制御データメモリ741に記憶されたストライプ毎の描画制御データを、ブランキング制御回路745,ビーム成形制御回路746,主偏向器制御回路747及び副偏向器制御回路748に送られる。そして、各制御回路は、同期信号発生回路749からの同期信号に同期して、制御対象を描画制御データに基づいて制御する。
【0005】
即ち、同期信号発生回路749からの同期信号に同期して、まず初めに、主偏向器制御回路747が、前記光学系の主偏向器733に所定の偏向信号を印加し、これにより電子ビームは指定のサブフィールド位置に偏向走査される。主偏向器制御回路747が同期信号を受信後一定時間を経て、主偏向制御回路から電子ビームが指定の位置に整定され露光可能であるという許可信号が、ブランキング制御回路745,ビーム成形制御回路746,副偏向器制御回路748に送られる。それと同時に、同期信号発生回路749からの同期信号を受信し、それに同期して、副偏向器制御回路748は、副偏向器734に所定の副偏向信号を印加し、ビーム成形制御回路746は、ビーム寸法可変用偏向器732に所定の偏向信号を印加し、これにより電子ビームの寸法を制御し、ブランキング制御回路745は、ブランキング用偏向器731に所定の偏向信号を印加し、これにより電子ビームの照射を制御する。これによりサブフィールド毎の描画処理が行われる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
制御系の制御対象が目標値に達成するまでの時間を整定時間とすると、主偏向器733は偏向量によって、その整定時間が異なる。従来においては、主偏向器733の最長の整定時間をその整定時間とみなして固定していた。すなわち、主偏向器制御回路747が同期信号を受信後その固定された整定時間を経て、主偏向制御回路から電子ビームが指定の位置に整定され露光可能であるという許可信号が、各制御系に送られている。したがって、主偏向器733の偏向量によっては、無駄な待ち時間が設定され、電子ビーム露光装置の生産性を劣化させていた。更に実際の露光装置には、サブフィールドの描画処理毎に電子ビームを制御する制御系が複数存在し、かつ各制御系の整定時間が事前の状態によって異なるので、その中で最長の整定時間を待ち時間としている。その結果、より生産性を劣化させていた。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の問題を解決するために本発明の荷電粒子線露光装置は、荷電粒子線を用いて被露光面上にパターンを描画する荷電粒子線露光装置であって、
前記荷電粒子線で前記被露光面上にパターンを描画するための第1および第2の制御手段と、
前記第1および第2の制御手段をそれぞれ駆動するための第1および第2の駆動データを時系列にそれぞれ記憶する第1および第2の記憶手段と、
前記第1および第2の記憶手段にそれぞれ記憶された前記第1および第2の駆動データをそれぞれ読み出すための第1および第2のクロックにそれぞれ対応する第1および第2の論理値を前記第1および第2の制御手段それぞれの整定時間に基づいて時系列に配して共通のアドレスに対応させて記憶し、同期クロックに応じて指示されたアドレスに対応する前記第1および第2の論理値を出力する第3の記憶手段と、
前記第3の記憶手段から出力された前記第1および第2の論理値に基づいて前記第1および第2のクロックを生成する手段と、
を有することを特徴とする荷電粒子線露光装置である。
【0016】
【発明の実施の形態】
荷電粒子線の一例として本実施形態では電子ビーム露光装置の例を示す。なお、電子ビームに限らずイオンビームを用いた露光装置にも同様に適用できる。
【0017】
(電子ビーム露光装置の構成)
図2は本発明の電子線描画装置の概略構成を表した図である。同図において1は描画のための線源である電子銃であり、2は電子銃1から射出された電子ビーム3を成形加工し所望の特性にして照射するための照射系、4は照射系2によって照射された電子ビーム3から複数の電子ビーム5を生成し且つパターンが描画されるべき試料上での像面彎曲が減少するように中間像7を形成するためのCLAユニット、6は前記複数の電子ビーム5をオン叉はオフするブランカーアレイ、7は前記CLAユニット4によって形成される中間像、8は前記中間像7を試料上に縮小投影して所望のパターンを描画するための縮小投影系、9は試料を前記縮小投影系8の光軸に垂直な面内を移動させるためのXYステージ、10は試料の被露光面を前記縮小投影系の像面に合わせるためのレベリングステージ、11は試料が載置されるチャック、12はチャック11上の試料面の高さや傾き等を計測するための面計測系、13は試料上にパターニングされたアライメントマークや各種の補正用マークを計測するためのオフアクシススコープ、14は試料室、15はチャック11上の試料を交換し且つ装置と搬送系16との間で試料の受け渡しを行うための前室、16は試料をキャリア等から取り出して前記前室15に供給し、前記前室15から描画済みの試料を取り出してキャリア等に収納するための搬送系、17は電子銃1と照射系2とCLAユニット4とブランカーアレイ6と縮小投影系8と面計測系12とオフアクシススコープ13とを支持する鏡筒支持体、18は外乱振動の前記鏡筒支持体17への伝達を抑止する鏡筒マウント、19は鏡筒マウント18と前室15とを支持する本体支持体、20はXYステージ9とレベリングステージ10を支持するためのステージマウント、21は前記XYステージの駆動反作用力を支持するためのステージ反力支持体、22は装置内部を真空に保つための本体真空ポンプ、23は前室15内を排気するための前室真空ポンプ、24は装置全体の温度と装置各部の冷却系を管理し調節するチャンバー、25は装置を制御するための制御系、26は前記電子銃1と照射系2と縮小投影系8とに高安定な電圧および電流を供給するための電源ユニットとそれらの電源を制御する電源制御部27を有する電源システム、28は描画すべき回路パターンに対応したCADデータを本電子線描画装置が扱える描画データに変換するためのデータサーバである。
【0018】
以下、これらの構成をさらに詳細に説明する。
【0019】
図3は電子銃1の詳細を表す図で、同図において100はエミッタで電子の発生源であり、LaB6(六ホウ化ランタン)の単結晶を円柱状に切り出し、電子の放出面を半球状に加工したものを用いている。101は通電加熱のためのグラファイトヒータで、ヒータ電極103を介して電流を供給しエミッタ100を所望の温度に加熱維持する。104はバイアス電極でエミッタ100の電位に対して負の電圧を印加して電子の発生領域を制限するとともに、エミッタ100との間に生成する電場が収束作用を有するように構成されている。105はアノードでエミッタ100の電位に対して正の電圧が印加され、エミッタ100から電子を引き出し、放出された電子をさらに加速してクロスオーバ106を形成させる。実際には、アノード105は接地電極として構成されていて、エミッタ100はこの接地電位に対して負の高電位を有している。また、ヒータ電極103は前記電源システム26から電源の供給を受けて、ヒータ101は定電流駆動されている。同様にエミッタ100、バイアス電極104にも前記電源システム26から電源が供給され電源制御部27によって制御されている。さらに電子銃内部は前記本体真空ポンプ22を用いて排気して10−8Torr以下の高真空状態に保たれている。
【0020】
図4は本実施形態の電子銃で得られる輝度の角度分布特性である。図から分かるように広い角度に渡って高輝度であることが本実施形態の電子銃の特徴である。
【0021】
図5は照射系2の詳細を表す図である。同図において110はビームアライメント偏向器で前記電子銃1から射出された電子ビーム3の光軸位置を調整し、電子ビームが電子光学系に正しく入射するように設定される。ビームアライメント偏向器110は電源システム26から電源の供給を受けて、電源制御部によって制御され、例えばエミッタの交換や電子ビーム光軸位置の変動時に手動或いは後述する制御系25からの指令によって自動的に調整されるように構成されている。111は第一制限開口で前記電子ビーム3の外周部分を遮蔽して不要な電子を以降の電子光学系に入射させないようにしている。112、113は前記電子銃1から射出される電子ビーム3のクロスオーバ106の像の形状を加工するための成形レンズ群であり、第一成形レンズ112はクロスオーバ106の像114を形成し、第二成形レンズ113は像114の像115を形成している。これら第一成形レンズ112と第二成形レンズ113は前記システム電源26から電源の供給を受け且つ各々のレンズの焦点距離が可変になるように制御されていて、これらの焦点距離を調整することで所望の大きさの像115を得ている。前記成形レンズ群で所望の大きさに成形されたクロスオーバ106の像115から射出した電子ビームは、コリメータレンズ116によって略平行ビームにされて前記CLAユニット4に入射する。117はソースブランカで、前記電子ビーム3をこれ以降の電子光学系に入射させる必要のない場合にストッパー118で遮蔽するようになっている。
【0022】
次に図6はCLAユニット4及ブランカーアレイ6の断面図で同図において、120は第一アパーチャアレイで光軸に垂直な面内で64×64のマトリックス状に配列させた複数のアパーチャで構成されており、前記電子ビーム3を複数の要素ビーム121からなるマルチビームに分割している。分割された各要素ビーム121は、第一ユニポテンシャルレンズ122に入射する。第一ユニポテンシャルレンズ122は前記第一アパーチャアレイ120の各アパーチャに対応したレンズ群を有するマルチレンズアレイで、前記第一アパーチャと同様に光軸に垂直な面内に64×64のマトリックス状に各レンズが配列させてある。第二ユニポテンシャルレンズ123、第三ユニポテンシャルレンズ124、第四ユニポテンシャルレンズ125も前記第一ユニポテンシャルレンズと同様なマルチレンズアレイであって、本実施形態ではこの4つのユニポテンシャルレンズを用いて要素ビーム121の各々に対応する中間像126を得ている。本発明の電子線描画装置は、ここで得られる中間像126を前記縮小投影系8によってパターンが描画されるべき試料面上に結像させ、それらを偏向して所望のパターンを描画するようになっている。ここで、中間像126は、縮小投影系8で生じる収差を補正するように結像している。本実施形態のユニポテンシャルレンズ群は、これらの収差のうち像面彎曲を高精度に補正する機能を有している。
【0023】
図7は第一ユニポテンシャルレンズ122の一例を表す中間電極の平面図で、64×64のマトリックス状に配列させた要素ユニポテンシャルレンズ127に各々別々のパワーを持たせることで、各要素ビーム121の中間像の結像位置を任意に設定することができる。そこで、マトリックス状配列を縮小投影系8の光軸に軸対称な形状になるように、例えば同心円状の領域A128〜領域E132に分割して、それらの領域毎に各要素ビーム121の中間像126の結像位置を調節して、最終的に試料面での像面彎曲を無視できるほどに小さくしてる。ここで、ユニポテンシャルレンズが4枚で構成されているのは、ユニポテンシャルレンズの製作上の容易さと補正機能の安定度を加味した結果であり、同機能を実現する上においては他の構成であってもかまわない。ユニポテンシャルレンズは三層電極構造で、通常外側の電極を接地電位にして中間電極に所望の電圧を印加する。前述の様に各要素ユニポテンシャルレンズ127に各々別々のパワーを持たせるということは、各要素ユニポテンシャルレンズの各中間電極に各々別々の電圧を印加することになる。マルチレンズアレイの製作上、多くの中間電極からの配線を外部へ引き出す際に、それらの配線が要素ユニポテンシャルレンズの近傍を通るために要素ユニポテンシャルレンズ内の電界が乱れて要素ビームの結像位置が設定通りにならない場合がある。こうしたことを踏まえて本実施形態では、第一ユニポテンシャルレンズ122ではマトリックス状配列の列方向に領域分割して行単位で同一且つ列方向に対称なパワーを持たせ、第二ユニポテンシャルレンズ123では、行方向に領域分割し列単位で同一且つ行方向に対称なパワーをもたせ、これら第一のユニポテンシャルレンズ122と第二のユニポテンシャルレンズ123の二つを組み合わせて、縮小投影系8の光軸に軸対称な領域分割をした場合と同等な中間像106を形成している。このようにすると各ユニポテンシャルレンズの中間電極の配線は非常に単純になり前述のような問題は起こりにくくなる。この様子を図8に示す。同図において133は第一ユニポテンシャルレンズ122の中間電極でマトリックス状配列の各行を共通パターンとしてあり、第二ユニポテンシャルレンズ123の中間電極134はマトリックス状配列の各列を共通パターンにしてある。実際のユニポテンシャルレンズはこれら各々の中間電極の上下に接地電極層を設けて三層構造となっていることは先述した通りである。
【0024】
このように第一ユニポテンシャルレンズ122と第二ユニポテンシャルレンズ123を構成したうえで、本実施形態では更に第三ユニポテンシャルレンズ124と第四ユニポテンシャルレンズ125を組み合わせ、合計4枚のユニポテンシャルレンズを組み合わせ、各々のパワー配分を調節してさらに最適化してある。さらに、各ユニポテンシャルレンズ内の中間電極に印加する電圧を描画動作中にダイナミックに調節して最適な像が得られるようにしている。
【0025】
さて図6に戻って同図の136は第一アパーチャアレイ120、第一〜第四ユニポテンシャルレンズ(122〜125)と対応するように64×64のマトリックス状に配列させたマルチブランカで、各要素ビーム121を個別にブランキングするために各々別々にブランキング電極137を配置してある。138はマルチブランカ136の各開口に対応したアパーチャを有するストッパーアレイで、ブランキング時にはマルチブランカ136で偏向された各要素ビームがストッパーアレイ138で遮蔽されるように構成してある。パターン描画の際には、各ブランキング電極137を独立に制御して、要素ビームを任意の描画タイミングでオン・オフさせると同時に、オン時間をも制御して各要素ビームの試料上へのドーズ量を制御している。
【0026】
次に図9は縮小投影系8の詳細を表した図である。同図において、140はフィールドレンズであると同時に固定倍率レンズであり、最終的な投影倍率が所定の値になるようにその磁場強度が設定される。141は第一縮小レンズ群、142は第二縮小レンズ群で、これらのレンズ群をもって縮小投影レンズ143を構成している。該縮小投影レンズ143によって中間像126を50分の1の比率で試料上に投影して結像させている。144は光軸の回りの円周上に対向した八つの磁極をもつ八極構造のダイナミック非点補正コイルで、主として後述する主偏向器146による描画ビームの偏向によって生じる非点歪みを補正する。145は第二制限開口でパターン描画に不要な電子を遮蔽する。倍率補正コイル146はダイナミック非点補正コイル144と同じ構造の補正コイル群で構成されており、これらを用いて中間像126の各々の方向の最終的な結像倍率を調節している。148、149、は各々主偏向器、副偏向器で、中間像126の像Nをパターン描画するべき試料上で走査し且つXYステージ8を駆動しながら所望のパターンを得ている。
【0027】
これらの偏向器とXYステージの動作によってパターンを描画していく様子を図10に示す。
【0028】
図10において、150はパターンが描画されるべき試料であり、ここではウエハを示している。151は該ウエハ150上に形成する回路チップである。152はドットで、パターン描画の際の最小単位である。ドット152は中間像126の各要素ビーム121の縮小投影像でり、従ってこのドットが試料上にマトリックス状配列をもって結像している。このドットの配列ピッチを例えば4μmに設定した場合には、ドット152を4μm角の領域内(マイクロフィールド153)で副偏向器149によってXY方向に偏向走査して領域内に描画すべきパターンを描画する。ここで、64×64個の各ドットが同時に各マイクロフィールド153内を描画するように構成されているので、この一連の動作で256μm(4μm×64)角の領域が同時に描画される。このように構成される領域がサブフィールド154で、更にサブフィールド154を主偏向器148、を用いてX方向に偏向走査して主フィールド155を得る。主フィールド155の大きさは主偏向器148の偏向幅によって決定されるが、ここでは主偏向器148の偏向幅を約4mmとしている。このようにした場合、主フィールド155は16のサブフィールドが一列に並んだ形状となる。次にこの主フィールド155をXYステージ9によってY方向に走査すると、ステージストライプ156が描画される。ここで、ステージストライプ156上のパターン描画に際しては、XYステージ9を連続駆動するため、各主フィールド155間のパターン繋ぎ、及び主フィールド155内のサブフィールド間のパターン繋ぎ、と各サブフィールド内のパターン描画歪み、とを抑えるために、主偏向器148はY方向の偏向器を備えており該偏向器を用いてXYステージ9のY方向の動きに追従するように構成している。この様にステージストライプ156を繰り返し描画することで最終的に回路チップ151の描画を終える。なお主偏向器148は、所謂振り戻しをする二段の偏向器を構成してもよい。
【0029】
図9に戻って、160は空芯構造のダイナミックフォーカスコイルであり、主偏向器148の偏向量にもとづいて、サブフィールド154毎に中間像126の縮小投影レンズ143による像が所定の位置に結像するように調節している。次に、先述した第一縮小レンズ群141と第二縮小レンズ群142で構成される、縮小投影レンズ143は、いわゆるMOL(移動レンズ)タイプのレンズであって、このためMOL補正コイル群161を備えている。MOL補正コイル群161は主偏向器148の偏向量に基づいて、いわゆるMOL条件を満足するように駆動され常に最適な特性が得られるように構成されている。図11はMOL条件を満足させるために必要な補正磁場162と縮小投影レンズ143のもとの磁場163とMOL補正コイル群161が実際に生成する磁場164を表した図である。同図において、162は1次のMOL条件を満足させる補正磁場曲線で、MOL補正コイル群161の生成磁場曲線164がこの補正磁場曲線162に一致するよう各MOL補正コイルが駆動されている。
【0030】
図9に戻って、リフォーカスコイル170は、ある時間区間に縮小投影系8のカラム内を流れる要素ビーム121の総ビーム電流の大きさに基づいて駆動され、空間電荷効果等による各要素ビーム121の像面でのボケを補正している。ここで縮小投影系8の各要素のうち、ダイナミック非点補正コイル144、倍率補正コイル146、主偏向器148、副偏向器149、ダイナミックフォーカスコイル160、MOL補正コイル群161、リフォーカスコイル170、は後述の制御系25によって駆動制御されており、フィールドレンズ140と第一縮小レンズ群141と第二縮小レンズ群142は電源システム26によって駆動、制御がなされている。
【0031】
以上説明した各要素は、鏡筒支持体17に固定され鏡筒マウント18によって垂直及び水平方向の変位と床振動やその他の外乱振動から絶縁された状態に制御されている。また、照射系2、及びCLAユニット4、及びブランカーアレイ6、及び縮小投影系8、とを有する電子光学系の内部は、本体真空ポンプ22によって常に高真空の状態に保たれている。
【0032】
次に図12はXYステージ9及びレベリングステージ10及びチャック11及び面計測系12をより詳しく表した図で、同図においてXYステージ9はXステージ180とYステージ181の2段構成で、各軸には各々レーザー干渉システムによる測長系と測長補正系を具備している。X軸に対してはX1測長系183とX軸のヨーイング補正のためのX2測長系184、Y軸に対してはY1測長系185とY軸のヨーイング補正のためのY2測長系186を各々搭載している。187はステージ定盤で該ステージ定盤187の上面と縮小投影系8との相対関係を計測するために3本の測長系Z1(188)、Z2(189)、Z3(190)を有しておりパターン描画中は常に、これらの関係を監視して制御することで、最良な描画条件を提供している。面計測系12は複数光束による多点反射光学式測距計測系であり、複数の計測光を試料面に投射する投光部191と、該計測光の試料面での反射光を検出する面検出部192によって構成されている。面検出部192では、試料面で反射した計測光の検出位置から、計測光が照射された試料面上の位置の高さがわかるようになっており、これらの処理を複数の計測ポイントに渡って実施することで、試料面の傾きと高さを得ることができる。これらの値を基に、光軸方向(Z方向)と3つの角度方向(Wx、Wy、θ)に自由度を持つレベリングステージ10を駆動して、パターンの描画に際し常にチャック11上の試料面の傾きと高さを最適な状態に保つことができるようになっている。
【0033】
ここでXYステージ9の駆動制御及びレベリングステージ10の駆動制御及び面計測系12の計測駆動と計測値処理は、すべて制御系25で実行されている。さらにXYステージ9は、ステージマウント20によって支持されており、垂直及び水平方向の振動と変位が抑制されている。同時に、XYステージ9を駆動した際の駆動反作用力によってXYステージ9及びレベリングステージ10に振動が発生して描画精度が悪化するのを防止するために、ステージマウント20に伝搬したXYステージの駆動反作用力をステージ反力支持体21によって吸収するように構成されている。
【0034】
さらに、XYステージ9、レベリングステージ10、チャック11、面計測系12、オフアクシススコープ13、等の各要素が配置されている空間が試料室14であり、試料室14は本体真空ポンプ22によって常に排気され高真空に保たれている。
【0035】
次に図13は前室15の構成を表す図である。同図において200はパスドア1、201はパスドア2であり、これら二つのドアと、前室真空ポンプ23を用いて装置内の真空度を落とさずに試料を受け渡すようになっている。203は試料をチャック11に受け渡す際の向きと位置を一定にするためのメカニカルプリアライメントステーション、204はメカニカルプリアライメントの終了した試料をチャック11に搬送するための供給アーム、205はパターン描画の終了した試料をチャック11から回収するための回収アーム、206は回収アームによって回収した試料を一時的の保持するための回収ステーションである。通常、試料の回収と供給は同時に実行され、試料の交換時間が最短になるように構成している。
【0036】
以上の様に構成された装置の制御を行っているのが制御系25で、以下に制御系25の詳細を説明をする。
【0037】
図14は制御系25の全体ブロック図である。同図において制御系はデータ処理系300、シーケンス処理系301、描画処理系302の三つの部分で構成されている。303は装置全体の制御と試料の処理プロセスを制御するメインプロセッサ。304はメインバスでメインバス304上には主として描画データの処理に関連した要素が配置されておりデータ処理系300を構成している。外部インターフェース305は主としてデータサーバ28との高速通信インターフェースで、データサーバ28上の描画データは当該インターフェースを介して極めて高速に転送される。データメモリ306はデータサーバから送られてきた描画データ307を記憶する。さらに、試料の処理プロセス上で必要な露光量データを格納する露光量データテーブル308、パターン描画時の試料面の高さ(フォーカス)データを格納するフォーカスデータテーブル309、ダイナミック非点補正コイル144の駆動パラメータを記憶する非点補正データテーブル310、ダイナミックフォーカスコイル160の駆動パラメータを記憶するフォーカス補正データデータテーブル311、CLAユニット4のユニポテンシャルレンズ群122〜125の駆動パラメータを記憶するCLA補正データテーブル312、MOL補正コイルの駆動パラメータを記憶するMOL補正データテーブル313、倍率補正コイル群146、147の駆動パラメータを記憶する倍率補正データテーブル314、等の各データテーブルもデータメモリ306上に構成されている。データプロセッサ315は、データメモリ上の描画データ307と各データテーブル308〜314から後述する各制御要素に対応する制御データを生成する。
【0038】
316はコントロールバスで試料の処理プロセスに関係する制御要素がこのバス上に配置されシーケンス処理系を構成している。317は装置全体の制御プログラムと試料の処理シーケンスプログラムが格納されるプログラムメモリ、318は試料の位置合わせや、基準位置の校正、等各種アライメント計測のためのアライメント計測系、319は電源システム26の電源制御部27、チャンバー24、搬送系16、等の各ユニットとの通信を行うためのユニットコントローラインターフェース、320は、オペレータとのマンマシンインターフェースであり、試料の処理プロセスを定義するジョブの作成、装置の特性を定める各種パラメータの設定、装置の運転状態を監視するモニター、装置に対する各種コマンドの発行、等を行うメインコンソール321との通信を行うLANインターフェースである。
【0039】
322は描画プロセッサで複数のDSPとMPUからなり描画系302の制御を司っている。I/Oバス323上にはシーケンスメモリ324が実装されており、メインプロセッサ303のシーケンシャルコマンド応答、ステータス情報、等のやりとりを行っている。ローカルバス325上には描画処理に係わる装置の各構成要素を駆動するためのモジュール群が配置されていて、該モジュール群に対してそれらの駆動データを転送するために、バスブリッジ326が該ローカルバス325とメインバス304の間に構成されている。モジュール群に対する駆動データの転送は、該バスブリッジ326を介してデータメモリ306と各モジュールの間で直接実行され、データ転送時間の短縮が図られている。
【0040】
次に、327はマルチブランカ136を駆動して試料上に所望のパターンを描画するための各ドットのオン・オフデータと露光量データが格納されているストライプメモリで、このメモリ上の各ドットに対するデータを順に、マルチブランカ136の駆動部328に転送している。
【0041】
図15はストライプメモリ327とその周辺回路を更に詳しく表した図である。同図で329はストライプマイクロフィールドデータで、ひとつの要素ビームの1ストライプ分の露光情報を有しており、オン・オフビット330と露光量データ331からなるデータ列を成している。このストライプマイクロフィールドデータを八つの要素ビームに対してまとめたものをブロックメモリ332として扱っている。実際にはこのブロックメモリが各ストライプに512個あり、ひとつのストライプの512個のブロックメモリを同時に駆動してパターン描画することになる。
【0042】
ここで、ストライプマイクロフィールドデータ329は、最下位ビットが要素ビームのオン・オフビットで上位7ビットが露光量であるドットデータ333のデータ列になっている。従って、ブロックメモリ332のアドレスカウンタ334の指し示すアドレスに従ってドットデータが順に出力バッファ335を経て遅延ロジック336へ送出される。尚アドレスカウンタ334はストライプクロック349に同期してカウントされるものとする。遅延ロジック336は7ビットの露光量データを露光パルス時間幅に変換するロジックで、その詳細を図16に示す。説明を簡略にするため、同図では露光量データを3ビットにしてある。同図337は入力データ、338は3to8デコーダ、339は遅延要素、340はセット・リセット・フリップフロップである。セット・リセット・フリップフロップ340のセット入力に信号が入ると出力信号341が立ち上がり(オン)、リセット入力が入ると立ち下がる(オフ)が、リセット入力は入力データ337が大くきなるほど通過する遅延素子の数が増加して遅延時間が増えるようになるため、結果として入力データ337の大きさ(デュティー)に比例してオン時間が定まる所謂デュティー可変の出力信号341を得ることができる。さらに、各遅延素子339は図17の様に構成されていて同図セレクタ342の選択入力344によって内部遅延素子343の段数を1、2、4、8段のうちから選択できるようになっており、入力データ337すなわちデュティーデータを変更することなく、後述する描画同期クロックの変更と連動してドーズ量を変えることができるようになっている。尚、ここでは入力データが3ビットの場合を説明したが、その回路規模が大きくなるだけで7ビットデータの場合も同様に、入力データの大きさに比例したオン時間の出力信号が得られる。ここで、入力データが0である場合は露光量0で要素ビームはオフのままであることを意味する。
【0043】
上記のようにして、露光量データ331は要素ビームのオン時間に変換され、マルチブランカ136のブランカ駆動回路350に出力され、ブランカ駆動回路350は入力信号のオン時間だけ要素ビームを通過させるように動作して、該オン時間に比例した露光量が得られるようになっている。一方、ストライプマイクロフィールドデータ330の最下位ビットである要素ビームのオン・オフビット330は、所謂クーロン効果補正に用いられる。同時に照射される4096個の要素ビームに対応するドットデータのオン・オフビット330の出力を加算器351で全て加算して加算出力352を得る。リフォーカステーブル353は入力アドレスの大きさに関連づけられた、リフォーカスコイル170の駆動データが格納されているメモリで、リフォーカステーブル353を加算出力352でアドレッシングして、該加算出力352に関連づけられたリフォーカス駆動データ354を得る。リフォーカス駆動データ354はリフォーカスDAC355でDA変換されてリフォーカスコイル駆動回路356に出力される。このようにすると、4096個の要素ビームの内、同時に照射される要素ビームの数に応じて、リフォーカスコイル170の駆動量を決定して中間像126の像の結像位置を調節して、所謂クーロンボケをリアルタイムに補正できるようになる。
【0044】
図14に戻って、360はCLAプロファイラでCLAユニット4の第一ユニポテンシャルレンズ122〜第四ユニポテンシャルレンズ125の各レンズ群の駆動データを記憶するメモリ群であり、図18にその詳細を示す。図18において、365は第一CLAプロファイルメモリで、第一ユニポテンシャルレンズ122の駆動データが格納されている。図示しないが、第二ユニポテンシャルレンズ123〜第四ユニポテンシャルレンズ125に対応して第二CLAプロファイルメモリ〜第四CLAプロファイルメモリも同様に構成されている。さて第一CLAプロファイルメモリ365に格納されているCLAデータ366は、第一ユニポテンシャルレンズ122の中間電極に印加する電圧を符号化したもので、10ビットのデータ幅を持っている。先述したように各ユニポテンシャルレンズの中間電極は、行叉は列に分割されているので、実際には各ユニポテンシャルレンズあたり64個のプロファイルメモリで構成されていて、それらのプロファイルメモリ上に各々10ビットデータを有している。そして、それらを組み合わせて所望の中間像を得ていることは先述した通りである。ここで中間像126の結像状態は、主偏向器148による偏向量によって変化し、従って主偏向器148の偏向ステップ毎にCLAデータ366を設定して、ユニポテンシャルレンズ群のパワー配分を調整する。そのために、第一CLAプロファイルメモリ365は主偏向器148の偏向ステップ数に対応して16種類のCLAデータを有している。これら16種類の各CLAデータはCLAクロック367に同期したアドレスカウンタ368でアドレッシングされ、主偏向器の偏向量に応じたCLAデータが送出され、CLA・DAC369によってアナログ量に変換され、CLA駆動回路370に入力する。第二ユニポテンシャルレンズ123〜第四ユニポテンシャルレンズ125に関しても同様な処理がなされており、これらユニポテンシャルレンズ群を最適に駆動し所望の結像状態を得ることができる。
【0045】
図14に戻って、主偏向プロファイラ385は主偏向器148の20ビット幅の駆動データを格納しているメモリ群で、その詳細を図19に示す。同図で主偏向器148はXYの二方向に対する偏向器を有しているので、各々の駆動データは主偏向器プロファイルメモリX386と主偏向器プロファイルメモリY387の二つのプロファイルメモリ上に構成されている。主偏向器プロファイルメモリX386上の主偏向Xデータ388は主偏向器157のX方向の偏向電圧を符号化したもので、各偏向ステップに相当する、本実施形態では16種類のデータからなっており、主偏向クロック389に同期したアドレスカウンタ390のアドレッシングによって、当該ステップの偏向量に相当する主偏向Xデータ388が読み出されて、主偏向XDAC391でアナログ量に変換されて、主偏向器駆動回路395に供給されて所望の偏向量を得ている。一方主偏向器のY偏向に関しては、XYステージ9のY軸による連続移動に追従するため、主偏向器プロファイルメモリY387上には、後述する副偏向クロック406毎、すなわち描画のための各ドットの描画位置における主偏向器Yの駆動データが記憶されている。各データはX側と同様に20ビット幅のデータで構成されていて、これらのデータをアドレスカウンタ392で副偏向クロック406に同期して読み出し、主偏向YDAC393でアナログ量に変換し、主偏向器駆動回路395に同様に供給する。尚、先述したように所謂二段偏向を用いる場合や、更に多段の偏向を行う場合には、プロファイラを複数構成して同様な制御を実施すればよい。
【0046】
図14に戻って、400は副偏向器プロファイラ、401はオフセットプロファイラで、副偏向器149の12ビット幅の駆動データと4ビット幅のオフセットデータを記憶するプロファイルメモリで、それらの詳細を図20に示す。図20において402は副偏向器プロファイルメモリXで副偏向器149のX方向の基本駆動データX403を記憶している。本実施形態ではマイクロフィールド153のドット分解能は160×160に設定してあるので基本駆動データ403はX方向に160種類、Y方向に160種類、で各々構成されている。一方404はオフセットプロファイルメモリXで副偏向器149を駆動する際のオフセット調整データであり、オフセットデータ405で構成されている。通常オフセットデータは、0であるが、装置の運転状況に応じた要素ビームの位置ドリフトをリアルタイムに修正することを目的としている。次に、副偏向器プロファイルメモリX402上の各基本データとオフセットプロファイルメモリX404上のオフセットデータは、副偏向クロック406に同期したアドレスカウンタ407でアドレッシングされて、副偏向加算器408に入力し両者の和が出力される、この副偏向加算器408の出力は副偏向DAC409でアナログ量に変換されて副偏向器駆動回路410に入力している。ここで副偏向器149のY方向に関しても同様な処理が行われている。
【0047】
図14に戻って、415はフォーカスコイルプロファイラでダイナミックフォーカスコイル160の10ビット幅の駆動データを格納するメモリで、図21にその詳細を示す。同図で416はフォーカスコイルデータ417を記憶しているフォーカスプロファイルメモリである。ダイナミックフォーカスコイル160は、主偏向器148の偏向量に応じて縮小投影系8による結像位置を調節するダイナミックフォーカスとして機能させている。本実施形態においては主偏向器148の偏向ステップ数は16ステップであり、従って16種類のフォーカスコイルデータをフォーカスプロファイルメモリ416に記憶させてある。主偏向器148の偏向クロックに同期したフォーカスクロック418、に同期したアドレスカウンタ419でアドレッシングされて、主偏向器148の当該偏向量に対応したフォーカスコイルデータがフォーカスコイルDAC420へ出力される。フォーカスコイルDAC420は当該データをアナログ量に変換してフォーカスコイル駆動回路421へ出力している。
【0048】
図14に戻って、425は非点コイルプロファイラでダイナミック非点補正コイル144の12ビット幅の駆動データを格納するメモリ群であり、図22にその詳細を示す。同図で426は非点コイルデータ427を記憶している非点コイルプロファイルメモリ群である。ダイナミック非点補正コイル144は、4組の対向磁極を円周方向に45°刻みで配列させたもので、例えば図23に示すような構造をしている。非点コイルプロファイラ425は、図23中の対向する4組の磁極428A〜428Hの励磁コイルに対応して八つのプロファイルメモリを有している。この内のひとつ、磁極428Aの非点コイルデータを記憶しているのが非点コイルプロファイルメモリA429で、他の八個の磁極に対応する非点コイルプロファイルメモリついても同様な構成をしているので、ここでは非点コイルプロファイルメモリA429について説明する。ダイナミック非点補正コイル144は、主偏向器148の偏向量に応じてその駆動量が決定されるため、主偏向器の偏向ステップ数、すなわち16種類の非点駆動データが、非点コイルプロファイルメモリA429上に記憶されている。主偏向器148の偏向クロックに同期した非点クロック430、にさらに同期したアドレスカウンタ431でアドレッシングされて、主偏向器148の当該偏向量に対応した非点コイルデータ427が非点DAC432へ出力される。非点DAC432は非点コイルデータ427をアナログ量に変換して出力し、非点コイル駆動回路433に入力している。このようにして他の7個の磁極コイルと合わせ、計八個のコイルによって、主偏向器148の偏向にともなう非点歪みの発生を抑止している。
【0049】
図14に戻って、435は倍率コイルプロファイラで倍率補正コイル146の10ビット幅の駆動データが格納されているメモリ群であり、436は該倍率補正コイル146の倍率駆動回路である。倍率コイルプロファイラ435は、倍率プロファイルメモリ437、倍率クロック438、アドレスカウンタ439等(不図示)を有しているが、倍率補正コイル146はダイナミック非点補正コイル144とほぼ同じ構成をしており、その制御方法も同様であるので、ここでは説明を省略する。
【0050】
次に440はMOLコイルプロファイラでMOL補正コイル群161の20ビットのデータ幅の駆動データを格納するメモリ群で、図24にその詳細を示す。MOL補正コイル群161は四段構成で各段にX・Yの補償ヨークがあり合計8組の補償ヨーク、すなわち16個の励磁コイルで構成されている。441はそれら16個の励磁コイルのうちのひとつに対応するMOLプロファイルメモリで、MOLデータ442が該メモリ上に記憶されている。MOLデータは主偏向器148の偏向量に応じて全部で16種類あり、主偏向器の偏向クロックに同期した、MOLクロック443によってアドレスカウンタ444で当該偏向量に応じた駆動データがアドレスされて出力される。出力されたMOLデータはMOL・DAC445でアナログ量に変換されて、MOL駆動回路446に供給される。他の励磁コイルに対しても同様な構成で同様に処理して、所謂MOLとして動作させている。
【0051】
図14に戻って、450はステージプロファイルメモリでパターン描画シーケンスに基づいたXYステージ9の駆動軌跡データを記憶している。XYステージ9の制御はレーザー干渉計システム451による測長計の位置データに基づいており、したがって駆動軌跡データもXYステージ位置のサンプリング間隔毎のデータを有している。XYステージ9の駆動は、パターン描画動作に同期させる描画同期動作と任意の駆動を行う任意動作とがある。駆動軌跡データに基づく制御は描画同期動作であって、XYステージ9の位置が、所定のタイミングに前記駆動軌跡データが示す位置にくるように制御され、その結果主偏向器148との同期がとれて、ステージを連続移動しながらパターン描画ができるようになっている。一方、任意動作はXYステージ9を描画開始位置へ加速しながら移動させる場合や、描画動作の一時停止からのリスタート、試料の受け渡しのための駆動、等の場合に実行される。このためにリスタートプロファイルメモリ452を有している。XYステージの現在位置から任意の位置への駆動が指示された場合、該目標位置と該目標位置到達時の速度(ベクトル)及び駆動スピードモード、等のデータから逐次駆動軌跡データを計算しながら、リスタートプロファイルメモリ451に書き込んで、これらの駆動軌跡データに基づいて任意駆動を行っている。ここでの計算はリアルタイムに行われ、従ってその計算スピードはレーザー干渉システムによるXYステージ9の位置サンプリング間隔以下の時間で実行されている。なお、実際のパターン描画の開始にあたっては、リスタートプロファイルメモリ452に基づいた、XYステージ9の任意動作によってパターン描画開始点に所望の速度(ベクトル)で到達させ、ステージプロファイルメモリ450の駆動軌跡データに基づいた制御に間断なく移行するためのリスタートロジックを有しており、その作用によって描画同期動作へと移行するように構成されている。
【0052】
次に、455は描画シーケンサであって、ストライプメモリ327、CLAプロファイラ360、主偏向器プロファイラ385、副偏向器プロファイラ400、オフセットプロファイラ401、フォーカスコイルプロファイラ415、非点コイルプロファイラ425、倍率コイルプロファイラ435、MOLコイルプロファイラ440、からなる駆動要素間の同期をとっている。
【0053】
描画シーケンサの詳細を図25に示す。同図において456は同期クロックソースでベースクロックは400MHzである。このベースクロックから種々のクロックを生成するが、ベースクロックを2分周した200MHzから8分周した25MHzのクロックの内、ひとつを描画同期クロック457として選択し、この描画同期クロック457を用いて描画システムの同期をとっている。458はクロックパターンジェネレータであり、ストライプメモリ327のアドレスカウンタ335へ供給するストライプクロック349、CLAプロファイラ360のアドレスカウンタ368へ供給するCLAクロック367、主偏向器プロファイラ385のアドレスカウンタ392へ供給する主偏向クロック391、副偏向器プロファイラ400と前記オフセットプロファイラ401のアドレスカウンタ407へ供給する副偏向クロック406、フォーカスコイルプロファイラ415のアドレスカウンタ419へ供給するフォーカスクロック418、非点コイルプロファイラ415のアドレスカウンタ431へ供給する非点クロック430、倍率コイルプロファイラ435のアドレスカウンタ439へ供給する倍率クロック438、MOLコイルプロファイラ440のアドレスカウンタ444へ供給するMOLクロック443、を生成している。
【0054】
クロックパターンジェネレータ458は、クロックパターンメモリ459と40ビットのアドレスカウンタ460で構成されていて、クロックパターンメモリ459上には、駆動要素(制御手段)に供給するべきクロックパルス(動作司令)と駆動要素のセトリング時間(整定時間)を考慮した論理パターンをアドレスの増加方向に時系列的に並べたビットデータが書き込まれており、それらを描画同期クロック457(外部信号)毎に読み出して、バッファ461を介して駆動要素の各アドレスカウンタに供給している。
【0055】
ここで、例えばクロックパターンメモリ459の最上位ビットは主偏向器Xアドレスカウンタ392に供給する主偏向クロック391を表すビットパターンで一偏向周期に相当する間隔でクロックパターンメモリ上に論理1が書き込まれている。同様に主偏向ステップすなわちサブフィールド毎にその駆動データを設定する駆動要素のプロファイラのアドレスカウンタ、すなわちフォーカスコイルアドレスカウンタ419、CLAアドレスカウンタ368、非点コイルアドレスカウンタ431、倍率コイルアドレスカウンタ439、MOLコイルアドレスカウンタ444、に供給する各クロックも主偏向のステップ周期毎に論理1が書き込まれている。
【0056】
ただし、これらの各駆動要素は必ずしも主偏向ステップ毎に駆動データが変化するとは限らないので、そういった場合には、駆動データを変える必要が生じるタイミングに相当する位置に論理1を書き込むことになる。一方、副偏向器アドレスカウンタ407に供給する副偏向クロック406はクロックパターンジェネレータ458の読み出し周期の2倍の周期で論理1を出力するようになっていて、ストライプメモリアドレスカウンタ334のストライプクロック349も同じ周期で論理1を出力するように設定されている。この構成によって、副偏向器のステップ毎にストライプメモリ上の露光量データに相当する露光が実施される。また、主偏向器をはじめ、副偏向器、フォーカスコイル、CLA、非点コイル、倍率コイル、MOLコイル等、ステップ駆動させた場合に生じるセトリング時間を得るために、主偏向のステップ周期毎に書き込まれている論理1と副偏向器の副偏向クロック406に相当する論理1との間に論理0が書き込まれている。
【0057】
ここで、論理0の並びの数が遅延時間あるいはセトリング時間等の長さに相当し、各駆動要素間の駆動タイミングを調整する時間調整機能を有している。また、これらの論理0の数、すなわち時間調整は任意の長さを設定できるため、例えばベクタ方式でパターン描画する場合等には、主偏向の偏向量が一定ではなく、従って偏向量に応じてセトリング時間を最適値に設定することでプロセス時間を最適に制御することができる。さらに、全駆動要素に対しても同様な時間調整を各駆動要素の駆動量に応じて詳細に実施することが容易にできるので、描画精度を向上させ且つ最短のプロセス時間を得ることができるようになっている。
【0058】
このように、クロックパターンメモリ上の論理と論理0の並びの数によって、各駆動要素の駆動タイミングと同期関係、セトリング時間、応答遅延等、の全てを任意に制御することが可能なシステムになっていることが最大の特徴である。
【0059】
次に463はクロックパターンジェネレータ458と同じアドレスカウンタ460によってアドレッシングされているシーケンスコントロールブロックで、コントロールパターンメモリ464上に書き込まれた論理パターンによってストライプメモリの切り換え、描画停止許可タイミングの指定等、を制御している。ストライプメモリ切換信号465はストライプメモリ327を各ストライプの描画タイミングに合わせて切換るための信号で、本実施形態では4mm幅のストライプ1〜ストライプ5までを切換えて描画している。停止許可ビット出力466は、パターン描画動作の途中で何だかの原因で動作を停止する必要が生じた場合に描画プロセッサ322からの停止要求467を許可するための許可信号で、停止可能なタイミングで論理1が出力されるようにしてある。ここで停止要求を受け付けると、リスタートロジック462がアドレスカウンタ460への描画同期クロック457の出力を停止して、クロックパターンジェネレータ458とシーケンスコントロールブロック463の動作を停止させるようになっている。リスタートロジック462は、描画開始位置または、一時停止した場合の描画再開位置までの駆動処理と描画処理の開始叉は再開タイミングを中継し、さらに先述の4種類のクロックからひとつを選択して描画同期クロック457とする機能を有していて、それらのクロックを切り替えることで各要素ビームによるドーズ量の最大値を可変ならしめている。なお、この描画同期クロックの切り替えと連動して遅延ロジック336内のセレクタ342が動作してドーズ量の選択が行われていることは先述した通りである。
【0060】
図14に戻って、470はフォーカスレベリング処理部で面計測系12で得られた信号を処理して、試料面の高さと傾きからなる面データを算出する。471はフォーカス・レベリング制御部でフォーカスレベリング処理部で得られた該面データに基づいて、レベリングステージ10を駆動して、試料面を主フィールドの結像面と合致するように制御している。475はマウントシステム制御部で、鏡筒マウント18とステージマウント20及びステージ反力支持体21を制御している。鏡筒マウント18は主として床振動が鏡筒支持体に伝達するのを遮断するエアサーボのアクティブマウントであり、ステージマウントは床振動の遮断とXYステージ9の駆動時に発生する内部振動の制振を目的とした、エアサーボとモータによるハイブリッドアクティブマウントである。さらに本実施形態においては、ステージ反力支持体21をもちいてXYステージ9の加減速時に発生する反作用力を吸収して、振動そのものの発生を非常に小さくしている。ステージ反力支持体21はボイスコイルモータ等を用いた電磁支持体で、反作用力が発生する場合のみボイスコイルモータの推力で支持し、加速度がない場合には何らの作用も成さないように構成されている。次に480はビーム位置処理部で、ビーム位置検出器481によって得られた信号から各要素ビームの位置と強度を算出し記憶する。ビーム位置の計測は種々の調整や補正に際して実施され、例えばオフアクシススコープ13の所謂ベースライン計測の際の基準位置として用いられる他、各要素ビームの強度測定、ビーム位置キャリブレーションのためのビーム位置ドリフト測定、等に用いられる。
【0061】
以上が制御系25の構成及びそれらの詳細であるが、ここでデータ処理系300とシーケンス処理系301と描画系302は各々独立のバスとプロセッサを有しているので、例えば描画系302がパターン描画を実行している最中に、データ処理系300がデータサーバ28から描画データを受信して処理をするといった具合に、互いに他の系に関係なく非同期に各々の処理を実行することができるようになっているのが、本制御系の特徴である。
【0062】
次に、実際のウエハ処理の説明に入る前に、ウエハプロセスに必要な初期パラメータなどの設定や装置各部の調整について述べる。装置には種々のメカニカルなオフセットや電気的なオフセットが存在するが、そのようなオフセットは装置の組み立て途上において計測され調整されるものであって、ここではそうしたオフセットはすでに入力されているものとし、主としてウエハプロセスと描画性能に直接係わる部分での設定について説明する。
【0063】
まず、描画性能に係わる部分では、データ処理系300内のデータメモリ306上の各補正テーブルを設定する必要がある。設定するデータは非点補正データ、フォーカス補正データ、CLA補正データ、倍率補正データ、MOL補正データ、での各データで、これらは何れも、主偏向器148の偏向位置による各々の像特性変化を補正するためのデータである。従って、その補正量を求めるために通常用いられる方法としては、各々の補正量を決定することが可能なテストパターンを実際に試料上に描画してこれを現像し、光学顕微鏡等で観測して、それらのパターンから各補正量を求めるといったものである。この方法は、データ取得に時間を要するが現状では最も確実で信頼のおける方法であるので、本実施形態においてもこの方法をとっている。次に、ウエハプロセスに係わる部分では、同様に露光量データテーブル308とフォーカスデータテーブル309の設定を行う。これらは所謂露光条件出と呼ばれている工程で実施され、露光量とフォーカス値をステップ的に変えながら、テストパターンを実際に試料上に描画して、現像の上これを観測して、最適露光量とフォーカス位置を求めている。
【0064】
また、各レイヤ間の重ね合わせのために所謂アライメント処理を行う必要があるが、本実施形態ではオフアクシススコープを用いてこの機能を実現している。先述したように、オフアクシススコープは縮小投影系8とは別の計測軸を有する光学式の顕微鏡で構成されている。ウエハ上のアライメントマークを計測する場合には、本来投影系の軸上ビームを用いることができれば、投影系の光軸からみた計測値が得られるが、種々の理由で本実施形態のような軸外の計測系を用いることがある。こうした場合にはその軸外の計測系の計測軸と投影系の光軸との位置関係(ベースライン)の変動が問題になる。そのため、この種の装置では所謂ベースラインの計測を適宜行って、その変動の影響を補正するようになっている。本実施形態のベースライン計測は、XYステージ9上に載置された基準対象の位置を露光ビームと該オフアクシススコープで計測して、各々をXYステージの座標系の位置として算出する。これらの計測された位置の差分がベースラインで、以後ウエハアライメントのためのマーク計測の際には、オフアクシススコープで得られたアライメントマークの位置から、ベースラインを差し引けば、投影系の光軸に対する位置として該アライメントマークの位置が得られるようになる。該ベースラインは種々の要因で変動するので、適宜このベースラインの計測を実行して計測値を補正することで、アライメントマーク位置の計測値を常にある一定の誤差の範囲内に納めておくことができる。
【0065】
(露光処理工程)
さて、上記のような種々の設定が実際のウエハ露光処理プロセス上の適切なタイミングで実施されるという前提で、先述説明した装置構成において、描画データと試料であるウエハがどのように処理されるか、一連の露光処理工程を図26にしたがって説明する。
【0066】
図26で、まず所謂パターンCADで作成したパターンデータをデータサーバ28へ転送する。(ステップ601)ここで転送されるデータは所謂CADフォーマットのデータであり、描画装置で直接扱えるデータではない。そこで、データサーバ28は、これらのデータから描画装置が扱えるかたちにデータを変換して、所定のフォーマットのファイル群を作成する。(ステップ602)尚、ここでのデータ変換は主として、図形データからドットデータへの変換、ストライプ分割、ステージプロファイル算出、近接効果補正、等である。
【0067】
次に、ファイル群を制御系25の外部インターフェース305を介してデータメモリ上へ転送する。(ステップ603)ファイル群が転送されると、データプロセッサ315が各データテーブル308〜314の値を参照しながら描画データを生成する。(ステップ604)生成されたデータ群は描画処理系302のストライプメモリ327及び各プロファイラに転送される。(ステップ605)この段階で描画動作の開始が可能となる。
【0068】
この間、パターンが描画されるべきウエハは搬送系16によって前室15のメカニカルプリアライメントステーション203に受け渡しが行われ(ステップ611)、前室15内の排気をしながらメカニカルプリアライメントを行う(ステップ612)、メカニカルプリアライメントが終了すると、前室15から供給アーム204によって、チャック11上へウエハが受け渡され、チャックは静電吸着によってウエハを固定する。(ステップ613)ここでアライメント処理が必要な場合は、オフアクシススコープによって、プリアライメント処理がなされる。(ステップ614)プリアライメントはウエハ上の既にパターン化されているプリアライメントマークを計測してその位置を求め概略の位置合わせを行う。次に所謂グローバルアライメント手法を用いてウエハ上のパターン配列パラメータを求め、XYステージ9の駆動座標系の座標変換を実行する。(ステップ615)こうしてアライメント処理が終了するとXYステージ9は露光開始準備位置へ移動し待機する。(ステップ616)ここまでで、パターン描画に必要な準備がすべて完了したことになる。
【0069】
ここでメインプロセッサ303から描画開始指令が送出されると、描画プロセッサ322が描画処理を開始する。(ステップ617)描画プロセッサ322が、XYステージの待機位置からパターン描画開始位置までの駆動プロファイルを計算して、リスタートプロファイルメモリ452に書き込むと(ステップ618)XYステージ9はこのリスタートプロファイルに従って移動を開始する。XYステージ9が描画開始位置まで到達すると、描画シーケンサ455とリスタートロジックによって描画が開始される。(ステップ619)パターン描画は、描画シーケンサのクロックパターンメモリ459から描画同期クロックの周期でクロックデータが読み出され、ストライプメモリ327をはじめ各プロファイラのアドレスカウンタに供給されて各駆動要素の駆動データが読み出され、それらの駆動データに基づいて各駆動要素が駆動される。このように、クロックパターンメモリ459上のクロックパターンに完全に同期させることで、システム全体の同期をとり正確な描画処理が実現している。また、パターン描画処理中には、次に処理されるべきウエハが搬送系16によって、前室15のメカニカルプリアライメントステーションに受け渡されて、メカニカルプリアライメントを行って、次のプロセスの準備を完了させている。次にウエハ上の全てのパターンの描画が終了すると、(ステップ620)前室15と試料室14の間でウエハ交換が行われる。(ステップ621)前室15内の回収アーム205によってチャック11上からウエハを回収して回収ステーション206に移動すると同時に次ぎのウエハを供給して、新たに供給されたウエハの処理は前述ステップ613からステップ620に従って実行される。一方描画処理の終了したウエハは前室15から搬送系16によって回収される。(ステップ622)この一連の動作を描画するウエハがなくなるまで繰り返し、全てのウエハに対する処理が終了すると(ステップ623)、装置は新たなプロセスの開始待ち(ステップ624)となる。
【0070】
(デバイスの生産方法)
次に上記説明した電子ビーム露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明する。
【0071】
図27は微小デバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ2(露光制御データ作成)では設計した回路パターンに基づいて露光装置の露光制御データを作成する。一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記用意した露光制御データが入力された露光装置とウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
【0072】
図28は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ16(露光)では上記説明した露光装置によって回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ17(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【0073】
本実施形態の製造方法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コストに製造することができる。
【0074】
【発明の効果】
本発明によれば、荷電粒子線で被露光面上にパターンを描画するための複数の制御手段それぞれの駆動タイミングを、各制御手段の整定時間を考慮して容易に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の電子線描画装置を示す図。
【図2】本実施形態における電子線描画装置の全体構成を表す図。
【図3】本実施形態における電子銃の詳細を表す図。
【図4】本実施形態における電子銃の角度特性を表す図。
【図5】本実施形態における照射系の詳細を表す図。
【図6】本実施形態におけるCLAユニットの詳細を表す図。
【図7】ユニポテンシャルレンズの中間電極の一例を表す平面図。
【図8】本実施形態におけるユニポテンシャルレンズの中間電極を表す平面図。
【図9】本実施形態における縮小投影系の詳細を表す図。
【図10】本実施形態におけるパターン描画領域の詳細を表す図。
【図11】本実施形態におけるMOLの磁場配置を表す図。
【図12】本実施形態におけるXYステージとその周辺構成の詳細を表す図。
【図13】本実施形態における前室内の詳細を表す図。
【図14】本実施形態における制御系の詳細を表す図。
【図15】本実施形態におけるストライプメモリの詳細を表す図。
【図16】本実施形態における遅延ロジックの詳細を表す図。
【図17】本実施形態における遅延ロジック内部の詳細を表す図。
【図18】本実施形態におけるCLAプロファイラの詳細を表す図。
【図19】本実施形態における主偏向器プロファイラの詳細を表す図。
【図20】本実施形態における副偏向器プロファイラの詳細を表す図。
【図21】本実施形態におけるフォーカスプロファイラの詳細を表す図。
【図22】本実施形態における非点コイルプロファイラの詳細を表す図。
【図23】本実施形態における非点補正コイルの一例を表す図。
【図24】本実施形態におけるMOLプロファイラの詳細を表す図。
【図25】本実施形態における描画シーケンサの詳細を表す図。
【図26】本実施形態におけるウエハプロセスのフロー図。
【図27】微小デバイスの製造フローを説明する図。
【図28】ウエハプロセスを説明する図。
【符号の説明】
1 電子銃
2 照射系
4 CLAユニット
6 ブランカーアレイ
7 中間像
8 縮小投影系
9 XYステージ
10 レベリングステージ
11 チャック
12 面計測系
13 オフアクシススコープ
14 試料室
15 前室
16 搬送系
18 鏡筒マウント
20 ステージマウント
21 ステージ反力支持体
24 チャンバー
25 制御系
26 電源システム
Claims (5)
- 荷電粒子線を用いて被露光面上にパターンを描画する荷電粒子線露光装置であって、
前記荷電粒子線で前記被露光面上にパターンを描画するための第1および第2の制御手段と、
前記第1および第2の制御手段をそれぞれ駆動するための第1および第2の駆動データを時系列にそれぞれ記憶する第1および第2の記憶手段と、
前記第1および第2の記憶手段にそれぞれ記憶された前記第1および第2の駆動データをそれぞれ読み出すための第1および第2のクロックにそれぞれ対応する第1および第2の論理値を前記第1および第2の制御手段それぞれの整定時間に基づいて時系列に配して共通のアドレスに対応させて記憶し、同期クロックに応じて指示されたアドレスに対応する前記第1および第2の論理値を出力する第3の記憶手段と、
前記第3の記憶手段から出力された前記第1および第2の論理値に基づいて前記第1および第2のクロックを生成する手段と、
を有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 前記第1または第2の制御手段は、前記荷電粒子線を偏向させる偏向器であることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子線露光装置。
- 前記第1または第2の制御手段は、前記荷電粒子線の偏向による像特性の変化を補正する手段であることを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子線露光装置。
- 複数の前記荷電粒子線で前記被露光面上にパターンを描画することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の荷電粒子線露光装置。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の荷電粒子線露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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