TW202329611A - 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法 - Google Patents

前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法 Download PDF

Info

Publication number
TW202329611A
TW202329611A TW112110714A TW112110714A TW202329611A TW 202329611 A TW202329611 A TW 202329611A TW 112110714 A TW112110714 A TW 112110714A TW 112110714 A TW112110714 A TW 112110714A TW 202329611 A TW202329611 A TW 202329611A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
circuit
switch
low noise
signal
integrated circuit
Prior art date
Application number
TW112110714A
Other languages
English (en)
Inventor
喬治 愛德華 巴布科克
羅里 安 戴里歐
戴倫 喬治 弗奈特
喬治 寇瑞
安東尼 詹姆斯 洛彼安可
紅孟 阮
芮妮 羅德里格斯
亞瑟 海拉特 索立曼
萊斯里 保羅 瓦里斯
Original Assignee
美商天工方案公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 美商天工方案公司 filed Critical 美商天工方案公司
Publication of TW202329611A publication Critical patent/TW202329611A/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/26—Modifications of amplifiers to reduce influence of noise generated by amplifying elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B47/00—Circuit arrangements for operating light sources in general, i.e. where the type of light source is not relevant
    • H05B47/10—Controlling the light source
    • H05B47/175—Controlling the light source by remote control
    • H05B47/19—Controlling the light source by remote control via wireless transmission
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04B—TRANSMISSION
    • H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
    • H04B1/38—Transceivers, i.e. devices in which transmitter and receiver form a structural unit and in which at least one part is used for functions of transmitting and receiving
    • H04B1/40—Circuits
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V23/00—Arrangement of electric circuit elements in or on lighting devices
    • F21V23/003—Arrangement of electric circuit elements in or on lighting devices the elements being electronics drivers or controllers for operating the light source, e.g. for a LED array
    • F21V23/004—Arrangement of electric circuit elements in or on lighting devices the elements being electronics drivers or controllers for operating the light source, e.g. for a LED array arranged on a substrate, e.g. a printed circuit board
    • F21V23/006—Arrangement of electric circuit elements in or on lighting devices the elements being electronics drivers or controllers for operating the light source, e.g. for a LED array arranged on a substrate, e.g. a printed circuit board the substrate being distinct from the light source holder
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552—Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64—Impedance arrangements
    • H01L23/66—High-frequency adaptations
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12—Supports; Mounting means
    • H01Q1/22—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/24—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/02—Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation
    • H03F1/0205—Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation in transistor amplifiers
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/08—Modifications of amplifiers to reduce detrimental influences of internal impedances of amplifying elements
    • H03F1/22—Modifications of amplifiers to reduce detrimental influences of internal impedances of amplifying elements by use of cascode coupling, i.e. earthed cathode or emitter stage followed by earthed grid or base stage respectively
    • H03F1/223—Modifications of amplifiers to reduce detrimental influences of internal impedances of amplifying elements by use of cascode coupling, i.e. earthed cathode or emitter stage followed by earthed grid or base stage respectively with MOSFET's
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/32—Modifications of amplifiers to reduce non-linear distortion
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/32—Modifications of amplifiers to reduce non-linear distortion
    • H03F1/3205—Modifications of amplifiers to reduce non-linear distortion in field-effect transistor amplifiers
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/34—Negative-feedback-circuit arrangements with or without positive feedback
    • H03F1/347—Negative-feedback-circuit arrangements with or without positive feedback using transformers
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/56—Modifications of input or output impedances, not otherwise provided for
    • H03F1/565—Modifications of input or output impedances, not otherwise provided for using inductive elements
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/189—High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers
    • H03F3/19—High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only
    • H03F3/195—High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only in integrated circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/20—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
    • H03F3/24—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers of transmitter output stages
    • H03F3/245—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers of transmitter output stages with semiconductor devices only
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04B—TRANSMISSION
    • H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
    • H04B1/02—Transmitters
    • H04B1/04—Circuits
    • H04B1/0475—Circuits with means for limiting noise, interference or distortion
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04B—TRANSMISSION
    • H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
    • H04B1/38—Transceivers, i.e. devices in which transmitter and receiver form a structural unit and in which at least one part is used for functions of transmitting and receiving
    • H04B1/40—Circuits
    • H04B1/44—Transmit/receive switching
    • H04B1/48—Transmit/receive switching in circuits for connecting transmitter and receiver to a common transmission path, e.g. by energy of transmitter
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64—Impedance arrangements
    • H01L2223/66—High-frequency adaptations
    • H01L2223/6644—Packaging aspects of high-frequency amplifiers
    • H01L2223/665—Bias feed arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64—Impedance arrangements
    • H01L2223/66—High-frequency adaptations
    • H01L2223/6644—Packaging aspects of high-frequency amplifiers
    • H01L2223/6655—Matching arrangements, e.g. arrangement of inductive and capacitive components
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64—Impedance arrangements
    • H01L2223/66—High-frequency adaptations
    • H01L2223/6661—High-frequency adaptations for passive devices
    • H01L2223/6677—High-frequency adaptations for passive devices for antenna, e.g. antenna included within housing of semiconductor device
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161—Disposition
    • H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161—Disposition
    • H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321—Disposition
    • H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805—Shape
    • H01L2224/4809—Loop shape
    • H01L2224/48091—Arched
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481—Disposition
    • H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48153—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • H01L2224/48195—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate the item being a discrete passive component
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481—Disposition
    • H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491—Disposition
    • H01L2224/4912—Layout
    • H01L2224/49171—Fan-out arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732—Location after the connecting process
    • H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265—Layer and wire connectors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191—Disposition
    • H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19102—Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device
    • H01L2924/19104—Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device on the semiconductor or solid-state device, i.e. passive-on-chip
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12—Supports; Mounting means
    • H01Q1/22—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/2283—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles mounted in or on the surface of a semiconductor substrate as a chip-type antenna or integrated with other components into an IC package
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/36—Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith
    • H01Q1/38—Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith formed by a conductive layer on an insulating support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q9/00—Electrically-short antennas having dimensions not more than twice the operating wavelength and consisting of conductive active radiating elements
    • H01Q9/04—Resonant antennas
    • H01Q9/30—Resonant antennas with feed to end of elongated active element, e.g. unipole
    • H01Q9/42—Resonant antennas with feed to end of elongated active element, e.g. unipole with folded element, the folded parts being spaced apart a small fraction of the operating wavelength
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F2200/00—Indexing scheme relating to amplifiers
    • H03F2200/222—A circuit being added at the input of an amplifier to adapt the input impedance of the amplifier
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F2200/00—Indexing scheme relating to amplifiers
    • H03F2200/294—Indexing scheme relating to amplifiers the amplifier being a low noise amplifier [LNA]
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F2200/00—Indexing scheme relating to amplifiers
    • H03F2200/451—Indexing scheme relating to amplifiers the amplifier being a radio frequency amplifier
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03F—AMPLIFIERS
    • H03F2200/00—Indexing scheme relating to amplifiers
    • H03F2200/534—Transformer coupled at the input of an amplifier
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04B—TRANSMISSION
    • H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
    • H04B1/02—Transmitters
    • H04B1/04—Circuits
    • H04B2001/0408—Circuits with power amplifiers
    • H04B2001/0433—Circuits with power amplifiers with linearisation using feedback
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04W—WIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
    • H04W84/00—Network topologies
    • H04W84/02—Hierarchically pre-organised networks, e.g. paging networks, cellular networks, WLAN [Wireless Local Area Network] or WLL [Wireless Local Loop]
    • H04W84/10—Small scale networks; Flat hierarchical networks
    • H04W84/12—WLAN [Wireless Local Area Networks]

Abstract

本發明揭示前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法。一種此類前端系統包括在一接收路徑中之一低雜訊放大器及在一傳輸路徑中之一多模式功率放大器電路。該低雜訊放大器包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。該多模式功率放大器電路包括一堆疊輸出級，其包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊。該多模式功率放大器電路亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。揭示前端系統之其他實施例，連同相關裝置、積體電路、模組、方法及其組件。

Description

前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法
本發明之實施例係關於射頻電子系統，諸如，前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法。
射頻電子系統可處理在自約30千赫茲(kHz)至300千兆赫(GHz)之頻率一範圍中的射頻信號，諸如，在自約450兆赫茲(MHz)至6 GHz之一範圍中。前端系統為射頻電子系統之一實例。前端系統可被稱作射頻前端系統。前端系統可處理正經由一或多個天線傳輸及/或接收之信號。舉例而言，一前端系統可包括一或多個開關、一或多個濾波器、一或多個低雜訊放大器、一或多個功率放大器、其他電路系統或在一或多個天線與一收發器之間的一或多個信號路徑中之其任一合適之組合。前端系統可包括一或多個接收路徑及一或多個傳輸路徑。 前端系統可包括在一接收路徑中之一低雜訊放大器(LNA)。LNA可自一天線接收射頻(RF)信號。該LNA可用以提昇相對弱RF信號之振幅。其後，經提昇RF信號可用於多種目的，包括(例如) RF系統中之驅動開關、混頻器及/或濾波器。LNA可包括於多種應用中(諸如，基地台或行動裝置)，以放大相對廣泛範圍之射頻信號中的信號。 前端系統可包括在一傳輸路徑中之一功率放大器。功率放大器可包括於廣泛多種通信裝置中之前端系統中以放大一RF信號供傳輸。可經由一天線傳輸由功率放大器放大之RF信號。具有功率放大器之實例通信裝置包括(但不限於)行動電話、平板電腦、基地台、網路存取點、膝上型電腦、電腦及電視。作為一實例，在使用蜂巢式標準、無線區域網路(WLAN)標準及/或任何其他合適通信標準來通信之行動電話中，功率放大器可用以放大RF信號。 電性過應力(EOS)事件可發生於前端系統中。EOS事件可起因於多種來源，諸如，外部電荷源、供應器開關及/或電磁脈衝。EOS事件包括靜電放電(ESD)事件及與功率及/或電荷之相對較高位準相關聯的其他短暫性電事件。EOS事件可造成積體電路(IC)中之電荷堆積，從而導致高電壓及/或電流位準，IC可可靠地容許超出該等高電壓及/或電流位準。不存在保護機制，EOS事件可導致IC損壞，諸如，閘氧化物破裂、接面擊穿及/或金屬損壞。可以廣泛多種方式評估IC對EOS事件之穩固性。舉例而言，對於EOS遵從性之規範可由各種組織設定，諸如，國際電工委員會(IEC)及/或聯合電子裝置工程委員會(JEDEC)。舉例而言，可使用人體模型(HBM)測試來評估IC關於起因於自人至IC之靜電荷之急劇釋放的ESD事件之效能。IC關於此等規範之效能可為評估該IC所藉之重要效能量度。 前端系統中之一些或所有可體現於封裝半導體模組中。封裝半導體模組可包括封裝內之整合式屏蔽技術。屏蔽結構可圍繞前端系統之一射頻組件而形成。該屏蔽結構可防護射頻組件免受在該屏蔽結構外部之電磁輻射。該屏蔽結構可防護在該屏蔽結構外部之電路元件免受由射頻組件發射的電磁輻射。由於更多組件在射頻模組中彼此整合在一起，因此以緊湊且高效方式將組件彼此屏蔽可具有挑戰性。 系統級封裝(SiP)可包括在一共同封裝內之積體電路及/或離散組件。前端系統中之一些或所有可實施於SiP中。一實例SiP可包括一晶片上系統(SoC)、用於計時目的之一晶體及包括一前端系統之一前端模組(FEM)。在某些SiP中，SoC及晶體可消耗相對大量之物理面積。此可產生SiP之相對大佔據面積。
申請專利範圍中所描述之創新各自具有若干特徵，該等特徵中無單一者僅負責其合乎需要之屬性。在不限制申請專利範圍之範疇的情況下，現將簡要描述本發明之一些突出特徵。 本發明之一個態樣為一種封裝模組，其包括在一封裝內之一低雜訊放大器及在該封裝內之一多模式功率放大器電路。該低雜訊放大器包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。該多模式功率放大器電路包括一堆疊輸出級，其包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊。該多模式功率放大器電路亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。 該封裝模組可進一步包括一封裝基板、在該封裝基板上方延伸且圍封該低雜訊放大器及該多模式功率放大器電路之一射頻屏蔽結構及在該射頻屏蔽結構外部在該封裝基板上之一天線。該天線可為一多層天線。該封裝模組可包括由一封裝基板支撐之一晶粒及由該封裝基板支撐之一晶體，其中該晶體安置於該晶粒與該封裝基板之間，且其中該晶粒包括該低雜訊放大器及該多模式功率放大器。 本發明之另一態樣為一種前端系統，其包括在該前端系統之一接收路徑中的一低雜訊放大器及在該前端系統之一傳輸路徑中的一多模式功率放大器電路。該低雜訊放大器包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。該多模式功率放大器電路包括一堆疊輸出級，其包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊。該多模式功率放大器電路亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。 該偏壓電路可經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可經組態以接收在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準之一供電電壓。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該電晶體堆疊可包括串聯之至少三個電晶體。 該放大電路可經組態以藉由該第一電感器接收一射頻信號。該低雜訊放大器可包括一包括該第一電感器之輸入匹配電路。該輸入匹配電路可進一步包括一串聯電感器，其具有經組態以接收該射頻信號之一第一端部及電耦接至該第一電感器之一第二端部。該匹配電路可包括一直流阻擋電容器，其經組態以將該射頻信號提供至該串聯電感器。該匹配電路可包括電耦接至該串聯電感器之該第一端部的一分路電容器。該第一電感器與該第二電感器可一起充當一變壓器，該變壓器具有與該放大電路之一輸入端串聯之一初級繞組及連接於該放大電路之一電晶體與一低電壓參考之間的一次級繞組。 該放大電路可包括一共源極放大器，且該第二電感器可為一源極退化電感器。該放大電路可包括與該共源極放大器串聯之一串疊電晶體。 該放大電路可包括一共射極放大器，且該第二電感器可為一射極退化電感器。該放大電路可包括與該共射極放大器串聯之一串疊電晶體。 該前端系統可包括耦接至該低雜訊放大器及多模式功率放大器電路之一射頻開關。該射頻開關可經組態以在一第一狀態中將一天線埠電耦接至該傳輸路徑，且在一第二狀態中將該天線埠電耦接至該接收路徑。 一種無線通信裝置可包括該前端系統。單一積體電路可包括該前端系統。該單一積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。該前端系統可體現於一封裝模組中。 本發明之另一態樣為一種前端系統，其包括在該前端系統之一接收路徑中的一低雜訊放大器及在該前端系統之一傳輸路徑中的一功率放大器。該低雜訊放大器包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。該功率放大器包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。 該放大電路可藉由該第一電感器接收一射頻信號。該低雜訊放大器可包括一包括該第一電感器之輸入匹配電路。該輸入匹配電路可進一步包括一串聯電感器，其具有經組態以接收該射頻信號之一第一端部及電耦接至該第一電感器之一第二端部。該輸入匹配電路可進一步包括電耦接至該串聯電感器之該第一端部的一分路電容器。該輸入匹配電路可進一步包括一直流阻擋電容器，其經組態以將該射頻信號提供至該串聯電感器。 該放大電路可包括一共源極放大器，且該第二電感器可為一源極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共源極放大器串聯之一串疊電晶體。 該放大電路可包括一共射極放大器，且該第二電感器可為一射極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共射極放大器串聯之一串疊電晶體。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該注入鎖定式振盪器驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該注入鎖定式振盪器驅動器級可經組態以接收一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，其中該負跨導電路經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器驅動器級可進一步包括一信號注入電路，其經組態以基於一射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。 該前端系統可進一步包括耦接至該低雜訊放大器及該功率放大器之一射頻開關。該射頻開關可經組態以在一第一狀態中將一天線埠電耦接至該傳輸路徑，且在一第二狀態中將該天線埠電耦接至該接收路徑。 一種無線通信裝置可包括該前端系統。單一積體電路可包括該前端系統。該單一積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。該前端系統可體現於一封裝模組中。 本發明之另一態樣為一種前端積體電路，其包括：一低雜訊放大器，其包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器，該低雜訊放大器可由一控制信號控制；一輸入襯墊，其經組態以接收該控制信號；及一過應力保護電路，其包括電連接於該輸入襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該輸入襯墊與一信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位，該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該輸入襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。 該放大電路可藉由該第一電感器接收一射頻信號。該低雜訊放大器可包括一包括該第一電感器之輸入匹配電路。該輸入匹配電路可進一步包括一串聯電感器，其具有經組態以接收該射頻信號之一第一端部及電耦接至該第一電感器之一第二端部。該輸入匹配電路可進一步包括電耦接至該串聯電感器之該第一端部的一分路電容器。該輸入匹配電路可進一步包括一直流阻擋電容器，其經組態以將該射頻信號提供至該串聯電感器。 該放大電路可包括一共源極放大器，且該第二電感器可為一源極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共源極放大器串聯之一串疊電晶體。 該放大電路可包括一共射極放大器，且該第二電感器可為一射極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共射極放大器串聯之一串疊電晶體。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 一無線通信裝置可包括該前端積體電路。一封裝模組可包括該前端積體電路。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：一封裝基板、在該封裝基板上方延伸之一射頻屏蔽結構、定位於該射頻屏蔽結構之一內部中的一前端積體電路及在該射頻屏蔽結構外部在該封裝基板上之一天線。該前端積體電路包括一低雜訊放大器，其包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。 該射頻屏蔽結構可包括安置於該天線與該前端積體電路之間的複數個電線結合。該射頻屏蔽結構可包括安置於該前端積體電路之至少兩側周圍的電線結合壁。該射頻屏蔽結構可包括實質上平行於該封裝基板之一屏蔽層，且該前端積體電路可安置於該屏蔽層與該封裝基板之間。該屏蔽層可包括銅。該封裝模組可進一步包括在該屏蔽層上之一保護層，使得該屏蔽層安置於該保護層與該前端積體電路之間。該保護層可包括鈦。 該天線可為一多層天線。該天線之一第一部分可在該封裝基板之一第一側上，且該天線之一第二部分可在該封裝基板之一第二側上，其中該第二側與該第一側相對。 該放大電路可藉由該第一電感器接收一射頻信號。該低雜訊放大器可包括一包括該第一電感器之輸入匹配電路。該輸入匹配電路可進一步包括一串聯電感器，其具有經組態以接收該射頻信號之一第一端部及電耦接至該第一電感器之一第二端部。該輸入匹配電路可進一步包括電耦接至該串聯電感器之該第一端部的一分路電容器。該輸入匹配電路可進一步包括一直流阻擋電容器，其經組態以將該射頻信號提供至該串聯電感器。 該放大電路可包括一共源極放大器，且該第二電感器可為一源極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共源極放大器串聯之一串疊電晶體。 該放大電路可包括一共射極放大器，且該第二電感器可為一射極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共射極放大器串聯之一串疊電晶體。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該低雜訊放大器可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：包括一接地平面之一多層基板、在該多層基板之一第一側上的一天線及在該多層基板之一第二側上的一前端積體電路。該前端積體電路包括一低雜訊放大器，其包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。該接地平面定位於該天線與該前端積體電路之間。 該放大電路可藉由該第一電感器接收一射頻信號。該低雜訊放大器可包括一包括該第一電感器之輸入匹配電路。該輸入匹配電路可進一步包括一串聯電感器，其具有經組態以接收該射頻信號之一第一端部及電耦接至該第一電感器之一第二端部。該輸入匹配電路可進一步包括電耦接至該串聯電感器之該第一端部的一分路電容器。該輸入匹配電路可進一步包括一直流阻擋電容器，其經組態以將該射頻信號提供至該串聯電感器。 該放大電路可包括一共源極放大器，且該第二電感器可為一源極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共源極放大器串聯之一串疊電晶體。 該放大電路可包括一共射極放大器，且該第二電感器可為一射極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共射極放大器串聯之一串疊電晶體。 該封裝模組可包括安置於該前端積體電路周圍且電連接至該接地平面之傳導性特徵，該傳導性特徵及該接地平面可為可操作的以對該前端積體電路提供屏蔽。該傳導性特徵可包括焊料凸塊。該封裝模組可包括在該前端積體電路周圍之一模製材料，及延伸穿過該模製材料以電連接該接地平面與該等焊料凸塊中之一焊料凸塊的一通孔。該天線可為一摺疊式四分之一波長天線。該天線可為一迴圈天線。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐之一晶體及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第一積體電路安置於該晶體與該封裝基板之間。該第二積體電路包括一低雜訊放大器，其包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。 該放大電路可藉由該第一電感器接收一射頻信號。該低雜訊放大器可包括一包括該第一電感器之輸入匹配電路。該輸入匹配電路可進一步包括一串聯電感器，其具有經組態以接收該射頻信號之一第一端部及電耦接至該第一電感器之一第二端部。該輸入匹配電路可進一步包括電耦接至該串聯電感器之該第一端部的一分路電容器。該輸入匹配電路可進一步包括一直流阻擋電容器，其經組態以將該射頻信號提供至該串聯電感器。 該放大電路可包括一共源極放大器，且該第二電感器可為一源極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共源極放大器串聯之一串疊電晶體。 該放大電路可包括一共射極放大器，且該第二電感器可為一射極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共射極放大器串聯之一串疊電晶體。 該晶體、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐且安置於該第一積體電路與該封裝基板之間的一晶體總成及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第二積體電路包括一低雜訊放大器，其包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。 該放大電路可藉由該第一電感器接收一射頻信號。該低雜訊放大器可包括一包括該第一電感器之輸入匹配電路。該輸入匹配電路可進一步包括一串聯電感器，其具有經組態以接收該射頻信號之一第一端部及電耦接至該第一電感器之一第二端部。該輸入匹配電路可進一步包括電耦接至該串聯電感器之該第一端部的一分路電容器。該輸入匹配電路可進一步包括一直流阻擋電容器，其經組態以將該射頻信號提供至該串聯電感器。 該放大電路可包括一共源極放大器，且該第二電感器可為一源極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共源極放大器串聯之一串疊電晶體。 該放大電路可包括一共射極放大器，且該第二電感器可為一射極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共射極放大器串聯之一串疊電晶體。 該晶體總成可包括一晶體、經組態以接收一第一信號之一輸入端子、經組態以輸出一第二信號之一輸出端子、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體。該傳導柱可至少部分形成於該殼體之一側內，且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面，且該傳導柱可經組態以傳導與該第一及該第二信號截然不同之一第三信號。該晶體總成可包括沿著該殼體之該等側中之一或多者的該等傳導柱中之複數個，其中該等傳導柱中之該複數個中之每一傳導柱自該殼體之該頂表面延伸至該殼體之該底表面。 該晶體總成、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體總成及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可安置於該晶體總成與該第二積體電路之間。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一前端積體電路及由該封裝基板支撐之一堆疊濾波器總成。該前端積體電路包括一低雜訊放大器，其包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。該堆疊濾波器總成經組態以濾波與該前端積體電路相關聯之一信號。 該放大電路可藉由該第一電感器接收一射頻信號。該低雜訊放大器可包括一包括該第一電感器之輸入匹配電路。該輸入匹配電路可進一步包括一串聯電感器，其具有經組態以接收該射頻信號之一第一端部及電耦接至該第一電感器之一第二端部。該輸入匹配電路可進一步包括電耦接至該串聯電感器之該第一端部的一分路電容器。該輸入匹配電路可進一步包括一直流阻擋電容器，其經組態以將該射頻信號提供至該串聯電感器。 該放大電路可包括一共源極放大器，且該第二電感器可為一源極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共源極放大器串聯之一串疊電晶體。 該放大電路可包括一共射極放大器，且該第二電感器可為一射極退化電感器。該放大電路可進一步包括與該共射極放大器串聯之一串疊電晶體。 該堆疊濾波器總成可包括複數個被動組件，每一者經封裝為一表面黏著裝置。至少一個被動組件可與該封裝基板直接連通，且至少另一被動組件可由與該封裝基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該封裝基板上方。該堆疊濾波器總成可包括一π濾波器電路、一帶通濾波器電路、一帶阻濾波器電路或一陷波濾波器電路中之至少一者。 該封裝模組可包括由該封裝基板支撐之一其他積體電路。該堆疊濾波器總成、該前端積體電路及該其他積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該堆疊濾波器總成及該其他電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該前端積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該其他積體電路可安置於該堆疊濾波器總成與該第二積體電路之間。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該前端積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種前端系統，其包括：在該前端系統之一接收路徑中的一低雜訊放大器；一開關，其耦接至該低雜訊放大器；一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供針對該低雜訊放大器之過載保護；及在該前端系統之一傳輸路徑中的一多模式功率放大器電路。該多模式功率放大器電路包括一堆疊輸出級，其包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊。該多模式功率放大器電路包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。 該開關可為一天線側開關。該天線側開關可具有電耦接至該低雜訊放大器之一輸入端的一第一投及電耦接至該多模式功率放大器電路之一輸出端的一第二投。 該偏壓電路可經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可經組態以接收在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準之一供電電壓。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該電晶體堆疊可包括串聯之至少三個電晶體。 該過載保護電路可經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。該過載保護電路可經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。該前端系統可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該過載保護電路可經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該開關。 該開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為一類比控制輸入端之一閘極。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器，其中該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，且其中該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可經組態以基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差來產生該回饋信號。 一種無線通信裝置可包括該前端系統。該前端系統可體現於單一積體電路上。該單一積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。該前端系統可體現於一封裝模組中。 本發明之另一態樣為一種前端系統，其包括：在該前端系統之一接收路徑中的一低雜訊放大器；一開關，其耦接至該低雜訊放大器；一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供針對該低雜訊放大器之過載保護；及在該前端系統之一傳輸路徑中的一功率放大器。該功率放大器包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。 該開關可為一天線側開關。該天線側開關可具有電耦接至該低雜訊放大器之一輸入端的一第一投及電耦接至該多模式功率放大器電路之一輸出端的一第二投。 該過載保護電路可經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。該過載保護電路可經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。該前端系統可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該過載保護電路可經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該開關。 該開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為一類比控制輸入端之一閘極。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器，其中該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，且其中該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可經組態以基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差來產生該回饋信號。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該注入鎖定式振盪器驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該注入鎖定式振盪器驅動器級可經組態以接收一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，其中該負跨導電路經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器驅動器級可進一步包括一信號注入電路，其經組態以基於一射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。 一種無線通信裝置可包括該前端系統。該前端系統可體現於單一積體電路上。該單一積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。該前端系統可體現於一封裝模組中。 本發明之另一態樣為一種前端積體電路，其包括一低雜訊放大器系統、經組態以接收一控制信號之一輸入襯墊及一過應力保護電路。該低雜訊放大器系統包括：一開關；一低雜訊放大器，其包括電耦接至該開關之一輸入端；及一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗。該低雜訊放大器可由該控制信號控制。該過應力保護電路包括電連接於該輸入襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該輸入襯墊與一信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該輸入襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。 該開關可為一天線側開關。 該過載保護電路可經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。該過載保護電路可經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。該前端系統可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該過載保護電路可經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該開關。 該開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為一類比控制輸入端之一閘極。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器，其中該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，且其中該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可經組態以基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差來產生該回饋信號。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 一無線通信裝置可包括該前端積體電路。一系統板可包括該前端積體電路。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：一封裝基板、在該封裝基板上方延伸之一射頻屏蔽結構、定位於該射頻屏蔽結構之一內部中的一前端積體電路及在該射頻屏蔽結構外部在該封裝基板上之一天線。該前端積體電路包括：一開關；一低雜訊放大器，其包括電耦接至該開關之一輸入端；及一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗。 該射頻屏蔽結構可包括安置於該天線與該前端積體電路之間的複數個電線結合。該射頻屏蔽結構可包括安置於該前端積體電路之至少兩側周圍的電線結合壁。該射頻屏蔽結構可包括實質上平行於該封裝基板之一屏蔽層，且該前端積體電路可安置於該屏蔽層與該封裝基板之間。該屏蔽層可包括銅。該封裝模組可進一步包括在該屏蔽層上之一保護層，使得該屏蔽層安置於該保護層與該前端積體電路之間。該保護層可包括鈦。 該天線可為一多層天線。該天線之一第一部分可在該封裝基板之一第一側上，且該天線之一第二部分可在該封裝基板之一第二側上，其中該第二側與該第一側相對。 該開關可為電耦接至該天線之一天線側開關。該天線側開關可經組態以將該低雜訊放大器選擇性電耦接至該天線。 該過載保護電路可經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。該過載保護電路可經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。該前端系統可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該過載保護電路可經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該開關。 該開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為一類比控制輸入端之一閘極。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器，其中該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，且其中該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可經組態以基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差來產生該回饋信號。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：包括一接地平面之一多層基板、在該多層基板之一第一側上的一天線及在該多層基板之一第二側上的一前端積體電路。該前端積體電路包括一開關，及經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗之一過載保護電路。該接地平面定位於該天線與該前端積體電路之間。 該開關可為一天線側開關，且該低雜訊放大器可包括經由該天線側開關電耦接至該天線之一輸入端。 該過載保護電路可經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。該過載保護電路可經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。該前端系統可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該過載保護電路可經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該開關。 該開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為一類比控制輸入端之一閘極。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器，其中該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，且其中該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可經組態以基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差來產生該回饋信號。 該封裝模組可包括安置於該前端積體電路周圍且電連接至該接地平面之傳導性特徵，該傳導性特徵及該接地平面可為可操作的以對該前端積體電路提供屏蔽。該傳導性特徵可包括焊料凸塊。該封裝模組可包括在該前端積體電路周圍之一模製材料，及延伸穿過該模製材料以電連接該接地平面與該等焊料凸塊中之一焊料凸塊的一通孔。該天線可為一摺疊式四分之一波長天線。該天線可為一迴圈天線。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐之一晶體及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第一積體電路安置於該晶體與該封裝基板之間。該第二積體電路包括：一開關；一低雜訊放大器，其電耦接至該開關；及一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供過載保護。 該開關可為一天線側開關，且該低雜訊放大器可包括電耦接至該開關之一輸入端。 該過載保護電路可經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。該過載保護電路可經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。該前端系統可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該過載保護電路可經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該開關。 該開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為一類比控制輸入端之一閘極。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器，其中該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，且其中該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可經組態以基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差來產生該回饋信號。 該晶體、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐且安置於該第一積體電路與該封裝基板之間的一晶體總成及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第二積體電路包括：一開關；一低雜訊放大器，其電耦接至該開關；及一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供過載保護。 該開關可為一天線側開關，且該低雜訊放大器可包括電耦接至該開關之一輸入端。 該過載保護電路可經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。該過載保護電路可經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。該前端系統可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該過載保護電路可經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該開關。 該開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為一類比控制輸入端之一閘極。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器，其中該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，且其中該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可經組態以基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差來產生該回饋信號。 該晶體總成可包括一晶體、經組態以接收一第一信號之一輸入端子、經組態以輸出一第二信號之一輸出端子、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體。該傳導柱可至少部分形成於該殼體之一側內，且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面，且該傳導柱可經組態以傳導與該第一及該第二信號截然不同之一第三信號。該晶體總成可包括沿著該殼體之該等側中之一或多者的該等傳導柱中之複數個，其中該等傳導柱中之該複數個中之每一傳導柱自該殼體之該頂表面延伸至該殼體之該底表面。 該晶體總成、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體總成及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可安置於該晶體總成與該第二積體電路之間。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一前端積體電路及由該封裝基板支撐之一堆疊濾波器總成。該前端積體電路包括：一開關；一低雜訊放大器，其電耦接至該開關；及一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供過載保護。該堆疊濾波器總成經組態以濾波與該前端積體電路相關聯之一信號。 該開關可為一天線側開關，且該低雜訊放大器可包括電耦接至該開關之一輸入端。 該過載保護電路可經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。該過載保護電路可經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。該前端系統可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該過載保護電路可經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該開關。 該開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為一類比控制輸入端之一閘極。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器，其中該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，且其中該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可經組態以基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差來產生該回饋信號。 該堆疊濾波器總成可包括複數個被動組件，每一者經封裝為一表面黏著裝置。至少一個被動組件可與該封裝基板直接連通，且至少另一被動組件可由與該封裝基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該封裝基板上方。該堆疊濾波器總成可包括一π濾波器電路、一帶通濾波器電路、一帶阻濾波器電路或一陷波濾波器電路中之至少一者。 該封裝模組可包括由該封裝基板支撐之一其他積體電路。該堆疊濾波器總成、該前端積體電路及該其他積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該堆疊濾波器總成及該其他電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該前端積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該其他積體電路可安置於該堆疊濾波器總成與該第二積體電路之間。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該前端積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種前端積體電路，其包括一多模式功率放大器電路、經組態以接收一控制信號之一輸入襯墊及一過應力保護電路。該多模式功率放大器電路包括一堆疊輸出級，其包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊。該多模式功率放大器電路亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。該多模式功率放大器電路可由該控制信號控制。該過應力保護電路包括電連接於該輸入襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該輸入襯墊與一信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該輸入襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。 該偏壓電路可經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可經組態以接收在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準之一供電電壓。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該電晶體堆疊可包括串聯之至少三個電晶體。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 一無線通信裝置可包括該前端積體電路。一封裝模組可包括該前端積體電路。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：一封裝基板、在該封裝基板上方延伸之一射頻屏蔽結構、定位於該射頻屏蔽結構之一內部中的一前端積體電路及在該射頻屏蔽結構外部在該封裝基板上之一天線。該前端積體電路包括：一多模式功率放大器電路，其包括一包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊的堆疊輸出級；及一偏壓電路，其基於該多模式功率放大器電路之一模式來控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。 該偏壓電路可經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可經組態以接收在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準之一供電電壓。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該電晶體堆疊可包括串聯之至少三個電晶體。 該射頻屏蔽結構可包括安置於該天線與該前端積體電路之間的複數個電線結合。該射頻屏蔽結構可包括安置於該前端積體電路之至少兩側周圍的電線結合壁。該射頻屏蔽結構可包括實質上平行於該封裝基板之一屏蔽層，且該前端積體電路可安置於該屏蔽層與該封裝基板之間。該屏蔽層可包括銅。該封裝模組可進一步包括在該屏蔽層上之一保護層，使得該屏蔽層安置於該保護層與該前端積體電路之間。該保護層可包括鈦。 該天線可為一多層天線。該天線之一第一部分可在該封裝基板之一第一側上，且該天線之一第二部分可在該封裝基板之一第二側上，其中該第二側與該第一側相對。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：包括一接地平面之一多層基板、在該多層基板之一第一側上的一天線及在該多層基板之一第二側上的一前端積體電路。該前端積體電路包括：一多模式功率放大器電路，其包括一包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊的堆疊輸出級；及一偏壓電路，其基於該多模式功率放大器電路之一模式而經組態以控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。該接地平面定位於該天線與該前端積體電路之間。 該偏壓電路可經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可經組態以接收在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準之一供電電壓。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該電晶體堆疊可包括串聯之至少三個電晶體。 該封裝模組可包括安置於該前端積體電路周圍且電連接至該接地平面之傳導性特徵，該傳導性特徵及該接地平面可為可操作的以對該前端積體電路提供屏蔽。該傳導性特徵可包括焊料凸塊。該封裝模組可包括在該前端積體電路周圍之一模製材料，及延伸穿過該模製材料以電連接該接地平面與該等焊料凸塊中之一焊料凸塊的一通孔。該天線可為一摺疊式四分之一波長天線。該天線可為一迴圈天線。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐之一晶體及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第一積體電路安置於該晶體與該封裝基板之間。該第二積體電路包括：一多模式功率放大器電路，其包括一包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊的堆疊輸出級；及一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式來控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。 該偏壓電路可經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可經組態以接收在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準之一供電電壓。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該電晶體堆疊可包括串聯之至少三個電晶體。 該晶體、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐且安置於該第一積體電路與該封裝基板之間的一晶體總成及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第二積體電路包括：一多模式功率放大器電路，其包括一包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊的堆疊輸出級；及一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式來控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。 該偏壓電路可經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可經組態以接收在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準之一供電電壓。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該電晶體堆疊可包括串聯之至少三個電晶體。 該晶體總成可包括一晶體、經組態以接收一第一信號之一輸入端子、經組態以輸出一第二信號之一輸出端子、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體。該傳導柱可至少部分形成於該殼體之一側內，且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面，且該傳導柱可經組態以傳導與該第一及該第二信號截然不同之一第三信號。該晶體總成可包括沿著該殼體之該等側中之一或多者的該等傳導柱中之複數個，其中該等傳導柱中之該複數個中之每一傳導柱自該殼體之該頂表面延伸至該殼體之該底表面。 該晶體總成、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體總成及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可安置於該晶體總成與該第二積體電路之間。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一前端積體電路及由該封裝基板支撐之一堆疊濾波器總成。該前端積體電路包括：一多模式功率放大器電路，其包括一包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊的堆疊輸出級；及一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式來控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。該堆疊濾波器總成經組態以濾波與該前端積體電路相關聯之一信號。 該偏壓電路可經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可經組態以接收在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準之一供電電壓。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該電晶體堆疊可包括串聯之至少三個電晶體。 該堆疊濾波器總成可包括複數個被動組件，每一者經封裝為一表面黏著裝置。至少一個被動組件可與該封裝基板直接連通，且至少另一被動組件可由與該封裝基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該封裝基板上方。該堆疊濾波器總成可包括一π濾波器電路、一帶通濾波器電路、一帶阻濾波器電路或一陷波濾波器電路中之至少一者。 該封裝模組可包括由該封裝基板支撐之一其他積體電路。該堆疊濾波器總成、該前端積體電路及該其他積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該堆疊濾波器總成及該其他電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該前端積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該其他積體電路可安置於該堆疊濾波器總成與該第二積體電路之間。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該前端積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種前端積體電路，其包括：一功率放大器，其包括一注入鎖定式振盪器驅動器級；一輸入襯墊，其經組態以接收一控制信號；及一過應力保護電路。該功率放大器可由該控制信號控制。該過應力保護電路包括電連接於該輸入襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該輸入襯墊與一信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該輸入襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該注入鎖定式振盪器驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該注入鎖定式振盪器驅動器級可經組態以接收一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，其中該負跨導電路經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器驅動器級可進一步包括一信號注入電路，其經組態以基於一射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 一無線通信裝置可包括該前端積體電路。一系統板可包括該前端積體電路。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：一封裝基板、在該封裝基板上方延伸之一射頻屏蔽結構、定位於該射頻屏蔽結構之一內部中的一前端積體電路及在該射頻屏蔽結構外部在該封裝基板上之一天線。該前端積體電路包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該注入鎖定式振盪器驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該注入鎖定式振盪器驅動器級可經組態以接收一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，其中該負跨導電路經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器驅動器級可進一步包括一信號注入電路，其經組態以基於一射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。 該射頻屏蔽結構可包括安置於該天線與該前端積體電路之間的複數個電線結合。該射頻屏蔽結構可包括安置於該前端積體電路之至少兩側周圍的電線結合壁。該射頻屏蔽結構可包括實質上平行於該封裝基板之一屏蔽層，且該前端積體電路可安置於該屏蔽層與該封裝基板之間。該屏蔽層可包括銅。該封裝模組可進一步包括在該屏蔽層上之一保護層，使得該屏蔽層安置於該保護層與該前端積體電路之間。該保護層可包括鈦。 該天線可為一多層天線。該天線之一第一部分可在該封裝基板之一第一側上，且該天線之一第二部分可在該封裝基板之一第二側上，其中該第二側與該第一側相對。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：包括一接地平面之一多層基板、在該多層基板之一第一側上的一天線及在該多層基板之一第二側上的一前端積體電路。該前端積體電路包括一注入鎖定式振盪器驅動器級，該接地平面定位於該天線與該前端積體電路之間。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該注入鎖定式振盪器驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該注入鎖定式振盪器驅動器級可經組態以接收一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，其中該負跨導電路經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器驅動器級可進一步包括一信號注入電路，其經組態以基於一射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。 該封裝模組可包括安置於該前端積體電路周圍且電連接至該接地平面之傳導性特徵，該傳導性特徵及該接地平面可為可操作的以對該前端積體電路提供屏蔽。該傳導性特徵可包括焊料凸塊。該封裝模組可包括在該前端積體電路周圍之一模製材料，及延伸穿過該模製材料以電連接該接地平面與該等焊料凸塊中之一焊料凸塊的一通孔。該天線可為一摺疊式四分之一波長天線。該天線可為一迴圈天線。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐之一晶體及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第一積體電路安置於該晶體與該封裝基板之間。該第二積體電路包括一功率放大器，其包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該注入鎖定式振盪器驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該注入鎖定式振盪器驅動器級可經組態以接收一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，其中該負跨導電路經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器驅動器級可進一步包括一信號注入電路，其經組態以基於一射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。 該晶體、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐且安置於該第一積體電路與該封裝基板之間的一晶體總成及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第二積體電路包括一功率放大器，其包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該注入鎖定式振盪器驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該注入鎖定式振盪器驅動器級可經組態以接收一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，其中該負跨導電路經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器驅動器級可進一步包括一信號注入電路，其經組態以基於一射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。 該晶體總成可包括一晶體、經組態以接收一第一信號之一輸入端子、經組態以輸出一第二信號之一輸出端子、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體。該傳導柱可至少部分形成於該殼體之一側內，且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面，且該傳導柱可經組態以傳導與該第一及該第二信號截然不同之一第三信號。該晶體總成可包括沿著該殼體之該等側中之一或多者的該等傳導柱中之複數個，其中該等傳導柱中之該複數個中之每一傳導柱自該殼體之該頂表面延伸至該殼體之該底表面。 該晶體總成、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體總成及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可安置於該晶體總成與該第二積體電路之間。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一前端積體電路及由該封裝基板支撐之一堆疊濾波器總成。該前端積體電路包括一功率放大器，其包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。該堆疊濾波器總成經組態以濾波與該前端積體電路相關聯之一信號。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該注入鎖定式振盪器驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該注入鎖定式振盪器驅動器級可經組態以接收一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器驅動器級可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，其中該負跨導電路經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器驅動器級可進一步包括一信號注入電路，其經組態以基於一射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。 該堆疊濾波器總成可包括複數個被動組件，每一者經封裝為一表面黏著裝置。至少一個被動組件可與該封裝基板直接連通，且至少另一被動組件可由與該封裝基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該封裝基板上方。該堆疊濾波器總成可包括一π濾波器電路、一帶通濾波器電路、一帶阻濾波器電路或一陷波濾波器電路中之至少一者。 該封裝模組可包括由該封裝基板支撐之一其他積體電路。該堆疊濾波器總成、該前端積體電路及該其他積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該堆疊濾波器總成及該其他電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該前端積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該其他積體電路可安置於該堆疊濾波器總成與該第二積體電路之間。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該前端積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：一封裝基板、在該封裝基板上方延伸之一射頻屏蔽結構、定位於該射頻屏蔽結構之一內部中的一前端積體電路及在該射頻屏蔽結構外部在該封裝基板上之一天線。該前端積體電路包括一襯墊、一過應力保護電路及電連接至一信號節點之一內部電路。該過應力保護電路包括電連接於該襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與該信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 該射頻屏蔽結構可包括安置於該天線與該前端積體電路之間的複數個電線結合。該射頻屏蔽結構可包括安置於該前端積體電路之至少兩側周圍的電線結合壁。該射頻屏蔽結構可包括實質上平行於該封裝基板之一屏蔽層，且該前端積體電路可安置於該屏蔽層與該封裝基板之間。該屏蔽層可包括銅。該封裝模組可進一步包括在該屏蔽層上之一保護層，使得該屏蔽層安置於該保護層與該前端積體電路之間。該保護層可包括鈦。 該天線可為一多層天線。該天線之一第一部分可在該封裝基板之一第一側上，且該天線之一第二部分可在該封裝基板之一第二側上，其中該第二側與該第一側相對。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括：包括一接地平面之一多層基板、在該多層基板之一第一側上的一天線及在該多層基板之一第二側上的一前端積體電路。該前端積體電路包括一襯墊、一過應力保護電路及電連接至一信號節點之一內部電路。該過應力保護電路包括電連接於該襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與該信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。該接地平面定位於該天線與該前端積體電路之間。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 該封裝模組可包括安置於該前端積體電路周圍且電連接至該接地平面之傳導性特徵，該傳導性特徵及該接地平面可為可操作的以對該前端積體電路提供屏蔽。該傳導性特徵可包括焊料凸塊。該封裝模組可包括在該前端積體電路周圍之一模製材料，及延伸穿過該模製材料以電連接該接地平面與該等焊料凸塊中之一焊料凸塊的一通孔。該天線可為一摺疊式四分之一波長天線。該天線可為一迴圈天線。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該前端積體電路可體現於一絕緣體上半導體晶粒上。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐之一晶體及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第一積體電路安置於該晶體與該封裝基板之間。該第二積體電路包括一襯墊、一過應力保護電路及電連接至一信號節點之一內部電路。該過應力保護電路包括電連接於該襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與該信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 該晶體、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一第一積體電路、由該封裝基板支撐且安置於該第一積體電路與該封裝基板之間的一晶體總成及由該封裝基板支撐之一第二積體電路。該第二積體電路包括一襯墊、一過應力保護電路及電連接至一信號節點之一內部電路。該過應力保護電路包括電連接於該襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與該信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 該晶體總成可包括一晶體、經組態以接收一第一信號之一輸入端子、經組態以輸出一第二信號之一輸出端子、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體。該傳導柱可至少部分形成於該殼體之一側內，且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面，且該傳導柱可經組態以傳導與該第一及該第二信號截然不同之一第三信號。該晶體總成可包括沿著該殼體之該等側中之一或多者的該等傳導柱中之複數個，其中該等傳導柱中之該複數個中之每一傳導柱自該殼體之該頂表面延伸至該殼體之該底表面。 該晶體總成、該第一積體電路及該第二積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該晶體總成及該第一積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該第二積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該第一積體電路可安置於該晶體總成與該第二積體電路之間。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該第一積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該第二積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種封裝模組，其包括一封裝基板、由該封裝基板支撐之一前端積體電路及由該封裝基板支撐之一堆疊濾波器總成。該前端積體電路包括一襯墊、一過應力保護電路及電連接至一信號節點之一內部電路。該過應力保護電路包括電連接於該襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與該信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。該堆疊濾波器總成經組態以濾波與該前端積體電路相關聯之一信號。 該過應力感測電路可包括複數個二極體及一第一場效電晶體，該第一場效電晶體經組態以回應於該電性過應力事件產生經由該複數個二極體之一電流流動而啟動。該可控制箝位可包括與該第一場效電晶體電連接作為一電流鏡之一第二場效電晶體。該阻抗元件可包括一電阻器。該過應力保護電路可進一步包括電連接於該信號節點與一第二供應節點之間的一過衝限制電路。該過應力保護電路可包括經組態以控制該過衝限制電路之一觸發電壓之至少一個二極體。該第一供應節點可為一接地軌，且該第二供應節點可為一電源軌。 該堆疊濾波器總成可包括複數個被動組件，每一者經封裝為一表面黏著裝置。至少一個被動組件可與該封裝基板直接連通，且至少另一被動組件可由與該封裝基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該封裝基板上方。該堆疊濾波器總成可包括一π濾波器電路、一帶通濾波器電路、一帶阻濾波器電路或一陷波濾波器電路中之至少一者。 該封裝模組可包括由該封裝基板支撐之一其他積體電路。該堆疊濾波器總成、該前端積體電路及該其他積體電路可安置於該封裝基板之一第一側上。該堆疊濾波器總成及該其他電路可安置於該封裝基板之一第一側上，且該前端積體電路可安置於該封裝基板之與該第一側相對的一第二側上。該其他積體電路可安置於該堆疊濾波器總成與該第二積體電路之間。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。 一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板可包括該封裝模組。該其他積體電路可包括一微處理器，及射頻傳輸器電路系統或射頻接收器電路系統中之至少一者。該前端積體電路可為一絕緣體上半導體晶粒。 本發明之另一態樣為一種低雜訊放大器系統，其包括一低雜訊放大器、一開關及一過載保護電路。該低雜訊放大器包括：一第一電感器；一放大電路，其經組態以放大一射頻信號；及一第二電感器，其磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器。該開關耦接至該放大電路。該過載保護電路經組態以基於與該射頻信號相關聯之一信號位準調整該開關之一阻抗，以提供對於該低雜訊放大器之過載保護。 該開關可為一輸入開關，其經組態以將該射頻信號提供至該放大電路供放大。該過載保護電路可將一回饋信號提供至該輸入開關之一類比控制輸入端以調整該輸入開關之該阻抗。該過載保護電路可回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該輸入開關之該阻抗。該低雜訊放大器系統亦可包括耦接於該過載保護電路之一輸出端與該輸入開關之該類比控制輸入端之間的限制器啟用電路，其中該過載保護電路經組態以藉由該限制器啟用電路將該回饋信號提供至該類比控制輸入端。該限制器啟用電路可接收一開關啟用信號，及斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷該輸入開關。該輸入開關可包括一場效電晶體，其具有經組態為該類比控制輸入端之一閘極。 該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。替代地，該信號位準可為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該過載保護電路可包括一偵測器及一誤差放大器。該偵測器可基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號。該誤差放大器可基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號。該偵測器可包括一雙極電晶體，其經組態以回應於該低雜訊放大器之一過載狀況而飽和。該偵測器可包括一電容器，其經組態以濾波流過該雙極電晶體之一電流，且該偵測器可基於跨該電容器之一電壓而產生該偵測信號。該偵測信號可包括一偵測電流。該誤差放大器可基於放大該偵測電流與一參考電流之間的一差而產生該回饋信號。 該開關可藉由包括該第一電感器之一匹配電路將該射頻信號提供至該放大電路。該匹配電路可包括一直流阻擋電容器及串聯於該直流阻擋電容器與該第一電感器之間的一串聯電感器。該直流阻擋電容器、該串聯電感器及該第一電感器可串聯地配置於該開關與該放大電路之一控制端子之間。 該第一電感器與該第二電感器可一起充當一變壓器，該變壓器具有與該放大電路之一輸入端串聯之一初級繞組及連接於該放大電路之一電晶體與一低電壓參考之間的一次級繞組。該第二電感器可經組態為一退化電感器。該開關可與該第二電感器串聯。舉例而言，該第二電感器可串聯地配置於該開關與該放大電路之間。 該放大電路可包括具有一源極之一場效電晶體，且該第二電感器可經組態為一源極退化電感器。該第一電感器與該第二電感器可一起充當一變壓器，該變壓器具有與該場效電晶體之一閘極串聯的一初級繞組及連接於該場效電晶體之該源極處的一次級繞組。 該放大電路可包括具有一射極之一雙極電晶體，且該第二電感器可經組態為一射極退化電感器。該第一電感器與該第二電感器可一起充當一變壓器，該變壓器具有與該雙極電晶體之一基極串聯的一初級繞組及連接於該雙極電晶體之該射極處的一次級繞組。 該低雜訊放大器系統可包括串聯地配置於該開關與該第一電感器之間的一串聯電感器。該低雜訊放大器系統可包括電連接於該開關與該串聯電感器之間的一直流阻擋電容器。該低雜訊放大器系統可包括電連接至在該開關與該串聯電感器之間的一節點之一分路電容器。 本發明之另一態樣為一種前端系統，其包括一低雜訊放大器、一輸入開關及一過載保護電路。該低雜訊放大器包括：一第一電感器；一放大電路，其經組態以藉由該第一電感器接收一射頻信號且放大該射頻信號；及一第二電感器，其磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器。該輸入開關具有經配置以控制該輸入開關之一阻抗的一控制輸入端。該輸入開關包括耦接至該第一電感器之一第一投。該過載保護電路經組態以基於與該低雜訊放大器相關聯之一信號位準將一回饋信號提供至該輸入開關之該控制輸入端。 該前端系統可包括一旁通路徑。該輸入開關可包括電連接至該旁通路徑之一第二投。該前端系統可進一步包括一功率放大器。該輸入開關可進一步包括電連接至該功率放大器之一第三投。該低雜訊放大器、該旁通路徑、該多投開關及該功率放大器可體現於單一晶粒上。 該前端系統可包括一輸出開關，其具有電連接至該低雜訊放大器之一輸出端的至少一第一投。 該輸入開關可在一第一狀態中將該低雜訊放大器之一輸入端電連接至一天線。 該低雜訊放大器、該輸入開關及該過載保護電路可體現於單一晶粒上。 該前端系統可包括圍封該低雜訊放大器、該輸入開關及該過載保護電路之一封裝。 在該前端系統中，該控制輸入端可為一類比輸入端。 該前端系統可包括本文中所論述的該等低雜訊放大器系統中之任一者之一或多個合適特徵。 本發明之另一態樣為一種無線通信裝置，其包括一前端系統及與該前端系統通信之一天線。該前端系統包括一低雜訊放大器、一輸入開關及一過載保護電路。該低雜訊放大器包括：一第一電感器；一放大電路，其經組態以藉由該第一電感器接收一射頻信號且放大該射頻信號；及一第二電感器，其磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器。該輸入開關具有經配置以控制該輸入開關之一阻抗的一控制輸入端。該輸入開關包括耦接至該第一電感器之一第一投。該過載保護電路經組態以基於與該低雜訊放大器相關聯之一信號位準將一回饋信號提供至該輸入開關之該控制輸入端。 該前端系統可經組態以處理藍芽信號。該前端系統可經組態以處理ZigBee信號。該前端系統可經組態以處理Wi-Fi信號。 該前端系統可包括本文中所論述的該等前端系統中之任一者之一或多個合適特徵。 該無線通信裝置可為一行動電話。該無線通信裝置可經組態以用於經由一個人區域網路之無線通信。 本發明之另一態樣為一種在一低雜訊放大器系統中提供過載保護之方法。該方法包括使用該低雜訊放大器放大一射頻信號，該低雜訊放大器包括相互磁耦合以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之第一電感器及第二電感器；偵測與該低雜訊放大器相關聯之一信號位準指示一過載狀況；及回應於該偵測而增大耦接至該低雜訊放大器之一放大電路的一開關之一阻抗以藉此提供過載保護。 偵測該信號位準可包括偵測該低雜訊放大器之一輸出信號位準。替代地，偵測該信號位準可包括偵測該低雜訊放大器之一輸入信號位準。 該開關可為經組態以將該射頻信號提供至該低雜訊放大器之一輸入開關。該方法可包括將一過載保護電路之一輸出端選擇性連接至該輸入開關之一類比控制輸入端。該方法亦可包括回應於一開關啟用信號經停用而斷開連接該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端。 該方法可包括基於使用該過載保護電路之一誤差放大器偵測到與該低雜訊放大器相關聯之該信號位準，產生一回饋信號，其中增大該開關之該阻抗係回應於該回饋信號。偵測可包括產生一偵測電流。產生該回饋信號可包括放大該偵測電流與一參考電流之間的一差。 偵測該信號位準可包括回應於該過載狀況使一雙極電晶體飽和。偵測該信號位準亦可包括使用一電容器濾波流過該雙極電晶體之一電流，及基於跨該電容器之一電壓控制該偵測到之信號位準。 該開關可包括一場效電晶體。增大該開關之該阻抗可包括將一類比信號提供至該場效電晶體之一閘極。 該第二電感器可為一源極退化電感器。替代地，該第二電感器可為一射極退化電感器。該開關可與該第二電感器串聯地配置。 該開關可為經組態以將該射頻信號提供至該低雜訊放大器之一輸入開關。一串聯電感器可串聯地配置於該輸入開關與該第一電感器之間。該方法可包括使用電連接於該輸入開關與該串聯電感器之間的一阻擋電容器阻擋與該射頻信號相關聯之一直流信號分量。一分路電容器可電連接至該輸入開關與該串聯電感器之間的一節點。 本發明之另一態樣為一種射頻放大器，其包括：一輸入端子，其經組態以接收一射頻輸入信號；一輸出端子，其經組態以提供一射頻輸出信號；一驅動器級，其包括經組態以放大該射頻輸入信號以產生一經放大射頻信號之一注入鎖定式振盪器；及一堆疊輸出級，其經組態以進一步放大該經放大射頻以產生該輸出射頻信號。該堆疊輸出級包括相互串聯的至少一第一電晶體與一第二電晶體之一電晶體堆疊。 該堆疊輸出級可為可在至少一第一模式及一第二模式中操作。該射頻放大器可包括一偏壓電路，其經組態以在該第一模式中使該第二電晶體偏壓至一線性操作區，及在該第二模式中使該第二電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該第二電晶體偏壓。該偏壓電路可經組態以基於一模式控制信號而動態地產生用於該第一電晶體及用於該第二電晶體之偏壓。該第二電晶體可為一場效電晶體，且該偏壓電路可經組態以使該第二電晶體偏壓，使得該第二電晶體在該第二模式中具有小於75 mV之一汲極至源極電壓。該第二電晶體可為一場效電晶體，且該偏壓電路可經組態以使該第二電晶體偏壓，使得該第二電晶體在該第二模式中具有小於100 mV之一汲極至源極電壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該堆疊輸出級可經組態以接收一供電電壓，其中該供電電壓在該第二模式中具有相對於該第一模式低之一電壓位準。該射頻放大器可包括一開關，其經組態以在該第一模式中將該放大之射頻信號提供至該第二電晶體，及在該第二模式中將該放大之射頻信號提供至該第一電晶體。 該堆疊輸出級可包括與該第一及該第二電晶體串聯之一第三電晶體。該第二電晶體可串聯地配置於該第一電晶體與該第三電晶體之間。該第一電晶體、該第二電晶體及該第三電晶體可為絕緣體上矽電晶體。該第二電晶體可為具有電連接至該第一電晶體之一源極及電連接至該第三電晶體之一汲極的一場效電晶體。該第一電晶體可為一共源極電晶體，該第二電晶體可為一共閘極電晶體，且該第三電晶體可為一共閘極電晶體。該第一電晶體可為一共射極電晶體，該第二電晶體可為一共基極電晶體，且該第三電晶體可為一共基極電晶體。該電晶體堆疊可包括相互串聯之至少四個電晶體。 該第一電晶體及該第二電晶體可為絕緣體上半導體電晶體。該第一電晶體可為一共源極電晶體，且該第二電晶體可為一共閘極電晶體。該第一電晶體可為一共射極電晶體，且該第二電晶體可為一共基極電晶體。 該驅動器級可為一功率放大器輸入級，且該堆疊輸出級可為一功率放大器輸出級。 該射頻放大器可包括電連接至該輸出端子之一輸出匹配網路。該輸出匹配網路可為一F級輸出匹配網路。該輸出匹配網路可為一AB級輸出匹配網路。 該堆疊輸出級可具有隨該射頻放大器之一模式而改變之一可調整供電電壓。 該射頻放大器可包括一級間匹配網路，其提供該驅動器級之一輸出端與至該堆疊輸出級之一輸入端之間的級間匹配。 該注入鎖定式振盪器可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該射頻輸入信號可為一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該堆疊輸出級可具有隨該射頻放大器之一模式而改變之一可調整供電電壓。 該射頻輸入信號可為具有一實質上恆定信號包絡之一經調變信號。 該注入鎖定式振盪器可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，且該負跨導電路可經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器可進一步包括一偏壓金屬氧化物半導體電晶體，其具有控制該負跨導電路之一偏壓電流的一閘極偏壓電壓。該注入鎖定式振盪器可包括一信號注入電路，其經組態以基於該射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。該注入鎖定式振盪器可包括一輸出變壓器，其經組態以在該驅動器級之該輸出端產生一放大之射頻信號。該電感器-電容器槽可包括與該輸出變壓器之一電感相關聯的一電感器及與該負跨導電路之一寄生電容相關聯的一電容器。 本發明之另一態樣為一種射頻信號放大之方法。該方法包括接收一射頻輸入信號，作為至一射頻放大器之一輸入，該射頻放大器包括一驅動器級及一堆疊輸出級；使用該驅動器級之一注入鎖定式振盪器放大該射頻輸入信號以產生一放大之射頻信號；及使用該輸出級之一電晶體堆疊進一步放大該放大之射頻信號，該電晶體堆疊包括相互串聯之至少一第一電晶體及一第二電晶體。 該方法可進一步包括在選自至少一第一模式及一第二模式之一選定模式中操作該堆疊輸出級。該方法可進一步包括在該第一模式中使該第二電晶體偏壓至一線性操作區，及在該第二模式中使該第二電晶體偏壓作為一開關。該方法可進一步包括在該第二模式中在一飽和操作區中使該第二電晶體偏壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。 該方法可進一步包括在該第二模式中給該堆疊輸出級提供具有相對於該第一模式低之一電壓位準的一可調整供電電壓。該方法可包括使用一輸出匹配網路提供在該射頻放大器之一輸出端處的輸出匹配。該方法可包括使用一級間匹配網路提供該驅動器級之一輸出端與至該堆疊輸出級之一輸入端之間的級間匹配。 該方法可包括在該注入鎖定式振盪器之一輸出端處提供一差分至單端信號轉換。該方法可包括使用一實質上固定供電電壓對該驅動器級供電。該方法可包括基於該射頻放大器之一模式來改變該堆疊輸出級之一可調整供電電壓。接收該射頻輸入信號可包括接收具有一實質上恆定信號包絡之一經調變信號。該方法可包括使用一輸入變壓器在該注入鎖定式振盪器之一輸入端處提供一單端至差分信號轉換。該方法可包括使用一負跨導電路維持該注入鎖定式振盪器之一電感器-電容器槽之振盪器。該方法可包括藉由控制一偏壓金屬氧化物半導體電晶體之一閘極偏壓來控制該負跨導電路之一偏壓電流。該方法可包括使用一信號注入電路將該射頻輸入信號注入至該電感器-電容器槽內。 本發明之另一態樣為一種前端系統，其包括一低雜訊放大器、包括一驅動器級及一堆疊輸出級之一功率放大器及電連接至該低雜訊放大器及該功率放大器之一開關。該驅動器級包括一注入鎖定式振盪器，其經組態以放大一射頻輸入信號以產生一放大之射頻信號。該堆疊輸出級經組態以進一步放大該放大之射頻以產生一輸出射頻信號。該堆疊輸出級包括相互串聯的至少一第一電晶體與一第二電晶體之一電晶體堆疊。 該前端系統可實施於一多晶片模組上。該前端系統可實施於一積體電路上。該低雜訊放大器及該功率放大器可體現於單一晶粒上。該晶粒可為一絕緣體上半導體晶粒。該前端系統可包括圍封該功率放大器、該低雜訊放大器及該開關之一封裝。 該開關可為至少具有電耦接至該功率放大器之一第一投及電耦接至該低雜訊放大器之一第二投的一第一多投開關。該第一多投開關可進一步包括一第三投。該前端系統可包括電耦接至該第三投之一旁通路徑。該前端系統可進一步包括一第二多投開關，其至少具有電連接至該功率放大器之一第一投及電連接至該低雜訊放大器之一第二投。該第一多投開關可經組態以在一第一狀態中將該功率放大器之一輸出端電連接至一天線，且該第一多投開關可經組態以在一第二狀態中將該低雜訊放大器電連接至該天線。該第一多投開關可具有至少兩個極。 該前端系統可包括電耦接至該開關之一天線。 該前端系統可包括經組態以產生用於該堆疊輸出級之一供電電壓的一供應控制電路。該供應控制電路可包括一DC至DC轉換器。 該堆疊輸出級可為可在至少一第一模式及一第二模式中操作。該前端系統可包括一偏壓電路，其經組態以在該第一模式中使該第二電晶體偏壓至一線性操作區，及在該第二模式中使該第二電晶體偏壓作為一開關。該偏壓電路可經組態以在該第二模式中在一飽和操作區中使該第二電晶體偏壓。該偏壓電路可經組態以基於一模式控制信號而動態地產生用於該第一電晶體及用於該第二電晶體之偏壓。該第二電晶體可為一場效電晶體，且該偏壓電路可經組態以使該第二電晶體偏壓，使得該第二電晶體在該第二模式中具有小於75 mV之一汲極至源極電壓。該第二電晶體可為一場效電晶體，且該偏壓電路可經組態以使該第二電晶體偏壓，使得該第二電晶體在該第二模式中具有小於100 mV之一汲極至源極電壓。該第二模式可與比該第一模式低的一功率相關聯。該堆疊輸出級可為可在至少三個不同模式中操作。該堆疊輸出級可經組態以接收一供電電壓，其中該供電電壓在該第二模式中具有相對於該第一模式低之一電壓位準。該前端系統可包括一開關，其經組態以在該第一模式中將該放大之射頻信號提供至該第二電晶體，及在該第二模式中將該放大之射頻信號提供至該第一電晶體。 該堆疊輸出級可包括與該第一及該第二電晶體串聯之一第三電晶體。該第二電晶體可串聯地配置於該第一電晶體與該第三電晶體之間。該第一電晶體、該第二電晶體及該第三電晶體可為絕緣體上矽電晶體。該第二電晶體可為具有電連接至該第一電晶體之一源極及電連接至該第三電晶體之一汲極的一場效電晶體。該第一電晶體可為一共源極電晶體，該第二電晶體可為一共閘極電晶體，且該第三電晶體可為一共閘極電晶體。該第一電晶體可為一共射極電晶體，該第二電晶體可為一共基極電晶體，且該第三電晶體可為一共基極電晶體。該電晶體堆疊可包括相互串聯之至少四個電晶體。 該第一電晶體及該第二電晶體可為絕緣體上半導體電晶體。該第一電晶體可為一共源極電晶體，且該第二電晶體可為一共閘極電晶體。該第一電晶體可為一共射極電晶體，且該第二電晶體可為一共基極電晶體。 該堆疊輸出級可具有隨該前端系統之一模式而改變之一可調整供電電壓。 該前端系統可包括一級間匹配網路，其提供該驅動器級之一輸出端與至該堆疊輸出級之一輸入端之間的阻抗匹配。 該注入鎖定式振盪器可包括一輸出平衡-不平衡轉換器，其經組態以提供一差分至單端信號轉換。該射頻輸入信號可為一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該驅動器級可由一實質上固定供電電壓供電。該堆疊輸出級可具有隨該前端系統之一模式而改變之一可調整供電電壓。 該射頻輸入信號可為具有一實質上恆定信號包絡之一經調變信號。 該前端系統可包括電連接至該堆疊輸出級之一輸出端的一輸出匹配網路。 該射頻輸入信號可為一單端輸入信號，且該注入鎖定式振盪器可包括經組態以將該單端輸入信號轉換成一差分輸入信號之一輸入變壓器。 該注入鎖定式振盪器可包括電連接至一電感器-電容器槽之一負跨導電路，且該負跨導電路可經組態以將能量提供至該電感器-電容器槽以維持振盪。該負跨導電路可包括一對交叉耦接之金屬氧化物半導體電晶體。該注入鎖定式振盪器可進一步包括一偏壓金屬氧化物半導體電晶體，其具有控制該負跨導電路之一偏壓電流的一閘極偏壓電壓。該注入鎖定式振盪器可包括一信號注入電路，其經組態以基於該射頻輸入信號提供至該電感器-電容器槽之信號注入。該注入鎖定式振盪器可包括一輸出變壓器，其經組態以在該驅動器級之該輸出端產生一放大之射頻信號。該電感器-電容器槽可包括與該輸出變壓器之一電感相關聯的一電感器及與該負跨導電路之一寄生電容相關聯的一電容器。 本發明之另一態樣為一種無線通信裝置，其包括：一功率放大器，其包括一驅動器級及一堆疊輸出級；一傳輸器，其經組態以將一射頻輸入信號提供至該功率放大器；一開關；及一天線，其經由該開關電連接至該堆疊輸出級之一輸出端。該驅動器級包括一注入鎖定式振盪器，其經組態以放大一射頻輸入信號以產生一放大之射頻信號。該堆疊輸出級經組態以進一步放大該放大之射頻以產生一輸出射頻信號。該堆疊輸出級包括相互串聯的至少一第一電晶體與一第二電晶體之一電晶體堆疊。 該無線通信裝置可包括經組態以產生第二供電電壓之一供應控制電路。該供應控制電路可經組態以自該傳輸器接收一模式控制信號。 一無線個人區域網路系統可包括該功率放大器及該傳輸器，且該射頻輸入信號為一無線個人區域網路信號。一無線區域網路系統可包括該功率放大器及該傳輸器，且該射頻輸入信號可為一無線區域網路信號。該功率放大器可包括本文中所論述的該等功率放大器之一或多個特徵。 本發明之另一態樣為用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一晶粒，其由一基板支撐且包括至少一微處理器及射頻傳輸器電路系統及射頻接收器電路系統中之一或多者；一晶體，其由該基板支撐；及一第二晶粒，其由該基板支撐且實施包括一射頻功率放大器之一射頻前端之至少一部分。該第一晶粒安置於該晶體與該基板之間。該基板安置於該第一晶粒與該第二晶粒之間。 該封裝模組可包括圍封該第一晶粒及該晶體之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為封裝射頻模組，其包括：一射頻屏蔽結構，其在一封裝基板上方延伸；一第一晶粒，其由該封裝基板支撐且在該射頻屏蔽結構之一內部中；一天線，其在該射頻屏蔽結構外部由該封裝基板支撐；及一晶體，其由該封裝基板支撐。該第一晶粒安置於該晶體與該封裝基板之間。該第一晶粒包括一射頻組件。 該封裝射頻模組可包括圍封該第一晶粒、該晶體及該天線之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種封裝射頻模組，其包括：一射頻屏蔽結構，其在一封裝基板上方延伸；一第一晶粒，其由該封裝基板支撐且在該射頻屏蔽結構之一內部中；一天線，其在該射頻屏蔽結構外部由該封裝基板支撐；及一晶體，其由該封裝基板支撐。該晶體安置於該第一晶粒與該封裝基板之間。該第一晶粒包括一射頻組件。 該封裝射頻模組可包括圍封該第一晶粒、該晶體及該天線之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝射頻模組。該封裝射頻模組包括：一射頻屏蔽結構，其在一封裝基板上方延伸；一第一積體電路晶粒，其由該封裝基板支撐且在該射頻屏蔽結構之一內部中；一天線，其在該射頻屏蔽結構外部由該封裝基板支撐；及一第二積體電路晶粒，其由該封裝基板支撐。該封裝基板安置於該第一積體電路晶粒與該第二積體電路晶粒之間。 該第一積體電路晶粒可實施包括一射頻功率放大器的一射頻前端之至少一部分，且該第二積體電路晶粒可實施一射頻基頻子系統之至少一部分。該封裝射頻模組可包括圍封該第一積體電路晶粒及該天線之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝射頻模組。該封裝射頻模組包括：一射頻屏蔽結構，其在一封裝基板上方延伸；一第一無線裝置組件，其由該封裝基板支撐且在該射頻屏蔽結構之一內部中；一天線，其在該射頻屏蔽結構外部由該封裝基板支撐；及一第二無線裝置組件，其由該封裝基板支撐且與該封裝基板隔開，該第一無線裝置組件在該第二無線裝置組件與該封裝基板之一第一表面之間，該第二無線裝置組件之至少一第一懸垂部分延伸超出該第一無線裝置組件之周邊之至少一部分。 該可包括一射頻組件。該封裝射頻模組可包括圍封該第一無線裝置組件、該天線及該第二無線裝置組件之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝射頻模組。該封裝射頻模組包括：一多層基板，其具有一第一側及與該第一側相對之一第二側，該多層基板包括一接地平面；在該多層基板之該第一側上的一天線；一第一晶粒，其包括至少一射頻組件，該第一晶粒安置於該多層基板之該第二側上使得該接地平面定位於該天線與該射頻組件之間；一晶體，其安置於該多層基板之該第二側上使得該第一晶粒定位於該晶體與該多層基板之該第二側之間；及傳導性特徵，其安置於該射頻組件周圍且電連接至該接地平面。 該封裝射頻模組可包括圍封該第一晶粒及該晶體之一包覆模製件。該第一晶粒可包括一微處理器。該傳導性特徵及該接地平面可經組態以提供對於該射頻組件之屏蔽。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種射頻模組，其包括：一多層基板，其具有一第一側及與該第一側相對之一第二側，該多層基板包括一接地平面；在該多層基板之該第一側上的一天線；一第一晶粒，其包括至少安置於該多層基板之該第二側上使得該接地平面定位於該天線與該射頻接收器電路系統之間的射頻接收器電路系統；傳導性特徵，其安置於該射頻接收器電路系統周圍且電連接至該接地平面；及一堆疊濾波器總成，其經組態為與該射頻接收器電路系統通信之一濾波器電路，該堆疊濾波器總成安置於該多層基板之該第二側上。 該第一晶粒可包括一微處理器。該等傳導性特徵及該接地平面可經組態以提供對於該射頻接收器電路系統之屏蔽。該堆疊濾波器總成可包括複數個被動組件。該複數個被動組件中之每一被動組件可封裝為一表面黏著裝置。至少一個被動組件可與該多層基板之該第二側直接連通，且至少另一被動組件可由與該多層基板之該第二側直接連通之該至少一個被動組件支撐於該多層基板之該第二側上方。該射頻模組可包括圍封該第一晶粒及該堆疊濾波器總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種射頻模組，其包括：一多層基板，其具有一第一側及與該第一側相對之一第二側，該多層基板包括一接地平面；在該多層基板之該第一側上的一天線；一第一積體電路晶粒，其實施一射頻功率放大器，該第一積體電路晶粒安置於該多層基板之該第二側上使得該接地平面定位於該天線與該射頻功率放大器之間；傳導性特徵，其安置於至少該射頻功率放大器周圍且電連接至該接地平面；及一第二積體電路晶粒，安置於該多層基板之該第一側上。 一射頻前端之至少一部分可包括該射頻功率放大器。該等傳導性特徵及該接地平面可經組態以提供對於該射頻功率放大器之屏蔽。該第二積體電路晶粒可實施一射頻基頻子系統之至少一部分。該射頻模組可包括圍封該第二積體電路晶粒及該天線之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一晶粒，其由一基板支撐；及一晶體總成，其經組態以提供一時鐘信號供在該第一晶粒中使用，該晶體總成由該基板支撐且安置於該第一晶粒與該基板之間，該晶體總成包括一晶體、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體，該傳導柱至少部分形成於該殼體之一側內且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面。 該第一晶粒可包括至少一微處理器，及射頻傳輸器電路系統及射頻接收器電路系統中之一或多者。可提供該時鐘信號用於在該微處理器及該射頻傳輸器電路系統及該射頻接收器電路系統中之該一或多者中的該至少一者中使用。該晶體總成可進一步包括經組態以接收一第一信號之一輸入端子及經組態以輸出該時鐘信號之一輸出端子，該傳導柱經組態以傳導與該第一信號及該時鐘信號截然不同之一第三信號。該封裝模組可包括圍封該第一晶粒及該晶體總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一晶粒，其由一基板支撐；及一晶體總成，其經組態以提供一時鐘信號供在該第一晶粒中使用，該晶體總成由該基板支撐，該第一晶粒安置於該晶體總成與該基板之間，該晶體總成包括一晶體、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體，該傳導柱至少部分形成於該殼體之一側內且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面。 該第一晶粒可包括至少一微處理器，及射頻傳輸器電路系統及射頻接收器電路系統中之一或多者。可提供該時鐘信號用於在該微處理器及該射頻傳輸器電路系統及該射頻接收器電路系統中之該一或多者中的該至少一者中使用。該晶體總成可進一步包括經組態以接收一第一信號之一輸入端子及經組態以輸出該時鐘信號之一輸出端子，該傳導柱經組態以傳導與該第一信號及該時鐘信號截然不同之一第三信號。該封裝模組可包括圍封該第一晶粒及該晶體總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一晶粒，其由一基板支撐；一晶體總成，其經組態以提供一時鐘信號供在該第一晶粒中使用，該晶體總成由該基板支撐且安置於該第一晶粒與該基板之間，該晶體總成包括一晶體、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體，該傳導柱至少部分形成於該殼體之一側內且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面；及一堆疊濾波器總成，其由該基板支撐，且該堆疊濾波器總成包括複數個被動組件，至少一個被動組件與該基板直接連通，且至少另一被動組件由與該基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該基板上方。 該第一晶粒可包括該微處理器及該射頻接收器電路系統中之至少一者。可提供該時鐘信號用於在該微處理器及該射頻接收器電路系統中之所述至少一者中使用。該堆疊濾波器總成可經組態為與該射頻接收器電路系統通信之一濾波器電路。該晶體總成可進一步包括經組態以接收一第一信號之一輸入端子及經組態以輸出該時鐘信號之一輸出端子，該傳導柱經組態以傳導與該第一信號及該時鐘信號截然不同之一第三信號。該複數個被動組件中之每一被動組件可封裝為一表面黏著裝置。該封裝模組可包括圍封該第一晶粒、該晶體總成及該堆疊濾波器總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一積體電路晶粒，其由一基板支撐；一晶體總成，其經組態以將一時鐘信號提供至該第一積體電路晶粒，該晶體總成由該基板支撐且安置於該第一積體電路晶粒與該基板之間，該晶體總成包括一晶體、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體，該傳導柱至少部分形成於該殼體之一側內且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面；及一第二積體電路晶粒，其由該基板支撐，該基板安置於該第一積體電路晶粒與該第二積體電路晶粒之間。 該第一積體電路晶粒可實施一射頻基頻子系統之至少一部分。可針對該射頻基頻子系統之該至少一部分提供該時鐘信號。該晶體總成可進一步包括經組態以接收一第一信號之一輸入端子及經組態以輸出該時鐘信號之一輸出端子，該傳導柱經組態以傳導與該第一信號及該時鐘信號截然不同之一第三信號。該第二積體電路晶粒可實施包括一射頻功率放大器的一射頻前端之至少一部分。該封裝模組可包括圍封該第一積體電路晶粒及該晶體總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一無線裝置組件，其由一基板支撐；一第二無線裝置組件，其由該基板支撐且與該基板隔開，該第一無線裝置組件在該第二無線裝置組件與該基板之間，該第二無線裝置組件之至少一第一懸垂部分延伸超出該第一無線裝置組件之周邊之至少一部分；及一晶體總成，其由該基板支撐且安置於至少該第二無線裝置組件之該第一懸垂部分與該基板之間，該晶體總成包括一晶體、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體，該傳導柱至少部分形成於該殼體之一側內且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面。 該晶體總成可進一步包括經組態以接收一第一信號之一輸入端子及經組態以輸出一第二信號之一輸出端子，該傳導柱經組態以傳導與該第一及該第二信號截然不同之一第三信號。該封裝模組可包括圍封該第一無線裝置組件、該第二無線裝置組件及該晶體總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一晶粒，其由一基板支撐；一堆疊濾波器總成，其由該基板支撐，該堆疊濾波器總成包括複數個被動組件，至少一個被動組件與該基板直接連通，且至少另一被動組件由與該基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該基板上方；及一晶體，其由該基板支撐，該第一晶粒安置於該晶體與該基板之間。 該第一晶粒可包括至少一微處理器及射頻接收器電路系統。該堆疊濾波器總成可經組態為與該射頻接收器電路系統通信之一濾波器電路。該複數個被動組件中之每一被動組件可封裝為一表面黏著裝置。該封裝模組可包括圍封該第一晶粒、該堆疊濾波器總成及該晶體之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一晶粒，其由一基板支撐；一堆疊濾波器總成，其由該基板支撐且包括複數個被動組件，至少一個被動組件與該基板直接連通，且至少另一被動組件由與該基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該基板上方；及一晶體，其由該基板支撐且安置於該第一晶粒與該基板之間。 該第一晶粒可包括至少一微處理器及射頻接收器電路系統。該堆疊濾波器總成可經組態為與該射頻接收器電路系統通信之一濾波器電路。該複數個被動組件中之每一被動組件可封裝為一表面黏著裝置。該封裝模組可包括圍封該第一晶粒、該堆疊濾波器總成及該晶體之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一晶粒，其由一基板支撐；一堆疊濾波器總成，其由該基板支撐，該堆疊濾波器總成包括複數個被動組件，至少一個被動組件與該基板直接連通，且至少另一被動組件由與該基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該基板上方；及一第二晶體，其由該基板支撐，該基板安置於該第一晶粒與該第二晶粒之間。 該第一晶粒可包括至少一微處理器及射頻接收器電路系統。該堆疊濾波器總成可經組態為與該射頻接收器電路系統通信之一濾波器電路。該第二晶粒可實施包括一射頻功率放大器的一射頻前端之至少一部分。該複數個被動組件中之每一被動組件可封裝為一表面黏著裝置。該封裝模組可包括圍封該第一晶粒及該堆疊濾波器總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於一射頻無線裝置之封裝模組。該封裝模組包括：一第一無線裝置組件，其由一基板支撐且包括至少一微處理器及射頻接收器電路系統；一第二無線裝置組件，其由該基板支撐且與該基板隔開，該第一無線裝置組件在該第二無線裝置組件與該基板之間，該第二無線裝置組件之至少一第一懸垂部分延伸超出該第一無線裝置組件之周邊之至少一部分；及一堆疊濾波器總成，其由該基板支撐且經組態為與該射頻接收器電路系統通信之一濾波器電路，該堆疊濾波器總成包括複數個被動組件，至少一個被動組件與該基板直接連通，該堆疊濾波器總成安置於該至少一第一懸垂部分與該基板之間。 該複數個被動組件中之每一被動組件可封裝為一表面黏著裝置。至少另一被動組件可由與該基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該基板上方。該封裝模組可包括圍封該第一無線裝置組件、該第二無線裝置組件及該堆疊濾波器總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一晶粒，其由一基板支撐且包括一微處理器、射頻傳輸器電路系統及射頻接收器電路系統中之至少一者；一晶體，其經組態以提供一計時信號供在該第一晶粒中使用，該晶體由該基板支撐且安置於該第一晶粒與該基板之間；及一第二晶粒，其由該基板支撐且實施包括一射頻功率放大器的一射頻前端之至少一部分，該基板安置於該第一晶粒與該第二晶粒之間。 該封裝模組可包括圍封該第一晶粒及該晶體之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一射頻無線裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一無線裝置組件，其由一基板支撐；一第二無線裝置組件，其由該基板支撐且與該基板隔開且實施一射頻基頻子系統之至少一部分，該第一無線裝置組件定位於該第二無線裝置組件與該基板之間，該第二無線裝置組件之至少一第一懸垂部分延伸超出該第一無線裝置組件之周邊之至少一部分；及一第三無線裝置組件，其由該基板支撐且實施包括一射頻功率放大器的一射頻前端之至少一部分，該基板安置於該第二無線裝置組件與該第三無線裝置組件之間。 該封裝模組可包括圍封該第一無線裝置組件及該第二無線裝置組件之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一無線裝置組件，其由一基板支撐；一第二無線裝置組件，其由該基板支撐且與該基板隔開，該第一無線裝置組件在該第二無線裝置組件與該基板之間，該第二無線裝置組件之至少一第一懸垂部分延伸超出該第一無線裝置組件之周邊之至少一部分；及一晶體，其由該基板支撐，該第一無線裝置組件及該第二無線裝置組件安置於該晶體與該基板之間。 該封裝模組可包括圍封該第一無線裝置組件、該第二無線裝置組件及該晶體之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝模組。該封裝模組包括：一第一無線裝置組件，其由一基板支撐；一第二無線裝置組件，其由該基板支撐且與該基板隔開，該第一無線裝置組件定位於該第二無線裝置組件與該基板之間，該第二無線裝置組件之至少一第一懸垂部分延伸超出該第一無線裝置組件之周邊之至少一部分；及一晶體，其由該基板支撐，該晶體安置於該第二無線裝置組件之至少該第一懸垂部分內且在該第二無線裝置組件與該基板之間。 該封裝模組可包括圍封該第一無線裝置組件、該第二無線裝置組件及該晶體之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝模組。一系統板總成可包括該封裝模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝射頻模組。該封裝射頻模組包括：一射頻屏蔽結構，其在一封裝基板上方延伸；一第一晶粒，其由該封裝基板支撐且在該射頻屏蔽結構之一內部中，該第一晶粒包括一射頻組件；一天線，其在該射頻屏蔽結構外部由該封裝基板支撐；及一晶體總成，其由該封裝基板支撐且安置於該第一晶粒與該封裝基板之間，該晶體總成包括一晶體、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體，該傳導柱至少部分形成於該殼體之一側內且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面。 該封裝射頻模組可包括圍封該第一晶粒、該晶體總成及該天線之一包覆模製件。該晶體總成可進一步包括經組態以接收一第一信號之一輸入端子、經組態以輸出一第二信號之一輸出端子，且該傳導柱經組態以傳導與該第一及該第二信號截然不同之一第三信號。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝射頻模組。該封裝射頻模組包括：一射頻屏蔽結構，其在一封裝基板上方延伸；一第一晶粒，其由該封裝基板支撐且在該射頻屏蔽結構之一內部中，該第一晶粒包括射頻接收器電路系統；一天線，其在該射頻屏蔽結構外部由該封裝基板支撐；及一堆疊濾波器總成，其由該封裝基板支撐且經組態為與該射頻接收器電路系統通信之一濾波器電路，該堆疊濾波器總成包括複數個被動組件，至少一個被動組件與該封裝基板直接連通，且至少另一被動組件由與該封裝基板直接連通之該至少一個被動組件支撐於該封裝基板上方。 該複數個被動組件中之每一被動組件可封裝為一表面黏著裝置。該封裝射頻模組可包括圍封該第一晶粒、該堆疊濾波器總成及該天線之一包覆模製件。該無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種用於在一無線通信裝置中使用之封裝射頻模組。該封裝射頻模組包括：一多層基板，其具有一第一側及與該第一側相對之一第二側，該多層基板包括一接地平面；在該多層基板之該第一側上的一天線；一第一晶粒，其包括至少一射頻組件，該第一晶粒安置於該多層基板之該第二側上使得該接地平面定位於該天線與該射頻組件之間；一晶體，其安置於該多層基板之該第二側上使得該晶體定位於該第一晶粒與該多層基板之該第二側之間；及傳導性特徵，其安置於該射頻組件周圍且電連接至該接地平面。 該第一晶粒可包括一微處理器。該傳導性特徵及該接地平面可經組態以提供對於該射頻組件之屏蔽。該封裝射頻模組可包括圍封該第一晶粒及該晶體之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該封裝射頻模組。一系統板總成可包括該封裝射頻模組。 本發明之另一態樣為一種射頻模組，其包括：一多層基板，其具有一第一側及與該第一側相對之一第二側，該多層基板包括一接地平面；在該多層基板之該第一側上的一天線；一第一晶粒，其包括安置於該多層基板之該第二側上使得該接地平面定位於該天線與該射頻組件之間的至少一射頻組件；傳導性特徵，其安置於該射頻組件周圍且電連接至該接地平面；及一晶體總成，其安置於該多層基板之該第二側上使得該晶體總成定位於該第一晶粒與該多層基板之該第二側之間，該晶體總成包括一晶體、一傳導柱及經組態以圍封該晶體之一殼體，該傳導柱至少部分形成於該殼體之一側內且自該殼體之一頂表面延伸至一底表面。 該傳導性特徵及該接地平面可經組態以提供對於該射頻組件之屏蔽。該晶體總成可進一步包括經組態以接收一第一信號之一輸入端子、經組態以輸出一第二信號之一輸出端子，該傳導柱經組態以傳導與該第一及該第二信號截然不同之一第三信號。該封裝射頻模組可包括圍封該第一晶粒及該晶體總成之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該射頻模組。一系統板總成可包括該射頻模組。 本發明之另一態樣為一種射頻模組，其包括：一多層基板，其包括一接地平面且具有一第一側及與該第一側相對之一第二側；在該多層基板之該第一側上的一天線；一射頻組件，其安置於該多層基板之該第二側上使得該接地平面定位於該天線與該射頻組件之間；一第一無線裝置組件，其與該多層基板之該第二側隔開；及傳導性特徵，其安置於該射頻組件周圍且電連接至該接地平面。該射頻組件定位於該第一無線裝置組件與該多層基板之該第二側之間，該第一無線裝置組件之至少一第一懸垂部分延伸超出該射頻組件之周邊之至少一部分。 該傳導性特徵及該接地平面可經組態以提供對於該射頻組件之屏蔽。該射頻模組可包括圍封該射頻組件及該第一無線裝置組件之一包覆模製件。一無線通信裝置可包括該射頻模組。一系統板總成可包括該射頻模組。 出於概述本發明之目的，本文中已描述本發明之某些態樣、優點及新穎特徵。應理解，未必所有此等優點皆可根據任一特定實施例來達成。因此，可以達成或最佳化如本文中所教示之一個優點或一群優點而未必達成如可在本文中教示或建議之其他優點的方式來體現或進行創新中之任一者。 本申請案在此以引用的方式併有以下各者之全部揭示內容：2016年12月29日申請的題為“FRONT END SYSTEMS”之美國臨時專利申請案第62/440,241號；2017年3月31日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/480,002號；2017年10月10日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/570,549號；2017年10月12日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/571,409號；2017年12月4日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/594,179號；及2017年12月7日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/595,935號。 本申請亦在此以引用的方式併有以下各者之全部揭示內容：2017年5月5日申請的題為“SHIELDED RADIO FREQUENCY COMPONENT WITH INTEGRATED ANTENNA”之美國專利申請案第15/585,631號；2016年12月22日申請的題為“IMPEDANCE TRANSFORMATION CIRCUIT FOR AMPLIFIER”之美國專利申請案第15/389,097號；2017年3月14日申請的題為“APPARATUS AND METHODS FOR OVERLOAD PROTECTION OF LOW NOISE AMPLIFIERS”之美國專利申請案第15/458,423號；2016年12月29日申請的題為“APPARATUS AND METHODS FOR ELECTRICAL OVERSTRESS PROTECTION”之美國專利申請案第15/393,590號；2017年3月30日申請的題為“MULTI-MODE STACKED AMPLIFIER”之美國專利申請案第15/474,905號；2017年5月2日申請的題為“APPARATUS AND METHODS FOR POWER AMPLIFIERS WITH AN INJECTION-LOCKED OSCILLATOR DRIVER STAGE”之美國專利申請案第15/584,463號；2017年4月18日申請的題為“SELECTIVE SHIELDING OF RADIO FREQUENCY MODULES”之美國專利申請案第15/490,346號；2017年4月18日申請的題為“METHODS FOR SELECTIVELY SHIELDING RADIO FREQUENCY MODULES”之美國專利申請案第15/490,349號；2017年4月18日申請的題為“SELECTIVELY SHIELDING RADIO FREQUENCY MODULE WITH MULTI-LAYER ANTENNA”之美國專利申請案第15/490,436號；2017年4月17日申請的題為“RADIO FREQUENCY SYSTEM-IN-PACKAGE INCLUDING A STACKED SYSTEM-ON-CHIP”之美國專利申請案第15/489,506號；2017年4月17日申請的題為“SYSTEM IN PACKAGE WITH VERTICALLY ARRANGED RADIO FREQUENCY COMPONENTRY”之美國專利申請案第15/489,532號；2017年4月17日申請的題為“REDUCED FORM FACTOR RADIO FREQUENCY SYSTEM-IN-PACKAGE”之美國專利申請案第15/489,607號；2017年4月17日申請的題為“CRYSTAL PACKAGING WITH CONDUCTIVE PILLARS”之美國專利申請案第15/489,631號；2017年4月17日申請的題為“SURFACE MOUNT DEVICE STACKING FOR REDUCED FORM FACTOR”之美國專利申請案第15/489,563號；2017年4月17日申請的題為“RADIO FREQUENCY SYSTEM-IN-PACKAGE WITH STACKED CLOCKING CRYSTAL”之美國專利申請案第15/489,528號；2017年7月19日申請的題為“IMPEDANCE TRANSFORMATION CIRCUIT AND OVERLOAD PROTECTION FOR LOSE NOISE AMPLIFIER”之美國專利申請案第15/654,050號；2017年10月17日申請的題為“RADIO FREQUENCY MODULES”之美國臨時專利申請案第62/440,034號；及2016年12月29日申請的題為“RADIO FREQUENCY AMPLIFIERS WITH INJECTION-LOCKED OSCILLATOR DRIVER STAGE AND A STACKED OUTPUT STAGE”之美國臨時專利申請案第62/573,524號。 在被以引用的方式併入之專利申請案中描述的特徵之任何組合可結合本文中所描述之一或多個態樣實施。
優先申請案之交叉參考 本申請案依據35 U.S.C. § 119(e)主張以下各申請案之優先權：2016年12月29日申請的題為“FRONT END SYSTEMS”之美國臨時專利申請案第62/440,241號；2017年3月31日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/480,002號；2017年10月10日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/570,549號；2017年10月12日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/571,409號；2017年12月4日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/594,179號；及2017年12月7日申請的題為“FRONT END SYSTEMS AND RELATED DEVICES, INTEGRATED CIRCUITS, MODULES, AND METHODS”之美國臨時專利申請案第62/595,935號。此等優先申請案中之每一者之揭示內容在此被以引用之方式全部併入本文中。 某些實施例之以下描述提出特定實施例之各種描述。然而，本文中所描述之創新可(例如)以如申請專利範圍所定義及涵蓋的大量不同方式體現。在本說明書中，參看圖式，在圖式中相同參考數字可指示相同或功能上類似之元件。應理解，圖中所說明之元件未必按比例繪製。此外，應理解，某些實施例可包括比圖式中所說明之元件及/或圖式中所說明之元件之子集多的元件。另外，一些實施例可併有來自兩個或兩個以上圖式之特徵的任何合適組合。本文中所提供之標題僅係為方便起見，且未必影響申請專利範圍之範疇或意義。 前端系統前端系統可用以處置正經由一或多個天線傳輸及/或接收之信號。舉例而言，前端系統可包括開關、濾波器、放大器及/或在一或多個天線與收發器之間的信號路徑中之其他電路系統。 在前端系統中實施本文中描述之一或多個特徵可達成許多優點，包括(但不限於)較高功率增添效率(PAE)、更緊湊佈局、較低成本、較高線性、對過應力之優異的穩固性及/或增強型整合中之一或多者。此外，在前端系統中實施本文中描述之一或多個特徵可達成合乎需要之優值(FOM)及/或對前端系統評級所藉之其他量度。雖然本文中出於說明性目的關於前端系統描述一些特徵，但應理解，本文中描述之原理及優點可應用於廣泛多種其他電子器件。 圖1A說明前端系統10之一個實例之示意性方塊圖。前端系統10包括一天線側開關2、一收發器側開關3、一旁路電路4、一功率放大器5、一低雜訊放大器(LNA) 6及一控制及偏壓電路7。該前端系統10可併有在本文中之章節中所描述之一或多個特徵。 雖然前端系統之一個實例展示於圖1A中，但可以廣泛多種方式採用前端系統。舉例而言，前端系統可包括或多或少之組件及/或信號路徑。因此，本文中的教示可適用於以廣泛多種方式實施之前端系統。 在某些實施中，諸如圖1A之前端系統10之前端系統實施於積體電路或半導體晶粒上。在此等實施中，前端系統可被稱作前端積體電路(FEIC)。在其他實施中，將前端系統實施為模組。在此等實施中，，前端系統可被稱作前端模組(FEM)。 因此，在一些實施中，前端系統10實施於封裝模組中。此等封裝模組可包括相對低成本之層壓物及一或多個晶粒，其組合低雜訊放大器與功率放大器及/或開關功能。一些此等封裝模組可為多晶片模組。在某些實施中，前端系統10的說明之組件中之一些或所有可體現於單一積體電路或晶粒上。可使用任何合適之製程技術來製造此晶粒。作為一個實例，晶粒可為絕緣體上半導體晶粒，諸如，絕緣體上矽(SOI)晶粒。 如圖1A中所展示，前端系統10包括在天線側開關2與收發器側開關3之間的多個信號路徑。舉例而言，說明之前端系統10包括：包括旁路電路4之一旁路信號路徑、包括功率放大器5之一傳輸信號路徑及包括LNA 6之一接收信號路徑。雖然展示具有三個信號路徑之一實例，但前端系統可包括或多或少之信號路徑。 天線側開關2用以控制信號路徑至天線(圖1A中未展示)之連接。舉例而言，天線側開關2可用以將傳輸信號路徑、接收信號路徑或旁路信號路徑中之一特定者連接至天線。另外，收發器側開關3用以控制信號路徑至收發器(圖1A中未展示)之連接。舉例而言，收發器側開關3可用以將傳輸信號路徑、接收信號路徑或旁路信號路徑中之一特定者連接至收發器。在某些實施中，天線側開關2及/或收發器側開關3經實施為多投開關。 圖1B說明前端系統20之另一實例之示意性方塊圖。圖1B之前端系統20類似於圖1A之前端系統10，惟前端系統20進一步包括一整合式天線11外。在某些實施中，前端系統包括一整合式天線。舉例而言，前端系統可與一或多個整合式天線一起實施於模組上。 參看圖1A及圖1B，旁路網路4可包括用於匹配及/或繞過接收信號路徑及傳輸信號路徑的任何合適之網路。旁路網路4可(例如)由被動阻抗網路或由傳導跡線或電線實施。 LNA 6可用以放大來自天線的接收之信號。LNA 6可以廣泛多種方式實施。 在某些實施例中，根據章節I (具有阻抗變換電路之低雜訊放大器)之一或多個特徵來實施LNA 6。舉例而言，LNA 6可藉由退化電感器(例如，源極退化電感器或射極退化電感器)與一串聯輸入電感器之間的磁耦合來實施。此等磁耦合之電感器可實際上提供一變壓器，具有與輸入端串聯之一初級繞組及電連接於退化電感器電連接至放大裝置之處(例如，在場效電晶體放大裝置之源極處或在雙極電晶體放大裝置之射極處)之一次級繞組。以此方式提供磁耦合之電感器允許輸入匹配電感器具有相對低電感值及對應的小的大小。此外，由磁耦合之電感器提供的負回饋可提供至LNA 6之增大的線性。 根據章節II (低雜訊放大器之過載保護)之一或多個特徵實施LNA 6及天線側開關2。舉例而言，天線側開關2可包括用於控制天線與至LNA 6之輸入端之間的阻抗之一類比控制輸入端。另外，包括一過載保護電路以基於偵測到LNA 6之信號位準而提供回饋至開關之類比控制輸入端。因此，過載保護電路偵測LNA 6是否過載。另外，當過載保護電路偵測到過載狀況時，過載保護電路提供回饋至開關之類比控制輸入端以增大開關之阻抗及減小由LNA 6接收的輸入信號之量值。以此方式實施LNA 6及天線側開關2限制在LNA 6之放大電晶體內顯現的大電流及/或電壓擺動狀況。 功率放大器5可用以放大自收發器接收之傳輸信號供經由天線傳輸。功率放大器5可以廣泛多種方式實施。 在某些實施中，根據章節III (多模式功率放大器)之一或多個特徵來實施功率放大器5。舉例而言，功率放大器5可包括一堆疊輸出級及一偏壓電路，該偏壓電路基於模式使堆疊輸出級之堆疊電晶體偏壓。在一個實例中，偏壓電路可在第一模式中使一堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在第二模式中使電晶體偏壓作為開關。因此，偏壓電路可使堆疊輸出級偏壓，使得堆疊輸出級表現得類似在第二模式中相對於第一模式在堆疊中存在較少電晶體。此操作可導致符合針對不同功率模式之設計規範，其中提供至堆疊輸出級之供電電壓基於模式改變。 在某些實施中，根據章節IV (具有注入鎖定式振盪器驅動器級之功率放大器)之一或多個特徵實施功率放大器5。舉例而言，功率放大器5可包括使用一注入鎖定式振盪器及一輸出級實施之一驅動器級，該輸出級具有隨功率放大器5之模式而改變之一可調整供電電壓。藉由以此方式實施功率放大器5，功率放大器5展現優異效率，包括在低功率模式中。舉例而言，在低功率模式中，用以對輸出級供電之可調整供電電壓減小，且驅動器級對功率放大器5之總體效率具有相對大的影響。藉由以此方式實施功率放大器5，功率放大器之效率可增強，特定言之，在功率放大器之輸出級在不同操作模式中按大的供電電壓差操作之應用中。 繼續參看圖1A及圖1B，控制及偏壓電路7可用以控制各種前端電路系統及使其偏壓。舉例而言，控制及偏壓電路7可接收控制信號用於控制LNA 6、天線側開關2、收發器側開關3及/或功率放大器5。可以多種方式將控制信號提供至控制及偏壓電路7，諸如，經由晶粒之輸入襯墊。在一個實例中，控制信號包括模式信號或偏壓控制信號中之至少一者。 圖1A之前端系統10及圖1B之前端系統20可實施於一或多個半導體晶粒上。在某些實施中，半導體晶粒中之至少一者包括使用根據章節V (電性過應力保護)之一或多個特徵實施之電性過應力(EOS)保護電路而保護的接腳或襯墊。舉例而言，EOS保護電路可包括電連接於半導體晶粒之襯墊與第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與一信號節點之間的一阻抗元件、電連接於該信號節點與該第一供應節點之間且可由過應力感測電路選擇性啟動的一可控制箝位及電連接於該信號節點與第二供應節點之間的一過衝限制電路。當在襯墊處偵測到EOS事件時，該過應力感測電路啟動可控制箝位。因此，EOS保護電路經配置以遠離信號節點分流與EOS事件相關聯之電荷以提供EOS保護。藉由以此方式實施前端系統可達成增強之EOS保護、較低靜態功率消散及/或更緊湊之晶片佈局。在某些實施中，襯墊為接收用於控制功率放大器5及/或LNA 6之控制信號的輸入襯墊。 根據某些實施例，圖1A及/或圖1B之前端系統可包括RF屏蔽及/或RF隔離結構。在某些實施中，根據章節VI (射頻模組之選擇性屏蔽)之一或多個特徵來實施圖1A及/或圖1B之前端系統。舉例而言，前端系統可實施為部分屏蔽之射頻模組。另外，屏蔽層包括於射頻模組之經屏蔽部分上，且未屏蔽射頻模組之未屏蔽部分。屏蔽層可屏蔽前端系統之某些組件(例如，功率放大器5及/或LNA 6)且使其他組件(例如，整合式天線11)未屏蔽。 在某些實施中，根據章節VII (具有整合式天線之經屏蔽射頻組件)之一或多個特徵實施圖1A及/或圖1B之前端系統。舉例而言，前端系統可包括一層壓基板，其包括印刷於頂層上之一天線及用於在頂層下之層上屏蔽之一接地平面。另外，前端之至少一個電子組件可沿著層壓基板之底層安置，且焊料凸塊安置於電子組件周圍且電連接至接地平面。焊料凸塊可將模組附接至載體或直接附接至一系統板。電子組件可由焊料凸塊包圍，且電子組件之外側邊緣可具有藉由通孔連接至接地平面之接地焊料凸塊。因此，當將模組置放至一載體或系統板上時可完成屏蔽結構，且該屏蔽結構可充當電子組件周圍之法拉弟籠。 在某些實施例中，將本文中揭示之前端系統實施於一半導體晶粒上，作為前端積體電路(FEIC)。在某些實施中，根據章節VIII (具有堆疊組件之封裝模組)之一或多個特徵實施FEIC。舉例而言，FEIC可包括於將多個晶片及被動組件(諸如，電容器及電阻器)堆疊至封裝基板上之一緊湊區域內之一封裝模組中。藉由在此封裝模組中實施FEIC，可達成較小佔據面積及/或更緊湊之基板面積。 根據某些實施例，一封裝模組包括一FEIC、一晶體振盪器及諸如收發器晶粒之一系統單晶片(SoC)。在某些實施中，根據章節VIII之一或多個特徵實施封裝模組。舉例而言，可將SoC堆疊於晶體總成上以節省空間且提供較短晶體跡線。晶體總成包括容納於一外殼中之晶體振盪器，該外殼包括一或多個傳導柱以用於將信號自SoC導引至一基板及/或以提供熱導率。 根據某些實施例，一封裝模組包括一FEIC、一濾波器總成及一SoC。在某些實施中，根據章節VIII之一或多個特徵實施封裝模組。舉例而言，可將濾波器總成與封裝模組之其他晶粒及組件堆疊在一起以減小封裝模組之佔據面積。此外，以此方式堆疊濾波器總成可減小信號載運導體之長度，藉此減少寄生效應且增強傳訊效能。 本文中所論述之前端系統可包括一功率放大器及一低雜訊放大器。此前端系統可按改良之效能及/或效率操作。前端系統可為前端模組及/或前端積體電路。在某些實施例中，功率放大器及低雜訊放大器可體現於一共同絕緣體上半導體晶粒上，諸如，共同絕緣體上矽晶粒。功率放大器及低雜訊放大器可皆耦接至一共同開關。舉例而言，共同開關可為天線側開關。可根據本文中所論述的任何合適之原理及優點來實施功率放大器。可根據本文中所論述的任何合適之原理及優點來實施低雜訊放大器。將參看圖2至圖5描述包括一功率放大器及一低雜訊放大器之一些實例前端系統。 圖2為根據一實施例的包括一多模式功率放大器31及具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器32的一前端系統30之示意性方塊圖。多模式功率放大器31在前端系統30之傳輸路徑中。多模式功率放大器31為上文所論述的功率放大器5之一實例。該多模式功率放大器31包括一堆疊輸出級，其包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊。該多模式功率放大器31亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。多模式功率放大器31可包括在章節III中論述的特徵之任何合適組合。低雜訊放大器32在前端系統30之接收路徑中。低雜訊放大器32為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。該低雜訊放大器32包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。低雜訊放大器32可包括在章節I中論述的特徵之任何合適組合。前端系統30亦包括一射頻開關33。射頻開關33為上文所論述的天線側開關2之一實例。射頻開關33可為經組態以傳送射頻信號之任何合適之多投開關。射頻開關33可在第一狀態中將一共同節點電耦接至傳輸路徑，且在第二狀態中將共同節點電耦接至接收路徑。共同節點可為射頻開關33之一天線埠。 圖3為根據一實施例的包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35及具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器32的一前端系統34之示意性方塊圖。功率放大器35在前端系統34之傳輸路徑中。功率放大器35為上文所論述的功率放大器5之一實例。該功率放大器35包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。功率放大器35可包括在章節IV中論述的特徵之任何合適組合。低雜訊放大器32在前端系統34之接收路徑中。低雜訊放大器32為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。該低雜訊放大器32包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。低雜訊放大器32可包括在章節I中論述的特徵之任何合適組合。前端系統34亦包括一射頻開關33。射頻開關33為上文所論述的天線側開關2之一實例。射頻開關33可為經組態以傳送射頻信號之任何合適之多投開關。射頻開關33可在第一狀態中將一共同節點電耦接至傳輸路徑，且在第二狀態中將共同節點電耦接至接收路徑。共同節點可為射頻開關33之一天線埠。 圖4為根據一實施例的包括一射頻開關33、一功率放大器35、一低雜訊放大器37及一過載保護電路38之一前端系統36之示意性方塊圖。射頻開關33為上文所論述的天線側開關2之一實例。低雜訊放大器37為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。低雜訊放大器37包括電耦接至射頻開關33之第一投的一輸入端。過載保護電路38經組態以基於低雜訊放大器37之信號位準調整射頻開關33之阻抗。低雜訊放大器37及/或過載保護電路38可包括在章節II中論述的特徵之任何合適組合。功率放大器35為上文所論述的功率放大器5之一實例。功率放大器35包括電耦接至射頻開關33之第二投的一輸出端。該功率放大器35包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。功率放大器35可包括在章節IV中論述的特徵之任何合適組合。 圖5為根據一實施例的包括一射頻開關33、一低雜訊放大器37、一過載保護電路38及一多模式功率放大器31之一前端系統39之示意性方塊圖。射頻開關33為上文所論述的天線側開關2之一實例。低雜訊放大器37為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。低雜訊放大器37包括電耦接至射頻開關33之第一投的一輸入端。過載保護電路38經組態以基於低雜訊放大器37之信號位準調整射頻開關33之阻抗。低雜訊放大器37及/或過載保護電路38可包括在章節II中論述的特徵之任何合適組合。多模式功率放大器31為上文所論述的功率放大器5之一實例。該多模式功率放大器31包括一堆疊輸出級，其包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊。該多模式功率放大器31亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。多模式功率放大器31可包括在章節III中論述的特徵之任何合適組合。 前端積體電路可包括過應力保護。過應力保護電路可提供對前端積體電路之輸入/輸出襯墊之電性過應力保護。此前端積體電路可包括根據本文中所論述之任何合適原理及優點實施的一功率放大器及/或根據本文中所論述之任何合適原理及優點實施的一低雜訊放大器。將參看圖6至圖9描述包括過應力保護電路之一些實例前端積體電路。 圖6為根據一實施例的包括一過應力保護電路及具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器32的一前端積體電路40之示意性方塊圖。低雜訊放大器32為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。該低雜訊放大器32包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器之一第二電感器。該低雜訊放大器32可由一控制信號控制。低雜訊放大器32可包括在章節I中論述的特徵之任何合適組合。前端積體電路40亦包括經組態以接收該控制信號之一輸入襯墊41。過應力保護電路包括電連接於輸入襯墊41與第一供應節點V 1之間的一過應力感測電路42、電連接於輸入襯墊41與一信號節點之間的一阻抗元件43及電連接於信號節點與第一供應節點V 1之間的一可控制箝位44。過應力感測電路42經組態以回應於偵測到在輸入襯墊41處之一電性過應力事件而啟動可控制箝位44。靜電放電(ESD)事件為電性過應力事件之一實例。輸入襯墊41及/或過應力保護電路可包括在章節V中論述的特徵之任何合適組合。 圖7為根據一實施例的包括一過應力保護電路及一低雜訊放大器系統之一前端積體電路46之示意性方塊圖。該低雜訊放大器系統包括一天線側開關47、包括電耦接至天線側開關47之一輸入端的一低雜訊放大器37及一過載保護電路38，該過載保護電路經組態以基於低雜訊放大器37之信號位準調整天線側開關47之阻抗。低雜訊放大器37可由一控制信號控制。低雜訊放大器37為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。天線側開關47為上文所論述的天線側開關2之一實例。低雜訊放大器37、過載保護電路38及/或天線側開關47可包括在章節II中論述的特徵之任何合適組合。前端積體電路46亦包括經組態以接收控制信號之一輸入襯墊41。過應力保護電路包括電連接於輸入襯墊41與第一供應節點V 1之間的一過應力感測電路42、電連接於輸入襯墊41與一信號節點之間的一阻抗元件43及電連接於信號節點與第一供應節點V 1之間的一可控制箝位44。過應力感測電路42經組態以回應於偵測到在輸入襯墊41處之一電性過應力事件而啟動可控制箝位44。靜電放電(ESD)事件為電性過應力事件之一實例。輸入襯墊41及/或過應力保護電路可包括在章節V中論述的特徵之任何合適組合。 圖8為根據一實施例的包括一過應力保護電路及一多模式功率放大器31之一前端積體電路48之示意性方塊圖。多模式功率放大器31為上文所論述的功率放大器5之一實例。該多模式功率放大器31包括一堆疊輸出級，其包括兩個或兩個以上電晶體之一電晶體堆疊。多模式功率放大器31亦包括一偏壓電路，其經組態以基於多模式功率放大器31之模式控制電晶體堆疊中之至少一個電晶體之偏壓。多模式功率放大器31可由一控制信號控制。多模式功率放大器31可包括在章節III中論述的特徵之任何合適組合。前端積體電路48亦包括經組態以接收控制信號之一輸入襯墊41。過應力保護電路包括電連接於輸入襯墊41與第一供應節點V 1之間的一過應力感測電路42、電連接於輸入襯墊41與一信號節點之間的一阻抗元件43及電連接於信號節點與第一供應節點V 1之間的一可控制箝位44。過應力感測電路42經組態以回應於偵測到在輸入襯墊41處之一電性過應力事件而啟動可控制箝位44。靜電放電(ESD)事件為電性過應力事件之一實例。輸入襯墊41及/或過應力保護電路可包括在章節V中論述的特徵之任何合適組合。 圖9為根據一實施例的包括一過應力保護電路及包括一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35的一前端積體電路49之示意性方塊圖。功率放大器35為上文所論述的功率放大器5之一實例。該功率放大器35包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。該功率放大器35可由一控制信號控制。功率放大器35可包括在章節IV中論述的特徵之任何合適組合。前端積體電路49亦包括經組態以接收控制信號之一輸入襯墊41。過應力保護電路包括電連接於輸入襯墊41與第一供應節點V 1之間的一過應力感測電路42、電連接於輸入襯墊41與一信號節點之間的一阻抗元件43及電連接於信號節點與第一供應節點V 1之間的一可控制箝位44。過應力感測電路42經組態以回應於偵測到在輸入襯墊41處之一電性過應力事件而啟動可控制箝位44。靜電放電(ESD)事件為電性過應力事件之一實例。輸入襯墊41及/或過應力保護電路可包括在章節V中論述的特徵之任何合適組合。 封裝模組可包括在一共同封裝基板上之一整合式天線及一前積體電路。該前端積體電路可安置於射頻屏蔽結構之內部中。屏蔽結構可包括形成於前端上之一屏蔽層，該前端經整合使得天線與該共同封裝基板相對地未屏蔽。射頻屏蔽結構可屏蔽前端積體電路免受來自整合式天線及/或來自射頻屏蔽結構外之其他組件的電磁干擾。替代地或另外，射頻屏蔽結構可屏蔽天線及/或其他組件免受來自前端積體電路之電磁干擾。因此，天線可整合於封裝模組中，且射頻屏蔽結構可減少封裝模組之組件之間的電磁干擾。根據一些實施例，整合式天線可為多層天線。在一些情況下，多層天線可具有實施於基板之第一側上的一第一部分，及實施於基板之與基板之第一側相對的第二側上之一第二部分。具有一整合式天線及在射頻屏蔽結構之內部上的一前端積體電路之一些實例封裝模組將參看圖10至圖14來描述。圖10至圖14說明無形成於前端積體電路上而非天線上之屏蔽層之封裝模組。舉例而言，可根據章節VI中論述的原理及優點中之任一者形成此屏蔽層。 圖10為根據一實施例的包括具有在射頻屏蔽結構51內之磁耦合電感器之一低雜訊放大器32及在射頻屏蔽結構51外部之一天線52的一封裝模組50之示意圖。圖10以平面圖展示封裝模組50，其無射頻屏蔽結構51之頂部屏蔽層。封裝模組50包括一封裝基板53、在封裝基板53上方延伸之一射頻屏蔽結構51及定位於射頻屏蔽結構51之內部中的一前端積體電路54，及在射頻屏蔽結構51外部在封裝基板53上的一天線52。射頻屏蔽結構51可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。天線52可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。封裝基板53可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。前端積體電路54包括一低雜訊放大器32，該低雜訊放大器包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器32之一第二電感器。低雜訊放大器32為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。低雜訊放大器32可包括在章節I中論述的特徵之任何合適組合。 圖11為根據一實施例的包括一低雜訊放大器37及在射頻屏蔽結構52內之一過載保護電路38及在射頻屏蔽結構52外部之一天線的一封裝模組55之示意圖。圖11以平面圖展示封裝模組55，其無射頻屏蔽結構51之頂部屏蔽層。封裝模組55包括一封裝基板53、在封裝基板53上方延伸之一射頻屏蔽結構51及定位於射頻屏蔽結構51之內部中的一前端積體電路54'，及在射頻屏蔽結構51外部在封裝基板53上之一天線52。射頻屏蔽結構51可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。天線52可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。封裝基板53可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。該前端積體電路54'包括一天線側開關47、包括電耦接至天線側開關47之一輸入端的一低雜訊放大器37及一過載保護電路38，該過載保護電路經組態以基於低雜訊放大器37之信號位準調整天線側開關47之阻抗。低雜訊放大器37為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。天線側開關47為上文所論述的天線側開關2之一實例。低雜訊放大器37及/或過載保護電路38及/或天線側開關47可包括在章節II中論述的特徵之任何合適組合。 圖12為根據一實施例的包括在射頻屏蔽結構51內之一多模式功率放大器31及在射頻屏蔽結構51外部之一天線52的一封裝模組56之示意圖。封裝模組56包括一封裝基板53、在該封裝基板53上方延伸之一射頻屏蔽結構51、定位於該射頻屏蔽結構51之內部中的一前端積體電路54''及在該射頻屏蔽結構51外部在該封裝基板53上之一天線52。該射頻屏蔽結構51可包括在章節VI中論述之一或多個合適特徵。天線52可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。封裝基板53可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。前端積體電路54''包括一多模式功率放大器31，其包括一包括兩個或兩個以上電晶體之電晶體堆疊的堆疊輸出級。該多模式功率放大器31亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。多模式功率放大器31為上文所論述的功率放大器5之一實例。多模式功率放大器31可包括在章節III中論述的特徵之任何合適組合。 圖13為根據一實施例的一封裝模組57之示意圖，該封裝模組包括具有在射頻屏蔽結構51內之一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35及在射頻屏蔽結構51外部之一天線52。封裝模組56包括一封裝基板53、在封裝基板53上方延伸之一射頻屏蔽結構51及定位於射頻屏蔽結構51之內部中的一前端積體電路54'''，及在射頻屏蔽結構51外部在封裝基板53上之一天線52。射頻屏蔽結構51可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。天線52可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。封裝基板53可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。該前端積體電路54'''包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。如所說明，功率放大器35包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。功率放大器35為上文所論述的功率放大器5之一實例。功率放大器35及/或注入鎖定式振盪器驅動器級可包括在章節IV中論述的特徵之任何合適組合。 圖14為根據一實施例的包括在射頻屏蔽結構51內之一過應力保護電路及在射頻屏蔽結構51外部之一天線52的一封裝模組58之示意圖。封裝模組56包括一封裝基板53、在封裝基板53上方延伸之一射頻屏蔽結構51及定位於射頻屏蔽結構51之內部中的一前端積體電路54''''，及在射頻屏蔽結構51外部在封裝基板53上之一天線52。射頻屏蔽結構51可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。天線52可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。封裝基板53可包括章節VI中論述之一或多個合適特徵。該前端積體電路54''''包括一襯墊41、一過應力保護電路及電連接至一信號節點之一內部電路59。過應力保護電路包括電連接於襯墊41與第一供應節點V 1之間的一過應力感測電路42、電連接於輸入襯墊41與一信號節點之間的一阻抗元件43及電連接於信號節點與第一供應節點V 1之間的一可控制箝位44。過應力感測電路42經組態以回應於偵測到在襯墊41處之一電性過應力事件而啟動可控制箝位44。過應力保護電路可包括章節V中論述的特徵之任何合適組合。 封裝模組可包括由多層基板之接地平面與前積體電路屏蔽之一天線。接地平面可屏蔽前端積體電路以免受來自天線之電磁干擾。替代地或另外，接地平面可屏蔽天線以免受來自前端積體電路之電磁干擾。因此，天線可整合於封裝模組中，且接地平面可減少封裝模組之組件之間的電磁干擾。具有定位於天線與前端積體電路之間的接地平面之一些實例封裝模組將參看圖15A至圖15F來描述。 圖15A為根據一實施例的包括在天線62與前端積體電路63之間的一接地平面61之一封裝模組60之橫截面。封裝模組60包括：一多層基板64，其包括一接地平面61；在多層基板64之第一側上的一天線62；及在多層基板64之第二側上的一前端積體電路63。接地平面61定位於天線62與前端積體電路63之間。接地平面61可操作以提供對前端積體電路63之屏蔽。封裝模組60可包括章節VII中論述的特徵之任何合適組合。 如所說明，封裝模組60亦包括安置於天線層62與接地平面61之間的一絕緣層65、其他層66 (例如包括信號導引及/或被動組件)、自接地平面61延伸至多層基板64之底部側的通孔67、囊封前端積體電路63之模製材料68、延伸穿過模製材料68之模具通孔69及焊料凸塊70。 圖15B至圖15F為包括各種前端積體電路63的封裝模組60之實例橫截面。在此等圖中，接地焊料凸塊70包圍一前端積體電路且形成圍繞前端積體電路的一屏蔽結構之一部分。如所說明，接地焊料凸塊70包圍信號導引焊料凸塊73。信號導引焊料凸塊73提供前端積體電路63與在安置於前端積體電路63與接地平面61之間的佈線層中之金屬佈線之間的連接之至少一部分。雖然圖15B至圖15F說明前端積體電路中包括之電路系統，但多數前端積體電路將亦包括未在此等圖中說明之其他電路系統。在一些實施例中，前端積體電路63包括與圖15B至圖15F中之兩個或更多個相關聯的電路系統。 如圖15B中所展示，前端積體電路63可包括一低雜訊放大器32，其包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至第一電感器以提供負回饋以線性化低雜訊放大器32之一第二電感器。低雜訊放大器32為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。低雜訊放大器32可包括在章節I中論述的特徵之任何合適組合。 如圖15C中所展示，前端積體電路63可包括：一天線側開關47；一低雜訊放大器37，其包括經由天線側開關47電耦接至天線62之一輸入端；及一過載保護電路38，其經組態以基於低雜訊放大器37之信號位準調整天線側開關47之阻抗。低雜訊放大器37為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。低雜訊放大器37及/或過載保護電路38可包括章節II中論述的特徵之任何合適組合。 如圖15D中所展示，前端積體電路63可包括一多模式功率放大器31，其包括一包括兩個或兩個以上電晶體之電晶體堆疊的堆疊輸出級。該多模式功率放大器31亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。多模式功率放大器31為上文所論述的功率放大器5之一實例。多模式功率放大器31可包括在章節III中論述的特徵之任何合適組合。 如圖15E中所展示，前端積體電路63可包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。如所說明，功率放大器35包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。功率放大器35為上文所論述的功率放大器5之一實例。功率放大器35及/或注入鎖定式振盪器驅動器級可包括在章節IV中論述的特徵之任何合適組合。 如圖15F中所展示，前端積體電路63可包括一襯墊(連接至圖15F中之信號導引焊料凸塊73)、一過應力保護電路及電連接至一信號節點之一內部電路59。該過應力保護電路包括電連接於襯墊與第一供應節點V 1之間的一過應力感測電路42、電連接於襯墊與信號節點之間的一阻抗元件43及電連接於信號節點與第一供應節點V 1之間的一可控制箝位44。過應力感測電路42經組態以回應於偵測到在襯墊處之一電性過應力事件而啟動可控制箝位44。過應力保護電路可包括在章節V中論述的特徵之任何合適組合。 封裝模組可包括在一共同封裝內之一晶體及積體電路。此等封裝模組可包括一晶體、安置於晶體與基板之間的一第一積體電路(例如，系統單晶片(SoC))及一第二積體電路。此封裝模組可被稱作系統級封裝(SiP)。具有安置於晶體與封裝基板之間的一第一積體電路之一些實例封裝模組將參看圖16至圖20來描述。此等實例模組包括經配置以達成相對小的模組大小之組件。此等模組可具有減小之晶體跡線寄生電容及/或在晶體導引跡線與模組內之其他相對敏感性路徑之間的減少之耦合。 圖16為根據一實施例的包括一積體電路81、與該積體電路81垂直整合之一晶體82及包括具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器32的一其他積體電路83之一封裝模組80之橫截面。封裝模組80包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐之一晶體82。第一積體電路81安置於晶體82與封裝基板84之間。封裝模組80亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83。第二積體電路83未必係按比例繪製。如圖16中所說明，封裝模組80亦可包括一佈線基板或插入物85、一或多個負載電容器86及一或多個電線接合87。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體82可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83可包括本文中所論述之任何合適之前端電路系統。如所說明，第二積體電路83包括一低雜訊放大器32，該低雜訊放大器包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器32之一第二電感器。低雜訊放大器32為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。低雜訊放大器32可包括在章節I中論述的特徵之任何合適組合。 圖17為根據一實施例的包括一積體電路81、與該積體電路81垂直整合之一晶體82及包括一低雜訊放大器37及一過載保護電路38之一其他積體電路83'的一封裝模組90之橫截面。封裝模組90包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐之一晶體82。第一積體電路81安置於晶體82與封裝基板84之間。封裝模組90亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83'。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體82可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83'未必係按比例繪製。第二積體電路83'可包括本文中所論述之任何合適之前端電路系統。如所說明，第二積體電路83'包括一天線側開關47、包括電耦接至天線側開關47之一輸入端的一低雜訊放大器37及一過載保護電路38，該過載保護電路經組態以基於低雜訊放大器37之信號位準調整天線側開關47之阻抗。低雜訊放大器37為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。天線側開關47為上文所論述的天線側開關2之一實例。低雜訊放大器37及/或過載保護電路38及/或天線側開關47可包括在章節II中論述的特徵之任何合適組合。 圖18為根據一實施例的封裝模組92之橫截面，該封裝模組包括一積體電路81、與該積體電路81垂直整合之一晶體82及包括一多模式功率放大器31之一其他積體電路83''。封裝模組92包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐之一晶體82。第一積體電路81安置於晶體82與封裝基板84之間。封裝模組92亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83''。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體82可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83''未必係按比例繪製。第二積體電路83''包括一多模式功率放大器31，該多模式功率放大器包括一包括兩個或兩個以上電晶體之電晶體堆疊的堆疊輸出級。該多模式功率放大器31亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。多模式功率放大器31為上文所論述的功率放大器5之一實例。多模式功率放大器31可包括在章節III中論述的特徵之任何合適組合。 圖19為根據一實施例的包括一積體電路81、與該積體電路81垂直整合之一晶體82及包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35之一其他積體電路83'''的一封裝模組94之橫截面。封裝模組94包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐之一晶體82。第一積體電路81安置於晶體82與封裝基板84之間。封裝模組94亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83'''。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體82可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83'''未必係按比例繪製。該第二積體電路83'''包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35。功率放大器35為上文所論述的功率放大器5之一實例。功率放大器35可包括在章節IV中論述的特徵之任何合適組合。 圖20為根據一實施例的封裝模組96之橫截面，該封裝模組包括一積體電路81、與該積體電路81垂直整合之一晶體82及包括一過應力保護電路97之一其他積體電路83'''。封裝模組96包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐之一晶體82。第一積體電路81安置於晶體82與封裝基板84之間。封裝模組96亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83''''。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體82可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83''''未必係按比例繪製。第二積體電路83''''包括一過應力保護電路97。第二積體電路83''''亦可包括一襯墊及電連接至一信號節點之一內部電路。在一實施例中，該過應力保護電路97包括電連接於該襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與該信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。過應力保護電路97可包括在章節V中論述的特徵之任何合適組合。 封裝模組可包括一晶體總成。晶體總成可安置於諸如系統單晶片(SoC)之積體電路與封裝基板之間。此可導致較短晶體跡線且使封裝模組能夠在實質上更緊湊。晶體總成可包括在外殼內之一晶體振盪器，該外殼亦包括一或多個傳導柱以用於將信號自SoC導引至封裝基板及/或以提供熱導率。具有一晶體總成之一些實例封裝模組將參看圖21至圖25來描述。 圖21為根據一實施例的包括一積體電路81、在積體電路81下之一晶體總成102及包括具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器32的一其他積體電路83之一封裝模組100之橫截面。封裝模組100包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐且安置於第一積體電路81與封裝基板84之間的一晶體總成102。封裝模組100亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83。第二積體電路83未必係按比例繪製。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體總成102可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83可包括本文中所論述之任何合適之前端電路系統。如所說明，第二積體電路83包括一低雜訊放大器32，該低雜訊放大器包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器32之一第二電感器。低雜訊放大器32為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。低雜訊放大器32可包括在章節I中論述的特徵之任何合適組合。 圖22為根據一實施例的包括一積體電路81、在積體電路81下之一晶體總成102及包括一低雜訊放大器37及一過載保護電路38之一其他積體電路83'的一封裝模組104之橫截面。封裝模組104包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐且安置於第一積體電路81與封裝基板84之間的一晶體總成102。封裝模組104亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83'。第二積體電路83'未必係按比例繪製。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體總成102可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83'可包括本文中所論述之任何合適之前端電路系統。如所說明，第二積體電路83'包括一天線側開關47、包括電耦接至天線側開關47之一輸入端的一低雜訊放大器37及一過載保護電路38，該過載保護電路經組態以基於低雜訊放大器37之信號位準調整天線側開關47之阻抗。低雜訊放大器37為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。天線側開關47為上文所論述的天線側開關2之一實例。低雜訊放大器37及/或過載保護電路38及/或天線側開關47可包括在章節II中論述的特徵之任何合適組合。 圖23為根據一實施例的封裝模組105之橫截面，該封裝模組包括一積體電路81、在積體電路81下之一晶體總成102及包括一多模式功率放大器31之一其他積體電路83''。封裝模組105包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐且安置於第一積體電路81與封裝基板84之間的一晶體總成102。封裝模組105亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83''。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體總成102可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83''未必係按比例繪製。第二積體電路83''包括一多模式功率放大器31，該多模式功率放大器包括一包括兩個或兩個以上電晶體之電晶體堆疊的堆疊輸出級。該多模式功率放大器31亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。多模式功率放大器31為上文所論述的功率放大器5之一實例。多模式功率放大器31可包括在章節III中論述的特徵之任何合適組合。 圖24為根據一實施例的封裝模組106之橫截面，該封裝模組包括一積體電路81、在該積體電路81下之一晶體總成102及包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35的一其他積體電路83'''。封裝模組106包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐且安置於第一積體電路81與封裝基板84之間的一晶體總成102。封裝模組106亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83'''。第二積體電路83'''未必係按比例繪製。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體總成102可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。該第二積體電路83'''包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35。功率放大器35為上文所論述的功率放大器5之一實例。功率放大器35可包括在章節IV中論述的特徵之任何合適組合。 圖25為根據一實施例的封裝模組108之橫截面，該封裝模組包括一積體電路81、在該積體電路81下之一晶體總成102及包括一過應力保護電路97之一其他積體電路83''''。封裝模組108包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一第一積體電路81及由封裝基板84支撐且安置於第一積體電路81與封裝基板84之間的一晶體總成102。封裝模組108亦包括由該封裝基板84支撐之一第二積體電路83''''。第二積體電路83''''未必係按比例繪製。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第一積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。晶體總成102可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。第二積體電路83''''包括一過應力保護電路97。第二積體電路83''''亦可包括一襯墊及電連接至一信號節點之一內部電路。在一實施例中，該過應力保護電路97包括電連接於該襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與該信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。過應力保護電路97可包括在章節V中論述的特徵之任何合適組合。 封裝模組可包括一堆疊濾波器總成。堆疊濾波器總成可經配置以便減小封裝模組之佔據面積及/或實體大小。一堆疊濾波器總成可包括經封裝為表面黏著裝置(例如，一或多個電容器、一或多個電感器及/或一或多個電阻器)且經配置為一堆疊之被動組件。具有一堆疊濾波器總成之一些實例封裝模組將參看圖26至圖30來描述。 圖26為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成112及具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器32的一封裝模組110之方塊圖。封裝模組110包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一前端積體電路83及由封裝基板84支撐之一堆疊濾波器總成112。堆疊濾波器總成112可濾波與前端積體電路83相關聯之信號。封裝模組110亦包括由該封裝基板84支撐之一其他積體電路81。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。其他積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。堆疊濾波器總成112可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。前端積體電路83可包括本文中所論述之任何合適之前端電路系統。如所說明，前端積體電路83包括一低雜訊放大器32，該低雜訊放大器包括一第一電感器、一放大電路及磁耦合至該第一電感器以提供負回饋以線性化該低雜訊放大器32之一第二電感器。低雜訊放大器32為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。低雜訊放大器32可包括在章節I中論述的特徵之任何合適組合。 圖27為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成112及一低雜訊放大器37及一過載保護電路38的一封裝模組114之方塊圖。封裝模組114包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一前端積體電路83'及由封裝基板84支撐之一堆疊濾波器總成112。堆疊濾波器總成112可濾波與前端積體電路83'相關聯之一信號。封裝模組110亦包括由封裝基板84支撐之一其他積體電路81。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。其他積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。堆疊濾波器總成112可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。如所說明，前端積體電路83'包括一天線側開關47、包括電耦接至天線側開關47之一輸入端的一低雜訊放大器37及一過載保護電路38，該過載保護電路經組態以基於低雜訊放大器37之信號位準調整天線側開關47之阻抗。低雜訊放大器37為上文所論述的低雜訊放大器6之一實例。天線側開關47為上文所論述的天線側開關2之一實例。低雜訊放大器37及/或過載保護電路38及/或天線側開關47可包括在章節II中論述的特徵之任何合適組合。 圖28為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成112及一多模式功率放大器31之一封裝模組115之方塊圖。封裝模組115包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一前端積體電路83''及由封裝基板84支撐之一堆疊濾波器總成112。堆疊濾波器總成112可濾波與前端積體電路83''相關聯之一信號。封裝模組115亦包括由封裝基板84支撐之一其他積體電路81。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。其他積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。堆疊濾波器總成112可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。前端積體電路83''包括一多模式功率放大器31，其包括一包括兩個或兩個以上電晶體之電晶體堆疊的堆疊輸出級。該多模式功率放大器31亦包括一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。多模式功率放大器31為上文所論述的功率放大器5之一實例。多模式功率放大器31可包括在章節III中論述的特徵之任何合適組合。 圖29為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成112及具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35的一封裝模組116之方塊圖。封裝模組116包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一前端積體電路83'''及由封裝基板84支撐之一堆疊濾波器總成112。堆疊濾波器總成112可濾波與前端積體電路83'''相關聯之一信號。封裝模組116亦包括由封裝基板84支撐之一其他積體電路81。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。其他積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。堆疊濾波器總成112可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。前端積體電路83'''包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器35。功率放大器35為上文所論述的功率放大器5之一實例。功率放大器35可包括在章節IV中論述的特徵之任何合適組合。 圖30為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成112及一過應力保護電路97之一封裝模組118之方塊圖。封裝模組118包括一封裝基板84、由封裝基板84支撐之一前端積體電路83''''及由封裝基板84支撐之一堆疊濾波器總成112。堆疊濾波器總成112可濾波與前端積體電路83''''相關聯之一信號。封裝模組118亦包括由封裝基板84支撐之一其他積體電路81。封裝基板84可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。其他積體電路81可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。堆疊濾波器總成112可包括章節VIII中論述之一或多個合適特徵。前端積體電路83''''包括一過應力保護電路97。前端積體電路83''''亦可包括一襯墊及電連接至一信號節點之一內部電路。在一實施例中，該過應力保護電路97包括電連接於該襯墊與一第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與該信號節點之間的一阻抗元件及電連接於該信號節點與該第一供應節點之間的一可控制箝位。該過應力感測電路經組態以回應於偵測到在該襯墊處之一電性過應力事件而啟動該可控制箝位。過應力保護電路97可包括在章節V中論述的特徵之任何合適組合。 物聯網應用本文中的前端系統之一個實例應用為啟用具有無線連接性之各種物件，諸如，用於物聯網(IoT)。IoT指物件或事物(諸如，嵌有使物件能夠收集及交換資料(例如，機器對機器通信)及/或遠端感測及/或控制之電子器件之裝置、車輛及/或其他物品)之網路。本文中之前端系統可用以實現各種物件之無線連接性，藉此允許此等物件在IoT網路中通信。本文中所論述之前端系統可在IoT應用中實施以使無線連接性能夠擴大消費者管理資訊及其環境之方式。此等前端系統可實現新穎且新興之IoT應用，此可使人及事更靠近其被需要之重大資訊。雖然IoT為本文中的前端系統之一個實例應用，但本文中之教示可適用於廣泛範圍之技術及應用。現將論述一些實例IoT應用。 IoT裝置可在汽車系統中實施。自電傳至信息娛樂系統、照明、遠端無鍵項目、防撞平台、收費應答器、視訊顯示器、車輛追蹤工具及類似者，根據本文中所論述之任何合適原理及優點之前端系統可幫助實現連接車輛之方便且安全特徵。 IoT裝置可在連接之家庭環境中實施。根據本文中所論述之任何合適原理及優點之前端系統可允許屋主對其家庭環境之較大控制。IoT裝置可實施於包括智慧恆溫器、保全系統、感測器、燈開關、煙及一氧化碳警報器、路由器、高清電視、遊戲控制台及更多之大量裝置中。 IoT裝置可在工業情境中實施。自智能城市應用至工廠自動化、建築控制、商業飛行器、車輛追蹤、智慧計量、LED照明、安全相機及智慧型農業功能，根據本文中所論述之任何合適原理及優點之前端系統可實現此等應用且符合規範。 IoT裝置可在機器對機器情境中實施。IoT裝置可實現可變換組織經商之方式的機器對機器通信。自製造自動化至遙測術、遠端控制裝置及資產管理，本文中所論述之前端系統可提供支援廣泛範圍之機器對機器應用的蜂窩式、近程及全域定位解決方案。 IoT裝置可在醫療應用中實施。根據本文中所論述之任何合適原理及優點之前端系統可實現醫療裝置及正改良全世界數百萬人之護理的資訊之傳遞。根據本文中所論述之任何合適原理及優點之前端系統可整合至實現醫療裝置之小型化且增強資料傳輸之產品設計中。根據本文中所論述之任何合適原理及優點的諸如功率放大器及低雜訊放大器之放大器可實施於醫療器具中。 IoT裝置可在行動裝置中實施。近年來隨著消費者日益設法隨處且隨時連接，通信前景已改變。根據本文中所論述之任何合適原理及優點之前端系統可為緊湊的、有能量及成本效益、符合大小及效能約束，同時實現大的消費者體驗。諸如智慧型電話、平板電腦及WLAN系統之無線行動裝置可包括根據本文中所論述之任何合適原理及優點之一前端系統。 IoT裝置可在智慧型能量應用中實施。公用事業公司正在使用涉及雙向通信的基於電腦之遙控及自動化來使其系統現代化。對公用事業及消費者之一些益處包括智慧型網格上的最佳化之能效、調平及負載平衡。根據本文中所論述之任何合適原理及優點之前端系統可實施於智慧型儀錶、智慧型恆溫器、家中顯示器、ZigBee / 802.15.4、藍芽及藍芽低能量應用中。 IoT裝置可在可佩戴裝置中實施。諸如智慧型手錶、智慧型護目鏡、健身追蹤器及健康監測器之可佩戴裝置可包括根據本文中所論述之任何合適原理及優點之前端系統以實現消耗相對低功率之相對小外觀尺寸解決方案且實現始終開啟連接性。舉例而言，此可允許應用程式在長時間週期內在背景中執行，而不要電池再充電 本文中所論述之任何合適原理及優點可實施於IoT網路、IoT物件、車輛、工業裝備、對應的前端系統、對應的電路板類似者或其任何合適組合。現將論述一些實例。 圖31為IoT網路200之一個實例之示意圖。IoT網路200包括一智慧型家201、一智慧型車輛202、一可佩戴物203、一行動裝置204、一基地台205、一智慧型醫院206、一智慧型工廠207及一智慧型衛星208。圖31之具備IoT功能之物件中之一或多者可包括根據本文中之教示實施之一前端系統，諸如，前端模組及/或前端積體電路。 將智慧型家201描繪為包括廣泛多種具備IoT功能之物件，包括具備IoT功能之路由器211、具備IoT功能之恆溫器212、具備IoT功能之儀錶213、具備IoT功能之膝上型電腦214及具備IoT功能之電視215。雖然展示用於智慧型家的具備IoT功能之物件之各種實例，但智慧型家可包括廣泛多種具備IoT功能之物件。此等具備IoT功能之物件之實例包括(但不限於)具備IoT功能之電腦、具備IoT功能之膝上型電腦、具備IoT功能之平板電腦、具備IoT功能之電腦監視器、具備IoT功能之電視、具備IoT功能之媒體系統、具備IoT功能之遊戲系統、具備IoT功能之攝錄影機、具備IoT功能之相機、具備IoT功能之數據機、具備IoT功能之路由器、具備IoT功能之廚房器具、具備IoT功能之電話、具備IoT功能之空調機、具備IoT功能之洗衣機、具備IoT功能之乾燥機、具備IoT功能之影印機、具備IoT功能之傳真機、具備IoT功能之掃描儀、具備IoT功能之打印機、具備IoT功能之計量器、具備IoT功能之家庭輔助物(例如，語音控制輔助裝置)、具備IoT功能之保全系統、具備IoT功能之恆溫器、具備IoT功能之煙偵測器、具備IoT功能之車庫門、具備IoT功能之鎖、具備IoT功能之灑水器、具備IoT功能之水加熱器及/或具備IoT功能之燈。 如圖31中所展示，智慧型車輛202亦在IoT網路200中操作。智慧型車輛202可包括廣泛多種具備IoT功能之物件，包括(但不限於)具備IoT功能之信息娛樂系統、具備IoT功能之照明系統、具備IoT功能之溫度控制系統、具備IoT功能之鎖、具備IoT功能之點火、具備IoT功能之防撞系統、具備IoT功能之收費應答器及/或具備IoT功能之車輛追蹤系統。在某些實施中，智慧型車輛202可與其他智慧型車輛通信以藉此提供車輛對車輛(V2V)通信。此外，在某些實施中，智慧型車輛202可使用車輛對萬物(V2X)通信來操作，藉此與交通燈、收費閘及/或其他具備IoT功能之物件通信。 圖31之可佩戴物203亦具備IoT功能。具備IoT功能之可佩戴物之實例包括(但不限於)具備IoT功能之錶、具備IoT功能之護目鏡、具備IoT功能之健身追蹤器及/或具備IoT功能之生物標識裝置。 IoT網路200亦包括行動裝置204及基地台205。因此，在某些實施中，蜂巢式網路之使用者裝備(UE)及/或基地台可在IoT網路中操作且具備IoT功能。此外，廣泛多種具備IoT功能之物件可使用現有網路基礎設施(諸如，蜂窩式基礎設施)來通信。 繼續參看圖31，IoT不僅可適用於消費者裝置及物件，並且亦適用於其他應用，諸如，醫療、商業、工業、航空及/或防衛應用。舉例而言，智慧型醫院206可包括廣泛多種具備IoT功能之醫療裝備，及/或智慧型工廠207可包括廣泛多種具備IoT功能之工業裝備。此外，飛機、衛星及/或航空裝備亦可連接至IoT網路。IoT應用之其他實例包括(但不限於)資產追蹤、隊列管理、數位看板、智慧型自動售貨、環境監視、城市基礎設施(例如，智慧型街道照明)、收費收集及/或銷售點。 雖然具備IoT功能之物件之各種實例在圖31中所說明，但IoT網路可包括廣泛多種類型之物件。此外，任何數目個此等物件可存在於IoT網路中。舉例而言，IoT網路可包括數百萬或數十億個具備IoT功能之物件或事物。 具備IoT功能之物件可使用廣泛多種通信技術通信，包括(但不限於)藍芽、ZigBee、Z-Wave、6LowPAN、Thread、Wi-Fi、NFC、Sigfox、Neul及/或LoRaWAN技術。此外，某些具備IoT功能之物件可使用蜂窩式基礎設施通信，例如，使用2G、3G、4G (包括LTE、進階型LTE及/或進階型LTE Pro)及/或5G技術。 圖32A為具備IoT功能之錶300之一個實例之示意圖。具備IoT功能之錶300說明可包括根據本文中揭示之一或多個特徵實施的一前端系統之智慧型可佩戴物之一個實例。 圖32B為用於具備IoT功能之物件(諸如，圖32A之具備IoT功能之錶300)的前端系統301之一個實例之示意圖。前端系統301包括一第一收發器側開關303、一第二收發器側開關304、一第一天線側開關305、一第二天線側開關306、一第一功率放大器307、一第二功率放大器308、一雙工器311、一方向耦合器312、一終端阻抗313、一第一頻帶選擇濾波器315、一第二頻帶選擇濾波器316及一第三頻帶選擇濾波器317。 在所說明之實施例中，第一收發器側開關303在頻帶26傳輸輸入接腳(B26 TX IN)與頻帶13傳輸輸入接腳(B13 TX IN)之間選擇。第二收發器側開關303控制第一功率放大器307之輸出端至第一頻帶選擇濾波器315或第一頻帶選擇濾波器316之連接。因此，在此實例中，第一功率放大器307選擇性放大頻帶26或頻帶13。另外，第二功率放大器308放大頻帶12傳輸輸入接腳(B12 TX IN)。在由頻帶選擇濾波器315至317進行合適濾波後，第二天線側開關306選擇一所要的傳輸信號用於經由雙工器311及方向耦合器312提供至一天線接腳(ANT)。如圖32B中所展示，方向耦合器312由終端阻抗313終止。另外，第一天線側開關305將在天線接腳(ANT)上接收之信號提供至前端系統301之一所要的接收輸出接腳(在此實例中，四個)。說明之前端系統301亦包括各種額外接腳以提供額外功能性，諸如，傳輸功率之增強監視。舉例而言，前端系統301包括一方向耦合器輸出接腳(CPL)及回饋接腳(B12 RX、B13 RX及B26 RX)用於提供與由功率放大器產生之傳輸信號(分別針對頻帶12、頻帶13及頻帶26)相關聯的回饋信號。 前端系統301可併有在本文中之章節中描述之一或多個特徵。 圖33A為具備IoT功能之車輛321a至321d之一個實例之示意圖。具備IoT功能之車輛321a至321d中之每一者包括一前端系統用於實現無線車輛對車輛通信。具備IoT功能之車輛321a至321d可包括根據本文中揭示之一或多個特徵實施的一前端系統。 圖33B為用於具備IoT功能之物件的一前端系統325之另一實例之示意圖。前端系統325包括一天線側開關331、一旁路開關332、一LNA 333及一偏壓及邏輯電路334。 前端系統325包括用於控制前端系統325之控制接腳(C0及C1)及用於對前端系統325供電之一供電電壓接腳(VDD)。天線側開關331選擇性地將天線接腳(ANT)連接至傳輸信號接腳(TX_IN)或接收信號接腳(RX_OUT)。LNA 333包括連接至LNA輸入接腳(LNA_IN)之一輸入端及連接至LNA輸出接腳(LNA_OUT)之一輸出端。LNA 333選擇性地由旁路開關332繞過。使用外部導體及組件，LNA輸入接腳(LNA_IN)可直接地或間接地(例如，經由濾波器或其他組件)連接至接收信號接腳(RX_OUT)。此外，外部功率放大器可將傳輸信號提供至傳輸信號接腳(TX_IN)。 前端系統325可併有在本文中之章節中描述之一或多個特徵。 圖34A為具備IoT功能之工業裝備340的一個實例之示意圖。在所說明之實施例中，具備IoT功能之工業裝備340包括用於將光反射至太陽能接收器及渦輪機342之定日鏡341。具備IoT功能之工業裝備340可包括用於多種用途(諸如，提供定日鏡341之角度位置控制以控制引向太陽能接收器及渦輪機342的太陽能之濃度)之一或多個前端系統。具備IoT功能之工業裝備340可包括根據本文中揭示之一或多個特徵實施的一前端系統。 圖34B為用於一具備IoT功能之物件(諸如，圖34A之具備IoT功能之工業裝備340)的前端系統345之另一實例之示意圖。 前端系統345包括一邏輯控制電路350、一收發器DC阻塞電容器351、一第一天線DC阻塞電容器352、一第二天線DC阻塞電容器353、一LNA 354、一功率放大器356、一天線側開關357、一旁路開關358及一收發器側開關359。 前端系統345包括用於控制前端系統345之控制接腳(CPS、CTX、CSD、ANT_SEL)。天線側開關357選擇性地將第一天線接腳(ANT1)或第二天線接腳(ANT2)連接至功率放大器356或旁路開關358之輸出端/至LNA 354之輸入端。另外，旁路開關358選擇性地繞過LNA 354。此外，收發器側開關359選擇性地將收發器接腳(TR)連接至功率放大器356或旁路開關358之輸入端/至LNA 354之輸出端。DC阻塞電容器351至353用以提供DC阻塞以提供在控制前端系統345之內部DC偏壓時之增強型靈活性。 前端系統345可併有在本文中之章節中描述之一或多個特徵。 圖35A為具備IoT功能之鎖360之一個實例之示意圖。該具備IoT功能之鎖360說明可包括根據本文中揭示之一或多個特徵實施的一前端系統之具備IoT功能之物件之一個實例。 圖35B為用於圖35A之具備IoT功能之鎖360的一電路板361之一個實例之示意圖。電路板361包括一前端系統362，其可併有在本文中之章節中描述的一或多個特徵。 圖36A為具備IoT功能之恆溫器370之一個實例之示意圖。具備IoT功能之恆溫器370說明可包括根據本文中揭示之一或多個特徵實施的一前端系統之具備IoT功能之物件之另一實例。 圖36B為用於圖36A之具備IoT功能之恆溫器370的一電路板371之一個實例之示意圖。電路板371包括一前端系統372，其可併有在本文中之章節中描述的一或多個特徵。 圖37A為具備IoT功能之燈380之一個實例之示意圖。該具備IoT功能之燈380說明可包括根據本文中揭示之一或多個特徵實施的一前端系統之具備IoT功能之物件之另一實例。 圖37B為用於圖37A之具備IoT功能之燈380的一電路板381之一個實例之示意圖。圖37B亦描繪用於容納電路板381的具備IoT功能之燈380之一基底部分。電路板381包括一前端系統382，其可併有在本文中之章節中描述的一或多個特徵。 射頻系統圖38A至圖38F說明包括一前端系統(諸如，前端模組或前端積體電路)的射頻系統之實例之各種示意性方塊圖。圖38A至圖38F之射頻系統可併有在本文中之章節中描述的一或多個特徵。在某些實施中，諸如圖38A至圖38F之射頻系統中之任一者的一射頻系統實施於諸如行動電話、平板電腦、基地台、網路存取點、使用者端設備(CPE)、具備IoT功能之物件、膝上型電腦及/或可佩戴電子裝置的無線通信裝置之電路板(例如，印刷電路板(PCB))上。 圖38A說明射頻系統500之一個實例之示意性方塊圖。射頻系統500包括一天線501、一前端系統10及一收發器505。如上文所論述，前端系統10可併有在本文中之章節中描述的一或多個特徵。 天線501操作以無線傳輸經由天線側開關2接收之RF信號。RF傳輸信號可包括由功率放大器5產生之RF信號及/或經由旁路電路4發送之RF信號。天線501亦操作以無線接收RF信號，可經由天線側開關2將該RF信號提供至LNA 6及/或旁路電路4。雖然將共同天線用於傳輸及接收信號之實例，但本文中之教示亦可適用於實施使用分開的天線用於傳輸及接收。天線501之實例實施包括(但不限於)貼片天線、偶極天線、陶瓷諧振器、壓印金屬天線、雷射直接結構化天線及/或多層天線。 收發器505操作以將RF信號提供至收發器側開關3供傳輸及/或自收發器側開關3接收RF信號。收發器505可使用寬泛多種通信技術來通信，包括(但不限於)2G、3G、4G (包括LTE、進階型LTE及/或進階型LTE Pro)、5G、WLAN (例如，Wi-Fi)、WPAN (例如，藍芽及/或ZigBee)、WMAN (例如，WiMAX)及/或GPS技術中之一或多者。 圖38B說明射頻系統506之另一實例之示意性方塊圖。射頻系統506包括一前端系統20及一收發器505。如上文所論述，前端系統20可併有在本文中之章節中描述的一或多個特徵。 圖38C說明射頻系統510之另一實例之示意性方塊圖。射頻系統510包括一天線501、一前端系統511及一收發器505。圖38C之前端系統511類似於圖38A之前端系統10，惟已省略包括旁路電路4之旁通路徑及天線側開關2'及收發器側開關3'包括少一個之投除外。因此，天線側開關2'經組態以選擇性地將天線501電連接至至LNA 6之輸入端或功率放大器5之輸出端。另外，收發器側開關3'經組態以選擇性地將收發器505電連接至至LNA 6之輸出端或功率放大器5之輸入端。 圖38D說明射頻系統512之另一實例之示意性方塊圖。射頻系統512包括一第一天線501、一第二天線502、一前端系統514及一收發器505。圖38D之前端系統514類似於圖38A之前端系統10，惟天線側開關2''包括一額外投以提供至額外天線之連接性除外。因此，旁路電路4、功率放大器5及/或LNA 6可選擇性地電連接至第一天線501及/或第二天線502。雖然展示具有兩個天線的射頻系統之一實例，但射頻系統可包括或多或少天線。 因廣泛多種原因，多個天線可包括於一射頻系統中。在一個實例中，第一天線501及第二天線502分別對應於一傳輸天線及一接收天線。在第二實例中，第一天線501及第二天線502用於傳輸及/或接收與不同頻率範圍(例如，不同頻帶)相關聯之信號。在第三實例中，第一天線501及第二天線502支援分集通信，諸如，多輸入多輸出(MIMO)通信及/或交換式分集通信。在第四實例中，第一天線501及第二天線502支援傳輸及/或接收信號束之波束成形。 圖38E說明射頻系統520之另一實例之示意性方塊圖。射頻系統520包括一天線501、一前端系統524及一收發器505。圖38E之前端系統524類似於圖38A之前端系統10，惟已省略包括功率放大器5之傳輸路徑及天線側開關2'及收發器側開關3'包括少一個之投除外。因此，天線側開關2'經組態以選擇性地將天線501電連接至至LNA 6或旁路電路4之輸入端。另外，收發器側開關3'經組態以選擇性地將收發器505電連接至至LNA 6或旁路電路4之輸出端。 圖38F說明射頻系統530之另一實例之示意性方塊圖。射頻系統530包括一功率放大器5、一天線501、一前端系統534及一收發器505。圖38F之前端系統534類似於圖38A之前端系統10，惟已省略功率放大器5及前端系統534包括用於耦接至天線側開關2及收發器側開關3之投之輸入/輸出埠除外。在前端系統534外部之功率放大器5可電連接於此等輸入/輸出埠之間使得功率放大器5包括於天線側開關2與收發器側開關3之間的傳輸信號路徑中。功率放大器5可包括於不同封裝模組中及/或體現於與前端系統534之所說明元件不同的晶粒上。 無線通信裝置圖39A為無線通信裝置650之一個實例之示意圖。無線通信裝置650包括一第一天線641、一無線個人區域網路(WPAN)系統651、一收發器652、一處理器653、一記憶體654、一電力管理區塊655、一第二天線656及一前端系統657。 本文中揭示的特徵之合適組合中之任一者可實施於無線通信裝置650中。舉例而言，可使用以上及/或在以下章節中描述的特徵中之任一者實施WPAN系統651及/或前端系統657。 WPAN系統651為經組態以用於處理與個人區域網路(PAN)相關聯之射頻信號的前端系統。WPAN系統651可經組態以傳輸及接收與一或多個WPAN通信標準相關聯之信號，諸如，與藍芽、ZigBee、Z-Wave、無線USB、INSTEON、IrDA或人體區域網路中之一或多者相關聯的信號。在另一實施例中，無線通信裝置可包括無線區域網路(WLAN)系統，代替所說明WPAN系統，且WLAN系統可處理Wi-Fi信號。 圖39B為無線通信裝置660之另一實例之示意圖。圖39B之所說明無線通信裝置660為經組態以經由PAN通信之裝置。此無線通信裝置660可相對不如圖8A之無線通信裝置650複雜。如所說明，無線通信裝置660包括一天線641、一WPAN系統651、一收發器662、一處理器653及一記憶體654。WPAN系統660可包括本文中揭示的特徵之任何合適組合。舉例而言，可使用以上及/或在以下章節中描述的特徵中之任一者實施WPAN系統651。 圖39C為無線通信裝置800之另一實例之示意圖。無線通信裝置800包括一基頻系統801、一收發器802、一前端系統803、一或多個天線804、一電力管理系統805、一記憶體806、一使用者介面807及一電池808。 無線通信裝置800可用以使用廣泛多種通信技術來通信，包括(但不限於)2G、3G、4G (包括LTE、進階型LTE及/或進階型LTE Pro)、5G、WLAN (例如，Wi-Fi)、WPAN (例如，藍芽及/或ZigBee)、WMAN (例如，WiMAX)及/或GPS技術。 收發器802產生RF信號供傳輸且處理自天線804接收的傳入之RF信號。應理解，與RF信號之傳輸及接收相關聯的各種功能性可由在圖39C中共同地表示為收發器802之一或多個組件達成。在一個實例中，可提供單獨的組件(例如，單獨的電路或晶粒)用於處置某些類型之RF信號。 前端系統803輔助調節傳輸至天線804及/或自天線804接收之信號。在所說明之實施例中，前端系統803包括一或多個功率放大器(PA) 811、一或多個低雜訊放大器(LNA) 812、一或多個濾波器813、一或多個開關814及一或多個雙工器815。然而，其他實施係可能的。 舉例而言，前端系統803可提供許多功能性，包括(但不限於)放大用於傳輸之信號、放大接收之信號、濾波信號、在不同頻帶之間切換、在不同功率模式之間切換、在傳輸與接收模式之間切換、信號之雙工、信號之多工(例如，雙工或三工)或其某一組合。 本文中揭示的特徵之合適組合中之任一者可實施於無線通信裝置800中。舉例而言，前端系統803可使用以上及/或在以下章節中描述的特徵中之任一者來實施。 在某些實施中，無線通信裝置800支援載波聚集，藉此提供增大峰值資料速率之靈活性。載波聚集可用於分頻雙工(FDD)及分時雙工(TDD)兩者，且可用以聚集複數個載波或通道。載波聚集包括鄰接聚合，其中聚集相同操作頻帶內之鄰接載波。載波聚合亦可為非鄰接的，且可包括在共同頻帶內之頻率中或在不同頻帶中分開之載波。 天線804可包括用於廣泛多種類型之通信的天線。舉例而言，天線804可包括用於傳輸及/或接收與廣泛多種頻率及通信標準相關聯之信號的天線。 在某些實施中，天線804支援MIMO通信及/或交換式分集通信。舉例而言，MIMO通信使用多個天線用於經由單一射頻通道傳遞多個資料串流。歸因於無線電環境之空間多工差異，MIMO通信受益於較高信雜比、改良之寫碼及/或減小之信號干擾。交換式分集指選擇一特定天線用於在一特定時間操作之通信。舉例而言，開關可用以基於多種因素(諸如，觀測到之位錯誤率及/或信號強度指示符)自一群天線選擇一特定天線。 在某些實施中，無線通信裝置800可藉由波束成形來操作。舉例而言，前端系統803可包括具有由收發器802控制之可變相位的移相器。另外，移相器經控制以提供波束形成及方向性以用於使用天線804進行的信號之傳輸及/或接收。舉例而言，在信號傳輸之情境中，提供至天線804的傳輸信號之相位經控制，使得來自天線804之經輻射信號使用建設性及破壞性干涉組合以產生展現波束狀品質之聚集傳輸信號，其具有在一給定方向上傳播之較多信號強度。。在信號接收之情境中，相位經控制使得當信號正自一特定方向到達天線804時，接收到較多信號能量。在某些實施中，天線804包括天線元件之一或多個陣列以增強波束成形。 基頻系統801耦接至使用者介面807以有助於諸如語音及資料之各種使用者輸入及輸出(I/O)之處理。基頻系統801給收發器802提供傳輸信號之數位表示，收發器802處理該等傳輸信號以產生用於傳輸之RF信號。基頻系統801亦處理由收發器802提供的接收之信號之數位表示。如圖39C中所展示，基頻系統801耦接至記憶體806以有助於無線通信裝置800之操作。 記憶體806可用於廣泛多種用途(諸如，儲存資料及/或指令)以有助於無線通信裝置800之操作及/或提供使用者資訊之儲存。 電力管理系統805提供無線通信裝置800之許多電力管理功能。在某些實施中，電力管理系統805包括一PA供應控制電路，其控制功率放大器811之供電電壓。舉例而言，電力管理系統805可經組態以改變提供至功率放大器811中之一或多者的供電電壓以改良效率，諸如，功率增添效率(PAE)。 如圖39C中所展示，電力管理系統805自電池808接收電池電壓。電池808可為用於在無線通信裝置800中使用之任何合適電池，包括(例如)鋰離子電池。 章節 I - 具有阻抗變換電路之低雜訊放大器根據本發明之一些實施例，本發明之此章節係關於一種具有一阻抗變換電路之低雜訊放大器(LNA)。該阻抗變換電路包括磁耦合電感器以線性化LNA。如上所指示，此章節之態樣可與一或多個其他章節之其他態樣組合以進一步改良前端系統及使用其之相關裝置、積體電路、模組及方法之效能。 存在用於任一給定低雜訊放大器設計之同時滿足的若干效能參數。用於低雜訊放大器之供應電流常常係預定的。在此等情況下，存在相對少的可經操縱以設定電路之總體行為之變數。此章節提供多一個之控制變數以設定電路之總體效能。詳言之，可藉由實施此章節之特徵來改良線性。 在LNA中，線性可為一重要參數。LNA具有相對較高線性可為合乎需要的。可藉由1 dB壓縮點及/或3階互調來量測線性。因此，LNA之1 dB壓縮點及/或3階互調可為重要的。用於LNA及其他電路之規範為指定具有較低供應電流之較高線性。預期此趨勢會繼續。在亦符合其他效能規範之時符合此等規範可具挑戰性。因此，存在對具有改良線性之LNA的需求。 此章節提供控制LNA之輸入匹配的新方式，且以此方式，可改良LNA之線性。舉例而言，使用在此章節中論述之原理及優點，可改良1 dB壓縮點及3階互調。此章節提供以下電路——可以電感方式擴展退化放大器概念，使得自感及互感效應兩者可改良LNA之線性，而非僅自感性退化。 LNA可包括一電感退化共同源或共射極放大裝置。電感退化可線性化此電路。此外，退化電感器可與放大裝置之大小及偏壓電流一起設定電路之輸入阻抗。可包括在輸入端處之一串聯輸入匹配電感器以達成所要的輸入阻抗及獲得相對好之輸入匹配。 本發明之態樣係關於一種具有在退化電感器(例如，源極退化電感器或射極退化電感器)與一串聯輸入電感器之間的磁耦合之LNA。此等磁耦合之電感器可實際上提供一變壓器，具有與輸入端串聯之一初級繞組及電連接於退化電感器電連接至放大裝置之處(例如，在場效電晶體放大裝置之源極處或在雙極電晶體放大裝置之射極處)之一次級繞組。磁耦合之相位可為重要的。此相位藉由在隨附圖式中之點記法來指示。藉由本文中揭示之磁耦合電感器，可藉由使用自感及互感兩者來擴展電感退化放大器概念。 在本文中所論述之LNA中，若干效應可同時出現。通常，金屬氧化物半導體(MOS) LNA具有自電路之輸入端至放大裝置之閘極的電壓增益。此電壓增益可使電路之3階互調(IIP3)效能降級。衰減器通常不用以減小信號振幅，此係因為此衰減器可不當地使電路之雜訊效能降級。本文中所論述之LNA可包括一負回饋電路。LNA之放大裝置可藉由磁耦合至退化電感器之一第一電感器接收射頻(RF)信號。該第一電感器可具有經組態以接收RF信號之一第一端部及電耦接至該放大裝置之一第二端部。可增大窺視至在第一電感器之第一端部處之一節點(例如，圖41A至圖41F中之節點n2)內的阻抗，且可減小在第一電感器之第二端部處之一節點(例如，圖41A至圖41F中之節點n3)處之電壓。此可不減小增益，但該效應可允許電路藉由較大放大裝置不同地按比例調整。較高輸入阻抗亦可允許將RF信號提供至第一電感器的輸入匹配電感器之電感具有較低值。當實施晶片上匹配電感器時，此可為有利的，因為此等裝置之Q可為有限的，且輸入匹配電感器之有效串聯阻抗可使LNA之雜訊效能降級。舉例而言，在一個實施中，輸入匹配電感器值為在無磁耦合電感器之情況下其將另外為的值之大致一半。雖然本文中所論述之電路可能未給出絕對最佳可能雜訊匹配，但磁耦合電感器可允許輸入匹配電感器具有較低電感，且藉此恢復雜訊效能中的至少一些。藉由本文中所論述之磁耦合電感器提供的負回饋可給放大器提供增大之線性。 本發明之一個態樣為一種用於在一放大器(諸如，低雜訊放大器)中使用之阻抗變換電路。該阻抗變換電路包括一包括一第一電感器之匹配電路。該阻抗變換電路亦包括一第二電感器。該第一電感器及該第二電感器相互磁耦合以提供負回饋以線性化該放大器。 該第二電感器可為退化電感器，諸如，源極退化電感器或射極退化電感器。該第一電感器可將射頻信號提供至放大器之放大電路。該第一電感器、該第二電感器及放大器之放大電路可體現於單一晶粒上。 該匹配電路可進一步包括具有一第一端部及一第二端部之一串聯電感器，其中該第一端部經組態以接收一射頻信號且該第二端部電耦接至該第一電感器。該匹配電路可進一步包括電耦接至串聯電感器之第一端部之一分路電容器及/或經組態以將射頻信號提供至串聯電感器之一直流(DC)阻塞電容器。 本發明之另一態樣為一種低雜訊放大器(LNA)。該LNA包括一包括一第一電感器之匹配電路、經組態以藉由該第一電感器接收一射頻信號且放大該射頻信號之一放大電路及一第二電感器。該第一電感器及該第二電感器相互磁耦合以提供負回饋以線性化該LNA。 該放大電路可包括一共源極放大器或一共射極放大器。一串疊電晶體可與此等放大器中之任一者串聯地配置。此串疊電晶體可為共汲極放大器或共基極放大器。該第二電感器可為源極退化電感器或射極退化電感器。 該第一電感器、該第二電感器及放大器之放大電路可體現於單一晶粒上。該匹配電路可進一步包括具有一第一端部及一第二端部之一串聯電感器，其中該第一端部經組態以接收射頻信號且該第二端部電耦接至該第一電感器。該匹配電路可進一步包括電耦接至串聯電感器之第一端部之一分路電容器及/或經組態以將射頻信號提供至串聯電感器之一直流(DC)阻塞電容器。 本發明之另一態樣為一種前端系統，其包括一低雜訊放大器、一旁通路徑及一多投開關。該低雜訊放大器包括一包括一第一電感器之匹配電路、經組態以藉由該第一電感器接收一射頻信號且放大該射頻信號之一放大電路及一第二電感器，該第二電感器與該第一電感器磁耦合以提供負回饋以線性化該放大電路。該多投開關至少具有電連接至該低雜訊放大器之一第一投及電連接至該旁通路徑之一第二投。 該前端系統可進一步包括一功率放大器，諸如，本文中所論述的功率放大器中之任一者。該多投開關可具有電耦接至該功率放大器之一第三投。該低雜訊放大器、該旁通路徑、該多投開關及該功率放大器可體現於單一晶粒上。 該前端系統可進一步包括一第二多投開關，其具有至少電連接至該低雜訊放大器之一第一投及電連接至該旁通路徑之一第二投，其中該低雜訊放大器包括於該多投開關與該第二多投開關之間的一第一信號路徑中，且其中該旁通路徑包括於該多投開關與該第二多投開關之間的一第二信號路徑中。 該多投開關可在第一狀態中將低雜訊放大器之輸入端電連接至一天線，且該多投開關可在第二狀態中將旁通路徑電連接至該天線。該前端系統可進一步包括該天線。該天線可與低雜訊放大器、旁通路徑及多投開關整合在一起。 該低雜訊放大器、該多投開關及該旁通路徑可體現於單一晶粒上。該前端系統可包括圍封該功率放大器、該多投開關及該旁通路徑之一封裝。 在前端系統中，LNA可包括本文中所論述的LNA及/或放大器之特徵之任何合適組合。 圖40A至圖40D說明實例低雜訊放大器，其包括具有經配置以線性化低雜訊放大器之磁耦合電感器的阻抗變換電路。此等低雜訊放大器中之任一者可實施於RF系統中之一接收路徑中。該等低雜訊放大器可藉由諸如絕緣體上矽製程技術之任何合適製程技術實施。圖40A至圖40D之低雜訊放大器之特徵之任何組合可合適地實施。 圖40A為根據一實施例的包括一阻抗變換電路之一低雜訊放大器(LNA) 1010之示意圖。如所說明，LNA 1010包括一阻抗變換電路及一放大電路。說明之阻抗變換電路包括一第一電感器1012及一第二電感器1014。說明之放大電路包括場效電晶體1016及1018。 圖40A中說明之第二電感器1014為可提供自感性退化之一源極退化電感器。第一電感器1012及第二電感器1014可一起提供可改良LNA 1010之線性的互感效應。第一電感器1012及第二電感器1014可一起充當變壓器，具有與場效電晶體1016之閘極串聯的一初級繞組及在場效電晶體1016之源極處電連接的一次級繞組。如所說明，第一電感器1012與第二電感器1014磁耦合。因此，此等電感器可提供負回饋以線性化LNA 1010。圖40A中之點記法指示第一電感器1012與第二電感器1014之間的磁耦合之相位。 圖40A中說明之放大電路包括一共源極放大器1016及一共閘極放大器1018。可藉由第一電感器1012將一RF輸入信號RF_IN提供至共源極放大器1016之閘極。如所說明，共閘極放大器1018與共源極放大器1016串聯地配置。因此，共閘極放大器1018可被稱作串疊電晶體或串疊場效電晶體。偏壓電路可將一偏壓信號BIAS提供至共閘極放大器1018之閘極。共閘極放大器1018可提供一RF輸出信號RF_OUT。 圖40B為根據一實施例的包括一阻抗變換電路之一低雜訊放大器1010'之示意圖。圖40B之低雜訊放大器1010'類似於圖40A之低雜訊放大器1010，惟圖40B中之放大電路由雙極電晶體而非場效電晶體實施除外。如圖40B中所說明，該放大電路包括雙極電晶體1022及1024。圖40B之放大電路包括與共基極放大器1024串聯之一共射極放大器1022。圖40B之第二電感器1014為一射極退化電感器。 圖40C為根據一實施例的包括一阻抗變換電路之一低雜訊放大器1010''之示意圖。LNA之放大電路可包括一雙極電晶體及一場效電晶體。此LNA之雙極電晶體及場效電晶體可配置於一堆疊中。圖40C說明包括配置於一堆疊中之一雙極電晶體及一場效電晶體的一LNA 1010''之一實例。如圖40C中所說明，LNA 1010''包括經配置為共射極放大器之一雙極電晶體1022及經配置為共閘極放大器之一串疊場效電晶體1018。替代地，低雜訊放大器可包括配置於一堆疊中之一共源極放大器及一共基極放大器。 圖40D為根據一實施例的包括一阻抗變換電路之一低雜訊放大器1010'''之示意圖。圖40A至圖40C中所展示之放大電路為可關於包括提供負回饋以線性化LNA之磁耦合電感器的一阻抗變換電路實施之實例放大電路。圖40D展示可關於任何合適之放大電路實施第一電感器1012及第二電感器1014，如由放大電路1026展示。放大電路1026可由圖40A之放大電路、圖40B之放大電路、圖40C之放大電路或任一其他合適放大電路實施。 圖41A、圖41B及圖41C為包括根據某些實施例之低雜訊放大器的低雜訊放大器系統之示意圖。此等LNA包括不同輸入匹配電路。可關於本文中恰當論述的放大器中之任一者實施此等匹配電路之原理及優點中之任一者。 圖41A為包括一LNA及一偏壓電路1032的低雜訊放大器系統1030之示意圖。圖41A中說明之LNA包括一匹配電路、一放大電路及一退化電感器。此LNA之放大電路對應於圖40A之LNA 1010之放大電路。應理解，參看圖41A至圖41C論述的原理及優點中之任一者可關於其他合適之放大電路(諸如，圖40B之LNA 1010'之放大電路及/或圖40C之LNA 1010''之放大電路1026)來實施。在圖41B中，電感器1012及1104相互磁耦合且可如上文所論述發揮功能。 圖41A中所說明之匹配電路包括第一電感器1012、一串聯電感器1036及一分路電容器1038。該匹配電路可提供用於LNA之輸入阻抗匹配。可在節點n1處提供RF輸入信號RF_IN。分路電容器1038在節點n1電連接至串聯電感器1036。分路電容器1038可在節點n1提供阻抗匹配。舉例而言，分路電容器1038之阻抗可終止於對應於RF輸入信號RF_IN之基頻的一相位處。可藉由串聯電感器1036及第一電感器1012將RF輸入信號RF_IN提供至LNA之放大電路。第一電感器1012與第二電感器1014之間的磁耦合可增大節點n2處之阻抗。因此，節點n1處之阻抗可藉由此磁耦合而增大。因此，隨著自此磁耦合的阻抗之增大，第一電感器1012之電感及/或串聯電感器1036之電感可減小且提供類似輸入匹配。此可有利地減小第一電感器1012及/或串聯電感器1036之實體面積，此可為重要的。具有相對較低電感之電感器亦可改良LNA之雜訊效能。 偏壓電路1032可在節點n2處提供該共源極放大器1016之第一偏壓。第一偏壓可藉由第一電感器1012提供至共源極放大器1016之閘極。在一些情況下，偏壓電路32可將一第二偏壓提供至共閘極放大器1018之閘極。偏壓電路1032可由任何合適之偏壓電路實施。 圖41B之低雜訊放大器系統1030'類似於圖41A之低雜訊放大器系統1030，惟圖41B中的LNA之匹配電路亦包括一DC阻塞電容器1039除外。如所說明，DC阻塞電容器1039耦接於接收之RF信號與節點n1之間。DC阻塞電容器1039可阻擋RF輸入信號RF_IN之DC信號分量被提供至節點n1。 圖41C之低雜訊放大器系統1030''類似於圖41B之低雜訊放大器系統1030'，惟圖41C中的LNA之匹配電路不包括分路電容器1038除外。 圖41D為根據一實施例的包括一實例偏壓電路之低雜訊放大器系統1030'''之示意圖。圖41D之偏壓電路為圖41A至圖41C之偏壓電路1032之一實例。偏壓電路可包括一電流鏡以將偏壓信號提供至LNA之放大電路。如圖41D中所說明，偏壓電路包括電晶體1061及1062，及一偏壓元件1063 (諸如，電阻器)。偏壓電路經組態以藉由偏壓元件1063將一偏壓電壓提供至電晶體1016。偏壓輸入信號BIAS_IN可為由電流源提供之電流。 圖41E為根據一實施例的包括耦接至低雜訊放大器之輸出端的一偏壓及匹配電路1064之低雜訊放大器系統1030''''之示意圖。偏壓及匹配電路1064可包括任何合適電路元件以使LNA之輸出偏壓及/或以在LNA之輸出端處提供阻抗匹配。可關於本文中所論述的LNA中之任一者實施偏壓及匹配電路1064。 圖41F為根據一實施例的包括耦接至低雜訊放大器之輸出的一實例偏壓及匹配電路之低雜訊放大器系統1030'''''之示意圖。圖41F之偏壓及匹配電路為圖41E之偏壓及匹配電路1064之一實例。圖41F之偏壓及匹配電路包括一電感器1065及一電容器1067。電感器1065可將一偏壓提供至LNA之輸出端。電容器1067可提供阻抗匹配。可替代地實施其他合適被動阻抗網路以在LNA之輸出端處提供偏壓及阻抗匹配。 圖42為對應於圖41A之低雜訊放大器系統之匹配電路及退化電感器之史密斯圖。此史密斯圖展示當實施磁耦合電感器1012及1014時自起動阻抗之輸入阻抗變化之方式。此圖表上之箭頭展示用於增大磁耦合之方向。軌跡A展示在圖41A之節點n2處的阻抗隨著耦合因數在第一電感器1012與第二電感器1014之間改變而變化之方式。軌跡A相對靠近增添串聯電阻之效應。軌跡B為自軌跡A與50歐姆電阻線交叉之點的串聯電感器1036之增添。淨效應為，串聯電感器1036亦可顯著較小(例如，在所展示之實例中，在2.5 GHz下，B = 1 nH且C = 2.7 nH)。軌跡C展示串聯電感器1036之效應。軌跡D展示分路電容器1038之效應。 上文所論述的LNA及/或前端系統之電路元件中之一些或所有可實施於單一半導體晶粒上。圖43說明根據一實施例的低雜訊放大器之磁耦合電感器之實體佈局。如所說明，晶粒1049包括一放大電路1026、一第一電感器1012及與第一電感器1012磁耦合之一第二電感器1014。晶粒1049亦可包括一串聯電感器1036，如所說明。可使用任何合適之製程技術來製造晶粒1049。作為一個實例，晶粒1049可為絕緣體上半導體晶粒，諸如，絕緣體上矽晶粒。 第一電感器1012及第二電感器1014可各包括一或多個環形彎。第一電感器1012與第二電感器1014可相互交錯。在一些情況下，第一電感器1012及/或第二電感器1014可實施於兩個金屬層中，在兩個金屬層中之金屬之間具有傳導性連接。此可降低金屬之電阻且增大電感器之品質因數。 在一些情況下，第一電感器1012及第二電感器可纏繞於一磁芯周圍。替代地，在某些應用中，磁芯可實施於第一電感器1012及第二電感器1014周圍。 雖然圖43未必按比例，但此圖式說明第一電感器1012及第二電感器1014可相對大，且可消耗大的實體晶粒面積。如所說明，串聯電感器1036可相對大且可消耗大的實體晶粒面積。因此，減小第一電感器1012 (及/或以上描述之串聯電感器1036)之電感及因此大小可導致LNA消耗的實體面積之顯著減小。 本文中所論述之低雜訊放大器(其可如在此章節中較早先所描述)可包括於任何合適前端系統、封裝模組、半導體晶粒(例如，絕緣體上半導體晶粒，諸如，絕緣體上矽晶粒)、無線通信裝置(例如，行動電話，諸如，智慧型電話)或類似者中。 章節 II - 低雜訊放大器之過載保護根據本發明之一些實施例，本發明之此章節係關於低雜訊放大器(LNA)之過載保護。在某些組態中，一種LNA系統包括：一輸入開關，其具有控制該輸入開關之一阻抗的一類比控制輸入端；一LNA，其放大自該輸入開關接收之一射頻(RF)輸入信號；及一過載保護電路，其基於偵測到該LNA之一信號位準而將回饋提供至該輸入開關之類比控制輸入端。該過載保護電路偵測該LNA是否過載。另外，當該過載保護電路偵測到一過載狀況時，過載保護電路將回饋提供至該開關之該類比控制輸入端以增大該開關之阻抗且減小由該LNA接收的該RF輸入信號之量值。如上所指示，此章節之態樣可與一或多個其他章節之其他態樣組合以進一步改良前端系統及使用其之相關裝置、積體電路、模組及方法之效能。 大輸入信號可使過載狀況在低雜訊放大器(LNA)中引起。舉例而言，在某些應用中，指定一LNA容許實質上高於正常操作信號位準之高過載信號。 在不存在過載保護方案之情況下，提供大輸入信號至LNA可導致在LNA之電路系統(諸如，用於放大之電晶體)中顯現之高電流及/或電壓。此高電流及/或電壓可對放大電晶體造成永久性電性過應力損壞，使得其不再能夠操作及/或使得其操作受到損害。 本文中提供用於LNA之過載保護之設備及方法。在某些組態中，一種LNA系統包括：一輸入開關，其具有控制該輸入開關之一阻抗的一類比控制輸入端；一LNA，其放大自該輸入開關接收之一射頻(RF)輸入信號；及一過載保護電路，其基於偵測到該LNA之一信號位準而將回饋提供至該輸入開關之類比控制輸入端。該過載保護電路偵測該LNA是否過載。另外，當該過載保護電路偵測到一過載狀況時，過載保護電路將回饋提供至該開關之該類比控制輸入端以增大該開關之阻抗且減小由該LNA接收的該RF輸入信號之量值。 本文中之過載保護方案可用以限制在LNA之電路系統內顯現的大電流及/或電壓擺動狀況。 在某些實施中，輸入開關亦用於控制信號連接性及/或導引。舉例而言，輸入開關可為用以有助於經由天線傳輸及接收之信號之導引的多投開關之部分。將輸入開關用於過載保護及信號導引兩者可藉由針對多個功能共用電路系統來減少開銷及/或增強效能。舉例而言，使用已在接收信號路徑中之一輸入開關提供過載保護，而不增大接收路徑之插入損耗。因此，過載保護電路對LNA之效能不具有影響或具有相對小的影響。 本文中之教示可用以控制輸入開關之阻抗以使傳入之RF信號衰減至安全位準。對於一輸入開關(諸如，金屬氧化物半導體(MOS)電晶體開關)，可使用類比控制輸入端控制輸入開關之阻抗。舉例而言，可基於提供至MOS電晶體之閘極的類比電壓位準來控制MOS電晶體開關之阻抗。 在本文中之某些實施中，過載保護電路藉由基於LNA之偵測到之信號位準(諸如，輸入信號位準、內部信號位準及/或輸出信號位準)的過載保護信號來控制輸入開關之類比控制輸入端。另外，過載保護電路經由過載保護信號將回饋提供至輸入開關之類比控制輸入端以防止大輸入信號損壞LNA。 在某些組態中，可不僅基於來自過載保護電路之過載保護信號，而且基於一或多個數位控制信號來控制輸入開關之阻抗。舉例而言，在某些實施中，該過載保護電路包括連接於過載保護電路之輸出端與至輸入開關之類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。該限制器啟用電路基於一或多個數位控制信號(諸如，開關啟用信號及/或限制器啟用信號)來控制輸入開關。舉例而言，該限制器啟用電路可用以當輸入開關在關狀態中時及/或當停用過載保護時斷開連接過載保護電路與類比控制輸入端。 可以廣泛多種方式偵測LNA之信號位準，諸如，藉由使用任何合適之信號偵測器。舉例而言，可使用信號偵測器偵測LNA之輸入信號位準、LNA之內部信號位準及/或LNA之輸出信號位準。舉例而言，在LNA之輸出端處的偵測避免雜訊指數降級，但可使LNA之線性降級。相比之下，在LNA之輸入端處的偵測可使雜訊指數降級。在輸出端處之偵測亦放鬆偵測器之設計約束，此係由於輸出信號位準比輸入信號位準高。 在某些實施中，LNA包括削減或限制LNA之輸出電壓位準的一輸出整流器電路。包括輸出整流器電路可增強效能，此係由於相對於由來自過載保護電路之回饋為增大輸入開關之阻抗花費之時間，輸出整流器電路可具有較快接通時間。在一個實例中，使用箝位二極體實施輸出整流器。一旦過載保護電路之控制迴路回應以提供回饋，則經由輸入開關之阻抗之控制，使信號位準降低或減小至安全位準。 與一信號路徑分路連接之一網路或電路可影響總體雜訊或線性效能。藉由使用已存在之一輸入開關提供過載保護，LNA不必包括分路或串聯之一額外電路以保護免受過載。 本文中之過載保護電路可經由增大輸入開關之阻抗來提供在LNA之輸入端處的信號衰減。因此，本文中之過載保護方案可用以保護免受高電壓及高電流兩者。此外，減少至LNA之RF輸入信號保護LNA之所有電路系統。相比之下，使用僅輸出電壓箝位之實施可能不會充分保護LNA之某些電路，及/或當箝位時，高電流可仍然在LNA中流動。 本文中揭示之LNA過載保護方案可適用於廣泛多種RF系統，包括(但不限於)智慧型電話、基地台、手持機、可佩戴電子器件及/或平板電腦。 圖44為根據一個實施例的LNA系統1110之示意圖。LNA系統1110包括一輸入開關1101、一LNA 1102及一過載保護電路或信號限制器1103。LNA系統1110進一步包括一輸入端子1107及一輸出端子1108。 LNA 1102對經由輸入開關1101自輸入端子1107接收之RF輸入信號提供放大。LNA 1102在輸出端子1108上提供放大之RF輸出信號。在某些組態中，輸入端子1107電連接至一天線，且輸出端子1108電連接至一收發器。舉例而言，收發器可包括一解調器，其將來自LNA 1102的放大之RF輸出信號降頻轉換成基頻或中頻。 輸入開關1101包括一類比控制輸入端，其用以控制在輸入端子1107與至LNA 1102之輸入端之間的輸入開關之阻抗。在某些組態中，輸入開關1101包括至少一個金屬氧化物半導體(MOS)電晶體，其具有充當類比控制輸入端之一閘極。藉由控制MOS電晶體之類比閘極電壓，可控制輸入開關之阻抗。 如圖44中所展示，過載保護電路1103偵測LNA 1102之信號位準以判定是否存在過載狀況。另外，過載保護電路1103產生一過載保護信號OP，該過載保護信號OP可操作以提供回饋至開關1101之類比控制輸入端。當過載保護電路1103偵測到過載狀況時，過載保護電路1103增大輸入開關1101之阻抗，藉此減小由LNA 1102接收的RF輸入信號之量值。因此，過載保護電路1103充當一信號限制器，其限制在LNA 1102之放大電晶體內顯現的大電流及電壓擺動狀況。 在某些實施中，輸入開關1101對應於用以有助於經由天線傳輸及接收的信號之導引的多投開關之部分。舉例而言，輸入端子1107可連接至無線裝置之天線。將輸入開關1101用於過載保護及導引信號兩者可減少開銷及/或增強效能。因此，在當不存在過載條件時之正常傳訊條件期間，過載保護電路1103對LNA 1102之效能不具有或具有相對小的影響。舉例而言，由於包括輸入開關1101以用於信號導引，因此過載保護方案不需要增大輸入端子1107與輸出端子1108之間的插入損耗。 雖然未在圖44中說明，但LNA系統1110可包括其他組件及/或電路系統。舉例而言，在一個實施例中，LNA系統1110進一步包括連接於過載保護電路1103之輸出端與至輸入開關1101之類比控制輸入端之間的一限制器啟用電路。在某些實施中，限制器啟用電路可用以基於開關啟用信號之狀態選擇性連接過載保護電路1103之輸出端與輸入開關之類比控制輸入端。 圖45A為根據另一實施例的LNA系統1115之示意圖。圖45A之LNA系統1115包括可如較早先所描述之輸入端子1107、輸出端子1108、輸入開關1101、LNA 1102及過載保護電路1103。LNA系統1115進一步包括一限制器啟用電路1126。 圖45A之LNA系統1115類似於圖44之LNA系統1110，惟LNA系統1115進一步包括限制器啟用電路1126除外。如圖45A中所展示，在此實施例中，限制器啟用電路1126接收限制器啟用信號LEN及開關啟用信號SWEN。雖然圖45A說明用於限制器啟用電路的數位控制信號之一個實例，但其他實施係可能的。 限制器啟用電路1126自過載保護電路1103接收過載保護信號OP。限制器啟用信號LEN可用以基於由限制器啟用電路1126接收的數位控制信號之狀態選擇性啟用過載保護/信號限制器功能性。 在所說明之實施例中，當開關啟用信號SWEN及限制器啟用信號LEN經啟用時，限制器啟用電路1126將過載保護信號OP提供至輸入開關1101之類比控制輸入端。然而，當開關啟用信號SWEN經停用時，限制器啟用電路1126控制類比控制輸入端以切斷輸入開關1101。另外，當限制器啟用信號LEN經停用時，輸入開關1101可基於開關啟用信號SWEN之狀態而接通或切斷。 在過載保護電路1103之輸出端與輸入開關1101之類比控制輸入端之間包括限制器啟用電路1126提供許多優點。舉例而言，限制器啟用電路1126允許藉由邏輯信號控制開關狀態，同時亦允許在需要時過載保護電路1103提供回饋至輸入開關之類比控制輸入端。 舉例而言，當開關啟用信號SWEN在停用狀態中時，限制器啟用電路1126斷開過載保護電路1103之輸出端與類比控制輸入端且切斷輸入開關1101。然而，當開關啟用信號SWEN及限制器啟用信號LEN在啟用狀態中時，限制器啟用電路1126將過載保護電路1103之輸出端連接至輸入開關1101之類比控制輸入端。 圖45B為根據另一實施例的LNA系統1120之示意圖。LNA系統1120包括可如較早先所描述之輸入端子1107、輸出端子1108、輸入開關1101、LNA 1102及限制器啟用電路1126。LNA系統1120進一步包括一過載保護電路或信號限制器1123。 說明之過載保護電路1123包括一偵測器1124及一誤差放大器1125。偵測器1124基於偵測到LNA 1102之信號位準產生一偵測信號DET。偵測器1124可以多種方式感測LNA 1102之信號位準，包括(例如)輸出信號偵測、輸入信號偵測及/或中間電壓及/或電流之偵測。 如圖45B中所展示，誤差放大器1125放大偵測信號DET以產生提供至限制器啟用電路1126之過載保護信號OP。在某些實施中，誤差放大器1125放大偵測信號DET與參考信號之間的差。 雖然圖45B說明過載保護電路之一個實施例，但本文中之過載保護電路可以廣泛多種方式來實施。 圖46A為根據一個實施例的LNA 1131及偵測器 1132之示意圖。LNA 1131包括一LNA輸入端RFIN及一LNA輸出端RFOUT。偵測器1132包括耦接至LNA 1131之內部節點的一偵測器輸入端及一偵測器輸出端DET。 LNA 1131進一步包括一放大NPN電晶體1141、一串疊n型金屬氧化物半導體(NMOS)電晶體1142、一射極退化電感器1143及一偏壓電感器1144。雖然在圖46A中展示LNA之一個實施，但本文中之教示可適用於以廣泛多種方式實施之LNA，包括(但不限於)使用更多或更少電晶體及/或不同裝置類型及/或極性之電晶體的LNA。 如圖46A中所展示，放大NPN電晶體1141之基極連接至LNA輸入端RFIN，且放大NPN電晶體1141之集極連接至串疊NMOS電晶體1142之源極。射極退化電感器1143電連接於放大NPN電晶體1141之射極與第一電壓V1 (例如，接地)之間，且偏壓電感器1144電連接於串疊NMOS電晶體1142之汲極與第二電壓V2 (例如，電源供應器)之間。串疊NMOS電晶體1142之閘極藉由偏壓電壓VBIAS而加偏壓，且串疊NMOS電晶體1142之汲極連接至LNA輸出端RFOUT。為了圖之清晰起見，尚未展示LNA 1131之偏壓電路系統。然而，LNA 1131可以廣泛多種方式加偏壓。 說明之偵測器1132包括一第一偵測NPN電晶體1151、一第二偵測NPN電晶體1152、一偵測p型金屬氧化物半導體(PMOS)電晶體1153、一肖特基二極體1159、一第一電阻器1161、一第二電阻器1162、一第三電阻器1163、一第一電容器1165及一第二電容器1166。雖然在圖46A中展示偵測器之一個實施，但本文中之教示可適用於以廣泛多種方式實施之偵測器。 在所說明之實施例中，偵測器1132在偵測器輸出端DET處產生偵測電流IDET。偵測電流IDET之量值係基於LNA 1131之偵測到之信號位準，且詳言之，係基於在放大NPN電晶體1141之集極處的信號擺動。然而，信號偵測器可以其他方式偵測LNA之信號位準。此外，雖然說明之偵測器1132產生偵測電流，但其他組態係可能的，包括(但不限於)偵測器產生偵測電壓之實施。 在高信號功率下，在放大NPN電晶體1141之集極處的電壓使第一偵測NPN電晶體1151飽和，此引起經矯正電流流過第一偵測NPN電晶體1151。經矯正電流由第一電容器1165濾波以產生控制偵測PMOS電晶體1153之閘極的電壓。因此，當LNA 1131過載時，偵測電流IDET自偵測器1132流動。 所說明實施例描繪適合於在LNA系統(諸如，圖45B之LNA系統1120)中使用之LNA及偵測器之一個實施。雖然圖46A說明LNA及偵測器之一個實施例，但本文中之教示可適用於以廣泛多種方式實施之LNA及偵測器。 圖46B為根據另一實施例的LNA 1191及偵測器1132之示意圖。圖46B之示意圖類似於圖46A之示意圖，惟圖46B之LNA 1191進一步包括電連接至LNA輸出端RFOUT之一輸出整流器電路1192除外。 在某些實施中，諸如，圖46B之實施例，不僅使用提供回饋至輸入開關之過載保護電路保護LNA，而且使用削減或限制LNA之輸出電壓位準之一輸出整流器電路來保護LNA。包括輸出整流器電路可增強效能，此係由於相對於由來自過載保護電路之回饋為增大輸入開關之阻抗花費之時間，輸出整流器電路可具有較快接通時間。一旦過載保護電路之控制迴路回應以提供回饋，則經由輸入開關之阻抗之控制，使信號位準降低或減小至安全位準。 在一個實施例中，使用箝位二極體實施輸出整流器電路1192。舉例而言，輸出整流器可包括電連接於LNA輸出端RFOUT與一或多個參考電壓之間的一或多個二極體網路，例如，在LNA輸出端RFOUT與第一電壓V1之間及/或在LNA輸出端RFOUT與第二電壓V2之間。 圖47為根據一個實施例的一誤差放大器1200之示意圖。誤差放大器1200包括一第一NMOS電晶體1201、一第二NMOS電晶體1202、一第三NMOS電晶體1203、一第四NMOS電晶體1204、一第五NMOS電晶體1205、一第六NMOS電晶體1206、一第一PMOS電晶體1211、一第二PMOS電晶體1212、一第一電阻器1221、一第二電阻器1222、一第三電阻器1223及一參考電流源1225。誤差放大器1200包括一偵測輸入端DET用於自偵測器接收偵測信號。誤差放大器1200進一步包括一過載保護輸出端OP，其可用以控制輸入開關之類比控制輸入端。 在所說明之實施例中，來自一偵測器(例如，圖46A至圖46B之偵測器1132)之偵測電流IDET由誤差放大器1200接收。當偵測電流IDET大於參考電流源1225之參考電流IREF時，第二NMOS電晶體1202可切斷且第一NMOS電晶體1201可傳導。由於第一NMOS電晶體1201及第三NMOS電晶體1203作為第一電流鏡操作，且第一PMOS電晶體1211及第二PMOS電晶體1212作為第二電流鏡操作，因此當偵測電流IDET大於參考電流IREF時，將過載保護輸出端OP下拉。 第一電阻器1221輔助防止第一NMOS電晶體1201及第二NMOS電晶體1202同時傳導。舉例而言，第一電阻器1221與第四NMOS電晶體1204及第五NMOS電晶體1205一起操作以使第一NMOS電晶體1201及第二NMOS電晶體1202近傳導偏壓，同時抑制同時傳導。此又防止當誤差放大器1200在自LNA至輸入開關之類比控制輸入端之回饋迴路中連接時的連續線性閉合迴路。如圖47中所展示，偏壓電流IBIAS用以使第一電阻器1221及第四NMOS電晶體1204及第五NMOS電晶體1205偏壓。 在至LNA之非常高輸入功率下，偵測器可產生相對大偵測信號，此可導致過載保護輸出端OP經控制至第一電壓V1。在中間輸入功率位準下，電路可展現阻擋振盪器行為。在某些實施中，在迴路周圍不存在連續線性信號路徑，而取而代之，存在切換式振盪行為。 在某些實施中，在過載保護輸出端OP處產生之回饋信號可提供至一限制器啟用電路(例如，圖45A至圖45B之限制器啟用電路1126)，限制器啟用電路又可選擇性將回饋信號提供至輸入開關之類比控制輸入端。當在過載狀況期間存在大輸入信號時，過載保護輸出端OP變低(在此實施例中)，此又可完全或部分切斷輸入開關。 舉例而言，輸入開關包括一類比控制輸入端，且因此可使用過載保護輸出端OP控制至LNA的輸入信號之量值。由於切斷輸入開關部分減小至LNA之輸入信號強度及偵測器信號DET之對應值，因此提供閉合迴路。該閉合迴路在不同輸入功率位準下展現不同行為。在非常高功率下，輸入開關完全關斷，且實質上無輸入信號被提供至LNA。在中等功率位準下，當迴路展現一些振盪行為時，過載保護輸出端OP可在具有疊加AC分量之DC位準下操作。在某些實施中，輸入開關濾波AC分量，此係由於可實施輸入開關以具有低於振盪信號之週期的時間常數。因此，該迴路可表現得如同其處於線性控制之下。 在某些組態中，該迴路不回應在正常操作中遇到之任何信號位準，僅回應較高過載狀況。保護迴路具有有限回應時間，且因此可能不保護免受瞬時電壓峰值。然而，該保護迴路可限制LNA向高電流之總曝露。在某些組態中，LNA進一步包括一輸出整流器以承載起免受瞬時電壓峰值之保護。 在所說明之實施例中，過載保護輸出端OP通常高。然而，當偵測到過載狀況時，過載保護輸出端OP為連續可變位準，其可在第一電壓V1與第二電壓V2之電壓之間變化。過載保護輸出端OP之類比或連續信號位準起因於誤差放大器1200在閉合迴路中操作。將過載保護輸出端OP控制至取決於至LNA之輸入功率及操作條件(諸如，溫度)之一電壓位準。 所說明實施例描繪用於在LNA系統(諸如，圖45B之LNA系統1120)中使用之誤差放大器之一個實施。雖然在圖47中展示誤差放大器之一個實施例，但可以其他方式實施誤差放大器。 圖48A為根據一個實施例的一限制器啟用電路1240之示意圖。限制器啟用電路1240包括一數位控制電路1241及一回饋啟用電路1242。該限制器啟用電路1240接收過載保護信號OP及一或多個數位控制信號，且產生用以控制輸入開關(諸如，圖44之輸入開關1101)之類比控制輸入端的開關控制信號SWCTL。 如圖48A中所展示，數位控制電路1241接收一或多個數位控制信號，數位控制電路1241處理該一或多個數位控制信號以控制接通還是切斷回饋啟用電路1242。當回饋啟用電路1242接通時，使用過載保護信號OP控制開關控制信號SWCTL之類比電壓位準。然而，當回饋啟用電路1242切斷時，數位控制電路1241數位控制開關控制信號SWCTL。 圖48B為根據另一實施例的一限制器啟用電路1251之示意圖。該限制器啟用電路1251包括一數位控制電路1271，其包括一第一反相器1291、一第二反相器1292、一第三反相器1293、一第一「反及」(NAND)閘1295、一第二NAND閘1296、一第一PMOS電晶體1281及一第一NMOS電晶體1283。該限制器啟用電路1251進一步包括一回饋啟用電路1272，其包括一第二PMOS電晶體1282及一第二NMOS電晶體1284。 在所說明之實施例中，數位控制電路1271接收一限制器啟用信號LEN及一開關啟用信號SWEN。在此實施例中，該數位控制電路1271基於限制器啟用信號LEN及開關啟用信號SWEN之狀態控制是否啟用回饋啟用電路1272。 舉例而言，在所說明之實施例中，當限制器啟用信號LEN為邏輯低(在此實施例中，對應於停用)時，數位控制電路1271切斷回饋啟用電路1272且數位控制開關控制信號SWCTL以具有與開關啟用信號SWEN相同的狀態。另外，在此實施例中，當限制器啟用信號LEN為邏輯低且開關啟用信號SWEN為邏輯低時，數位控制電路1271關斷回饋啟用電路1272且數位控制開關控制信號SWCTL為邏輯低。然而，當限制器啟用信號LEN及開關啟用信號SWEN為邏輯高時，數位控制電路1271切斷回饋啟用電路1272且過載保護信號OP控制開關啟用信號SWCTL。 雖然圖48B說明根據本文中之教示的限制器控制電路之一個實施例，但可以廣泛多種方式實施限制器控制電路。此外，本文中之教示可適用於省略限制器控制電路之實施。 圖49為根據另一實施例的LNA系統1250之示意圖。LNA系統1250包括可如較早先所描述之輸入端子1107、輸出端子1108、LNA 1102、過載保護電路1103及限制器啟用電路1251。LNA系統1250進一步包括一輸入開關1252。 說明這輸入開關1252包括相互串聯地電連接之一第一NMOS電晶體1261及一第二NMOS電晶體1262。在所說明之實施例中，NMOS電晶體1261、1262之閘極充當至輸入開關1252之類比控制輸入端。另外，RF輸入信號經由NMOS電晶體1261、1262之通道自輸入端子1107傳至LNA 1102之輸入端。雖然展示輸入開關之一個實施，但可以其他方式實施輸入開關。 如圖49中所展示，限制器啟用電路1251連接於過載保護電路或限制器1103之輸出端與至輸入開關1252之類比控制輸入端之間。限制器啟用電路1251之邏輯經實施以當停用開關啟用信號SWEN及/或限制器啟用信號LEN時斷開連接過載保護電路1103與類比控制輸入端。 因此，當啟用開關啟用信號SWEN及限制器啟用信號LEN時，過載保護電路1103控制輸入開關1252之類比控制輸入端。然而，當停用開關啟用信號SWEN時，限制器啟用電路1251可控制類比控制輸入端至第一電壓V1 (例如，接地或負電壓)，以切斷輸入開關1252。另外，限制器啟用信號LEN用以停用過載保護/信號限制器功能性。因此，當停用限制器啟用信號LEN時，可基於開關啟用信號SWEN之狀態接通或切斷輸入開關1252。 可以多種方式產生開關啟用信號SWEN及限制器啟用LEN。在某些組態中，積體電路(IC)包括用以控制開關啟用信號SWEN及/或限制器啟用LEN之狀態的一或多個暫存器。舉例而言，該一或多個暫存器可藉由在一介面(諸如，串列周邊介面)上之一收發器程式設計。然而，開關啟用信號SWEN及/或限制器啟用信號LEN可以其他方式產生，諸如，經由IC之接腳提供。 LNA系統1250之額外細節可如本文中所描述。 可如在此章節中較早先所描述之輸入開關1101、LNA 1102及過載保護電路1103可包括於任何合適之前端系統、封裝模組、半導體晶粒(例如，絕緣體上半導體晶粒，諸如，絕緣體上矽晶粒)、無線通信裝置(例如，行動電話，諸如，智慧型電話)或類似者中。 章節 III - 多模式功率放大器根據本發明之一些實施例，本發明之此章節係關於一種多模式功率放大器。一種多模式功率放大器電路包括一堆疊放大器及一偏壓電路。該堆疊放大器包括相互串聯之至少一第一電晶體與一第二電晶體。該堆疊放大器可在至少一第一模式及一第二模式中操作。該偏壓電路經組態以在該第一模式中使該第二電晶體偏壓至一線性操作區，及在該第二模式中使該第二電晶體偏壓作為一開關。在某些實施例中，該堆疊放大器可為一功率放大器級，其經組態以接收在該第一模式中具有與在該第二模式中不同之一電壓位準的一供電電壓。如上所指示，此章節之態樣可與一或多個其他章節之其他態樣組合以進一步改良前端系統及使用其之相關裝置、積體電路、模組及方法之效能。 管理RF信號之放大可為合乎需要的，此係因為將RF信號放大至不正確功率位準或將重大失真引入至原始RF信號可使無線通信裝置在頻帶外傳輸或違反對所接受標準之符合。使功率放大器裝置偏壓可為管理放大之一重要部分，此係因為其可判定功率放大器內之放大裝置的電壓及/或電流操作點。 某些功率放大器電路包括堆疊功率放大器拓樸。舉例而言，絕緣體上矽功率放大器電路拓樸之裝置堆疊可克服經按比例縮放電晶體之相對低擊穿電壓。此裝置堆疊可在堆疊放大器曝露於相對大電壓擺動(諸如，超出約2.75伏特之電壓擺動)的應用中為有益的。堆疊若干電晶體(諸如，3個或4個電晶體)可導致具有合乎需要之操作特性的功率放大器。舉例而言，具有此類堆疊電晶體之功率放大器可對於在介於約3伏特與約3.6伏特之間的範圍中之供電電壓及接近約8伏特之電壓擺動表現得合乎需要，而不經歷顯著熱載流子注入(HCI)及減小之電晶體汲極電流及增大之電晶體洩漏的對應長期影響。 多模式功率放大器可包括為功率放大器提供可取決於功率放大器之操作模式而變化之供電電壓的供應控制電路。作為一實例，在多功率模式、可變供應功率放大器中，可在較低功率模式中提供較低供電電壓，且可在較高功率模式中提供較高供電電壓。在一些情況下，功率放大器可包括多個級，且提供至堆疊輸出級之供電電壓可取決於功率模式而變化，同時較早先級之不同供電電壓保持實質上恆定。當用於功率放大器之供電電壓出於效率目的而在較低功率模式中減小時，供電電壓可相比於較高功率模式顯著地更低。舉例而言，用於較低功率模式之供電電壓可低於用於較高模式的供電電壓約60%。供電電壓之此減小可導致使堆疊裝置場效電晶體(FET)拓樸驅動至早期功率壓縮的減小之汲極至源極電壓(VDS)餘裕空間操作，此舉可又減小功率放大器之可得輸出1 dB壓縮點(OP1dB)、飽和功率(PSAT)及/或功率增添效率(PAE)。 本發明之態樣係關於一種堆疊放大器及偏壓電路。堆疊放大器包括相互串聯之至少第一電晶體與第二電晶體。堆疊放大器可在至少第一模式及第二模式中操作。偏壓電路經組態以在第一模式中使第二電晶體偏壓至線性操作區。偏壓電路經組態以在第二模式中使第二電晶體偏壓作為開關。因此，偏壓電路可使堆疊放大器偏壓，使得堆疊放大器表現得類似在第二模式中相對於第一模式在堆疊中至少少了一個電晶體。此操作可導致符合不同功率模式之設計規範，其中提供至堆疊放大器之供電電壓在第二模式中比在第一模式中低。 舉例而言，在堆疊絕緣體上矽功率放大器中，輸出級可包括具有與一或多個共閘極電晶體串聯之共源極電晶體的堆疊架構。此可在高及/或中功率操作模式(例如，輸出級之供電電壓分別為3伏特及1.8伏特之模式)期間防止擊穿。在最低功率操作模式(例如，輸出級的供電電壓為1.2伏特的模式)下，可藉由在堆疊中至少具有少了一個之電晶體來較佳地適應所指定電源供應器位準及電壓擺動兩者。在某些實施中，藉由足夠確實地將堆疊放大器中之共閘極電晶體接通使得其VDS足夠低(例如，小於約100 mV或小於約75 mV)以藉此減小及/或最小化其對於餘裕空間之影響及允許改良之OP1dB及PSAT (例如，約13 dBm)，將該閘極電晶體作為開關操作(如與共閘極級相反)。 因此，本文中所論述之某些實施例可克服與在多個操作模式中操作堆疊電晶體絕緣體上矽功率放大器拓朴相關聯之問題，該多個操作模式具有在不同操作模式中提供至功率放大器的供電電壓之相對大差異。舉例而言，可在三個功率模式中(在該等模式中最低功率模式具有低於用於較高模式的供電電壓約60%之供電電壓)操作之三堆疊電晶體絕緣體上矽功率放大器拓朴可根據本文中所論述之原理及優點而按合乎需要之效能操作。 本發明之實施例係關於將一共同功率放大器用於多個操作模式。將相同功率放大器用於若干功率模式可為合乎需要的，此係因為此可防止增大之晶粒面積及與將不同功率放大器用於不同功率模式相關聯之匹配網路及RF信號佈線的新問題。 可藉由絕緣體上半導體技術(諸如，絕緣體上矽技術)實施本發明之實施例。使用絕緣體上矽技術及堆疊電晶體拓樸可使功率放大器能夠以相對廉價且相對可靠之技術實施。此外，絕緣體上矽技術中之低雜訊放大器(LNA)及/或多投RF開關的合乎需要之效能可使堆疊電晶體絕緣體上矽功率放大器能夠實施為包括具有合乎需要效能之傳輸、接收及轉換功能性的完全前端積體電路(FEIC)解決方案之部分。 圖50為功率放大器系統1310之示意圖。所說明功率放大器系統1310包括一功率放大器1312、一偏壓電路1314、一供應控制電路1315、一開關1316、一天線1317、一方向耦合器1318及一傳輸器1319。功率放大器系統1310可在多個操作模式中操作。多個操作模式可包括至少兩個不同操作模式，在該等模式中供應控制電路1315向功率放大器1312提供具有不同電壓位準之供電電壓VSUP。偏壓電路1314可在至少兩個不同操作模式中之兩者或更多者中以不同方式使功率放大器1312偏壓。功率放大器電路可包含功率放大器1312及偏壓電路1314。所說明傳輸器1319包括一基頻處理器1321、一I/Q調變器1322、一混頻器1323及一類比至數位轉換器(ADC) 1324。傳輸器1319可包括於收發器中，該收發器亦包括與經由一或多個接收路徑自天線(例如，天線1317)接收信號相關聯之電路系統。 功率放大器1312可放大RF信號。RF信號可由傳輸器1319之I/Q調變器1322提供。可藉由開關1316將由功率放大器1312產生之經放大RF信號提供至天線1317。經放大RF信號可在某些應用中具有實質上恆定之包絡。經放大RF信號可在一些應用中具有可變包絡。此外，功率放大器1312可提供在一個模式中具有實質上恆定之包絡且在另一模式中具有可變包絡之經放大RF信號。功率放大器1312可在多個模式(諸如，多個功率模式)中操作。功率放大器1312可包括一堆疊電晶體拓朴，諸如本文中所論述之堆疊拓朴中的任一者。功率放大器1312可藉由絕緣體上矽技術實施。功率放大器1312可包括場效電晶體及/或雙極電晶體。 提供至功率放大器1312之供電電壓VSUP的電壓位準可在不同操作模式中不同。供應控制電路1315可為將供電電壓VSUP提供至功率放大器1312之任一適合電路。供應控制電路1315可包括(例如)直流對直流(DC-DC)轉換器。供應控制電路15可包括任一其他合適切換調節器，諸如，在某些實施中之降壓式及/或升壓式轉換器。 在某些實施中，功率放大器1312為多級功率放大器。供應控制電路1315可針對多級放大器之不同級提供不同供電電壓。提供至功率放大器1312之輸出級的供電電壓VSUP之電壓位準可在一個操作模式中比在另一操作模式中顯著地低(例如，低了約60%)。供電電壓之電壓位準的顯著差異可導致可將堆疊電晶體電路拓樸驅動至早期功率壓縮中的減小之餘裕空間操作。早期功率壓縮可使功率放大器1312之效能降級。舉例而言，早期功率壓縮可減小功率放大器1312之OP1dB、PSAT、PAE、類似者或其任何組合。 由功率放大器1312自偏壓電路1314接收之偏壓信號BIAS可使功率放大器1312偏壓以供在多個模式中之各種模式中操作。偏壓電路1314可由功率放大器1312之任一適合偏壓電路實施。偏壓電路1314可在第一模式中使功率放大器1312之堆疊電晶體功率放大器級中的一電晶體偏壓至線性操作區，且在第二模式中使堆疊電晶體功率放大器級中之該電晶體偏壓作為開關，其中供電電壓VSUP之電壓位準比在第一模式中顯著地低。舉例而言，可在第一模式中在線性區中操作堆疊電晶體功率放大器級之共閘極電晶體(或雙極實施中之共基極電晶體)，且在第二模式中確實接通該電晶體以充當開關。此可在電晶體偏壓作為開關時減小或消除共閘極電晶體對餘裕空間之影響。因此，可在第二模式中改良OP1dB及PSAT。 在所說明功率放大器系統1310中，方向耦合器1318耦接於功率放大器1312之輸出端與開關1318之輸入端之間，藉此允許量測不包括開關1317之插入損耗的功率放大器1312之輸出功率。來自方向耦合器1318之所感測到的輸出信號可提供至混頻器1323，混頻器1323可以具有受控頻率之參考信號倍增所感測到的輸出信號，以便下頻移所感測到的輸出信號之頻率含量以產生下頻移信號。可將下頻移信號提供至ADC 1324，ADC 1324可將下頻移信號轉換成適合於由基頻處理器1321處理之數位格式。 藉由在功率放大器1312之輸出端與基頻處理器1321之間包括回饋路徑，基頻處理器1321可經組態以動態地調整I信號及Q信號以最佳化功率放大器系統1310之操作。舉例而言，以此方式組態功率放大器系統1310可輔助控制功率放大器1312之功率增添效率(PAE)及/或線性。 基頻信號處理器1321可產生I信號及Q信號，該等信號可用以表示具有所要振幅、頻率及相位之正弦波或信號。舉例而言，I信號可用以表示正弦波之同相分量，且Q信號可用以表示正弦波之正交分量，正交分量可為正弦波之等效表示。在某些實施中，可將I信號及Q信號以數位格式提供至I/Q調變器1322。基頻處理器1321可為經組態以處理基頻信號之任一合適處理器。舉例而言，基頻處理器1321可包括數位信號處理器、微處理器、可程式化核心或其任何組合。此外，在一些實施中，兩個或兩個以上基頻處理器1321可包括於功率放大器系統1310中。 I/Q調變器1322可自基頻處理器1321接收I信號及Q信號且處理I信號及Q信號以產生RF信號。舉例而言，I/Q調變器1322可包括經組態以將I信號及Q信號轉換成類比格式之數位至類比轉換器(DAC)，用於將I信號及Q信號升頻轉換成射頻之混頻器及用於將經升頻轉換I信號及Q信號組合成適合於由功率放大器1312放大之RF信號的一信號組合器。在某些實施中，I/Q調變器1322可包括經組態以濾波在其中所處理之信號的頻率含量之一或多個濾波器。 可在絕緣體上矽功率放大器中實施電晶體堆疊。舉例而言，可在圖50之功率放大器1312中實施此電晶體堆疊。電晶體堆疊可克服經按比例縮放電晶體之相對低擊穿電壓，尤其在曝露於超出可由堆疊中之每一電晶體容納的電壓擺動(諸如2.75伏特)之電壓擺動時。 圖51為說明對於在固定輸出功率位準下之堆疊放大器之傳導角度在峰值輸出電壓與直流(DC)電流之間的關係之曲線圖。 圖52A說明具有堆疊中之三個電晶體之堆疊放大器1330及用於供電電壓之堆疊放大器的最大可允許電壓擺動。堆疊如圖52A中所展示之三個電晶體可使功率變壓器操作能夠藉由在約3伏特至3.6伏特之間的供電電壓及接近大於8伏特之電壓擺動良好地工作。舉例而言，當堆疊中之每一電晶體可適應高達約2.75伏特之電壓擺動時，三個堆疊電晶體可一起適應高達約8.25伏特之電壓擺動，而不經歷顯著熱載流子注入(HCI)及減小之電晶體汲極電流及增大之電晶體洩漏的對應長期影響。 圖52B說明具有堆疊中之兩個電晶體的堆疊放大器1335及堆疊放大器之與圖52A相同之供電電壓的電壓擺動。相比於堆疊放大器1330，堆疊放大器1335可適應該電壓擺動之約三分之二。作為一實例，當堆疊放大器1335中之每一電晶體可適應高達約2.75伏特之電壓擺動時，兩個堆疊電晶體可一起適應高達約5.5伏特之電壓擺動，而不引入顯著HCI影響。因此，堆疊放大器1335可能在此實例中不適合於具有大於5.5伏特之電壓擺動的應用。因而，對於具有大於5.5伏特之電壓擺動之應用，可包括在堆疊放大器中相互串聯之三個或多於三個電晶體。 對於在多個功率模式中可藉由可變供電電壓位準操作之放大器，可在具有較低供電電壓之較低功率模式中減小餘裕空間。此可將堆疊放大器驅動至早期壓縮中，此可減小OP1dB及PAE。藉由在堆疊中少了至少一個電晶體，可減少或消除與減小之餘裕空間相關聯的問題。因此，堆疊放大器1335可在供電電壓具有較低電壓位準時比堆疊放大器1330合適。本文中所論述之實施例係關於偏壓堆疊放大器，使得其在具有具有相對高電壓位準之供電電壓的第一模式中表現得類似於堆疊放大器1330，且使得其在具有具有相對低電壓位準之供電電壓的第二模式中表現得類似於堆疊放大器1335。因而，此偏壓可使堆疊放大器能夠在供電電壓具有相對高電壓位準時適應相對高電壓擺動，且亦能夠在供電電壓具有相對低電壓位準時減少或消除與餘裕空間相關聯之問題。 圖53A為根據一實施例的具有針對堆疊輸出級的兩個操作模式所說明之概念性偏壓的功率放大器系統1340之示意圖。所說明功率放大器系統1340包括一輸入級、一輸出級、匹配網路及偏壓電路元件。功率放大器系統可接收RF輸入信號PA_IN且提供經放大RF輸出信號PA_OUT。可根據功率放大器系統1340之原理及優點中的任一者而實施圖50之功率放大器1312。 如所說明，輸入級包括由電晶體1342及1343實施之一堆疊放大器。此放大器可被稱作疊接放大器。輸入級之堆疊放大器可由概念性偏壓電路元件R1及R2偏壓。概念性偏壓電路元件R1及R2可由任何適合之偏壓電路元件實施，且可包含作為所說明電阻器之補充及/或替代的電路系統。AC接地閘極電容器C1可電連接至共閘極電晶體1343。在一些其他實施中，輸入級可替代地包括可鎖頻且鎖相至經輸入調變信號之注入可鎖定功率振盪器。輸入級可接收輸入級供電電壓Vdd1。包括一電感器L1及一電容器C2之並聯LC電路可將輸入級供電電壓Vdd1提供至輸入級之堆疊放大器。輸入級供電電壓Vdd1可在不同操作模式中實質上相同。 所說明功率放大器系統1340之輸出級為三堆疊放大器。所說明輸出級包括與共源極電晶體1344串聯之兩個共閘極電晶體1345及1346。電晶體1344、1345及1346可為絕緣體上矽電晶體。電晶體1345可藉由概念性偏壓電路元件R4偏壓至線性操作區。類似地，電晶體1346可藉由概念性偏壓電路元件R3偏壓至線性操作區。概念性偏壓電路元件R3及R4可由任何合適偏壓電路元件實施，且可包括作為所說明電阻器之補充及/或替代的電路系統。AC接地閘極電容器C5及C6可分別電連接至共閘極電晶體1346及1345之閘極。電晶體1344可由偏壓電路元件R5偏壓。此三堆疊輸出級可在輸出級供電電壓Vdd2 (例如)分別為3伏特及1.8伏特之操作模式中防止擊穿。在圖53A中所說明之電路中，輸出級供電電壓Vdd2為3伏特對應於第一模式且輸出級供電電壓Vdd2為1.8伏特對應於第三模式。 功率放大器系統1340可包括用於阻抗匹配之匹配網路。所說明匹配網路包括一輸入匹配網路1347、一級間匹配網路1348及一輸出匹配網路1349。在圖53A中，輸入匹配網路1347電耦接於功率放大器系統之輸入端與輸入級之間。級間匹配網路1348可包括用於級間阻抗匹配之任何合適之電路元件。本文中所論述之功率放大器的級之間的級間匹配網路可在某些應用中包括T形網路及/或π形網路。所說明級間匹配網路1348包括經配置為T形網路之電容器C3及C4及電感器L2。輸出匹配網路1349可為F級輸出匹配網路、AB級輸出匹配網路、B級輸出匹配網路或任何其他合適輸出匹配網路。功率放大器系統1340之輸出級可驅動任何適合之負載。 圖53B為根據一實施例的具有針對第二操作模式所說明之偏壓的圖53A之功率放大器系統1340之示意圖。第二操作模式可為比與圖53A中之偏壓相關聯的模式低之功率模式。如圖53B中所說明，輸出級供電電壓Vdd2為1.2伏特。共閘極電晶體1345偏壓以便作為開關而非圖53B中之共閘極級操作。共閘極電晶體1345可足夠確實地接通使得其VDS足夠低(例如，小於約100 mV或小於約75 mV)以使其對餘裕空間的影響不顯著。此可在某些實施中允許PSAT在第二操作模式中為約13 dBm。 因此，功率放大器系統1340可在不同輸出級供電電壓之情況下在至少三個不同功率模式中操作。在圖53A及圖53B之實例中，輸出級供電電壓Vdd2可在高功率模式中為3伏特，輸出級供電電壓Vdd2可在中功率模式中為1.8伏特，且輸出級供電電壓Vdd2可在低功率模式中為1.2伏特。高功率模式可為第一模式，較低功率模式可為第二模式，且中功率模式可為第三模式。共閘極電晶體1345可在高功率模式及中功率模式中偏壓至線性操作區，如圖53A中所說明。在低功率模式中，共閘極電晶體1345可偏壓作為開關，如圖53B中所說明。因而，同一功率放大器可用於多個功率操作模式中，同時滿足多個功率模式中之每一者的效能規範。 圖53C為根據一實施例的具有針對第一操作模式所說明之概念性偏壓的功率放大器系統1340'之示意圖。圖53D為具有針對第二操作模式所說明之概念性偏壓的圖53C之功率放大器系統1340'之示意圖。功率放大器系統1340'類似於圖53A及圖53B之功率放大器系統1340，惟包括一供應控制電路1315'除外。供應控制電路1315'可實施圖50之供應控制電路1315的任何合適特徵。供應控制電路1315'可將輸入級供電電壓Vdd1及輸出級供電電壓Vdd2提供至功率放大器。輸入級供電電壓Vdd1可在不同操作模式中具有實質上相同電壓位準。供應控制電路1315'可提供輸出級供電電壓Vdd2使得輸出級供電電壓Vdd2在對應於圖53C之第一模式中比在對應於圖53D之第二模式中具有更高的電壓位準。供應控制電路1315'可包括經組態以執行此功能性之任一合適電路。舉例而言，供應控制電路1315'可包括DC-DC轉換器或任一其他合適之切換調節器，在某些實施中諸如降壓式及/或升壓式轉換器。 圖53A至圖53D展示功率放大器之輸出級之一實施例。圖54A至圖57B說明堆疊放大器及偏壓電路之實施例。參考此等圖中之任一者所論述的原理及優點中之任一者可實施於圖50之功率放大器1312及/或功率放大器系統1340之輸出級中。此外，本文中所論述之堆疊放大器及偏壓電路的原理及優點中之任一者可在其他情境中實施。 圖54A為根據一實施例的在第一模式中之包括一堆疊放大器及一偏壓電路之放大電路1350之示意圖。堆疊放大器可放大RF信號。DC阻塞電容器1351可將RF信號提供至堆疊放大器之輸入端。如所說明，堆疊放大器包括相互串聯地配置之電晶體1352、1353與1354。電晶體1352、1353及1354可為絕緣體上矽場效電晶體。偏壓電路1355可使堆疊放大器之電晶體偏壓。偏壓電路1355可回應於控制信號MODE而動態地使堆疊放大器之電晶體偏壓。堆疊放大器可藉由偏壓電路元件1356、1357及1358接收偏壓信號。在第一模式中，偏壓電路1355使電晶體1353偏壓至線性操作區。堆疊放大器可藉由電感器1359接收供電電壓V dd。 圖54B為根據一實施例的在第二模式中之圖54A之放大電路1350之示意圖。第二模式可與比第一模式低之功率相關聯。在第二操作模式中，提供至堆疊放大器之供電電壓V dd可比在第一模式中具有更高的電壓位準。提供至偏壓電路1355之模式控制信號MODE可在不同信號位準下及/或在不同狀態中。回應於模式控制信號MODE，偏壓電路1355可使電晶體1353偏壓作為開關。電晶體1353可在第二模式中在飽和操作區中操作。 圖55A為根據一實施例的在第一模式中之包括一堆疊放大器及一偏壓電路之放大電路1360之示意圖。放大電路1360類似於放大電路1350，惟堆疊放大器由雙極電晶體實施除外。如圖55A中所說明，堆疊放大器包括與共射極電晶體1361串聯之兩個共基極電晶體1362及1363。圖55A中所說明之雙極電晶體可藉由絕緣體上半導體技術實施。在本文中所論述及/或說明之具有場效電晶體的任何合適電路拓樸可由雙極電晶體替代地實施。根據一些其他實施例，放大電路1360可包括安置於偏壓電路1355與電晶體1361之基底之間的一RF阻抗(諸如，電感器)，替代圖55A及圖55B中所說明之電阻器。替代地或另外，可在無電阻器安置於偏壓電路與堆疊之雙極電晶體中的一或多者之間的情況下實施具有堆疊雙極放大器之放大電路。 圖55B為根據一實施例的在第二操作模式中之圖55A之放大電路1360之示意圖。在第二操作模式中，電晶體1362偏壓作為開關。 圖56A為根據一實施例的在第一模式中之包括在堆疊中具有四個電晶體之堆疊放大器及一偏壓電路之放大電路1370之示意圖。放大電路1370類似於放大電路1350，惟堆疊放大器由相互串聯之四個電晶體實施除外。圖56A中所說明之堆疊放大器包括電晶體1352、1353、1371及1354。藉由相對於圖54A中所展示之堆疊放大器在堆疊中具有一額外電晶體，圖56A中之堆疊放大器可適應較大電壓擺動。偏壓電路1355'可藉由偏壓電路元件1372使電晶體1371偏壓。在第一模式中，電晶體1353及1371可在線性操作區中偏壓。 圖56B及圖56C為根據一實施例的在不同模式中之圖56A之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。如圖56B中所展示，電晶體1353可在第二模式中偏壓作為開關。圖56B之堆疊放大器可在電晶體1353偏壓作為開關且堆疊中之其他電晶體偏壓作為增益級時表現得類似於三堆疊。如圖56C中所展示，電晶體1353及1371可在另一模式中偏壓作為開關。圖56C之堆疊放大器可在電晶體1353及1371偏壓作為開關且堆疊中之其他電晶體偏壓作為增益級時表現得類似於雙堆疊。因此，偏壓電路1355'可使圖56A至圖56C之堆疊放大器偏壓，以表現得好像2個、3個或4個電晶體在堆疊中。本文中所論述之原理及優點亦可應用於具有相互串聯之五個或多於五個電晶體的堆疊放大器。 圖57為根據一實施例的在第一模式中之包括在堆疊中具有兩個電晶體之一堆疊放大器及一偏壓電路的放大電路1380之示意圖。放大電路1380類似於放大電路1350，惟堆疊放大器由相互串聯之兩個電晶體實施除外。如圖57A中所示，偏壓電路1355''可在第一模式中使電晶體1353偏壓至線性操作區。 圖57B為根據一實施例的在第二模式中之圖57A之放大電路1380之示意圖。如圖57A中所示，偏壓電路1355''可在第二模式中使電晶體1353偏壓作為開關。 圖58A為根據一實施例的具有針對兩個操作模式所說明之偏壓的功率放大器系統1390之示意圖。圖58B為根據一實施例的具有針對不同操作模式所說明之偏壓的圖58A之功率放大器系統1390之示意圖。功率放大器系統1390類似於功率放大器系統1340，惟包括額外開關1391、1392及1393且可在與較低輸出級供電電壓相關聯之模式中使堆疊中之一不同電晶體偏壓作為開關除外。任一合適之控制電路可控制開關1391、1392及1393。在功率放大器系統1390中，電晶體1344可偏壓以作為如圖58A中所示之共源極放大器或作為如圖58B中所示之開關操作。 開關1391可選擇性地在不同操作模式中將輸入級之輸出端電耦接至輸出級之不同電晶體。開關1391可將輸出級之RF輸入信號提供至如圖58A中所展示之電晶體1344。開關1391可在如圖58B中所展示之不同模式中將至輸出級之RF輸入信號提供至電晶體1345。開關1391可為多投開關，諸如，單極雙投開關。 開關1392可維持RF級間匹配。開關1392可將電容器C 7電耦接至電晶體1345之閘極，以在電晶體1344偏壓作為如圖58B中所展示之開關時維持RF級間匹配。當電晶體1345偏壓作為如圖58A中所展示之共閘極放大器時，開關1392可電斷開連接電容器C 7與電晶體1345之閘極。 開關1393可在電晶體1345經組態為如圖58A中所展示之共閘極放大器時將AC接地閘極電容器C 6電連接至電晶體1345之閘極。開關1393可在電晶體1345經組態為如圖58B中所展示之共源極放大器時斷開連接AC接地閘極電容器C 6與電晶體1345之閘極。 功率放大器系統1340及1390之特徵的任何合適組合可相互一起得以實施。可根據功率放大器系統1390之原理及優點中的任一者而實施圖50之功率放大器1312。可根據本文中所論述之原理及優點中的任一者，諸如，參看圖54A至圖57B中之任一者，而實施功率放大器系統1390。 可如在此章節中較早先所描述的本文中論述之多模式功率放大器可包括於任一合適之前端系統、封裝模組、半導體晶粒(例如，絕緣體上半導體晶粒，諸如，絕緣體上矽晶粒)、無線通信裝置(例如，行動電話，諸如，智慧型電話)或類似者中。 章節 IV - 具有注入鎖定式振盪器驅動器級之功率放大器根據本發明之一些實施例，本發明之此章節係關於一種具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之功率放大器。在某些組態中，一種多模式功率放大器包括：一驅動器級，其使用一注入鎖定式振盪器實施；及一輸出級，其具有基於該多模式功率放大器之一模式改變的一可調整供電電壓。藉由以此方式實施多模式功率放大器，該多模式功率放大器展現優異效率，包括當可調整供電電壓之電壓位準相對低時。如上所指示，此章節之態樣可與一或多個其他章節之其他態樣組合以進一步改良前端系統及使用其之相關裝置、積體電路、模組及方法之效能。 某些功率放大器可在多個功率模式中操作。藉由多模式操作實施功率放大器可相對於包括與每一功率模式相關聯之一單獨功率放大器的實施提供許多優點。舉例而言，多模式功率放大器可佔據相對小晶片面積。另外，多模式功率放大器可避免與將不同功率放大器用於每一功率模式相關聯之匹配網路及信號導引之新問題。 在行動應用中，延長電池使用期限可為重要的。消耗大量電池電荷的行動應用中之一個功能為功率放大。 供應控制電路可給多模式功率放大器提供可取決於功率放大器之操作模式變化或改變的一供電電壓。可選擇操作模式以達成所要之效能，同時增大效率及/或延長電池壽命。因此，供應控制電路可使用各種電力管理技術來改變供電電壓之電壓位準以改良功率放大器之功率增添效率(PAE)。 用於改良功率放大器效率之一項技術為基於功率模式提供具有可選擇電壓位準之一可變供電電壓。舉例而言，可在較低功率模式中提供較低供電電壓，且可在較高功率模式中提供較高供電電壓。該多模式功率放大器可包括任何合適數目個供電電壓位準及對應的功率模式，例如，2個功率模式、3個功率模式或4個或更多個功率模式。 在某些組態中，功率放大器包括多個級，且提供至一最後或輸出級之供電電壓可取決於功率模式而變化，而用於至少一個驅動器級之一不同供電電壓可保持實質上恆定。 當用於功率放大器之供應電壓出於效率目的而在較低功率模式中減小時，供電電壓可比對於較高功率模式顯著地更低。在一個實例中，用於較低功率模式之供電電壓可低於用於較高模式之供電電壓約60%。然而，其他供電電壓位準係可能的。 本文中提供用於具有一注入鎖定式驅動器級之功率放大器之設備及方法。在某些組態中，一種多模式功率放大器包括：一驅動器級，其使用一注入鎖定式振盪器實施；及一輸出級，其具有基於該多模式功率放大器之一模式改變的一可調整供電電壓。藉由以此方式實施功率放大器，該功率放大器可展現優異效率，包括當可調整供電電壓之電壓位準相對低時。 舉例而言，在低功率模式中，用以對輸出級供電之可調整供電電壓減小，且驅動器級對功率放大器之總效率具有相對大的影響。藉由使用一注入鎖定式振盪器實施驅動器級，多模式功率放大器之總效率在不同功率模式上相對較高。 本文中所論述之多模式功率放大器可在多種應用中展現優異效率，諸如，驅動器級使用實質上固定電壓操作且輸出級藉由在不同操作模式上之大的供電電壓差操作之應用。 本文中揭示之功率放大器可使用多種半導體處理技術來實施，包括(但不限於)絕緣體上半導體技術，諸如，絕緣體上矽(SOI)技術。使用SOI技術可實現按相對廉價及/或可靠製程製程來實施功率放大器。此外，在SOI技術中的低雜訊放大器(LNA)及/或射頻(RF)開關之合乎需要之效能使功率放大器能夠被實施為提供傳輸、接收及開關功能性的前端積體電路(FEIC)之部分。 圖59為功率放大器系統1426之一個實例之示意圖。說明之功率放大器系統1426包括一多模式功率放大器1432、一供應控制電路1430、開關1412、一天線1414、一方向耦合器1424及一傳輸器1433。 功率放大器系統1426在多個操作模式中操作。多個模式包括供應控制電路1430將不同電壓位準之供電電壓提供至多模式功率放大器1432之至少兩個不同操作模式。 說明之傳輸器1433包括一基頻處理器1434、一I/Q調變器1437、一混頻器1438及一類比至數位轉換器(ADC) 1439。傳輸器1433可包括於一收發器中，該收發器亦包括與經由一或多個接收路徑自一天線(例如，天線1414或一單獨天線)接收信號相關聯之電路系統。 該多模式功率放大器1432對RF信號提供放大。如圖59中所展示，RF信號可由傳輸器1433之I/Q調變器1437提供。可藉由開關1412將由多模式功率放大器1432產生的放大之RF信號提供至天線1414。多模式功率放大器1432可包括使用一注入鎖定式振盪器(諸如，本文中所論述的注入鎖定式振盪器拓樸中之任一者)實施之一驅動器級。 在某些實施中，使用SOI技術實施多模式功率放大器1432。以此方式實施功率放大器輔助整合功率放大器與包括(例如)開關1412之其他電路系統。 如圖59中所展示，多模式功率放大器1432接收用於驅動器級之第一供電電壓V SUP1及用於輸出級之第二供電電壓V SUP2。在所說明之實施例中，供應控制電路1430基於自傳輸器1433接收之模式信號控制第二供電電壓V SUP2之電壓位準。在某些組態中，提供至功率放大器之驅動器級的第一供電電壓V SUP1之電壓位準跨兩個或兩個以上操作模式實質上恆定，但提供至功率放大器之輸出級的第二供電電壓V SUP2之電壓位準基於選定操作模式改變。 供應控制電路1430可為用於將第一供電電壓V SUP1及第二供電電壓V SUP2提供至多模式功率放大器1432之任一合適電路。在某些組態中，供應控制電路1430包括至少一個直流對直流轉換器，諸如，降壓式轉換器、升壓式轉換器及/或降壓-升壓轉換器。 在某些組態中，第二供電電壓V SUP2之電壓位準在一個操作模式中可相對於另一操作模式顯著更低(例如，低約60%)。供電電壓之電壓位準的顯著差異可導致降低之效率。 基頻信號處理器1434可產生I信號及Q信號，該等信號可用以表示具有所要振幅、頻率及相位之正弦波或信號。舉例而言，I信號可用以表示正弦波之同相分量，且Q信號可用以表示正弦波之正交分量，正交分量可為正弦波之等效表示。在某些實施中，可按數位格式將I及Q信號提供至I/Q調變器1437。基頻處理器1434可為經組態以處理基頻信號之任一合適處理器。舉例而言，基頻處理器1434可包括數位信號處理器、微處理器、可程式化核心或其任何組合。此外，在一些實施中，兩個或兩個以上基頻處理器1434可包括於功率放大器系統1426中。 I/Q調變器1437可自基頻處理器1434接收I及Q信號且處理I及Q信號以產生RF信號。舉例而言，I/Q調變器1437可包括經組態以將I及Q信號轉換成類比格式之數位至類比轉換器(DAC)、用於將I及Q信號升頻轉換成射頻之混頻器及用於將經升頻轉換之I及Q信號組合成適合於由多模式功率放大器1432放大之一RF信號的一信號組合器。在某些實施中，I/Q調變器1437可包括經組態以濾波器在其中處理的信號之頻率含量之一或多個濾波器。 在說明之功率放大器系統1426中，方向耦合器1424定位於多模式功率放大器1432之輸出端與開關1412之輸入端之間，藉此允許量測不包括開關1412之插入損耗的多模式功率放大器1432之輸出功率。來自方向耦合器1424的感測之輸出信號可提供至混頻器1438，該混頻器可用受控制頻率之參考信號倍增感測之輸出信號以便下頻移感測之輸出信號的頻率含量以產生下頻移信號。可將下頻移信號提供至ADC 1439，ADC 1439可將下頻移信號轉換成適合於由基頻處理器1434處理之數位格式。 藉由包括多模式功率放大器1432之輸出端與基頻處理器1434之間的回饋路徑，基頻處理器1434可經組態以動態調整I及Q信號以最佳化功率放大器系統1426之操作。舉例而言，以此方式組態功率放大器系統1426可輔助提供功率控制，補償傳輸器減損，及/或輔助執行數位預失真(DPD)。雖然展示用於功率放大器的感測路徑之一個實例，但其他實施係可能的。 圖60為多模式功率放大器1440之一個實例之示意圖。多模式功率放大器1440包括一驅動器級1441、一輸出級1442、一輸入匹配網路1443、一級間匹配網路1444及一輸出匹配網路1445。 如圖60中所展示，驅動器級1441由第一供電電壓V SUP1供電，且輸出級1442由第二供電電壓V SUP2供電。驅動器級1441經由輸入匹配網路1443接收一RF輸入信號RFIN，且產生放大之RF信號。輸出級1442經由級間匹配網路1444接收放大之RF信號，且進一步放大放大之RF信號以產生RF輸出信號RFOUT。 圖61A至圖61C展示圖60之多模式功率放大器之一個實例的模擬結果之曲線圖。該等曲線圖包括在V SUP1為1.8 V且V SUP2為1.2 V之低功率模式(13-dBm)、V SUP1為1.8 V且V SUP2為1.8 V之中功率模式(16-dBm)及V SUP1為1.8 V且V SUP2為3.0 V之高功率模式(21-dBm)中的模擬結果。驅動器級1441及輸出級1442各使用具有SOI FET之一共源極放大器來實施。 雖然圖61A至圖61C說明一多模式功率放大器之模擬結果，但亦執行實驗室測試且產生類似結果。 圖61A展示功率增添效率(PAE)及增益對輸出功率之曲線圖1450。該曲線圖1450包括用於低功率模式之第一增益曲線1451、用於中功率模式之第二增益曲線1452及用於高功率模式之第三增益曲線1453。另外，曲線圖1450包括用於低功率模式之第一PAE曲線1454、用於中功率模式之第二PAE曲線1455及用於高功率模式之第三PAE曲線1456。 圖61B展示電流消耗對輸出功率之曲線圖1460。曲線圖1460包括用於低功率模式之第一驅動器級電流消耗曲線1461、用於中功率模式之第二驅動器級電流消耗曲線1462及用於高功率模式之第三驅動器級電流消耗曲線1463。另外，曲線圖1460包括用於低功率模式之第一輸出級電流消耗曲線1464、用於中功率模式之第二輸出級電流消耗曲線1465及用於高功率模式之第三輸出級電流消耗曲線1466。此外，曲線圖1460包括用於低功率模式之第一總電流消耗曲線1467、用於中功率模式之第二總電流消耗曲線1468及用於高功率模式之第三總電流消耗曲線1469。 如圖61B中所展示，驅動器級與輸出級在低功率模式中具有相對相當之電流消耗，此導致驅動器級對總效率具有相對大的影響。此外，由於在此實例中，輸出級之供電電壓減小至比驅動器級之供電電壓低約33%，因此輸出級在較低輸出功率位準下飽和。因此，在低功率模式中，驅動器級之功率增益及電流消耗皆對總效率具有相對大的影響。 因此，在低功率模式中，驅動器級之效率對於總PAE係重要的。 圖61C展示功率位準對輸出功率之曲線圖1470。曲線圖1470包括用於低功率模式之第二諧波頻率功率曲線1471、用於中功率模式之第二諧波頻率功率曲線1472及用於高功率模式之第二諧波頻率功率曲線1473。另外，曲線圖1470包括用於低功率模式之第三諧波頻率功率曲線1474、用於中功率模式之第三諧波頻率功率曲線1475及用於高功率模式之第三諧波頻率功率曲線1476。此外，曲線圖1470包括用於低功率模式之基頻功率曲線1477、用於中功率模式之基頻功率曲線1478及用於高功率模式之基頻功率曲線1479。 在本文中之某些組態中，一種多模式功率放大器包括：一驅動器級，其使用一注入鎖定式振盪器實施；及一輸出級，其具有隨該多模式功率放大器之一模式改變的一可調整供電電壓。藉由以此方式實施功率放大器，功率放大器可展現優異效率，包括在低功率模式中。舉例而言，在低功率模式中，用以對輸出級供電之可調整供電電壓減小，且驅動器級對功率放大器之總效率具有相對大的影響。藉由使用一注入鎖定式振盪器實施驅動器級，多模式功率放大器之總效率在不同模式上相對較高。 一RF系統可包括一單獨的功率放大器晶粒以提供具有較高效率及/或較高擊穿電壓之裝置。舉例而言，RF系統可使用砷化鎵(GaAs)晶粒、氮化鎵(GaN)晶粒或矽鍺(SiGe)晶粒，其中高阻抗負載線提供相對高之電壓擺動及相對低之電流消耗。然而，使用單獨的功率放大器晶粒可增加RF系統之成本及/或影響RF系統之其他組件之效能。舉例而言，可能需要在SOI技術中實施功率放大器，此係由於RF開關及/或低放大器(LNA)當使用SOI製程實施時，可展現相對於其他技術之優越效能。 在本文中之某些組態中，提供一種RF前端積體電路(FEIC)。該RF FEIC係使用SOI製程製造，且包括至少一個LNA、至少一個RF開關及至少一個功率放大器。藉由整合功率放大器與LNA及/或開關，總成本降低了。此外，LNA及/或RF開關展現相對於使用其他製程製造LNA及/或RF開關之組態的優越效能。功率放大器可與LNA及開關整合以提供用於在單晶片上之RF收發器的前端。 本文中揭示之多模式功率放大器可提供相對於使用一注入鎖定式振盪器之單級功率放大器的增強型效能。舉例而言，一注入鎖定式振盪器包括注入鎖定至RF輸入信號之一電感器-電容器(LC)諧振器或槽。當注入鎖定式振盪器之供電電壓隨操作模式而改變時，可去諧該注入鎖定式振盪器。舉例而言，對供電電壓之改變可移位振盪之中心頻率及/或改變振盪器可注入鎖定至的頻率之範圍。此又可使注入鎖定式振盪器對諸如準鎖定及/或快速差拍模式之不當操作敏感。 因此，使用具有一實質上恆定供電電壓之一注入鎖定式振盪器驅動器級結合一可變供電電壓輸出級，提供相對於使用一注入鎖定式振盪器之一單級功率放大器的穩固效能。 圖62A為根據一個實施例的一多模式功率放大器1480之示意圖。該多模式功率放大器80包括一注入鎖定式振盪器驅動器級1481、一輸出級1442、一級間匹配網路1444及一輸出匹配網路1445。 注入鎖定式振盪器驅動器級1481由第一供電電壓VSUP1供電，且輸出級1442由第二供電電壓VSUP2供電。注入鎖定式振盪器驅動器級1481接收一RF輸入信號RFIN，且產生放大之RF信號。輸出級1442經由級間匹配網路1444接收放大之RF信號，且進一步放大放大之RF信號以產生RF輸出信號RFOUT。 雖然說明之實施例包括兩個級，但多模式功率放大器1480可包括一或多個額外級。舉例而言，多模式功率放大器可包括在注入鎖定式振盪器驅動器級1481前之一先前級，及/或包括於注入鎖定式振盪器驅動器級1481與輸出級1442之間的一額外級。 如圖62A中所展示，注入鎖定式振盪器驅動器級1481包括一輸入變壓器或平衡-不平衡轉換器1482、一輸出變壓器或平衡-不平衡轉換器1483、一信號注入電路1484、一負跨導電路1485及一電容器1486。另外，電容器1486在LC槽或諧振器中藉由輸出變壓器1483之電感操作。 負跨導電路1485提供能量以維持LC槽處於諧振。當經注入鎖定時，LC槽按實質上等於RF輸入信號RFIN之頻率的頻率振盪。輸出變壓器1483用以將LC槽諧振器之差分信號轉換成適合於驅動至輸出級1442之輸入端的單端信號。 組態注入鎖定式振盪器驅動器級1481以提供差分至單端信號轉換相對於包括完全差分輸出級之實施減小或消除輸出平衡-不平衡轉換器損耗對總功率放大器效率之影響。 在某些實施中，電容器1486包括一可控制電容組件，諸如，可變及/或可編程電容器。提供可控制電容輔助調諧注入鎖定式振盪器驅動器級1481可鎖定至之一系列頻率。除了顯式電容器結構外，電容器1486亦可包括一或多個寄生電容，諸如，負跨導電路1485之電晶體之寄生擴散電容。 注入鎖定式振盪器驅動器級1481相對實施為共源極或共射極放大器之驅動器級按極低功率消耗操作。在操作期間，注入鎖定式振盪器驅動器級1481鎖定於關於RF輸入信號RFIN之頻率及相位中，且操作以產生注入鎖定式RF信號。在某些組態中，RF輸入信號RFIN為具有一實質上恆定信號包絡之經調變信號。 在所說明之實施例中，第一供電電壓VSUP1跨多模式功率放大器1480之操作模式按實質上恆定電壓位準操作。因此，當多模式功率放大器1480之模式改變時，注入鎖定式振盪器驅動器級1481的振盪中心頻率及相關聯之鎖定範圍保持實質上未改變。組態多模式功率放大器1480提供跨不同操作模式之穩固效能。 相比之下，使用輸出級中之注入鎖定式振盪器的多模式功率放大器可回應於供電電壓改變變得去諧。舉例而言，此注入鎖定式振盪器之振盪中心頻率及/或調諧範圍可在不同功率模式中改變，藉此使效能降級。 說明之注入鎖定式振盪器驅動器級1481提供差分至單端信號轉換操作，隨後由輸出級1442放大。 藉由在注入鎖定式振盪器驅動器級1481中實施差分至單端轉換，可達成優越之功率效率效能。詳言之，在較低信號功率位準下執行轉換相對於在較高信號功率位準下執行轉換提供更高效率。舉例而言，歸因於信號轉換的L dB之損耗相對於在輸出級1442之輸入端處的相同損耗量，在輸出級1442之輸出端具有較大影響。 輸出級1442可以廣泛多種方式實施。在第一實例中，輸出級1442經實施為包括一NMOS電晶體之一共源極放大器，該NMOS電晶體具有接收輸入信號之一閘極、電連接至接地電壓之一源極及產生RF輸出信號RFOUT之一汲極。在第二實例中，輸出級1442經實施為包括兩個或兩個以上NMOS電晶體之堆疊的一串疊放大器，且將輸入信號提供至堆疊中的最底部電晶體之閘極，且自堆疊中的最上部之汲極提供輸出信號。 雖然已描述輸出級1442之各種實例，但輸出級1442可以廣泛多種方式實施，包括(但不限於)使用雙極電晶體之實施或使用場效電晶體與雙極電晶體之組合之實施。 級間匹配網路1444提供驅動器級1481之輸出端與至輸出級1442之輸入端之間的阻抗匹配。另外，輸出匹配網路1445提供對輸出級1442之輸出阻抗匹配。在某些實施中，級間匹配網路1444及/或輸出匹配網路1445提供諧波終止、DC偏壓，及/或輔助達成所要的負載線阻抗。 包括級間匹配網路1444及輸出匹配網路1445相對於省略阻抗匹配網路之組態增加電力傳送。阻抗匹配網路可以廣泛多種方式實施。 在所說明之實施例中，輸入變壓器或平衡-不平衡轉換器1482至少部分用以提供輸入阻抗匹配，藉此減少組件計數及/或面積。然而，其他實施係可能的。 多級放大器1480之額外細節可如本文中所描述。 圖62B為根據另一實施例的一多模式功率放大器1495之示意圖。圖62B之多模式功率放大器1495類似於圖62A之多模式功率放大器1480，惟圖62B之多模式功率放大器1495包括基於功率模式信號控制第二供電電壓VSUP2之電壓位準的一供應控制電路1490除外。在所說明之實施例中，供應控制電路1490包括一直流對直流轉換器1491，其用於高效地將第二供電電壓VSUP2調節至所要的電壓位準。 圖63為根據一個實施例的一注入鎖定式振盪器驅動器級1500之示意圖。說明之注入鎖定式振盪器驅動器級1500包括一輸入變壓器或平衡-不平衡轉換器1507、一輸出變壓器或平衡-不平衡轉換器1508、一第一信號注入n型金屬氧化物半導體(NMOS)電晶體1501、一第二信號注入NMOS電晶體1502、一第一負跨導NMOS電晶體1503、一第二負跨導NMOS電晶體1504及一偏壓NMOS電晶體1505。 如圖63中所展示，注入鎖定式振盪器驅動器級1500接收單端RF輸入信號IN且產生單端RF輸出信號OUT。另外，使用第一供電電壓V SUP1對注入鎖定式振盪器驅動器級1500供電。在所說明之實施例中，將第一供電電壓V SUP1提供至輸出變壓器1508之第一繞組的中心分接頭。 第一負跨導NMOS電晶體1503與第二負跨導NMOS電晶體1504相互交叉耦合，且作為負跨導電路操作。輸出變壓器1508之第一繞組電連接於第一負跨導NMOS電晶體1503之汲極與第二負跨導NMOS電晶體1504之汲極之間。 輸出變壓器1508用以將對應於負跨導NMOS電晶體1503、1504之汲極之間的電壓差之差分端信號轉換成單端注入鎖定式RF輸出信號OUT。在所說明之實施例中，單端注入鎖定式RF輸出信號OUT由輸出變壓器1508之第二繞組產生，且被參考為接地電壓。 注入鎖定式振盪器驅動器級1500包括與輸出變壓器1508之電感及在負跨導NMOS電晶體1503、1504之汲極處的寄生電容相關聯之一LC槽。在某些實施中，注入鎖定式振盪器驅動器級1500之LC槽進一步包括一顯式電容器，諸如，可控制電容組件以提供調諧範圍。 偏壓NMOS電晶體1505控制負跨導NMOS電晶體1503、1504之偏壓電流及LC槽之振盪幅度。 在所說明之實施例中，NMOS電晶體1505之閘極接收一偏壓電壓V BIAS，其控制負跨導NMOS電晶體1503、1504之偏壓電流量。在某些實施中，偏壓電壓V BIAS為可控制的，諸如，經由IC介面(例如，MIPI RFFE匯流排或I 2C匯流排)藉由數位程式設計。可經由電阻性饋入將偏壓電壓V BIAS提供至偏壓NMOS電晶體1505之閘極以輔助提供對產生偏壓電壓V BIAS之電路系統的隔離，可使用任一合適之偏壓電路系統產生偏壓電壓V BIAS。 負跨導NMOS電晶體1503、1504將能量提供至LC槽以維持振盪。當RF輸入信號IN不存在時，LC槽諧振器之振盪頻率可約等於LC槽之諧振頻率。 輸入變壓器1507用以將單端RF輸入信號IN轉換成提供至信號注入NMOS電晶體1501、1502之閘極的差分信號。如圖63中所展示，第一信號注入NMOS電晶體1501及第二信號注入NMOS電晶體1502之汲極分別電連接至第一負跨導NMOS電晶體1503及第二負跨導NMOS電晶體1504之汲極。當RF輸入信號IN足夠大時，信號注入NMOS電晶體1501、1502提供充分信號注入以將LC振盪器之振盪頻率及相位鎖定至RF輸入信號IN之頻率。 注入鎖定式振盪器驅動器級1500說明可在本文中描述之多模式功率放大器中使用的驅動器級之一個實施例。然而，可以其他方式實施注入鎖定式振盪器驅動器級。 注入鎖定式振盪器驅動器級1500之額外細節可如本文中所描述。 可如在此章節中較早先所描述的本文中論述之多模式功率放大器可包括於任一合適之前端系統、封裝模組、半導體晶粒(例如，絕緣體上半導體晶粒，諸如，絕緣體上矽晶粒)、無線通信裝置(例如，行動電話，諸如，智慧型電話)或類似者中。 章節 V - 電性過應力保護根據本發明之一些實施例，本發明之此章節係關於電性過應力(EOS)保護電路。此等EOS保護電路可遠離信號節點分流與EOS事件相關聯之電荷以提供EOS保護。如上所指示，此章節之態樣可與一或多個其他章節之其他態樣組合以進一步改良前端系統及使用其之相關裝置、積體電路、模組及方法之效能。 為保護積體電路(IC)之接腳或襯墊免受電性過應力(EOS)事件，該IC可包括連接於襯墊與接地之間的一EOS保護電路。為防止EOS保護電路干擾IC之正常操作，需要當在襯墊處存在正常操作條件或電壓位準時使EOS保護電路切斷且非傳導，及回應於EOS事件發生接通且傳導以提供過應力保護。 使用在襯墊與接地之間的許多串聯連接之二極體實施某些EOS保護電路。舉例而言，EOS保護電路可包括串聯之許多二極體以提供足夠高於襯墊之正常操作電壓位準之一觸發電壓。為防止EOS保護電路在存在正常操作電壓位準之情況下意外觸發及傳導，可選擇串聯連接之二極體之數目使得所得觸發電壓安全地高於襯墊之最大操作電壓。 然而，此保護方案可限制及/或約束EOS保護。舉例而言，藉由串聯之多個二極體實施的EOS保護電路之觸發電壓可基於二極體之正向電壓之總和。舉例而言，具有約n個相同串聯連接之二極體的EOS保護電路之觸發電壓可為約n*Vf，其中Vf為每一二極體之順向電壓。 二極體之正向電壓可隨溫度減小。為了防止因正常傳訊而在高溫下的非意欲之啟動，EOS保護電路可藉由足以避免在正常操作條件下之傳導怕最小數目個二極體實施。然而，當包括足夠數目個二極體以容納在正常操作期間之最大衰減電壓、所要的電壓容限、製程變化及IC之最大操作溫度時，在正常溫度及條件下，EOS保護通常減少。 舉例而言，當以此方式實施EOS保護電路時，該EOS保護電路之觸發電壓可在正常操作溫度下相對高，藉此導致在ESD條件下的峰值電壓位準之增大及過應力保護之對應降級。 因此，使用至接地的僅串聯連接之二極體提供EOS保護可在某些應用中不充分，此係由於可能需要過多串聯之二極體以避免跨製程及/或溫度變化在正常傳訊條件下之傳導。 在其他實施中，二極體電連接於襯墊與功率高供電電壓之間以提供EOS保護。然而，在EOS事件期間，過應力電流可流動至功率高供電電壓內。雖然可使用箝位電路在EOS事件期間限制功率高供電軌之電壓增大，但箝位電路可藉由產生洩漏電流而降低功率效能，此在某些低功率應用中可為不可接受的。 在此章節中提供用於EOS保護電路之設備及方法。在某些組態中，EOS保護電路包括電連接於襯墊與第一供應節點之間的一過應力感測電路、電連接於該襯墊與一信號節點之間的一阻抗元件、電連接於該信號節點與該第一供應節點之間且可由過應力感測電路選擇性啟動的一可控制箝位及電連接於該信號節點與第二供應節點之間的一過衝限制電路。當在襯墊處偵測到EOS事件時，該過應力感測電路啟動可控制箝位。因此，EOS保護電路可遠離信號節點分流與EOS事件相關聯之電荷以提供EOS保護。 在某些實施中，過應力感測電路包括複數個串聯連接之二極體及一第一場效應電晶體(FET)，諸如，第一金屬氧化物半導體(MOS)電晶體。另外，該可控制箝位包括一第二FET (諸如，第二MOS電晶體)，其具有基於第一FET之閘極電壓控制的一閘極電壓。舉例而言，可將第一及第二FET實施為電流鏡。在襯墊處之EOS條件下，電流流過過應力感測電路之串聯連接的二極體，藉此接通第一及第二FET且啟動可控制箝位。 另外，回應於在襯墊處之電壓增大，在襯墊與信號節點之間包括阻抗元件應導致信號節點之電壓小於襯墊之電壓。另外，過衝限制電路可將信號節點處之電壓保持至相對低值，直至啟動可控制箝位。以此方式實施EOS保護電路可減小注入至第二供應節點內之峰值電流，且減小信號節點處之電壓過衝。峰值電流之減小可導致在第一與第二供應節點之間的較小供應箝位(例如，更緊湊電路佈局)及IC之靜態功率耗散之對應減小。 因此，此章節中之教示可用以提供增強型EOS保護。另外，使用本文中描述的EOS保護電路中之一或多者保護IC之襯墊可導致較小及/或較低洩漏供應箝位。 在某些組態中，該第一供應節點對應於接地。在此等組態中，該EOS保護電路有利地將EOS事件之電荷分流至展現相對於其他供應節點之極低阻抗及/或增強型熱耗散的一節點。 圖64為IC 1610之示意圖。如圖64中所展示，IC 1610可包括可暴露於EOS狀況(諸如，ESD事件1605)之一或多個接腳或襯墊1601。IC 1610可包括根據本文中之教示實施的至少一個EOS保護電路1602。一無線或行動裝置可包括圖64之IC中之一或多者。該無線裝置可包括實施此章節之一或多個特徵的EOS保護電路。舉例而言，無線裝置可包括多個半導體晶片或IC，且IC中之一或多者可包括根據本文中之教示實施的EOS保護電路。 圖65A為可包括一或多個EOS保護電路的一模組1660之一個實例之示意圖。圖65B為沿著線65B-65B截取的圖65A之模組1660之橫截面。模組1660包括一模組基板或層壓物1662、一絕緣體上矽(SOI)晶粒1670及結合電線1678。在某些實施中，模組1660對應於一前端模組。 模組基板1662包括一晶粒附著襯墊1664及結合襯墊1666。如圖65A中所展示，SOI晶粒1670附著至模組基板1662之晶粒附著襯墊1664。如圖65B中所描繪，模組基板1662可包括層壓在一起之複數個傳導性及非傳導性層，且晶粒附著襯墊1664及結合襯墊1666可由安置於用以附著SOI晶粒1670的模組基板之表面上之一傳導層1681形成。 SOI晶粒1670包括可曝露EOS事件(諸如，ESD事件1605)之襯墊1676。SOI晶粒1670之襯墊1676之至少一部分可包括根據本文中之教示實施的對應的EOS保護電路1602。 圖65C為根據另一實施例的一模組1680之橫截面。 圖65C之模組80類似於圖65A至圖65B之模組1660，惟使用覆晶組態實施模組1680除外。舉例而言，並非使用電線結合將SOI晶粒1690電連接至模組基板1662，已倒轉圖65C之SOI晶粒1690且使用可為焊料凸塊之凸塊1691將其附著至模組基板1662。SOI晶粒1670之襯墊1676之至少一部分可包括根據本文中之教示實施的EOS保護電路1602。 因此，在本文中描述之某些實施中，EOS保護電路包括於使用覆晶配置實施之晶粒中。 雖然圖65A至圖65C說明包括一SOI晶粒(其包括一或多個EOS保護電路)之實例模組，但本文中之教示可適用於模組及/或晶粒之其他組態。 圖66A為根據一個實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面1700之示意圖。IC介面1700包括一襯墊1701、一內部電路1703及一EOS保護電路，該EOS保護電路包括一過應力感測電路1711、一阻抗元件1712、一可控制箝位1713及一過衝保護或限制電路1714。 IC介面1700可不當地遇到EOS事件，諸如，在襯墊1701處之ESD事件1605。在不存在保護機構之情況下，EOS事件1605可導致IC損壞，諸如，閘氧化物破裂、接面擊穿及/或金屬損壞。舉例而言，內部電路1703可包括在不存在EOS保護機構之情況下可損壞的敏感性電晶體及/或結構。 如圖66A中所展示，過應力感測電路1711電連接於襯墊1701與第一供應節點或軌V1之間。另外，阻抗元件1712電連接於襯墊1701與信號節點1702之間。此外，1713電連接於信號節點1702與第一供應節點V1之間，且可由過應力感測電路1711選擇性地啟動。另外，過衝限制電路1714電連接於信號節點1702與第二供應節點或軌V2之間。 過應力感測電路1711電連接至襯墊1701，且偵測諸如ESD事件1605之EOS事件在襯墊1701處接收到之時間。當偵測到EOS事件時，過應力感測電路1711啟動可控制箝位1713以提供信號節點1702與第一供應節點V1之間的低阻抗路徑。因此，EOS保護電路經配置以遠離信號節點1702分流與EOS事件相關聯之電荷以提供EOS保護。 過應力感測電路1711及可控制箝位1713可以廣泛多種方式實施。在一個實施例中，過應力感測電路1711包括複數個串聯連接之二極體及第一FET。另外，可控制箝位1713包括具有基於第一FET之閘極電壓控制之一閘極電壓的第二FET。當在襯墊1701處接收到EOS事件時，電流流過過應力感測電路之串聯連接的二極體，藉此啟動第一及第二FET。 繼續參看圖66A，阻抗元件1712電連接於襯墊1701與信號節點1702之間。因此，當一EOS事件相對於第一供應節點V1增大襯墊1701之電壓時，阻抗元件1712提供導致信號節點1702之電壓小於襯墊1701之電壓的電壓降。說明之EOS保護電路進一步包括過衝限制電路1714，當信號節點1702之電壓增大了比第二供應節點V2之電壓高出過衝限制電路1714之觸發電壓時，其自高阻抗轉變至低阻抗。 包括阻抗元件1712及過衝限制電路1714可當存在EOS事件時將信號節點1702之電壓位準維持相對低。詳言之，過衝限制電路1714將在信號節點1702處之電壓保持或限制至一相對低位準，直至過應力感測電路1711啟動可控制箝位1713。另外，阻抗元件1712提供允許過衝限制電路1714將信號節點之電壓維持至相對低電壓位準的電壓降，甚至在EOS事件使襯墊1701之電壓增大至相對高電壓位準時。 因此，阻抗元件1712及過衝限制電路1714之說明之組態可輔助將信號節點1702維持在相對低電壓位準。此外，阻抗元件1712之包括可相對於信號節點1702直接連接至襯墊1701之組態減少經由過衝限制電路1714注入至第二供應節點V2內的電荷之量。因此，說明之組態可展現至第二供應節點V2內的峰值電流注入之相對較小量，且減小在EOS事件期間的信號節點1702之電壓過衝。在某些實施中，峰值電流之減小導致在第一供應節點V1與第二供應節點V2之間的較小供應箝位(例如，圖66C之供應箝位1757)及IC之靜態功率耗散之對應減少。 IC介面1700之額外細節可如較早先所描述。 圖66B為根據另一實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面1730之示意圖。IC介面1730包括一襯墊1701、一內部電路1703及一EOS保護電路，該EOS保護電路包括一過應力感測電路1711、一阻抗元件1712、一可控制箝位1713、一過衝限制電路1714、一第一反向保護電路1731及一第二反向保護電路1732。 圖66B之IC介面1730類似於圖66A之IC介面1700，惟IC介面1730進一步包括第一反向保護電路1731及第二反向保護電路1732除外。在某些實施中，過應力感測電路1711經實施以回應於偵測到相對於第一供應節點V1增大襯墊1701之電壓的正極性EOS事件而啟動可控制箝位1713。 在所說明之實施例中，第一反向保護電路1731及第二反向保護電路1732可保護IC介面1730免受相對於第一供應節點V1減小襯墊1701之電壓的負EOS事件。第一反向保護電路1731電連接於襯墊1701與第一供應節點V1之間，且當襯墊1701之電壓降低至比第一供應節點V1之電壓低第一反向保護電路1731之觸發電壓時，自高阻抗轉變至低阻抗。另外，第二反向保護電路1732電連接於信號節點1702與第一供應節點V1之間，且當信號節點1702之電壓降低至比第一供應節點V1之電壓低第二反向保護電路1732之觸發電壓時，自高阻抗轉變至低阻抗。 雖然圖66B之說明之IC介面1730包括兩個反向保護電路，但可包括更多或更少反向保護電路。在一個實施例中，包括第一反向保護電路1731且省略第二反向保護電路1732。在另一實施例中，省略第一反向保護電路1731且包括第二反向保護電路1732。 IC介面1730之額外細節可如較早先所描述。 圖66C為根據另一實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面1750之示意圖。IC介面1750包括一襯墊1701、一內部電路1703及一EOS保護電路，該EOS保護電路包括一過應力感測電路1711、一阻抗元件1712、一可控制箝位1713、一過衝限制電路1714及一供應箝位1757。 圖66C之IC介面1750類似於圖66A之IC介面1700，惟IC介面1750進一步包括供應箝位1757除外。在某些實施中，供應箝位1757可幫助限制在過應力事件期間的第二供應節點V2與第一供應節點V1之間的電壓差。 IC介面1750之額外細節可如較早先所描述。 圖67為對於圖66A之EOS保護電路的電壓對時間之曲線圖1790之一個實例。曲線圖1790包括圖66A之信號節點1702之電壓對時間之曲線1791。 曲線圖1790開始於時間零，其中在襯墊1701處接收到EOS事件。已對曲線圖1790標註以展示啟動時間tACTIVATION，其對應於可控制箝位1713由過應力感測電路1711啟動或接通之時間。啟動時間tACTIVATION可與在偵測EOS事件時或在提供足夠量值之控制電壓及/或電流以啟動可控制箝位1713時的延遲相關聯。 如圖67中所展示，信號節點1702之電壓可在不啟動可控制箝位1713之時間週期期間增大。藉由包括阻抗元件1712及過衝限制電路1714，可減小信號節點1702之電壓過衝VOVERSHOOT。減小電壓過衝可提供對內部電路1703之增強型保護及/或減少經由過衝限制電路1714至第二供應節點V2之電荷注入。 雖然圖67說明針對圖66A之EOS保護電路的電壓對時間之曲線圖之一個實例，但其他結果係可能的。舉例而言，模擬及/或量測之結果可基於實施及/或應用而變化。 圖68A為根據另一實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面1800之示意圖。IC介面1800包括一輸入襯墊1801、一輸入邏輯電路1803及一EOS保護電路，該EOS保護電路包括一過應力感測電路1811、一電阻器1812、一可控制箝位1813、一過衝限制電路1814、一第一反向保護電路1815、一第二反向保護電路1816及一供應箝位1817。 IC介面1800可在輸入襯墊1801處接收諸如ESD事件1605之EOS事件。在不存在保護機構之情況下，EOS事件可導致IC損壞，諸如，電連接至信號節點1802的輸入邏輯電路1803之損壞。 說明之EOS保護電路提供針對相對於第一供應節點V1增大輸入襯墊1801之電壓的正極性EOS事件及針對相對於第一供應節點V1減小輸入襯墊1801之電壓的負極性EOS事件之雙向EOS保護。 如圖68A中所展示，過應力感測電路1811電連接於輸入襯墊1801與第一供應節點V1之間。過應力感測電路1811包括分別第一至第八二極體1821至1828，及第一n型金屬氧化物半導體(NMOS)電晶體1830。如圖68A中所展示，第一至第七二極體1821至1827自陽極至陰極串聯地電連接於輸入襯墊1801與第一NMOS電晶體1830之汲極之間。另外，第八二極體1828包括電連接至第一NMOS電晶體1830之源極的陽極及電連接至第一供應節點V1之陰極。第一NMOS電晶體1830經二極體連接，且包括相互電連接之閘極及汲極。 說明之可控制箝位1813包括一第二NMOS電晶體1831及一箝位二極體1832。該第二NMOS電晶體1831包括電連接至該信號節點1802之一汲極，及經由箝位二極體1832電連接至第一供應節點V1之一源極。在可控制箝位1813中包括箝位二極體1832可在存在正常傳訊條件且可控制箝位1813切斷時輔助減小箝位之洩漏電流。如圖68A中所展示，可控制箝位1813之第二NMOS電晶體1831之閘極電連接至過應力感測電路1811之第一NMOS電晶體1830之閘極。 在所說明之實施例中，過應力感測電路1811之第一NMOS電晶體1830及可控制箝位1813之第二NMOS電晶體1831連接作為電流鏡。雖然展示過應力感測電路及可控制箝位之一特定實施，但本文中之教示可適用於廣泛多種過應力感測電路及可控制箝位。 當在輸入襯墊1801處偵測到正極性EOS事件時，過應力感測電路1811啟動可控制箝位1813。舉例而言，當輸入襯墊1801處之電壓足夠高時，電流可流過第一至第八二極體1821至1828及第一NMOS電晶體1830，藉此將第一NMOS電晶體1830之閘極電壓控制至一充分電壓以接通第二NMOS電晶體1831。過應力感測電路1811之啟動電壓可基於二極體1821至1828之正向電壓及第一NMOS電晶體1830之臨限電壓。 如圖68A中所展示，電阻器1812電連接於輸入襯墊1801與信號節點1802之間。另外，過衝限制電路1814電連接於信號節點1802與第二供應節點V2之間。在所說明組態中，過衝限制電路1814包括一過衝限制二極體1841，其包括電連接至信號節點1802之陽極及電連接至第二供應節點V2之陰極。以此方式實施過衝限制電路1814可給過衝限制電路1814提供具有約等於過衝限制二極體1841之正向電壓的相對低觸發電壓。然而，其他組態係可能的，諸如，基於傳訊位準及/或處理約束選擇之實施。 當EOS事件相對於第一供應節點V1增大輸入襯墊1801之電壓時，電阻器1812提供導致信號節點1802之電壓小於輸入襯墊1801之電壓的電壓降。包括電阻器1812及過衝限制電路1814可在存在EOS事件時將信號節點1802之電壓位準維持相對低。詳言之，過衝限制電路1814將在信號節點1802處之電壓保持至一相對低位準，直至過應力感測電路1811啟動可控制箝位1813。另外，電阻器1812提供允許過衝限制電路1814將信號節點之電壓維持至相對低電壓位準的電壓降，甚至在EOS事件使輸入襯墊1801之電壓增大至相對高電壓位準時。 此外，電阻器1812之包括可相對於信號節點1802直接連接至輸入襯墊1801之組態減少經由過衝限制電路1814注入至第二供應節點V2內的電荷之量。因此，說明之組態可展現至第二供應節點V2內的峰值電流注入之相對較小量，且減小在EOS事件期間的信號節點1802之電壓過衝。峰值電流之減小導致供應箝位1817之大小的減小及洩漏電流之對應減少。 在所說明之實施例中，電阻器1812為一顯式電阻器(例如，薄膜電阻器)，且對應於大於僅寄生電阻。 說明之EOS保護電路進一步包括第一反向保護電路1815及第二反向保護電路1816，其輔助提供針對相對於第一供應節點V1減小輸入襯墊1801之電壓的負極性EOS事件之保護。在所說明之實施例中，第一反向保護電路1815包括一二極體1851，其包括電連接至第一供應節點V1之陽極及電連接至輸入襯墊1801之陰極。另外，第二反向保護電路1816包括一二極體1852，其包括電連接至第一供應節點V1之陽極及電連接至信號節點1802之陰極。然而，其他組態係可能的。 IC介面1800之額外細節可如較早先所描述。 圖68B為根據另一實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面1900之示意圖。IC介面1900包括一輸入襯墊1701、一輸入邏輯電路1803及一EOS保護電路，該EOS保護電路包括一過應力感測電路1911、一電阻器1812、一可控制箝位1913、一過衝限制電路1914、一第一反向保護電路1915、一第二反向保護電路1816及一供應箝位1817。 圖68B之EOS保護電路類似於圖68A之EOS保護電路，惟圖68B之EOS保護電路包括某些電路之不同實施除外。 舉例而言，在圖68B中所說明之實施例中，過應力感測電路1911包括分別第一至第八二極體1921至1928，及第一NMOS電晶體1930。第一至第八二極體1921至1928自陽極至陰極串聯地電連接於輸入襯墊1801與第一供應節點V1之間，且控制過應力感測電路1911偵測到過應力時之電壓。另外，第一NMOS電晶體1930包括電連接至第七二極體1927之陽極的汲極及閘極，及電連接至第七二極體1927之陰極的源極。 圖68B之說明之可控制箝位1913包括第二NMOS電晶體1931及箝位二極體1932，其可類似於較早先關於圖68A描述之第二NMOS電晶體1831及箝位二極體1832。圖68B之可控制箝位1913進一步包括電連接於第二NMOS電晶體1931之閘極與第一供應節點V1之間的電容器1933。電容器1933可輔助穩定用以啟動可控制箝位1913之控制電壓，藉此幫助防止不意欲之啟動。 圖68B之說明之過衝限制電路1914包括自陽極至陰極串聯地電連接於信號節點1802與第二供應節點V2之間的一第一二極體1941及一第二二極體1942。雖然過衝限制電路1914包括串聯之兩個二極體，但可包括更多或更少二極體。此外，過衝限制電路之其他實施係可能的，諸如，基於傳訊位準及/或處理約束選擇之實施。 說明之第一反向保護電路1915包括自陽極至陰極串聯地電連接於第一供應節點V1與輸入襯墊1801之間的第一至第四二極體1951至1954。然而，其他組態係可能的，包括(但不限於)具有串聯之更多或更少二極體之實施。 IC介面1900之額外細節可如較早先所描述。 可如在此章節中較早先所描述的本文中論述之電性過應力保護電路可包括於任一合適之前端系統、封裝模組、半導體晶粒(例如，絕緣體上半導體晶粒，諸如，絕緣體上矽晶粒)、無線通信裝置(例如，行動電話，諸如，智慧型電話)或類似者中。舉例而言，一前端系統可包括一或多個半導體晶片或IC，該一或多個半導體晶片或IC包括根據本文中之教示實施的EOS保護電路。本文中所論述的EOS保護電路之原理及優點中之任一者可結合可受益於EOS保護電路的本文中論述之任何其他合適特徵來實施。 章節 VI - 射頻模組之選擇性屏蔽根據本發明之一些實施例，本發明之此章節係關於選擇性屏蔽之射頻模組。一種射頻模組可包括一封裝基板、在該封裝基板上方延伸之一射頻屏蔽結構、在該封裝基板上且在該射頻屏蔽結構之一內部中之一射頻組件及在該射頻屏蔽結構外部在該封裝基板上之一天線。該屏蔽結構可包括在該射頻組件上提供一屏蔽且使該射頻模組在該天線上未經屏蔽之一屏蔽層。如上所指示，此章節之態樣可與一或多個其他章節之其他態樣組合以進一步改良前端系統及使用其之相關裝置、積體電路、模組及方法之效能。 某些射頻(RF)模組可包括提供對電磁干擾之屏蔽的一屏蔽結構。一些此等屏蔽結構可屏蔽整個模組及/或模組之所有電路系統。在某些情況下，可能僅僅模組之一部分上需要屏蔽。舉例而言，在具有一RF電路及一整合式天線之模組中，可能需要圍繞RF電路提供屏蔽物而使天線未屏蔽。此可為RF電路提供RF隔離，且亦允許天線在無屏蔽結構干擾之情況下接收及/或傳輸信號。因此，具有選擇性屏蔽之產品可為合乎需要的。此外，可能需要在模組之一選定部分上形成屏蔽物之精確且可重複的方法，以用於大量製造。 此章節之態樣係關於部分屏蔽一射頻模組之方法。此等方法可包括在該射頻模組之一經屏蔽部分上形成一屏蔽層，且使該射頻模組之一未屏蔽部分未屏蔽。該屏蔽層可屏蔽該射頻模組之一射頻電路，且使該射頻模組之一天線未屏蔽。該屏蔽層可藉由添加法或消減法形成。舉例而言，可藉由用遮罩遮掩射頻模組之一部分、形成屏蔽層且移除該遮罩以便使經先前遮掩之區域未屏蔽來形成屏蔽層。作為另一實例，可藉由在模組上形成傳導層且移除射頻模組之一部分上的傳導層來形成屏蔽層。可使用雷射來移除射頻模組之該部分上的傳導層。 此章節之另一態樣為一種經部分屏蔽之封裝射頻(RF)模組。該RF模組包括一封裝基板、在該封裝基板上方延伸之一RF屏蔽結構、在該封裝基板上且在該RF屏蔽結構之一內部中的一RF組件及在該RF屏蔽結構外部在該封裝基板上一天線。 圖69為根據一實施例的包括一RF組件2012及一整合式天線2014之一實例RF模組2010之示意圖。RF模組2010可為封裝中之系統。圖69展示呈平面圖而無頂部屏蔽層之RF模組2010。可(例如)根據參看圖72A、圖73A、圖74A、圖75A或圖76A描述之過程中之任一者來形成頂部屏蔽層。如所說明，RF模組2010包括封裝基板2016上之RF組件2012、封裝基板2016上之天線2014，及附接至封裝基板2016且包圍RF組件2012之電線結合2018。RF模組2010之天線2014在圍繞RF組件2012的RF屏蔽結構之外。因此，天線2014可在未由圍繞RF組件2012之屏蔽結構屏蔽的情況下無線接收及/或傳輸RF信號。同時，屏蔽結構可在RF組件2012與天線2014及/或其他電子組件之間提供RF隔離。 RF組件2012可包括經組態以接收、處理及/或提供RF信號之任一合適的電路系統。舉例而言，RF組件2012可包括一RF前端、一晶體、一系統單晶片或其任何組合。在某些實施中，RF組件2012可包括一功率放大器、一低雜訊放大器、一RF開關、一濾波器、一匹配網路、一晶體或其任何組合。RF信號可具有在自約30 kHz至約300 GHz之範圍中的頻率。根據某些通信標準，RF信號可在自約450 MHz至約6 GHz之範圍中、在自約700 MHz至約2.5 GHz之範圍中或在自約2.4 GHz至約2.5 GHz之範圍中。在某些實施中，RF組件2012可根據諸如藍芽、ZigBee、Z-Wave、無線USB、INSTEON、IrDA或人體區域網路之無線個人區域網路(WPAN)標準來接收及/或提供信號。在一些其他實施中，RF組件可根據諸如Wi-Fi之無線區域網路(WLAN)標準來接收及/或提供信號。 天線2014可為經組態以接收及/或傳輸RF信號之任何合適的天線。在某些應用中，天線2014可為摺疊式單極天線。天線2014可為任何合適的形狀。舉例而言，天線2014可具有如圖69中所示之曲折形狀。在其他實施例中，天線可為U形的、線圈狀的，或用於一特定應用之任一其他合適形狀。天線2014可傳輸及/或接收與RF組件2012相關聯之RF信號。天線2014可佔據封裝基板2016之任何合適的量之面積。舉例而言，在某些實施中，天線2014可佔據封裝基板2016之自約10%至75%的面積。 天線2014可經印刷於封裝基板2016上。印刷天線可由封裝基板2016上之一或多個傳導跡線形成。該一或多個傳導跡線可藉由將金屬圖案蝕刻於封裝基板2016上來形成。印刷天線可為微帶天線。可相對價廉地且緊湊地製造印刷天線，此歸因於(例如)其2維實體幾何形狀。印刷天線可具有相對高的機械耐久性。 封裝基板2016可為層壓基板。封裝基板2016可包括一或多個佈線層、一或多個絕緣層、一接地平面或其任何組合。在某些應用中，封裝基板可包括四個層。在某些應用中，RF組件2012可藉由封裝基板2016之佈線層中之金屬佈線電連接至天線2014。 電線結合2018為RF屏蔽結構中在RF組件2012周圍之部分。RF屏蔽結構可為與RF信號相關聯的經組態以提供合適屏蔽之任一屏蔽結構。電線結合2018可在天線2014與RF組件2012之間提供RF隔離，以便防止此等組件之間的電磁干擾顯著影響天線2014及/或RF組件2012之效能。電線結合2018可如所說明地包圍RF組件2012。電線結合2018可按任何合適之配置而配置於RF組件2012周圍，其可為如所說明的矩形或在一些其他實施中為非矩形。在圖69中所說明之RF模組2010中，電線結合2018圍繞RF組件2012形成四個壁。電線結合2018可經配置使得鄰近電線結合相互間隔開一段距離，以在RF組件2012與其他電子組件之間提供充分RF隔離。 圖70為根據一實施例的在於射頻組件2012上形成屏蔽層之前的圖69之射頻模組2010之橫截面圖。如圖70中所說明，模製材料2022可安置於RF組件2012、電線結合2018及天線2014上。在圖70中，RF組件2012包括封裝基板2016上之兩個晶粒2012A及2012B。電線結合2018之上部部分2023可在模製材料2022之包覆成型結構中的在電線結合2018上之上表面2024上方延伸。電線結合2018可在上表面2024上方延伸至電線結合2018之頂點2025。可在形成模製材料2022之包覆成型結構之後藉由移除模製材料來曝露電線結合2018之上部部分2023。如圖70中所示使電線結合2018之上部部分2023曝露可允許模製材料2022上的傳導層接觸電線結合2018，以藉此提供電連接。圖70亦說明封裝基板2016中之通孔2026。電線結合2018可藉由通孔2026電連接至封裝基板2016之接地平面2027。電線結合2018可藉由通孔2026電連接至其上安置有模組2010的系統板之接地接觸件。 圖71為根據一實施例的屏蔽層在射頻組件上而非天線上的圖69之射頻模組之橫截面圖。圖71中所說明之RF模組2010'包括在RF組件2012上的形成於包覆成型結構之上表面2024上的屏蔽層2032。屏蔽層2032形成於RF模組2010'之經屏蔽部分上方，且RF模組2010'之未屏蔽部分保持為與封裝基板2016相對地未屏蔽。如所說明，天線2014包括於RF模組2010'之未屏蔽部分中。屏蔽層2032由導電材料形成。如圖71中所示，屏蔽層2032與電線結合2018接觸。 圍繞RF組件2012之屏蔽結構包括屏蔽層2032及電線結合2018。屏蔽結構亦可包括封裝基板2016中之通孔2026、封裝基板2016中之一接地平面2027、上面安置有RF模組2010的系統板之一接地墊及/或一接地平面或其任何組合。RF屏蔽結構可充當圍繞RF組件2012之法拉第籠。RF屏蔽結構可經在接地電位下組態。圍繞RF組件2012之RF屏蔽結構可為RF組件2012屏蔽在屏蔽結構外部的信號，及/或為屏蔽結構之外的電路屏蔽RF組件2012。天線2014在圖71中之屏蔽結構外部。 諸如圖71之屏蔽層2032的屏蔽層可形成於RF模組之一部分上，且RF模組之不同部分可與封裝基板相對地未屏蔽。在本文中所論述的形成屏蔽層之方法中的將屏蔽層形成於RF模組上之前，RF模組可具有在天線及電線結合上的模製材料，該等電線結合具有延伸超出模製材料之包覆成型結構之表面的經曝露上部部分(例如，如圖70中所示)。形成此屏蔽層之實例方法將參看圖72A至圖76I進行論述。本文中所論述之RF模組可包括藉由(視需要)此等方法中之任一者及/或藉由參考此等方法中之任一者進行論述之任何合適操作來形成的一屏蔽層。屏蔽層可藉由添加法或消減法形成於RF模組之所選擇部分上方。本文所論述之形成屏蔽層之方法可實施於大量製造中。可以精確且可重複的方式將此等方法自動化。 圖72A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成一屏蔽層而使天線未屏蔽的說明性過程2040之流程圖。過程2040涉及藉由消減法在RF模組之一部分上形成一屏蔽層。在過程2040中，可將一屏蔽層同時形成於複數個RF模組(諸如，條帶之RF模組)上。可將傳導層形成於RF模組上，且可使用雷射將RF模組中之每一者之選定部分上的傳導層移除。涉及雷射移除傳導層之一部分的形成一屏蔽層之方法可有利於製造大小相對較小之RF模組。圖72B至圖72E說明根據一實施例的對應於圖72A之過程之各種階段的一實例模組或模組帶。 在區塊2042處，提供包括一RF組件及一整合式天線之RF模組。RF模組可包括安置於RF組件與天線之間的一或多個傳導性特徵，諸如，電線結合。傳導性特徵為包括於屏蔽結構中之RF隔離結構。圖72B說明可在區塊2042處提供之一實例RF模組2010A。RF模組2010A可對應於圖69及圖70之RF模組2010。如所說明，圖72B之RF模組2010A包括一RF組件2012，其包括組件2012A、2012B及2012C。亦如圖72B中所說明，電線結合2018可包圍RF組件。電線結合2018之上部部分可(例如)如圖70中所說明予以曝露。 可在區塊2044處將一傳導層形成於RF模組上。傳導層可與RF模組之電線結合接觸。傳導層可為藉由物理氣相沈積(PVD)形成之保形層。可將傳導性材料濺鍍於RF模組帶上。RF模組帶可為在一起進行處理之多個RF模組的任何合適陣列。濺鍍可提供比藉由一些其他製程形成之傳導層更光滑的傳導層。傳導性材料層可包括用於RF屏蔽之任何合適傳導性材料。舉例而言，傳導性材料可為銅。銅可提供合乎需要的電磁干擾屏蔽，且銅亦相對價廉。用於傳導層的另一實例傳導性材料為鎢鎳。可將一保護層形成於傳導層上。此可防止傳導層之腐蝕。作為一實例，可在銅傳導層上提供鈦層以保護銅。圖72C展示RF模組帶2043，其中傳導層2041形成於RF模組帶2043之整個上表面上方。 在區塊2046處，可移除在RF模組之天線上的傳導層。舉例而言，雷射可移除RF模組之天線上的傳導層。雷射可移除RF模組上的傳導層之任何合適部分。可將雷射光束同時應用於RF模組之群組中之兩個或兩個以上RF模組。舉例而言，可同時移除傳導層中在RF模組帶中之RF模組中之每一者之天線上的部分。在一些情況下，可將雷射光束依序應用於RF模組之群組中之不同RF模組。使用雷射移除傳導層之一部分可將特徵保留於RF模組上。舉例而言，諸如光環之燒損特徵可在雷射移除傳導層之一部分之後呈現於RF組件上。相對於形成經部分屏蔽之RF模組之一些其他方法(諸如，涉及遮掩之方法)，雷射移除可導致天線上較粗糙之表面光潔度。 圖72D展示應用於RF模組以移除傳導層2041之一部分的雷射光束2045。雷射可選擇性地移除RF模組上之傳導層，使得RF模組留有一未屏蔽部分2047及一經屏蔽部分2049。因此，可將屏蔽層安置於RF組件上，且天線可與封裝基板相對地未屏蔽。因而，天線可在無屏蔽層干擾之情況下傳輸及/或接收RF信號。雖然圖72D說明被應用於一個模組之雷射光束2045，但在過程2046之區塊2046處，雷射光束可應用於一群RF模組。 參看圖72A，在區塊2048處，可將RF模組帶單粒化至個別RF模組。因此，單粒化可發生在屏蔽層形成於RF模組之一部分上之後。圖72E展示包括在封裝基板之一部分上之一屏蔽層的經單粒化RF模組2010A'。 圖73A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成一屏蔽層且使天線未屏蔽的說明性過程2050之流程圖。過程2050涉及藉由添加法在RF模組之一部分上形成一屏蔽層。在過程2050中，可將遮掩材料應用於條帶之複數個RF模組之選定部分上，可在RF模組及遮掩材料上形成一傳導層，且可移除遮掩材料。涉及遮掩的形成一屏蔽層之方法可同時有利於製造具有相對較大大小之RF模組，及/或有利於同時形成用於相對較小數目個RF模組之一屏蔽層。圖73B至圖73F說明根據一實施例的對應於圖73A之過程之各種階段的一實例模組或模組帶。 在區塊2051處，提供包括一RF組件及一整合式天線之RF模組。RF模組可包括安置於RF組件與天線之間的一或多個傳導性特徵，諸如，電線結合。傳導性特徵為包括於屏蔽結構中之RF隔離結構。圖73B說明可在區塊2051處提供之一實例RF模組2010A。RF模組2010A可對應於圖69及圖70之RF模組2010。圖73B之RF模組2010A亦可對應於圖72B之RF模組2010A。如所說明，圖73B之RF模組2010A包括一RF組件2012，其包括組件2012A、2012B及2012C。亦如圖73B中所說明，電線結合2018可包圍該RF組件。 在區塊2053處，可在RF模組之選定部分上提供遮掩材料。在區塊2053處，可同時及/或依序遮掩RF模組帶。遮掩材料可為相對高溫膠帶。可將遮掩材料應用於RF模組帶中之RF模組中之每一者之天線上。圖73C展示RF模組帶2052，其中遮掩材料2054形成於條帶2052中之每一RF模組之選定部分上。 在區塊2055處，在RF模組帶上形成一傳導層。該傳導層可與RF模組之電線結合接觸。可藉由PVD或將傳導性材料噴塗於RF模組帶上來形成傳導層。舉例而言，可根據參考過程2040之區塊2044所論述之原理及優點中之任一者形成傳導層。作為另一實例，可藉由將諸如基於銀(Ag)之傳導漆的傳導漆噴塗於RF模組帶上來形成傳導層。圖73D展示頂表面由傳導層2041覆蓋之RF模組帶2052'。 在區塊2057處，移除遮掩材料。舉例而言，可以任何合適的方式移除膠帶。藉由移除遮掩材料，亦移除傳導層中形成於遮掩材料上的部分。因此，RF模組中由遮掩材料覆蓋之部分可在與封裝基板相反之方向上未屏蔽。移除遮掩材料可將特徵保留於RF模組上。舉例而言，在移除遮掩材料後可存在晶鬚特徵及/或相對較陡的步階。圖73E展示頂表面具有經屏蔽部分2049及未屏蔽部分2047之RF模組帶2052''。在經屏蔽部分2049中，屏蔽層2032經包括於圍繞每一RF模組之RF組件2012的屏蔽結構中。 在區塊2058處，可將RF模組帶單粒化成個別RF模組。在過程2050中，在屏蔽層形成於RF模組之一部分上之後執行單粒化。圖73F展示包括在封裝基板之一部分上之屏蔽層的RF模組2010A'。圖73F之RF模組2010A'可類似於圖72E之RF模組2010A'，惟圖73F之RF模組2010A'可包括由移除天線上之遮罩而產生的特徵且圖72E之RF模組2010A'可包括由雷射移除天線上之屏蔽層之材料而產生的特徵除外。 諸如圖73A之過程2050及圖74B之過程2060的某些過程包括在單粒化RF模組之前形成屏蔽層。在一些其他過程中，可在RF模組之單粒化之後形成屏蔽層。在此等過程中，可沿經單粒化模組之一或多個邊緣形成保形結構，同時在該經單粒化模組上形成傳導層。保形結構可包括於圍繞RF組件之屏蔽結構中。保形結構經實施為沿RF組件之一或多個側面替代電線結合。圖74A、圖75A及圖76A為包括在RF模組之單粒化之後形成屏蔽層的過程之實例。 圖74A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成屏蔽層且使天線未屏蔽的說明性過程2060之流程圖。過程2060涉及藉由添加法在RF模組之一部分上形成屏蔽層。在過程2060中，可將遮掩材料應用於條帶之複數個RF模組之選定部分上方，可將RF模組單粒化，可將傳導層形成於RF模組及遮掩材料上，且可移除遮掩材料。圖74B至圖74F說明根據一實施例的對應於圖74A之過程之各種階段的一實例模組、模組帶或經單粒化模組之群組。 在區塊2061處，提供包括一RF組件及一整合式天線之RF模組。RF模組可包括安置於RF組件與天線之間的一或多個傳導性特徵，諸如，電線結合。傳導性特徵為包括於屏蔽結構中之RF隔離結構。圖74B說明可在區塊2061處提供之一實例RF模組2010B。RF模組2010B可大體對應於圖69及圖70之RF模組2010及圖72B及圖73B之RF模組2010A。RF模組2010B包括與RF模組2010及2010A相比圍繞RF組件2012之較少側面的電線結合2018。如圖74B中所說明，電線結合2018安置於RF組件2012與天線2014之間。所說明之電線結合2018在RF組件2012與天線2014之間形成電線結合壁。亦如所說明，圖74B之RF模組2010B包括一RF組件2012，其包括組件2012A、2012B及2012C。 在區塊2063處，可在RF模組之選定部分上提供遮掩材料。在區塊2063處，可同時及/或依序遮掩RF模組帶。遮掩材料可為相對高溫膠帶。遮掩材料可為具有相對低黏著性之膠帶。可將遮掩材料應用於RF模組帶之RF模組中之每一者之天線上。圖74C展示RF模組帶2052，其中遮掩材料2054形成於條帶2052之每一RF模組之選定部分上。 在區塊2065處，可將RF模組單粒化。舉例而言，狹條鋸可將個別RF模組彼此分離。可將經單粒化RF模組提供至PVD環。圖74D展示上面形成有一屏蔽層之前的經單粒化RF模組2066之群組。 在區塊2067處，將傳導層形成於經單粒化RF模組上。傳導層可與經單粒化RF模組之電線結合接觸。可藉由濺鍍形成傳導層。舉例而言，可根據如應用於經單粒化模組的參考過程2040之區塊2044所論述之原理及優點中之任一者形成傳導層。圖74E展示上面形成有一傳導層的經單粒化RF模組2066'之群組。傳導層實質上平行於RF模組之封裝基板。 在區塊2067處，亦可沿經單粒化RF模組之邊緣形成保形傳導層。保形傳導層可實質上正交於且接觸實質上平行於封裝基板之傳導層。因此，圍繞RF組件之屏蔽結構可包括圍繞RF組件之一側的電線結合2018、圍繞RF組件之三個側的保形傳導層及在RF組件上之一屏蔽層。在其他實施例中，電線結合可沿著RF組件之兩個或三個側安置，且保形傳導層可沿著RF組件之其他側安置。此等實施例之實例對應於圖77E及圖77F。 在區塊2069處，移除遮掩材料。可移除遮掩材料，同時拾取經單粒化RF模組且將其置放於一托盤中。可以任何合適之方式移除遮掩材料，諸如，剝落遮掩材料或溶解遮掩材料。藉由移除遮掩材料，移除傳導層中形成於遮掩材料上之部分。因此，RF模組中由遮掩材料覆蓋之部分可與封裝基板相對地未屏蔽。移除遮掩材料可將特徵保留於RF模組上。舉例而言，在移除遮掩材料後可存在晶鬚特徵及/或相對較陡之步階。圖74F展示包括在封裝基板之一部分上方之一屏蔽層的一RF模組2010B'。 圖75A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成一屏蔽層且使天線未屏蔽的說明性過程2070之流程圖。過程2070涉及藉由消減法在RF模組之一部分上形成屏蔽層。舉例而言，可使用過程2070中之雷射(而非藉由圖74之過程2060中之遮掩)移除經單粒化RF模組之傳導層之選定部分。過程2070涉及在經單粒化RF模組上形成傳導層，且接著移除傳導層之選定部分。圖75B至圖75F說明根據一實施例的對應於圖75A之過程之各種階段的一實例模組或經單粒化模組之群組。 在區塊2071處，提供包括一RF組件及一整合式天線之RF模組。RF模組可包括安置於RF組件與天線之間的一或多個傳導性特徵，諸如，電線結合。傳導性特徵為包括於屏蔽結構中之RF隔離結構。圖75B說明可在區塊2071處證明之一實例RF模組2010B。RF模組2010B可大體對應於圖69及圖70之RF模組2010及圖72B及圖73B之RF模組2010A。圖75B之RF模組2010B可對應於圖74B之RF模組2010B。如所說明，圖75B之RF模組2010B包括一RF組件2012，其包括組件2012A、2012B及2012C。亦如圖75B中所說明，電線結合2018安置於RF組件2012與天線2014之間。所說明之電線結合2018在RF組件2012與天線2014之間形成電線結合壁。 在區塊2073處，可將RF模組單粒化。舉例而言，狹條鋸可將個別RF模組彼此分離。可將經單粒化RF模組提供至PVD環。圖75B展示上面形成有傳導層之前的經單粒化RF模組2074之群組。RF模組2074可對應於上面未形成遮掩材料之情況下的圖74D之RF模組2066。 在區塊2075處，將一傳導層形成於經單粒化RF模組上。傳導層可與該經單粒化RF模組之電線結合接觸。可藉由濺鍍形成傳導層。舉例而言，可根據如應用於經單粒化模組的參考過程2040之區塊2044所論述之原理及優點中之任一者形成傳導層。圖74C展示上面形成有傳導層的經單粒化RF模組2074'之群組。傳導層實質上平行於RF模組之封裝基板。 在區塊2075處，亦可沿經單粒化RF模組之邊緣形成保形傳導層。保形傳導層可實質上正交於且接觸實質上平行於封裝基板之傳導層。因此，圍繞RF組件之屏蔽結構可包括圍繞RF組件之一側的電線結合2018、圍繞RF組件之三個側的保形傳導層及在RF組件上之一屏蔽層。在其他實施例中，電線結合可沿著RF組件之兩個或三個側安置，且保形傳導層可沿著RF組件之其他側安置。此等實施例之實例對應於圖77E及圖77F。 在區塊2077處，可移除RF模組之天線上的傳導層之選定部分。舉例而言，雷射可移除RF模組之天線上的傳導層。使用雷射移除傳導層之一部分可將特徵保留於RF模組上。舉例而言，諸如光環之燒損特徵可在雷射移除傳導層之一部分之後呈現於RF組件上。相對於形成經部分屏蔽之RF模組之一些其他方法(諸如，涉及遮掩之方法)，雷射移除可導致天線上方較粗糙之表面光潔度。雷射移除可涉及如應用於雷射移除一或多個經單粒化RF模組之一傳導層之選定部分的參考過程2040之區塊2046論述之原理中之任一者。在過程2070中，在單粒化之後執行雷射移除。相比之下，在過程2040中，在單粒化之前執行傳導層之選定部分之雷射移除。 圖74E展示應用於經單粒化RF模組之雷射光束2045。雷射可選擇性地移除RF模組上之一傳導層，使得RF模組保留有一未屏蔽部分2047及一經屏蔽部分2049。因此，可將屏蔽層安置於RF組件上，且天線可與封裝基板相對地未屏蔽。因而，天線可在無屏蔽層干擾之情況下傳輸及/或接收RF信號。 在區塊2077處，拾取經單粒化RF模組且將其置放於一托盤中。圖74F展示包括在封裝基板之一部分上的一屏蔽層之RF模組2010B'，其包括一RF組件。 圖76A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成一屏蔽層且使天線未屏蔽的說明性過程2080之流程圖。過程2080涉及藉由添加法在RF模組之一部分上形成屏蔽層。可將遮掩材料應用於RF模組之面板上，可切割遮掩材料且可移除遮掩材料之一部分，可形成一傳導層，且可移除剩餘遮掩材料。圖76B至圖76I說明根據一實施例的對應於圖76A之過程之各種階段的一實例模組、模組帶或經單粒化模組之群組。 在區塊2081處，提供包括一RF組件及一整合式天線之RF模組。RF模組可包括經安置於RF組件與天線之間的一或多個傳導性特徵，諸如，電線結合。傳導性特徵為包括於屏蔽結構中之一RF隔離結構。圖76B說明可在區塊2081處提供之一實例RF模組2010B。RF模組2010B可大體對應於圖69及圖70之RF模組2010及圖72B及圖73B之RF模組2010A。圖76B之RF模組2010B可對應於圖74B之RF模組2010B及圖75B之RF模組2010B。如所說明，圖76B之RF模組2010B包括一RF組件2012，其包括組件2012A、2012B及2012C。如圖76B中所說明，電線結合2018安置於RF組件2010B與天線2014之間。所說明之電線結合2018在RF組件2010B與天線2014之間形成電線結合壁。 在區塊2083處，可將遮掩材料提供於RF模組上。遮掩材料可覆蓋RF模組帶。遮掩材料可包括本文中所論述之遮掩材料之任何合適的特徵。圖76C展示RF模組帶2082，其中遮掩材料2054形成於條帶2052之RF模組中之每一者的頂表面上。雖然在圖76C中，遮掩材料形成於RF模組之整個頂表面上，但在一些其他實施例中，遮掩材料可形成於RF模組之頂表面之任何合適部分上。 在區塊2085處，可雷射切割遮掩材料。可雷射切割遮掩材料，使得遮掩材料可以任何所要形狀在RF模組上。此等所要形狀可為矩形。在一些其他實施例中，所要形狀可為非矩形的。舉例而言，可雷射切割彎曲特徵、環狀特徵、橢圓特徵、非矩形多邊形特徵或其任何組合。圖76D展示具有經雷射切割之遮掩材料2054的RF模組帶2082'。 在區塊2087處，可移除遮掩材料之一部分。因此，遮掩材料可保留在RF模組中將在過程2080之後不被屏蔽的一部分上。舉例而言，遮掩材料可保留在RF模組之天線上。圖76E展示在部分移除之後帶有遮掩材料2054的RF模組帶2082''。 在區塊2089處，可將RF模組單粒化。舉例而言，狹條鋸可將個別RF模組彼此分離。可將經單粒化RF模組提供至PVD環。圖76F展示上面形成有一傳導層之前的經單粒化RF模組2090之群組。圖76G展示一經單粒化RF模組，其具有在將在過程2080之後不被屏蔽之一部分上方的遮掩材料2054。經單粒化RF模組2090之群組可包括複數個此等模組。RF模組2090可對應於上面經形成有遮掩材料之不同圖案的圖74D的RF模組2066。 在區塊2091處，將一傳導層形成於經單粒化RF模組上。傳導層可與經單粒化RF模組之電線結合接觸。傳導層可經濺鍍於RF模組上。可藉由PVD來形成傳導層。舉例而言，可視需要根據本文中論述之方法中之任一者中之參考形成傳導層所論述的原理及優點中之任一者來形成傳導層。圖76H展示上面經形成有傳導層之經單粒化RF模組2090'之群組。每一RF模組之傳導層實質上平行於RF模組之封裝基板。 在區塊2091處，亦可沿經單粒化RF模組之邊緣形成保形傳導層。保形傳導層可實質上正交於且接觸實質上平行於封裝基板之傳導層。因此，圍繞RF組件之屏蔽結構可包括圍繞RF組件之一側的電線結合18、圍繞RF組件之三個側的保形傳導層及在RF組件上之一屏蔽層。在其他實施例中，電線結合可沿著RF組件之兩個或三個側安置，且保形傳導層可沿著RF組件之其他側安置。此等實施例之實例對應於圖77E及圖77F。 在區塊2093處，移除剩餘遮掩材料。可以任一合適之方式來移除遮掩材料。藉由移除遮掩材料，移除傳導層中形成於遮掩材料上之部分。因此，RF模組中由遮掩材料覆蓋之部分可與封裝基板相對地不被屏蔽。移除遮掩材料可將特徵保留於RF模組上。舉例而言，在移除遮掩材料後，可存在晶鬚特徵及/或相對較陡之步階。圖76I展示頂表面具有一經屏蔽部分及一未屏蔽部分之一RF模組2010B'。在經屏蔽部分中，屏蔽層可被包括於圍繞RF組件之屏蔽結構中。RF模組之天線可在未屏蔽部分中與封裝基板相對地不被屏蔽。 在區塊2095處，拾取經單粒化RF模組且將其置放於一托盤中。 圖77A至圖77F為根據某些實施例的經選擇性屏蔽之RF模組之實例之示意圖。可合適地結合此等實施例之任何其他者及/或本文中所論述之任何其他實施例來實施結合此等實施例中之任一者所論述的原理及優點中之任一者。類似於圖69，圖77A至圖77F之RF模組系在無頂部屏蔽層的情況下展示於平面圖中。可(例如)根據參看圖72A、圖73A、圖74A、圖75A或圖76A之過程中之一或多者所論述的原理及優點中之任一者來形成頂部屏蔽層。屏蔽層可形成於此等RF模組中之每一者之RF組件上，且此等RF模組中之每一者之天線可未屏蔽。此等模組中之每一者之電線結合可與屏蔽層接觸，使得電線結合及屏蔽層均為圍繞RF組件之屏蔽結構的部分。儘管圖77A至圖77F說明具有單一天線之RF模組，但本文所論述之任何合適的原理及優點可應用於包括兩個或兩個以上整合式天線之RF模組。 圖77A至圖77F說明根據本文所論述之原理及優點的各種RF模組。可根據本文中所論述之任何合適的原理及優點選擇性屏蔽此等RF模組中之每一者。圖77A至圖77F說明可在屏蔽結構內實施各種RF組件，可實施各種屏蔽結構，天線可具有各種形狀及/或位置，或其任何合適的組合。舉例而言，圖77A展示包括三個不同元件之RF組件的一實例。可替代或另外地實施其他RF組件。圖77B、圖77C、圖77E及圖77F展示屏蔽結構可包括一個、兩個或三個電線結合壁，且傳導性保形結構可沿著RF模組之其他側面安置以屏蔽RF組件。在屏蔽層形成於RF模組之單粒化之前的實施例中，電線結合可包圍RF模組之RF組件。在屏蔽層形成於RF模組之單粒化之後的實施例中，保形層可沿著RF模組之RF組件的至少一側安置。保形結構可包括任何合適之傳導性材料。舉例而言，在某些應用中，傳導性保形結構可包括與屏蔽層相同之傳導性材料。圖77D、圖77E及圖77F展示實例天線位置及形狀。本文中所論述之RF模組中之任一者可包括以合適方式定位且具有用於一特定應用的任何合適大小及形狀之一天線。 圖77A為根據一實施例的一實例RF模組2010A之示意圖。圖77A之RF模組2010A展示圖69之RF組件2012可包括一系統單晶片2012A、一前端積體電路2012B及一晶體2012C。圖77A之RF模組2010A為可提供於圖72A之過程2040及/或圖73A之過程2050中的RF模組之一實例。 圖77B為根據一實施例的一實例RF模組2010B之示意圖。圖77B之RF模組2010B為可提供於圖74A之過程2060、圖75A之過程2070或圖76A之過程2080中的RF模組之一實例。圖77B之RF模組2010B類似於圖69之RF模組2010，惟電線結合2018並不包圍RF組件2012除外。在圖77B中，電線結合2018安置於RF組件2012與天線2014之間。圍繞圖77B中之RF組件的剩餘側不含電線結合。 圖77C展示在形成一屏蔽層2032及一傳導性保形結構2098之後的圖77B之射頻模組。如圖77C中所說明，可沿著模組2010B'之外部邊緣形成傳導性保形結構2098。可(例如)如結合圖74A之過程2060、圖75A之過程2070或圖76A之過程2080所描述地形成此傳導性保形結構。因此，圖77C中的圍繞RF組件2012之屏蔽結構包括安置於RF組件2012與天線2014之間的電線結合2018及包括沿著RF模組2010B'之邊緣的三個保形傳導側之傳導性保形結構2098。電線結合2018及保形傳導性表面可與安置於RF組件2012上之屏蔽層2032接觸。圖77B及圖77C中所說明之電線結合2018經配置為一壁。在一些其他情況中，傳導性保形結構亦可在天線2014周圍沿著模組2010B'之邊緣。屏蔽層可形成於RF組件2012上，且天線2014可與封裝基板2016相對地未屏蔽。 圖77D為根據一實施例的一實例RF模組2010C之示意圖。圖77D之RF模組2010C類似於圖69之RF模組2010，惟天線2014A包圍RF組件2012除外，且天線2014A具有不同於圖69之天線2014的形狀。與封裝基板2016相對的屏蔽層可屏蔽RF組件2012，且使天線2014A未屏蔽。 圖77E為根據一實施例的實例RF模組2010D之示意圖。圖77E之RF模組2010D類似於圖69之RF模組2010，惟屏蔽結構及天線兩者皆不同除外。在圖77E中所示之RF模組2010D中，屏蔽結構包括圍繞RF組件2012之電線結合2018的三個壁。可沿著不含電線結合之側形成一保形傳導層。保形傳導層及屏蔽層可包括於屏蔽結構中。天線2014B具有不同於圖69之天線2014的位置及形狀。圖77E中所示之天線2014B安置於RF組件2012之四個側中之三者周圍。與封裝基板2016相對的屏蔽層可屏蔽RF組件2012，且使天線2014B未屏蔽。 圖77F為根據一實施例的一實例RF模組2010E之示意圖。圖77F之RF模組2010E類似於圖69之RF模組2010，惟屏蔽結構及天線不同除外。在圖77F中所示之RF模組2010E中，屏蔽結構包括圍繞RF組件2012之電線結合2018的兩個壁。可沿著不含電線結合之該等側形成保形傳導層。保形傳導層及屏蔽層可包括於屏蔽結構中。天線2014C具有不同於圖69之天線2014的位置及形狀。圖77F中所示之天線2014C安置於RF組件2012之四個側中之兩者周圍。與封裝基板2016相對的一屏蔽層可屏蔽RF組件2012，且使天線2014C未屏蔽。 可選擇性地屏蔽射頻模組，使得與封裝基板相對的屏蔽層覆蓋射頻模組之任何合適部分。此屏蔽層可具有用於所要應用之任何合適圖案。可藉由剝蝕傳導性材料(諸如，藉由雷射刻劃)及/或藉由移除遮罩以移除傳導性材料來形成該圖案。該圖案可具有任何合適之形狀及/或大小。舉例而言，此圖案可覆蓋圖77A至圖77F中之任一者中展示之一RF組件。 射頻模組之未屏蔽部分可藉由剝蝕曝露。剝蝕圖案可為用於所要應用之任何合適圖案。舉例而言，剝蝕圖案可為一條線、諸如多條交叉線之多條線、一區塊等。移除遮掩材料可替代地執行與剝蝕傳導性材料類似的功能。因此，射頻模組之未屏蔽部分可具有呈平面圖的一或多條線及/或一或多個區塊之形狀。在一些情況下，射頻模組之未屏蔽部分可將射頻模組之不同的經屏蔽部分分離。 雖然圖77A至圖77F之射頻模組包括在天線上之未屏蔽部分，但未屏蔽部分可在一或多個其他電路元件(諸如，一或多個匹配電路、一或多個濾波器、一或多個雙工器、類似者或其任何合適組合)上及/或在射頻模組之不同部分之電路系統之間。在某些應用中，可將屏蔽結構分段以防止射頻模組之一個部分干擾射頻模組之另一部分。 圖77G至圖77J為根據某些實施例的經選擇性屏蔽之RF模組之實例之圖式。可合適地結合此等實施例之任何其他者及/或本文中所論述之任何其他實施例來實施結合此等實施例中之任一者論述的原理及優點中之任一者。舉例而言，可根據參考圖72A、圖73A、圖74A、圖75A或圖76A中之一或多者所論述之任何合適的原理及優點形成圖77G至圖77J之頂部屏蔽層。 圖77G說明根據一實施例的經屏蔽射頻模組2010F'，其中剝蝕圖案使射頻模組之一部分未屏蔽。剝蝕圖案可在射頻模組2010F'之頂部上擴展，及亦在射頻模組2010F'之相對側上擴展。剝蝕圖案可藉由(例如)雷射刻劃形成。此雷射刻劃可移除傳導性材料，且在模製材料上留下不含傳導性材料之未屏蔽部分2047A。雷射刻劃亦可移除未屏蔽部分2047A中之一些模製材料(例如，約5微米之模製材料)。在某些應用中，所說明剝蝕圖案之寬度可在自約40至150微米之範圍(諸如，約100微米)中。 如圖77G中所示，未屏蔽部分2047A將第一屏蔽結構與第二屏蔽結構分離。第一屏蔽結構可向RF組件提供屏蔽。所說明第一屏蔽結構包括一頂部屏蔽層2032A及三個保形側。三個保形側可實質上與頂部屏蔽層2032A正交。保形側可連接至接地，且針對頂部屏蔽層2032A提供接地連接。第一屏蔽結構亦可包括在鄰近於未屏蔽部分2047A之第四側上的電線結合。此等電線結合可與頂部屏蔽層2032A接觸。替代地，可沿著第四側且與頂部屏蔽層2032A接觸地形成傳導性保形結構。第二屏蔽結構可針對另一電子組件(諸如，另一RF組件)提供屏蔽。所說明第二屏蔽結構包括一頂部屏蔽層2032B及三個保形側。三個保形側可實質上與頂部屏蔽層2032B正交。保形側可連接至接地，且針對頂部屏蔽層2032B提供接地連接。第二屏蔽結構亦可包括在鄰近於未屏蔽部分2047A之第四側上的電線結合。此等電線結合可與頂部屏蔽層2032B接觸。替代地，可沿著第四側且與頂部屏蔽層2032B接觸地形成傳導性保形結構。在某些應用中，第一屏蔽結構及第二屏蔽結構均在未屏蔽部分2047A之相對側在實質上與頂部屏蔽層正交之方向上敞開。 圖77H說明根據一實施例的一經選擇性屏蔽之射頻模組2010G'。在圖77H中，未屏蔽部分2047A比在圖77G中寬。未屏蔽部分2047A可具有在自約300微米至700微米(諸如，約500微米)之範圍中的寬度。未屏蔽部分2047A可具有用於一特定應用之任何適合尺寸。 圖77I說明根據一實施例的在兩個經屏蔽部分之間具有一未屏蔽部分2047A的一經選擇性屏蔽之射頻模組2010H'。射頻模組2010H'說明同一射頻模組之兩個RF組件可由不同屏蔽結構屏蔽。此等RF組件可為任何合適的RF組件，諸如，在不同頻帶(例如，一高頻帶及一低頻帶)中操作之RF組件。在射頻模組2010H'中，第一屏蔽結構為第一RF組件2012-1提供屏蔽，且第二屏蔽結構為第二RF組件2012-2提供屏蔽。射頻模組2010H'之屏蔽結構可減少及/或消除第一RF組件2012-1與第二RF組件2012-2之間的干擾。第一RF組件2012-1定位於第一屏蔽結構之頂部屏蔽層2032A與封裝基板之間。第二RF組件2012-2定位於第二屏蔽結構之頂部屏蔽層2032B與封裝基板之間。 保形層可形成射頻模組2010H'之第一屏蔽結構的至少三個側面。類似地，保形層可形成射頻模組2010H'之第二屏蔽結構之至少三個側面。在某些應用中，第一屏蔽結構及第二屏蔽結構均在未屏蔽部分2047A之相對側上在實質上與頂部屏蔽層正交之方向上敞開。在一些情況下，一或多個傳導性特徵可安置於第一RF組件2012-1與第二RF組件2012-B之間。舉例而言，第一屏蔽結構可包括安置於RF組件2012-1與未屏蔽部分2047A之間的一或多個電線結合，其中該一或多個電線結合與頂部屏蔽層2032A接觸。替代或另外地，第二屏蔽結構可包括安置於RF組件2012-2與未屏蔽部分2047A之間的一或多個電線結合，其中該一或多個電線結合與頂部屏蔽層2032B接觸。作為另一實例，第一屏蔽結構可包括安置於RF組件2012-1與未屏蔽部分2047A之間的一保形結構，及/或第二屏蔽結構可包括安置於RF組件2012-2與未屏蔽部分2047A之間的一保形結構。可(例如)根據參看圖81A及圖81B所論述之任何合適的原理及優點形成此保形結構。在一些應用中，雷射刻劃可移除模具通孔內之傳導性材料，使得模具通孔之底部可對應於未屏蔽部分2047A。 圖77J說明根據一實施例的經屏蔽部分之間具有一未屏蔽部分的一經選擇性屏蔽之射頻模組2010I'。射頻模組2010I'說明另一實例未屏蔽部分2047B及實例RF組件2012-1、2012-2A及2012-2B及2012-3。舉例而言，可藉由用雷射切劃剝蝕模組上之傳導性材料來形成未屏蔽部分2047B。如由圖77J說明，未屏蔽部分47B可將屏蔽結構分段成兩個以上單獨屏蔽結構。射頻模組2010I'為3個不同組件被封裝在一起(SoC 2012-1、前端2012-2A及SOC 2012-2，及晶體2012-3)且由未屏蔽部分2047B彼此分開之一實例。在一些實施例中，與頂部屏蔽層接觸之一或多個傳導性特徵可在未屏蔽部分2047B中的一些或全部之一側或兩側上。該一或多個傳導性特徵可包括一或多個電線結合及/或一保形結構。 可(例如)如上文所論述將整合式天線印刷於封裝基板上。在某些實施例中，整合式天線可為多層天線。舉例而言，整合式天線之一部分可在封裝基板之一表面上，且整合式天線之另一部分可實施於整合式天線中在封裝基板之表面上的部分之上方或下方的另一層中。作為一實例，整合式天線之一部分可印刷於封裝基板之第一側上，且整合式天線之另一部分可在封裝基板之第二側上，其中第一側面與第二側面相對。作為另一實例，整合式天線之一部分可印刷於封裝基板之第一側上，且整合式天線之另一部分可實施於射頻模組之一模製層上。在一些應用中，多層天線可在相對於類似單層天線的較小佔據面積中實施一天線。此可減少天線之佔據面積，且因此減少包括該天線之射頻模組的佔據面積。 圖78A及圖78B說明包括實施於封裝基板2016之相對側上的一整合式天線之射頻模組2100。所說明之整合式天線為多層天線。可結合本文所論述之其他實施例中之任一者實施RF模組2100之任何合適原理及優點。天線可包括在封裝基板之相對側上的跡線。圖78A為射頻模組2100之俯視圖。圖78B為射頻模組2100之仰視圖。 如圖78A中所示，天線之第一部分2104A可在封裝基板中的上面亦安置有RF組件2012之第一側。第一部分2104A可藉由傳導跡線實施。天線之第一部分2104A可由延伸穿過封裝基板2016之一或多個通孔電連接至天線之第二部分2104B。第一部分2104A及第二部分2104B可一起實施RF模組2100之天線。 如圖78B中所示，天線之第二部分2104B可在封裝基板2016中與第一部分2104A相對之側上。第二部分2104B可由傳導跡線實施。一或多個襯墊可安置於天線之第二部分2104B上。亦如圖78B中所示，襯墊2108A至2108E可接觸天線之第二部分2104B。可曝露襯墊2108A至2108E，用於在天線與上面安置有RF模組2100之系統板之間提供連接。可將襯墊2108A至2108E焊接至系統板。襯墊2108A至2108E中之一或多者可充當錨定點，以將RF模組2100之天線與系統板對準。 返回參看圖78A，所說明之RF模組2100包括一匹配電路2106，其實施於在屏蔽結構外部之封裝基板2016上。所說明之匹配電路2106電連接至天線。匹配電路2106可提供與天線相關聯之阻抗匹配。匹配電路2106可包括任何合適之匹配電路元件，諸如，一或多個電容器及/或一或多個電感器。如所說明，匹配電路2106包括三個被動電路元件2106A、2106B及2106C。在其他應用中，匹配電路2106可包括更多或更少電路元件。舉例而言，在某些應用中，匹配電路可包括兩個電感器。匹配電路2106可具有相對高活動性因子。因此，在屏蔽結構外部實施匹配電路2106可允許與匹配電路2106相關聯之熱量耗散至屏蔽結構之外。 圖79A及圖79B說明包括部分實施於模製材料2022上之一整合式天線的射頻模組2110。所說明之整合式天線為多層天線。可結合本文所論述之其他實施例中之任一者實施RF模組2110之任何合適的原理及優點。圖79A展示為達成說明之目的而省略模製材料的RF模組2110之局部視圖。圖79B展示具有模製材料2022的RF模組2110之視圖。在圖79A及圖79B中，天線包括第一部分2114A及第二部分2114B。第一部分2114A可為封裝基板2016上之一傳導跡線。第二部分2114B可安置於RF模組2110之模製材料2022上。第二部分2114B可包括在模製材料2022上之經圖案化傳導性材料。第二部分2114B可由與RF模組2110之屏蔽結構之屏蔽層2032相同的材料實施。可在形成屏蔽層2032之一操作期間形成第二部分2114B。天線之第二部分2114B及屏蔽層2032可距封裝基板2016大致相同距離。一或多個電線結合2116可將天線之第一部分2114A與天線之第二部分2114B電連接。 可能需要減小具有一整合式天線之RF模組的實體大小。某些天線設計可減小具有一整合式天線之此RF模組的實體大小及/或佔據面積。圖80說明整合式天線2124經對一RF組件屏蔽之一RF模組2120。可結合本文所論述之其他實施例中之任一者實施RF模組2120之任何合適的原理及優點。在具有天線2124之情況下，RF模組2120可相對於一些其他天線設計具有被減少約15%至20%之長度。因此，RF模組2120可具有此等其他天線設計之較小佔據面積。 儘管在圖77A至圖77E中所展示之RF模組包括安置於RF組件與整合式天線之間的電線結合，但在某些實施例中，其他傳導性結構可在RF組件與整合式天線之間提供屏蔽。舉例而言，一傳導性保形結構可提供此屏蔽。因此，根據本文所論述之任何合適的原理及優點，傳導性保形結構可安置於RF模組中之一RF組件與一整合式天線之間。 可修改本文所論述的在模組之射頻組件上形成一屏蔽層且保持天線未屏蔽之過程中之任一者以形成此保形層。舉例而言，可經由RF模組之模製結構之模製材料形成模具通孔。雷射刻劃可移除模製材料以形成此模具通孔。接著，可藉由濺鍍或任何其他合適方式將一傳導層形成於RF模組上。此可在模製材料上及模具通孔內形成一傳導層，包括沿著模具通孔之側壁。接著可移除整合式天線上之傳導層，使得RF模組之天線在封裝基板上未屏蔽。可根據本文所論述之任何合適原理及優點執行此移除，諸如，雷射移除天線上之傳導性材料及/或移除天線上之遮掩材料。在移除天線上之傳導層之後，傳導性保形結構可保留於模具通孔內。此傳導性保形結構可與RF組件上之屏蔽層接觸，且可包括於圍繞RF組件之屏蔽結構中。因此，此傳導性保形結構可在RF模組之RF組件與天線之間提供屏蔽。 圖81A說明具有一模具通孔2132之RF模組2130。可(例如)藉由雷射刻劃形成模具通孔2132。模具通孔2132可具有一或多個傾斜側壁。如所說明，模具通孔2132安置於RF組件2012與天線2014之間。RF模組2130包括在模製材料2022上方之一傳導層2134。傳導層2134亦形成於模具通孔2132之傾斜側壁上。模具通孔2132之傾斜側壁可實現在傳導層形成於RF組件2012上時於RF組件2012與天線2014之間形成一傳導性保形結構。在具有傾斜側壁之情況下，可在天線2014與RF組件2012之間形成具有合乎需要的步階覆蓋之一傳導性保形結構。 圖81B說明在移除天線2014上的圖81A中所示之傳導層2134之後的RF模組2130'。在RF模組2130'中，圍繞RF組件2012之一屏蔽結構包括屏蔽層2032及模具通孔2132之側壁上方的一傳導性保形結構2136。傳導性保形結構2136經配置以在RF組件2012與天線2014之間提供屏蔽。RF組件2012之其他側亦可由傳導性保形結構屏蔽。舉例而言，RF模組2130'之RF組件2012可由一傳導性保形結構包圍。 圖82A及圖82B為根據一實施例的具有一印刷天線之載體上的一經屏蔽RF組件之圖式。圖82A為俯視圖，且圖82B為側視圖。如圖82A及圖82B中所示，載體2140可具有印刷於其上之一天線2014。載體2140可為封裝基板，諸如，層壓基板。載體2140可相比於如上文所述之封裝基板2016具有較少層。舉例而言，在某些應用中，載體2140可包括兩個層，且封裝基板2016可包括四個層。RF組件2012可由屏蔽結構2142屏蔽，其可為如所說明之一保形屏蔽結構。封裝組件2144可自天線2014側向地安置於載體2140上。因此，天線2014可在無屏蔽結構2142干擾之情況下傳輸及/或接收信號。封裝組件2144可安置於載體2140上，使得載體2140上之接地墊電連接至保形屏蔽結構。封裝組件2144可包括具有一保形屏蔽結構的封裝中之系統。封裝組件2144可包括具有其自身封裝基板的封裝中之經模製系統。 可根據此章節中論述的選擇性屏蔽之任何合適原理及優點來實施本文中所論述之前端系統。此章節中論述的模組中之任一者可包括於諸如IoT裝置或行動電話(例如，智慧型電話)之無線通信裝置中。此章節中論述的RF模組中之任一者可包括無線個人區域網路(WPAN)系統或包括於WPAN系統中。WPAN系統為經組態以用於處理與個人區域網路(PAN)相關聯之RF信號的RF前端系統。WPAN系統可經組態以傳輸及接收與一或多個WPAN通信標準相關聯之信號，諸如，與藍芽、ZigBee、Z-Wave、無線USB、INSTEON、IrDA或人體區域網路中之一或多者相關聯的信號。此章節中論述的RF模組中之任一者可包括無線區域網路(WLAN)系統或包括於WLAN系統中。WLAN系統可處理無線區域網路信號，諸如，Wi-Fi信號。 上文所描述的實施例中之一些已結合RF組件、前端系統及/或無線通信裝置提供實例。然而，此章節之實施例之原理及優點可用於可受益於本文中所描述之選擇性屏蔽技術、屏蔽結構、整合式天線、電路或其任何組合中之任一者的任何其他系統或設備。儘管在RF電路之情況下進行描述，但在此章節中所描述之一或多個特徵可用於涉及非RF組件之封裝應用中。類似地，在此章節中所描述之一或多個特徵亦可在無電磁隔離功能性之情況下用於封裝應用中。此外，雖然在此章節中所論述之實施例包括一RF屏蔽結構及在屏蔽結構外部之一天線，但其他電子組件可在模組之封裝基板上且在封裝基板上在RF屏蔽結構外部(代替天線或除天線以外)。在此章節中所論述之原理及優點可應用於圍繞封裝基板上之電子組件的兩個或兩個以上屏蔽結構，及封裝基板上在兩個或兩個以上屏蔽結構中之每一者外部的天線。所論述之實施例的原理及優點中之任一者可用於可受益於本文中所論述之選擇性屏蔽特徵中之任一者的任何其他系統或設備中。 章節 VII - 具有整合式天線之經屏蔽射頻組件根據本發明之一些實施例，本發明之此章節係關於一種具有一整合式天線之經屏蔽射頻組件。天線可在多層基板之第一側上且射頻組件可安置於多層基板之第二側上，使得多層基板之接地平面定位於天線與射頻組件之間。傳導性特徵可安置於射頻組件周圍且電連接至接地平面。該等傳導性特徵及該接地平面可提供對射頻組件之屏蔽。在某些實施例中，該等傳導性特徵可包括凸塊，諸如，焊料凸塊及/或銅柱。如上所指示，此章節之態樣可與一或多個其他章節之其他態樣組合以進一步改良前端系統及使用其之相關裝置、積體電路、模組及方法之效能。 存在對於相對低成本封裝技術以屏蔽電路以減少輻射之諧波且亦允許天線未被針對接收及/或傳輸信號而屏蔽之需求。此章節之態樣係關於一種具有一整合式天線之經屏蔽封裝。可製造將天線印刷於頂層上且用於屏蔽之接地平面包括於在頂層下之層中的層壓基板。層壓基板之其他層可實施信號導引。可沿著層壓基板之底層安置諸如射頻(RF)組件之一電子組件。凸塊可安置於電子組件周圍且電連接至該接地平面。在某些應用中，該等凸塊可為焊料凸塊。在各種應用中，該等凸塊可包括銅柱。該等凸塊可將模組附接至載體或直接附接至一系統板。電子組件可由凸塊包圍。舉例而言，電子組件之外側邊緣可具有藉由通孔連接至接地平面之接地凸塊。圍繞電子組件之接地凸塊可連接至載體或系統板之接地。因此，當將模組置放至一載體或系統板上時可使屏蔽結構完整。屏蔽結構可充當電子組件周圍之法拉弟籠。電子組件周圍之屏蔽結構可將電子組件對在屏蔽結構外部之信號屏蔽，及/或將在屏蔽結構之外的電路對電子組件屏蔽。 此章節之一個態樣為一種模組，其包括一多層基板、一天線、一射頻(RF)組件及安置於RF組件周圍之傳導性特徵。多層基板具有第一側以及與第一側相對之第二側。該多層基板包括一接地平面。天線在多層基板之第一側上。RF組件在多層基板之第二側上，使得接地平面定位於天線與RF組件之間。將傳導性特徵安置於RF組件周圍且電連接至接地平面。該等傳導性特徵及該接地平面經組態以提供對RF組件之屏蔽。 此章節之另一態樣為一種RF電路總成，其包括具有第一側及與第一側相對之第二側的一層壓基板、在層壓基板之第一側上的一印刷天線、附接於層壓基板之第二側上的一RF組件及安置於RF組件周圍之複數個凸塊。層壓基板包括定位於印刷天線與RF組件之間的一接地平面。該等凸塊形成至接地平面的電連接之至少一部分，以藉此在RF組件周圍形成屏蔽結構之至少一部分。該等凸塊可包括焊料凸塊及/或銅柱。 此章節之另一態樣為系統板總成，其包括具有第一側及與第一側相對之第二側的一層壓基板、在層壓基板之第一側上的一印刷天線、附接於層壓基板之第二側上的一RF組件、安置於RF組件周圍之複數個凸塊及一系統板。該層壓基板包括形成一接地平面之至少一個層。該接地平面定位於該印刷天線與該RF組件之間。該複數個凸塊電連接至該接地平面。該系統板包括藉由該複數個凸塊電連接至接地平面之接地墊，使得在RF組件周圍形成一屏蔽結構。 圖83A展示根據一實施例的封裝系統2210中之天線之橫截面。封裝系統2210中之天線為射頻模組之一實例。封裝系統2210中之天線包括與RF組件整合且對RF組件屏蔽之一天線。該天線未被屏蔽將RF信號傳輸至系統及自系統遠端接收RF信號。因此，天線可傳輸及/或接收任何合適之RF信號。天線可傳輸及/或接收用於一系統單晶片(SoC)之RF信號。在某些實施例中，封裝系統2210中的天線之天線可經配置以傳輸及/或接收藍芽及/或ZigBee信號。 封裝系統2210中的說明之天線包括一多層基板2212，其包括一天線層2214、一接地平面2216、一絕緣層2220及一其他層2222。一RF組件2218在與天線層2214相對之一側上附接至多層基板2212。接地平面2216安置於天線層2214與RF組件2218之間使得接地平面2216提供RF組件2218與天線層2214之間的屏蔽。天線2214可藉由一或多個電線結合、藉由延伸穿過屏蔽結構外之基板2212之一或多個通孔、藉由磁耦合或其任何合適組合與RF組件2218通信。 多層基板2212可為一層壓基板。絕緣層2220可安置於天線層2214與接地平面2216之間。絕緣層2220可包括任何合適之介電材料。多層基板2212可包括可實施信號導引及/或被動組件之一或多個其他層2222。自接地平面2216延伸至圖83A中所展示之多層基板2212之底部側的通孔2224可在多層基板2212之底部側處提供接地連接。在一些實施中，通孔2224中之每一者可由穿過由安置於絕緣層之間的組件層中之金屬相互連接之不同絕緣層的若干通孔實施。 RF組件2218可包括經組態以接收及/或提供RF信號之任何合適之電路系統。舉例而言，RF組件2218可包括功率放大器、低雜訊放大器、RF開關、濾波器、匹配網路或其任何組合。RF信號可具有在自約30 kHz至300 GHz之範圍中的頻率。根據某些通信標準，RF信號可在自約450 MHz至約6 GHz之範圍中、在自約700 MHz至約2.5 GHz之範圍中或在自約2.4 GHz至約2.5 GHz之範圍中。在某些實施中，RF組件2218可根據無線個人區域網路(WPAN)標準接收及/或提供信號，諸如，藍芽、ZigBee、Z-Wave、無線USB、INSTEON、IrDA或人體區域網路。在一些其他實施中，RF組件可根據諸如Wi-Fi之無線區域網路(WLAN)標準接收及/或提供信號。 RF組件2218可囊封於模製材料2226中。模具通孔2228可延伸穿過模製材料2226至凸塊2229。凸塊2229可為任何合適之傳導性凸塊，諸如，焊料凸塊、焊料球、銅柱或類似者。凸塊2229可有助於將封裝系統2210中之天線安裝至一系統板上。凸塊2229可與模具通孔2228實體接觸。因此，凸塊2229可藉由模具通孔2228及多層基板2212中之通孔2224電連接至接地平面2216。雖然在圖83A之橫截面中說明兩個凸塊2229、兩個模具通孔2228及兩個通孔2224，但任何合適數目個此等元件可包括於封裝系統2210中之天線中以提供合適接地連接及/或提供RF組件2218周圍之合適屏蔽。舉例而言，在平面圖中，凸塊2229可沿著封裝系統2210中的天線之外邊緣延伸以包圍RF組件2218。對應的模具通孔2228及通孔2224可藉由此等凸塊2229實施。 圖83B展示根據一實施例的封裝系統2210'中之天線之橫截面。封裝系統2210'中之天線為射頻模組之另一實例。圖83B之封裝系統2210'中的天線類似於圖83A之封裝系統2210中的天線，惟RF組件2218未囊封於封裝系統2210'中之天線中且凸塊2229與多層基板2212中之通孔2224實體接觸除外。在一些應用中，封裝系統2210'中之天線可安裝至一載體上。 圖84展示根據一實施例的具有提供支座之凸塊的封裝系統2230中之天線之橫截面。圖84展示在回焊後，凸塊2232可延伸得距模組比阻焊劑2234距模組遠。此可使凸塊2232能夠提供RF組件與一系統板或其上安置封裝系統2230中之天線之其他基板之間的支座。圖84中所展示之任何合適特徵可結合本文中所論述的封裝系統中之天線中之任一者實施。 圖85A至圖85C說明實例系統板總成。與此等系統板總成相關聯之任何合適原理及優點可藉由本文中論述的封裝系統中之天線中之任一者及/或RF模組中之任一者來實施。圖85A說明根據一實施例的具有在封裝系統2210中之一天線及安置於系統板2244上之其他組件2242之系統板總成2240。系統板2244可為任何合適之應用板，諸如，用於行動電話之電話板。封裝系統2210中的天線之凸塊2229可與系統板2244之一或多個接地連接實體接觸。因此，在三維中，屏蔽結構可至少部分包圍封裝系統2210中的天線之RF組件2218。屏蔽結構可提供RF組件2218與封裝系統2210中的天線之天線層2214之間的屏蔽。屏蔽結構可提供RF組件2218與安置於系統板2244上之一或多個其他組件2242之間的屏蔽。因此，可屏蔽RF組件2218免受由一或多個其他組件2242發射之輻射。同時，可屏蔽其他組件2242免受自RF組件2218發射之輻射。其他組件2242可包括系統板2244上之任一其他電路系統，諸如，其他RF電路系統、基頻處理器、記憶體、類似者或其任何合適組合。 圖85B說明根據一實施例的具有在封裝模組中之一天線及安置於系統板2244上之另一組件2242的系統板總成2240之橫截面。如所說明，系統板2244包括與凸塊2229接觸之接地墊2241A。在圖85B中，內凸塊2243由包括凸塊2229之屏蔽結構包圍。內凸塊2243可提供RF組件2218之電路系統與系統板2244之間的電連接。系統板2244上之襯墊2241B可藉由各別凸塊2243、通孔2228'、佈線金屬2247及通孔2245電連接至RF組件2218。天線層2214之天線可電連接至系統板2244之襯墊2241C。如所說明，電線結合2246將天線電連接至襯墊2241C。系統板2244可提供天線與RF組件2218及/或其他組件2242之間的信號導引。 圖85C說明根據一實施例的具有在封裝模組中之一天線及安置於系統板2244上之另一組件2242的系統板總成2240'之橫截面。系統板總成2240'與圖85B之系統板總成2240相似，惟實施封裝系統中之不同天線除外。在系統板總成2240'中，系統板2244上之襯墊2241B可藉由各別凸塊2243、通孔2245及佈線金屬2247電連接至RF組件2218。 圖86為根據一實施例的封裝系統2248中之天線之橫截面圖。封裝系統2248中之說明之天線包括圖83A及圖83B之封裝系統中的天線之若干組件。在圖86中，說明關於層2222之更多細節。在封裝系統2248中之說明之天線中，層2222可實施信號導引。如圖86中所展示，RF組件2218及模製材料2226可在說明之垂直維度上比多層基板2212厚。 圖87A及圖87B為根據某些實施例的分別具有整合式天線之層射頻電路總成2250及2250'之實例橫截面圖。此等圖大體說明射頻電路總成之層。結合圖88A至圖89D提供圖87A及圖87B的說明之層之一些實例之細節。 在圖87A中，說明之射頻電路總成2250包括一天線層2214、一接地平面2216、安置於天線層2214與接地平面2216之間的一絕緣層2220、一組件層2251、佈線層2252、2255、2257，及絕緣層2253、2254、2256及2258。佈線層2252、2255、2257、絕緣層2220、2253、2254、2256及2258及接地平面2216可包括於層壓基板中。天線層2214亦可被考慮為層壓基板之部分。組件層2251可與層壓基板整合在一起。組件層2251可包括本文中所論述的RF組件中之任一者，諸如，RF組件2218。組件層2251可包括一包括RF電路之半導體晶粒。 佈線層中之每一者可具有在對置側上之絕緣層以使佈線層與其他佈線層及/或其他層(諸如，接地平面2216或組件層2251)絕緣。如所說明，絕緣層2253安置於接地平面2216與最靠近接地平面2216之佈線層2252之間。亦如圖87A中所展示，絕緣層2258安置於組件層2251與最靠近組件層2251之佈線層2257之間。絕緣層可由(例如)任何合適之介電材料形成。佈線層可實施金屬佈線。延伸穿過絕緣層之通孔(圖87A中未說明)可提供在絕緣層之對置側上的層中之金屬之間的連接。 任何合適數目個佈線層可包括於一射頻電路總成中。舉例而言，圖87B之射頻電路總成2250'包括一個佈線層2252。作為另一實例，圖87A之射頻電路總成2250包括三個佈線層2252、2255、2257。可實施相對更多佈線層以處置在組件層2251之電路系統之間的增加量之信號導引。替代地或另外，可實施相對更多佈線層以處置在組件層2251之電路系統與在射頻電路總成2250及/或2250'外部之電路系統之間的增加量之信號導引。信號導引可由一屏蔽結構屏蔽，該屏蔽結構包括接地平面2216及穿過與接地焊料凸塊連接且安置於組件層2251之RF組件周圍的射頻電路總成2250及/或2250'之絕緣層之通孔。此等通孔可電連接至安置於組件層2251中之RF組件周圍的傳導性特徵，諸如，凸塊。諸如一或多個螺旋電感器之被動組件可實施於該等佈線層中之一或多者中。佈線層中之一或多個被動組件可包括於與組件層2251之射頻電路系統相關聯的匹配網路中。 本文中所論述的封裝系統中之天線中之任一者之天線層2214可包括任何合適之印刷天線。印刷天線可自基板上之一或多個傳導跡線形成。可藉由在基板上蝕刻金屬圖案來形成該一或多個傳導跡線。印刷天線可為微帶天線。可相對價廉且緊湊地製造印刷天線，此歸因於(例如)其3維實體幾何形狀。印刷天線可具有相對高機械耐久性。 圖88A及圖88B說明根據某些實施例的射頻電路總成之實例印刷天線。此等圖說明射頻電路總成(諸如，射頻電路總成2250及/或2250')之俯視圖之實例。天線2260可為任何合適之形狀。舉例而言，天線2260可為U形，如圖88A中所展示。圖88A中之天線2260可為摺疊式四分之一波長天線。作為另一實例，天線2260'可為曲折形狀，如圖88B中所展示。在某些實施中，天線可為線圈形。在一些實施中，天線可為迴圈天線。天線層2214及/或2214'之天線可充當用於系統單晶片之天線。天線可傳輸及/或接收任何合適之無線通信信號。舉例而言，此等天線可經組態以傳輸及/或接收藍芽及/或ZigBee信號。天線層之天線可藉由一或多個電線結合、藉由延伸穿過其上安置天線的基板(例如，在屏蔽結構外)之一或多個通孔、藉由磁耦合或其任何合適組合與傳輸及/或接收電路系統通信。天線層之天線可與一RF組件通信，該RF組件由一屏蔽結構藉由一或多個電線結合、藉由延伸穿過其上安置天線的基板(例如，在屏蔽結構外)之一或多個通孔、藉由磁耦合或其任何合適組合對天線屏蔽。 圖89A至圖89D說明根據某些實施例的射頻電路總成之實例組件層。此等圖包括射頻電路總成(諸如，射頻電路總成2250及/或2250')之仰視圖之示意圖。 如圖89A至圖89D中所說明，接地凸塊2229可包圍一RF組件且在RF組件周圍形成屏蔽結構之一部分。可沿著組件層2251之每一邊緣安置接地凸塊2229。接地凸塊2229可焊接或以其他方式連接至載體總成之接地連接，使得接地平面2216、凸塊2229及載體總成之接地一起提供RF組件之三維屏蔽。載體總成可由(例如)乙基乙烯基苯(EVB)或另一層壓物實施。 如所說明，接地凸塊2229包圍信號導引凸塊2271。信號導引凸塊2271可提供組件層2251之電路系統與安置於組件層2251與接地平面2216之間的佈線層中之金屬佈線之間的連接之至少一部分。替代地或另外，信號導引凸塊2271可提供RF組件2218之電路系統與其上安置封裝系統中之天線的系統板之間的電連接之至少一部分。 圖89A至圖89D之實例組件層說明可由接地平面2216對天線層2214之天線屏蔽之各種電子組件。此等圖中之每一者說明可包括於屏蔽結構內之電路系統。其他電路系統及/或組件可替代地或另外包括於此屏蔽結構內。舉例而言，晶體、前端積體電路或系統單晶片中之一或多者可包括於屏蔽結構內。作為一個實例，晶體、前端積體電路及系統單晶片可實施於屏蔽結構內且由屏蔽結構對整合式天線屏蔽。 圖89A說明一組件層2251，其包括連接至信號導引凸塊2271之一RF組件2218。一些實例RF組件說明於圖89B至圖89D中。圖89B說明一組件層2251'，其包括一低雜訊放大器(LNA) 2272及一匹配網路2273。圖89C說明一組件層2251''，其包括一功率放大器2274及一匹配網路2275。圖89D說明一組件層2251'''，其包括一LNA 2272、一功率放大器2274及匹配網路2273及2275。圖89A至圖89D中說明之電路連接至信號導引凸塊2271且由各別組件層中之接地凸塊2229包圍。在一些其他實施中，匹配網路2273及/或匹配網路2275可包括一或多個被動組件(例如，實施在安置於組件層與接地平面之間的佈線層中之一或多個電阻器、一或多個電容器及/或一或多個電感器)。 可根據此章節中論述的具有一整合式天線之經屏蔽射頻組件之任何合適原理及優點實施本文中所論述之前端系統。在某些實施中，此章節中論述之封裝模組可為基於相對低成本之層壓物的前端模組，其將低雜訊放大器與功率雜訊放大器及/或RF開關組合。一些此等封裝模組可為多晶片模組。可根據本文中所論述的原理及優點中之任一者實施此等RF模組之整合式天線。此等RF前端模組可為封裝系統中之天線。整合式天線可實施於基板之第一側上的天線層中，該天線層至少部分由在基板之一層中實施之接地平面對在基板之第二側上的RF前端之電路屏蔽。 此章節中論述的實施例中之任一者可包括於諸如IoT裝置或行動電話(例如，智慧型電話)之無線通信裝置中。此章節中論述的實施例中之任一者可包括無線個人區域網路(WPAN)系統或包括於WPAN系統中。WPAN系統為經組態以用於處理與個人區域網路(PAN)相關聯之RF信號的RF前端系統。WPAN系統可經組態以傳輸及接收與一或多個WPAN通信標準相關聯之信號，諸如，與藍芽、ZigBee、Z-Wave、無線USB、INSTEON、IrDA或人體區域網路中之一或多者相關聯的信號。此章節中論述的實施例中之任一者可包括無線區域網路(WLAN)系統或包括於WLAN系統中。WLAN系統可處理無線區域網路信號，諸如，Wi-Fi信號。 此章節中描述的實施例中之一些已提供關於RF組件、前端模組及/或無線通信裝置之實例。然而，該等實施例之原理及優點可用於可受益於與此章節中描述之整合式天線相關聯的屏蔽中之任一者之任何其他系統或設備。儘管在RF電路之情況下進行描述，但本文中所描述之一或多個特徵亦可用於涉及非RF組件之封裝應用中。類似地，本文中所描述之一或多個特徵亦可在無電磁隔離功能性的情況下用於封裝應用中。所論述之實施例的原理及優點中之任一者可用於可受益於本文中所論述之天線及/或屏蔽結構的任何其他系統或設備中。在此章節中論述之實施例的原理及優點中之任一者可用於可受益於此章節中描述的技術中之任一者的任何其他系統或設備中。 章節 VIII - 具有堆疊組件之封裝模組根據本發明之一些實施例，本發明之此章節係關於一種具有堆疊組件之封裝模組。封裝模組可為系統級封裝(SiP)。SiP可包括積體電路(IC)，積體電路包括系統單晶片(SoC)及使用垂直整合技術整合組件中之至少一些的離散組件。SiP之特徵為在長度(x維度)及寬度(y維度)上之相對小封裝大小。此章節提供許多選項來在基板上堆疊SoC、晶體、表面黏著組件(SMT)及前端積體電路(FEIC)。因為晶體通常比SoC小，所以晶體及晶體佈線之佔據面積可有效地自SiP之x及y維度移除。除了減小封裝大小之外，可實現之其他優點亦包括減小之晶體跡線寄生電容及/或晶體佈線跡線與基板上之其他敏感性路徑之間的減小之耦合。如上所指示，此章節之態樣可與一或多個其他章節之其他態樣組合以進一步改良前端系統及使用其之相關裝置、積體電路、模組及方法之效能。 SiP、多晶片模組(MCM)及此章節中描述之其他封裝裝置或其他組件(包括具有垂直整合式/堆疊組態之裝置或組件)中之任一者可經組態以實施無線RF收發器及/或前端功能性。舉例而言，此等裝置可經組態以支援諸如Wi-Fi或藍芽之一或多個無線區域網路(WLAN)標準(例如，遵從IEEE 802.11族標準中之一或多者)，及/或一或多個蜂窩式技術，諸如，長期演進(LTE)、全球行動通信系統(GSM)、寬頻分碼多重存取(WCDMA)及/或針對GSM演進之增強型資料速率(EDGE)。 在此章節之SiP中，基板可提供互連以形成電路之至少一部分。在一實施例中，印刷電路板(PCB)或某一其他板可使用傳導性軌道、襯墊及/或層壓至基板上之其他特徵來機械支撐及電連接電組件。在一實施例中，SiP包括安裝於基板上且圍封於單一封裝中之許多IC。SiP中之積體電路可由結合至封裝之細電線內部連接。在一實施例中，SoC包括將電子系統之一或多個組件整合至單一基板上之一IC。在一實施例中，多晶片模組(MCM)包括一電子總成，其包括多個積體電路(IC)、半導體晶粒及/或整合至一體化基板上之其他離散組件。 圖90A說明一多晶片模組(MCM) 2300之一實例俯視圖，該多晶片模組包括一系統單晶片(SoC) 2302、一前端積體電路(FEIC) 2304、一晶體2308、晶體負載電容器2306及基板2312上之其他表面黏著裝置，該等表面黏著裝置包括跡線及其他互連裝置以電連接SMT組件與組件2302、2304、2306、2308。晶體2308及晶體負載電容器2306可形成晶體振盪器之至少一部分。 圖90A進一步說明提供晶體2308與SoC 2302之間的電連通之相對長晶體跡線2310。歸因於MCM 2300之水平佈局，晶體跡線2310可易於發生將寄生電容引入至MCM電路系統且增加晶體導引跡線2310與在基板2312上之其他敏感性路徑之間的耦合。寄生電容可不利地影響起動裕度。起動裕度為晶體開始在通電時振盪之能力，且經定義為R/ESR，其中R為允許振盪的添加至晶體路徑之最大串聯電阻且ESR為晶體之等效串聯電阻。 圖90B為MCM 2300之一實例方塊圖且說明包括SoC 2302之MCM 2300，該SoC 2302包括至少一微控制器(或微處理器)及一無線電。說明之MCM 2300進一步包括FEIC 2304，該FEIC 2304包括功率放大器(PA)、低雜訊放大器(LNA)及諸如雙極雙投開關之一射頻開關中的至少一者。說明之MCM 2300進一步包括晶體2308及晶體跡線2310。 圖90C為MCM 2300之一實例側視圖，且說明基板2312上之SoC 2302、FEIC 2304、負載電容器2306及晶體2308之水平佈局。 多晶片模組(MCM)可包括一電子總成，諸如，具有諸如「接腳」之許多導體端子之封裝，其中多個積體電路(IC)、半導體晶粒及/或其他離散組件通常經整合至一體化基板上，使得在使用中，其被處理得好似其為如同較大IC之單一組件。 系統單晶片(system on a chip或system on chip；SoC)為將電腦或其他電子系統之所有組件整合至單晶片內之積體電路(IC)。其可包括數位、類比、混合信號，及/或單晶片基板上之射頻功能。 前端積體電路(FEIC)或前端模組(FEM)可包括功率放大器(PA)、低雜訊放大器(LNA)及諸如雙極雙投開關之射頻開關中之至少一者。RF前端可包括在天線直至(且包括)混頻器級之間的電路系統，使得RF前端包括接收器中處理原始傳入射頻(RF)處之信號隨後將其轉換成較低中頻(IF)的組件。 RF前端電路系統可使用在與傳入信號偏移時產生射頻信號之一本地振盪器(LO)，射頻信號經與傳入信號混合。LO可包括一晶體振盪器，其包括使用壓電材料之振動晶體之機械諧振創造具有精確頻率之電信號的一電子振盪器電路。 晶體振盪器為電子振盪器電路，其使用一壓電諧振器(諸如，晶體)作為其頻率判定元件。晶體為在電子學中用於頻率判定組件、石英晶體之晶圓或具有連接至其之電極的陶瓷之一普通術語。頻率判定組件可被稱作壓電諧振器。 負載電容器與晶體相關聯且可用以大致匹配自窺視至晶體振盪器電路內之晶體看出的總電容，以便按所要的頻率操作晶體。 晶體可包括單獨的組件用於在晶體振盪器電路中使用。晶體可與負載電容器封裝在一起。在一些情況下，一晶體振盪器包括該晶體、該負載電容器及與晶體振盪器電路一起併入於單一封裝中之一放大器。 系統級封裝(system-in-package或system-in-a-package；SiP)包括圍封於單一模組或封裝中之一或多個積體電路。含有積體電路之晶粒可垂直地堆疊於基板上。其可由結合至封裝之電線結合內部連接。替代地，藉由覆晶技術，凸塊(例如，焊料凸塊)可用以進行堆疊晶片間之電連接。 SiP晶粒可垂直地堆疊或水平地平鋪，稍不同於將晶粒水平地置放於載體上之不太密集之多晶片模組。SiP可連接晶粒與標準晶片外電線結合或凸塊，稍不同於連接堆疊矽晶粒與伸展穿過晶粒之導體的較密集之三維積體電路。 本文中揭示用於將晶片晶粒及/或被動組件(例如，電容器及電阻器)堆疊至基板上之緊湊區域內之新穎3-D封裝技術。本文中揭示堆疊一SoC及一晶體之新穎實施例。另外，本文中揭示各種新穎堆疊總成及新穎堆疊組態。圖91至圖106說明系統級封裝之各種實施例。此等系統級封裝中之任一者可在無線通信裝置中使用。 圖91說明用於在無線裝置中使用的系統級封裝(SiP) 2400之一實施例。SiP 2400包括一SoC 2402、一FEIC 2404、一封裝基板2412、一晶體2408、一或多個負載電容器2406、一佈線基板或插入物2414、一或多個接地結合電線2420及將晶體2408電連接至SoC 2402之一或多個電線結合2418。在一實施例中，該一或多個電線結合2418將晶體2408電連接至SoC 2402上之晶體振盪器電路。 圖91將一或多個負載電容器2406展示為在SoC 2402外部。在一些其他實施例中，SoC 2402包括一或多個負載電容器2406。 說明之SoC 2402經環氧連接至基板2412且電線結合至基板2412。佈線基板2414堆疊於SoC 2402之上。晶體2408及其負載電容器2406可接著焊接於佈線基板2414之上。 佈線基板2414容下晶體2408及電容器2406，且將信號導引至晶體2408。在一實施例中，佈線基板2414包括一單層或一多層層壓物。 在一實施例中，一或多個接地結合電線2420與基板2412上之一接地節點(諸如，接地平面、接地通孔或類似者)通信，且佈線基板2414又將接地信號導引至晶體2408。在一實施例中，一或多個電線結合2418與SoC 2402及佈線基板2414上的諸如晶體振盪器或類似者之裝置通信，佈線基板又將信號導引至晶體2408。 堆疊晶體2408與電容器2406准許基板2412比基板2312小(具有較小佔據面積)，且提供相同或類似功能性。堆疊晶體2408與電容器2406之優點不僅是節省空間，而且可顯著減小晶體2408與SoC 2402之間的至少一個跡線之長度。可能需要具有晶體與SoC之間儘可能短的跡線以減小跡線之寄生電容。藉由在SoC 2402上堆疊晶體2408，跡線幾乎被消除，且產生寄生電容之機會大大地減小。在一實施例中，至/自晶體2408之信號經自SoC 2402藉由一或多個電線結合2418直接導引至佈線基板2414。減少與晶體2508通信之跡線的另一益處為晶體路徑與基板2412上之其他敏感性路徑(諸如，與FEIC 2404通信之RF跡線)之間的減小之耦合機會。 圖92說明用於在無線裝置中使用的系統級封裝2500之一實施例。SiP 2500包括一SoC 2502、一FEIC 2504、一封裝基板2512、一晶體2508、一或多個負載電容器2506、一佈線基板2514、一或多個接地結合電線2520及將晶體2508電連接至SoC 2502之一或多個電線結合2518。在一實施例中，該一或多個電線結合2518將晶體2508電連接至SoC 2502上之晶體振盪器。 SiP 2500類似於SiP 2400，惟SoC 2502包括一覆晶封裝除外。將SoC 2502焊接至基板2512。類似於SiP 2400之堆疊配置，將佈線基板2514堆疊於SoC 2502及晶體2508之上，且接著將其負載電容器2506焊接於佈線基板2514之上。在一實施例中，SoC 2502緊鄰基板2512及佈線基板2514；且晶體2508緊鄰佈線基板2514。有利地，SiP 2500可提供空間節省、晶體路徑中的減小之跡線長度、減小之寄生電容、減小之信號耦合或其任何組合。 圖93說明用於在無線裝置中使用的系統級封裝2600之一實施例。SiP 2600包括一SoC 2602、一FEIC 2604、一封裝基板2612、一晶體2608、一或多個負載電容器2606、將信號自SoC 2602電連接至基板2612上之跡線的一或多個電線結合2620及藉由基板2612上之導引跡線將與晶體2608相關聯之信號電連接至與SoC 2602相關聯之信號的一或多個電線結合2618。在SiP 2600中，晶體2608在基板2612上，且將SoC 2602直接堆疊於晶體2608上，在SoC 2602與晶體2608之間無佈線基板。在一實施例中，晶體2608緊鄰SoC 2602及基板2612。在一實施例中，SoC 2602之佔據面積大於晶體2608之佔據面積，此創造由晶體2608之側、SoC 2602之延伸超出晶體2608的部分及基板2612之在SoC 2602之佔據面積內且不由晶體2608覆蓋的部分界限之懸垂容積。 在一實施例中，將負載電容器2606及/或FEIC 2604置放於SoC佔據面積之外。在另一實施例中，將負載電容器2606及/或FEIC 2604置放於SoC佔據面積內之SoC 2602與晶體2608之間。在另一實施例中，將負載電容器2606及/或FEIC 2604置放於懸垂容積內。 在利用懸垂容積時，存在若干考慮因素。考慮因素包括(但不限於)SoC之厚度、結合電線類型、用以將結合電線結合至SoC而不使SoC開裂之壓力量、可支撐之懸垂量及類似者。 圖94A說明用於在無線裝置中使用的系統級封裝2700之另一實施例。SiP 500包括一SoC 2702、一FEIC 2704、一封裝基板2712、一晶體2708a及一或多個負載電容器2706a。晶體2708a包括一覆晶或控制崩潰晶片連接(C4)封裝且堆疊於在基板2712上之SoC 2702上。在一實施例中，將FEIC 2704及負載電容器2706a置放於基板2712上SoC 2702旁邊。 在一實施例中，經由覆晶封裝之焊料凸塊將晶體2708焊接至SoC 2702以匹配SoC 2702上之襯墊。在一實施例中，在晶體2708與SoC 2702之間不存在電線結合。在一實施例中，當將晶體2708焊接至SoC 2702時，晶體2708與SoC 2702電連通，使得晶體2708與SoC 2702上之晶體振盪器之間的跡線之長度短。 圖94B說明用於在系統級封裝中使用的表面黏著晶體2708b之另一實施例。在此實施例中，將晶體2708b背部翻轉朝上，使得晶體結合襯墊向上。晶體2708b之封裝之頂部結合或環氧連接至下方之層。在一實施例中，在晶體2708b下方之層包括一SoC。在另一實施例中，在晶體2708b下方之層包括基板。自晶體2708b之結合襯墊的結合電線向下結合以連接接地、晶體振盪器連接、負載蓋、類似者或其任何組合。 圖94C說明用於在系統級封裝中使用的一表面黏著晶體2708c及至少一個表面黏著負載電容器2706c之另一實施例。在此實施例中，將晶體2708c背部翻轉朝上，使得晶體結合襯墊向上。晶體2708c之封裝之頂部結合或環氧連接至下方之層。在一實施例中，在晶體2708c下方之層包括一SoC。在另一實施例中，在晶體2708c下方之層包括基板。表面黏著負載電容器2706c直接結合至經翻轉晶體2708c之晶體結合襯墊上。自表面黏著負載電容器2706c之結合襯墊的結合電線向下結合以連接接地、晶體振盪器連接、類似者或其任何合適組合。 圖94D說明用於在系統級封裝中使用的一表面黏著晶體2708d及至少一個表面黏著負載電容器2706d之另一實施例。在此實施例中，將晶體2708d背部翻轉朝上，使得晶體結合襯墊向上。晶體2708d之封裝之頂部結合或環氧連接至下方之層。在一實施例中，在晶體2708d下方之層包括一SoC。在另一實施例中，在晶體2708d下方之層包括基板。在此實施例中，表面黏著負載電容器2706d過小而不能橋接晶體2708d上之結合襯墊之間的間隙。自表面黏著負載電容器2706d之結合襯墊至晶體2708d之結合襯墊的接合線可橋接晶體2708d上之結合襯墊之間的間隙。自表面黏著負載電容器2706d之結合襯墊的接合線及自晶體2708d之結合襯墊的接合線向下結合以連接接地、晶體振盪器連接、類似者或其任何合適組合。 在其他實施例中，晶體2708b、晶體2708c及表面黏著負載電容器2706c或晶體2708d及負載電容器2706d經翻轉，使得晶體2708b、晶體2708c及表面黏著負載電容器2706c或晶體2708d及負載電容器2706d之結合襯墊向下且直接設定於SoC或基板上。 圖95說明用於在無線裝置中使用的系統級封裝2800之另一實施例。SiP 2800包括一SoC 2802、一FEIC 2804、一封裝基板2812、一晶體2808及一或多個負載電容器2806。晶體2808在基板2812上，SoC 2802在晶體2808上，且FEIC 2804在SoC 2802上。SiP 2800進一步包括在FEIC 2804與SoC 2802之間的一接地平面2822。如所說明，SoC 2802之佔據面積比晶體2808之佔據面積大，此創造由晶體2808之側、SoC 2802之延伸超出晶體2808的部分及基板2812之在SoC 2802之佔據面積內且不由晶體2808覆蓋的部分界限之懸垂容積。如圖95中所展示，負載電容器2806可定位於SoC 2802之佔據面積中的基板2812與SoC 2802之間。此可節省空間。在一實施例中，將負載電容器2806置放於懸垂容積中。 圖96說明用於在無線裝置中使用的系統級封裝2900之另一實施例。SiP 2900包括一SoC 2902、一FEIC 2904、一封裝基板2912、一晶體2908、一或多個負載電容器2906及一或多個支撐件2924。晶體2908在基板2912上且SoC 2902在晶體2908上。在一實施例中，SoC 2902緊鄰晶體2908；且晶體2908緊鄰基板2912。在一實施例中，SoC 2902之佔據面積比晶體2908之佔據面積大，此創造由晶體2908之側、SoC 2902之延伸超出晶體2908的部分及基板2912之在SoC 2902之佔據面積內且不由晶體2908覆蓋的部分界限之懸垂容積。 支撐件2924置放於SoC 2902與基板2912之間，在晶體2908附近，以提供對SoC 2902之支撐。在一實施例中，將支撐件2924置放於懸垂容積中。在一實施例中，支撐件2924包括傳導性材料(諸如，銅或類似者)，且除了提供機械支撐之外，亦電連接SoC 2902上之接地墊與基板2912之接地跡線或接地平面。在另一實施例中，支撐件2924將不同於接地之信號電連接至基板2912上之襯墊或跡線。 在一實施例中，將負載電容器2906置放於SoC 2902之佔據面積中且在晶體2908附近。在一實施例中，將負載電容器2906置放於懸垂容積中。在一實施例中，負載電容器2906之高度小於SoC 2902與基板2912之間的空間。為了增加電容器2906之高度，可將一墊片或間隔物2926置放於負載電容器2906之上以填充負載電容器2906與SoC 2902之間的空間。間隔物2926加負載電容器2906提供對SoC 2902之支撐。另外，間隔物2926可用以補償堆疊不均勻組件可能發生之任何傾斜，因為此傾斜可造成在組裝本文中論述之SiP (諸如，SiP 2400、2500、2600、2700、2800及/或2900)中之任一者時的製造問題。在一實施例中，可將間隔物2926置放於在SoC 2902與基板2912之間的空間中捲起之任一其他組件上或下。替代地或另外，間隔物可定位於一組件(例如，負載電容器2906)與基板2912之間。 圖97說明用於在無線裝置中使用的系統級封裝3000之另一實施例。SiP 3000包括一SoC 3002、一FEIC 3004、一封裝基板3012、一晶體3008、一或多個負載電容器3006及一或多個支撐件3024。晶體3008在基板3012上且SoC 3002在晶體3024上。在一實施例中，SoC 3002之佔據面積比晶體3008之佔據面積大，此創造由晶體3008之側、SoC 3002之延伸超出晶體3008的部分及基板3012之在SoC 3002之佔據面積內且不由晶體3008覆蓋的部分界限之懸垂容積。 支撐件3024置放於SoC 3002與基板3012之間，在晶體3008附近，以提供對SoC 3002之支撐。在一實施例中，將支撐件3024置放於懸垂容積中。在一實施例中，將負載電容器3006置放於SoC 3002之佔據面積中且在晶體3008附近。在一實施例中，將負載電容器3006置放於懸垂容積中。另外，FEIC 3004在基板3012之與晶體3008相對的側上，在基板3012下。 在某些實施例中，本文中所論述的封裝基板中之任一者(諸如，封裝基板2412、2512、2612、2712、2812、2912或3012中之一或多者)包括一基板、一層壓物、一多層層壓物、一插入物及類似者，且經組態以針對對應的SiP (諸如，SiP 2400、2500、2600、2700、2800、2900或3000中之一或多者)之至少一個組件提供用於信號導引之實體連接及跡線。 本文中所論述的SoC中之任一者(諸如，SoC 2402、2502、2602、2702、2802、2902或3002中之一或多者)可包括用於攜帶型無線裝置之基頻子系統及無線電。在一實施例中，無線電包括接收器及傳輸器。在一實施例中，基頻子系統包括經組態以接收時鐘信號之微處理器。在某些實施例中，本文中論述的SoC中之任一者(諸如，SoC 2402、2502、2602、2702、2802、2902或3002中之一或多者)包括將電子系統之組件整合至單晶片內之一積體電路。在一實施例中，SoC 2402、2502、2602、2702、2802、2902或3002中之一或多者包括數位、類比、混合信號及RF功能中之一或多者。德克薩斯州Austin市之Silicon Labs的EM358x為在IC上整合一處理器、一收發器、記憶體及串行通信的SoC之一實例。 在一實施例中，FEIC 2404、2504、2604、2704、2804、2904或3004中之一或多者包括一前端系統(諸如，馬薩諸塞州Woburn市之Skyworks Solutions的SKY65249-11)，其在層壓封裝中包括一功率放大器、一輸入濾波器、一功率偵測器、諧波濾波器及一開關。在某些實施例中，FEIC 2404、2504、2604、2704、2804、2904或3004中之一或多者包括其他前端模組。 圖98A1說明一實例晶體總成3108，其包括一殼體、外殼或殼3132及沿著外殼3132之一或多個側的一或多個柱3134。在一實施例中，柱或通孔3134包括傳導性材料，諸如，焊料、金屬、銅、金、鍍鎳金之金屬、類似者或其任何合適合金，且外殼3132包括非傳導性材料。在一實施例中，外殼3132進一步包括蓋3130。在一實施例中，蓋3130包括非傳導性材料，諸如，陶瓷、玻璃及環氧樹脂、編織玻璃及聚酯、氧化鋁、聚醯亞胺、類似者或其任何合適組合。 柱或通孔3134自外殼3132之頂表面至外殼3132之底表面形成，且提供電及/或熱傳導。在一實施例中，柱3134至少部分形成於外殼3132之側內。在另一實施例中，沿著外殼3132之一或多個側，外殼3132形成有一或多個管子，使得用焊料填充管子形成柱3134。在另一實施例中，柱3134在外殼3132外、部分與外殼3132一起或在外殼3132內形成為圓柱形、矩形或類似管子或柱子。 在一實施例中，柱3134之頂部及底部在外殼3132之周邊周圍形成襯墊3136。在另一實施例中，柱3134與沿著柱3134之頂表面及底表面形成之襯墊3136電連通。在一實施例中，襯墊3136經經組態為表面黏著襯墊。在另一實施例中，襯墊3136可電線結合。在另一實施例中，襯墊3136經組態以焊接至球狀柵格陣列封裝積體電路之焊料球。 在一實施例中，蓋3130包括陶瓷基板材料及/或其他非傳導性材料，且可經組態為佈線基板、插入物或電路板。如圖98A1中所說明，蓋3130進一步包括佈線3133及襯墊3135，其中佈線3133經組態以在襯墊3135之間攜載信號。在一實施例中，根據佈線基板、插入物或電路板製造技術，使佈線及襯墊形成於蓋3130上。在一實施例中，第一電線結合3131結合至第一柱3134，且第二電線結合3131結合至第二柱3134。電線結合3131經由蓋3130上之襯墊3135及跡線3133將信號自電線結合連接之柱3134中之一者傳達至電線結合連接之柱3134中之另一者。 圖98A2說明晶體總成3108，其進一步包括纏繞於晶體總成3108之四側周圍之一傳導層3137。傳導層3137與柱3134中之每一者電連通。在一實施例中，纏繞之傳導層3137包括銅、鍍銅，其中鍍敷材料可為焊料、錫、鍍金鎳及類似者或任何其他傳導性材料。在另一實施例中，纏繞之傳導層可經鍍敷至晶體總成3108之一個、兩個、三個或四個側上，其中鍍敷材料可為焊料、錫、鍍金鎳及類似者。 在其他實施例中，纏繞之傳導層3137環繞晶體總成3108之側中之一個、兩個、三個或四個，且分別與該等側中之一個、兩個、三個或四個之柱3134電連通。在一實施例中，與纏繞之傳導層3137電連通的柱3134連接至接地。接地柱3134與纏繞之傳導層3137的組合形成「超接地」。超接地可減小至接地上之電感耦合，且提供較好信號隔離。 在另一實施例中，與纏繞之傳導層3137電連通的柱3134形成射頻(RF)屏蔽以屏蔽在殼體3132之空腔內之裝置免受RF干擾。 在另一實施例中，與纏繞之傳導層3137電連通的柱3134形成一散熱片以耗散熱量。舉例而言，柱3134及纏繞之傳導層3137可耗散由置放於晶體總成3108上方或下方且與由柱3134及纏繞之傳導層3137形成之散熱片熱接觸的功率放大器產生之熱量。 圖98B1說明包括蓋3130、外殼3132及一或多個柱3134的實例晶體總成3108之橫截面圖。晶體總成3108進一步包括容納於外殼3132內之一晶體3138。如所說明，晶體總成3108進一步包括容納於晶體總成3108之外殼3132內的一或多個負載電容器3140、振盪器電路系統3142及一FEIC 3144。一或多個積體電路晶粒可容納於外殼3132內。 圖98B2說明包括蓋3130、外殼3132及一或多個柱3134的實例晶體總成3108之橫截面圖。晶體總成3108進一步包括容納於外殼3132內之晶體3138。如圖98B2中所說明，晶體總成3108進一步包括容納於晶體總成3108之外殼3132內的一或多個負載電容器3140、振盪器電路系統3142及表面聲波(SAW)裝置3145。SAW裝置3145之實例包括濾波器、延遲線、相關器及DC至DC轉換器。一或多個積體電路晶粒容納於外殼3132內。 圖98B2之實施例說明SAW裝置3145 (諸如，SAW濾波器)，及形成於晶體總成3108內之同一實體空腔中的晶體3138。在一實施例中，晶體總成3108經密封。在另一實施例中，空腔經充氣，且晶體總成經密封。將SAW裝置及晶體置放於同一實體空腔中可有利地節省模組上之空間。 圖98C說明實例晶體總成3108之仰視圖。在一實施例中，晶體總成3108進一步包括與容納於外殼3132內之組件3138、3140、3142、3144中之一或多者連通的一或多個襯墊3152。 圖98D說明一實例系統級封裝3100，其包括在晶體總成3108上方之一覆晶SoC 3102。如所說明，晶體總成3108之蓋3130安置於晶體3138與覆晶SoC 3102之間。在一實施例中，覆晶SoC 3102之球狀柵格陣列3106與柱3134及/或襯墊3136中之一或多者連通。系統級封裝3100進一步包括與覆晶SoC 3102電連通之一基板3104。 圖98E說明一實例系統級封裝3110，其包括在晶體總成3108之下的覆晶SoC 3102。如圖98E中所說明，晶體總成3108之封裝安置於晶體3138與覆晶SoC 3102之間。在一實施例中，覆晶SoC 3102之球狀柵格陣列3106與柱3134及/或襯墊3136中之一或多者連通。系統級封裝3110進一步包括與覆晶SoC 3102電連通之基板3104。 圖98F說明一實例電路總成3120，其包括安裝至晶體總成3108之蓋3130的一積體電路3146。電線結合3148將積體電路3146之襯墊3150電連接至柱3134或襯墊3136。在一實施例中，積體電路3146包括一前端積體電路(FEIC)。在另一實施例中，積體電路3146包括射頻傳輸器電路系統及射頻接收器電路系統中之一或多者之至少一部分。 本文中論述之任何合適晶體或晶體總成可無負載電容器地封裝。本文中論述之任何合適晶體或晶體總成可與一或多個負載電容器封裝在一起。本文中論述之任何合適晶體或晶體總成可形成晶體振盪器之至少部分。 本文中論述的晶體中之任一者可包括日本山形縣之Kyocera的CX2016DB16000D0HZLC1。本文中論述之晶體可具有用於一特定應用之合適尺寸。舉例而言，在一些情況下，本文中論述的晶體中之任一者可為大致1.60 mm±0.10 mm乘大致2.00 mm±0.10 mm。 表1說明實例等級，且表2說明晶體2408、2508、2608、2708、2808、2908、3008、3138之實施例的實例電特性。
項目 SYMB. 等級 單位
操作溫度範圍 Topr -25至+75 ℃
儲存溫度範圍 Tstg -40至+85 ℃
表1
項目 電規範 測試條件
SYMB. 最小 類型 最大 單位
振動模式    基本      
標稱頻率 F0    16    MHz   
標稱溫度 T NOM    +25    ℃   
負載電容 CL 8.0 pF   
頻率容差 df/F -20.0    +20.0 PPM +25±3℃
頻率溫度特性 df/F -20.0    +20.0 -25至+75℃
頻率老化率    -1.0    +1.0 第1年+25±3℃
等效串聯電阻 ESR       150 Ω   
驅動位準 Pd 0.01    100 μW   
絕緣電阻 IR 500       MΩ 100 V (DC)
表2 如表2中所指示，晶體2408、2508、2608、2708、2808、2908、3008、3138之等效串聯電阻(ESR)為大致150歐姆。在另一實施例中，ESR為大致100歐姆。在再一實施例中，ESR在大致100歐姆與大致200歐姆之間。在另一實施例中，ESR在大致75歐姆與大致200歐姆之間、在大致75歐姆與大致150歐姆之間、在大致75歐姆與大致100歐姆之間、小於大致200歐姆、小於大致150歐姆、小於大致100歐姆或小於大致75歐姆。 在其他實施例中，晶體2408、2508、2608、2708、2808、2908、3008、3138中之任一者可具有不同規格。 圖99至圖105說明用於被動組件、表面黏著裝置(SMD)、積體電路、堆疊總成、層壓物和其組合之實例新穎堆疊選項。 圖99說明一實例堆疊總成3200，其包括一底層3202、定位於底層3202上之一頂層3204及在頂層3204與底層3202之間以提供對頂層3204之支撐的一或多個支撐件3206。在一實施例中，支撐件3206之一端緊鄰底層3202且支撐件3206之相對端緊鄰頂層3204。 支撐件3206可經定位使得懸垂物3208形成於堆疊總成3200之至少兩側上，在支撐件3206之外側3206a、底層3202與頂層3204之間。另外，支撐件3206可經定位使得空腔3210形成於支撐件3206之內側3206b、底層3202與頂層3204之間。 底層3202可為(例如)層壓物、IC、晶粒、表面黏著裝置、晶體、SoC或類似者。在一實施例中，IC、晶粒、覆晶晶粒、電線結合晶粒、表面黏著裝置、晶體、SoC及總成(例如)可置放於懸垂物3208內且緊鄰底層3202。在另一實施例中，IC、晶粒、覆晶晶粒、電線結合晶粒、表面黏著裝置、晶體、SoC及總成(例如)可置放於空腔3210內且緊鄰底層3202。在再一實施例中，空腔3210或懸垂物3208內之總成可為本文中描述之任何合適總成。 頂層3204可為(例如)層壓物、IC、晶粒、表面黏著裝置、晶體、SoC或類似者。在再一實施例中，層壓物包括雙側層壓物，且雙側層壓物之任一側或兩側可包含IC、晶粒、表面黏著裝置、晶體、SoC或類似者。在一實施例中，頂層3204包括一球狀柵格陣列，其具有與該球狀柵格陣列之各別一或多個焊料球連通之一或多個表面黏著裝置。 在一實施例中，支撐件3206包括IC、晶粒、晶體、表面黏著裝置、矩形或圓柱形柱或支柱及類似者以支撐頂層3204。在一實施例中，支撐件3206充當一機械支撐件。在另一實施例中，支撐件3206充當一機械支撐件，以及提供電功能。舉例而言，諸如電阻器、電容器或電感器之表面黏著裝置可在底層3202與頂層3204之間形成連接且為電路之部分。在另一實施例中，支撐件3206包括傳導性材料，且形成底層3202與頂層3204之間的接地連接。 圖100A1至圖100D說明自結合源3370至表面黏著裝置3312、3332、3342、3352之實例結合組態。在一實施例中，結合源3370包括晶粒、IC、表面黏著裝置、層壓物或電線結合之第一端部可結合至的任一其他物品。在一實施例中，結合源3370緊鄰層壓物3304。在一實施例中，層壓物3304經組態以進一步導引沿著圖100A至圖100D之表面黏著連接中之一或多者行進的信號。 圖100A說明結合於結合源3370與水平定向之表面黏著裝置3312之第一端部之間的第一電線結合3310，及結合於結合源3370與表面黏著裝置3312之第二端部之間的第二電線結合3320，以在結合源3370與表面黏著裝置3312之間形成串聯連接。 圖100B說明結合於結合源3370與水平定向之表面黏著裝置3332之第一端部之間的電線結合3330，其中表面黏著裝置3332之第二端部與形成於層壓物3304上之一或多個跡線及/或襯墊電連通。 圖100C說明結合於結合源3370與垂直定向之表面黏著裝置3342之第一端部之間的電線結合3340，其中表面黏著裝置3342之第二端部與形成於層壓物3304上之一或多個跡線及/或襯墊電連通。 圖100D說明結合於結合源3370與垂直定向之表面黏著裝置3352之第一端部之間的電線結合3350，及結合於表面黏著裝置3352之第一端部與可結合裝置3362之間的另一電線結合3360，以在表面黏著裝置3352與可結合裝置3362之間形成分流或並聯連接。表面黏著裝置3352在垂直位置中黏著於層壓物3304上，如所說明。在另一實施例中，表面黏著裝置3352在水平位置中黏著於層壓物3304上。可結合裝置3362可為表面黏著裝置、晶粒、IC、層壓物3304之部分或具有可結合表面之任一裝置。 圖101A1至圖101D2說明表面黏著零件、組件、裝置類似者或其任何合適組合之實例空間節省堆疊組態及對應的實例電路圖。與將每一表面黏著組件直接黏著至基板上相比，堆疊表面黏著組件以形成電路或電路之部分節省基板(諸如，層壓基板)上之實體佈局空間。另外，跡線可互連基板上之表面黏著組件以形成電路之部分。兩個堆疊表面黏著零件之間的直接連接可自基板消除至少一個跡線以節省額外空間。在一實施例中，堆疊表面黏著組件包括於經組態以濾波射頻信號之一或多個濾波器電路中。表面黏著裝置包括一或多個電感器、一或多個電容器、一或多個電阻器或其任何合適組合。在各種應用中，表面黏著組件可包括主動及/或被動表面黏著裝置。 圖101A1說明一表面黏著堆疊總成3410，其包括堆疊於第二水平定位表面黏著裝置3414上且緊鄰其之第一水平定位表面黏著裝置3412，其中第二表面黏著裝置3414在底層3416上且緊鄰其。在一實施例中，第一表面黏著裝置3412之觸點與第二表面黏著裝置3414之各別觸點電連通。 圖101A2說明一實例濾波器電路3415。在一實施例中，堆疊組態3410包括濾波器電路3415。如所說明，濾波器電路3415為一並聯LC電路。在其他實施例中，可使用表面黏著堆疊總成3410形成其他濾波器電路及/或其他電路。 圖101B1說明一表面黏著堆疊總成3420，其包括堆疊於第二垂直定向之表面黏著裝置3424上且緊鄰其之第一垂直定向之表面黏著裝置3422。表面黏著裝置3422之第一端部與第二表面黏著裝置3424之第一端部電連通，且第二表面黏著裝置3424之第二端部在底層3426上且緊鄰其。在一實施例中，第二表面黏著裝置3424之第二端部與底層3426上之一或多個襯墊及/或跡線電連通。 圖101B2說明一實例濾波器電路3425。在一實施例中，堆疊組態3420包括濾波器電路3425。如所說明，濾波器電路3425包括相互串聯之兩個電阻器。在其他實施例中，可使用表面黏著堆疊總成3420形成其他濾波器電路及/或其他電路。 圖101C1說明一表面黏著堆疊總成3430，其包括水平定向之第一表面黏著裝置3432、水平定向之第二表面黏著裝置3434及水平定向之第三表面黏著裝置3438。在一實施例中，第一表面黏著裝置3432及第二表面黏著裝置3434在底層3436上且緊鄰其，且間隔開使得第三表面黏著裝置3438之第一端部堆疊於第一表面黏著裝置3432之第一端部上，且第三表面黏著裝置3438之第二端部堆疊於第二表面黏著裝置3434之第一端部上。在一實施例中，表面黏著裝置3432、3434、3438串聯地電連接。在一實施例中，堆疊組態3430具有比藉由在底層3436上黏著三個表面黏著裝置以形成串聯連接而形成之佔據面積小的佔據面積。 圖101C2說明一表面黏著堆疊總成3440，其包括第一垂直定向之表面黏著裝置3442、第二垂直定向之表面黏著裝置3444及第三水平定向之表面黏著裝置3448。第一表面黏著裝置3442在底層3446上且緊鄰其，使得第一表面黏著裝置3442之第一端部與底層3446上之襯墊或跡線電連通。第二表面黏著裝置3444在底層3446上且緊鄰其。第二表面黏著裝置3444之第一端部可與底層3446上之一或多個襯墊及/或跡線電連通。 另外，圖101C2之分別第一表面黏著裝置3442與第二表面黏著裝置3444間隔開，使得第三表面黏著裝置3448之第一端部在第一表面黏著裝置3442之第二端部上且與其電連通，且第三表面黏著裝置3448之第二端部在第二表面黏著裝置3444之第二端部上且與其電連通。 在一實施例中，表面黏著堆疊總成3430及/或3440包括一pi (π)濾波器拓樸。一實例π濾波器電路3445說明於圖101C3中。如所說明，π濾波器電路3445包括兩個電容器及一電感器。在一實施例中，堆疊組態3440具有比藉由在底層3436及/或3446上黏著三個類似表面黏著裝置形成之佔據面積小的佔據面積以形成π濾波器電路。 在另一實施例中，堆疊組態3440可經翻轉使得表面黏著裝置3448在底層3446上，且表面黏著裝置3442及3444在表面黏著裝置3448上。 圖101D1說明一表面黏著堆疊總成3450，其包括一第一表面黏著裝置3452、一第二表面黏著裝置3454、一第三表面黏著裝置3458及一第四表面黏著裝置3460。在如圖101D1中所說明之第一實施例中，第一表面黏著裝置3452、第二表面黏著裝置3454及第三表面黏著裝置3458在底層3456上且緊鄰其形成表面黏著堆疊總成3440，且第四表面黏著裝置3460堆疊於第三表面黏著裝置3458上且緊鄰其。在一實施例中，第四表面黏著裝置3460之襯墊與第三表面黏著裝置3458之對應襯墊電連通。 在第二實施例(未說明)中，第一表面黏著裝置3452、第二表面黏著裝置3454及第三表面黏著裝置3458在底層3456上且緊鄰其形成表面黏著堆疊總成3440，且第四表面黏著裝置3460堆疊於第三表面黏著裝置3458旁邊且緊鄰其，且亦在第一表面黏著裝置3452及第二表面黏著裝置3454上且緊鄰其。在一實施例中，第四表面黏著裝置3460之襯墊與第三表面黏著裝置3458之對應的襯墊及第一表面黏著裝置3452及第二表面黏著裝置3454之對應的襯墊電連通。 在第三實施例(未說明)中，第一表面黏著裝置3452、第二表面黏著裝置3454及第三表面黏著裝置3458在底層3456上且緊鄰其形成堆疊組態3430，且第四表面黏著裝置3460堆疊於第三表面黏著裝置3458上且緊鄰其。在一實施例中，第四表面黏著裝置3460之襯墊與第三表面黏著裝置3458之對應的襯墊電連通。 在第四實施例(未說明)中，第一表面黏著裝置3452、第二表面黏著裝置3454及第三表面黏著裝置3458在底層3456上且緊鄰其形成表面黏著堆疊總成3430，且第四表面黏著裝置3460堆疊於第三表面黏著裝置3458旁邊且緊鄰其，且亦在第一表面黏著裝置3452及第二表面黏著裝置3454上且緊鄰其。在一實施例中，第四表面黏著裝置3460之襯墊與第三表面黏著裝置3458之對應的襯墊及第一表面黏著裝置3452及第二表面黏著裝置3454之對應的襯墊電連通。 在第五實施例(未說明)中，表面黏著堆疊總成3450可經翻轉使得表面黏著裝置3460在底層3456上，表面黏著裝置3458在表面黏著裝置3460上，且表面黏著裝置3452及3454各在表面黏著裝置3458之不同端部上。 在一實施例中，表面黏著堆疊總成3450包括一帶阻或陷波濾波器拓樸，其可經組態以在特定頻率下形成一陷波或拒波。一實例帶阻濾波器電路3455說明於圖101D2中。在一實施例中，一表面黏著堆疊總成包括在第二表面黏著堆疊總成3450旁之第一表面黏著堆疊總成3450，使得第一及第二表面黏著堆疊總成3450兩者共用表面黏著裝置3454且在兩個指定頻率下實施具有一陷波之帶阻濾波器電路。 在一實施例中，堆疊組態3450具有比藉由在底層3456上黏著四個表面黏著裝置形成之佔據面積小的佔據面積以形成帶阻或陷波濾波器拓樸。由於表面黏著裝置3412、3414、3422、3424、3432、3434、3438、3442、3444、3448、3452、3454、3458、3460中之任一者之任一節點或襯墊可經組態用於結合，因此堆疊結構3410、3420、3430、3440、3450之額外表面黏著裝置及/或各種組合(例如)可經組合以創造具有較複雜拓樸之結構。 表面黏著裝置3412、3414、3422、3424、3432、3434、3438、3442、3444、3448、3452、3454、3458、3460可為(例如)被動組件(諸如，電容器、電阻器或電感器)、離散半導體(諸如，電晶體或二極體)、積體電路、類似者或其任何合適組合，且可具有各種樣式之相對短接腳或導線、扁平觸點、焊料球(BGA)矩陣或在組件之主體上的封端。 圖101E說明多晶片模組之一實例電路板佈局3470。在一實施例中，佈局3470形成用於在攜帶型收發器中使用的電路、SiP、SoC或MCM之至少一部分。在一實施例中，組件L3、C2、C3形成第一天線濾波器，組件L4、C6、C7形成第二天線濾波器，且組件L5、C8、C9形成第三天線濾波器。如在佈局3470中所說明，第一天線濾波器之佔據面積包括組件L3、C2、C3及該等組件之間的跡線中之每一者之佔據面積。同樣地，第二天線濾波器之佔據面積包括組件L4、C6、C7及對應的跡線中之每一者之佔據面積，且第三天線濾波器之佔據面積包括組件L5、C8、C9及對應的跡線中之每一者之佔據面積。另外，佈局3470包括提供裝置U1與若干組件(諸如，至少C15、C26、C29、C32、C33)之間的電連接之跡線。此等跡線亦佔據電路板佈局3470上之空間。 圖101F說明具有減小電路系統之外觀尺寸的實例結合組態及實例堆疊組態之一實例電路板佈局3480。在圖101F中，組件L2、C2、C3經堆疊以形成第一表面黏著堆疊總成3490，組件L4、C6、C7已經堆疊以形成第二表面黏著堆疊總成3490，且組件L5、C8、C9已經堆疊以形成第三表面黏著堆疊總成3490。組件C2、C3、C6、C7、C8及C9為電容器。組件L2、L4及L5為電感器。在一實施例中，表面黏著堆疊總成3490經組態為表面黏著堆疊總成3440，且如在電路3445中所說明電連接該等組件。在一些實施例中，表面黏著堆疊總成3490包括高通濾波器、低通濾波器、帶通濾波器、輸出匹配網路之至少一部分、類似者或其任何合適組合。 有利地，表面黏著堆疊總成3490具有比圖101E之電路板佈局3407之個別表面黏著組件L3、L4、L5、C2、C3、C6、C7、C8、C9小的佔據面積(佔據電路板佈局上之較小實體面積)。舉例而言，佈局3480可比圖101E之佈局3470小。隨著電子裝置之大小繼續縮小，此可為重要的。替代地或另外，歸因於空間約束而在佈局3470中使用之較小且較昂貴之組件可在佈局3480中用較大、不太昂貴之組件替換。 在圖101F中，組件C15、C26、C29、C32、C33與裝置U1之間的跡線已經移除且用將組件C15、C26、C29、C32、C33與裝置U1上之一相關聯之可電線結合位置電耦接的電線結合3485替換。在一實施例中，電線結合3485之第一端部直接結合至對應的表面黏著組件，且電線結合3485之第二端部直接結合至裝置U1上之一對應的位置。在另一實施例中，電線結合3485之第一端部直接結合至對應的表面黏著組件，且電線結合3485之第二端部直接結合至電路板佈局3480上之一可結合位置。電線結合3485之實例說明於圖100A至圖100D中。有利地，用電線結合3485替換佈局3480上之跡線允許佈局3480比佈局3470小。替代地或另外，歸因於空間限制在佈局3470中使用之較小且較昂貴之組件可在佈局3480中用較大、不太昂貴之組件替換。 圖102說明一實例堆疊總成3500，其包括黏著於層壓物3506上且緊鄰其之一第一積體電路晶粒3502。堆疊總成3500進一步包括堆疊於第一積體電路晶粒3502上且緊鄰其之一第二積體電路晶粒3504。第一積體電路晶粒3502及第二積體電路晶粒3504藉由電線結合3508與層壓物3506上之襯墊及跡線電連通。 圖103說明一實例堆疊總成3600，其包括藉由一或多個電線結合3608與層壓物3606電連通之一第一積體電路晶粒3602。該堆疊總成3600進一步包括在第一積體電路晶粒3602上且緊鄰其之一第二積體電路晶粒3604。第一積體電路晶粒3602經組態以與第二積體電路晶粒3604電連接。在一實施例中，第二積體電路晶粒3604包括一晶體。在另一實施例中，第二積體電路晶粒3604經組態為表面黏著裝置。在再一實施例中，第二積體電路晶粒3604經組態為覆晶晶粒。此覆晶晶粒可藉由凸塊電連接至堆疊總成3600之其他組件，諸如，第二積體電路晶粒3604。 在一實施例中，堆疊組態3410、3420、3430、3440、3450中之任一者及/或堆疊總成3500、3600中之任一者可定位於圖99之空腔3210或懸垂物3206中。 圖104說明一實例堆疊總成3700，其包括在底層3706上提供對頂層3708之支撐的支撐件3724a、3724b及間隔物3726。支撐件3724a、3724b之一潛在問題為容錯。舉例而言，一個支撐件3724a可比另一支撐件3724b高。舉例而言，可將間隔物3726置放於支撐件3724b與頂層3708或底層3706之間以抵消支撐件之間的任何高度差。在一實施例中，間隔物3726包括可經「壓扁」或壓縮以配合自支撐件3724a與支撐件3724b之間的任何高度差產生之間隙的材料。 圖105說明一實例電路總成3800，其包括複數個堆疊總成3810、3820、3830、複數個電線結合3818及一底層3806。堆疊總成3800說明可在底層3806上且緊鄰其組裝的多個堆疊總成3810、3820、3830之一個實施例。在一實施例中，堆疊總成3820至少部分配合於由堆疊總成3810提供之懸垂物中。說明之電路總成3800進一步包括提供堆疊總成3810與底層3806上之襯墊及/或跡線之間、堆疊總成3810與堆疊總成3820之間及堆疊總成3810與堆疊總成3830之間的電連通之電線結合3818。 本文中描述之電路總成可進一步包括由模製材料形成之包覆成型結構。模製材料在製程中易彎且可模製，且在固化時變硬。在一實施例中，包覆成型結構覆蓋基板之頂部之至少一部分及位於基板之頂部部分上的一或多個組件，其中基板之底表面無包覆成型結構以便進行至電路總成之電連接。在其他實施例中，包覆成型結構覆蓋基板之底表面之至少一部分及位於基板之底部上的一或多個組件。至本文中描述之電路總成的電連接可自基板之頂部進行。 圖106為包括一晶體3908、一SoC 3902及一FEIC 3904的一系統級封裝(SiP) 3900之實例方塊圖。SiP 3900進一步包括提供信號互連之連接性3906、用於電路系統之封裝的封裝3912 (諸如，封裝基板及/或包覆模製件)及其他電路系統3910 (諸如，與晶體3908相關聯之負載電容器、濾波器、調變器、解調器、降頻轉換器、類似者或其任何合適組合)。SiP 3900可包括SiP 2400、2500、2600、2700、2800、2900、3000、3100、3200、3500、3600、3700或3800中之一或多者之任何合適特徵。 圖107為說明包括一SiP 4100之無線裝置4000之實例方塊圖，其中SiP 4100包括一SoC 4102、一FEIC 4104及一晶體4108。在一實施例中，無線裝置4000包括一攜帶型收發器4000。在一實施例中，SoC 4102包括一基頻子系統4010、接收器4070及傳輸器4050。晶體4108針對SoC 4102供應時鐘資訊。在一實施例中，SiP 4100包括SiP 2400、2500、2600、2700、2800、2900、3000、3100、3200、3500、3600、3700、3800或3900中之一或多者之任何合適特徵。 說明之無線裝置4000包括一揚聲器4002、一顯示器4004、一鍵盤4006及一麥克風4008，其皆連接至基頻子系統4010。可為直流(DC)電池或其他電源之電源4042亦連接至基頻子系統4010以將電力提供至無線裝置4000。在一特定實施例中，無線裝置4000可為例如(但不限於)諸如行動蜂巢式電話之攜帶型電信裝置。揚聲器4002及顯示器4004自基頻子系統4010接收信號。類似地，鍵盤4006及麥克風4008將信號供應至基頻子系統4010。在某些實施中，鍵盤4006可由顯示器4004所顯示之觸摸屏來實施。 基頻子系統4010包括藉由匯流排4028通信之一微處理器(μP) 4020、記憶體4022、類比電路系統4024及一數字信號處理器(DSP) 4026。匯流排4028雖然展示為單一匯流排，但可使用按需要在基頻子系統4010內之子系統間連接之多個匯流排實施。基頻子系統4010亦可包括特殊應用積體電路(ASIC) 4032或場可程式化閘陣列(FPGA) 4030中之一或多者。 微處理器4020及記憶體4022針對無線裝置4000提供信號計時、處理及儲存功能。類比電路系統4024提供用於基頻子系統4010內之信號的類比處理功能。在圖107中，基頻子系統4010將控制信號提供至傳輸器4050、接收器4070及功率放大器電路4080。 一無線裝置可包括比圖107中所說明多或少之組件。由基頻子系統4010提供之控制信號控制無線裝置4000內之各種組件。傳輸器4050與接收器4070之功能可整合至一收發器內。 說明之基頻子系統4010亦包括一類比至數位轉換器(ADC) 4034及數位至類比轉換器(DAC) 4036及4038。在此實例中，DAC 4036產生提供至連接至調變器4052之信號線4040的同相(I)及正交相(Q)信號。ADC 4034、DAC 4036及DAC 4038亦藉由匯流排4028與微處理器4020、記憶體4022、類比電路系統4024及DSP 4026通信。DAC 4036將基頻子系統4010內之數位通信資訊轉換成類比信號供藉由連接4040傳輸至調變器4052。連接4040雖然展示為兩個方向箭頭，但待由傳輸器4050傳輸之資訊在自數位域轉換成類比域後，攜載該資訊。 傳輸器4050包括調變器4052，其調變關於連接4040之類比資訊且將經調變信號提供至升頻轉換器4054。升頻轉換器4054將經調變信號變換至適當傳輸頻率且將經升頻轉換之信號提供至功率放大器電路4080。功率放大器電路4080針對無線裝置4000經設計以操作之系統將該信號放大至一適當功率位準。 關於連接4040之資料通常由基頻子系統4010格式化成同相(I)及正交(Q)分量。取決於正使用之通信標準，I及Q分量可呈不同形式且經不同地格式化。 前端模組4104包括功率放大器(PA)電路4080及包括一低雜訊放大器之一開關/低雜訊放大器(LNA)電路4072。在一實施例中，開關/低雜訊放大器電路4072進一步包括一天線系統介面，其可包括(例如)具有允許傳輸信號及接收信號兩者同時穿過之一濾波器對的一雙訊器(或雙工器)。 功率放大器電路4080將放大之傳輸信號供應至開關/低雜訊放大器電路4072。當開關在傳輸模式中時，放大之傳輸信號經自前端模組4004供應至天線4060。 當開關在接收模式中時，由天線4060接收之信號將自前端模組4004之開關/低雜訊放大器電路4072提供至接收器4070。低雜訊放大器放大接收之信號。 若使用直接轉換接收器(DCR)實施，則降頻轉換器4074將經放大之接收之信號自RF位準轉換成基頻位準(例如，對直流(DC)位準)，或近基頻位準(例如，大致100 kHz)。替代地，在某些應用中，經放大之接收之信號可經降頻轉換成中頻(IF)信號。將經降頻轉換之信號提供至濾波器4076。濾波器4076包括至少一個濾波器級以濾波接收到的經降頻轉換之信號。 將經濾波信號自濾波器4076發送至解調器4078。解調器4078恢復傳輸之類比資訊且藉由連接4086將表示此資訊之信號供應至ADC 4034。ADC 4034將類比資訊轉換成在基頻頻率下之一數位信號，且該信號藉由匯流排4028傳播至DSP 4026供進一步處理。 與本文中描述之堆疊組件相比，許多其他堆疊組件變化將自本發明顯而易見。SiP 2400、2500、2600、2700、2800、2900、3000、3100、3200、3500、3600、3700或3800中說明的組件之不同組合有可能形成可在無線裝置中用以提供較小佔據面積、減小之寄生電容、減少之信號交叉偶合、類似者或其任何組合的多種SiP。 應用、術語及結論本文中描述的實施例中之任一者可結合諸如任一合適物聯網(IoT)裝置之無線通信裝置實施。該等實施例之原理及優點可實施於可受益於本文中描述之一或多個實施例之任一特徵的任何合適系統、封裝模組、積體電路或類似者中。本文中之教示可適用於多種系統。此等系統之實例包括(但不限於)行動電話、平板電腦、基地台、網路存取點、使用者端設備(CPE)、具備IoT功能之物件、膝上型電腦及可佩戴電子器件。因此，本文中之實施例可包括於各種電子器件中，包括(但不限於)消費者電子產品。雖然本發明包括一些實例實施例，但本文中描述之教示可應用於多種結構。本文中論述的原理及優點中之任一者可結合經組態以處理在自約30 kHz至300 GHz之範圍中(諸如，在自約450 MHz至6 GHz之範圍中)之信號的射頻電路實施。 本發明之態樣可實施於各種電子器件中。電子裝置之實例可包括(但不限於)消費者電子產品、消費者電子產品之零件(諸如，積體電路及/或封裝射頻模組)、上行鏈路無線通信裝置、無線通信基礎設施、電子測試裝備等。電子裝置之實例可包括(但不限於)諸如智慧型電話之行動電話、諸如智慧型手錶或聽筒之可佩戴計算裝置、電話、電視、電腦監視器、電腦、數據機、手持式電腦、膝上型電腦、平板電腦、個人數位助理(PDA)、微波、冰箱、汽車、立體聲系統、DVD播放器、CD播放器、諸如MP3播放器之數位音樂播放器、收音機、攝錄影機、相機、數位相機、攜帶型記憶體晶片、洗衣機、乾燥機、洗衣機/乾燥機、影印機、傳真機、掃描儀、多功能周邊裝置、腕錶、時鐘等。另外，電子裝置可包括未完工產品。 除非上下文另有要求，否則貫穿描述及申請專利範圍，詞語「包含」、「包括」及類似者應大體按包括性意義來解釋，如與排他性或窮盡性意義相反；亦即，按「包括(但不限於)」之意義。如本文中通常所使用之詞「耦接」指可直接連接或藉由一或多個中間元件連接之兩個或兩個以上元件。同樣，如本文中通常所使用之詞「連接」指可直接連接或藉由一或多個中間元件連接之兩個或兩個以上元件。另外，當用於本申請案中時，詞「本文中」、「上文」、「下文」及類似意義之詞在適當時應指本申請案整體而非本申請案之任何特定部分。在上下文准許之情況下，使用單數或複數數目之以上詳細描述中之詞語亦可分別包括複數或單數數目。關於兩個或兩個以上項目之清單之詞「或」，該詞涵蓋所有以下該詞之解釋：清單中之項目中之任一者、清單中之所有項目及清單中之項目之任何組合。 此外，除非另外特定地陳述，或使用時以其他方式在上下文內理解，否則本文中所使用之條件性語言(諸如，「能」、「可能」、「可」、「可以」、「例如」、「舉例而言」、「諸如」及類似者)大體意欲傳達某些實施例包括而其他實施例不包括某些特徵、元件及/或狀態。因此，此條件性語言大體並不意欲暗示特徵、元件及/或狀態無論如何係一或多個實施例所需要的，或一或多個實施例必定包括用於在具有或不具有作者輸入或提示情況下決定此等特徵、元件及/或狀態是包括於任一特定實施例中還是待在任一特定實施例中執行之邏輯。 雖然已描述某些實施例，但此等實施例僅藉由實例提出，且並不意欲限制本發明之範疇。實際上，可以多種其他形式體現本文中所描述之新穎設備、方法及系統；此外，在不脫離本發明之精神的情況下，可進行本文中所描述之方法及系統的形式之各種省略、取代及改變。舉例而言，儘管按一給定配置呈現區塊，但替代實施例可用不同組件及/或電路拓樸執行類似功能性，且一些區塊可被刪除、移動、添加、再分、組合及/或修改。此等區塊中之每一者可以多種不同方式實施。上文所描述的各種實施例之元件及動作之任何合適組合可經組合以提供另外實施例。隨附申請專利範圍及其等效物意欲涵蓋如將屬於本發明之範疇及精神之此等形式或修改。
2:天線側開關 2':天線側開關 2'':天線側開關 3:收發器側開關 3':收發器側開關 4:旁路電路 5:功率放大器 6:低雜訊放大器 7:控制及偏壓電路 10:前端系統 11:整合式天線 20:前端系統 30:前端系統 31:多模式功率放大器 32:低雜訊放大器 33:射頻開關 34:前端系統 35:功率放大器 36:前端系統 37:低雜訊放大器 38:過載保護電路 39:前端系統 40:前端積體電路 41:輸入襯墊 42:過應力感測電路 43:阻抗元件 44:可控制箝位 46:前端積體電路 47:天線側開關 48:前端積體電路 49:前端積體電路 50:封裝模組 51:射頻屏蔽結構 52:天線 53:封裝基板 54:前端積體電路 54':前端積體電路 54'':前端積體電路 54''':前端積體電路 54'''':前端積體電路 55:封裝模組 56:封裝模組 57:封裝模組 58:封裝模組 59:內部電路 60:封裝模組 61:接地平面 62:天線 63:前端積體電路 64:多層基板 65:絕緣層 66:其他層 67:通孔 68:模製材料 69:模具通孔 70:接地焊料凸塊 73:信號導引焊料凸塊 80:封裝模組 81:第一積體電路 82:晶體 83:第二積體電路 83':第二積體電路 83'':第二積體電路 83''':第二積體電路 83'''':第二積體電路 84:封裝基板 85:佈線基板或插入物 86:負載電容器 87:電線接合 90:封裝模組 92:封裝模組 94:封裝模組 96:封裝模組 97:過應力保護電路 100:封裝模組 102:晶體總成 104:封裝模組 105:封裝模組 106:封裝模組 108:封裝模組 110:封裝模組 112:堆疊濾波器總成 114:封裝模組 115:封裝模組 116:封裝模組 118:封裝模組 200:物聯網(IoT)網路 201:智慧型家 202:智慧型車輛 203:可佩戴物 204:行動裝置 205:基地台 206:智慧型醫院 207:智慧型工廠 208:智慧型衛星 211:具備IoT功能之路由器 212:具備IoT功能之恆溫器 213:具備IoT功能之儀錶 214:具備IoT功能之膝上型電腦 215:具備IoT功能之電視 300:具備IoT功能之錶 301:前端系統 303:第一收發器側開關 304:第二收發器側開關 305:第一天線側開關 306:第二天線側開關 307:第一功率放大器 308:第二功率放大器 311:雙工器 312:方向耦合器 313:終端阻抗 315:第一頻帶選擇濾波器 316:第二頻帶選擇濾波器 317:第三頻帶選擇濾波器 321a:具備IoT功能之車輛 321b:具備IoT功能之車輛 321c:具備IoT功能之車輛 321d:具備IoT功能之車輛 325:前端系統 331:天線側開關 332:旁路開關 333:LNA 334:偏壓及邏輯電路 340:具備IoT功能之工業裝備 341:定日鏡 342:太陽能接收器及渦輪機 345:前端系統 350:邏輯控制電路 351:收發器DC阻塞電容器 352:第一天線DC阻塞電容器 353:第二天線DC阻塞電容器 354:低雜訊放大器(LNA) 356:功率放大器 357:天線側開關 358:旁路開關 359:收發器側開關 360:具備IoT功能之鎖 361:電路板 362:前端系統 370:具備IoT功能之恆溫器 371:電路板 372:前端系統 380:具備IoT功能之燈 381:電路板 382:前端系統 500:射頻系統 501:天線 502:第二天線 505:收發器 506:射頻系統 510:射頻系統 511:前端系統 512:射頻系統 514:前端系統 520:射頻系統 524:前端系統 530:射頻系統 534:前端系統 641:第一天線 650:無線通信裝置 651:無線個人區域網路(WPAN)系統 652:收發器 653:處理器 654:記憶體 655:電力管理區塊 656:第二天線 657:前端系統 660:無線通信裝置 662:收發器 800:無線通信裝置 801:基頻系統 802:收發器 803:前端系統 804:天線 805:電力管理系統 806:記憶體 807:使用者介面 808:電池 811:功率放大器(PA) 812:低雜訊放大器(LNA) 813:濾波器 814:開關 815:雙工器 1010:低雜訊放大器(LNA) 1010':低雜訊放大器 1010'':低雜訊放大器 1010''':低雜訊放大器 1012:第一電感器 1014:第二電感器 1016:場效電晶體/共源極放大器 1018:場效電晶體/共閘極放大器 1022:雙極電晶體/共射極放大器 1024:雙極電晶體/共基極放大器 1026:放大電路 1030:低雜訊放大器系統 1030':低雜訊放大器系統 1030'':低雜訊放大器系統 1030''':低雜訊放大器系統 1030'''':低雜訊放大器系統 1030''''':低雜訊放大器系統 1032:偏壓電路 1036:串聯電感器 1038:分路電容器 1039:DC阻塞電容器 1049:晶粒 1061:電晶體 1062:電晶體 1063:偏壓元件 1064:偏壓及匹配電路 1065:電感器 1067:電容器 1101:輸入開關 1102:LNA 1103:過載保護電路或信號限制器 1107:輸入端子 1108:輸出端子 1110:LNA系統 1115:LNA系統 1120:LNA系統 1123:過載保護電路或信號限制器 1124:偵測器 1125:誤差放大器 1126:限制器啟用電路 1131:LNA 1132:偵測器 1141:放大NPN電晶體 1142:串疊n型金屬氧化物半導體(NMOS)電晶體 1143:射極退化電感器 1144:偏壓電感器 1151:第一偵測NPN電晶體 1152:第二偵測NPN電晶體 1153:偵測p型金屬氧化物半導體(PMOS)電晶體 1159:肖特基二極體 1161:第一電阻器 1162:第二電阻器 1163:第三電阻器 1165:第一電容器 1166:第二電容器 1191:LNA 1192:輸出整流器電路 1200:誤差放大器 1201:第一NMOS電晶體 1202:第二NMOS電晶體 1203:第三NMOS電晶體 1204:第四NMOS電晶體 1205:第五NMOS電晶體 1206:第六NMOS電晶體 1211:第一PMOS電晶體 1212:第二PMOS電晶體 1221:第一電阻器 1222:第二電阻器 1223:第三電阻器 1225:參考電流源 1240:限制器啟用電路 1241:數位控制電路 1242:回饋啟用電路 1250:LNA系統 1251:限制器啟用電路 1252:輸入開關 1261:第一NMOS電晶體 1262:第二NMOS電晶體 1271:數位控制電路 1272:回饋啟用電路 1281:第一PMOS電晶體 1282:第二PMOS電晶體 1283:第一NMOS電晶體 1284:第二NMOS電晶體 1291:第一反相器 1292:第二反相器 1293:第三反相器 1295:第一「反及」(NAND)閘 1296:第二NAND閘 1310:功率放大器系統 1312:功率放大器 1314:偏壓電路 1315:供應控制電路 1315':供應控制電路 1316:開關 1317:天線 1318:方向耦合器 1319:傳輸器 1321:基頻處理器 1322:I/Q調變器 1323:混頻器 1324:類比至數位轉換器(ADC) 1330:堆疊放大器 1335:堆疊放大器 1340:功率放大器系統 1340':功率放大器系統 1342:電晶體 1343:共閘極電晶體 1344:共源極電晶體 1345:共閘極電晶體 1346:共閘極電晶體 1347:輸入匹配網路 1348:級間匹配網路 1349:輸出匹配網路 1350:放大電路 1351:DC阻塞電容器 1352:電晶體 1353:電晶體 1354:電晶體 1355:偏壓電路 1355':偏壓電路 1355'':偏壓電路 1356:偏壓電路元件 1357:偏壓電路元件 1358:偏壓電路元件 1359:電感器 1360:放大電路 1361:共射極電晶體 1362:共基極電晶體 1363:共基極電晶體 1370:放大電路 1371:電晶體 1372:偏壓電路元件 1380:放大電路 1390:功率放大器系統 1391:開關 1392:開關 1393:開關 1412:開關 1414:天線 1424:方向耦合器 1426:功率放大器系統 1430:供應控制電路 1432:多模式功率放大器 1433:傳輸器 1434:基頻處理器 1437:I/Q調變器 1438:混頻器 1439:類比至數位轉換器(ADC) 1440:多模式功率放大器 1441:驅動器級 1442:輸出級 1443:輸入匹配網路 1444:級間匹配網路 1445:輸出匹配網路 1450:曲線圖 1451:第一增益曲線 1452:第二增益曲線 1453:第三增益曲線 1454:第一PAE曲線 1455:第二PAE曲線 1456:第三PAE曲線 1460:曲線圖 1461:第一驅動器級電流消耗曲線 1462:第二驅動器級電流消耗曲線 1463:第三驅動器級電流消耗曲線 1464:第一輸出級電流消耗曲線 1465:第二輸出級電流消耗曲線 1466:第三輸出級電流消耗曲線 1467:第一總電流消耗曲線 1468:第二總電流消耗曲線 1469:第三總電流消耗曲線 1470:曲線圖 1471:第二諧波頻率功率曲線 1472:第二諧波頻率功率曲線 1473:第二諧波頻率功率曲線 1474:第三諧波頻率功率曲線 1475:第三諧波頻率功率曲線 1476:第三諧波頻率功率曲線 1477:基頻功率曲線 1478:基頻功率曲線 1479:基頻功率曲線 1480:多模式功率放大器 1481:注入鎖定式振盪器驅動器級 1482:輸入變壓器或平衡-不平衡轉換器 1483:輸出變壓器或平衡-不平衡轉換器 1484:信號注入電路 1485:負跨導電路 1486:電容器 1490:供應控制電路 1491:直流對直流轉換器 1495:多模式功率放大器 1500:注入鎖定式振盪器驅動器級 1501:第一信號注入n型金屬氧化物半導體(NMOS)電晶體 1502:第二信號注入NMOS電晶體 1503:第一負跨導NMOS電晶體 1504:第二負跨導NMOS電晶體 1505:偏壓NMOS電晶體 1507:輸入變壓器或平衡-不平衡轉換器 1508:輸出變壓器或平衡-不平衡轉換器 1601:接腳或襯墊 1602:EOS保護電路 1605:ESD事件 1610:積體電路(IC) 1660:模組 1662:模組基板 1664:晶粒附著襯墊 1666:結合襯墊 1670:SOI晶粒 1676:襯墊 1678:結合電線 1680:模組 1681:傳導層 1690:SOI晶粒 1691:凸塊 1700:IC介面 1701:襯墊 1702:信號節點 1703:內部電路 1711:過應力感測電路 1712:阻抗元件 1713:可控制箝位 1714:過衝保護或限制電路 1730:IC介面 1731:第一反向保護電路 1732:第二反向保護電路 1750:IC介面 1757:供應箝位 1790:曲線圖 1791:曲線 1800:IC介面 1801:輸入襯墊 1802:信號節點 1803:輸入邏輯電路 1811:過應力感測電路 1812:電阻器 1813:可控制箝位 1814:過衝限制電路 1815:第一反向保護電路 1816:第二反向保護電路 1817:供應箝位 1821:第一二極體 1822:第二二極體 1823:第三二極體 1824:第四二極體 1825:第五二極體 1826:第六二極體 1827:第七二極體 1828:第八二極體 1830:第一NMOS電晶體 1831:第二NMOS電晶體 1832:箝位二極體 1851:二極體 1852:二極體 1900:IC介面 1911:過應力感測電路 1913:可控制箝位 1914:過衝限制電路 1915:第一反向保護電路 1921:第一二極體 1922:第二二極體 1923:第三二極體 1924:第四二極體 1925:第五二極體 1926:第六二極體 1927:第七二極體 1928:第八二極體 1930:第一NMOS電晶體 1931:第二NMOS電晶體 1932:箝位二極體 1933:電容器 1941:第一二極體 1942:第二二極體 1951:第一二極體 1952:第二二極體 1953:第三二極體 1954:第四二極體 2010:RF模組 2010':RF模組 2010A:RF模組 2010A':RF模組 2010B:RF模組 2010B':RF模組 2010C:RF模組 2010D:RF模組 2010E:RF模組 2010F':射頻模組 2010G':射頻模組 2010H':射頻模組 2010I':射頻模組 2012:RF組件 2012A:晶粒/組件/系統單晶片 2012B:晶粒/組件/前端積體電路 2012C:組件/晶體 2012-1:第一RF組件 2012-2:第二RF組件 2012-2A:RF組件/前端 2012-2B:RF組件 2012-3:RF組件/晶體 2014:天線 2014A:天線 2014B:天線 2014C:天線 2016:封裝基板 2018:電線結合 2022:模製材料 2023:電線結合之上部部分 2024:上表面 2025:頂點 2026:通孔 2027:接地平面 2032:屏蔽層 2032A:頂部屏蔽層 2032B:頂部屏蔽層 2040:包括在模組之射頻組件上形成一屏蔽層而使天線未屏蔽的說明性過程 2041:傳導層 2043:RF模組帶 2045:雷射光束 2047:未屏蔽部分 2047A:未屏蔽部分 2047B:未屏蔽部分 2049:經屏蔽部分 2050:包括在模組之射頻組件上形成一屏蔽層且使天線未屏蔽的說明性過程 2052:RF模組帶 2052':RF模組帶 2052'':RF模組帶 2054:遮掩材料 2060:包括在模組之射頻組件上形成屏蔽層且使天線未屏蔽的說明性過程 2066:經單粒化RF模組 2066':經單粒化RF模組 2070:包括在模組之射頻組件上形成一屏蔽層且使天線未屏蔽的說明性過程 2074:經單粒化RF模組 2074':經單粒化RF模組 2080:包括在模組之射頻組件上形成一屏蔽層且使天線未屏蔽的說明性過程 2082:RF模組帶 2082':RF模組帶 2082'':RF模組帶 2090:經單粒化RF模組 2090':經單粒化RF模組 2098:傳導性保形結構 2100:射頻模組 2104A:天線之第一部分 2104B:天線之第二部分 2106:封裝基板 2106A:被動電路元件 2106B:被動電路元件 2106C:被動電路元件 2108A:襯墊 2108B:襯墊 2108C:襯墊 2108D:襯墊 2108E:襯墊 2110:RF模組 2114A:第一部分 2114B:第二部分 2116:電線結合 2120:RF模組 2124:天線 2130:RF模組 2130':RF模組 2132:模具通孔 2134:傳導層 2136:傳導性保形結構 2140:載體 2142:屏蔽結構 2144:封裝組件 2210:封裝系統 2210':封裝系統 2212:多層基板 2214:天線層 2214':天線層 2216:接地平面 2218:RF組件 2220:絕緣層 2222:其他層 2224:通孔 2226:模製材料 2228:模具通孔 2228':模具通孔 2229:凸塊 2230:封裝系統 2232:凸塊 2234:阻焊劑 2240:系統板總成 2240':系統板總成 2241A:接地墊 2241B:襯墊 2241C:襯墊 2242:其他組件 2244:系統板 2245:通孔 2246:電線結合 2247:佈線金屬 2248:封裝系統 2250:射頻電路總成 2250':射頻電路總成 2251:組件層 2251':組件層 2251'':組件層 2251''':組件層 2252:佈線層 2253:絕緣層 2254:絕緣層 2255:佈線層 2256:絕緣層 2257:佈線層 2258:絕緣層 2260:天線 2260':天線 2271:信號導引凸塊 2272:低雜訊放大器(LNA) 2273:匹配網路 2274:功率放大器 2275:匹配網路 2300:多晶片模組(MCM) 2302:系統單晶片(SoC) 2304:前端積體電路(FEIC) 2306:晶體負載電容器 2308:晶體 2310:晶體跡線 2312:基板 2400:系統級封裝(SiP) 2402:SoC 2404:FEIC 2406:負載電容器 2408:晶體 2412:封裝基板 2414:佈線基板或插入物 2418:電線結合 2420:接地結合電線 2500:系統級封裝 2502:SoC 2504:FEIC 2506:負載電容器 2508:晶體 2512:封裝基板 2514:佈線基板 2518:電線結合 2520:接地結合電線 2600:系統級封裝 2602:SoC 2604:FEIC 2606:負載電容器 2608:晶體 2612:封裝基板 2618:電線結合 2700:系統級封裝 2702:SoC 2704:FEIC 2706a:負載電容器 2706c:表面黏著負載電容器 2706d:表面黏著負載電容器 2708a:晶體 2708b:表面黏著晶體 2708c:晶體 2708d:表面黏著晶體 2712:封裝基板 2800:系統級封裝 2802:SoC 2804:FEIC 2806:負載電容器 2808:晶體 2812:封裝基板 2822:接地平面 2900:系統級封裝 2902:SoC 2904:FEIC 2906:負載電容器 2908:晶體 2912:封裝基板 2924:支撐件 2926:間隔物 3000:SiP 3002:SoC 3004:FEIC 3006:負載電容器 3008:晶體 3012:封裝基板 3024:支撐件 3100:系統級封裝 3102:覆晶SoC 3104:基板 3106:球狀柵格陣列 3108:晶體總成 3110:系統級封裝 3130:蓋 3131:電線結合 3132:殼體/外殼 3133:跡線 3134:柱 3135:襯墊 3136:襯墊 3137:傳導層 3138:晶體 3140:負載電容器 3142:振盪器電路系統 3144:FEIC 3145:表面聲波(SAW)裝置 3146:積體電路 3148:電線結合 3150:襯墊 3152:襯墊 3200:堆疊總成 3202:底層 3204:頂層 3206:支撐件 3206a:支撐件之外側 3206b:支撐件之內側 3208:懸垂物 3210:空腔 3304:壓物 3310:第一電線結合 3312:表面黏著裝置 3320:第二電線結合 3330:電線結合 3332:表面黏著裝置 3340:電線結合 3342:表面黏著裝置 3350:電線結合 3352:表面黏著裝置 3360:電線結合 3362:可結合裝置 3370:結合源 3410:表面黏著堆疊總成/堆疊組態 3412:第一水平定位表面黏著裝置 3414:第二表面黏著裝置 3415:濾波器電路 3416:底層 3420:表面黏著堆疊總成 3422:第一垂直定向之表面黏著裝置 3424:第二表面黏著裝置 3425:濾波器電路 3426:底層 3430:表面黏著堆疊總成 3432:第一表面黏著裝置 3434:第二表面黏著裝置 3436:底層 3438:第三表面黏著裝置 3440:表面黏著堆疊總成 3442:第一表面黏著裝置 3444:第二表面黏著裝置 3445:π濾波器電路 3446:底層 3448:第三水平定向之表面黏著裝置 3450:表面黏著堆疊總成 3452:第一表面黏著裝置 3454:第二表面黏著裝置 3455:帶阻濾波器電路 3456:底層 3458:第三表面黏著裝置 3460:第四表面黏著裝置 3470:電路板佈局 3480:電路板佈局 3485:電線結合 3490:表面黏著堆疊總成 3500:堆疊總成 3502:第一積體電路晶粒 3504:第二積體電路晶粒 3506:層壓物 3508:電線結合 3600:堆疊總成 3602:第一積體電路晶粒 3604:第二積體電路晶粒 3606:層壓物 3608:電線結合 3700:堆疊總成 3706:底層 3708:頂層 3724a:支撐件 3724b:支撐件 3726:間隔物 3800:堆疊總成 3806:底層 3810:堆疊總成 3818:電線結合 3820:堆疊總成 3830:堆疊總成 3900:SiP 3902:SoC 3904:FEIC 3906:連接性 3908:晶體 3910:其他電路系統 3912:封裝 4000:無線裝置 4002:揚聲器 4004:顯示器 4006:鍵盤 4008:麥克風 4010:基頻子系統 4020:微處理器(μP) 4022:記憶體 4024:類比電路系統 4026:數字信號處理器(DSP) 4028:匯流排 4030:場可程式化閘陣列(FPGA) 4032:特殊應用積體電路(ASIC) 4034:類比至數位轉換器(ADC) 4036:數位至類比轉換器(DAC) 4038:數位至類比轉換器(DAC) 4040:連接 4042:電源 4050:傳輸器 4052:調變器 4054:升頻轉換器 4060:天線 4070:接收器 4072:開關/低雜訊放大器電路 4074:降頻轉換器 4076:濾波器 4078:解調器 4080:功率放大器電路 4086:連接 4100:SiP 4102:SoC 4104:FEIC 4108:晶體 ANT:天線接腳 ANT1:第一天線接腳 ANT2:第二天線接腳 ANT_SEL:控制接腳 B12 RX:回饋接腳 B12 TX IN:頻帶12傳輸輸入接腳 B13 RX:回饋接腳 B13 TX IN:頻帶13傳輸輸入接腳 B26 RX:回饋接腳 B26 TX IN:頻帶26傳輸輸入接腳 C0:控制接腳 C1:控制接腳/AC接地閘極電容器 C2:電容器 C3:電容器 C4:電容器 C5:AC接地閘極電容器 C6:AC接地閘極電容器 C7:電容器 C8:電容器 C9:電容器 C15:組件 C26:組件 C29:組件 C32:組件 C33:組件 CPL:方向耦合器輸出接腳 CPS:控制接腳 CSD:控制接腳 CTX:控制接腳 DET:偵測器輸出端 L1:電感器 L2:電感器 L3:組件 L4:組件 L5:組件 LNA_IN:LNA輸入接腳 LNA_OUT:LNA輸出接腳 n1:節點 n2:節點 n3:節點 n4:節點 R1:概念性偏壓電路元件 R2:概念性偏壓電路元件 R3:概念性偏壓電路元件 R4:概念性偏壓電路元件 R5:偏壓電路元件 RFIN:LNA輸入端 RFOUT:LNA輸出端 RX_OUT:接收信號接腳 TR:收發器接腳 TX_IN:傳輸信號接腳 U1:裝置
圖1A說明一前端系統之一個實例之示意性方塊圖。 圖1B說明一前端系統之另一實例之示意性方塊圖。 圖2為根據一實施例的包括一多模式功率放大器及具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器的一前端系統之示意性方塊圖。 圖3為根據一實施例的包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器及具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器的一前端系統之示意性方塊圖。 圖4為根據一實施例的包括一天線側開關、一功率放大器、一低雜訊放大器及一過載保護電路之一前端系統之示意性方塊圖。 圖5為根據一實施例的包括一射頻開關、一低雜訊放大器、一過載保護電路及一多模式功率放大器之一前端系統之示意性方塊圖。 圖6為根據一實施例的包括一過應力保護電路及具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器的一前端積體電路之示意性方塊圖。 圖7為根據一實施例的包括一過應力保護電路及一低雜訊放大器系統之一前端積體電路之示意性方塊圖。 圖8為根據一實施例的包括一過應力保護電路及一多模式功率放大器之一前端積體電路之示意性方塊圖。 圖9為根據一實施例的包括一過應力保護電路及包括一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器的一前端積體電路之示意性方塊圖。 圖10為根據一實施例的包括具有在射頻屏蔽結構內之磁耦合電感器之一低雜訊放大器及在射頻屏蔽結構外部之一天線的一封裝模組之示意圖。 圖11為根據一實施例的包括一低雜訊放大器及在射頻屏蔽結構內之一過載保護電路及在射頻屏蔽結構外部之一天線的一封裝模組之示意圖。 圖12為根據一實施例的包括在射頻屏蔽結構內之一多模式功率放大器及在射頻屏蔽結構外部之一天線的一封裝模組之示意圖。 圖13為根據一實施例的包括在射頻屏蔽結構內之一注入鎖定式振盪器驅動器級及在射頻屏蔽結構外部之一天線的一封裝模組之示意圖。 圖14為根據一實施例的包括在射頻屏蔽結構內之一過應力保護電路及在射頻屏蔽結構外部之一天線的一封裝模組之示意圖。 圖15A為根據一實施例的包括在天線與前端積體電路之間的一接地平面之一封裝模組之橫截面。 圖15B至圖15F為根據某些實施例的包括各種前端積體電路的圖15A之封裝模組之實例橫截面。在圖15B中，該前端積體電路包括具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器。在圖15C中，該前端積體電路包括一低雜訊放大器及一過載保護電路。在圖15D中，該前端積體電路包括一多模式功率放大器。在圖15E中，該前端積體電路包括一功率放大器，該功率放大器包括一注入鎖定式振盪器驅動器級。在圖15F中，該前端積體電路包括一過應力保護電路。 圖16為根據一實施例的包括一積體電路、與該積體電路垂直整合之一晶體及包括具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器的一其他積體電路之一封裝模組之橫截面。 圖17為根據一實施例的包括一積體電路、與該積體電路垂直整合之一晶體及包括一低雜訊放大器及一過載保護電路之一其他積體電路的一封裝模組之橫截面。 圖18為根據一實施例的包括一積體電路、與該積體電路垂直整合之一晶體及包括一多模式功率放大器之一其他積體電路的一封裝模組之橫截面。 圖19為根據一實施例的包括一積體電路、與該積體電路垂直整合之一晶體及包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器之一其他積體電路的一封裝模組之橫截面。 圖20為根據一實施例的包括一積體電路、與該積體電路垂直整合之一晶體及包括一過應力保護電路之一其他積體電路的一封裝模組之橫截面。 圖21為根據一實施例的包括一積體電路、在該積體電路下之一晶體總成及包括具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器的一其他積體電路之一封裝模組之橫截面。 圖22為根據一實施例的包括一積體電路、在該積體電路下之一晶體總成及包括一低雜訊放大器及一過載保護電路之一其他積體電路的一封裝模組之橫截面。 圖23為根據一實施例的包括一積體電路、在該積體電路下之一晶體總成及包括一多模式功率放大器之一其他積體電路的一封裝模組之橫截面。 圖24為根據一實施例的包括一積體電路、在該積體電路下之一晶體總成及包括具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器之一其他積體電路的一封裝模組之橫截面。 圖25為根據一實施例的包括一積體電路、在該積體電路下之一晶體總成及包括一過應力保護電路之一其他積體電路的一封裝模組之橫截面。 圖26為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成及具有磁耦合之電感器之一低雜訊放大器的一封裝模組之方塊圖。 圖27為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成及一低雜訊放大器及一過載保護電路之一封裝模組之方塊圖。 圖28為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成及一多模式功率放大器之一封裝模組之方塊圖。 圖29為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成及具有一注入鎖定式振盪器驅動器級之一功率放大器的一封裝模組之方塊圖。 圖30為根據一實施例的包括一堆疊濾波器總成及一過應力保護電路之一封裝模組之方塊圖。 圖31為一物聯網(IoT)網路之一個實例之示意圖。 圖32A為具備IoT功能之錶的一個實例之示意圖。 圖32B為用於具備IoT功能之物件的一前端系統之一個實例之示意圖。 圖33A為具備IoT功能之車輛之一個實例之示意圖。 圖33B為用於具備IoT功能之物件的一前端系統之另一實例之示意圖。 圖34A為具備IoT功能之工業裝備的一個實例之示意圖。 圖34B為用於具備IoT功能之物件的一前端系統之另一實例之示意圖。 圖35A為具備IoT功能之鎖的一個實例之示意圖。 圖35B為用於圖35A之具備IoT功能之鎖的一電路板之一個實例之示意圖。 圖36A為具備IoT功能之恆溫器的一個實例之示意圖。 圖36B為用於圖36A之具備IoT功能之恆溫器的一電路板之一個實例之示意圖。 圖37A為具備IoT功能之燈之一個實例之示意圖。 圖37B為用於圖37A之具備IoT功能之燈的一電路板之一個實例之示意圖。 圖38A說明一射頻系統之一個實例之示意性方塊圖。 圖38B說明一射頻系統之另一實例之示意性方塊圖。 圖38C說明一射頻系統之另一實例之示意性方塊圖。 圖38D說明一射頻系統之另一實例之示意性方塊圖。 圖38E說明一射頻系統之另一實例之示意性方塊圖。 圖38F說明一射頻系統之另一實例之示意性方塊圖。 圖39A為一無線通信裝置之一個實例之示意圖。 圖39B為一無線通信裝置之另一實例之示意圖。 圖39C為一無線通信裝置之另一實例之示意圖。 圖40A為根據一實施例的包括場效電晶體及一阻抗變換電路之一低雜訊放大器之示意圖。 圖40B為根據一實施例的包括雙極電晶體及一阻抗變換電路之一低雜訊放大器之示意圖。 圖40C為根據一實施例的包括一雙極電晶體、一場效電晶體及一阻抗變換電路之一低雜訊放大器之示意圖。 圖40D為根據一實施例的包括一放大電路及一阻抗變換電路之一低雜訊放大器之示意圖。 圖41A為根據一實施例的一低雜訊放大器系統之示意圖。 圖41B為根據一實施例的一低雜訊放大器系統之示意圖。 圖41C為根據一實施例的一低雜訊放大器系統之示意圖。 圖41D為根據一實施例的包括一說明性偏壓電路之一低雜訊放大器之示意圖。 圖41E為根據一實施例的具有一偏壓及匹配電路之一低雜訊放大器之示意圖。 圖41F為根據一實施例的包括一說明性偏壓及匹配電路之一低雜訊放大器系統之示意圖。 圖42為對應於圖41A之被動阻抗網路之史密斯圖。 圖43說明根據一實施例的低雜訊放大器之磁耦合電感器之實體佈局。 圖44為根據一個實施例的具有過載保護之一低雜訊放大器(LNA)系統之示意圖。 圖45A為根據另一實施例的具有過載保護之一LNA系統之示意圖。 圖45B為根據另一實施例的具有過載保護之一LNA系統之示意圖。 圖46A為根據一個實施例的LNA及偵測器之示意圖。 圖46B為根據另一實施例的LNA及偵測器之示意圖。 圖47為根據一個實施例的一誤差放大器之示意圖。 圖48A為根據一個實施例的一限制器啟用電路之示意圖。 圖48B為根據另一實施例的一限制器啟用電路之示意圖。 圖49為根據另一實施例的具有過載保護之一LNA系統之示意圖。 圖50為一實例功率放大器系統之示意圖。 圖51為說明對於在固定輸出功率位準下之堆疊放大器之不同傳導角度在峰值輸出電壓與直流(DC)電流之間的關係之曲線圖。 圖52A說明具有堆疊中之三個電晶體之堆疊放大器及用於供電電壓之堆疊放大器的最大可允許電壓擺動。 圖52B說明具有堆疊中之兩個電晶體之堆疊放大器及用於與圖52A相同之供電電壓的堆疊放大器之最大可允許電壓擺動。 圖53A為根據一實施例的具有針對兩個操作模式所說明之概念性偏壓的三堆疊功率放大器架構之示意圖。 圖53B為具有針對不同操作模式所說明之概念性偏壓的圖53A之三堆疊功率放大器架構之示意圖。 圖53C為根據一實施例之具有針對第一操作模式所說明之概念性偏壓的功率放大器系統之示意圖。 圖53D為具有針對第二操作模式所說明之概念性偏壓的圖53C之功率放大器系統之示意圖。 圖54A為根據一實施例的在第一模式中之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖54B為根據一實施例的在第二模式中之圖54A之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖55A為根據一實施例的在第一模式中之具有雙極電晶體之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖55B為根據一實施例的在第二操作模式中之圖55A之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖56A為根據一實施例的在第一模式中之在堆疊中具有四個電晶體之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖56B為在不同模式中的圖56A之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖56C為在與圖56A及圖56B不同之模式中的圖56A之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖57A為根據一實施例的在第一模式中之在堆疊中具有兩個電晶體之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖57B為根據一實施例的在第二模式中之圖57A之堆疊放大器及偏壓電路之示意圖。 圖58A為根據一實施例的具有一開關以選擇性地向三堆疊中之不同電晶體提供輸入信號之三堆疊功率放大器架構之示意圖。 圖58B為根據一實施例的具有針對不同操作模式所說明之概念性偏壓的圖58A之三堆疊功率放大器架構之示意圖。 圖59為一功率放大器系統之一個實例之示意圖。 圖60為一多模式功率放大器之一個實例之示意圖。 圖61A、圖61B及圖61C展示用於圖60之多模式功率放大器之一個實施的模擬結果之曲線圖。圖61A展示功率增添效率(PAE)及增益對輸出功率之曲線圖。圖61B展示電流消耗對輸出功率之曲線圖。圖61C展示功率位準對輸出功率之曲線圖。 圖62A為根據一個實施例的一多模式功率放大器之示意圖。 圖62B為根據另一實施例的一多模式功率放大器之示意圖。 圖63為根據一個實施例的一注入鎖定式振盪器驅動器級之示意圖。 圖64為可包括一或多個電性過應力(EOS)保護電路的一積體電路之一個實例之示意圖。 圖65A為可包括一或多個EOS保護電路的一模組之一個實例之示意圖。 圖65B為沿著線65B-65B截取的圖65之模組之橫截面。 圖65C為根據另一實施例的一模組之橫截面。 圖66A為根據一個實施例的包括一EOS保護電路之積體電路(IC)介面之示意圖。 圖66B為根據另一實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面之示意圖。 圖66C為根據另一實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面之示意圖。 圖67為對於圖66A之EOS保護電路的電壓對時間之曲線圖之一個實例。 圖68A為根據另一實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面之示意圖。 圖68B為根據另一實施例的包括一EOS保護電路之一IC介面之示意圖。 圖69為根據一實施例的包括一射頻組件及一整合式天線之一實例射頻模組之示意圖。 圖70為根據一實施例的在於射頻組件上形成屏蔽層之前的圖1之射頻模組之橫截面圖。 圖71為根據一實施例的屏蔽層在射頻組件上而非天線上的圖1之射頻模組之橫截面圖。 圖72A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成屏蔽層及使天線未屏蔽之一說明性過程之流程圖。 圖72B、圖72C、圖72D及圖72E說明根據一實施例的對應於圖72A之過程之各種階段的一實例模組或模組帶。 圖73A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成屏蔽層及使天線未屏蔽之另一說明性過程之流程圖。 圖73B、圖73C、圖73D、圖73E及圖73F說明根據一實施例的對應於圖73A之過程之各種階段的一實例模組或模組帶。 圖74A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成屏蔽層及使天線未屏蔽之另一說明性過程之流程圖。 圖74B、圖74C、圖74D、圖74E及圖74F說明根據一實施例的對應於圖74A之過程之各種階段的一實例模組、模組帶或模組群組。 圖75A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成屏蔽層及使天線未屏蔽之另一說明性過程之流程圖。 圖75B、圖75C、圖75D、圖75E及圖75F說明根據一實施例的對應於圖75A之過程之各種階段的一實例模組或模組群組。 圖76A為根據一實施例的包括在模組之射頻組件上形成屏蔽層及使天線未屏蔽之另一說明性過程之流程圖。 圖76B、圖76C、圖76D、圖76E、圖76F、圖76G、圖76H及圖76I說明根據一實施例的對應於圖76A之過程之各種階段的一實例模組、模組帶或模組群組。 圖77A為根據一實施例的射頻模組之一實例之示意圖。 圖77B為根據一實施例的射頻模組之一實例之示意圖。圖77C為在形成屏蔽層及保形結構之後的圖77B之射頻模組之另一視圖。 圖77D為根據一實施例的經選擇性屏蔽之射頻模組之一實例之示意圖。 圖77E為根據一實施例的經選擇性屏蔽之射頻模組之一實例之示意圖。 圖77F為根據一實施例的經選擇性屏蔽之射頻模組之一實例之示意圖。 圖77G說明根據一實施例的經屏蔽射頻模組之一實例，其中剝蝕圖案使射頻模組之一部分未屏蔽。 圖77H說明根據一實施例的經選擇性屏蔽之射頻模組之一實例之示意圖。 圖77I說明根據一實施例的在兩個經屏蔽部分之間具有一未屏蔽部分的經選擇性屏蔽之射頻模組之一實例。 圖77J說明根據一實施例的經屏蔽部分之間具有一未屏蔽部分的經選擇性屏蔽之射頻模組之一實例。 圖78A及圖78B說明根據一實施例的包括實施於封裝基板之對置側上之整合式天線之一射頻模組。圖78A為射頻模組之俯視圖。圖78B為射頻模組之仰視圖。 圖79A說明根據一實施例的包括部分實施於模製材料上之一整合式天線之射頻模組。圖79B說明圖79A之射頻模組之另一視圖。 圖80說明根據一實施例的具有對RF組件屏蔽之一整合式天線之RF模組。 圖81A說明根據一實施例的具有一模具通孔之RF模組。圖81B說明根據一實施例的在天線上移除圖81A中所展示之傳導層之後的RF模組。 圖82A為根據一實施例的具有一印刷天線之載體上的經屏蔽RF組件之俯視圖。圖82B為具有印刷天線之載體上的經屏蔽RF組件之側視圖。 圖83A展示根據一實施例的封裝系統中之天線之橫截面。 圖83B展示根據一實施例的封裝系統中之天線之橫截面。 圖84展示根據一實施例的具有提供支座之焊料凸塊的封裝系統中之天線之橫截面。 圖85A說明根據一實施例的具有在封裝模組中之一天線及安置於系統板上之另一組件之系統板總成。 圖85B說明根據一實施例的具有在封裝模組中之一天線及安置於系統板上之另一組件之系統板總成之橫截面。 圖85C說明根據一實施例的具有在封裝模組中之一天線及安置於系統板上之另一組件之系統板總成之橫截面。 圖86為根據一實施例的封裝系統中之天線之橫截面圖。 圖87A為根據一實施例的具有一整合式天線之層射頻電路總成之實例橫截面圖。 圖87B為根據另一實施例的具有一整合式天線之層射頻電路總成之實例橫截面圖。 圖88A說明根據一實施例的射頻電路總成之一實例印刷天線。 圖88B說明根據另一實施例的射頻電路總成之一實例印刷天線。 圖89A為根據一實施例的射頻電路總成之射頻組件層之一說明實例。 圖89B為根據另一實施例的射頻電路總成之射頻組件層之一說明實例。 圖89C為根據另一實施例的射頻電路總成之射頻組件層之一說明實例。 圖89D為根據另一實施例的射頻電路總成之射頻組件層之一說明實例。 圖90A說明多晶片模組之俯視圖。圖90B說明多晶片模組之方塊圖。圖90C說明多晶片模組之側視圖。 圖91說明根據某些實施例的用於在無線裝置中使用之系統級封裝之一實施例。 圖92說明根據某些實施例的用於在無線裝置中使用之系統級封裝之另一實施例。 圖93說明根據某些實施例的用於在無線裝置中使用之系統級封裝之另一實施例。 圖94A說明根據某些實施例的用於在無線裝置中使用之系統級封裝之另一實施例。 圖94B說明根據某些實施例的用於在系統級封裝中使用之表面黏著晶體之另一實施例。 圖94C說明根據某些實施例的用於在系統級封裝中使用之表面黏著晶體之另一實施例。 圖94D說明根據某些實施例的用於在系統級封裝中使用之表面黏著晶體之另一實施例。 圖95說明根據某些實施例的用於在無線裝置中使用之系統級封裝之另一實施例。 圖96說明根據某些實施例的用於在無線裝置中使用之系統級封裝之另一實施例。 圖97說明根據某些實施例的用於在無線裝置中使用之系統級封裝之另一實施例。 圖98A1說明根據某些實施例的具有傳導柱之一實例晶體總成。 圖98A2說明根據某些實施例的具有與一或多個側上之傳導柱連通之傳導層之一實例晶體總成。 圖98B1說明根據某些實施例的包括一晶體及一前端積體電路之一實例總成之橫截面圖。 圖98B2說明根據某些實施例的包括一晶體及一表面聲波(SAW)裝置之一實例總成之橫截面圖。 圖98C說明根據某些實施例的一實例晶體總成之仰視圖。 圖98D說明根據某些實施例的包含在晶體總成上方之一覆晶總成之一實例系統級封裝。 圖98E說明根據某些實施例的包含在晶體總成下之一覆晶總成之一實例系統級封裝。 圖98F說明根據某些實施例的包含安裝至晶體總成之蓋的一FEIC之一實例電路總成。 圖99說明根據某些實施例的包括支撐件之一實例堆疊總成。 圖100A至圖100D說明根據某些實施例的用於表面黏著裝置之實例結合組態。圖100A說明在結合源與表面黏著裝置之間結合的電線結合。圖100B說明在結合源與水平定向之表面黏著裝置之間結合的電線結合。圖100C說明在結合源與垂直定向之表面黏著裝置之間結合的電線結合。圖100D說明在結合源與垂直定向之表面黏著裝置之間結合的電線結合，及在表面黏著裝置與可結合裝置之間結合的另一電線結合。 圖101A1說明根據某些實施例的用於表面黏著裝置之第一實例堆疊組態。 圖101A2說明根據某些實施例的用於圖101A1之堆疊組態之一實例電路圖。 圖101B1說明根據某些實施例的用於表面黏著裝置之第二實例堆疊組態。 圖101B2說明根據某些實施例的用於圖101B1之堆疊組態之一實例電路圖。 圖101C1說明根據某些實施例的用於表面黏著裝置之第三實例堆疊組態。 圖101C2說明根據某些實施例的用於表面黏著裝置之第四實例堆疊組態。 圖101C3說明根據某些實施例的用於圖101C1及圖101C2之堆疊組態之一實例電路圖。 圖101D1說明根據某些實施例的用於表面黏著裝置之第五實例堆疊組態。 圖101D2說明根據某些實施例的用於圖101D1之堆疊組態之一實例電路圖。 圖101E說明根據某些實施例之一實例電路板佈局。 圖101F說明根據某些實施例的具有實例結合組態及實例堆疊組態之一實例電路板佈局。 圖102說明根據某些實施例的堆疊總成之一實施例。 圖103說明根據某些實施例的堆疊總成之另一實施例。 圖104說明根據某些實施例的包括支撐件及間隔物之一實例堆疊總成。 圖105說明根據某些實施例的包括複數個堆疊總成之一實例電路總成。 圖106為根據某些實施例的用於在無線裝置中使用之系統級封裝之一實例方塊圖。 圖107為說明根據某些實施例的包括一系統級封裝之一簡化無線裝置之一實例方塊圖。
30:前端系統
31:多模式功率放大器
32:低雜訊放大器
33:射頻開關

Claims (20)

  1. 一種前端系統，其包括： 一低雜訊放大器，其係在該前端系統之一接收路徑中； 一開關，其耦接至該低雜訊放大器； 一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供針對該低雜訊放大器之過載保護；及 一多模式功率放大器電路，其係在該前端系統之一傳輸路徑中，該多模式功率放大器電路包含一堆疊輸出級，其包含兩個或多個電晶體之一電晶體堆疊，及該多模式功率放大器電路包含一偏壓電路，其經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。
  2. 如請求項1之前端系統，其中該開關可為一天線側開關。
  3. 如請求項2之前端系統，其中該天線側開關包含電耦接至該低雜訊放大器之一輸入端的一第一投(throw)及電耦接至該多模式功率放大器電路之一輸出端的一第二投。
  4. 如請求項1之前端系統，其中該第二模式係與比該第一模式低的一功率相關聯。
  5. 如請求項1之前端系統，其中該堆疊輸出級經組態以接收一供電電壓，該供電電壓在該第二模式中具有相對於該第一模式之一較低電壓位準。
  6. 如請求項1之前端系統，其中該堆疊輸出級係可在至少三個不同模式中操作。
  7. 如請求項1之前端系統，其中該電晶體堆疊包含串聯之至少三個電晶體。
  8. 如請求項1之前端系統，其中該過載保護電路經組態以回應於偵測到該信號位準指示一過載狀況而增大該開關之該阻抗。
  9. 如請求項1之前端系統，其中該過載保護電路經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以調整該開關之該阻抗。
  10. 如請求項1之前端系統，其中該信號位準係為該低雜訊放大器之一輸出信號位準。
  11. 如請求項1之前端系統，其中該信號位準係為該低雜訊放大器之一輸入信號位準。
  12. 一種前端系統，其包括： 一低雜訊放大器，其係在該前端系統之一接收路徑中； 一開關，其耦接至該低雜訊放大器； 一過載保護電路，其經組態以將一回饋信號提供至該開關之一類比控制輸入端以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供針對該低雜訊放大器之過載保護； 一限制器(limiter)啟用電路，其係耦接於該過載保護電路之一輸出端與該開關之該類比控制輸入端之間，該過載保護電路經組態以藉由該限制器啟用電路以將該回饋信號提供至該類比控制輸入端；及 一多模式功率放大器電路，其係在該前端系統之一傳輸路徑中，該多模式功率放大器電路包含一堆疊輸出級，其包含兩個或多個電晶體之一電晶體堆疊，及該多模式功率放大器電路包含一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式來控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。
  13. 如請求項12之前端系統，其中該限制器啟用電路經組態以接收一開關啟用信號，及斷開連接(disconnect)該過載保護電路之該輸出端與該類比控制輸入端，且回應於該開關啟用信號經停用而切斷(turn off)該開關。
  14. 一種前端系統，其包括： 一低雜訊放大器，其係在該前端系統之一接收路徑中； 一開關，其耦接至該低雜訊放大器； 一過載保護電路，其經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供針對該低雜訊放大器之過載保護，該過載保護電路包含一偵測器及一誤差放大器，該偵測器經組態以基於偵測到該信號位準而產生一偵測信號，及該誤差放大器經組態以基於該偵測信號產生用於該開關之一回饋信號；及 一多模式功率放大器電路，其係在該前端系統之一傳輸路徑中，該多模式功率放大器電路包含一堆疊輸出級，其包含兩個或多個電晶體之一電晶體堆疊，及該多模式功率放大器電路包含一偏壓電路，其經組態以基於該多模式功率放大器電路之一模式來控制該電晶體堆疊中之至少一個電晶體之一偏壓。
  15. 如請求項14之前端系統，其中該偏壓電路經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。
  16. 一種無線通信裝置，其包括： 一前端系統，其包含一低雜訊放大器、耦接至該低雜訊放大器之一開關、一過載保護電路及一多模式功率放大器電路，該過載保護電路經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供針對該低雜訊放大器之過載保護，該多模式功率放大器電路包含一堆疊輸出級，其包含兩個或多個電晶體之一電晶體堆疊，及該多模式功率放大器電路包含一偏壓電路，其經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關；及 一天線，其經組態以傳輸來自該多模式功率放大器電路之一射頻信號。
  17. 如請求項16之無線通信裝置，其中該無線通信裝置係一物聯網裝置(Internet of things device)。
  18. 如請求項16之無線通信裝置，其中該開關係一天線側開關，其包含電耦接至該低雜訊放大器之一輸入端的一第一投及電耦接至該多模式功率放大器電路之一輸出端的一第二投。
  19. 一種封裝前端模組，其包括： 一封裝基板；及 一半導體晶粒，其附接至該封裝基板，該半導體晶粒包含一低雜訊放大器、耦接至該低雜訊放大器之一開關、一過載保護電路及一多模式功率放大器電路，該過載保護電路經組態以基於該低雜訊放大器之一信號位準來調整該開關之一阻抗以提供針對該低雜訊放大器之過載保護，該多模式功率放大器電路包含一堆疊輸出級，其包含兩個或多個電晶體之一電晶體堆疊，該多模式功率放大器電路包含一偏壓電路，其經組態以在一第一模式下使該電晶體堆疊中之一電晶體偏壓至一線性操作區，且在一第二模式下使該電晶體偏壓作為一開關。
  20. 如請求項19之封裝前端模組，其中該半導體晶粒係一絕緣體上矽晶粒(silicon-on-insulator die)。
TW112110714A 2016-12-29 2017-12-27 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法 TW202329611A (zh)

Applications Claiming Priority (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201662440241P 2016-12-29 2016-12-29
US62/440,241 2016-12-29
US201762480002P 2017-03-31 2017-03-31
US62/480,002 2017-03-31
US201762570459P 2017-10-10 2017-10-10
US62/570,459 2017-10-10
US201762571409P 2017-10-12 2017-10-12
US62/571,409 2017-10-12
US201762594179P 2017-12-04 2017-12-04
US62/594,179 2017-12-04
US201762595935P 2017-12-07 2017-12-07
US62/595,935 2017-12-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202329611A true TW202329611A (zh) 2023-07-16

Family

ID=62772844

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW112110714A TW202329611A (zh) 2016-12-29 2017-12-27 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法
TW109108812A TWI744822B (zh) 2016-12-29 2017-12-27 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法
TW106145857A TWI692935B (zh) 2016-12-29 2017-12-27 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法
TW110136381A TWI800014B (zh) 2016-12-29 2017-12-27 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109108812A TWI744822B (zh) 2016-12-29 2017-12-27 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法
TW106145857A TWI692935B (zh) 2016-12-29 2017-12-27 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法
TW110136381A TWI800014B (zh) 2016-12-29 2017-12-27 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法

Country Status (5)

Country Link
US (6) US10276521B2 (zh)
KR (1) KR102100020B1 (zh)
CN (1) CN108270464B (zh)
HK (1) HK1253220A1 (zh)
TW (4) TW202329611A (zh)

Families Citing this family (91)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11320728B2 (en) 2013-05-23 2022-05-03 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator image display projector apparatus with solid state illumination light sources
US11445274B2 (en) * 2014-07-29 2022-09-13 GroGuru, Inc. Sensing system and method for use in electromagnetic-absorbing material
US10770452B2 (en) * 2015-12-30 2020-09-08 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for electrical overstress protection
WO2017173119A1 (en) 2016-04-01 2017-10-05 Skyworks Solutions, Inc. Multi-mode stacked amplifier
US10062670B2 (en) 2016-04-18 2018-08-28 Skyworks Solutions, Inc. Radio frequency system-in-package with stacked clocking crystal
US10454432B2 (en) 2016-12-29 2019-10-22 Skyworks Solutions, Inc. Radio frequency amplifiers with an injection-locked oscillator driver stage and a stacked output stage
TW202329611A (zh) 2016-12-29 2023-07-16 美商天工方案公司 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法
US10515924B2 (en) 2017-03-10 2019-12-24 Skyworks Solutions, Inc. Radio frequency modules
US10826195B2 (en) * 2017-03-31 2020-11-03 Anokiwave, Inc. Apparatus and method for RF isolation in a packaged integrated circuit
JP6788562B2 (ja) * 2017-09-19 2020-11-25 株式会社東芝 受信回路および無線通信装置
US20190363690A1 (en) * 2017-10-09 2019-11-28 Psemi Corporation Low Noise Amplifier with Tunable Bypass Match
KR102456843B1 (ko) * 2017-12-28 2022-10-21 한국전자통신연구원 발룬을 포함하는 고주파 신호 증폭기
US10404313B1 (en) * 2018-02-21 2019-09-03 Analog Devices, Inc. Low noise amplifiers with output limiting
US10594268B2 (en) * 2018-05-18 2020-03-17 Cree, Inc. Switch circuits having integrated overdrive protection and related transmit/receive circuits and MMIC amplifiers
WO2019240097A1 (ja) * 2018-06-11 2019-12-19 株式会社村田製作所 高周波モジュールおよび通信装置
WO2019240095A1 (ja) * 2018-06-11 2019-12-19 株式会社村田製作所 高周波モジュールおよび通信装置
DE212019000322U1 (de) 2018-06-20 2021-01-22 Murata Manufacturing Co., Ltd. Hochfrequenzmodul und Kommunikationsgerät
KR102420284B1 (ko) * 2018-06-20 2022-07-14 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 고주파 모듈 및 통신 장치
KR102526400B1 (ko) * 2018-09-06 2023-04-28 삼성전자주식회사 5g 안테나 모듈을 포함하는 전자 장치
US10720956B2 (en) * 2018-09-06 2020-07-21 Intel Corporation Low loss transmitter receiver switch with transformer matching network
US20200091955A1 (en) * 2018-09-13 2020-03-19 Qualcomm Incorporated Second-order harmonic reduction for radio frequency transmitter
DE102018215763A1 (de) * 2018-09-17 2020-03-19 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Rundfunk-Empfangseinrichtung eines Kraftfahrzeugs
CN109194414B (zh) * 2018-09-19 2021-03-30 中科芯集成电路有限公司 一种Lora射频模组参数的测试系统
US11018703B2 (en) * 2018-09-21 2021-05-25 Qualcomm Incorporated Systems and methods for antenna tuning
KR20210060633A (ko) 2018-10-12 2021-05-26 스카이워크스 솔루션즈, 인코포레이티드 주입-고정 발진기를 트랜시버 어레이에 통합하기 위한 시스템 및 방법
CN110035573B (zh) * 2018-11-23 2024-03-01 宁波鑫合瑞电子有限公司 一种基于红外的rgb灯带用控制器及电源插头
KR102456844B1 (ko) * 2018-11-27 2022-10-21 한국전자통신연구원 초고주파 기반 빔포밍 안테나 및 이를 이용한 통신 방법
US10916493B2 (en) 2018-11-27 2021-02-09 International Business Machines Corporation Direct current blocking capacitors
WO2020122265A1 (ko) * 2018-12-10 2020-06-18 엘지전자 주식회사 차량에 탑재되는 안테나 시스템
TWI670930B (zh) * 2018-12-18 2019-09-01 財團法人工業技術研究院 無線接收裝置
WO2020154667A1 (en) * 2019-01-24 2020-07-30 Wispry, Inc. Spherical coverage antenna systems, devices, and methods
US20200243484A1 (en) * 2019-01-30 2020-07-30 Avago Technologies International Sales Pte. Limited Radio frequency (rf) switch device including rf switch integrated circuit (ic) divided between sides of pcb
US10594368B1 (en) * 2019-01-31 2020-03-17 Capital One Services, Llc Array and method for improved wireless communication
US10530615B1 (en) 2019-03-08 2020-01-07 Apple Inc. Adaptive power equalization in electrical balance duplexers
KR20200114745A (ko) * 2019-03-29 2020-10-07 삼성전자주식회사 전력증폭기 소손 방지를 위한 전압 보호 회로 및 이를 포함하는 전자 장치
CN109889164B (zh) * 2019-04-11 2024-04-02 中电科技德清华莹电子有限公司 一种用于全球导航卫星系统的多模射频低噪声放大器模块
US11469717B2 (en) * 2019-05-03 2022-10-11 Analog Devices International Unlimited Company Microwave amplifiers tolerant to electrical overstress
JP2020184691A (ja) 2019-05-08 2020-11-12 株式会社村田製作所 増幅装置
US11670875B2 (en) * 2019-05-21 2023-06-06 Ubicquia, Inc. Small cell with visually undetectable antennas and system including same
CN110493859A (zh) * 2019-07-03 2019-11-22 惠州高盛达科技有限公司 具有闭环功率控制功能的wifi电路
TWI705455B (zh) * 2019-07-03 2020-09-21 友懋國際科技股份有限公司 阻抗變換網路及包括其之記憶體模組
CN112217529B (zh) * 2019-07-09 2023-07-21 富泰华工业（深圳）有限公司 降低无线传输数字信号干扰的方法和装置
US11664833B2 (en) * 2019-07-23 2023-05-30 Skyworks Solutions, Inc. Power detectors with enhanced dynamic range
US10763899B1 (en) * 2019-09-26 2020-09-01 Apple Inc. Radio-frequency integrated circuit (RFIC) external front-end module
JP2021072570A (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 株式会社村田製作所 高周波モジュールおよび通信装置
JP2021072583A (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
JP2021082914A (ja) * 2019-11-18 2021-05-27 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
US11418225B2 (en) * 2019-12-03 2022-08-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. Radio frequency module and communication device
CN111092665B (zh) * 2019-12-17 2021-08-03 惠州Tcl移动通信有限公司 用于防止agps灵敏度劣化的方法以及电子设备
KR20210083036A (ko) * 2019-12-26 2021-07-06 삼성전자주식회사 안테나 모듈 및 이를 이용하는 전자 장치
US11973033B2 (en) 2020-01-03 2024-04-30 Skyworks Solutions, Inc. Flip-chip semiconductor-on-insulator transistor layout
US11595008B2 (en) 2020-01-09 2023-02-28 Skyworks Solutions, Inc. Low noise amplifiers with low noise figure
JP2021118380A (ja) 2020-01-22 2021-08-10 株式会社村田製作所 増幅回路
US20230092976A1 (en) * 2020-03-02 2023-03-23 Lg Electronics Inc. Wireless communication device for vehicle
KR20230020384A (ko) * 2020-03-05 2023-02-10 얀크 테크놀로지스, 인크. 자동차 시트 무선 충전 시스템
CN113496598A (zh) * 2020-03-18 2021-10-12 云南金隆伟业电子有限公司 一种具备无线电通信的道路交通信号灯转换控制装置
CN111371431B (zh) * 2020-03-20 2023-03-14 上海航天电子通讯设备研究所 三维封装的多层堆叠结构开关滤波器组
JP2021158556A (ja) * 2020-03-27 2021-10-07 株式会社村田製作所 高周波モジュールおよび通信装置
JP2021158554A (ja) * 2020-03-27 2021-10-07 株式会社村田製作所 高周波モジュールおよび通信装置
JP2021164017A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
JP2021164022A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
US11283479B2 (en) * 2020-06-18 2022-03-22 Analog Devices, Inc. Apparatus and methods for radio frequency signal limiting
CN111654306B (zh) * 2020-06-19 2021-12-07 展讯通信（上海）有限公司 射频前端电路及收发设备
KR20220000754A (ko) * 2020-06-26 2022-01-04 삼성전자주식회사 공통 모드 오프셋 및 크로스 토크를 제거하는 수신기
US11848646B2 (en) 2020-08-05 2023-12-19 Mediatek Inc. Amplifier circuit using voltage-to-current conversion and associated envelope tracking supply modulator using the same
US11539393B2 (en) 2020-08-07 2022-12-27 Apple Inc. Radio-frequency front end modules with leakage management engines
US11349187B1 (en) * 2020-08-25 2022-05-31 Waymo Llc Modular telematics control unit with directional Bluetooth low energy
US11476128B2 (en) 2020-08-25 2022-10-18 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor device package and method of manufacturing the same
CN114285683B (zh) 2020-09-18 2023-03-24 华为技术有限公司 一种批量配置家居设备的方法及设备
US11502391B2 (en) 2020-09-24 2022-11-15 Apple Inc. Electronic devices having differentially-loaded millimeter wave antennas
FR3116399A1 (fr) * 2020-11-13 2022-05-20 Stmicroelectronics Sa Ensemble radiofréquence à isolation améliorée
US11533069B2 (en) * 2020-11-18 2022-12-20 Huawei Technologies Co., Ltd. Systems for concurrent dual-band interferometric transceiver based on multiport architecture
US20220158676A1 (en) * 2020-11-19 2022-05-19 Thinkrf Corporation Rf downconverter-tuner
US11817829B2 (en) 2021-01-29 2023-11-14 Skyworks Solutions, Inc. Multi-mode broadband low noise amplifier
CN113037227B (zh) * 2021-03-12 2023-03-03 北京无线电测量研究所 一种p波段超宽带发射模块
CN112949094B (zh) * 2021-04-13 2022-05-10 北京航空航天大学 航空电子产品电磁性能裕量分析与确信可靠性评估方法
CN113078455B (zh) * 2021-04-13 2022-10-14 长沙新雷半导体科技有限公司 一种封装天线的制作方法、封装天线及电子设备
US11646501B2 (en) 2021-06-03 2023-05-09 Apple Inc. Electronic devices having antennas with hybrid substrates
US20220399875A1 (en) * 2021-06-09 2022-12-15 Qorvo Us, Inc. Dynamic band steering filter bank die having filter skirt management
US20220399908A1 (en) * 2021-06-09 2022-12-15 Qorvo Us, Inc. Dynamic band steering filter bank module
US11916541B2 (en) 2021-06-09 2024-02-27 Qorvo Us, Inc. Dynamic band steering filter bank module with passband allocations
US11381268B1 (en) * 2021-06-25 2022-07-05 Psemi Corporation Switchable clamps across attenuators
US11932396B1 (en) * 2021-08-09 2024-03-19 Bluehalo, Llc System and apparatus for a high-power microwave sensor using an unmanned aerial vehicle
CN113992234B (zh) * 2021-12-27 2022-03-25 智道网联科技(北京)有限公司 用于车辆v2x设备的电路、车辆v2x设备以及车辆
WO2023158842A1 (en) * 2022-02-18 2023-08-24 Georgia Tech Research Corporation Hybrid complementary bi-directional amplifier and device
CN114879808B (zh) * 2022-04-08 2024-01-23 北京智芯微电子科技有限公司 温度检测芯片及其ptat电路、温度传感器
TWI801221B (zh) * 2022-04-26 2023-05-01 宏碁股份有限公司 行動裝置
CN115037357B (zh) * 2022-06-08 2023-03-14 西安交通大学 一种瓦片式下变频器、相控阵天线系统及卫星通信系统
CN115378369B (zh) * 2022-10-24 2023-02-17 成都嘉纳海威科技有限责任公司 一种低噪声高线性度驱动放大电路
CN116526987B (zh) * 2023-06-29 2023-12-29 深圳飞骧科技股份有限公司 偏置电路、射频电路及射频芯片
CN116936562B (zh) * 2023-09-14 2023-12-05 成都爱旗科技有限公司 一种芯片封装结构、WiFi6芯片以及物联网设备

Family Cites Families (210)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL65108C (zh) 1939-07-25 1950-01-16
US4079336A (en) 1976-12-22 1978-03-14 National Semiconductor Corporation Stacked transistor output amplifier
US4122403A (en) 1977-06-13 1978-10-24 Motorola, Inc. Temperature stabilized common emitter amplifier
US4159450A (en) 1978-05-22 1979-06-26 Rca Corporation Complementary-FET driver circuitry for push-pull class B transistor amplifiers
US4859967A (en) 1988-11-09 1989-08-22 Harris Corporation RF power amplifier protection
US5251331A (en) 1992-03-13 1993-10-05 Motorola, Inc. High efficiency dual mode power amplifier apparatus
JPH06507775A (ja) 1992-03-13 1994-09-01 モトローラ・インコーポレイテッド 電力増幅器結合回路
US5500628A (en) 1995-01-24 1996-03-19 Motorola, Inc. Double-sided oscillator package and method of coupling components thereto
JP3127813B2 (ja) 1995-12-05 2001-01-29 ヤマハ株式会社 オーディオ用アンプの保護回路
JP2974622B2 (ja) 1996-09-20 1999-11-10 松下電器産業株式会社 発振器
US6064249A (en) 1997-06-20 2000-05-16 Texas Instruments Incorporated Lateral DMOS design for ESD protection
US6188277B1 (en) 1998-08-19 2001-02-13 Harris Corporation Power amplifier having monitoring and circuit protection
US6229249B1 (en) 1998-08-31 2001-05-08 Kyocera Corporation Surface-mount type crystal oscillator
CA2244507A1 (en) 1998-09-04 2000-03-04 Masahiro Kiyokawa Method and apparatus for cascading frequency doublers
US6984571B1 (en) 1999-10-01 2006-01-10 Ziptronix, Inc. Three dimensional device integration method and integrated device
SE522419C2 (sv) 1999-10-29 2004-02-10 Ericsson Telefon Ab L M Modulantenn
US6744213B2 (en) 1999-11-15 2004-06-01 Lam Research Corporation Antenna for producing uniform process rates
US6606483B1 (en) 2000-10-10 2003-08-12 Motorola, Inc. Dual open and closed loop linear transmitter
US6717463B2 (en) 2000-11-03 2004-04-06 Qualcomm Incorporated Circuit for linearizing electronic devices
CA2361298C (en) 2000-11-08 2004-10-12 Research In Motion Limited Impedance matching low noise amplifier having a bypass switch
ATE499725T1 (de) 2001-03-02 2011-03-15 Nxp Bv Modul und elektronische vorrichtung
JP2002280843A (ja) 2001-03-21 2002-09-27 Pioneer Electronic Corp 電力増幅装置
US6686649B1 (en) 2001-05-14 2004-02-03 Amkor Technology, Inc. Multi-chip semiconductor package with integral shield and antenna
US7176506B2 (en) * 2001-08-28 2007-02-13 Tessera, Inc. High frequency chip packages with connecting elements
JP3633541B2 (ja) * 2001-10-10 2005-03-30 ヤマハ株式会社 フィルタコイル、ローパスフィルタ及びｂｔｌ出力方式ｄ級アンプ
US6664864B2 (en) 2001-10-31 2003-12-16 Cts Corporation Cavity design printed circuit board for a temperature compensated crystal oscillator and a temperature compensated crystal oscillator employing the same
US6549077B1 (en) 2002-02-20 2003-04-15 United Microelectronics Corp. Integrated inductor for RF transistor
US6850196B2 (en) 2003-01-06 2005-02-01 Vtech Telecommunications, Limited Integrated inverted F antenna and shield can
CN1765048B (zh) 2003-03-28 2010-05-05 Nxp股份有限公司 晶体管放大器电路
JP2005005866A (ja) 2003-06-10 2005-01-06 Alps Electric Co Ltd アンテナ一体型モジュール
US7148851B2 (en) 2003-08-08 2006-12-12 Hitachi Metals, Ltd. Antenna device and communications apparatus comprising same
US7566001B2 (en) 2003-08-29 2009-07-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. IC card
US6873211B1 (en) * 2003-09-10 2005-03-29 Skyworks Solutions, Inc. Multi-mode bias circuit for power amplifiers
US7053718B2 (en) 2003-09-25 2006-05-30 Silicon Laboratories Inc. Stacked RF power amplifier
DE10345195A1 (de) 2003-09-29 2005-04-28 Infineon Technologies Ag Injection-Locked-Oscillator-Schaltkreis
JP3841304B2 (ja) 2004-02-17 2006-11-01 セイコーエプソン株式会社 圧電発振器、及びその製造方法
US7113043B1 (en) 2004-06-16 2006-09-26 Marvell International Ltd. Active bias circuit for low-noise amplifiers
EP3570374B1 (en) 2004-06-23 2022-04-20 pSemi Corporation Integrated rf front end
US7068104B2 (en) 2004-07-08 2006-06-27 Amalfi Semiconductor, Inc. Power amplifier utilizing high breakdown voltage circuit topology
EP1794880A1 (en) 2004-09-21 2007-06-13 Koninklijke Philips Electronics N.V. Peak voltage protection circuit and method
US7276976B2 (en) 2004-12-02 2007-10-02 Electronics And Telecommunications Research Institute Triple cascode power amplifier of inner parallel configuration with dynamic gate bias technique
US20060245308A1 (en) 2005-02-15 2006-11-02 William Macropoulos Three dimensional packaging optimized for high frequency circuitry
KR20050084978A (ko) 2005-05-06 2005-08-29 프레이투스, 에스.에이. 소형 안테나를 포함한 집적 회로 패키지
US20070010300A1 (en) 2005-07-08 2007-01-11 Hongxi Xue Wireless transceiving module with modularized configuration and method thereof
US7409192B2 (en) 2005-07-21 2008-08-05 Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) Method and apparatus for frequency synthesis in direct-conversion transmitters
ATE458303T1 (de) 2005-07-26 2010-03-15 Austriamicrosystems Ag Verstärkeranordnung und methode
CN1905357A (zh) 2005-07-27 2007-01-31 松下电器产业株式会社 射频放大装置
US7355375B2 (en) 2005-09-30 2008-04-08 Nxp B.V. Dynamic bias circuit for use with a stacked device arrangement
US7378780B2 (en) 2005-11-09 2008-05-27 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Surface mount type crystal oscillator
US7342308B2 (en) 2005-12-20 2008-03-11 Atmel Corporation Component stacking for integrated circuit electronic package
US7372408B2 (en) * 2006-01-13 2008-05-13 International Business Machines Corporation Apparatus and methods for packaging integrated circuit chips with antenna modules providing closed electromagnetic environment for integrated antennas
CN101401206B (zh) 2006-03-29 2011-04-13 京瓷株式会社 电路组件和无线通信设备、以及电路组件的制造方法
US7348854B1 (en) 2006-04-28 2008-03-25 Scientific Components Corporation Automatic biasing and protection circuit for field effect transistor (FET) devices
US7489201B2 (en) 2006-05-10 2009-02-10 Georgia Tech Research Corp. Millimeter-wave cascode amplifier gain boosting technique
JP2008054260A (ja) 2006-08-28 2008-03-06 Kenwood Corp 受信高周波回路
TWI330951B (en) 2006-10-04 2010-09-21 Via Tech Inc Electronic apparatus
US20090017910A1 (en) 2007-06-22 2009-01-15 Broadcom Corporation Position and motion tracking of an object
US7675465B2 (en) 2007-05-22 2010-03-09 Sibeam, Inc. Surface mountable integrated circuit packaging scheme
WO2008144897A1 (en) 2007-05-25 2008-12-04 Voinigescu Sorin P High frequency system on chip transceiver
EP2568419B1 (en) 2007-07-18 2015-02-25 Murata Manufacturing Co., Ltd. Apparatus comprising an RFID device
US20090027741A1 (en) 2007-07-27 2009-01-29 Kian Hong Quah Initializing an image scanner
JP2009094457A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Olympus Corp 積層実装構造体及び積層実装構造体の製造方法
US20090295645A1 (en) 2007-10-08 2009-12-03 Richard John Campero Broadband antenna with multiple associated patches and coplanar grounding for rfid applications
US20110273360A1 (en) 2007-10-08 2011-11-10 Sensormatic Electronics, LLC Combination radio frequency identification and electronic article surveillance antenna system
US8410990B2 (en) 2007-12-17 2013-04-02 Armen E. Kazanchian Antenna with integrated RF module
US9955582B2 (en) 2008-04-23 2018-04-24 Skyworks Solutions, Inc. 3-D stacking of active devices over passive devices
JP2011529062A (ja) 2008-07-23 2011-12-01 バーテックス ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド ピラゾロピリジンキナーゼ阻害剤
US8373264B2 (en) 2008-07-31 2013-02-12 Skyworks Solutions, Inc. Semiconductor package with integrated interference shielding and method of manufacture thereof
JP4713621B2 (ja) 2008-09-12 2011-06-29 株式会社エフ・イー・シー アンテナ搭載形の通信用ｉｃユニット
WO2010054099A1 (en) 2008-11-07 2010-05-14 Greenray Industries, Inc. Crystal oscillator with reduced acceleration sensitivity
US7952433B2 (en) 2008-11-25 2011-05-31 Samsung Electro-Mechanics Company Power amplifiers with discrete power control
KR101025408B1 (ko) 2008-12-02 2011-03-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 및 그의 제조 방법
US7911269B2 (en) 2009-01-19 2011-03-22 Qualcomm Incorporated Ultra low noise high linearity LNA for multi-mode transceiver
US8229370B2 (en) 2009-03-10 2012-07-24 Minebea Co., Ltd. Automated power control to optimize power consumption and improved wireless connection
US8031005B2 (en) 2009-03-23 2011-10-04 Qualcomm, Incorporated Amplifier supporting multiple gain modes
CN105140136B (zh) 2009-03-30 2018-02-13 高通股份有限公司 使用顶部后钝化技术和底部结构技术的集成电路芯片
US7786807B1 (en) 2009-04-23 2010-08-31 Broadcom Corporation Cascode CMOS RF power amplifier with programmable feedback cascode bias under multiple supply voltages
US8346179B2 (en) * 2009-05-13 2013-01-01 Marvell World Trade Ltd. Push-pull low-noise amplifier with area-efficient implementation
US9374100B2 (en) 2009-07-01 2016-06-21 Qualcomm Incorporated Low power LO distribution using a frequency-multiplying subharmonically injection-locked oscillator
US8310835B2 (en) 2009-07-14 2012-11-13 Apple Inc. Systems and methods for providing vias through a modular component
US8102213B2 (en) 2009-07-23 2012-01-24 Qualcomm, Incorporated Multi-mode low noise amplifier with transformer source degeneration
US8847689B2 (en) 2009-08-19 2014-09-30 Qualcomm Incorporated Stacked amplifier with diode-based biasing
US8072272B2 (en) 2009-08-19 2011-12-06 Qualcomm, Incorporated Digital tunable inter-stage matching circuit
US8169058B2 (en) 2009-08-21 2012-05-01 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of stacking die on leadframe electrically connected by conductive pillars
US8587398B2 (en) * 2009-09-30 2013-11-19 Silicon Laboratories Inc. Shielded differential inductor
WO2011057302A2 (en) 2009-11-09 2011-05-12 Rayspan Corporation Rf module and antenna systems
US8199518B1 (en) 2010-02-18 2012-06-12 Amkor Technology, Inc. Top feature package and method
US8515364B2 (en) 2010-03-08 2013-08-20 Intel Corporation Radio-frequency transmitter and amplifier
US8571492B2 (en) 2010-04-20 2013-10-29 Rf Micro Devices, Inc. DC-DC converter current sensing
CN102237342B (zh) 2010-05-05 2016-01-20 中兴通讯股份有限公司 一种无线通讯模块产品
US8626084B2 (en) * 2010-05-13 2014-01-07 Qualcomm, Incorporated Area efficient concurrent matching transceiver
US8164389B2 (en) 2010-05-26 2012-04-24 Triquint Semiconductor, Inc. Overdrive protection circuit
US8487705B2 (en) 2010-05-26 2013-07-16 Triquint Semiconductor, Inc. Protection circuit for radio frequency power amplifier
US8154345B2 (en) 2010-06-03 2012-04-10 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and method for current sensing using a wire bond
JP2011259083A (ja) 2010-06-07 2011-12-22 Renesas Electronics Corp Ｒｆ電力増幅装置およびその動作方法
US8472884B2 (en) 2010-09-09 2013-06-25 Texas Instruments Incorporated Terahertz phased array system
KR101101693B1 (ko) * 2010-09-14 2011-12-30 삼성전기주식회사 전력 증폭 회로
GB2483898B (en) 2010-09-24 2015-07-22 Cambridge Silicon Radio Ltd Injection-locked oscillator
US8930913B2 (en) 2010-09-28 2015-01-06 Microsoft Corporation Intermediate representation construction for static analysis
JP2012079468A (ja) 2010-09-30 2012-04-19 Alps Electric Co Ltd 電子回路ユニットおよびその取付構造
JP2012085215A (ja) 2010-10-14 2012-04-26 Panasonic Corp アンテナ装置、電子機器
JP5630648B2 (ja) * 2010-11-16 2014-11-26 ソニー株式会社 受信装置、受信方法、及び、電子機器
US9287880B2 (en) 2010-12-03 2016-03-15 Rambus Inc. Integrated circuit device having an injection-locked oscillator
US8610503B2 (en) 2010-12-17 2013-12-17 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for oscillation suppression
US8804397B2 (en) 2011-03-03 2014-08-12 Rambus Inc. Integrated circuit having a clock deskew circuit that includes an injection-locked oscillator
WO2012134393A1 (en) 2011-03-28 2012-10-04 Agency For Science, Technology And Research Method and apparatus for a duty-cycled harmonic injection locked oscillator
JP5632319B2 (ja) 2011-03-29 2014-11-26 京セラ株式会社 基地局
US8704603B2 (en) 2011-04-13 2014-04-22 Qualcomm Incorporated Low power wideband LO using tuned injection locked oscillator
US8686796B2 (en) 2011-04-19 2014-04-01 Qualcomm Incorporated RF power amplifiers with improved efficiency and output power
US8952516B2 (en) 2011-04-21 2015-02-10 Tessera, Inc. Multiple die stacking for two or more die
US9099956B2 (en) * 2011-04-26 2015-08-04 King Abdulaziz City For Science And Technology Injection locking based power amplifier
US9154145B2 (en) 2011-05-02 2015-10-06 Rambus Inc. Integrated circuit having a multiplying injection-locked oscillator
KR101862370B1 (ko) 2011-05-30 2018-05-29 삼성전자주식회사 반도체 소자, 반도체 패키지 및 전자 장치
KR101559993B1 (ko) 2011-06-09 2015-10-12 에이디씨 텔레커뮤니케이션스 인코포레이티드 집적된 무선 주파수 회로부를 갖는 안테나 모듈
US8576005B2 (en) 2011-07-05 2013-11-05 Mediatek Inc. Transceiver and integrated circuit
US8554162B2 (en) 2011-08-03 2013-10-08 St-Ericsson Sa High efficiency power amplifier
KR101909200B1 (ko) 2011-09-06 2018-10-17 삼성전자 주식회사 수동소자가 형성된 지지 부재를 포함하는 반도체 패키지
US8670797B2 (en) * 2011-10-04 2014-03-11 Qualcomm Incorporated Multi-antenna wireless device with power amplifiers having different characteristics
TWI433291B (zh) 2011-10-17 2014-04-01 矽品精密工業股份有限公司 封裝結構及其製法
JP2013153412A (ja) 2011-12-27 2013-08-08 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 表面実装型圧電発振器
US8803615B2 (en) 2012-01-23 2014-08-12 Qualcomm Incorporated Impedance matching circuit with tunable notch filters for power amplifier
US8773204B2 (en) * 2012-02-14 2014-07-08 Qualcomm Incorporated Amplifier with reduced source degeneration inductance
US8648454B2 (en) 2012-02-14 2014-02-11 International Business Machines Corporation Wafer-scale package structures with integrated antennas
JP5703245B2 (ja) 2012-02-28 2015-04-15 株式会社東芝 無線装置、それを備えた情報処理装置および記憶装置
CN104160337B (zh) 2012-03-07 2016-05-18 Asml荷兰有限公司 辐射源与光刻设备
US9024696B2 (en) 2013-03-15 2015-05-05 Innophase Inc. Digitally controlled injection locked oscillator
US9680232B2 (en) 2012-05-07 2017-06-13 Qualcomm Incorporated Graded-ground design in a millimeter-wave radio module
US9019010B2 (en) 2012-05-22 2015-04-28 Rf Micro Devices, Inc. Integrated stacked power amplifier and RF switch architecture
US8768270B2 (en) 2012-06-12 2014-07-01 Broadcom Corporation High linearity TX/RX switch
JP6075375B2 (ja) 2012-06-19 2017-02-08 株式会社大真空 表面実装型圧電発振器
US9281292B2 (en) 2012-06-25 2016-03-08 Intel Corporation Single layer low cost wafer level packaging for SFF SiP
US9761700B2 (en) * 2012-06-28 2017-09-12 Skyworks Solutions, Inc. Bipolar transistor on high-resistivity substrate
US9543941B2 (en) * 2012-07-07 2017-01-10 Skyworks Solutions, Inc. Radio-frequency switches having frequency-tuned body bias
US20140015614A1 (en) * 2012-07-10 2014-01-16 Infineon Technologies Ag System and Method for a Low Noise Amplifier
CN104885216B (zh) 2012-07-13 2017-04-12 天工方案公司 在射频屏蔽应用中的轨道设计
JP5975211B2 (ja) 2012-07-20 2016-08-23 株式会社村田製作所 通信端末
JP6058144B2 (ja) 2012-09-26 2017-01-11 オムニラーダー ベスローテン・ヴェンノーツハップＯｍｎｉｒａｄａｒ Ｂｖ 高周波モジュール
WO2014052796A1 (en) * 2012-09-28 2014-04-03 Skyworks Solutions, Inc. Systems and methods for providing intramodule radio frequency isolation
KR101994930B1 (ko) 2012-11-05 2019-07-01 삼성전자주식회사 일체형 단위 반도체 칩들을 갖는 반도체 패키지
TWI528736B (zh) * 2012-11-19 2016-04-01 國立中山大學 具三線纏繞線圈式分配器之注入鎖定射頻接收機
JP2014110369A (ja) 2012-12-04 2014-06-12 Seiko Epson Corp ベース基板、振動子、発振器、センサー、電子デバイス、電子機器、および移動体
US9084124B2 (en) 2012-12-21 2015-07-14 Apple Inc. Methods and apparatus for performing passive antenna testing with active antenna tuning device control
US9716477B2 (en) 2012-12-28 2017-07-25 Peregrine Semiconductor Corporation Bias control for stacked transistor configuration
US9287829B2 (en) 2012-12-28 2016-03-15 Peregrine Semiconductor Corporation Control systems and methods for power amplifiers operating in envelope tracking mode
WO2014109964A1 (en) 2013-01-08 2014-07-17 Rambus Inc. Integrated circuit comprising circuitry to determine settings for an injection-locked oscillator
WO2014110686A1 (en) 2013-01-15 2014-07-24 Micron Technology, Inc. Reclaimable semiconductor device package and associated systems and methods
JP5915778B2 (ja) 2013-01-22 2016-05-11 株式会社村田製作所 Ｌｃ複合部品
TWI518991B (zh) 2013-02-08 2016-01-21 Sj Antenna Design Integrated antenna and integrated circuit components of the shielding module
KR102048681B1 (ko) 2013-02-21 2019-11-27 삼성전자 주식회사 씰드된 수정 진동자 및 이를 포함한 반도체 패키지
JP6363989B2 (ja) 2013-03-05 2018-07-25 パナソニック株式会社 注入同期型発振器
US9037096B2 (en) 2013-03-06 2015-05-19 Microchip Technology Incorporated Reducing insertion loss in LNA bypass mode by using a single-pole-triple-throw switch in a RF front end module
US9129954B2 (en) 2013-03-07 2015-09-08 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package including antenna layer and manufacturing method thereof
US9106185B2 (en) 2013-03-11 2015-08-11 Qualcomm Incorporated Amplifiers with inductive degeneration and configurable gain and input matching
US9294056B2 (en) 2013-03-12 2016-03-22 Peregrine Semiconductor Corporation Scalable periphery tunable matching power amplifier
JP2014178731A (ja) 2013-03-13 2014-09-25 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法
US9035697B2 (en) 2013-03-15 2015-05-19 Qualcomm Incorporated Split amplifiers with improved linearity
US9788466B2 (en) 2013-04-16 2017-10-10 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods related to ground paths implemented with surface mount devices
US9350310B2 (en) 2013-05-24 2016-05-24 Qualcomm Incorporated Receiver front end for carrier aggregation
FR3006131B1 (fr) 2013-05-27 2015-06-26 Commissariat Energie Atomique Dispositif de generation de signaux stables en frequence a oscillateur verrouille par injection commutable
WO2015006505A1 (en) 2013-07-09 2015-01-15 Oleksandr Gorbachov Power amplifier with input power protection circuits
CN105409060B (zh) 2013-07-29 2018-09-04 株式会社村田制作所 天线一体型无线模块以及该模块的制造方法
US9154087B2 (en) 2013-08-01 2015-10-06 Qualcomm Incorporated Amplifiers with configurable mutually-coupled source degeneration inductors
US20150056940A1 (en) 2013-08-23 2015-02-26 Qualcomm Incorporated Harmonic trap for common gate amplifier
US9214902B2 (en) 2013-08-27 2015-12-15 Triquint Semiconductor, Inc. Bias-boosting bias circuit for radio frequency power amplifier
US9048127B2 (en) * 2013-09-25 2015-06-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Three dimensional circuit including shielded inductor and method of forming same
US9178498B2 (en) 2013-10-03 2015-11-03 Futurwei Technologies, Inc. Reconfigurable multi-path injection locked oscillator
KR20150040472A (ko) 2013-10-07 2015-04-15 한국전자통신연구원 주입동기식 발진기를 이용한 rfid 리더의 송신 누설 신호 상쇄 장치 및 방법
US9467101B2 (en) 2013-11-07 2016-10-11 Skyworks Solutions, Inc. Systems, circuits and methods related to multi-mode power amplifiers having improved linearity
US9935585B2 (en) 2013-12-02 2018-04-03 Qorvo Us, Inc. RF amplifier operational in different power modes
TWI546928B (zh) 2014-03-17 2016-08-21 矽品精密工業股份有限公司 電子封裝件及其製法
US9432178B2 (en) 2014-03-24 2016-08-30 Mediatek Inc. Clock and data recovery circuit using an injection locked oscillator
US9419560B2 (en) * 2014-05-23 2016-08-16 Qualcomm Incorporated Low power multi-stacked power amplifier
TWI553817B (zh) 2014-06-17 2016-10-11 瑞昱半導體股份有限公司 具有電磁防護功能之積體電路及其製造方法
US9225303B1 (en) 2014-07-11 2015-12-29 Nuvoton Technology Corporation Method and apparatus for Class AB audio amplifier output stage voltage protection
US9595926B2 (en) 2014-07-29 2017-03-14 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for overdrive protection of radio frequency amplifiers
US9786613B2 (en) * 2014-08-07 2017-10-10 Qualcomm Incorporated EMI shield for high frequency layer transferred devices
US9991856B2 (en) 2014-09-25 2018-06-05 Skyworks Solutions, Inc. Variable load power amplifier supporting dual-mode envelope tracking and average power tracking performance
WO2016054614A1 (en) * 2014-10-03 2016-04-07 Zaretsky, Howard 60 ghz frequency generator incorporating third harmonic boost and extraction
US9853614B2 (en) * 2014-12-04 2017-12-26 Qualcomm Incorporated Amplifier with triple-coupled inductors
US10756445B2 (en) 2014-12-12 2020-08-25 The Boeing Company Switchable transmit and receive phased array antenna with high power and compact size
US9998128B2 (en) 2015-04-08 2018-06-12 Infineon Technologies Ag Frequency synthesizer with injection locked oscillator
FI127701B (en) 2015-05-25 2018-12-31 Maekelae Raimo Radio frequency module and circuit board
US20160365994A1 (en) 2015-06-10 2016-12-15 Richtek Technology Corporation Frequency-modulated carrier receiver using injection-locked oscillator
JP5898360B1 (ja) 2015-07-01 2016-04-06 東芝テック株式会社 チェックアウトシステム、決済装置、入力処理装置および制御プログラム
US9660609B2 (en) 2015-07-07 2017-05-23 Skyworks Solutions, Inc. Devices and methods related to stacked duplexers
US9755574B2 (en) 2015-08-06 2017-09-05 Sony Corporation Injection-locked oscillator and method for controlling jitter and/or phase noise
US9871007B2 (en) 2015-09-25 2018-01-16 Intel Corporation Packaged integrated circuit device with cantilever structure
JP2017103643A (ja) * 2015-12-02 2017-06-08 株式会社村田製作所 電力増幅回路
US9691710B1 (en) 2015-12-04 2017-06-27 Cyntec Co., Ltd Semiconductor package with antenna
US10770452B2 (en) 2015-12-30 2020-09-08 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for electrical overstress protection
US9825597B2 (en) 2015-12-30 2017-11-21 Skyworks Solutions, Inc. Impedance transformation circuit for amplifier
US10256863B2 (en) 2016-01-11 2019-04-09 Qualcomm Incorporated Monolithic integration of antenna switch and diplexer
CN105515542B (zh) * 2016-01-26 2019-01-25 广东工业大学 一种堆叠结构的射频功率放大器
US10084416B2 (en) 2016-03-25 2018-09-25 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for overload protection of low noise amplifiers
US20170280392A1 (en) 2016-03-28 2017-09-28 Intel Corporation Fine timing measurement signaling
US9842818B2 (en) 2016-03-28 2017-12-12 Intel Corporation Variable ball height on ball grid array packages by solder paste transfer
US10698079B2 (en) 2016-04-01 2020-06-30 Intel IP Corporation Method and apparatus for proximity radar in phased array communications
WO2017173119A1 (en) 2016-04-01 2017-10-05 Skyworks Solutions, Inc. Multi-mode stacked amplifier
US10062670B2 (en) 2016-04-18 2018-08-28 Skyworks Solutions, Inc. Radio frequency system-in-package with stacked clocking crystal
US10297576B2 (en) 2016-04-18 2019-05-21 Skyworks Solutions, Inc. Reduced form factor radio frequency system-in-package
US20170302325A1 (en) 2016-04-18 2017-10-19 Skyworks Solutions, Inc. Radio frequency system-in-package including a stacked system-on-chip
US10269769B2 (en) 2016-04-18 2019-04-23 Skyworks Solutions, Inc. System in package with vertically arranged radio frequency componentry
US9918386B2 (en) 2016-04-18 2018-03-13 Skyworks Solutions, Inc. Surface mount device stacking for reduced form factor
US10256535B2 (en) 2016-04-19 2019-04-09 Skyworks Solutions, Inc. Selectively shielding radio frequency module with multi-layer antenna
US10297913B2 (en) 2016-05-04 2019-05-21 Skyworks Solutions, Inc. Shielded radio frequency component with integrated antenna
US10171053B2 (en) 2016-05-05 2019-01-01 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for power amplifiers with an injection-locked oscillator driver stage
US10110468B2 (en) 2016-06-01 2018-10-23 Huawei Technologies Co., Ltd. System and method for semi-static traffic engineering
US10211795B2 (en) 2016-07-21 2019-02-19 Skyworks Solutions, Inc. Impedance transformation circuit and overload protection for low noise amplifier
US10454432B2 (en) 2016-12-29 2019-10-22 Skyworks Solutions, Inc. Radio frequency amplifiers with an injection-locked oscillator driver stage and a stacked output stage
TW202329611A (zh) * 2016-12-29 2023-07-16 美商天工方案公司 前端系統及相關裝置、積體電路、模組及方法

Also Published As

Publication number Publication date
US11576248B2 (en) 2023-02-07
US10276521B2 (en) 2019-04-30
US20200357756A1 (en) 2020-11-12
TW202205806A (zh) 2022-02-01
US11864295B2 (en) 2024-01-02
TW201838322A (zh) 2018-10-16
TWI692935B (zh) 2020-05-01
US10629553B2 (en) 2020-04-21
TWI744822B (zh) 2021-11-01
TW202118220A (zh) 2021-05-01
US20210217713A1 (en) 2021-07-15
TWI800014B (zh) 2023-04-21
HK1253220A1 (zh) 2019-06-14
CN108270464B (zh) 2021-04-16
CN108270464A (zh) 2018-07-10
US20210217714A1 (en) 2021-07-15
US20190214354A1 (en) 2019-07-11
KR102100020B1 (ko) 2020-04-10
US20180226367A1 (en) 2018-08-09
US20240098864A1 (en) 2024-03-21
US11037893B2 (en) 2021-06-15
KR20180078169A (ko) 2018-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11037893B2 (en) Selectively shielded radio frequency module with linearized low noise amplifier
US11043466B2 (en) Radio frequency modules
US10454432B2 (en) Radio frequency amplifiers with an injection-locked oscillator driver stage and a stacked output stage
US10903806B2 (en) Radio frequency circuitr having an integrated harmonic filter and a radio frequency circuit having transistors of different threshold voltages
US9866178B2 (en) Radio frequency circuitr having an integrated harmonic filter and a radio frequency circuit having transistors of different threshold voltages
KR101584042B1 (ko) 관련된 시스템, 장치, 및 방법을 포함하는 전력 증폭기 모듈
US11804435B2 (en) Semiconductor-on-insulator transistor layout for radio frequency power amplifiers
US11165395B2 (en) Apparatus and methods for overload protection of radio frequency amplifiers
US11817832B2 (en) Power amplifier output matching