JP2014178731A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】アンテナコイル一体型RFIDパッケージを含む複数の電子部品を配線基板に実装する工程を短縮する。
【解決手段】アンテナコイル一体型RFIDパッケージ10の樹脂封止体12の一面に露出するアンテナコイル13の一部に、アンテナコイル13よりも線幅の広い実装部13aを一体形成し、この実装部13aを介してRFIDパッケージ10を配線基板に半田実装することにより、RFIDパッケージ10と他の電子部品とを配線基板に一括して半田実装することが可能となる。
【選択図】図3

Description

本発明は、半導体装置の製造方法に関し、特に、RFIDパッケージを有する半導体装置の製造に適用して有効な技術に関する。
RFIDとは、半導体チップとアンテナコイルとで構成されるインレットを何らかの外装に組み込んでなるタグ(RFIDタグ)を物品に取り付け、このRFIDタグと外部のリーダライタ(データの読み書きを行う装置)との間でデータ通信を行うことにより、当該物品の自動認識を行う技術である。RFIDタグの半導体チップには、上記アンテナコイルと共に共振回路を構成する電源用コンデンサ、識別番号等のデータを格納するメモリ回路、整流回路、制御回路、クロック等のIC回路が内蔵されている。
RFIDタグは、識別番号等のデータを半導体チップ内のメモリ回路に格納することから、バーコードを利用したタグに比べて大容量のデータを格納できる利点がある。また、半導体チップ内のメモリ回路に記憶させたデータは、バーコードに記憶させたデータに比べて不正な改竄が困難であるという利点もある。
RFIDタグについては、例えば特許文献1、2などに記載がある。
特開2010−021840号公報 特表2006−521632号公報
本発明者らは、IC回路が内蔵された半導体チップを樹脂封止体で封止すると共に、樹脂封止体の一面にアンテナコイルを形成したアンテナコイル一体型RFIDパッケージの実装技術について検討した。
すなわち、アンテナコイル一体型RFIDパッケージを配線基板に実装する方式として、樹脂封止体のアンテナコイル形成面と反対側の面を配線基板に対向させ、接着剤を介してRFIDパッケージを配線基板に実装することが考えられる。
しかしながら、この実装方式を採用する場合は、同一配線基板上にRFIDパッケージと半田実装用の他の電子部品とを混載する場合、工程が増加してしまうという課題が生じる。
上記した課題ならびにその他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本願において開示される課題を解決するための手段のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本願の一実施の形態における半導体装置の製造方法は、アンテナコイル一体型RFIDパッケージの一面に露出するアンテナコイルの一部に、アンテナコイルよりも線幅の広い半田実装部を一体形成し、この半田実装部を介してRFIDパッケージを配線基板に半田実装するものである。
前記一実施の形態によれば、RFIDパッケージと他の半田実装用電子部品とを一括して配線基板に実装することが可能となる。
実施の形態1で用いるRFIDパッケージの斜視図である。 実施の形態1で用いるRFIDパッケージの概略断面図である。 実施の形態1で用いるRFIDパッケージを裏面側から見た透過斜視図である。 RFIDパッケージの製造に用いる半導体ウエハの平面図である。 (a)は、RFIDパッケージの製造に用いる母型の平面図、(b)は、(a)に示す母型の一部を示す概略断面図である。 (a)は、実施の形態1のRFIDパッケージの製造方法を説明する平面図、(b)は、実施の形態1のRFIDパッケージの製造方法を説明する要部断面図である。 (a)は、図6(a)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する平面図、(b)は、図6(b)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する要部断面図である。 (a)は、図7(a)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する平面図、(b)は、図7(b)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する要部断面図である。 (a)は、図8(a)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する平面図、(b)は、図8(b)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する要部断面図である。 (a)は、図9(a)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する平面図、(b)は、図9(b)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する要部断面図である。 (a)は、図10(a)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する平面図、(b)は、図10(b)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する要部断面図である。 図11(b)に続くRFIDパッケージの製造方法を説明する要部断面図である。 実施の形態1の半導体装置の製造に用いる配線基板の平面図である。 図13のA−A線断面図である。 実施の形態1の半導体装置の製造方法を説明する断面図である。 図15に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。 実施の形態1の半導体装置の平面図である。 (a)〜(f)は、アンテナコイルと一体形成される実装部の別例を説明する平面図である。 アンテナコイルの別例を説明する平面図である。 実施の形態2の半導体装置を示す平面図である。 実施の形態3の半導体装置を示す平面図である。 (a)、(b)は、実施の形態4の半導体装置を示す平面図である。
以下、実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、実施の形態では、特に必要なときを除き、同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。さらに、実施の形態を説明する図面においては、構成を分かり易くするために、平面図であってもハッチングを付したり、断面図であってもハッチングを省略したりする場合がある。
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1で用いるRFIDパッケージの斜視図である。図2は、実施の形態1で用いるRFIDパッケージの概略断面図(ボンディングワイヤの延在方向に沿った概略断面図)である。図3は、実施の形態1で用いるRFIDパッケージを裏面側から見た透過斜視図である。
RFIDパッケージ10は、例えば952MHz〜954MHzのUHF(極超短波)を使用してデータを非接触で読み書きするUHF帯RFIDである。このRFIDパッケージ10は、半導体チップ11と、アンテナコイル13と、半導体チップ11およびアンテナコイル13を封止する樹脂封止体12とを備えたアンテナ一体型パッケージ構造を有しており、その外形寸法は、縦×横×高さが例えば2mm×2mm×0.3mmと極めて小型であることが特徴である。
樹脂封止体12に内蔵された半導体チップ11は、例えば縦×横×厚さが0.4mm×0.4mm×75μmの外形寸法を有する単結晶シリコン基板からなる。図示は省略するが、この半導体チップ11には、電源用コンデンサ、整流回路、制御レジスタ、クロック回路、RFIDパッケージ10を取り付ける物品に関する各種データを書き込むROM回路などのIC回路が形成されている。
また、半導体チップ11の主面には、4個のボンディングパッド(電極パッド)14、15が形成されている。これらのボンディングパッド14、15のうち、2個のボンディングパッド14は、上記IC回路に電気的に接続されている。すなわち、2個のボンディングパッド14は、半導体チップ11の外部端子であり、その一方は電源端子を構成し、他方はGND端子を構成している。また、残り2個のボンディングパッド15は、上記IC回路に電気的に接続されていないNC(ノンコネクト)端子である。半導体チップ11は、銀(Ag)ペーストなどからなる接着剤16を介してダイパッド部17に搭載されている。
アンテナコイル13は、半導体チップ11が搭載されたダイパッド部17の周囲を周回する渦巻き状の平面パターンを有しており、その線幅/スペースは、例えば100μm/100μmである。UHF帯RFIDパッケージは、リーダライタから送信される952MHz〜954MHzの電磁波を使用してデータの読み書きを行うので、アンテナコイル13の一端部から他端部までの長さは、設計段階でのシミュレーションに基づき、952MHz〜954MHzの電磁波によって共振するように設定されている。
アンテナコイル13の両端部は、ボンディングエリアを構成しており、半導体チップ11の主面に形成された2個のボンディングパッド14の一方とアンテナコイル13の一端部、およびボンディングパッド14の他方とアンテナコイル13の他端部は、金(Au)からなるワイヤ(導電体)18によってそれぞれ電気的に接続されている。
また、渦巻き状の平面パターンを有するアンテナコイル13の最外周部には、RFIDパッケージ10を配線基板に半田実装するための実装部(半田実装部)13aが形成されている。実装部13aは、アンテナコイル13の一部によって構成されており、その線幅は、半田接続強度を確保するために、アンテナコイル13の他の部分の線幅に比べて2倍程度広くなっている。すなわち、実装部13aは、アンテナコイル13の一部の幅を他の部分の線幅よりも広くすることにより、アンテナコイル13と一体に形成されている。
上記半導体チップ11が搭載されたダイパッド部17、アンテナコイル13、およびアンテナコイル13と一体に形成された実装部13aは、それらの一面が樹脂封止体12によって被覆され、もう一方の面が樹脂封止体12の一面(実装面)に露出している。ダイパッド部17、アンテナコイル13および実装部13aは、後述する電鋳法によって形成された厚さ55μm程度の電着層からなる。
次に、上記のように構成されたRFIDパッケージ10の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
図4に示す半導体ウエハ20は、前工程(ウエハプロセス)およびそれに続くダイシング工程が完了した後のものであり、複数の半導体チップ11に分割された状態になっている。
前工程は、フォトリソグラフィー技術、CVD技術、スパッタリング技術、エッチング技術などを組み合わせて、半導体ウエハ20の複数のチップ領域(ダイシング後に半導体チップ11となる領域)のそれぞれに前述したIC回路およびボンディングパッド14、15を形成する複数の工程と、IC回路を構成する素子の良否や素子間を接続する配線の導通・非導通を判別する電気特性検査工程などを含んでいる。
また、ダイシング工程は、電気特性検査工程が完了した半導体ウエハ20の裏面を研削してその厚さを75μm程度まで薄くする工程と、研削後の半導体ウエハ20の裏面にダイシングテープ21を貼り付け、この状態で半導体ウエハ20を切断して複数の半導体チップ11に分割・個片化する工程とを含んでいる。ダイシングテープ21は、例えば基材フィルムの表面に紫外線硬化型樹脂組成物からなる粘着剤層を形成したものである。
このようにして半導体ウエハ20から個片化された複数の半導体チップ11は、ダイシングテープ21に保持された状態でRFIDパッケージ10の製造工程に搬送される。
図5(a)は、RFIDパッケージ10の製造に用いる母型の平面図である。図5(b)は、図5(a)に示す母型の一部(RFIDパッケージ10の約1個分に相当する領域)を示す概略断面図である。
母型22は、例えばSUS304のような耐腐食性の高い導電性基材からなる薄板で構成されており、その厚さは、例えば150μmである。この母型22は、図5の二点鎖線で示すダイシングラインDLによって複数の領域に区画されている。これらの領域のそれぞれは、1個のRFIDパッケージ10となる領域である。例えば図5に示す母型22は、ダイシングラインDLによって4つの領域に区画されているので、この母型22から4個のRFIDパッケージ10を取得することができる。なお、実際の母型22は、数百個の領域に区画されているが、ここでは図面を見易くするために、図5に示すような、4つの領域に区画された母型を使って説明する。
RFIDパッケージ10を製造するには、まず、図6に示すように、母型22の表面にフォトレジスト膜を塗布した後、フォトマスクを使った露光、および現像を行うことにより、図1〜図3に示したダイパッド部17、アンテナコイル13および実装部13aに対応する開口パターンを有するフォトレジスト膜23を形成する。
次に、上記母型22を電鋳浴(図示せず)に浸漬する。これにより、図7に示すように、フォトレジスト膜23の開口パターンから露出した母型22の表面に、ダイパッド部17、アンテナコイル13および実装部13aとなる電着層24を形成する。
上記電着層24は、例えば母型22に近い側から金(Au)層、ニッケル(Ni)層、銀(Ag)層をこの順に積層した3層構造を有しており、その厚さは、55μm程度である。このような電着層24を形成するには、例えば図6に示す母型22をシアン化金系電鋳浴に浸漬して母型22の表面に金層を形成し、次に、この母型22をスルファミン酸ニッケル系電鋳浴に浸漬して金層の表面にニッケル層を形成し、次に、この母型22をシアン化銀系電鋳浴に浸漬してニッケル層の表面に銀層を形成する。
次に、母型22の表面のフォトレジスト膜23を除去する。これにより、図8に示すように、母型22の表面に上記電着層24からなるダイパッド部17、アンテナコイル13および実装部13aが形成される。
次に、ダイシングテープ21に保持された半導体チップ11(図4参照)をピックアップし、図9に示すように、接着剤16を介してダイパッド部17の上面に搭載する。半導体チップ11をダイシングテープ21から剥離する際は、あらかじめダイシングテープ21の粘着剤層に紫外線を照射し、その粘着力を低下させておく。その後、接着剤16を加熱または紫外線の照射で硬化させることにより、半導体チップ11がダイパッド部17の上面に固定される。
次に、図10に示すように、例えば熱と超音波振動を併用したボールボンディング法を用い、半導体チップ11のボンディングパッド14の一方とアンテナコイル13の一端部、およびボンディングパッド14の他方とアンテナコイル13の他端部をワイヤ18によってそれぞれ電気的に接続する。
次に、図11に示すように、母型22をモールド金型(図示せず)に装着し、半導体チップ11、ワイヤ18、アンテナコイル13および実装部13aを樹脂封止体12で封止する。樹脂封止体12は、例えばシリコンフィラーを充填した熱硬化性エポキシ樹脂からなる。
次に、図12に示すように、不要となった母型22を樹脂封止体12から剥離する。このとき、樹脂封止体12に密着したダイパッド部17、アンテナコイル13および実装部13aが母型22の表面から剥離され、樹脂封止体12側に転写されるので、樹脂封止体12の一面(実装面)にダイパッド部17、アンテナコイル13および実装部13aのそれぞれの一面が露出する。
その後、樹脂封止体12を切断・個片化することにより、図1〜図3に示したRFIDパッケージ10が完成する。樹脂封止体12の切断箇所は、図5に示した母型22のダイシングラインDLに対応する箇所である。
次に、上記RFIDパッケージ10を用いた半導体装置の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
図13は、RFIDパッケージ10が実装される配線基板の平面図である。図14は、図13のA−A線断面図である。
配線基板30は、例えば4層のCu(銅)配線を備えた多層配線基板である。また、各層のCu配線を電気的に絶縁する絶縁層は、ガラス繊維または炭素繊維に樹脂を含浸させた絶縁材料からなるプリプレグおよびコア層によって構成されている。
配線基板30の上面(実装面)には、RFIDパッケージ10の実装部13aに電気的に接続される複数のランド(電極パッド)31が形成されている。また、配線基板30の上面の他の領域には、例えば半導体パッケージの一種であるQFPに電気的に接続される複数のランド32、および受動電子部品の一種であるチップコンデンサに電気的に接続される複数のランド33が形成されている。これらのランド31、32、33は、配線基板30の一層目のCu配線を構成しており、その表面には、例えばNi層とその上部に形成されたAu層とからなるメッキ層が形成されている。
半導体装置を製造するには、まず、図15に示すように、配線基板30の上面に形成されたランド31、32、33の表面にクリーム半田42を一括供給する。クリーム半田42の供給は、例えばメタルマスクおよびスキージを用いた印刷法により行う。クリーム半田42は、例えばSn(錫)に微量のAg(銀)、Cu(銅)などを添加したSn合金からなる半田粒およびフラックスなどによって構成されている。
次に、図16に示すように、配線基板30の上面にRFIDパッケージ10、QFP50およびチップコンデンサ52を搭載する。すなわち、RFIDパッケージ10の実装部13aを配線基板30のランド31上に位置決めし、QFP50のリード(電極)51をランド32上に位置決めし、チップコンデンサ52の電極53をランド33上に位置決めする。
次に、上記RFIDパッケージ10、QFP50およびチップコンデンサ52が搭載された配線基板30をリフロー炉(図示せず)内で加熱し、例えば220〜230℃でクリーム半田42を溶融させることにより、RFIDパッケージ10、QFP50およびチップコンデンサ52を配線基板30の上面に一括して半田付けする。
その後、半田付け状態の良否、搭載部品(RFIDパッケージ10、QFP50およびチップコンデンサ52)の位置、外観の良否などを判定する検査工程を経て本実施の形態1の半導体装置が完成する(図17)。
このように、RFIDパッケージ10の一面(実装面)に実装部13aを設けることにより、RFIDパッケージ10を配線基板30に半田実装することが可能となる。すなわち、半田実装方式を採用する他の電子部品(ここでは、QFP50およびチップコンデンサ52)とRFIDパッケージ10を同一工程で配線基板30に一括搭載することが可能となる。これにより、接着剤などを用いてRFIDパッケージ10を配線基板30に実装する場合に比べて、半導体装置の製造工程を短縮することができる。
また、アンテナコイル13と実装部13aとを一体に形成することにより、アンテナコイル13と別個に独立した実装部13aを設ける場合に比べて、RFIDパッケージ10のサイズを小型化することができる。
さらに、実装部13aの幅をアンテナコイル13の幅よりも広くすることにより、実装部13aと半田との接触面積が増加するので、アンテナコイル13の線幅が微細であっても、必要な半田接続強度を確保することができる。従って、RFIDパッケージ10の接続信頼性、すなわち半導体装置の製造歩留まりの向上を図ることができる。
RFIDパッケージ10の実装面における実装部13aの位置、形状、数などは、図1〜図3に示した例に限定されるものではなく、例えば図18に示すような種々の変更が可能である。
図18(a)は、本実施の形態1と同じく、対向する2つの辺に実装部13aを設けた例である。図18(b)は、4つの辺の全周に亘って実装部13aを設けた例である。図18(c)および図18(d)は、対向する2つの辺のそれぞれに複数の実装部13aを設けた例である。図18(e)は、4つの辺のそれぞれに複数の実装部13aを設けた例である。図18(f)は、4つのコーナー部に実装部13aを設けた例である。
また、本実施の形態1では、渦巻き状のアンテナコイル13の最外周部に実装部13aを設けているが、最外周部よりも内側に実装部13aを設けてもよい。但し、アンテナコイル13の最外周部に実装部13aを設けた場合は、RFIDパッケージ10を配線基板30に半田実装した後の検査工程において、半田付け状態の良否の検査が容易になる。
また、アンテナコイル13の平面形状は、渦巻き状に限定されるものではなく、例えば図19に示すようなつづら折りパターンなど、種々のパターンを採用することができる。なお、図19に示す例では、ダイパッド部を省略し、ダイアタッチフィルムなどを介してアンテナコイル13の上に半導体チップ11を搭載している。
(実施の形態2)
図20に示すの半導体装置は、パーソナルコンピュータやワークステーションの筐体に収納されるマザーボード60である。
マザーボード60の主面には、半田実装方式を採用するCPU61、RFIDパッケージ10などの電子部品と共に、メモリスロット62、PCIスロット63、各種外部機器(LAN、HDMI、USB3.0、ディスプレイポートなど)の端子が接続されるコネクタ64が半田付けされている。
本実施の形態2によれば、CPU61、メモリスロット62、PCIスロット63、コネクタ64などの半田実装部品とRFIDパッケージ10を同一工程でマザーボード60に一括搭載することができるので、半導体装置の製造工程を短縮することができる。
通常、マザーボードにRFIDパッケージを実装する場合は、マザーボードに形成された配線による電波の送受信阻害を防ぐために、パッケージ(樹脂封止体)のアンテナコイル形成面を上向きにして実装し、アンテナコイルを配線からできるだけ遠ざける実装方式が採用される。
しかし、このようにすると、外部からアンテナコイルが容易に視認できてしまうため、第三者によるマザーボードの偽造を防止する目的でRFIDチップを取り付けた場合には、その秘匿性が低下し、偽造が容易となってしまう。
これに対し、本実施の形態2では、RFIDパッケージ10のアンテナコイル形成面を下向きにし、他の半田実装部品と同じ方法でマザーボード60に実装しているので、RFIDチップの秘匿性が高い。従って、万一マザーボード60が偽造された場合でも、偽造を容易に見破ることができる。
(実施の形態3)
図21に示す本実施の形態3の半導体装置は、パーソナルコンピュータやワークステーションのメモリスロットに挿入されるメモリカード70である。
メモリカード70の主面には、DRAMなどのメモリチップが封止されたメモリパッケージ71と共に、RFIDパッケージ10が半田実装されている。本実施の形態3によれば、半田実装方式を採用する電子部品(メモリパッケージ71およびRFIDパッケージ10)を同一工程でメモリカード70に一括搭載することができるので、半導体装置の製造工程を短縮することができる。
また、本実施の形態3によれば、万一メモリカード70が偽造された場合でも、前記実施の形態2と同様の理由により、偽造を容易に見破ることができる。
(実施の形態4)
図22に示す本実施の形態4の半導体装置は、CPUボード80である。図22(a)に示すように、CPUボード80の主面には、CPUチップが封止されたCPUパッケージ81やチップコンデンサなどの受動電子部品82と共に、RFIDパッケージ10が半田実装されている。RFIDパッケージ10は、図22(b)に示すように、CPUボード80の裏面に半田実装してもよい。
本実施の形態4によれば、半田実装方式を採用する電子部品(CPUパッケージ81、受動電子部品82およびRFIDパッケージ10)を同一工程でCPUボード80に一括搭載することができるので、半導体装置の製造工程を短縮することができる。
また、本実施の形態4によれば、万一CPUボード80が偽造された場合でも、前記実施の形態2と同様の理由により、偽造を容易に見破ることができる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
前記実施の形態1では、電鋳法で製造したアンテナコイルを有するRFIDパッケージを例示したが、リードフレーム型のアンテナコイルを有するRFIDパッケージを用いた半導体装置の製造に適用することもできる。
10 RFIDパッケージ
11 半導体チップ
12 樹脂封止体
13 アンテナコイル
13a 実装部(半田実装部)
14、15 ボンディングパッド
16 接着剤
17 ダイパッド部
18 ワイヤ(導電体)
20 半導体ウエハ
21 ダイシングテープ
22 母型
23 フォトレジスト膜
24 電着層
30 配線基板
31、32、33 ランド(電極パッド)
50 QFP
51 リード(電極)
52 チップコンデンサ
53 電極
60 マザーボード
61 CPU
62 メモリスロット
63 PCIスロット
64 コネクタ
70 メモリカード
71 メモリパッケージ
80 CPUボード
81 CPUパッケージ
82 受動電子部品

Claims (6)

  1. 以下の工程を含む、半導体装置の製造方法:
    (a)半田実装用の第1電極を有する第1電子部品を準備する工程;
    (b)アンテナコイルと、
    前記アンテナコイルと一体に形成され、前記アンテナコイルよりも広い線幅を有する半田実装部と、
    少なくとも第1および第2電極パッドを有する半導体チップと、
    前記半導体チップの前記第1電極パッドと前記アンテナコイルとを電気的に接続する第1導電体、および前記半導体チップの前記第2電極パッドと前記アンテナコイルとを電気的に接続する第2導電体と、
    前記アンテナコイル、前記半田実装部、前記半導体チップ、前記第1および第2導電体を封止する封止体と、
    を有するRFIDパッケージを準備する工程;
    (c)前記第1電子部品の前記第1電極に電気的に接続される第1電極パッドと、
    前記RFIDパッケージの前記半田実装部に接続される第2電極パッドと、
    を有する配線基板を準備する工程;
    (d)前記配線基板の前記第1および第2電極パッドのそれぞれの表面に半田を供給する工程;
    (e)前記(d)工程の後、前記配線基板の前記第1電極パッド上に前記第1電子部品の前記第1電極を位置決めし、前記配線基板の前記第2電極パッド上に前記RFIDパッケージの前記半田実装部を位置決めする工程;
    (f)前記(e)工程の後、前記配線基板の前記第1および第2電極パッドのそれぞれの表面に供給された前記半田をリフローすることにより、前記第1電子部品および前記RFIDパッケージを前記配線基板に実装する工程。
  2. 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
    前記アンテナコイルおよび前記半田実装部は、電鋳法によって製造されたものである、半導体装置の製造方法。
  3. 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
    前記アンテナコイルの平面形状は、渦巻き状である、半導体装置の製造方法。
  4. 請求項3記載の半導体装置の製造方法において、
    前記半田実装部は、前記アンテナコイルの最外周部に設けられる、半導体装置の製造方法。
  5. 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
    前記アンテナコイルおよび前記半田実装部は、前記封止体の一面に露出している、半導体装置の製造方法。
  6. 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
    前記半導体チップは、前記アンテナコイルおよび前記半田実装部と同一の導電部材からなるダイパッド部上に搭載される、半導体装置の製造方法。
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