TW201331610A - 光學構件套組以及使用其的固體攝影元件 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種光學構件套組以及使用其的固體攝影元件，上述光學構件套組已將採用具有厚度的第1光學構件作為第2光學構件的包覆材料時的製造品質及製品品質優化。一種光學構件套組，其為包括第1光學構件及第2光學構件而成，第1光學構件為使硬化性樹脂的組成物硬化而成，第2光學構件被第1光學構件所包覆，且上述第2光學構件的與第1光學構件接觸的表面上的水的接觸角為70°~97°，上述第1光學構件的與第2光學構件接觸之側的相反側的表面上的水的接觸角為80°~115°。

Description

光學構件套組以及使用其的固體攝影元件

本發明是有關於一種光學構件套組以及使用其的固體攝影元件。

最近，光學裝置的種類有許多種，大多數具有於光學機構的表面形成有抗反射性的低折射率膜的構造。作為光學機構，並不限於表面形狀平坦的光學機構，可列舉液晶用背光源的亮度提昇透鏡或擴散透鏡、視頻投影電視(Video Projection Television)的螢幕中所使用的菲涅耳透鏡(Fresnel lens)或柱狀透鏡(Lenticular lens)、或者微透鏡等。於此種裝置中，主要藉由利用樹脂材料形成微細構造來獲得所期望的幾何光學性能，通常，為了進一步賦予抗反射性，而以適合該些微細構造體表面的形態形成低折射率膜。

其中，正積極地進行關於固體攝影元件中所使用的微透鏡單元的素材或構造等的研究開發(例如參照專利文獻1~專利文 獻3)。其背景可列舉固體攝影元件不斷微細化，並且需要用以實現有效率的聚光的高性能化。尤其，近年來，伴隨高畫素化，1個畫素的尺寸變得極小。另外，為了藉由1次的製造來製作更多的裝置，所使用的晶圓尺寸亦變大。於此種背景下，微透鏡單元的製造品質及製品品質的提昇的重要性進一步增加。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2006-186295號公報

[專利文獻2]日本專利特開2006-98985號公報

[專利文獻3]日本專利特開2007-119744號公報

然而，本發明者著眼於如下的技術：將應用於微透鏡單元(光學構件套組)中的透光性硬化膜(第1光學構件)設為具有厚度的透光性硬化膜，藉此包覆微透鏡(第2光學構件)。認為雖然其光學特性本身未必明確，但為了應對今後的使用形態或用途的多樣化、或者高品質化，亦將此種積層構造列舉為製品開發的對象。預料到此種技術上的要求，瞭解其製造品質或製品質上的問題點，並為了尋求對策而進行了研究開發。

本發明的目的在於提供一種微透鏡單元(光學構件套組)以及使用其的固體攝影元件，上述微透鏡單元已將採用具有厚度的透光性硬化膜(第1光學構件)作為微透鏡(第2光學構件)的包覆材料時的製造品質及製品品質優化。具體而言，本發 明的目的在於提供一種對上述特定的透光性硬化膜賦予了優異的表面狀態(surface state)、耐龜裂性、及高耐吸水性的微透鏡單元(光學構件套組)，以及使用其的固體攝影元件。

上述課題是藉由以下的手段來解決。

[1]一種光學構件套組，其為包括第1光學構件及第2光學構件而成，上述第1光學構件為使硬化性樹脂的組成物硬化而成，上述第2光學構件被第1光學構件所包覆，上述第2光學構件的與上述第1光學構件接觸的表面上的水的接觸角為70°~97°，上述第1光學構件的與上述第2光學構件接觸之側的相反側的表面上的水的接觸角為80°~115°。

[2]如[1]所述的光學構件套組，其中第1光學構件為含有矽氧烷樹脂及氟系樹脂的至少任一種而成。

[3]如[1]或[2]所述的光學構件套組，其中第1光學構件進而含有中空粒子。

[4]如[1]至[3]中任一項所述的光學構件套組，其中第2光學構件為含有二氧化鈦或氧化鋯而成。

[5]如[1]至[4]中任一項所述的光學構件套組，其中第1光學構件的厚度為0.5 μm~3 μm。

[6]如[1]至[5]中任一項所述的光學構件套組，其中第2光學構件的厚度為0.2 μm~2 μm。

[7]如[2]至[6]中任一項所述的光學構件套組，其中矽氧烷樹脂的65質量%以上、100質量%以下為由下述式(1)所表示 的倍半矽氧烷結構所構成。

-(R¹SiO_3/2)_n- 式(1)

(上述式(1)中，R¹表示碳數為1~3的烷基。n表示20~1000的整數)

[8]如[1]至[7]中任一項所述的光學構件套組，其中第1光學構件進而含有界面活性劑。

[9]如[1]至[8]中任一項所述的光學構件套組，其中第1光學構件包含使由下述式(2)所表示的烷基三烷氧基矽烷進行水解縮合而獲得的樹脂。

R²Si(OR³)₃ 式(2)

(R²表示碳數為1~3的烷基，R³表示烷基)

[10]如[1]至[9]中任一項所述的光學構件套組，其中採用多個凸透鏡作為第2光學構件，多個凸透鏡是使其膨出方向實質上朝向同一方向來排列，且多個凸透鏡由自其膨出方向形成透光性硬化膜的第1光學構件包覆，在形成於多個凸透鏡間的凹部實質上無間隙地填充有透光性硬化膜，另一方面，於透光性硬化膜中，將凸透鏡的相反側設為平坦面。

[11]如[1]至[10]中任一項所述的光學構件套組，其中第1光學構件的與第2光學構件接觸之側的相反側的表面上的水的接觸角為80°~98°。

[12]如[1]至[11]中任一項所述的光學構件套組，其中第1光學構件為含有矽氧烷樹脂而成。

[13]一種固體攝影元件，其包括如[1]至[12]中任一項所述的光學構件套組、以及半導體受光單元。

於本發明的微透鏡單元(光學構件套組)以及使用其的固體攝影元件中，採用具有厚度的透光性硬化膜(第1光學構件)作為微透鏡(第2光學構件)的包覆材料，而實現良好的製造品質及製品品質。具體而言，於上述特定的透光性硬化膜中，顯示優異的表面狀態及耐龜裂性，進而顯示高耐吸水性。

圖1是表示實施例、比較例中所示的透光性硬化膜的上層及下層的接觸角的關係的圖表。

本發明的較佳的實施形態的微透鏡單元具備透光性硬化膜與被其包覆的微透鏡體。若列舉該透鏡單元的實施例，則可列舉被組裝入固體攝影元件(光學裝置)中、且包含多個凸透鏡與自其膨出方向進行包覆的透光性硬化膜者。於本發明中，藉由在上述透光性硬化膜中採用具有特定的水的接觸角的上層(透光性硬化膜)及下層(透鏡體)的積層構造，而同時實現適合於透鏡單元的光學特性、表面狀態及耐龜裂性、以及耐吸水性。以下，針對本發明，以其較佳的實施形態為中心進行說明。再者，針對光學構件套組，以微透鏡單元為例進行說明，針對第1光學構件， 以透光性硬化膜為例進行說明，針對第2光學構件，以微透鏡體為例進行說明。

<透光性硬化膜(第1光學構件)>

(上層)

本實施形態的透光性硬化膜(以下，有時將其稱為「上層」)的與透鏡體接觸之側的相反側的表面上的水的接觸角為80°以上，較佳為81°以上。藉由設為該下限值以上，可實現具有耐吸水性的硬化膜。該接觸角進而為115°以下，較佳為105°以下，更佳為98°以下，進而更佳為92°以下。藉由設為該上限值以下，可實現表面狀態良好的硬化膜。再者，只要事先無特別說明，則將接觸角設為利用後述實施例中所採用的方法所測定的值。

上述透光性硬化膜為由硬化性樹脂組成物的硬化膜構成。本實施形態的透光性硬化膜可藉由使矽氧烷樹脂等硬化性樹脂包含於溶劑中而成的透光性硬化膜形成用樹脂組成物來形成。藉由選擇矽氧烷樹脂或氟系樹脂作為上層的構成成分，畫素間的偏差變小而較佳。或者，較佳為使用中空粒子作為組成物中所含有的成分。

上述透光性硬化膜亦可用作低折射率膜。具體而言，折射率(波長為633 nm，測定溫度為25℃)較佳為1.5以下，更佳為1.25~1.46，進而更佳為1.30~1.44，特佳為1.37~1.42。若為上述範圍內，則作為抗反射膜有用。形成上述上層的硬化膜較佳為折射率低於形成下層的透鏡體的折射率。藉此，可獲得有效的 抗反射效果。上述透光性硬化膜與微透鏡體的折射率的差並無特別限定，但較佳為0.42~0.58，更佳為0.45~0.55。

上述透光性硬化膜的厚度(膜厚)並無特別限定，但較佳為0.5 μm以上的範圍，更佳為0.6 μm以上。上限並無特別限定，但較佳為3 μm以下，更佳為2.5 μm以下。藉由將膜厚設為該範圍，作為微透鏡單元的耐久性優異，用作後述的固體攝影元件時與蓋玻璃(cover glass)的密接性亦優異，故較佳。尤其於進行厚塗的情況下，亦可超過1 μm。此處所述的膜厚於下層的透鏡體具有凹凸的情況下，是指自透鏡體的最長點的高度起的厚度。

此處，若對與本實施形態的透光性硬化膜相關的膜形狀進行詳述，則當成為下層的微透鏡為具有球面的凸透鏡狀時，於步驟上，較佳為排列多個該微透鏡而形成透鏡陣列，並利用上述透光性硬化膜包覆該透鏡陣列。此時，上述透光性硬化膜的外表面(與透鏡體相反之側的面)較佳為不取決於透鏡的凹凸的平坦面。若如此，則於剖面方向上觀察，相對於凸透鏡狀的透鏡體，透光性硬化膜的厚度變得不一樣。根據本發明，可適宜地應對此種形態的硬化膜的形成。

<矽氧烷樹脂組成物>

作為構成本實施形態的透光性硬化膜的材料，如上所述，可列舉矽氧烷樹脂。矽氧烷樹脂可使用後述的烷氧基矽烷原料，經由水解反應及縮合反應而獲得。更具體而言，該化合物可謂如下的化合物：烷基三烷氧基矽烷的一部分或全部的烷氧基進 行水解而轉換成矽醇基，所生成的矽醇基的至少一部分進行縮合而形成Si-O-Si鍵的化合物。矽氧烷樹脂亦可為具有籠型、階梯型、或無規型等任一類型的倍半矽氧烷結構的矽氧烷樹脂。再者，上述「籠型」、「階梯型」、及「無規型」例如可參照倍半矽氧烷材料的化學與應用展開(CMC出版)等中所記載的結構。

(倍半矽氧烷結構)

本實施形態的矽氧烷樹脂較佳為具有由下述式(1)所表示的倍半矽氧烷結構。

-(R¹SiO_3/2)_n- 式(1)

(上述式(1)中，R¹表示碳數為1~3的烷基。n表示20~1000的整數)

上述R¹所表示的烷基只要是上述碳數的範圍，則並無特別限制，例如可列舉甲基、乙基、丙基、異丙基等。其中，較佳為甲基及乙基，最佳為甲基。另外，R¹所表示的烷基可為不具有取代基的烷基，亦可為具有取代基的烷基，但較佳為不具有取代基的烷基。

作為R¹所表示的烷基可具有的取代基，較佳為並非鹵素原子、及具有乙烯性不飽和鍵的基，可列舉：胺基(較佳為碳原子數為0~20的胺基，例如胺基、N,N-二甲胺基、N,N-二乙胺基、N-乙胺基、苯胺基等)、磺醯胺基(較佳為碳原子數為0~20的磺醯胺基，例如N,N-二甲基磺醯胺、N-苯基磺醯胺等)、醯氧基(較佳為碳原子數為1~20的醯氧基，例如乙醯氧基、苯甲醯氧 基等)、胺甲醯基(較佳為碳原子數為1~20的胺甲醯基，例如N,N-二甲基胺甲醯基、N-苯基胺甲醯基等)、醯基胺基(較佳為碳原子數為1~20的醯基胺基，例如乙醯基胺基、苯甲醯基胺基等)等。

於本發明中，只要事先無特別說明，則將主鏈藉由矽氧烷鍵構成的含矽聚合物稱為聚矽氧烷或矽氧烷樹脂。因矽中具有4個鍵結鍵(bonding hand)，故聚矽氧烷的基本構成單元是以於每1個矽原子上具有多少個以甲基或苯基為代表的有機基來進行分類，如下述所示般可分成4種。下式中，R為有機基。

於本發明中，只要事先無特別說明，則倍半矽氧烷是基本構成單元為T單元的聚矽氧烷的總稱。倍半矽氧烷中的矽與3個氧進行鍵結，且氧與2個矽進行鍵結，因此其理論組成變成RSiO_3/2(表示二分之三的拉丁語是「SESQUI」)。本實施形態中，較佳為於上述T單元的式中，R為上述R¹，且以上述特定的含有率包含該倍半矽氧烷結構部位。

本實施形態的矽氧烷樹脂為硬化膜中所含有的矽氧烷 樹脂整體的65質量%以上、100質量%以下，即，透光性硬化膜形成用樹脂組成物中所含有的矽氧烷樹脂整體的65質量%以上、100質量%以下為由上述倍半矽氧烷結構所構成。藉由上述倍半矽氧烷結構的構成比例處於所述範圍內，微透鏡單元的平坦性與埋入性優異。該比例較佳為80質量%以上、100質量%以下，更佳為95質量%以上、100質量%以下，最佳為實質上為100質量%(但是，即便於100質量%的情況下，亦可在無損所期望的效果的範圍內含有不可避免的雜質等其他成分)。再者，本實施形態的矽氧烷樹脂可單獨含有1種特定的聚倍半矽氧烷結構，亦可含有2種以上。

本實施形態的矽氧烷樹脂較佳為使烷基三烷氧基矽烷進行水解縮合而獲得的水解縮合物。

(烷基三烷氧基矽烷)

於本實施形態中，為了製造水解縮合物，可使用含有烷基三烷氧基矽烷的烷氧基矽烷原料作為起始原料。再者，所謂烷氧基矽烷原料，是指包含烷氧基矽烷(具有烷氧基的矽化合物)的起始原料。藉由使用烷基三烷氧基矽烷作為原料，所獲得的水解縮合物的結構變得更靈活(flexible)，進而，藉由有機成分的存在而可提高對於基板的潤濕性。另外，當將其特有的基質(matrix)製成硬化物時，將其解釋為一面維持透光性，一面實現了良好的表面狀態者。

所謂烷基三烷氧基矽烷，是指1個烷基與3個烷氧基鍵結於矽原子上的有機矽化合物，可由下述的式(2)表示。

式(2)：R²Si(OR³)₃

(R²表示碳數為1~3的烷基、碳數為1~8的烷氧基烷基、碳數為1~10的氟烷基，R³表示烷基)

烷基三烷氧基矽烷的烷基(式(2)中的R²)只要是上述範圍，則並無特別限制，具體而言，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、甲氧基甲基、甲氧基丙基、γ-縮水甘油氧基甲基、γ-縮水甘油氧基丙基、三氟甲基、三氟乙基、三氟丙基、全氟乙基、全氟丙基、十三氟辛基等。另外，其中較佳為甲基、乙基、γ-縮水甘油氧基丙基、三氟甲基、三氟丙基、十三氟辛基，最佳為甲基。

烷基三烷氧基矽烷的烷氧基並無特別限制，例如可列舉甲氧基、乙氧基等。更具體而言，作為式(2)中的R³，較佳為碳數為1~20的直鏈狀或分支狀的烷基。其中，較佳為碳數為1~10，更佳為碳數為1~4。尤其，就容易控制水解速度的觀點而言，較佳為乙氧基，即，式(2)中的R³為乙基。

作為烷基三烷氧基矽烷，例如可列舉：甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、十三氟辛基三甲氧基矽烷等。其中，可適宜地使用甲基三乙氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷，可最佳地使用甲基三乙氧基矽烷。再者，作為烷基三烷氧基矽烷，可僅使用1種，亦可併用2種以上。

較佳為上述烷氧基矽烷原料的65質量%以上為烷基三烷氧基矽烷，更佳為80質量%以上、100質量%以下，進而更佳為95質量%以上、100質量%以下。藉由含量處於該範圍內，製成硬化膜時的表面狀態進一步優化，故較佳。

(四烷氧基矽烷)

作為烷氧基矽烷原料，除上述三烷氧基矽烷以外，亦可使用其他烷氧基矽烷，其中，較佳為四烷氧基矽烷。藉由含有四烷氧基矽烷，水解縮合物中的交聯密度增加，就使膜硬化而獲得的皮膜的電氣絕緣性、耐顯影性、耐熱性進一步提昇的觀點而言較佳。

所謂四烷氧基矽烷，是指4個烷氧基鍵結於矽原子上的有機矽化合物，可由下述的式(3)表示。

式(3)：Si(OR⁴)₄

(R⁴分別獨立地表示烷基)

四烷氧基矽烷的烷氧基並無特別限制，例如可列舉甲氧基、乙氧基等。更具體而言，作為式(3)中的R⁴，較佳為碳數為1~20的直鏈狀或分支狀的烷基。其中，較佳為碳數為1~10，更佳為碳數為1~4。尤其，就容易控制水解速度的觀點而言，較佳為乙氧基，即，式(3)中的R⁴為乙基。

作為四烷氧基矽烷，例如可列舉：四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四-正丙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四-正丁氧基矽烷、四異丁氧基矽烷、四-第三丁氧基矽烷等。其中，可適宜地使用四 甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷。

再者，作為四烷氧基矽烷，可僅使用1種，亦可併用2種以上。

烷氧基矽烷原料中的四烷氧基矽烷的含量並無特別限制，但就組成物的耐顯影性的皮膜的耐熱性更優異的觀點而言，較佳為35質量%以下，更佳為20質量%以下。下限值並無特別限定，但當要獲得四烷氧基矽烷的添加效果時，較佳為0.01質量%以上，更佳為0.1質量%以上。

再者，本說明書中，關於化合物的用語，除該化合物本身以外，亦用於包含其鹽、錯合物、其離子的含義。另外，於發揮所期望的效果的範圍內，包含經規定的形態修飾的衍生物的含義。另外，本說明書中，未載明經取代.未經取代的取代基(包含連結基)表示該基可具有任意的取代基。未載明經取代．未經取代的化合物亦同樣如此。作為較佳的取代基，可列舉下述取代基T。

作為取代基T，可列舉下述的基。

烷基(較佳為碳原子數為1~20的烷基，例如甲基、乙基、異丙基、第三丁基、戊基、庚基、1-乙基戊基、苄基、2-乙氧基乙基、1-羧甲基等)、烯基(較佳為碳原子數為2~20的烯基，例如乙烯基、烯丙基、油烯基等)、炔基(較佳為碳原子數為2~20的炔基，例如乙炔基、丁二炔基、苯基乙炔基等)、環烷基(較佳為碳原子數為3~20的環烷基，例如環丙基、環戊基、環己基、4-甲基環己基等)、芳基(較佳為碳原子數為6~26的芳基，例如 苯基、1-萘基、4-甲氧基苯基、2-氯苯基、3-甲基苯基等)、雜環基(較佳為碳原子數為2~20的雜環基，例如2-吡啶基、4-吡啶基、2-咪唑基、2-苯并咪唑基、2-噻唑基、2-噁唑基等)、烷氧基(較佳為碳原子數為1~20的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、異丙氧基、苄氧基等)、芳氧基(較佳為碳原子數為6~26的芳氧基，例如苯氧基、1-萘氧基、3-甲基苯氧基、4-甲氧基苯氧基等)、烷氧基羰基(較佳為碳原子數為2~20的烷氧基羰基，例如乙氧基羰基、2-乙基己氧基羰基等)、胺基(較佳為碳原子數為0~20的胺基，例如胺基、N,N-二甲胺基、N,N-二乙胺基、N-乙胺基、苯胺基等)、磺醯胺基(較佳為碳原子數為0~20的磺醯胺基，例如N,N-二甲基磺醯胺、N-苯基磺醯胺等)、醯基(較佳為碳原子數為1~20的醯基，例如乙醯基、丙醯基、丁醯基、苯甲醯基等)，醯氧基(較佳為碳原子數為1~20的醯氧基，例如乙醯氧基、苯甲醯氧基等)、胺甲醯基(較佳為碳原子數為1~20的胺甲醯基，例如N,N-二甲基胺甲醯基、N-苯基胺甲醯基等)、醯基胺基(較佳為碳原子數為1~20的醯基胺基，例如乙醯基胺基、苯甲醯基胺基等)、氰基、或鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)，更佳為烷基、烯基、芳基、雜環基、烷氧基、芳氧基、烷氧基羰基、胺基、醯基胺基、氰基或鹵素原子，特佳為可列舉烷基、烯基、雜環基、烷氧基、烷氧基羰基、胺基、醯基胺基或氰基。

當化合物或取代基等含有烷基、烯基等時，該些可為直鏈狀，亦可為分支狀，可經取代，亦可未經取代。另外，當含有 芳基、雜環基等時，該些可為單環，亦可為縮環，可經取代，亦可未經取代。

(矽氧烷樹脂的製造)

本實施形態的透光性硬化膜形成用樹脂組成物中所含有的矽氧烷樹脂可使用上述烷氧基矽烷原料，經由水解反應及縮合反應而獲得。

水解反應及縮合反應可使用公知的方法，視需要亦可使用酸或鹼等的觸媒。觸媒只要是使pH變更者，則並無特別限制，具體而言，作為酸(有機酸、無機酸)，例如可列舉硝酸、草酸、乙酸、甲酸、鹽酸等，作為鹼，例如可列舉氨、三乙胺、乙二胺等。只要矽氧烷樹脂滿足規定的分子量，則使用量並無特別限定。

視需要，亦可向水解反應及縮合反應的反應系統中添加溶劑。只要可實施水解反應及縮合反應，則溶劑並無特別限制，例如可列舉：水，甲醇、乙醇、丙醇等醇，乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚等醚類，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等酯類，丙酮、甲基乙基酮、甲基異戊基酮等酮類等。其中，此處較佳為應用與使後述的矽氧烷樹脂所含有的溶劑不同的溶劑，更佳為使用碳數為1~5的醇化合物或碳數為2~6的醚化合物。

水解反應及縮合反應的條件(溫度、時間、溶劑量)為根據所使用的材料的種類而適宜選擇最佳的條件。

本實施形態中所使用的矽氧烷樹脂的重量平均分子量 為1,000~50,000。其中，較佳為2,000~45,000，更佳為2,500~25,000，特佳為3,000~25,000。當重量平均分子量為上述範圍內時，對於基板的塗佈性特別良好，塗佈後的表面狀態得以良好地維持而較佳。

再者，重量平均分子量是使用公知的凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography，GPC)進行測定，並換算成標準聚苯乙烯時的值。只要事先無特別說明，則於GPC測定中藉由如下方式來進行測定：使用Waters2695及Shodex製造的GPC管柱KF-805L(將3根管柱直接連結)作為管柱，於管柱溫度40℃下注入試樣濃度為0.5質量%的四氫呋喃溶液50 μl，並使作為溶出溶劑的四氫呋喃以每分鐘1 ml的流量流動，利用折射率(Refractive Index，RI)檢測裝置(Waters2414)及紫外線(Ultraviolet，UV)檢測裝置(Waters2996)檢測試樣峰值。

相對於組成物總質量，本實施形態的組成物中的上述矽氧烷樹脂的含量較佳為超過5質量%、且為50質量%以下。其中，更佳為10質量%~45質量%，特佳為15質量%~40質量%。

(界面活性劑)

就進一步提昇塗佈性與表面狀態性質的觀點而言，本實施形態的透光性硬化膜形成用樹脂較佳為含有具有聚氧伸烷基(polyoxyalkylene)結構的界面活性劑。所謂聚氧伸烷基結構，是指伸烷基與二價的氧原子鄰接存在的結構，具體而言，可列舉環氧乙烷(Ethylene Oxide，EO)結構、環氧丙烷(Propylene Oxide， PO)結構等。作為具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑，只要具有該聚氧伸烷基結構，則可使用氟系界面活性劑、非離子界面活性劑、陽離子界面活性劑、陰離子界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。該些界面活性劑之中，較佳為非離子界面活性劑、陰離子界面活性劑、及矽酮系界面活性劑，更佳為非離子界面活性劑、及陰離子界面活性劑，最佳為陰離子界面活性劑。

當使用應用了本實施形態的透光性硬化膜形成用樹脂組成物的塗佈液來形成膜時，藉由降低被塗佈面與塗佈液的界面張力，對於被塗佈面的潤濕性得到改善，且對於被塗佈面的塗佈性提昇。另外，雖然其詳細的作用機制不明，但藉由應用該界面活性劑，後烘烤後的表面狀態進一步優化，亦可適宜地應對要求水準高的應用，而較佳。

作為氟系界面活性劑，例如可列舉：Megafac F171、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F176、Megafac F177、Megafac F141、Megafac F142、Megafac F143、Megafac F144、Megafac R30、Megafac F437、Megafac F479、Megafac F482、Megafac F554、Megafac F780、Megafac F781(以上，迪愛生(DIC)(股份)製造)，Fluorad FC430、Fluorad FC431、Fluorad FC171(以上，住友3M(Sumitomo 3M)(股份)製造)，Surflon S-382、Surflon S-141、Surflon S-145、Surflon SC-101、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC1068、Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S393、Surflon KH-40(以上，旭硝子(股份)製 造)，Eftop EF301、Eftop EF303、Eftop EF351、Eftop EF352(以上，三菱材料電子化成(Jemco)(股份)製造)，PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(歐諾法(OMNOVA)公司製造)等。

作為非離子系界面活性劑，具體而言，可列舉：甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷的乙氧基化物及丙氧基化物(例如甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)，聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油醚(花王(股份)製造的Emulgen 404等)、聚氧乙烯辛基苯醚、聚氧乙烯壬基苯醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、青木油脂工業(股份)製造的ELEBASEBUB-3等。

作為陰離子系界面活性劑，具體而言，可列舉：W004、W005、W017(裕商(股份)公司製造)，日本科萊恩(Clariant Japan)(股份)製造的EMULSOGEN COL-020、EMULSOGEN COA-070、EMULSOGEN COL-080，第一工業製藥(股份)製造的Plysurf A208B等。

作為矽酮系界面活性劑，例如可列舉：東麗．道康寧(Toray．Dowcorning)(股份)製造的「Toray Silicone DC3PA」、「Toray Silicone SH7PA」、「Toray Silicone DC11PA」,「Toray Silicone SH21PA」,「Toray Silicone SH28PA」、「Toray Silicone SH29PA」、「Toray Silicone SH30PA」、「Toray Silicone SH8400」，邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造的「TSF-4440」、「TSF-4300」、「TSF-4445」、「TSF-4460」、 「TSF-4452」，信越矽利光(Shinetsu silicone)股份有限公司製造的「KP341」、「KF6001」、「KF6002」，畢克化學(BYK Chemie)公司製造的「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」，GELEST製造的「DBE-224」、「DBE-621」等。

界面活性劑可僅使用1種，亦可組合2種以上。

另外，作為本實施形態的較佳的具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑，可列舉由下述通式(4)所表示的界面活性劑。

式(4)：R⁵O(R⁶O)_mR⁷

(上述式中，R⁵表示碳數為1~20的烷基，R⁶表示碳數為1~4的伸烷基，R⁷表示氫原子、羧基、或-PO₃H₂。m表示1~8的整數)

更具體而言，作為式(4)中的R⁵，可為直鏈狀或分支狀的烷基。其中，較佳為碳數為5~20，更佳為碳數為12~18。作為式(4)中的R⁶，可為直鏈狀或分支狀的伸烷基，可列舉亞甲基、伸乙基、伸丙基、異伸丙基、伸丁基、異伸丁基等。其中，較佳為伸乙基、異伸丙基(與鄰接的O原子形成環氧乙烷結構、或環氧丙烷結構的基)。作為式(4)中的R⁷，較佳為氫原子、或羧基，最佳為羧基。若使用由上述通式(4)所表示的界面活性劑，則表面狀態性質可於更佳的範圍內並存。

界面活性劑的添加量並無特別限定，但作為其下限值，較佳為相對於上述硬化性樹脂100質量份，於1質量份以上的範圍內添加，更佳為1.5質量份以上，最佳為7.5質量份以上。上限 值亦無特別限定，但較佳為30質量份以下，更佳為15質量份以下。藉由添加量處於該範圍內，表面狀態性質優異。

於本實施形態的樹脂組成物中，可將上述具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑與其他界面活性劑併用、或者獨立於上述具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑而使用其他界面活性劑。作為可併用的界面活性劑，可使用常用的界面活性劑，其中，較佳為併用矽酮系界面活性劑。作為較佳的矽酮系界面活性劑，可列舉將有機基導入至側鏈或末端、或者導入至側鏈與末端的聚矽氧烷型界面活性劑。作為側鏈基，可列舉胺基、環氧基、甲醇基、巰基、羧基、氫基、聚醚基、芳烷基、氟烷基、苯基，作為末端基，可列舉胺基、環氧基、甲醇基、甲基丙烯醯基、聚醚基、巰基、羧基、酚基、矽醇基、二醇基等。

或者，同時含有上述具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑、及特定碳數的烷基烷氧基矽烷化合物(以下，稱為「烷氧基矽烷化合物α」)亦較佳，亦可併用上述具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑、矽酮系界面活性劑、及烷氧基矽烷化合物α這3種界面活性劑。作為該烷氧基矽烷化合物α，較佳為應用具有碳數為4~12(更佳為碳數為6~10)的烷基的烷氧基矽烷化合物。若由通式來表示該化合物，則較佳為由下述式(5)所表示的化合物。

式(5)：Si(OR⁵¹)_n-4(R⁵²)_n

此處，R⁵¹為含義與上述R⁴相同的基。R⁵²較佳為碳數為4~12的烷基，更佳為碳數為6~10的烷基。n為1~3的整數。

與具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑併用的界面活性劑的調配量只要任意地調整即可，例如，相對於具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑100質量份，較佳為以0.01質量份~100質量份使用所併用的界面活性劑，更佳為以1質量份~100質量份使用所併用的界面活性劑，進而更佳為以10質量份~100質量份使用所併用的界面活性劑。

(中空粒子)

上述硬化性樹脂組成物或使其硬化而成的硬化膜較佳為包含中空粒子。作為中空粒子，當然可使用中空結構的粒子，亦可使用多孔質的微粒子。中空粒子是內部具有空洞的結構的粒子，且是指具有被外廓包圍的空洞的粒子，多孔質粒子是指具有多個空洞的多孔質的粒子。以下，將中空粒子或多孔質粒子適宜稱為「特定粒子」。特定粒子可為有機粒子，亦可為無機粒子。

特定粒子的空隙率較佳為10%~80%，更佳為20%~60%，最佳為30%~60%。就低折射率化與粒子的耐久性維持的觀點而言，較佳為將特定粒子的空隙率設為上述範圍。

特定粒子之中，就容易降低折射率的觀點而言，更佳為中空粒子，特佳為中空二氧化矽粒子。例如，當以二氧化矽構成中空粒子時，中空二氧化矽粒子具有折射率低的空氣(折射率=1.0)，因此其折射率與通常的二氧化矽(折射率=1.6)相比顯著降低。

作為中空粒子的製造方法，可應用例如日本專利特開 2001-233611號公報中所記載的方法。另外，多孔質粒子的製造方法可應用例如日本專利特開2003-327424號、日本專利特開2003-335515號、日本專利特開2003-226516號、日本專利特開2003-238140號等各公報中所記載的方法。

另外，特定粒子的平均一次粒徑較佳為1 nm~200 nm，更佳為10 nm~100 nm。

可利用穿透式電子顯微鏡觀察經分散的粒子，並根據所獲得的照片來求出特定粒子的平均一次粒徑。求出粒子的投影面積，根據投影面積而求出投影面積直徑並將其作為平均一次粒徑。本說明書中的平均一次粒徑是對300個以上的粒子測定投影面積，並求出投影面積直徑而算出。

特定粒子的折射率較佳為1.10~1.40，更佳為1.15~1.35，最佳為1.15~1.30。

此處的折射率表示粒子整體的折射率，當粒子為中空粒子時，並不僅僅表示形成中空粒子的外殼的折射率。當粒子為多孔質粒子時，多孔質粒子的折射率可利用阿貝折射率計(愛宕(Atago)(股份)製造)來測定(測定溫度為25℃、波長為633 nm)。

就低折射率化的觀點而言，特定粒子較佳為中空或多孔質的無機粒子。作為無機的低折射率粒子，可列舉氟化鎂或二氧化矽的粒子，就低折射率性、分散穩定性、成本的觀點而言，更佳為二氧化矽粒子。

該些無機粒子的平均一次粒徑較佳為1 nm~100 nm，更 佳為1 nm~60 nm。

無機粒子只要滿足必要的空隙率，則結晶系可為結晶 質、非晶質(amorphous)的任一種，另外，可為單分散粒子，若滿足規定的粒徑，則亦可為凝聚粒子。形狀最佳為球形，但亦可為念珠狀、長徑與短徑的比為1以上的形狀、或不定形。

無機粒子的比表面積較佳為10 m²/g~2000 m²/g，更佳為20 m²/g~1800 m²/g，最佳為50 m²/g~1500 m²/g。

無機粒子為了謀求於硬化性樹脂組成物中的分散穩定化，或者為了提高與黏合劑成分的親和性、鍵結性，亦可進行如電漿放電處理或電暈放電處理之類的物理性表面處理、利用界面活性劑或偶合劑等的化學性表面處理。特佳為使用偶合劑。作為偶合劑，可較佳地使用烷氧基金屬化合物(例如鈦偶合劑、矽烷偶合劑)。其中，矽烷偶合處理特別有效。

即，當無機粒子為二氧化矽粒子，偶合劑為矽烷化合物時，藉由矽烷化合物與矽醇基的反應，有機矽烷基(一有機矽烷基、二有機矽烷基、三有機矽烷基)鍵結於二氧化矽粒子的表面。作為經表面處理的二氧化矽粒子於其表面所具有的有機基，可列舉飽和或不飽和的碳數為1~18的烴基、碳數為1~18的鹵化烴基等。

上述偶合劑可作為無機粒子的表面處理劑，用於在製備低折射率膜用塗佈液前事先實施表面處理，亦可於製備塗佈液時作為添加劑而進一步添加。

為了減輕表面處理的負荷，較佳為於表面處理前使無機粒子事先分散於介質中。

特定粒子的更適宜的形態為二氧化矽粒子。

可較佳地使用作為包含二氧化矽的特定粒子所市售者。

例如可使用：日揮觸媒化成(股份)製造的Thrulya系列(中空粒子，異丙醇(Isopropanol，IPA)分散、4-甲基-2-戊酮(甲基異丁基酮(Methyl Isobutyl Ketone，MIBK))分散等。例如Thrulya 2320等)、OSCAL系列，日產化學(股份)製造的Snowtex系列(多孔質粒子，IPA分散、乙二醇分散、甲基乙基酮(Methyl Ethyl Ketone，MEK)分散、二甲基乙醯胺分散、MIBK分散、丙二醇單甲基乙酸酯分散、丙二醇單甲醚分散、甲醇分散、乙酸乙酯分散、乙酸丁酯分散、二甲苯-正丁醇分散、甲苯分散等。例如MIBK-SD-L、MIBK-ST等)，日鐵礦業(股份)製造的Silinax(多孔質粒子)，扶桑化學工業(股份)製造的PL系列(多孔質粒子，IPA分散、甲苯分散、丙二醇單甲醚分散、甲基乙基酮分散等。例如PL-1-IPA、PL-2L-PGME等)，贏創(EVONIK)公司製造的Aerosil系列(多孔質粒子，丙二醇乙酸酯分散、乙二醇分散、MIBK分散等)等二氧化矽粒子。

當將二氧化矽粒子製成含有二氧化矽粒子與粒子分散劑(粒子分散劑的詳細情況將後述)的分散液而添加至感光性組成物中時，二氧化矽粒子於二氧化矽分散液中的含量較佳為10質量%~50質量%，更佳為15質量%~40質量%，進而更佳為15質 量%~30質量%。

相對於硬化性樹脂組成物中的總固體成分的特定粒子的含量較佳為5質量%~95質量%，更佳為10質量%~90質量%，進而更佳為20質量%~90質量%。

當使用硬化性樹脂組成物來形成膜時，特定粒子的塗設量較佳為1 mg/m²~100 mg/m²，更佳為5 mg/m²~80 mg/m²，進而更佳為10 mg/m²~60 mg/m²。藉由特定粒子的塗設量為1 mg/m²以上，可確實地獲得低折射率化的效果或耐擦傷性的改良效果，並且藉由特定粒子的塗設量為100 mg/m²以下，於硬化膜的表面形成微細的凹凸而可抑制積分反射率惡化。

(氟系樹脂)

上述硬化性樹脂組成物或使其硬化而成的硬化膜較佳為含有氟系樹脂。例如可列舉日本專利特開2004-21036號公報中所記載的氟系的矽氧烷聚合物。

所謂氟系樹脂，是指物質分子中含有氟的樹脂，具體而言，可列舉聚四氟乙烯、聚六氟丙烯、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物、四氟乙烯/全氟烷基乙烯基醚共聚物、四氟乙烯/乙烯共聚物、六氟丙烯/丙烯共聚物、聚偏二氟乙烯、偏二氟乙烯/乙烯共聚物等，其中，較佳為聚四氟乙烯、四氟乙烯/全氟烷基乙烯基醚共聚物、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物、四氟乙烯/乙烯共聚物、聚偏二氟乙烯，特佳為聚四氟乙烯、四氟乙烯/乙烯共聚物，進而更佳為聚四氟乙烯，亦可較佳地使用包含聚四氟乙烯粒子與有機系聚合物的含聚 四氟乙烯的混合粉體。聚四氟乙烯等氟系樹脂的分子量較佳為10萬~1000萬的範圍，尤其更佳為10萬~100萬的範圍，對於擠出成形性與阻燃性特別有效果。作為聚四氟乙烯的市售品，市售有三井杜邦氟化學(Du Pont-Mitsui Fluorochemicals)(股份)製造的「鐵氟龍(Teflon)(註冊商標)」6-J、「鐵氟龍(註冊商標)」6C-J、「鐵氟龍(註冊商標)」62-J，Asahi-ICI Fluoropolymers(股份)製造的「Fluon」CD1或CD076等。另外，作為包含聚四氟乙烯粒子與有機系聚合物的含聚四氟乙烯的混合粉體的市售品，自三菱麗陽(股份)市售有作為「Metablen(註冊商標)」A系列而市售的「Metablen(註冊商標)」A-3000、「Metablen(註冊商標)」A-3800等。另外，聚四氟乙烯的「鐵氟龍(註冊商標)」6-J等因容易凝聚，故若利用亨舍爾混合機(Henschel mixer)等將其與其他樹脂組成物一同機械性地強烈混合，則有時因凝聚而生成塊，根據混合條件，於操作性或分散性存在課題。另一方面，包含聚四氟乙烯粒子與有機系聚合物的含聚四氟乙烯的混合粉體的上述操作性或分散性優異，可特佳地使用。上述包含聚四氟乙烯粒子與有機系聚合物的含聚四氟乙烯的混合粉體並無限定，可列舉日本專利特開2000-226523號公報中所揭示的包含聚四氟乙烯粒子與有機系聚合物的含聚四氟乙烯的混合粉體等，上述有機系聚合物為含有10質量%以上的芳香族乙烯基系單體、丙烯酸酯系單體、及氰化乙烯基系單體的有機系聚合物等，亦可為該些的混合物，含聚四氟乙烯的混合粉體中的聚四氟乙烯的含量較佳為0.1 質量%~90質量%。

進而，作為氟樹脂，非晶質氟樹脂、含有含全氟烷基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的共聚寡聚物、氟系塗佈劑、氟系界面活性劑、含有電子束硬化成分或紫外線硬化成分的氟系表面處理劑、含有熱硬化成分的氟系表面處理劑等亦較佳。作為含有含全氟烷基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的共聚寡聚物的其他共聚成分，較佳為丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯。

以下表示具體例。作為非晶質氟樹脂，可列舉旭硝子公司製造的Lumiflon、旭硝子公司製造的CYTOP等。作為以含全氟烷基的(甲基)丙烯酸酯與(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分的共聚寡聚物，可列舉日本油脂公司製造的Modiper F系列，大金工業公司製造的Unidyne，大日本油墨化學工業公司製造的Megafac F470系列、Megafac F480系列、Megafac F110系列等，共聚更佳為嵌段共聚。作為氟系塗佈劑，可列舉住友3M公司製造的EGC1700。作為氟系界面活性劑，可列舉大日本油墨化學工業製造的Megafac F114、Megafac F410系列、Megafac 440系列、Megafac 450、Megafac 490系列等。作為含有電子束硬化成分或紫外線硬化成分的氟系表面處理劑，可列舉歐諾法溶液(Omnova Solutions)公司製造的PolyFox PF-3320、Unimatec公司製造的Cheminox FAMAC-8、住友3M公司製造的EGC1720等。作為含有熱硬化成分的氟系表面處理劑，可列舉住友3M公司製造的EGC1720，大日本油墨化學工業公司製造的NH-10、NH-15等。

作為非晶質氟樹脂的例子，可列舉具有下述的結構式的樹脂。

氟樹脂亦可為多種含氟化合物的混合。

氟系樹脂的添加量並無特別限定，但就與上述矽氧烷樹脂相同的觀點而言，較佳為與上述矽氧烷樹脂相同的含有率的範圍。

(硬化劑)

本實施形態的透光性硬化膜形成用樹脂組成物可進而含有硬化劑。作為硬化劑，較佳為包含Al、Mg、Mn、Ti、Cu、Co、Zn、Hf及Zr的硬化劑，亦可併用該些硬化劑。

該些硬化劑可藉由使金屬烷氧化物與螯合劑進行反應而容易地獲得。作為螯合劑的例子，可使用乙醯丙酮、苯甲醯丙酮、二苯甲醯基甲烷等β-二酮；乙醯乙酸乙酯、苯甲醯基乙酸乙酯等β-酮酸酯等。

作為金屬基螯合化合物的較佳的具體例，可列舉：乙醯乙酸乙酯二異丙氧基鋁(aluminum diisopropylate)、三(乙醯乙酸乙酯)鋁、乙醯乙酸烷基酯二異丙氧基鋁、單乙醯乙酸酯雙(乙醯乙 酸乙酯)鋁、三(乙醯丙酮)鋁等鋁螯合化合物，乙醯乙酸乙酯單異丙氧基鎂、雙(乙醯乙酸乙酯)鎂、乙醯乙酸烷基酯單異丙氧基鎂、雙(乙醯丙酮)鎂等鎂螯合化合物，四乙醯丙酮鋯、三丁氧基乙醯丙酮鋯、雙(乙醯乙酸乙酯)乙醯丙酮鋯、乙醯丙酮錳、乙醯丙酮鈷、乙醯丙酮銅、乙醯丙酮鈦、乙醯丙酮氧鈦。該些之中，較佳為三(乙醯丙酮)鋁、三(乙醯乙酸乙酯)鋁、雙(乙醯丙酮)鎂、雙(乙醯乙酸乙酯)鎂、四乙醯丙酮鋯，若考慮保存穩定性、獲得容易性，則特佳為三(乙醯丙酮)鋁、三(乙醯乙酸乙酯)鋁。

相對於矽氧烷樹脂的總含量100質量份，硬化劑的總含量較佳為0.001質量份~10質量份，更佳為0.01質量份~5質量份，特佳為0.01質量份~0.5質量份。若存在硬化劑，則硬化充分地進行，當製成硬化膜時，除可獲得良好的耐化學品性以外，表面狀態性質亦優異。

(溶劑)

本實施形態的透光性硬化膜形成用樹脂組成物(硬化性樹脂組成物)通常可使用有機溶劑來構成。有機溶劑只要滿足各成分的溶解性或透光性硬化膜形成用樹脂組成物的塗佈性，則基本上並無特別限制，特佳為考慮黏合劑的溶解性、塗佈性、安全性來選擇。另外，當製備本實施形態中的透光性硬化膜形成用樹脂組成物時，亦可含有2種有機溶劑。

作為有機溶劑，作為酯類，例如可適宜地列舉乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異 丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、羥乙酸烷基酯(例如：羥乙酸甲酯、羥乙酸乙酯、羥乙酸丁酯(例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-羥丙酸烷基酯類(例如：3-羥丙酸甲酯、3-羥丙酸乙酯等(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-羥丙酸烷基酯類(例如：2-羥丙酸甲酯、2-羥丙酸乙酯、2-羥丙酸丙酯等(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等，另外，作為醚類，例如可適宜地列舉二乙二醇二甲醚、二丙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單正丁醚、丙二醇單第三丁醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等，另外，作為酮類，例如可適宜地列舉甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等，另外，作為芳香族烴類，例如可適宜地列舉甲苯、二甲苯等。

特佳為上述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲 氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚、二丙二醇二甲醚、丙二醇單正丁醚、丙二醇單第三丁醚、及丙二醇甲醚乙酸酯。

於本實施形態的透光性硬化膜形成用樹脂組成物中，所應用的溶劑在透光性硬化膜形成用樹脂組成物的總量中，較佳為50質量%~99.9質量%，更佳為60質量%~95質量%。當該化合物的量為上述下限值以上時，塗佈性變得良好而較佳。當該化合物的量為上述上限值以下時，塗佈性亦同樣變得良好而較佳。

(黏度)

就形成具有厚度的良好的透過膜的觀點而言，本實施形態的透光性硬化膜形成用樹脂組成物較佳為其黏度得到調節。具體的黏度的範圍並無特別限定，但較佳為1 cP~20 cP，更佳為2 cP~15 cP，特佳為4 cP~6 cP。只要事先無特別說明，則將本說明書中的黏度的值設為利用後述的測定方法所得的值。

．測定方法

使用E型黏度計「TV-20型黏度計．錐板型TVE-20L」(東機產業製造)，於室溫(約25℃)下進行測定。取樣是設為每100秒測定5次黏度所得的值的平均。

再者，於本發明中，所謂組成物，是指2種以上的成分以特定的組成實質上均勻地存在。此處所謂實質上均勻，是指於發揮發明的作用效果的範圍內，各成分可不均。另外，組成物只要滿足上述定義，則形態並無特別限定，並不限定於流動性的液 體或膏狀物(paste)，亦包括包含多種成分的固體或粉末等。進而，即便於如具有沈澱物的情況下，如藉由攪拌而於規定時間內保持分散狀態者亦包含於組成物中。

<微透鏡單元(光學構件套組)>

本發明的較佳的實施形態的微透鏡單元為被組裝入固體攝影元件中，且具有微透鏡體與包覆微透鏡體的透光性硬化膜。再者，微透鏡體的用語包含微透鏡陣列的含義，有時僅總稱為透鏡體(lens member、lens members)。當將微透鏡陣列用作微透鏡體時，理想的是作為微透鏡體彼此的間隙的溝部無間隙地被埋入至透光性硬化膜中，而完全不產生空隙(void)等。於此種形態中，微透鏡單元不會使透過該單元的光產生源自空隙的雜訊，而發揮良好的品質性能。

本實施形態的微透鏡體的形狀並無特別限定，可較佳地使用凸透鏡。於本發明中，只要事先無特別說明，則凸透鏡包括平凸透鏡、雙凸透鏡、凸新月形透鏡(meniscus lens)等，是指具有朝至少一個方向膨出的部位的透鏡。作為具體的凸透鏡的形狀，可列舉多面體狀、球面狀、及非球面狀(由自由曲面形成的無球面像差的形狀)等。上述多面體的形狀可列舉正多面體狀、半正多面體狀、圓柱狀、及圓筒狀(cylindrical shape)等。另外，只要具有聚光效果，則菲涅耳透鏡等亦包含於本發明中的凸透鏡中。

<微透鏡體(第2光學構件)>

於本實施形態中，微透鏡體的與透光性硬化膜接觸的表面上的水的接觸角為70°以上，較佳為75°以上。藉由設為該下限值以上，可使透光性硬化膜的面狀變得良好。就相同的觀點而言，該接觸角進而為97°以下，較佳為92°以下，更佳為85°以下。再者，只要事先無特別說明，則將接觸角設為利用後述實施例中所採用的方法所測定的值。

於本實施形態中，透鏡體較佳為利用顯示高折射率性的材料來製作。具體而言，透鏡體的折射率(波長為633 nm，測定溫度為25℃)較佳為1.8以上，更佳為1.85~1.95。若折射率為該範圍，則當與上述抗反射膜組合來使用時，可獲得品質性能良好的透鏡單元。

上述下層較佳為含有二氧化鈦或氧化鋯而形成，且較佳為具有二氧化鈦或氧化鋯的粒子或者中空粒子。藉由選擇其作為下層，畫素間的偏差變小而較佳。上述粒子的粒徑並無特別限定，一次粒徑為1 nm~100 nm，較佳為1 nm~80 nm，特佳為1 nm~50 nm。於本說明書中，只要事先無特別說明，則平均粒徑是指利用後述實施例中所採用的測定方法所測定的值。上述粒子的具體的構成並無特別限定，可適宜選定並使用此種製品中通常採用的構成。

作為如本實施形態般，將微透鏡體用作微透鏡陣列的形態，較佳為使其膨出方向實質上朝向同一方向來排列。此處所謂排列，是指將2個以上的微透鏡體以規定的間隔並排設置，其間 隔可一致，亦可不同。較佳為二維排列成1個平面狀，更佳為以等間隔來進行二維排列。另外，透鏡間的間隔通常為10 nm~1,000 nm的範圍，當緻密地排列時，更佳為100 nm~400 nm。透鏡間大多形成有凹部，作為其形狀，由膨出的凸透鏡的形狀來決定。若於剖面中為弓形(由圓弧與弦所定義的面)的凸透鏡，則形成具有如下的剖面的凹部，即V字的2條線以反弧(reverse arc)所構成的剖面。

透鏡體(下層)的高度(厚度)並無特別限定，但較佳為200 nm(0.2 μm)以上，更佳為250 nm(0.25 μm)以上。作為上限，較佳為2000 nm(2 μm)以下，更佳為1000 nm(1 μm)以下，特佳為900 nm(0.9 μm)以下。透鏡體的寬度並無特別限定，但較實際的是相對於下方的彩色濾光片尺寸為70~80%(例如，當彩色濾光片尺寸為1400 nm時，變成980 nm~1120 nm)。此處所述的透鏡體的高度是指透鏡體的最長點的高度。

<微透鏡單元的製造方法>

於本發明中，可獲得微透鏡單元的實施方式並無特別限制，可根據微透鏡單元的用途、目的而適宜選擇。作為具體的形態，可列舉下述形態，但本發明並不限定於該些構成。再者，於本說明書中，當言及「包覆」時，不僅是指直接抵接於對象物上來進行包覆的情況，亦包含隔著其他層來進行包覆的情況。

第一形態：微透鏡體由透光性硬化膜直接包覆而成的形態

第二形態：微透鏡體由覆蓋層(overcoat layer)包覆，進而由透光性硬化膜包覆而成的形態

第三形態：在微透鏡體與半導體受光單元之間形成透光性硬化膜的層的形態

上述之中，較佳為第一形態。以下，針對第一形態，詳細說明其製造方法。

(組成物的塗佈)

本實施形態的透光性硬化膜形成用樹脂組成物較佳為用作抗反射膜或低折射率膜的形成材料。為了形成硬化膜而塗佈於透鏡體等被加工物上的方法並無特別限定，可應用適宜的公知的塗佈方法。例如可應用旋塗法、浸塗法、輥刮法(roller blade method)、噴塗法(spray method)等。視需要，較佳為對經塗佈的塗膜實施加熱處理等，而將塗膜中所含有的溶劑去除。

(硬化膜的形成)

較佳為將透光性硬化膜形成用樹脂組成物應用於被加工物上後，將溶劑去除而形成硬化膜。因此，藉由如下方式來進行：於較佳為60℃~200℃，更佳為100℃~150℃的條件下，將塗佈後的塗膜靜置較佳為1分鐘~10分鐘，更佳為1分鐘~5分鐘。再者，該溶劑去除亦可於不同的條件下實施2次以上。

於本實施形態中，較佳為對上述經塗佈的透光性硬化膜形成用樹脂組成物進行加熱，而進一步促進硬化。藉此，可實現更穩定的形態，並可提高耐顯影性。只要塗膜硬化，則其加熱溫 度並無特別限制，但通常較佳為150℃~400℃。其中，較佳為150℃~280℃，更佳為150℃~240℃。若為上述加熱條件，則塗膜充分地硬化，可製成優異的膜。加熱時間並無特別限制，但較佳為1分鐘~60分鐘，更佳為1分鐘~30分鐘。加熱的方法並無特別限制，可應用利用加熱板、烘箱、爐等的加熱。

加熱時的環境並無特別限制，可應用惰性環境、氧化性環境等。惰性環境可藉由氮氣、氦氣、氬氣等惰性氣體來實現。氧化性環境可藉由該些惰性氣體與氧化性氣體的混合氣體來實現，此外，亦可利用空氣。作為氧化性氣體，例如可列舉氧氣、一氧化碳、一氧化二氮等。加熱步驟可於加壓下、常壓下、減壓下或真空中的任一種壓力下實施。

藉由上述加熱處理所獲得的硬化膜主要包含有機氧化矽(SiOC)。藉此，即便是例如微細圖案，視需要亦可高精度地對被加工物或硬化膜進行蝕刻加工，亦可適宜地應對微小的固體攝影元件的製造步驟。

(抗反射膜)

作為本發明中的硬化膜的適宜的使用形態，可列舉抗反射膜。尤其適合作為使用固體攝影元件等的光學裝置，例如影像感測器用微透鏡、電漿顯示面板、液晶顯示器、有機電致發光等用的抗反射膜。用作抗反射膜時的反射率越低越好。具體而言，較佳為於450 nm~650 nm的波長區域中的鏡面平均反射率為3%以下，更佳為2%以下，最佳為1%以下。再者，反射率越小越好， 最佳為0。

抗反射膜的霧度較佳為3%以下，更佳為1%以下，最佳為0.5%以下。再者，反射率越小越好最佳為實質上為0。

<固體攝影元件>

本發明的較佳的實施形態的固體攝影元件是以於半導體受光單元上具有微透鏡單元，且微透鏡體與彩色濾光片接觸的方式來組裝。受光元件接收以透光性硬化膜、透鏡體、及彩色濾光片的順序透過的光，並作為影像感測器發揮功能。具體而言，透光性硬化膜作為抗反射膜發揮功能，使透鏡體的聚光效率提昇，藉由透鏡體而有效率地聚集的光經由彩色濾光片而被受光元件檢測。由於上述該些遍及元件整體而發揮功能(上述元件為偵測分別對應於RGB的光的元件)，因此即便於將受光元件與透鏡體高密度地排列的情況下，亦可獲得極為鮮明的圖像。

再者，元件或單元的上方、下方並無特別限定，但只要事先無特別說明，則將透光性硬化膜之側設為上方或外側，而將受光元件之側設為下方或內側。

作為應用微透鏡陣列的固體攝影元件的例子，可列舉日本專利特開2007-119744號公報中所記載的例子。具體而言，在形成於半導體基板的表面的電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)區域或光電轉換部之間具有傳輸電極，於其上經由層間膜而形成有遮光膜。於遮光膜上積層有由硼磷矽玻璃(Boro-Phospho-Silicate Grass，BPSG)等形成的層間絕緣膜、鈍 化膜(passivation film)及由丙烯酸系樹脂等形成的低折射率的透明平坦化膜，於其上形成有將R.G.B.加以組合而成的彩色濾光片。進而，以經由保護膜而位於作為受光區域的光電轉換部的上方的方式，排列並形成有多個微透鏡。

本發明的較佳的實施形態的微透鏡單元較佳為下述的構成。即，應用多個凸透鏡作為上述微透鏡體，該多個凸透鏡是使其膨出方向實質上朝向同一方向來排列，且該多個凸透鏡自其膨出方向被覆蓋並由上述透光性硬化膜包覆，在形成於上述多個凸透鏡間的凹部，實質上無間隙地填充有上述透光性硬化膜，另一方面，於該透光性硬化膜中，將上述透鏡體的相反側設為平坦面。

於本發明中，微透鏡單元亦適宜用於固體攝影元件用途以外的其他用途。作為其他用途，例如可列舉：各種辦公室自動化(Office Automation，OA)機器、液晶電視機、行動電話、投影儀等的液晶顯示元件，傳真機、電子影印機、固體攝影元件等的晶載彩色濾光片(On Chip Color Filter)的成像光學系統等，可用於上述各種用途。

以下，對本發明中的下層(高折射率層)的較佳的實施形態進行詳細說明。以下所記載的構成要件的說明有時基於本發明的具有代表性的實施方式，但本發明並不限定於此種實施方式。

本發明中的下層(高折射率層)較佳為由選自以下所說明的分散組成物I或分散組成物II中的至少一種分散組成物而形 成。

<分散組成物I>

所謂分散組成物I，是指如下的分散組成物：包括一次粒徑為1 nm~100 nm的金屬氧化物粒子(A)、具有除氫原子以外的原子數為40~10000的範圍的接枝鏈的接枝共聚物(B)、及溶劑(C)，且相對於分散組成物的總固體成分，金屬氧化物粒子(A)的含量為50質量%以上、90質量以下。

再者，於本發明中，除後述實施形態的樹脂組成物以外，可適宜地使用市售的硬化性樹脂。以下先列出其商品名(製品編號)。

(1)超高折射率、高耐熱塗佈材料：UR-108、UR-202、UR-501、HR-102(日產化學工業公司製造)

(2)厚膜用高折射率塗佈材料：UR-108、UR-204、HR-201(日產化學工業公司製造)

(3)硫代環氧樹脂LPH1101(三菱瓦斯化學公司製造)

(4)環硫樹脂(episulfide resin)MR-174(三井化學公司製造)

(5)硫代胺基甲酸酯樹脂MR-7(三井化學公司製造)

(A)金屬氧化物粒子

金屬氧化物粒子為折射率高的無機粒子，可列舉鈦(Ti)、鋯(Zr)、鋁(Al)、矽(Si)、鋅(Zn)或鎂(Mg)的氧化物粒子，較佳為二氧化鈦(TiO₂)粒子、二氧化鋯(ZrO₂)粒 子或二氧化矽(SiO₂)粒子，其中，更佳為二氧化鈦粒子(以下，有時亦簡稱為「二氧化鈦」)。

作為無色或透明的二氧化鈦粒子，可由化學式TiO₂表示，較佳為純度為70%以上，更佳為純度為80%以上，進而更佳為純度為85%以上。由通式Ti_nO_2n-1(n表示2~4的數)所表示的低價氧化鈦、氮氧化鈦等較佳為30質量%以下，更佳為20質量%以下，進而更佳為15質量%以下。

上述金屬氧化物粒子的一次粒徑較佳為1 nm~100 nm，更佳為1 nm~80 nm，特佳為1 nm~50 nm。若金屬氧化物粒子的一次粒徑超過100 nm，則有時折射率及透過率會下降。另外，於未滿1 nm的情況下，有時因凝聚而導致分散性或分散穩定性下降。

將金屬氧化物粒子的平均粒徑設為利用後述實施例中所採用的測定方法所得的值。

金屬氧化物粒子的折射率並無特別限制，但就獲得高折射率的觀點而言，較佳為1.75~2.70，更佳為1.90~2.70。該折射率的測定方法與上述中空粒子相同。

另外，金屬氧化物粒子的比表面積較佳為10 m²/g~400 m²/g，更佳為20 m²/g~200 m²/g，最佳為30 m²/g~150 m²/g。

另外，金屬氧化物粒子的形狀並無特別限制。例如可為米粒狀、球狀、立方體狀、紡錘狀或不定形。

金屬氧化物粒子亦可為由有機化合物進行表面處理而 成者。用於表面處理的有機化合物的例子包括多元醇、烷醇胺、硬脂酸、矽烷偶合劑及鈦酸酯偶合劑。其中，較佳為矽烷偶合劑。

表面處理可利用單獨1種表面處理劑來實施，亦可組合2種以上的表面處理劑來實施。

另外，金屬氧化物粒子的表面由鋁、矽、氧化鋯等氧化物覆蓋亦較佳。藉此，耐候性進一步提昇。

作為金屬氧化物粒子，可較佳地使用市售物。

作為二氧化鈦粒子的市售物，例如可列舉：石原產業(股份)製造的TTO系列(TTO-51(A)、TTO-51(C)等)、TTO-S、V系列(TTO-S-1、TTO-S-2、TTO-V-3等)，帝化(Tayca)(股份)製造的MT系列(MT-01、MT-05等)等。

作為二氧化鋯粒子的市售物，例如可列舉：UEP(第一稀元素化學工業(股份)製造)，PCS(日本電工(股份)製造)，JS-01、JS-03、JS-04(日本電工(股份)製造)，UEP-100(第一稀元素化學工業(股份)製造)等。

作為二氧化矽粒子的市售物，例如可列舉科萊恩公司(Clariant Co.)製造的OG502-31等。

金屬氧化物粒子可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。

另外，當構成本實施形態的分散組成物(I)時，為了獲得非常高的折射率，就分散穩定性的觀點而言，相對於分散組成物總固體成分，組成物中的金屬氧化物粒子的含量較佳為10質 量%~90質量%，更佳為10質量%~50質量%，進而更佳為12質量%~40質量%，特佳為15質量%~35質量%。

另一方面，尤其作為高折射率的微透鏡用，相對於分散組成物的總固體成分，為50質量%~90質量%，更佳為52質量%~85質量%，最佳為55質量%~80質量%。

如上所述，近年來伴隨高畫素化，1個畫素的尺寸極小，為了更高效地聚光，而要求具有更高的折射率的微透鏡，但若相對於分散組成物的總固體成分，金屬氧化物粒子的含量未滿50質量%，則難以獲得此種微透鏡。

另外，若相對於分散組成物(I)的總固體成分，金屬氧化物粒子的含量超過90質量%，則因難以存在足夠量的接枝共聚物(B)等理由，故分散性及分散穩定性容易受損。進而，當將分散組成物(硬化性組成物)塗佈於大尺寸(例如12吋)的晶圓上時，難以形成晶圓的中心部與周邊部的膜厚差小的膜。

(B)接枝共聚物

本實施形態的分散組成物是包含接枝共聚物(以下，亦稱為「特定樹脂」)的分散組成物。本實施形態的接枝共聚物具有除氫原子以外的原子數為40~10000的範圍的接枝鏈。此情況下的接枝鏈表示自共聚物的主鏈的根部(自主鏈進行分支的基中鍵結於主鏈的原子)至自主鏈進行分支的基的末端為止。於分散組成物中，該特定樹脂是對金屬氧化物粒子賦予分散性的分散樹脂，因具有由接枝鏈所產生的與溶劑的親和性，故金屬氧化物粒 子的分散性、及經時後的分散穩定性優異。另外，可認為當製成分散組成物時，接枝鏈與溶劑顯示良好的交互作用，藉此塗佈膜的膜厚的均一性惡化的情況得到抑制。

作為(B)接枝共聚物，較佳為每1條接枝鏈的除氫原子以外的原子數為40~10000，更佳為100~500，進而更佳為150~260。若該原子數過少，則接枝鏈短，因此有時立體排斥效果變小，分散性或分散穩定性下降。另一方面，若該原子數過多，則接枝鏈變得過長，有時對於金屬氧化物粒子的吸附力下降，分散性或分散穩定性下降。再者，所謂每1條接枝鏈的除氫原子以外的原子數，是指自鍵結於構成主鏈的高分子鏈的根部的原子，至自主鏈進行分支的分支聚合物的末端為止所含有的氫原子以外的原子的數量。另外，當於接枝共聚物中包含2種以上的接枝鏈時，只要至少1種接枝鏈的除氫原子以外的原子數滿足上述必要條件即可。

作為接枝鏈的聚合物結構，可使用聚(甲基)丙烯酸結構、聚酯結構、聚胺基甲酸酯結構、聚脲結構、聚醯胺結構、聚醚結構等，為了藉由提昇接枝鏈與溶劑的交互作用性來提高分散性或分散穩定性，較佳為具有聚(甲基)丙烯酸結構、聚酯結構、聚醚結構的接枝鏈，更佳為具有聚酯結構、聚醚結構。

接枝共聚物較佳為包含具有上述接枝鏈的結構單元(重複單元)，例如可藉由根據常規方法，使具有聚合物結構作為接枝鏈的大分子單體進行聚合來獲得，作為此種大分子單體的結構， 只要具有可與聚合物主鏈部進行反應的取代基、且具有滿足必要條件的接枝鏈，則並無特別限定，較佳為可適宜地使用具有反應性雙鍵性基的大分子單體。

作為可適宜地用於特定樹脂的合成的市售大分子單體，可列舉：AA-6(東亞合成公司製造)、AA-10(東亞合成公司製造)、AB-6(東亞合成公司製造)、AS-6(東亞合成公司製造)、AN-6(東亞合成公司製造)、AW-6(東亞合成公司製造)、AA-714(東亞合成公司製造)、AY-707(東亞合成公司製造)、AY-714(東亞合成公司製造)、AK-5(東亞合成公司製造)、AK-30(東亞合成公司製造)、AK-32(東亞合成公司製造)、Blemmer PP-100(日油公司製造)、Blemmer PP-500(日油公司製造)、Blemmer PP-800(日油公司製造)、Blemmer PP-1000(日油公司製造)、Blemmer 55-PET-800(日油公司製造)、Blemmer PME-4000(日油公司製造)、Blemmer PSE-400(日油公司製造)、Blemmer PSE-1300(日油公司製造)、Blemmer 43PAPE-600B(日油公司製造)等。其中，較佳為AA-6(東亞合成公司製造)、AA-10(東亞合成公司製造)、AB-6(東亞合成公司製造)、AS-6(東亞合成公司製造)、AN-6(東亞合成公司製造)、Blemmer PME-4000(日油公司製造)等。

作為具有上述接枝鏈的結構單元，本實施形態中所使用的特定樹脂較佳為至少含有由下述式(1)~式(4)的任一者所表示的結構單元。

[化3]

X¹、X²、X³、X⁴、及X⁵分別獨立地表示氫原子或一價的有機基。就合成上的限制的觀點而言，較佳為氫原子、或碳數為1~12的烷基，更佳為氫原子或甲基，特佳為甲基。

W¹、W²、W³、及、W⁴分別獨立地表示氧原子或NH，特佳為氧原子。

R³表示分支或直鏈的伸烷基(碳數較佳為1~10，更佳為2或3)，就分散穩定性的觀點而言，較佳為由-CH₂-CH(CH₃)-所表示的基、或由-CH(CH₃)-CH₂-所表示的基。亦可於特定樹脂中混合使用2種以上的結構不同的R³。

Y¹、Y²、Y³、及、Y⁴分別獨立為二價的連結基，結構上並無特別限制。具體而言，可列舉下述的(Y-1)~(Y-21)的連結基等。下述結構中，A、B分別表示與式(1)~式(4)中的左末端基、右末端基的鍵結。下述所示的結構之中，就合成的簡便性而言，更佳為(Y-2)、(Y-13)。

[化4]

Z¹、Z²、Z³、及、Z⁴分別獨立為氫原子或一價的取代基，取代基的結構並無特別限定，具體而言，可列舉：烷基、羥基、烷氧基、芳氧基、或雜芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、或者雜芳基硫醚基、胺基等。其中，尤其就提昇分散性的觀點而言，較佳為具有立體排斥效果，作為由Z¹~Z³所表示的一價的取代 基，較佳為分別獨立且碳數為5~24的烷基或碳數為5~24的烷氧基，其中，特佳為分別獨立且具有碳數為5~24的分支烷基的烷氧基、或具有碳數為5~24的環狀烷基的烷氧基。另外，作為由Z⁴所表示的一價的取代基，較佳為碳數為5~24的烷基，其中，較佳為分別獨立且碳數為5~24的分支烷基或者碳數為5~24的環狀烷基。

n、m、p、及、q分別為1~500的整數。

j及k分別獨立地表示2~8的整數。

就分散穩定性的觀點而言，j及k較佳為4~6的整數，最佳為5。

R⁴表示氫原子或一價的有機基，結構上並無特別限定，但較佳為氫原子、烷基、芳基、雜芳基，更佳為氫原子、烷基。當該R⁴為烷基時，作為該烷基，較佳為碳數為1~20的直鏈狀烷基、碳數為3~20的分支狀烷基、或碳數為5~20的環狀烷基，更佳為碳數為1~20的直鏈狀烷基，特佳為碳數為1~6的直鏈狀烷基。亦可於特定樹脂中混合使用2種以上的結構不同的R⁴。

作為由上述式(1)所表示的結構單元，就分散穩定性的觀點而言，更佳為由下述式(1A)或式(2A)所表示的結構單元。

[化5]

式(1A)中，X¹、Y¹、Z¹及n的含義與式(1)中的X¹、Y¹、Z¹及n相同，較佳的範圍亦相同。

式(2A)中，X²、Y²、Z²及m的含義與式(2)中的X²、Y²、Z²及m相同，較佳的範圍亦相同。

作為特定樹脂，更佳為具有由上述式(1A)所表示的結構單元者。

於特定樹脂中，以質量換算計，相對於特定樹脂的總質量，較佳為於10%~75%的範圍內包含具有上述接枝鏈的結構單元(重複單元)，更佳為於12%~50%的範圍內包含具有上述接枝鏈的結構單元(重複單元)，特佳為於15%~40%的範圍內包含具有上述接枝鏈的結構單元(重複單元)。若為該範圍內，則金屬氧化物粒子的分散性或分散穩定性高，使用分散組成物所形成的塗佈膜的膜厚的均一性變得更良好。另外，作為特定樹脂，亦可為2種以上的結構不同的接枝共聚物的組合。

另外，特定樹脂較佳為如下的聚合物，即相對於特定樹脂的總質量，以25質量%以上、90質量%以下包含具有酸基的結構單元(重複單元)。相對於特定樹脂的總質量，具有酸基的結構單元的含量更佳為50質量%以上、80質量%以下，最佳為60質量 %以上、75質量%以下。若相對於特定樹脂的總質量，具有酸基的結構單元的含量未滿25質量，則特定樹脂對於金屬氧化物粒子的吸附性變得不充分，分散穩定性變差，當將分散組成物(硬化性組成物)塗佈於大尺寸(例如12吋)的晶圓上時，難以形成晶圓的中心部與周邊部的膜厚差小的膜。

若相對於特定樹脂的總質量，具有酸基的結構單元的含量超過90質量%，則上述接枝鏈向特定樹脂中的導入量變得不充分，分散穩定性變差，同樣難以形成晶圓的中心部與周邊部的膜厚差小的膜。

另外，藉由具有酸基的結構單元的含量為上述範圍內，可將特定樹脂的酸值適宜地調整至下述的較佳範圍內。

另外，酸基亦可作為除接枝鏈以外，可與金屬氧化物粒子形成交互作用的官能基而發揮功能。

作為上述酸基，例如可列舉羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羥基等，就對金屬氧化物粒子的吸附力、以及分散性．分散穩定性的觀點而言，較佳為選自羧酸基、磺酸基、及磷酸基中的至少1種，特佳為羧酸基。

進而，酸基結構較佳為與樹脂結構的主鏈相隔5個原子以上的結構。進而，作為酸基，最佳為鍵結於芳香環上的羧酸。

作為上述酸基，可單獨使用該些酸基的1種、或將2種以上組合使用。

上述特定樹脂的酸值較佳為70 mgKOH/g以上、350 mgKOH/g以下的範圍，更佳為80 mgKOH/g以上、300 mgKOH/g以下的範圍，進而更佳為100 mgKOH/g以上、250 mgKOH/g以下的範圍。藉由將酸值設為上述範圍，即便於將分散組成物塗佈在大尺寸(例如12吋)的晶圓上的情況下，亦可更確實地獲得晶圓的中心部與周邊部的膜厚差小的膜。

特定樹脂的酸值例如可根據特定樹脂中的酸基的平均含量而算出。另外，藉由使構成特定樹脂的含有酸基的單體單元的含量變化，可獲得具有所期望的酸值的樹脂。

特定樹脂可進一步包括具有上述接枝鏈及酸基以外的可與金屬氧化物粒子形成交互作用的官能基的結構單元(重複單元)。此種具有其他可與金屬氧化物粒子形成交互作用的官能基的結構單元於結構上並無特別限定，例如可列舉具有鹼性基的結構單元、具有配位性基的結構單元、含有具有反應性的基的結構單元等。

作為上述鹼性基，例如可列舉：一級胺基、二級胺基、三級胺基、含有N原子的雜環、醯胺基等。特佳為對於金屬氧化物粒子的吸附力良好、且分散性．分散穩定性高的三級胺基。作為上述鹼性基，可單獨使用該些基的1種、或將2種以上組合使用。

特定樹脂可包含具有鹼性基的結構單元(重複單元)，亦可不含具有鹼性基的結構單元(重複單元)，當包含具有鹼性基的結構單元(重複單元)時，相對於特定樹脂的總質量，具有鹼性基的結構單元的含量為0.1質量%以上、50質量%以下，特佳為 0.1質量%以上、30質量%以下。

作為上述配位性基、具有反應性的基，例如可列舉：乙醯基乙醯氧基、三烷氧基矽烷基、異氰酸酯基、酸酐殘基、醯氯殘基等。特佳為對於金屬氧化物粒子的吸附力良好、分散性．分散穩定性高的乙醯基乙醯氧基。作為上述配位性基、具有反應性的基，可單獨使用該些基的1種、或將2種以上組合使用。

特定樹脂可含有包含配位性基或具有反應性的基的結構單元(重複單元)，亦可不含該結構單元(重複單元)，當含有包含配位性基或具有反應性的基的結構單元(重複單元)時，相對於特定樹脂的總質量，包含配位性基或具有反應性的基的結構單元的含量為0.1質量%以上、50質量%以下，特佳為0.1質量%以上、30質量%以下。

另外，作為與具有上述接枝鏈的結構單元及具有上述酸基的結構單元不同、且具有可與金屬氧化物粒子形成交互作用的官能基的結構單元，特定樹脂亦可具有自由下述通式(i)~通式(iii)的任一者所表示的單體所獲得的重複單元的至少1種。

[化6]

上述式(i)~式(iii)中，R¹、R²及R³分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如氟、氯、溴等)、或碳原子數為1~6的烷基(例如甲基、乙基、丙基等)。

R¹、R²及R³更佳為氫原子、或碳原子數為1~3的烷基，最佳為氫原子或甲基。R²及R³特佳為氫原子。

X表示氧原子(-O-)或亞胺基(-NH-)，較佳為氧原子。

L為單鍵或二價的連結基。作為二價的連結基，可列舉：二價的脂肪族基(例如伸烷基、經取代伸烷基、伸烯基、經取代伸烯基、伸炔基、經取代伸炔基)、二價的芳香族基(例如伸芳基、經取代伸芳基)、二價的雜環基及該些基與氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亞胺基(-NH-)、經取代亞胺基(-NR³¹-、此處R³¹為脂肪族基、芳香族基或雜環基)或羰基(-CO-)的組合等。

上述二價的脂肪族基可具有環狀結構或分支結構。上述脂肪族基的碳原子數較佳為1~20，更佳為1~15，進而更佳為1 ~10。

作為脂肪族基，飽和脂肪族基優於不飽和脂肪族基。另外，脂肪族基可具有取代基。取代基的例子可列舉鹵素原子、羥基、芳香族基及雜環基。

上述二價的芳香族基的碳原子數較佳為6~20，更佳為6~15，最佳為6~10。另外，上述芳香族基可具有取代基。取代基的例子可列舉鹵素原子、羥基、脂肪族基、芳香族基及雜環基。

上述二價的雜環基較佳為具有5員環或6員環作為雜環。其他雜環、脂肪族環或芳香族環可於雜環上縮合。另外，雜環基可具有取代基。作為取代基的例子，可列舉：鹵素原子、羥基、側氧基(=O)、硫酮基(thioxo)(=S)、亞胺基(=NH)、取代亞胺基(=N-R³²，此處R³²為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、脂肪族基、芳香族基及雜環基。

L較佳為單鍵、伸烷基或含有氧伸烷基結構的二價的連結基。氧伸烷基結構更佳為氧乙烯結構或氧丙烯結構。另外，L亦可含有重複包含2個以上的氧伸烷基結構的聚氧伸烷基結構。作為聚氧伸烷基結構，較佳為聚氧乙烯結構或聚氧丙烯結構。聚氧乙烯結構由-(OCH₂CH₂)_n-表示，n較佳為2以上的整數，更佳為2~10的整數。

上述式(i)~式(iii)中，Z表示可與金屬氧化物粒子形成交互作用的官能基，較佳為上述酸基、鹼性基、或具有反應性的基，更佳為羧酸基、或三級胺基，進而更佳為羧酸基。另外， Y表示次甲基或氮原子。

上述式(iii)中，R⁴、R⁵及R⁶分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如氟、氯、溴等)、碳原子數為1~6的烷基(例如甲基、乙基、丙基等)、Z、或-L-Z。此處，L及Z的含義與上述中的L及z相同。作為R⁴、R⁵及R⁶，較佳為氫原子、或碳數為1~3的烷基，更佳為氫原子。

作為由上述通式(i)所表示的單體，較佳為如下的化合物：R¹、R²及R³為氫原子或甲基，L為伸烷基或含有氧伸烷基結構的二價的連結基，X為氧原子或亞胺基，Z為羧酸基。

另外，作為由上述通式(ii)所表示的單體，較佳為R¹為氫原子或甲基、L為伸烷基、Z為羧酸基、Y為次甲基的化合物。另外，作為由上述通式(iii)所表示的單體，較佳為R⁴、R⁵及R⁶為氫原子或甲基，Z為羧酸基的化合物。

作為由式(i)~式(iii)所表示的具有代表性的化合物的例子，可列舉：甲基丙烯酸、巴豆酸、異巴豆酸、分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物(例如甲基丙烯酸2-羥基乙酯)與丁二酸酐的反應物、分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物與鄰苯二甲酸酐的反應物、分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物與四羥基鄰苯二甲酸酐的反應物、分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物與偏苯三甲酸酐的反應物、分子內具有加成聚合性雙鍵及羥基的化合物與均苯四甲酸酐的反應物、丙烯酸、丙烯酸二聚體、丙烯酸寡聚物、順丁烯二酸、衣康酸、反丁 烯二酸、4-乙烯基苯甲酸、乙烯基苯酚、4-羥苯基甲基丙烯醯胺等。

進而，為了提昇圖像強度等各種性能，只要不損害本發明的效果，則除具有上述接枝鏈的結構單元、具有上述酸基的結構單元、及與該些結構單元不同的具有可與金屬氧化物粒子形成交互作用的官能基的結構單元以外，金屬氧化物粒子的分散組成物中所含有的上述特定樹脂可進一步包含具有各種功能的其他結構單元，例如含有具有與分散物中所使用的分散媒的親和性的官能基等的結構單元作為源自共聚成分的結構單元。

作為可與特定樹脂進行共聚的共聚成分，例如可列舉選自丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酯類、苯乙烯類、丙烯腈類、甲基丙烯腈類、丙烯醯胺類、甲基丙烯醯胺類等中的自由基聚合性化合物。

具體而言，例如可列舉：丙烯酸烷基酯(較佳為該烷基的碳原子數為1~20者)等丙烯酸酯類(具體而言，例如丙烯酸苄酯、丙烯酸4-聯苯酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸第二丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸4-第三丁基苯酯、丙烯酸4-氯苯酯、丙烯酸五氯苯酯、丙烯酸4-氰基苄酯、丙烯酸氰基甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸庚酯、丙烯酸己酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸3,5-二甲基金剛烷酯、丙烯酸2-萘酯、丙烯酸新戊酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苯乙酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸甲苯酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸四氫糠酯、丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯 酸3-羥基丙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸5-羥基戊酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、丙烯酸炔丙酯等)，甲基丙烯酸烷基酯(較佳為該烷基的碳原子為1~20者)等甲基丙烯酸酯類(例如甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸4-聯苯酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸第二丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸4-第三丁基苯酯、甲基丙烯酸4-氯苯酯、甲基丙烯酸五氯苯酯、甲基丙烯酸4-氰基苯酯、甲基丙烯酸氰基甲酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸庚酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸3,5-二甲基金剛烷酯、甲基丙烯酸2-萘酯、甲基丙烯酸新戊酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸苯乙酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲苯酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸3-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸5-羥基戊酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、甲基丙烯酸炔丙酯、甲基丙烯酸2-二乙胺基乙酯、甲基丙烯酸2-二甲基胺酯等)，苯乙烯、烷基苯乙烯等苯乙烯類(例如甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、環己基苯乙烯、癸基苯乙 烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙醯氧基甲基苯乙烯等)、烷氧基苯乙烯(例如甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等)、鹵素苯乙烯(例如氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等)，丙烯腈，甲基丙烯腈等。

該些自由基聚合性化合物之中，適宜使用的是甲基丙烯酸酯類、丙烯醯胺類、甲基丙烯醯胺類、苯乙烯類，特別適宜使用的是甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸4-第三丁基苯酯、甲基丙烯酸五氯苯酯、甲基丙烯酸4-氰基苯酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸3,5-二甲基金剛烷酯、甲基丙烯酸2-萘酯、甲基丙烯酸新戊酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸3-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯醯胺、N-甲基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、嗎啉基丙烯醯胺、哌啶基丙烯醯胺、N-第三丁基丙烯醯胺、N-環己基丙烯醯胺、N-苯基丙烯醯胺、N-萘基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-羥乙基丙烯醯胺、N-烯丙基丙烯醯胺、4-羥苯基丙烯醯胺、2-羥苯基丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二異丙基丙烯醯 胺、N,N-二-第三丁基丙烯醯胺、N,N-二環己基丙烯醯胺、N,N-苯基丙烯醯胺、N,N-二羥乙基丙烯醯胺、N,N-二烯丙基丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-甲基甲基丙烯醯胺、N-異丙基甲基丙烯醯胺、嗎啉基甲基丙烯醯胺、哌啶基甲基丙烯醯胺、N-第三丁基甲基丙烯醯胺、N-環己基甲基丙烯醯胺、N-苯基甲基丙烯醯胺、N-萘基甲基丙烯醯胺、N-羥甲基甲基丙烯醯胺、N-羥乙基甲基丙烯醯胺、N-烯丙基甲基丙烯醯胺、4-羥苯基甲基丙烯醯胺、2-羥苯基甲基丙烯醯胺、N,N-二甲基甲基丙烯醯胺、N,N-二異丙基甲基丙烯醯胺、N,N-二-第三丁基甲基丙烯醯胺、N,N-二環己基甲基丙烯醯胺、N,N-苯基甲基丙烯醯胺、N,N-二羥乙基甲基丙烯醯胺、N,N-二烯丙基甲基丙烯醯胺、苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、環己基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙醯氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯。

該些自由基聚合性化合物可單獨使用1種、或將2種以上組合使用。特定樹脂可含有上述自由基聚合性化合物，亦可不含上述自由基聚合性化合物，當含有上述自由基聚合性化合物時，相對於特定樹脂的總質量，對應於該些自由基聚合性化合物 的結構單元的含量為0.1質量%以上、50質量%以下，特佳為0.1質量%以上、30質量%以下。

特定樹脂可藉由先前公知的方法來合成。作為合成時所使用的溶劑，例如可列舉：二氯化乙烯、環己酮、甲基乙基酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙酸2-甲氧基乙酯、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、二甲基亞碸、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。該些溶劑可單獨使用、或混合2種以上。

作為上述特定樹脂的具體例，可列舉以下的例示化合物1~例示化合物32，但本發明並不限定於該些例示化合物。下述例示化合物中，一併記載於各結構單元中的數值(一併記載於主鏈重複單元中的數值)表示該結構單元的含量[質量%：記載為(wt%)]。一併記載於側鏈的重複部位中的數值表示該重複部位的重複數。

[化7]

[化8]

[化9]

[化10]

[化11]

[化12]

[化13]

[化14]

[化15]

特定樹脂的重量平均分子量(藉由GPC法所測定的聚苯乙烯換算值)較佳為5,000以上、300,000以下，更佳為7,000以上、100,000以下，特佳為10,000以上、50,000以下。

於分散組成物(I)中，特定樹脂可單獨使用1種、或將2種以上組合使用。

就分散性、分散穩定性的觀點而言，相對於分散組成物(I)的總固體成分的特定樹脂的含量較佳為10質量%~50質量%的範圍，更佳為11質量%~40質量%的範圍，進而更佳為12質量 %~30質量%的範圍。

-其他分散樹脂-

於分散組成物(I)中，為了調整金屬氧化物粒子的分散性等，亦可含有上述特定樹脂以外的分散樹脂(以下，有時稱為「其他分散樹脂」)。

作為可用於本發明的其他分散樹脂，可列舉：高分子分散劑[例如聚醯胺胺與其鹽、聚羧酸與其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸甲醛縮合物]、及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇胺、顏料衍生物等。

其他分散樹脂根據其結構而可進一步分類為直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。

作為其他分散樹脂的具體例，可列舉：BYK Chemie公司製造的「Disperbyk-101(聚醯胺胺磷酸鹽)、107(羧酸酯)、110(含有酸基的共聚物)、130(聚醯胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)」、「BYK-P104、P105(高分子量不飽和聚羧酸)」，EFKA公司製造的「EFKA4047、4050、4010、4165(聚胺基甲酸酯系)、EFKA4330、4340(嵌段共聚物)、4400、4402(改質聚丙烯酸酯)、5010(聚酯醯胺)、5765(高分子量聚羧酸鹽)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮顏料衍生物)」，味之素精細化學(Ajinomoto Fine-Techno)公司製造的「Ajisper PB821、PB822」，共榮社化學公司製造的「Florene TG-710 (胺基甲酸酯寡聚物)」、「Polyflow No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)」，楠本化成公司製造的「Disparlon KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725」，花王公司製造的「Demol RN、N(萘磺酸甲醛聚縮合物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸甲醛聚縮合物)」、「Homogenol L-18(高分子聚羧酸)」、「Emulgen920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯醚)」、「Acetamin86(硬脂基胺乙酸酯)」，路博潤(Lubrizol)公司製造的「Solsperse5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(末端部具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)」，日光化學(Nikko Chemicals)者製造的「Nikol T106(聚氧乙烯去水山梨醇單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯單硬脂酸酯)」等。

該些其他樹脂可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。

分散組成物(I)可含有其他分散樹脂，亦可不含其他分散樹脂，當含有其他分散樹脂時，相對於分散組成物(I)的總固體成分的其他分散樹脂的含量較佳為1質量%~20質量%的範圍，更佳為1質量%~10質量%的範圍。

(C)溶劑

分散組成物(I)含有溶劑，該溶劑可使用各種有機溶劑來構成。

作為此處可使用的有機溶劑，有丙酮、甲基乙基酮、環己烷、乙酸乙酯、二氯化乙烯、四氫呋喃、甲苯、乙二醇單甲醚、 乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、乙醯丙酮、環己酮、二丙酮醇、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、3-甲氧基丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、γ-丁內酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。

該些有機溶劑可單獨使用、或混合使用。分散組成物(I)中的固體成分的濃度較佳為2質量%~60質量%。

分散組成物(I)的製造方法並無特別限制，可應用通常所使用的分散組成物的製造方法。例如可藉由將金屬氧化物粒子、接枝共聚物、及溶劑混合，並使用循環型分散裝置(珠磨機)等進行分散處理來製造。

<硬化性組成物>

本實施形態的分散性組成物(I)較佳為藉由含有聚合性化合物(D)與聚合起始劑，視需要含有其他成分而構成的高折射率層形成用硬化性組成物。

如此，於本實施形態中，「硬化性組成物」為「分散組成物」的一種形態，因此如上所述，相對於高折射率層形成用硬化性組成物的總固體成分的金屬氧化物粒子的含量為50質量%~90質量%，更佳為52質量%~85質量%，最佳為55質量%~80質量%。

上述分散組成物藉由製成高折射率層形成用硬化性組成物，分散性及分散穩定性優異，並且折射率非常高，且即便於塗佈在大尺寸的晶圓上的情況下，亦可形成中心部與周邊部的膜厚差小的膜(以透明膜為代表)。

另外，本發明亦關於一種使用本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物所形成的透明膜。

另外，本實施形態的組成物(I)較佳為透明的組成物，更具體而言，其為如下的組成物：當利用組成物來形成膜厚為1.0 μm的硬化膜時，對於該硬化膜的厚度方向的透光率為遍及400 nm~700 nm的波長區域的整個區域而達到90%以上。

即，本實施形態的透明膜是指如下的膜：於膜厚為1.0 μm時，對於膜的厚度方向的透光率為遍及400 nm~700 nm的波長區域的整個區域而達到90%以上。

只要硬化性組成物含有本實施形態的分散組成物(I)、聚合性化合物(D)及聚合起始劑(E)，則此種透光率的物性可藉由任何方法來達成，例如，藉由調整聚合性化合物(D)、或可進而添加的黏合劑聚合物的種類及含量而適宜地達成。另外，藉由調整金屬氧化物粒子(A)的粒徑、或接枝共聚物(B)的種類及添加量，亦可適宜地達成上述透光率的物性。

關於本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物及透明膜，尤其為了微透鏡顯現其所需要的特性，上述透光率遍及400 nm~700 nm的波長區域的整個區域90%以上是重要的要素。

上述透光率較佳為遍及400 nm~700 nm的波長區域的整個區域為95%以上，更佳為99%以上，最佳為100%。

鑒於上述，本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物實質上不含著色劑(較佳為相對於組成物的總固體成分，著色劑的含量為0質量%)。

(D)聚合性化合物

(D)聚合性化合物是具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵、環氧基、氧雜環丁基等聚合性基的加成聚合性化合物，可自具有至少1個，較佳為2個以上的該些聚合性基的化合物中選擇。此種化合物是於該技術領域中廣為人知的化合物，於本發明中，可並無特別限定地使用該些化合物。

該些化合物具有例如單體，預聚物，即二聚體、三聚體等多聚體及寡聚物，或該些的混合物以及該些的共聚物等的化學形態。作為單體及其共聚物的例子，可列舉不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等)、或其酯類、醯胺類，較佳為使用不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺類。另外，亦可適宜地使用具有羥基或胺基、巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯類或不飽和羧酸醯胺類，與單官能或多官能異氰酸酯類或者環氧類的加成反應物，以及與單官能或多官能的羧酸的脫水縮合反應物等。另外，具有異氰酸酯基、或環氧基等親電子性取代基的不飽和羧酸酯或不飽和羧酸醯胺類，與單官能或多官能的醇 類、胺類、硫醇類的加成反應物；以及具有鹵基或甲苯磺醯氧基等脫離性取代基的不飽和羧酸酯或不飽和羧酸醯胺類，與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的取代反應物亦合適。另外，作為其他例，亦可使用取代成不飽和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等的化合物群來代替上述不飽和羧酸。作為該些的具體的化合物，於本發明中亦可適宜地使用日本專利特開2009-288705號公報的段落號0095~段落號0108中所記載的化合物。

聚合性化合物的第一種較佳的形態是包含具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵的單體(聚合性單體)、或具有聚合性基的寡聚物(聚合性寡聚物)(以下，有時將聚合性單體與聚合性寡聚物合稱為「聚合性單體等」)的形態。

另外，上述聚合性單體等為如下的化合物亦較佳：具有至少1個可進行加成聚合的乙烯基，且於常壓下具有100℃以上的沸點的含有乙烯性不飽和基的化合物。作為其例，可列舉：聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等單官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、甘油或三羥甲基乙烷等在多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而 成者，如日本專利特公昭48-41708號、日本專利特公昭50-6034號、日本專利特開昭51-37193號各公報中所記載的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類，日本專利特開昭48-64183號、日本專利特公昭49-43191號、日本專利特公昭52-30490號各公報中所記載的聚酯丙烯酸酯類，作為環氧聚合物與(甲基)丙烯酸的反應產物的丙烯酸環氧酯類等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、以及該些的混合物。

亦可列舉使多官能羧酸與(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環狀醚基及乙烯性不飽和基的化合物進行反應而獲得的多官能(甲基)丙烯酸酯等。

另外，作為其他較佳的聚合性單體等，亦可使用日本專利特開2010-160418、日本專利特開2010-129825、日本專利4364216等中所記載的具有茀環、具有二官能以上的乙烯性聚合性基的化合物、酚酞基聚合物(cardo polymer)。

另外，作為於常壓下具有100℃以上的沸點、且具有至少一個可進行加成聚合的乙烯性不飽和基的化合物，日本專利特開2008-292970號公報的段落號[0254]~段落號[0257]中所記載的化合物亦合適。

另外，於日本專利特開平10-62986號公報中作為通式(1)及通式(2)而與其具體例一同記載的化合物亦可用作聚合性單體，上述化合物是於上述多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物。

本發明中所使用的聚合性單體更佳為由下述通式(MO-1)~通式(MO-6)所表示的聚合性單體。

(式中，n分別為0~14，m分別為1~8。一分子內存在多個的R、T及Z彼此可相同，亦可不同。當T為氧伸烷基時，碳原子側的末端鍵結於R上。R中的至少1個為聚合性基)

n較佳為0~5，更佳為1~3。

m較佳為1~5，更佳為1~3。

R較佳為

更佳為

作為由上述通式(MO-1)~通式(MO-6)所表示的自由基聚合性單體的具體例，於本發明中亦可適宜地使用日本專利特開2007-269779號公報的段落號0248~段落號0251中所記載的化合物。

其中，作為聚合性單體等，較佳為二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為KAYARAD D-330；日本化藥股份有限公司製造)，二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為KAYARAD D-320；日本化藥股份有限公司製造)，二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為KAYARAD D-310；日本化藥股份有限公司製造)，二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為KAYARAD DPHA；日本化藥股份有限公司製造)，及該些的(甲基)丙烯醯基介於乙二醇、丙二醇殘基之間 的結構，或二甘油EO(環氧乙烷)改質(甲基)丙烯酸酯(市售品為M-460；東亞合成製造)。亦可使用該些的寡聚物型(oligomer type)。

例如可列舉RP-1040(日本化藥股份有限公司製造)等。

作為聚合性單體等，亦可為多官能單體，且具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。因此，如上所述，只要乙烯性化合物是如其為混合物的情況般具有未反應的羧基者，則可直接利用該乙烯性化合物，於必要時，亦可使上述乙烯性化合物的羥基與非芳香族羧酸酐進行反應而導入酸基。於此情況下，作為所使用的非芳香族羧酸酐的具體例，可列舉：四氫鄰苯二甲酸酐、烷基化四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、烷基化六氫鄰苯二甲酸酐、丁二酸酐、順丁烯二酸酐。

於本發明中，具有酸基的單體為脂肪族聚羥基化合物與不飽和羧酸的酯，較佳為使脂肪族聚羥基化合物的未反應的羥基與非芳香族羧酸酐進行反應而具有酸基的多官能單體，特佳為於該酯中，脂肪族聚羥基化合物為季戊四醇及/或二季戊四醇者。作為市售品，例如可列舉作為東亞合成股份有限公司製造的多元酸改質丙烯酸寡聚物的Aronix系列的M-305、M-510、M-520等。

具有酸基的多官能單體的較佳酸值為0.1 mg-KOH/g~40 mg-KOH/g，特佳為5 mg-KOH/g~30 mg-KOH/g。當併用2種以上酸基不同的多官能單體時、或當併用不含酸基的多官能單體時，必須以整體的多官能單體的酸值進入至上述範圍的方式製備。

另外，作為聚合性單體等，較佳為包含具有己內酯改質結構的多官能性單體。

作為具有己內酯改質結構的多官能性單體，只要其分子內具有己內酯改質結構，則並無特別限定，例如可列舉如下的ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯，即藉由將三羥甲基乙烷、二-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、二甘油、三羥甲基三聚氰胺等多元醇與(甲基)丙烯酸及ε-己內酯加以酯化而獲得的ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯。其中，較佳為具有由下述式(1)所表示的己內酯改質結構的多官能性單體。

(式中，6個R全部為由下述式(2)所表示的基，或者6個R中的1個~5個為由下述式(2)所表示的基，剩餘為由下述式(3)所表示的基)

(式中，R¹表示氫原子或甲基，m表示1或2的數，「*」表示鍵結鍵)

(式中，R¹表示氫原子或甲基，「*」表示鍵結鍵)

具有此種己內酯改質結構的多官能性單體例如可列舉：作為KAYARAD DPCA系列而由日本化藥(股份)所銷售的DPCA-20(上述式(1)~式(3)中，m=1、由式(2)所表示的基的數量=2、R¹均為氫原子的化合物)、DPCA-30(上述式(1)~式(3)中，m=1、由式(2)所表示的基的數量=3、R¹均為氫原子的化合物)、DPCA-60(上述式(1)~式(3)中，m=1、由式(2)所表示的基的數量=6、R¹均為氫原子的化合物)、DPCA-120(上述式(1)~式(3)中，m=2、由式(2)所表示的基的量=6、R¹均為氫原子的化合物)等。

於本發明中，具有己內酯改質結構的多官能性單體可單獨使用、或將2種以上混合使用。

另外，作為本發明中的聚合性單體等，選自由下述通式(i)或通式(ii)所表示的化合物的群組中的至少1種亦較佳。

[化22]

上述通式(i)及通式(ii)中，E分別獨立地表示-((CH₂)_yCH₂O)-、或-((CH₂)_yCH(CH₃)O)-，y分別獨立地表示0~10的整數，X分別獨立地表示丙烯醯基、甲基丙烯醯基、氫原子、或羧基。

上述通式(i)中，丙烯醯基及甲基丙烯醯基的合計為3個或4個，m分別獨立地表示0~10的整數，各m的合計為0~40的整數。其中，當各m的合計為0時，X中的任一個為羧基。

上述通式(ii)中，丙烯醯基及甲基丙烯醯基的合計為5個或6個，n分別獨立地表示0~10的整數，各n的合計為0~60的整數。其中，當各n的合計為0時，X中的任一個為羧基。

上述通式(i)中，m較佳為0~6的整數，更佳為0~4的整數。另外，各m的合計較佳為2~40的整數，更佳為2~16的整數，特佳為4~8的整數。

上述通式(ii)中，n較佳為0~6的整數，更佳為0~4的整數。另外，各n的合計較佳為3~60的整數，更佳為3~24的整數，特佳為6~12的整數。

另外，通式(i)或通式(ii)中的-((CH₂)_yCH₂O)-或 -((CH₂)_yCH(CH₃)O)-較佳為氧原子側的末端與X鍵結的形態。

由上述通式(i)或通式(ii)所表示的化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。尤其，較佳為於通式(ii)中，6個X均為丙烯醯基的形態。

由上述通式(i)或通式(ii)所表示的化合物可由作為先前公知的步驟的如下步驟來合成：藉由使季戊四醇或二季戊四醇與環氧乙烷或環氧丙烷進行開環加成反應來使開環骨架鍵結的步驟、以及使開環骨架的末端羥基與例如(甲基)丙烯醯氯進行反應來導入(甲基)丙烯醯基的步驟。各步驟是廣為人知的步驟，本領域從業人員可容易地合成由通式(i)或通式(ii)所表示的化合物。

由上述通式(i)或通式(ii)所表示的化合物之中，更佳為季戊四醇衍生物及/或二季戊四醇衍生物。

具體而言，可列舉由下述式(a)~式(f)所表示的化合物(以下，亦稱為「例示化合物(a)~例示化合物(f)」)，其中，較佳為例示化合物(a)、例示化合物(b)、例示化合物(e)、例示化合物(f)。

[化23]

[化24]

作為由通式(i)、通式(ii)所表示的聚合性單體等的市售品，例如可列舉：沙多瑪(Sartomer)公司製造的作為具有4個伸乙氧基鏈的四官能丙烯酸酯的SR-494、日本化藥股份有限公司製造的作為具有6個伸戊氧基鏈的六官能丙烯酸酯的DPCA-60、作為具有3個異伸丁氧基鏈的三官能丙烯酸酯的TPA-330等。

另外，作為聚合性單體等，如日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中所記載的丙烯酸胺基甲酸酯類，或日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利 特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、日本專利特公昭62-39418號公報中記載的具有環氧乙烷系骨架的胺基甲酸酯化合物類亦合適。進而，藉由使用日本專利特開昭63-277653號公報、日本專利特開昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報中所記載的分子內具有胺基結構或硫化物結構的加成聚合性化合物類作為聚合性單體等，可獲得感光速度非常優異的硬化性組成物。

作為聚合性單體等的市售品，可列舉：胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(山陽國策紙漿(Sanyo Kokusaku Pulp)公司製造)，UA-7200」(新中村化學公司製造，DPHA-40H(日本化藥公司製造)，UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社製造)等。

作為聚合性單體等，同一分子內具有2個以上的巰基(SH)的多官能硫醇化合物亦合適。尤其，較佳為由下述通式(I)所表示的化合物。

(式中，R¹表示烷基，R²表示可含有碳以外的原子的n價的脂肪族基，R⁰表示並非H的烷基，n表示2~4)

若具體地例示由上述通式(I)所表示的多官能硫醇化合物，則可列舉具有下述的結構式的1,4-雙(3-巰基丁醯氧基)丁烷[式(II)]、1,3,5-三(3-巰基丁氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H5H)-三酮[式(III)]、及季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)[式(IV)]等。該些多官能硫醇可使用1種、或將多種組合使用。

於本發明中，使用分子內具有2個以上的環氧基或氧雜環丁基的聚合性單體或寡聚物作為聚合性單體等亦較佳。

<<C：具有環氧基或氧雜環丁基的化合物>>

本發明的第三種較佳的實施方式可使用具有環氧基或氧雜環丁基的化合物作為聚合性化合物。作為具有環氧基或氧雜環丁基的化合物，具體而言，有側鏈上具有環氧基的聚合物、及分子內具有2個以上的環氧基的聚合性單體或寡聚物，可列舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。

該些化合物可使用市售品，亦可藉由向聚合物的側鏈導入環氧基而獲得。

作為市售品，例如雙酚A型環氧樹脂為JER827、 JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上，日本環氧樹脂(Japan Epoxy Resins)(股份)製造)，EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055(以上，迪愛生(股份)製造)等；雙酚F型環氧樹脂為JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010(以上，日本環氧樹脂(股份)製造)，EPICLON830、EPICLON835(以上，迪愛生(股份)製造)，LCE-21、RE-602S(以上，日本化藥(股份)製造)等；苯酚酚醛清漆型環氧樹脂為JER152、JER154、JER157S70、JER157S65(以上，日本環氧樹脂(股份)製造)，EPICLON N-740、EPICLON N-740、EPICLON N-770、EPICLON N-775(以上，迪愛生(股份)製造)等，甲酚酚醛清漆型環氧樹脂為EPICLON N-660、EPICLON N-665、EPICLON N-670、EPICLON N-673、EPICLON N-680、EPICLON N-690、EPICLON N-695(以上，迪愛生(股份)製造)，EOCN-1020(以上，日本化藥(股份)製造)等；脂肪族環氧樹脂為ADEKA RESIN EP-4080S、ADEKA RESIN EP-4085S、ADEKA RESIN EP-4088S(以上，艾迪科(ADEKA)(股份)製造)、Celloxide2021P、Celloxide2081、Celloxide2083、Celloxide2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、EPOLEAD PB 4700(以上，大賽璐(Daicel)化學工業(股份)製造)，Denacol EX-211L、EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L(以上，長瀨化成(Nagase chemteX)(股份)製造)等。除此以外，亦可列舉ADEKA RESIN EP-4000S、ADEKA RESIN EP-4003S、ADEKA RESIN EP-4010S、ADEKA RESIN EP-4011S(以上，艾迪科(股份)製造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上，艾迪科(股份)製造)，JER1031S(日本環氧樹脂(股份)製造)等。

作為側鏈上具有氧雜環丁基的聚合物、及上述分子內具有2個以上的氧雜環丁基的聚合性單體或寡聚物的具體例，可使用ARONE OXETANE OXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上，東亞合成(股份)製造)。

當向聚合物側鏈進行導入來合成時，導入反應可藉由如下方式進行：將例如三乙胺、苄基甲胺等三級胺，氯化十二基三甲基銨、氯化四甲基銨、氯化四乙基銨等四級銨鹽，吡啶，三苯基膦等作為觸媒，於有機溶劑中以50℃~150℃的反應溫度反應幾小時~幾十小時。脂環式環氧基不飽和化合物的導入量較佳為以所獲得的聚合物的酸值變成滿足5 KOH．mg/g~200 KOH．mg/g的範圍的方式進行控制。另外，分子量以重量平均計為500~5000000，更佳為1000~500000的範圍。

作為環氧基不飽和化合物，亦可使用(甲基)丙烯酸縮水甘油酯或烯丙基縮水甘油醚等具有縮水甘油基作為環氧基者，但較佳為具有脂環式環氧基的不飽和化合物。作為此種化合物，例如可例示以下的化合物。

[化27]

另外，作為脂肪族多元胺化合物與不飽和羧酸的醯胺的單體的具體例，有亞甲基雙-丙烯醯胺、亞甲基雙-甲基丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙-丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙-甲基丙烯醯胺、二乙三胺三丙烯醯胺、苯二甲基雙丙烯醯胺、苯二甲基雙甲基丙烯醯胺等。

作為其他較佳的醯胺系單體的例子，可列舉日本專利特公昭54-21726號公報記載的具有伸環己基結構的醯胺系單體。

另外，利用異氰酸酯與羥基的加成反應所製造的胺基甲酸酯系加成聚合性化合物亦合適，作為此種具體例，例如可列舉 如下的乙烯基胺基甲酸酯化合物等，上述乙烯基胺基甲酸酯化合物是於日本專利特公昭48-41708號公報中所記載的1分子內具有2個以上的異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物中加成由下述式(V)表示、且具有羥基的乙烯基單體而成的1分子中含有2個以上的聚合性乙烯基者。

下述式(v)中，R⁷及R⁸分別獨立地表示氫原子或甲基。

H₂C=CR⁷COOCH₂CH(R⁸)OH 式(V)

另外，如日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中所記載的丙烯酸胺基甲酸酯類，或日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、日本專利特公昭62-39418號公報記載的具有環氧乙烷系骨架的胺基甲酸酯化合物類亦合適。進而，藉由使用日本專利特開昭63-277653號公報、日本專利特開昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報中所記載的分子內具有胺基結構或硫化物結構的聚合性化合物類，可獲得感光速度非常優異的硬化性組成物。

作為其他例，可列舉如日本專利特開昭48-64183號公報、日本專利特公昭49-43191號公報、日本專利特公昭52-30490號公報中所記載的聚酯丙烯酸酯類，使環氧樹脂與(甲基)丙烯酸進行反應而獲得的丙烯酸環氧酯類等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。另外，亦可列舉日本專利特公昭46-43946號公報、日本專 利特公平1-40337號公報、日本專利特公平1-40336號公報記載的特定的不飽和化合物，或日本專利特開平2-25493號公報記載的乙烯基膦酸系化合物等。另外，於某種情況下，適宜使用日本專利特開昭61-22048號公報記載的含有全氟烷基的結構。進而，亦可使用日本接著學會志vol.20、No.7、300頁~308頁(1984年)中所記載的光硬化性單體及寡聚物。

關於該些聚合性化合物，其結構、單獨使用或併用、添加量等使用方法的詳細情況可結合硬化性組成物的最終的性能設計而任意地設定。例如，自如下的觀點來選擇。

就感光度的觀點而言，較佳為每1分子的不飽和基含量多的結構，於多數情況下，較佳為二官能以上。另外，為了提高硬化膜的強度，可為三官能以上的化合物，進而，藉由併用不同的官能數．不同的聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯基醚系化合物、環氧系化合物、氧雜環丁烷系化合物)的化合物，而調節感光度與強度兩者的方法亦有效。

另外，對於與硬化性組成物中所含有的其他成分(例如聚合起始劑、金屬氧化物粒子等)的相容性、分散性而言，聚合性化合物的選擇．使用法亦是重要的因素，例如，有時可藉由使用低純度化合物、或併用2種以上的其他成分來提昇相容性。另外，為了提昇與基板等的硬質表面的密接性，亦可能選擇特定的結構。

相對於高折射率層形成用硬化性組成物的總固體成分，(D)聚合性化合物的含量較佳為1質量%~50質量%的範圍， 更佳為3質量%~40質量%的範圍，進而更佳為5質量%~30質量%的範圍。

若為該範圍內，則不會使折射率下降、且硬化性良好而較佳。

(E)聚合起始劑

(E)聚合起始劑是使(D)聚合性化合物的聚合開始，並加以促進的化合物，雖然至45℃為止穩定，但較佳為高溫加熱時的聚合起始性能良好。

另外，上述聚合起始劑較佳為含有至少1種如下的化合物，該化合物於約300 nm~800 nm(更佳為330 nm~500 nm)的範圍內至少具有約50的分子吸光係數。

另外，聚合起始劑可單獨使用、或併用2種以上。

作為(E)聚合起始劑，例如可列舉：有機鹵化物、氧二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、安息香化合物、吖啶化合物、有機過氧化物、偶氮化合物、香豆素化合物、疊氮基化合物、茂金屬化合物、六芳基聯咪唑化合物、有機硼酸化合物、二磺酸化合物、肟酯化合物、鎓鹽化合物、醯基膦(氧化物)化合物。

作為有機鹵化物的具體例，可列舉若林等「日本化學會通報(Bull.Chem.Soc.Japan)」42、2924(1969)，美國專利第3,905,815號說明書，日本專利特公昭46-4605號公報，日本專利特開昭48-36281號公報，日本專利特開昭55-32070號公報，日本 專利特開昭60-239736號公報，日本專利特開昭61-169835號公報，日本專利特開昭61-169837號公報，日本專利特開昭62-58241號公報，日本專利特開昭62-212401號公報，日本專利特開昭63-70243號公報，日本專利特開昭63-298339號公報，M.P.Hutt「雜環化學雜誌(Jurnal of Heterocyclic Chemistry)」1(No3)，(1970)」等中所記載的化合物，尤其可列舉取代有三鹵甲基的噁唑化合物、均三嗪化合物。

作為均三嗪化合物，更合適的是至少一個單鹵素取代甲基、二鹵素取代甲基、或三鹵素取代甲基鍵結於均三嗪環上的均三嗪衍生物，具體而言，例如可列舉：2,4,6-三(單氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(二氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-均三嗪、2-甲基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-正丙基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(α,α,β-三氯乙基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3,4-環氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-[1-(對甲氧基苯基)-2,4-丁二烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯乙烯基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對異丙氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-萘氧萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯硫基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苄硫基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(二溴甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三溴甲基)-均三嗪、2-甲基-4,6-雙(三溴甲基)- 均三嗪、2-甲氧基-4,6-雙(三溴甲基)-均三嗪等。

作為氧二唑化合物的例子，可列舉：2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-氧代二唑、2-三氯甲基-5-(氰基苯乙烯基)-1,3,4-氧代二唑、2-三氯甲基-5-(萘并-1-基)-1,3,4-氧代二唑、2-三氯甲基-5-(4-苯乙烯基)苯乙烯基-1,3,4-氧代二唑等。

作為羰基化合物的例子，可列舉：二苯基酮、米其勒酮、2-甲基二苯基酮、3-甲基二苯基酮、4-甲基二苯基酮、2-氯二苯基酮、4-溴二苯基酮、2-羧基二苯基酮等二苯基酮衍生物，2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮、α-羥基-2-甲基苯基丙酮、1-羥基-1-甲基乙基-(對異丙基苯基)酮、1-羥基-1-(對十二基苯基)酮、2-甲基-(4'-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基-1-丙酮、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮、1,1,1-三氯甲基-(對丁基苯基)酮、2-苄基-2-二甲胺基-4-嗎啉基丁醯苯等苯乙酮衍生物，硫雜蒽酮、2-乙基硫雜蒽酮、2-異丙基硫雜蒽酮、2-氯硫雜蒽酮、2,4-二甲基硫雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、2,4-二異丙基硫雜蒽酮等硫雜蒽酮衍生物，對二甲胺基苯甲酸乙酯、對二乙胺基苯甲酸乙酯等苯甲酸酯衍生物等。

作為縮酮化合物的例子，可列舉：苄基甲基縮酮、苄基-β-甲氧基乙基乙基縮醛等。

作為安息香化合物的例子，可列舉：間安息香異丙醚、安息香異丁醚、安息香甲醚、甲基鄰苯甲醯基苯甲酸酯等。

作為吖啶化合物的例子，可列舉：9-苯基吖啶、1,7-雙(9- 吖啶基)庚烷等。

作為有機過氧化物，例如可列舉：三甲基環己酮過氧化物、乙醯丙酮過氧化物、1,1-雙(過氧化第三丁基)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-雙(過氧化第三丁基)環己烷、2,2-雙(過氧化第三丁基)丁烷、第三丁基過氧化氫、異丙苯過氧化氫、二異丙基苯過氧化氫、2,5-二甲基己烷-2,5-二過氧化氫、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化氫、第三丁基異丙苯基過氧化物、二異丙苯基過氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(過氧化第三丁基)己烷、2,5-己醯基過氧化物、過氧化丁二酸、過氧化苯甲醯、2,4-二氯苯甲醯基過氧化物、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二-2-乙基己酯、過氧化二碳酸二-2-乙氧基乙酯、過氧化碳酸二甲氧基異丙酯、過氧化二碳酸二(3-甲基-3-甲氧基丁基)酯、過氧化乙酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化辛酸第三丁酯、過氧化月桂酸第三丁酯、3,3',4,4'-四-(過氧化第三丁基羰基)二苯基酮、3,3',4,4'-四-(過氧化第三己基羰基)二苯基酮、3,3',4,4'-四-(過氧化對異丙基異丙苯基羰基)二苯基酮、羰基二(過氧化二氫二鄰苯二甲酸第三丁酯)、羰基二(過氧化二氫二鄰苯二甲酸第三己酯)等。

作為偶氮化合物，例如可列舉日本專利特開平8-108621號公報中所記載的偶氮化合物等。

作為香豆素化合物，例如可列舉：3-甲基-5-胺基-((均三嗪-2-基)胺基)-3-苯基香豆素、3-氯-5-二乙胺基-((均三嗪-2-基)胺基)-3-苯基香豆素、3-丁基-5-二甲胺基-((均三嗪-2-基)胺基)-3-苯基 香豆素等。

作為疊氮基化合物的例子，可列舉：美國專利第2848328號說明書、美國專利第2852379號說明書以及美國專利第2940853號說明書中所記載的有機疊氮基化合物，2,6-雙(4-疊氮基亞苄基)-4-乙基環己酮(BAC-E)等。

作為茂金屬化合物，可列舉日本專利特開昭59-152396號公報、日本專利特開昭61-151197號公報、日本專利特開昭63-41484號公報、日本專利特開平2-249號公報、日本專利特開平2-4705號公報、日本專利特開平5-83588號公報記載的各種二茂鈦化合物，例如二環戊二烯基-Ti-雙-苯基、二環戊二烯基-Ti-雙-2,6-二氟苯基-1-基、二環戊二烯基-Ti-雙-2,4-二氟苯基-1-基、二環戊二烯基-Ti-雙-2,4,6-三氟苯基-1-基、二環戊二烯基-Ti-雙-2,3,5,6-四氟苯基-1-基、二環戊二烯基-Ti-雙-2,3,4,5,6-五氟苯基-1-基、二甲基環戊二烯基-Ti-雙-2,6-二氟苯基-1-基、二甲基環戊二烯基-Ti-雙-2,4,6-三氟苯基-1-基、二甲基環戊二烯基-Ti-雙-2,3,5,6-四氟苯基-1-基、二-甲基環戊二烯基-Ti-雙-2,3,4,5,6-五氟苯基-1-基、日本專利特開平1-304453號公報、日本專利特開平1-152109號公報記載的鐵-芳烴錯合物等。

作為聯咪唑系化合物，較佳為例如六芳基聯咪唑化合物(咯吩二聚體系化合物)等。

作為六芳基聯咪唑化合物，例如可列舉日本專利特公昭45-37377號公報、日本專利特公昭44-86516號公報記載的咯吩二 聚體類，日本專利特公平6-29285號公報，美國專利第3,479,185號，美國專利第4,311,783號，美國專利第4,622,286號等的各說明書中所記載的各種化合物，具體而言，可列舉：2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰溴苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰，對二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(間甲氧基苯基)聯咪唑、2,2'-雙(鄰，鄰'-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰硝基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰甲基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰三氟苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑等。

作為有機硼酸鹽化合物，例如可列舉如下的化合物作為具體例：日本專利特開昭62-143044號、日本專利特開昭62-150242號、日本專利特開平9-188685號、日本專利特開平9-188686號、日本專利特開平9-188710號、日本專利特開2000-131837、日本專利特開2002-107916、日本專利第2764769號、日本專利特開200116539號等各公報，以及Kunz,Martin「輻射技術'98論文集四月19-22,1998,芝加哥(Rad Tech'98.Proceeding April 19-22,1998,Chicago)」等中所記載的有機硼酸鹽，日本專利特開平6-157623號公報、日本專利特開平6-175564號公報、日本專利特開平6-175561號公報中所記載的有機硼鋶錯合物或有機硼氧代鋶錯合物，日本專利特開平6-175554號公報、日本專利特開平6-175553號公報中所記載的有機硼錪錯合物，日本專利特開平9-188710號公報中所記載的有機硼鏻錯合物，日本專利特開平 6-348011號公報、日本專利特開平7-128785號公報、日本專利特開平7-140589號公報、日本專利特開平7-306527號公報、日本專利特開平7-292014號公報等的有機硼過渡金屬配位錯合物等。

作為二碸化合物的例子，可列舉日本專利特開昭61-166544號公報、日本專利特開2002-328465號公報等中所記載的化合物等。

作為聚合起始劑，亦可適宜地使用羥基苯乙酮化合物、胺基苯乙酮化合物、及醯基膦化合物。更具體而言，亦可使用例如日本專利特開平10-291969號公報中所記載的胺基苯乙酮系起始劑、日本專利第4225898號公報中所記載的醯基膦氧化物系起始劑。

作為羥基苯乙酮系起始劑，可使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(商品名：均為巴斯夫(BASF)公司製造)。作為胺基苯乙酮系起始劑，可使用作為市售品的IRGACURE-907、IRGACURE-369、及IRGACURE-379(商品名：均為巴斯夫公司製造)。作為胺基苯乙酮系起始劑，亦可使用吸收波長與365 nm或405 nm等的長波光源匹配的日本專利特開2009-191179號公報中所記載的化合物。另外，作為醯基膦系起始劑，可使用作為市售品的IRGACURE-819或DAROCUR-TPO(商品名：均為巴斯夫公司製造)。

作為(E)聚合起始劑，就硬化性、經時穩定性、後加 熱時不易產生著色這一觀點而言，較佳為肟化合物。

作為肟化合物，可列舉：J.C.S.Perkin II(英國化學會志，普爾金會刊II)(1979)1653-1660、J.C.S.Perkin II(1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(光聚合物科學與技術雜誌)(1995)202-232、Journal of Applied Polymer Science(應用聚合物科學雜誌)(2012年)pp.725-731、日本專利特開2000-66385號公報記載的化合物，日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特表2004-534797號公報記載的化合物等。

另外，作為上述記載以外的肟酯化合物，亦可使用咔唑的N位上連結有肟的日本專利特表2009-519904號公報中所記載的化合物、二苯基酮部位上導入有雜取代基的美國專利7626957號公報中所記載的化合物、色素部位上導入有硝基的日本專利特開2010-15025號公報及美國專利公開2009-292039號記載的化合物、國際公開專利2009-131189號公報中所記載的酮肟系化合物、同一分子內含有三嗪骨架與肟骨架的美國專利7556910號公報中所記載的化合物、於405 nm下具有吸收最大值且對於g射線光源具有良好的感光度的日本專利特開2009-221114號公報中記載的化合物等。

進而，亦可適宜地使用日本專利特開2007-231000號公報、及日本專利特開2007-322744號公報中所記載的環狀肟化合物。環狀肟化合物之中，尤其日本專利特開2010-32985號公報、日本專利特開2010-185072號公報中所記載的於咔唑色素中縮環 而成的環狀肟化合物具有高光吸收性，就高感光度化的觀點而言較佳。

另外，於肟化合物的特定部位具有不飽和鍵的日本專利特開2009-242469號公報中所記載的化合物藉由使活性自由基自聚合惰性自由基中再生，而可達成高感光度化，亦可適宜地使用。

除此以外，亦可列舉日本專利特開2007-269779號公報中所示的具有特定取代基的肟化合物、或日本專利特開2009-191061號公報中所示的具有硫代芳基的肟化合物。

具體而言，由下述式(OX)所表示的化合物亦較佳， 更佳為由(OX-1)所表示的化合物。再者，肟的N-O鍵可為(E)體的肟化合物，亦可為(Z)體的肟化合物，亦可為(E)體與(Z)體的混合物。

式(OX)中，R及B的含義與後述式(OX-1)相同。 A¹較佳為式(OX-1)的-A-SAr或烷基。烷基較佳為碳數為1~12，更佳為碳數為1~6，特佳為碳數為1~3。

[化28]

(式(OX-1)中，R及B分別獨立地表示一價的取代基，A表示二價的有機基，Ar表示芳基)。

上述式(OX-1)中，作為由R所表示的一價的取代基，較佳為一價的非金屬原子團。

作為上述一價的非金屬原子團，可列舉：烷基、芳基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。另外，該些基亦可具有1個以上的取代基。另外，上述取代基亦可由其他取代基進一步取代。

作為取代基，可列舉：鹵素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、醯氧基、醯基、烷基、芳基等。

上述式(OX-1)中，作為由B所表示的一價的取代基，表示芳基、雜環基、芳基羰基、或雜環羰基。該些基可經由連結基而鍵結於亞甲基上，作為該連結基，可列舉：單鍵、羰基、後述取代基Y、烷基、或該些的組合。另外，該些基亦可具有1個以上的取代基。作為取代基，可例示上述取代基。另外，上述取代基亦可由其他取代基進一步取代。

其中，特佳為以下所示的結構。

下述的結構中，Y、X、及n的含義分別與後述的式 (OX-2)中的Y、X、及n相同，較佳例亦相同。

上述式(OX-1)中，作為由A所表示的二價的有機基，可列舉碳數為1~12的伸烷基、碳數為3~12的伸環烷基、碳數為2~12的伸炔基。另外，該些基亦可具有1個以上的取代基。作為取代基，可例示上述取代基。另外，上述取代基亦可由其他取代基進一步取代。

其中，作為式(OX-1)中的A，就提高感光度、抑制由加熱經時所引起的著色的觀點而言，較佳為未經取代的伸烷基、經烷基(例如甲基、乙基、第三丁基、十二基)取代的伸烷基、經烯基(例如乙烯基、烯丙基)取代的伸烷基、經芳基(例如苯基、對甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、萘基、蒽基、菲基、苯乙烯基)取代的伸烷基。

由上述式(OX-1)所表示的肟化合物較佳為由下述式(OX-2)所表示的化合物。

(式(OX-2)中，R及X分別獨立地表示一價的取代基，A及Y分別獨立地表示二價的有機基，Ar表示芳基，n為0~5的整數)

式(OX-2)中的R、A、及Ar的含義與上述式(OX-1)中的R、A、及Ar相同，較佳例亦相同。

上述式(OX-2)中，作為由X所表示的一價的取代基，可列舉：烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、醯氧基、醯基、烷氧基羰基、胺基、雜環基、鹵素原子。另外，該些基亦可具有1個以上的取代基。作為取代基，可例示上述取代基。另外，上述取代基亦可由其他取代基進一步取代。

該些之中，作為式(OX-2)中的X，就提昇溶劑溶解性與長波長區域的吸收效率的觀點而言，較佳為烷基。

另外，式(2)中的n表示0~5的整數，較佳為0~2的整數。

上述式(OX-2)中，作為由Y所表示的二價的有機基，可列舉以下所示的結構Sub-1~結構Sub-11。再者，以下所示的基中，「*」表示上述式(OX-2)中，Y與鄰接的碳原子的鍵結位置。

其中，就高感光度化的觀點而言，較佳為結構Sub-1及結構Sub-2。

[化31]

進而，由上述式(OX-2)所表示的肟化合物較佳為由下述式(OX-3)所表示的化合物。

式(OX-3)中，R及X分別獨立地表示一價的取代基，A表示二價的有機基，Ar表示芳基，n為0~5的整數)式(OX-3)中的R、X、A、Ar、及n的含義分別與上述式(OX-2)中的R、X、A、Ar、及n相同，較佳例亦相同。

以下表示可適宜地使用的肟化合物的具體例(PIox-1)~具體例(PIox-13)，但本發明並不限定於該些具體例。

[化33]

肟化合物具有作為熱聚合起始劑的功能，該熱聚合起始 劑藉由熱而分解，使聚合開始，並加以促進。

另外，肟化合物較佳為於350 nm~500 nm的波長區域 中具有極大吸收波長，更佳為於360 nm~480 nm的波長區域中具有吸收波長，特佳為365 nm及455 nm的吸光度高的肟化合物。

就感光度的觀點而言，肟化合物於365 nm或405 nm下的莫耳吸光係數較佳為1,000~300,000，更佳為2,000~300,000，特佳為5,000~200,000。化合物的莫耳吸光係數可使用公知的方法來測定，具體而言，例如，較佳為藉由紫外可見分光光度計(Varian公司製造的Carry-5分光光度計(spectrophotometer))，並利用乙酸乙酯溶劑，以0.01 g/L的濃度進行測定。

另外，作為肟化合物，亦可適宜地使用IRGACURE OXE01、及IRGACURE OXE02等市售品(均為巴斯夫公司製造)。

作為鎓鹽化合物，例如可列舉：S.I.Schlesinger,《攝影科學與工程》(Photogr.Sci.Eng.),18,387(1974)，T.S.Bal等,《聚合物》(Polymer),21,423(1980)中所記載的重氮鹽，美國專利第4,069,055號說明書、日本專利特開平4-365049號等中所記載的銨鹽，美國專利第4,069,055號、美國專利4,069,056號的各說明書中所記載的鏻鹽，歐洲專利第104,143號的各說明書、日本專利特開平2-150848號、日本專利特開平2-296514號的各公報中所記載的錪鹽等。

錪鹽為二芳基錪鹽，就穩定性的觀點而言，較佳為取代有2個以上的烷基、烷氧基、芳氧基等供電子基。

作為鋶鹽，可列舉歐洲專利第370,693號、歐洲專利390,214號、歐洲專利233,567號、歐洲專利297,443號、歐洲專利297,442號、美國專利第4,933,377號、美國專利4,760,013號、美國專利4,734,444號、美國專利2,833,827號、德國專利第 2,904,626號、德國專利3,604,580號、德國專利3,604,581號的各說明書中所記載的鋶鹽，就穩定性及感光度的觀點而言，較佳為經拉電子基取代者。作為拉電子基，較佳為哈米特(Hammett)值大於0。作為拉電子基的較佳例，可列舉鹵素原子、羧酸基等。

另外，作為其他較佳的鋶鹽，可列舉三芳基鋶鹽的1個取代基具有香豆素結構或蒽醌結構、且於300 nm以上具有吸收的鋶鹽。作為其他較佳的鋶鹽，可列舉三芳基鋶鹽於取代基上具有烯丙氧基、芳硫基且於300 nm以上具有吸收的鋶鹽。

另外，作為鎓鹽化合物的例子，可列舉：J.V.Crivello等,《大分子》(Macromolecules),10(6),1307(1977)，J.V.Crivello等,《聚合物科學雜誌，聚合物化學版》(J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.),17,1047(1979)中所記載的硒鎓鹽，C.S.Wen等,《亞洲輻射固化會議論文集》(Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA),p478東京,十月(1988)中所記載的砷鎓鹽(arsonium salt)等鎓鹽等。

作為醯基膦(氧化物)化合物，可列舉巴斯夫公司製造的Irgacure819、Darocur4265、Darocur TPO等。

作為(E)聚合起始劑，就硬化性的觀點而言，較佳為選自由三鹵甲基三嗪系化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦系化合物、氧化膦系化合物、茂金屬化合物、肟系化合物、三烯丙基咪唑二聚體、鎓系化合物、苯并噻唑系化合物、二苯基酮系化合物、苯乙酮系化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵甲基噁二唑化合物、3- 芳基取代香豆素化合物所組成的群組中的化合物。

更佳為三鹵甲基三嗪系化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦系化合物、氧化膦系化合物、肟系化合物、三烯丙基咪唑二聚體、鎓系化合物、二苯基酮系化合物、苯乙酮系化合物，最佳為選自由三鹵甲基三嗪系化合物、α-胺基酮化合物、肟系化合物、三烯丙基咪唑二聚體、二苯基酮系化合物所組成的群組中的至少一種的化合物。

尤其，當將高折射率層形成用硬化性組成物設置於固體攝影元件的彩色濾光片上而製成微透鏡時，最佳為使用肟系化合物作為(E)聚合起始劑，其原因在於：後加熱時的著色特別少、且硬化性特別良好。

相對於硬化性組成物的總固體成分，高折射率層形成用硬化性組成物中所含有的(E)聚合起始劑的含量(2種以上時為總含量)較佳為0.1質量%以上、10質量%以下，更佳為0.3質量%以上、8質量%以下，進而更佳為0.5質量%以上、5質量%以下。於該範圍內，可獲得良好的硬化性。

進而，高折射率層形成用硬化性組成物視需要可進一步含有以下將詳述的任意成分。以下，對硬化性組成物可含有的任意成分進行說明。

[聚合抑制劑]

為了於硬化性組成物的製造過程中或保存過程中，阻止具有可進行聚合的乙烯性不飽和雙鍵的化合物的不需要的聚合， 較佳為添加聚合抑制劑。

作為聚合抑制劑，可列舉：含有酚系羥基的化合物，N-氧化物化合物類，哌啶1-氧基自由基化合物類，吡咯啶1-氧基自由基化合物類，N-亞硝基苯基羥基胺類，重氮化合物類，及陽離子染料類，含有硫基的化合物類，含有硝基的化合物類，FeCl₃、CuCl₂等過渡金屬化合物類。

更佳的形態如下所示。

含有酚系羥基的化合物較佳為選自由對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、五倍子酚(pyrogallol)、第三丁基兒茶酚、苯醌、4,4-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、酚樹脂類、及甲酚樹脂類所組成的群組中的化合物。

N-氧化物化合物類較佳為選自由5,5-二甲基-1-吡咯啉N-氧化物、4-甲基嗎啉N-氧化物、吡啶N-氧化物、4-硝基吡啶N-氧化物、3-羥基吡啶N-氧化物、2-吡啶甲酸N-氧化物、菸鹼酸N-氧化物、及異菸鹼酸N-氧化物所組成的群組中的化合物。

哌啶1-氧基自由基化合物類較佳為選自由哌啶1-氧基自由基、2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-乙醯胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-順丁烯二醯亞胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、及4-膦醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基所組成的群組中的化合物。

吡咯啶1-氧基自由基化合物類較佳為3-羧基-2,2,5,5-四甲基吡咯啶1-氧基自由基(3-Carboxy-proxyl Free Radical)(3-羧基-2,2,5,5-四甲基吡咯啶1-氧基自由基(3-Carboxy-2,2,5,5-tetramethylpyrrolidine 1-Oxyl Free Radical))。

N-亞硝基苯基羥基胺類較佳為選自由N-亞硝基苯基羥基胺三價鈰鹽、及N-亞硝基苯基羥基胺鋁鹽所組成的化合物群組中的化合物。

重氮化合物類較佳為選自由4-二偶氮苯基二甲胺的硫酸氫鹽、4-二偶氮二苯基胺的四氟硼酸鹽、及3-甲氧基-4-二偶氮二苯基胺的六氟磷酸鹽所組成的群組中的化合物。

上述例示化合物之中，較佳為對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、五倍子酚、第三丁基兒茶酚、苯醌、4,4-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)的含有酚系羥基的化合物，哌啶1-氧基自由基或2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-乙醯胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-順丁烯二醯亞胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、及4-膦醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基的哌啶1-氧基自由基化合物，或者N-亞硝基苯基羥基胺三價鈰鹽、及N-亞硝基苯基羥基胺鋁鹽的N-亞硝基苯基羥基胺化合物，更佳為2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-乙醯 胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-順丁烯二醯亞胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、及4-膦醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基的哌啶1-氧基自由基化合物，或者N-亞硝基苯基羥基胺三價鈰鹽、及N-亞硝基苯基羥基胺鋁鹽的N-亞硝基苯基羥基胺化合物，進而更佳為-亞硝基苯基羥基胺三價鈰鹽、及N-亞硝基苯基羥基胺鋁鹽的N-亞硝基苯基羥基胺化合物。

作為聚合抑制劑的較佳的添加量，相對於(E)聚合起始劑100質量份，較佳為0.01質量份以上、10質量份以下，更佳為0.01質量份以上、8質量份以下，最佳為處於0.05質量份以上、5質量份以下的範圍內。

藉由設為上述範圍，充分地抑制非圖像部中的硬化反應、且充分地促進圖像部中的硬化反應，圖像形成性及感光度變得良好。

[黏合劑聚合物]

就提昇皮膜特性等的觀點而言，本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物較佳為進而包含黏合劑聚合物。

作為上述黏合劑聚合物，可列舉：使具有羧基的單體進行均聚或共聚而成的樹脂；使具有酸酐的單體進行均聚或共聚、對所成的酸酐單元加以水解、或者加以半酯化或半醯胺化而形成的樹脂；藉由不飽和一元羧酸及酸酐來使環氧樹脂改質而成的丙烯酸環氧酯等。作為具有羧基的單體，可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、4-羧基苯乙烯 等，作為具有酸酐的單體，可列舉順丁烯二酸酐等。

另外，同樣有側鏈上具有羧酸基的酸性纖維素衍生物。除此以外，於具有羥基的聚合物中加成環狀酸酐而成者等亦有用。

當使用共聚物作為黏合劑聚合物時，作為進行共聚的化合物，亦可使用先前列舉的單體以外的其他單體。作為其他單體的例子，可列舉下述(1)~下述(12)的化合物。

(1)丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸3-羥基丙酯、甲基丙烯酸4-羥基丁酯等具有脂肪族羥基的丙烯酸酯類、及甲基丙烯酸酯類。

(2)丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸-2-氯乙酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、丙烯酸乙烯酯、丙烯酸2-苯基乙烯酯、丙烯酸1-丙烯酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、丙烯酸炔丙酯等丙烯酸烷基酯。

(3)甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-氯乙酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、甲基丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸2-苯基乙烯酯、甲基丙烯酸1-丙烯酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲 基丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、甲基丙烯酸炔丙酯等甲基丙烯酸烷基酯。

(4)丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-乙基丙烯醯胺、N-己基甲基丙烯醯胺、N-環己基丙烯醯胺、N-羥乙基丙烯醯胺、N-苯基丙烯醯胺、N-硝基苯基丙烯醯胺、N-乙基-N-苯基丙烯醯胺、乙烯基丙烯醯胺、乙烯基甲基丙烯醯胺、N,N-二烯丙基丙烯醯胺、N,N-二烯丙基甲基丙烯醯胺、烯丙基丙烯醯胺、烯丙基甲基丙烯醯胺等丙烯醯胺或甲基丙烯醯胺。

(5)乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羥乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、苯基乙烯基醚等乙烯基醚類。

(6)乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等乙烯基酯類。

(7)苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、對乙醯氧基苯乙烯等苯乙烯類。

(8)甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮、苯基乙烯基酮等乙烯基酮類。

(9)乙烯、丙烯、異丁烯、丁二烯、異戊二烯等烯烴類。

(10)N-乙烯吡咯啶酮、丙烯腈、甲基丙烯腈等。

(11)順丁烯二醯亞胺、N-丙烯醯基丙烯醯胺、N-乙醯基甲基丙烯醯胺、N-丙醯基甲基丙烯醯胺、N-(對氯苯甲醯基)甲基 丙烯醯胺等不飽和醯亞胺。

(12)α位上鍵結有雜原子的甲基丙烯酸系單體。例如可列舉日本專利特開2002-309057號、日本專利特開2002-311569號等各公報中所記載的化合物。

於上述黏合劑聚合物中，含有使將由下述通式(ED)所表示的化合物(以下，有時亦稱為「醚二聚體」)作為必需成分的單體成分進行聚合而成的重複單元亦較佳。

(式(ED)中，R₁及R₂分別獨立地表示氫原子或可具有取代基的碳數為1~25的烴基)

藉此，本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物可形成耐熱性極其優異、且透明性亦極其優異的硬化塗膜。於表示上述醚二聚體的上述通式(ED)中，作為由R₁及R₂所表示的可具有取代基的碳數為1~25的烴基，並無特別限制，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等直鏈狀或分支狀的烷基；苯基等芳基；環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸 基、異莰基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基；1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等經烷氧基取代的烷基；苄基等經芳基取代的烷基等。該些基之中，就耐熱性的觀點而言，特佳為如甲基、乙基、環己基、苄基等般的不易因酸或熱而脫離的一級碳或二級碳的取代基。

作為上述醚二聚體的具體例，例如可列舉：二甲基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丙基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丙基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丁基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丁基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三戊基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(硬脂基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(月桂基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-乙基己基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-甲氧基乙基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-乙氧基乙基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苯基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基環己基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(二環戊二烯基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(三環癸基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異莰基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二金剛烷基-2,2'-[氧基雙 (亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-甲基-2-金剛烷基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯等。該些醚二聚體之中，特佳為二甲基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯。該些醚二聚體可僅使用1種，亦可使用2種以上。另外，源自由上述通式(ED)所表示的化合物的結構體亦可與其他單體進行共聚。

作為可與醚二聚體進行共聚的其他單體，例如可列舉：用以導入酸基的單體、用以導入自由基聚合性雙鍵的單體、用以導入環氧基的單體、及該些單體以外的其他可進行共聚的單體。此種單體可僅使用1種，亦可使用2種以上。

作為用以導入酸基的單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸或衣康酸等具有羧基的單體，N-羥苯基順丁烯二醯亞胺等具有酚性羥基的單體，順丁烯二酸酐、衣康酸酐等具有羧酸酐基的單體等。該些單體之中，特佳為(甲基)丙烯酸。

另外，用以導入酸基的單體亦可為可於聚合後賦予酸基的單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯等具有羥基的單體、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環氧基的單體、(甲基)丙烯酸2-異氰酸基乙酯等具有異氰酸酯基的單體等。於使用用以導入自由基聚合性雙鍵的單體的情況、使用可於聚合後賦予酸基的單體的情況下，必須進行於聚合後賦予酸基的處理。於聚合後賦予酸基的處理根據單體的種類而不同，例如可列舉以下的處理。若為 使用具有羥基的單體的情況，則例如可列舉使丁二酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、順丁烯二酸酐等酸酐加成的處理。若為使用具有環氧基的單體的情況，則例如可列舉使N-甲胺基苯甲酸、N-甲胺基苯酚等具有胺基與酸基的化合物加成，或者於使例如(甲基)丙烯酸般的酸加成後所生成的羥基中，使例如丁二酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、順丁烯二酸酐等酸酐加成的處理。若為使用具有異氰酸酯基的單體的情況，則例如可列舉使2-羥基丁酸等具有羥基與酸基的化合物加成的處理。

當使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物包含用以導入酸基的單體時，其含有比例並無特別限制，但於所有單體成分中，較佳為5質量%~70質量%，更佳為10質量%~60質量%。

作為用以導入自由基聚合性雙鍵的單體，例如，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、衣康酸等具有羧基的單體；順丁烯二酸酐、衣康酸酐等具有羧酸酐基的單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、鄰(或間、或對)乙烯基苄基縮水甘油醚等具有環氧基的單體等。當使用用以導入自由基聚合性雙鍵的單體時，必須進行用以於聚合後賦予自由基聚合性雙鍵的處理。用以於聚合後賦予自由基聚合性雙鍵的處理根據所使用的可賦予自由基聚合性雙鍵的單體的種類而不同，例如可列舉以下的處理。若為使用(甲基)丙烯酸或衣康酸等具有羧基的單體的情況，則可列舉使(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧 環己基甲酯、鄰(或間、或對)乙烯基苄基縮水甘油醚等具有環氧基與自由基聚合性雙鍵的化合物加成的處理。若為使用順丁烯二酸酐或衣康酸酐等具有羧酸酐基的單體的情況，則可列舉使(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯等具有羥基與自由基聚合性雙鍵的化合物加成的處理。若為使用(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、鄰(或間、或對)乙烯基苄基縮水甘油醚等具有環氧基的單體的情況，則可列舉使(甲基)丙烯酸等具有酸基與自由基聚合性雙鍵的化合物加成的處理。

當使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物包含用以導入自由基聚合性雙鍵的單體時，其含有比例並無特別限制，但於所有單體成分中，較佳為5質量%~70質量%，更佳為10質量%~60質量%。

作為用以導入環氧基的單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、鄰(或間、或對)乙烯基苄基縮水甘油醚等。

當使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物包含用以導入環氧基的單體時，其含有比例並無特別限制，但於所有單體成分中，較佳為5質量%~70質量%，更佳為10質量%~60質量%。

作為其他可進行共聚的單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯 酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸甲基2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯等(甲基)丙烯酸酯類；苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等芳香族乙烯基化合物；N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺等N-取代順丁烯二醯亞胺類；丁二烯、異戊二烯等丁二烯或取代丁二烯化合物；乙烯、丙烯、氯乙烯、丙烯腈等乙烯或取代乙烯化合物；乙酸乙烯酯等乙烯基酯類等。該些單體之中，就透明性良好、不易損害耐熱性的觀點而言，較佳為(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯。

當使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物包含其他可進行共聚的單體時，其含有比例並無特別限制，但較佳為95質量%以下，更佳為85質量%以下。

使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物的重量平均分子量並無特別限制，但就著色感放射線性組成物的黏度、及由該組成物所形成的塗膜的耐熱性的觀點而言，較佳為2000~200000，更佳為5000~100000，進而更佳為5000~20000。

另外，當使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物具有酸基時，酸值較佳為30 mgKOH/g~500 mgKOH/g，更佳為50 mgKOH/g~400 mgKOH/g。

使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物可藉由使至少將醚二聚體作為必需成分的上述單 體進行聚合而容易地獲得。此時，醚二聚體的環化反應與聚合同時進行而形成四氫吡喃環結構。

作為應用於使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物的合成的聚合方法，並無特別限制，可採用先前公知的各種聚合方法，但特佳為利用溶液聚合法。詳細而言，例如可依據日本專利特開204-300204號公報中所記載的聚合物(a)的合成方法，合成使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物。

以下，表示使含有由通式(ED)所表示的化合物的單體成分進行聚合而成的聚合物的例示化合物，但本發明並不限定於該些例示化合物。下述所示的例示化合物的組成比為莫耳%。

[化36]

於本發明中，特佳為使二甲基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯(以下稱為「DM」)、甲基丙烯酸苄酯(以下稱為「BzMA」)、甲基丙烯酸甲酯(以下稱為「MMA」)、甲基丙烯酸(以下稱為「MAA」)、甲基丙烯酸縮水甘油酯(以下稱為「GMA」)進行共聚而成的聚合物。尤其，較佳為DM：BzMA：MMA：MAA：GMA的莫耳比為5~15：40~50：5~15：5~15：20~30。較佳為構成本發明中所使用的共聚物的成分的95質量%以上為該些成分。另外，該聚合物的重量平均分子量較佳為9000~20000。

本發明中所使用的聚合物較佳為重量平均分子量(藉由GPC法所測定的聚苯乙烯換算值)為1000~2×10⁵，更佳為2000~1×10⁵，進而更佳為5000~5×10⁴。

該些之中，側鏈上具有烯丙基或乙烯基酯基與羧基的(甲基)丙烯酸樹脂，及日本專利特開2000-187322號公報、日本專 利特開2002-62698號公報中所記載的側鏈上具有雙鍵的鹼可溶性樹脂，或日本專利特開2001-242612號公報中所記載的側鏈上具有醯胺基的鹼可溶性樹脂的膜強度、感光度、顯影性的平衡優異，而合適。作為上述聚合物的例子，可列舉：Dianal NR系列(三菱麗陽股份有限公司製造)，Photomer6173(含有COOH的丙烯酸聚胺基甲酸酯寡聚物，鑽石三葉草有限公司(Diamond Shamrock Co.Ltd.,)製造)，Viscoat R-264、KS RESIST106(均為大阪有機化學工業股份有限公司製造)，Cyclomer P ACA230AA等Cyclomer P系列、Placcel CF200系列(均為大賽璐化學工業股份有限公司製造)，Ebecryl3800(大賽璐-UCB(Daicel-UCB)股份有限公司製造)等。

另外，日本專利特公平7-12004號公報、日本專利特公平7-120041號公報、日本專利特公平7-120042號公報、日本專利特公平8-12424號公報、日本專利特開昭63-287944號公報、日本專利特開昭63-287947號公報、日本專利特開平1-271741號公報等中所記載的含有酸基的胺基甲酸酯系黏合劑聚合物，或日本專利特開2002-107918號公報中所記載的側鏈上具有酸基與雙鍵的胺基甲酸酯系黏合劑聚合物因強度非常優異，故就膜強度的觀點而言有利。

另外，歐洲專利第993966號、歐洲專利第1204000號、日本專利特開2001-318463號公報等中所記載的具有酸基的縮醛改質聚乙烯醇系黏合劑聚合物的膜強度亦優異，而合適。

進而，除此以外，作為水溶性線狀有機聚合物，聚乙烯吡咯啶酮或聚環氧乙烷等有用。另外，為了提昇硬化皮膜的強度，醇可溶性尼龍或2,2-雙-(4-羥苯基)-丙烷與表氯醇的聚醚等亦有用。

作為可於本實施形態的硬化性組成物中使用的黏合劑聚合物的重量平均分子量(藉由GPC法所測定的聚苯乙烯換算值)，較佳為5,000以上，更佳為1萬以上、30萬以下的範圍，數量平均分子量較佳為1,000以上，更佳為2,000以上、25萬以下的範圍。多分散度(重量平均分子量/數量平均分子量)較佳為1以上，更佳為1.1以上、10以下的範圍。

該些黏合劑聚合物可為無規聚合物、嵌段聚合物、接枝聚合物等的任一種。

黏合劑聚合物可藉由先前公知的方法來合成。作為合成時所使用的溶劑，例如可列舉：四氫呋喃、二氯化乙烯、環己酮、甲基乙基酮、丙酮、甲醇、乙醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙酸2-甲氧基乙酯、二乙二醇二甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、二甲基亞碸、水等。該些溶劑可單獨使用、或將2種以上混合使用。

作為合成可用於本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物中的黏合劑聚合物時所使用的自由基聚合起始劑，可列舉偶氮系起始劑、過氧化物起始劑等公知的化合物。

於本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物中，黏合劑聚合物可單獨使用1種、或將2種以上組合使用。

本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物可含有黏合劑聚合物，亦可不含黏合劑聚合物，當含有黏合劑聚合物時，相對於硬化性組成物的總固體成分，黏合劑聚合物的含量較佳為1質量%以上、40質量%以下，更佳為3質量%以上、30質量%以下，進而更佳為4質量%以上、20質量%以下。

[界面活性劑]

就進一步提昇塗佈性的觀點而言，本實施形態的硬化性組成物亦可添加各種界面活性劑。作為界面活性劑，可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。具體而言，可使用與上述「透光性硬化膜形成用樹脂組成物」中的界面活性劑相同的界面活性劑。

尤其，本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物藉由含有氟系界面活性劑，作為塗佈液來製備時的液體特性(特別是流動性)進一步提昇，因此可進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。

即，當使用應用了含有氟系界面活性劑的感光性透明組成物的塗佈液來形成膜時，使被塗佈面與塗佈液的界面張力下降，藉此對於被塗佈面的潤濕性得到改善，且對於被塗佈面的塗佈性提昇。因此，即便於以少量的液量形成數μm左右的薄膜的情 況下，就可更適宜地進行厚度不均小的厚度均勻的膜形成的觀點而言亦有效。

氟系界面活性劑中的氟含有率合適的是3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，特佳為7質量%~25質量%。氟含有率為該範圍內的氟系界面活性劑就塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的觀點而言有效果，於硬化性組成物中的溶解性亦良好。

界面活性劑可僅使用1種，亦可組合2種以上。

硬化性組成物可含有界面活性劑，亦可不含界面活性劑，當含有界面活性劑時，相對於硬化性組成物的總質量，界面活性劑的添加量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.005質量%~1.0質量%。

[其他添加劑]

進而，為了改良硬化皮膜的物性，亦可向高折射率層形成用硬化性組成物中添加塑化劑或敏化劑等公知的添加劑。

作為塑化劑，例如有鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二十二酯、三乙二醇二辛酸酯、二甲基二醇鄰苯二甲酸酯、磷酸三甲苯酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、三乙醯基甘油等，當使用了黏合劑聚合物時，相對於聚合性化合物與黏合劑聚合物的合計質量，可添加10質量%以下。

[紫外線吸收劑]

本實施形態的高折射率層形成用硬化性組成物亦可含有紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑，特佳為作為共軛二烯系化 合物的由下述通式(I)所表示的化合物。

於上述通式(I)中，R¹及R²分別獨立地表示氫原子、碳原子數為1~20的烷基、或碳原子數為6~20的芳基，R¹與R²彼此可相同，亦可不同，但不同時表示氫原子。

於上述通式(I)中，R³及R⁴表示拉電子基。此處，拉電子基是哈米特的取代基常數σp值(以下，簡稱為「σp值」)為0.20以上、1.0以下的拉電子基。較佳為σp值為0.30以上、0.8以下的拉電子基。

哈米特法則是為了定量地論述取代基對苯衍生物的反應或平衡所帶來的影響，而由L.P.Hammett於1935年所倡導的經驗法則，其於今日被廣泛承認妥當性。藉由哈米特法則所求出的取代基常數有σp值與σm值，該些值於許多普通書籍中有記載，例如詳見J.A.Dean編寫的「《蘭格化學手冊》(Lange's Handbook of Chemistry)」第12版、1979年(麥格羅希爾(Mc Graw-Hill))或「化學的領域增刊」、122號、96頁~103頁、1979年(南江堂)，《化學評論》(Chemical Reviews)，91卷、165頁~195頁、1991年。於本發明中，並不意味著僅限定於具有該些書籍中所記載的 文獻已知的值的取代基，即便該值為文獻未知的值，只要在根據哈米特法則進行測定時包含於其範圍內，則當然亦包含該取代基。

作為上述σp值為0.20以上、1.0以下的拉電子基的具體例，可列舉：醯基、醯氧基、胺甲醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、硝基、二烷基膦醯基、二芳基膦醯基、二芳基氧膦基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯氧基、醯硫基、胺磺醯基、硫氰酸酯基、硫羰基、由至少2個以上的鹵素原子取代的烷基、由至少2個以上的鹵素原子取代的烷氧基、由至少2個以上的鹵素原子取代的芳氧基、由至少2個以上的鹵素原子取代的烷基胺基、由至少2個以上的鹵素原子取代的烷硫基、由σp值為0.20以上的其他拉電子基取代的芳基、雜環基、氯原子、溴原子、偶氮基、或硒氰酸酯基。該些取代基之中，可進而具有取代基的基可進一步具有如先前所列舉的取代基。

以下，表示由上述通式(I)所表示的化合物的較佳的具體例[例示化合物(1)~例示化合物(14)]。但是，於本發明中，並不受該些具體例限制。

[化38]

[化39]

由通式(I)所表示的紫外線吸收劑可藉由日本專利特公昭44-29620號、日本專利特開53-128333號、日本專利特開昭61-169831號、日本專利特開昭63-53543號、日本專利特開昭63-53544號、日本專利特開昭63-56651號等各公報、WO2009/123109號手冊中所記載的方法來合成。具體而言，可藉由WO2009/123109號手冊段落號0040中所記載的方法來合成上述例示化合物(1)。

本實施形態的硬化性組成物可含有紫外線吸收劑，亦可不含紫外線吸收劑，當含有紫外線吸收劑時，相對於組成物的總固體成分，紫外線吸收劑的含量較佳為0.1質量%~10質量%，更佳為0.1質量%~5質量%，特佳為0.1質量%~3質量%。

另外，下層(高折射率層)亦可為以下將說明的分散組成物II。

<分散組成物II>

所謂分散組成物II，是指含有一次粒徑為1 nm~100 nm的金屬氧化物粒子(A)、特定分散樹脂(B)、及溶劑(C)的分散組成物。此處，特定分散樹脂(B)以外的其他成分與上述分散組成物I相同。

．特定分散樹脂B

作為高折射率粒子分散用分散劑，較佳為使用主鏈及側鏈的至少一者上含有氮原子的寡聚亞胺系分散劑。作為寡聚亞胺 系分散劑，較佳為具有重複單元與側鏈、且主鏈及側鏈的至少一者上含有鹼性氮原子的分散樹脂(以下，適宜稱為「特定分散樹脂(B)」)，上述重複單元含有具有pKa為14以下的官能基的部分結構X，上述側鏈含有原子數為40~10,000的側鏈Y。此處，鹼性氮原子只要是呈現鹼性的氮原子，則並無特別限制。

作為特定樹脂(B)，亦可具有與上述部分結構X等成對的部分結構W，部分結構W較佳為具有pK_b為14以下的氮原子的結構部，更佳為含有具有pK_b為10以下的氮原子的結構。所謂鹼強度pK_b，是指水溫25℃下的pK_b，且是用以定量地表示鹼的強度的指標之一，其含義與鹼性度常數相同。鹼強度pK_b與後述的酸強度pK_a處於pK_b=14-pK_a的關係。再者，當部分結構X與部分結構W成對而形成鹽結構時，設想部分結構X與部分結構W已各自解離的結構，作為質子(H⁺)或氫氧化物離子(OH^-)離子鍵結於其上的化合物，評價其pKa及pKb。關於部分結構X，於後述中進一步說明其詳細情況。

關於部分結構X，其較佳的範圍的詳細情況與後述的部分結構X相同。另外，關於上述側鏈Y，同樣地其較佳的範圍的詳細亦與後述的側鏈Y相同。上述W較佳為側鏈Y的連結部解離並成為離子鍵結性的部位的結構。

作為特定分散樹脂(B)的一例，可列舉由下述式[B]所表示的樹脂。

[化41]

上述式中，x、y、及z分別表示重複單元的聚合莫耳比，較佳為x為5~50，y為5~60，z為10~90。l表示聚酯鏈的連結數，且為可形成原子數為40~10,000的側鏈的整數，l較佳為5~100,000，更佳為20~20,000，進而更佳為40~2,000。由式中的x來規定共聚比的重複單元為部分結構X，由式中的z來規定共聚比的重複單元為部分結構Y。

特定分散樹脂(B)特佳為具有重複單元(i)與側鏈(ii)的分散樹脂(以下，適宜稱為「特定分散樹脂(B1)」)，上述重複單元(i)是選自聚(低級伸烷基亞胺)系重複單元、聚烯丙基胺系重複單元、聚二烯丙基胺系重複單元、間二甲苯二胺-表氯醇聚縮合物系重複單元、及聚乙烯基胺系重複單元中的至少1種的具有鹼性氮原子的重複單元，其具有鍵結於上述鹼性氮原子上、且含有pKa為14以下的官能基的部分結構X，上述側鏈(ii)含有原子數為40~10,000的側鏈Y。

特定分散樹脂(B1)具有上述重複單元(i)。藉此，分散樹脂對於粒子表面的吸附力提昇、且可減少粒子間的交互作用。聚(低級伸烷基亞胺)可為鏈狀，亦可為網眼狀。此處，所謂低級伸烷基亞胺，是指含有碳數為1~5的伸烷基鏈的伸烷基亞胺。 上述重複單元(i)較佳為形成特定分散樹脂中的主鏈部。該主鏈部的數量平均分子量，即，自特定分散樹脂(B1)中去除含有上述側鏈Y部分的側鏈後的部分的數量平均分子量較佳為100~10,000，更佳為200~5,000，最佳為300~2,000。主鏈部的數量平均分子量可利用藉由GPC法所得的聚苯乙烯換算值來測定。

作為特定分散樹脂(B1)，較佳為含有由下述式(I-1)所表示的重複單元及由式(I-2)所表示的重複單元、或由式(I-1)所表示的重複單元及由式(I-2a)所表示的重複單元的分散樹脂。

R¹及R²分別獨立地表示氫原子、鹵素原子或烷基(較佳為碳數為1~6)。a分別獨立地表示1~5的整數。*表示重複單元間的連結部。

R⁸及R⁹為含義與R¹相同的基。

L為單鍵、伸烷基(較佳為碳數為1~6)、伸烯基(較佳為碳數為2~6)、伸芳基(較佳為碳數為6~24)、伸雜芳基(較佳為碳數為1~6)、亞胺基(較佳為碳數為0~6)、醚基、硫醚基、羰基、或與該些基的組合相關的連結基。其中，較佳為單鍵或-CR⁵R⁶-NR⁷-(亞胺基變成X或Y)。此處，R⁵R⁶分別獨立地表示 氫原子、鹵素原子、烷基(較佳為碳數為1~6)。R⁷為氫原子或碳數為1~6的烷基。

L^a為與CR⁸CR⁹及N一同形成環結構的結構部位，較佳為與CR⁸CR⁹的碳原子一起形成碳數為3~7的非芳香族雜環的結構部位。更佳為與CR⁸CR⁹的碳原子及N(氮原子)一起形成5員~7員的非芳香族雜環的結構部位，進而更佳為形成5員的非芳香族雜環的結構部位，特佳為形成吡咯啶的結構部位。其中，該結構部位可進一步具有烷基等取代基。

X表示含有pKa為14以下的官能基的基。

Y表示原子數為40~10,000的側鏈。

特定分散樹脂(B1)較佳為進而具有由式(I-3)、式(I-4)、或式(I-5)所表示的重複單元作為共聚成分。特定分散樹脂(B1)藉由含有此種重複單元，可進一步提昇分散性能。

R¹、R²、R⁸、R⁹、L、La、及a的含義與式(I-1)、式(I-2)、式(I-2a)中的規定相同。

Ya表示具有陰離子基的原子數為40~10,000的側鏈。由式(I-3)所表示的重複單元可藉由如下方式來形成：向主鏈部 具有一級胺基或二級胺基的樹脂中添加具有與胺進行反應而形成鹽的基的寡聚物或聚合物，並進行反應。Ya較佳為後述式(III-2)。

於式(I-1)~式(I-5)中，R¹及R²特佳為氫原子。就獲得原料的觀點而言，較佳為a為2。

特定分散樹脂(B1)可進而包括含有一級或三級的胺基的低級伸烷基亞胺作為重複單元。再者，於此種低級伸烷基亞胺重複單元中的氮原子上，可進而鍵結由上述X、Y或Ya所表示的基。此種主鏈結構上含有鍵結有由X所表示的基的重複單元、及鍵結有Y的重複單元兩者的樹脂亦包含於特定分散樹脂(B1)中。

就保存穩定性．顯影性的觀點而言，於特定分散樹脂(B1)中所含有的所有重複單元中，較佳為含有1莫耳%~80莫耳%的由式(I-1)所表示的重複單元，最佳為含有3莫耳%~50莫耳%的由式(I-1)所表示的重複單元。就保存穩定性的觀點而言，於特定分散樹脂(B1)中所含有的所有重複單元中，較佳為含有10莫耳%~90莫耳%的由式(I-2)所表示的重複單元，最佳為含有30莫耳%~70莫耳%的由式(I-2)所表示的重複單元。就分散穩定性及親疏水性的平衡的觀點而言，重複單元(I-1)及重複單元(I-2)的含有比[(I-1)：(I-2)]以莫耳比計較佳為10：1~1：100的範圍，更佳為1：1~1：10的範圍。就效果的觀點而言，於特定分散樹脂(B1)中所含有的所有重複單元中，較佳為含有0.5莫耳%~20莫耳%的視需要而併用的由式(I-3)所表示的重複單元，最佳為含有1莫耳%~10莫耳%的由式(I-3)所表示 的重複單元。再者，可藉由紅外分光法或鹼滴定來確認聚合物鏈Ya為離子性鍵結。

再者，關於上述式(I-2)的共聚比的說明對於由式(I-2a)、式(I-4)、式(I-5)所表示的重複單元而言亦相同，當含有兩者時表示其總量。

．部分結構X

上述各式中的部分結構X具有水溫25℃下的pKa為14以下的官能基。此處所述的「pKa」是化學便覽(II)(修訂4版，1993年，日本化學會編，丸善股份有限公司)中所記載的定義的pKa。「pKa為14以下的官能基」只要是物性滿足該條件者，則其結構等並無特別限定，可列舉pKa滿足上述範圍的公知的官能基，尤其，較佳為pKa為12以下的官能基，特佳為pKa為11以下的官能基。下限值並無特別限定，但較實際的是-5以上。作為部分結構X，具體而言，例如可列舉羧酸基(pKa：3~5左右)、磺酸(pKa：-3~-2左右)、-COCH₂CO-(pKa：8~10左右)、-COCH₂CN(pKa：8~11左右)、-CONHCO-、酚性羥基、-R_FCH₂OH或-(R_F)₂CHOH(R_F表示全氟伸烷基或全氟烷基。pKa：9~11左右)、磺醯胺基(pKa：9~11左右)等，特佳為羧酸基(pKa：3~5左右)、磺酸基(pKa：-3~-2左右)、-COCH₂CO-(pKa：8~10左右)。

藉由部分結構X所具有的官能基的pKa為14以下，可達成與高折射粒子的交互作用。部分結構X較佳為直接鍵結於上 述具有鹼性氮原子的重複單元中的鹼性氮原子上。部分結構X能夠以不僅進行共價鍵鍵結，亦進行離子鍵結而形成鹽的形態來連結。作為部分結構X，特佳為具有由下述式(V-1)、式(V-2)或式(V-3)所表示的結構者。

U表示單鍵或二價的連結基。

d及e分別獨立地表示0或1。

Q表示醯基或烷氧基羰基。

作為由U所表示的二價的連結基，例如可列舉伸烷基(更具體而言，例如-CH₂-、-CH₂CH₂-、-CH₂CHMe-(Me為甲基)、-(CH₂)₅-、-CH₂CH(n-C₁₀H₂₁)-等)、含有氧的伸烷基(更具體而言，例如-CH₂OCH₂-、-CH₂CH₂OCH₂CH₂-等)、伸芳基(例如伸苯基、甲伸苯基、伸聯苯基、伸萘基、伸呋喃基、伸吡咯基等)、伸烷氧基(例如伸乙氧基、伸丙氧基、伸苯氧基等)等，特佳為碳數為1~30的伸烷基或碳數為6~20的伸芳基，最佳為碳數為1~20的伸烷基或碳數為6~15的伸芳基。

另外，就生產性的觀點而言，d較佳為1，另外，e較佳為0。

Q表示醯基或烷氧基羰基。作為Q中的醯基，較佳為碳 數為1~30的醯基(例如甲醯基、乙醯基、正丙醯基、苯甲醯基等)，特佳為乙醯基。作為Q中的烷氧基羰基，Q特佳為醯基，就製造的容易性、原料(X的前驅物X^a)的獲得性的觀點而言，較佳為乙醯基。

部分結構X較佳為與具有鹼性氮原子的重複單元中的該鹼性氮原子進行鍵結。藉此，二氧化鈦粒子的分散性、分散穩定性飛躍性地提昇。可認為部分結構X亦賦予溶劑溶解性，並抑制隨時間經過的樹脂的析出，藉此有助於分散穩定性。進而，部分結構X因含有pKa為14以下的官能基，故亦作為鹼可溶性基發揮功能。藉此，可認為顯影性提昇，分散性、分散穩定性、顯影性可並存。

部分結構X中的pKa為14以下的官能基的含量並無特別限制，但相對於特定分散樹脂(B1)1 g，較佳為0.01 mmol~5 mmol，特佳為0.05 mmol~1 mmol。另外，就酸值的觀點而言，含有特定分散樹脂(B1)的酸值變成5 mgKOH/g~50 mgKOH/g左右的量的上述官能基就顯影性的觀點而言較佳。

．側鏈Y

作為Y，可列舉能夠與特定分散樹脂(B1)的主鏈部連結的聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸酯等公知的聚合物鏈。於Y中，與特定分散樹脂(B1)的鍵結部位較佳為側鏈Y的末端。

Y較佳為與選自如下的重複單元中的至少1種的具有氮 原子的重複單元的上述氮原子進行鍵結：聚(低級伸烷基亞胺)系重複單元、聚烯丙基胺系重複單元、聚二烯丙基胺系重複單元、間二甲苯二胺-表氯醇聚縮合物系重複單元、及聚乙烯基胺系重複單元。選自聚(低級伸烷基亞胺)系重複單元、聚烯丙基胺系重複單元、聚二烯丙基胺系重複單元、間二甲苯二胺-表氯醇聚縮合物系重複單元、及聚乙烯基胺系重複單元中的至少1種的具有鹼性氮原子的重複單元等的主鏈部與Y的鍵結方式為共價鍵結、離子鍵結、或共價鍵結及離子鍵結的混合。Y與上述主鏈部的鍵結方式的比率為共價鍵結：離子鍵結=100：0~0：100，較佳為95：5~5：95，特佳為90：10~10：90。

Y較佳為與上述具有鹼性氮原子的重複單元的上述氮原子進行醯胺鍵結、或者作為羧酸鹽而進行離子鍵結。

作為上述側鏈Y的原子數，就分散性、分散穩定性、顯影性的觀點而言，較佳為50~5,000，更佳為60~3,000。

另外，Y的數量平均分子量可利用藉由GPC法所得的聚苯乙烯換算值來測定。此時，較實際的是在將Y導入至樹脂前的狀態下測定其分子量。Y的數量平均分子量特佳為1,000~50,000，就分散性、分散穩定性、顯影性的觀點而言，最佳為1,000~30,000。Y的分子量可根據成為Y的原料的高分子化合物而特別規定，其測定方法按照後述利用GPC的測定條件。

於樹脂1分子中，相對於主鏈，較佳為連結2個以上的由Y所表示的側鏈結構，特佳為連結5個以上。

尤其，Y較佳為具有由式(III-1)所表示的結構者。

式(III-1)中，Z為具有聚酯鏈作為部分結構的聚合物或寡聚物，且表示自具有由HO-CO-Z所表示的游離的羧酸的聚酯中去除羧基後的殘基。當特定分散樹脂(B1)含有由式(I-3)~式(I-5)所表示的重複單元時，較佳為Ya為式(III-2)。

式(III-2)中，Z的含義與式(III-1)中的Z相同。上述部分結構Y即一末端上具有羧基的聚酯可藉由羧酸與內酯的聚縮合、含有羥基的羧酸的聚縮合、二元醇與二元羧酸(或環狀酸酐)的聚縮合等而獲得。

Z較佳為較佳為-(L^B)_nB-Z^B。

Z^B表示氫原子或一價的有機基。當Z^B為有機基時，較佳為烷基(較佳為碳數為1~30)、芳基、雜環基等。Z^B可進而具有取代基，作為該取代基，可列舉碳數為6~24的芳基、碳數為3~24的雜環基。

L^B為伸烷基(較佳為碳數為1~6)、伸烯基(較佳為碳數為2~6)、伸芳基(較佳為碳數為6~24)、伸雜芳基(較佳為碳數為1~6)、亞胺基(較佳為碳數為0~6)、醚基、硫醚基、羰基、或與該些基的組合相關的連結基。其中，較佳為伸烷基(較佳為碳數為1~6)、醚基、羰基、或與該些基的組合相關的連結基。伸烷基可為分支，亦可為直鏈。伸烷基可具有取代基，較佳的取代基為烷基(較佳的碳數為1~6)、醯基(較佳的碳數為2~6)、烷氧基(較佳的碳數為1~6)、或烷氧基羰基(較佳的碳數為2~8)。nB為5~100,000的整數。nB個L^B彼此可為不同的結構。

以下，藉由樹脂所具有的重複單元的具體的結構與其組合來表示特定分散樹脂(B)的具體的形態，但本發明並不限定於此。下述式中，k、l、m、及n分別表示重複單元的聚合莫耳比，k為1~80，l為10~90，m為0~80，n為0~70，且k+l+m+n=100。由k、l、m所定義者，僅由k、l所定義者分別表示k+l+m=100、k+l=100。p及q表示聚酯鏈的連結數，且分別獨立地表示5~100,000。R^a表示氫原子或烷氧基羰基。

[化47]

[化48]

[化49]

[化50]

[化51]

[化52]

[化53]

[化54]

[化55]

[化56]

當要合成特定分散樹脂(B1)時，可藉由如下方法等來製造：(1)使具有一級胺基或二級胺基的樹脂與部分結構X的前驅物x、及Y的前驅物y進行反應的方法；(2)利用含有對應於部分結構X的結構的單體與含有Y的大分子單體的聚合的方法。較佳為藉由如下方式來製造：首先，合成主鏈上具有一級胺基或二級胺基的樹脂，其後使該樹脂與X的前驅物x及Y的前驅物y進行反應，藉由高分子反應而導入至主鏈上所存在的氮原子中。該製造方法的詳細情況可參照日本專利特開2009-203462等。

作為上述特定分散樹脂B的分子量，以重量平均分子量計較佳為3,000~100,000，5,000~55,000若重量平均分子量為上述範圍內，則導入至聚合物的末端的多個上述吸附部位的效果得 以充分地發揮，可發揮對於二氧化鈦粒子表面的吸附性優異的性能。再者，於本說明書中，只要事先無特別說明，則GPC是使用HLC-8020GPC(東曹(Tosoh)(股份)製造)，並將管柱設為TSKgel SuperHZM-H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200(東曹公司製造)來進行測定。載體只要適宜選定即可，只要可溶解，便使用四氫呋喃。

於本發明的感光性組成物中，高折射率粒子用分散劑可單獨使用1種、或將2種以上組合使用。

就分散性、分散穩定性的觀點而言，相對於分散組成物(II)的總固體成分，特定樹脂(B)的含量較佳為10質量%~50質量%的範圍，更佳為11質量%~40質量%的範圍，進而更佳為12質量%~30質量%的範圍。

為了去除異物或減少缺陷等，較佳為利用過濾器對本實施形態的硬化性組成物進行過濾。只要是自先前以來用於過濾用途等的過濾器，則可無特別限定地使用。例如可列舉利用聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene，PTFE)等氟樹脂，尼龍-6、尼龍-6,6等聚醯胺系樹脂，聚乙烯、聚丙烯(Polypropylene，PP)等聚烯烴樹脂(高密度、含有超高分子量)等的過濾器。該些素材之中，較佳為聚丙烯(包含高密度聚丙烯)。

過濾器的孔徑合適的是0.01 μm~7.0 μm左右，較佳為0.01 μm~2.5 μm左右，更佳為0.01 μm~1.5 μm左右。藉由設為該範圍，可確實地去除混入至已溶解的顏料等中、並於後續步驟 中阻礙均勻及平滑的硬化性組成物的製備的微細的異物。

當使用過濾器時，亦可將不同的過濾器加以組合。此時，利用第1種過濾器的過濾可僅進行1次，亦可進行2次以上。當將不同的過濾器加以組合來進行2次以上的過濾時，較佳為第2次的過濾以後的孔徑大於第1次的過濾的孔徑。另外，亦可於上述範圍內將孔徑不同的第1種過濾器加以組合。此處的孔徑可參照過濾器生產商的標稱值。作為市售的過濾器，例如可自日本頗爾(Pall)股份有限公司、愛多邦得科東洋(Advantec Toyo)股份有限公司、日本英特格(Nihon Entegris)股份有限公司(原日本密科理(Mykrolis)股份有限公司)、或北澤微濾器(Kitz Microfilter)股份有限公司等所提供的各種過濾器中進行選擇。

第2種過濾器可使用以與上述第1種過濾器相同的材料等所形成的過濾器。第2過濾器的孔徑合適的是0.5 μm~7.0 μm左右，較佳為2.5 μm~7.0 μm左右，更佳為4.5 μm~6.0 μm左右。藉由設為該範圍，可於使混合液中所含有的成分粒子殘存的狀態下，去除混入至混合液中、並於後續步驟中阻礙均勻及平滑的硬化性組成物的製備的異物。

例如，利用第1種過濾器的過濾亦可僅於分散液中進行，在混合其他成分後，進行第2次過濾。

[實施例]

以下列舉實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不由該些實施例限定而進行解釋。再者，於本實施例中，只要事先 無特別說明，則「份」及「%」均為質量基準。另外，與製造商(公司名)一同記載的藥劑名均為商品名。

(實施例1、比較例1)

<微透鏡體(下層：第2光學構件)用分散液的製作>

[二氧化鈦分散液(分散組成物)的製備]

針對下述組成的混合液，使用Shinmaru Enterprises股份有限公司製造的NPM(對應小徑珠粒的奈米分散機)作為循環型分散裝置(珠磨機)，以如下方式進行分散處理，而獲得二氧化鈦分散液作為分散組成物。

~組成~

．二氧化鈦(石原產業(股份)製造的TTO-51(C))：150.0份

．下述分散樹脂1(固體成分為20%的PGMEA溶液)：165.0份

．丙二醇單甲醚乙酸酯：142.5份

另外，分散裝置是於以下的條件下運轉。

．珠粒直徑：φ0.05 mm

．珠粒填充率：60體積%

．周速：10 m/sec

．泵供給量：30 Kg/hour

．冷卻水：自來水

．珠磨機環狀通路內部容積：1.0 L

．進行分散處理的混合液量：10 kg

分散開始後，以30分鐘的間隔(通過(pass)1次的時間)來進行平均粒徑的測定。

平均粒徑隨著分散時間(通過次數)而減少，但其變化量逐漸變少。於將分散時間延長了30分鐘時的平均粒徑變化成為5 nm以下的時間點，結束分散。再者，該分散液中的二氧化鈦粒子的平均粒徑為40 nm。

再者，本實施例中的二氧化鈦等的平均粒徑是指如下的值：藉由利用丙二醇單甲醚乙酸酯將含有二氧化鈦的混合液或分散液稀釋至80倍，並使用動態光散射法對所獲得的稀釋液進行測定所獲得的值。

該測定是使用日機裝股份有限公司製造的Microtrac UPA-EX150來進行，將所獲得的數量平均粒徑設為二氧化鈦等的平均粒徑。

[氧化鋯分散液(分散組成物)的製備]

於上述二氧化鈦分散液的製備中，將「二氧化鈦(石原產業(股份)製造的TTO-51(C))」變更成「氧化鋯(日本電工 (股份)製造的PCS)」，除此以外，與上述二氧化鈦分散液的製備方法完全相同地製備氧化鋯分散液。

<下層用塗佈組成物的製備>

使用上述所獲得的二氧化鈦分散液(分散組成物)，以成為以下的組成的方式將各成分混合而獲得下層用塗佈組成物。

~下層用塗佈組成物的組成~

．上述所製備的二氧化鈦分散液(分散組成物)…80份

．聚合性化合物：KAYARAD DPHA(日本化藥(股份)製造)…3.7份

．聚合起始劑：IRGACURE OXE01(巴斯夫製造)…0.1份

．聚合物：A(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物)…1.0份 (共聚比：80/20(wt%)，重量平均分子量：12,000)

．界面活性劑：Megafac F781(迪愛生(股份)製造) 0.20份

．溶劑：丙二醇單甲醚乙酸酯…15份

將下層用塗佈組成物B01塗佈於矽晶圓上後，實施預烤(100℃、2 min)、後烘烤(230℃、10 min)而形成膜厚為1.5 μm的塗佈膜。其他下層用塗佈組成物是根據以下的表1來製備。

上述以外的簡稱的說明如下所述。

(聚合性化合物)

1031S…JER1031S(日本環氧樹脂(股份)製造)

157S65…JER157S65(日本環氧樹脂(股份)製造)

(聚合物)

B…Acrybase(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸異丁酯．甲基丙烯酸2-羥基乙酯．甲基丙烯酸共聚物與甲氧基聚乙二醇的接枝共聚物，藤倉化成(股份)製造)

[接觸角評價]

將1滴純水滴落於所獲得的膜上後，使用自動接觸角計(協和界面化學(股份)製造的CA-V型[商品名])，並藉由θ/2法來對經過5秒時的靜態接觸角進行自動測定(測定溫度：25℃)。以N=5重複進行相同的測定，將其平均值設為對於純水的靜態接 觸角。該測定方法於上述上層的試驗中亦相同。

<透光性硬化膜(上層：第1光學構件)的塗佈組成物>

(水解縮合物的合成)

使用甲基三乙氧基矽烷進行水解．縮合反應。此時所使用的溶劑為乙醇。所獲得的水解縮合物A-1的重量平均分子量約為10,000。再者，上述重量平均分子量是按照先前說明的程序藉由GPC來確認。繼而，利用攪拌機將下述組成1的成分混合來製備上層用塗佈組成物A01。其他上層用塗佈組成物除使用以下的表2所示的量的成分以外，以與A01相同的方式製備。

(組成1)

矽氧烷樹脂：水解縮合物(A-1)…20份

溶劑：丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)…64份

3-乙氧基丙酸乙酯(EEP)…16份

界面活性劑：EMULSOGEN-COL-020(日本科萊恩製造)…2份

<簡稱的含義>

(矽氧烷樹脂原料)

MTES…甲基三乙氧基矽烷

PhTES…苯基三乙氧基矽烷

TEOS…四乙氧基矽烷

γ-GP-TMS：γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷

TFP-TMS：三氟丙基三甲氧基矽烷

TDFO-TMS：十三氟辛基三甲氧基矽烷

(界面活性劑)

EMUL-020…EMULSOGEN COL-020(陰離子系界面活性劑，科萊恩(股份)製造)

EMUL-070…EMULSOGEN COA-070(陰離子系界面活性劑，科萊恩(股份)製造)

Plysurf A208B：陰離子系界面活性劑，商品名．第一工業製藥(股份)製造

ELEBASE BUB-3：非離子系界面活性劑，商品名．青木油脂工業(股份)製造

(氟系樹脂)

CYTOP：商品名．旭硝子製造

(中空二氧化矽微粒子)

Thrulya2320：商品名．日揮觸媒化成(股份)製造(平均一次粒徑為50 nm)

(硬化劑)

AAc…乙醯丙酮鋁

ZAc…乙醯丙酮鋯

(上層用塗佈組成物的塗佈)

將上述所獲得的上層用塗佈組成物A01塗佈於矽晶圓上後，實施預烤(100℃、2 min)、後烘烤(230℃、10 min)而形成膜厚為700 nm的塗佈膜。

(透鏡體的形成)

於塗佈如表1般製備的本發明的實施例中記載的下層用塗佈組成物B01~下層用塗佈組成物B11後，利用加熱板於100℃下加熱2分鐘。其後，利用加熱板於230℃下加熱10分鐘，而使其硬化。硬化後的膜厚為1.5 μm。

進而，將HPR-204ESZ-9-5mPa．s(富士軟片電子材料(Fujifilm Electronic Materials，FFEM)(股份)公司製造的抗蝕液)塗佈於其上，然後利用加熱板於90℃下加熱1分鐘。加熱後的膜厚為0.5 μm。利用i射線步進機(製品名：FPA-3000i5+，佳能(Canon)(股份)製造)，經由具有多個1邊為1.15 μm、圖案間間隙為0.35 μm的正方形圖案的遮罩，以300 mJ/cm²對該塗佈膜進行曝光。

使用鹼性顯影液HPRD-429E(富士軟片電子材料(股份)製造)，於室溫下對該塗佈膜進行60秒浸置式顯影後，進而使用純水並藉由旋轉噴淋來進行20秒淋洗。其後，進而利用純水進行 水洗，其後，藉由高速旋轉來使基板乾燥，從而形成抗蝕劑圖案。於200℃下，利用加熱板進行300秒後烘烤處理，將抗蝕劑整形成透鏡狀的形狀。

使用乾式蝕刻裝置(日立先端科技(Hitachi High-Technologies)製造：U-621)，於下述條件下對以上述方式所獲得的基板實施乾式蝕刻處理，並以可將本發明的下層膜用作微透鏡的方式進行加工。透鏡體的高度為380 nm。

．RF功率：800 W

．天線偏壓：100 W

．晶圓偏壓：500 W

．反應室內壓：0.5 Pa

．基板溫度：50℃

．混合氣體種類及流量：CF₄/C₄F₆/O₂/Ar=175/25/50/200 ml/min

．光阻劑蝕刻率：140 nm/min

(微透鏡單元的製作方法)

以膜厚成為0.7 μm的方式，將表2中的上層用塗佈組成物A01~上層用塗佈組成物A18塗佈於微透鏡上後，利用加熱板於230℃下加熱10分鐘，而製成微透鏡單元。

[表面狀態]

利用光學顯微鏡對加熱前的塗佈膜(剛塗佈之後的上層的)進行觀察。對結果進行下述劃分來加以判定。

5：整個膜上無斑點或氣泡

4：膜周邊部極其略微地存在斑點或氣泡

3：膜周邊部略微地存在斑點或氣泡，但可實際使用

2：整個膜上存在斑點或氣泡，無法實際使用

1：於整個膜上，超出斑點或氣泡而產生塌凹，無法實際使用

[裂痕評價]

利用奧林巴斯(OLYMPUS)公司製造的半導體檢査顯微鏡MX50光學顯微鏡、或日立先端科技公司製造的日立超高解析度場發射型掃描電子顯微鏡S-4800，對在230℃下加熱後所獲得的膜的裂痕進行觀察。對結果進行下述劃分來加以判定。

5：整個膜上無裂痕

4：膜周邊部極其略微地存在裂痕

3：膜周邊部略微地存在裂痕，但可實際使用

2：整個膜上有裂痕，無法實際使用

1：整個膜上大量產生裂痕，無法實際使用

[吸水性(含水率)]

進行所獲得的膜的重量測定，繼而，利用愛斯佩克(Espec)公司製造的高度加速壽命試驗裝置EHS-221(M)，於溫度85℃、濕度95%RH的環境下曝露20小時，去除膜的含水以外的水分，並立即測定重量。含水率(%)由{(試驗後的重量/試驗前的重量-1)×100}求出。測定為測定3次的平均值。將2以上設 為性能上容許。

3：含水率為0.01%以下

2：含水率超過0.01%、且為0.2%以下

1：含水率超過0.2%

具備使用本發明的樹脂組成物101~樹脂組成物121所形成的透光性硬化膜的微透鏡單元的透明性或光學特性均良好。 而且，如上述表3所示，實現單元表面的表面狀態及耐龜裂性，實現凹部c中的填充性(埋入性)，且實現極高的表面狀態。

於上層(第1光學構件)的塗佈組成物A01的製備中，變更成PGMEA及EEP，並使用丙二醇單正丁醚(PnB)80份，除此以外，以與A01相同的方式製備塗佈組成物122，並進行評價。可獲得與A01同樣良好的結果。

進而，變更成PGMEA及EEP，並使用丙二醇單第三丁醚(PTB)80份、二丙二醇二甲醚(DMM)80份、2-庚酮80份，除此以外，以與A01相同的方式製備塗佈組成物123，並進行評價。該些塗佈組成物亦均可獲得與A01同樣良好的結果。

[固體攝影元件的製作]

於下述的固體攝影元件的構成中，將本發明的微透鏡單元設置在裝置覆蓋層上、彩色濾光片下(靠近支撐體之側)，藉此形成固體攝影元件。

其結果，已確認所獲得的固體攝影元件的解析度高且分色性優異。

[固體攝影元件的構成]

固體攝影元件的構成如下：於支撐體上具有構成固體攝影元件(CCD影像感測器、CMOS影像感測器等)的受光區域的多個光二極體、以及包含多晶矽等的傳輸電極，於上述光二極體及上述傳輸電極上具有僅對光二極體(photodiode)的受光部開口的包含鎢等的遮光膜，於遮光膜上具有以覆蓋遮光膜的整個面、 以及光二極體受光部的方式形成的包含氮化矽等的裝置保護膜，於上述裝置保護膜上具有固體攝影元件用彩色濾光片。

(實施例2)[由厚度所造成的影響]

針對上述試驗101及試驗103的套組，製作各種上層及下層的厚度不同者來進行試驗。其結果如下述表4所示，可知即便使厚度變化，亦實現良好的性能。但是，亦可知於適宜的厚度下其性能顯著。再者，關於下層，以如下的厚度進行評價，即與上述實施例1同樣地實施乾式蝕刻處理，並以可用作微透鏡的方式進行加工而成的下層的厚度(透鏡體的高度)。

(實施例3)

於上述A01中，變更成Emulsogen COL-020，並使用ECT-3(日光化學股份有限公司製造)1份，除此以外，同樣地製備硬化性組成物並進行評價。其結果，上層的表面狀態(剛塗佈之後)、上層的裂痕(於230℃下加熱後)均為良好的結果。再者，ECT-3為具有聚氧伸烷基結構的界面活性劑，且具有R-O-(EO)₇-COOH(R=C₁₃烷基)的結構。

(實施例4)

於A01的(組成)中，變更成Emulsogen COL-020，並使用ECT-3(日光化學股份有限公司製造)1份及KF6001(信越矽利光公司製造)0.02份，除此以外，與實施例1同樣地製備塗佈組成物並進行評價。其結果，上層的表面狀態(剛塗佈之後)、上層的裂痕(於230℃下加熱後)均為良好的結果。

Claims (13)

1. 一種光學構件套組，其為包括第1光學構件及第2光學構件而成，上述第1光學構件為使硬化性樹脂的組成物硬化而成，上述第2光學構件被上述第1光學構件所包覆，且上述第2光學構件的與上述第1光學構件接觸的表面上的水的接觸角為70°~97°，上述第1光學構件的與上述第2光學構件接觸之側的相反側的表面上的水的接觸角為80°~115°。
2. 如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組，其中上述第1光學構件為含有矽氧烷樹脂及氟系樹脂的至少任一種而成。
3. 如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組，其中上述第1光學構件進而含有中空粒子。
4. 如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組，其中上述第2光學構件為含有二氧化鈦或氧化鋯而成。
5. 如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組，其中上述第1光學構件的厚度為0.5 μm~3 μm。
6. 如申請專利範圍第1項或第5項所述的光學構件套組，其中上述第2光學構件的厚度為0.2 μm~2 μm。
7. 如申請專利範圍第2項所述的光學構件套組，其中上述矽氧烷樹脂的65質量%以上、100質量%以下為由下述式(1)所表示的倍半矽氧烷結構所構成：-(R¹SiO_3/2)_n- 式(1)(上述式(1)中，R¹表示碳數為1~3的烷基；n表示20~ 1000的整數)。
8. 如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組，其中上述第1光學構件進而含有界面活性劑。
9. 如申請專利範圍第1項或第4項所述的光學構件套組，其中上述第1光學構件包含使由下述式(2)所表示的烷基三烷氧基矽烷進行水解縮合而獲得的樹脂：R²Si(OR³)₃ 式(2)(R²表示碳數為1~3的烷基，R³表示烷基)。
10. 如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組，其中採用多個凸透鏡作為上述第2光學構件，上述多個凸透鏡是使其膨出方向實質上朝向同一方向來排列，且上述多個凸透鏡由自其膨出方向形成透光性硬化膜的上述第1光學構件包覆，在形成於上述多個凸透鏡間的凹部實質上無間隙地填充有上述透光性硬化膜，另一方面，於上述透光性硬化膜中，將上述凸透鏡的相反側設為平坦面。
11. 如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組，其中上述第1光學構件的與第2光學構件接觸之側的相反側的表面上的水的接觸角為80°~98°。
12. 如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組，其中上述第1光學構件為含有矽氧烷樹脂而成。
13. 一種固體攝影元件，其包括如申請專利範圍第1項所述的光學構件套組、以及半導體受光單元。