TW200403229A - Charge transport compositions and electronic devices made with such compositions - Google Patents

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TW200403229A
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heteroaryl
item
aryl
composition
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TW092118886A
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Daniel David Lecloux
Eric Maurice Smith
Ying Wang
Norman Herron
Mark A Guidry
Sabina Radu Nora
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Du Pont
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Description

200403229 玫、發明說明: 【相關申請案之前後參照】 本業係自美國臨時申請案序號60/394767號,2002年7月1〇 曰申睛’及美國臨時申請案序號60/458277號,2003年3月28 曰申請提出優先權申請。 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種電荷傳送組合物。本發明進一步係關 於一種感光電子裝置,其中至少有一種包含該電荷傳送組 合物之活性層。 【先前技術】, 在有機感光電子裝置如構成0LED顯示裝置之發光二極 體(’’OLED")中,有機活性層夾在〇led顯示裝置内之二電接 觸層之間。在〇LED中,在施加電壓越過電接觸層時,有機 感光層透過光傳輸電接觸層發光。 已知使用有機電發冷光化合物作為發光二極體之活性組 伤曰經使用簡單有機分子、共輛聚合物及有機金屬錯合 物。 使用感光物質之裝置時常包括一或多層電荷傳送層,其 走位於感光(例如,發光)層與接觸層之一之間。孔傳送層可 定位於感光層與孔發射接觸層之間,亦稱為陽極。電子傳 送層可足位於感光裝置内之感光層如有機金屬發光物質與 電子發射接觸層之間,亦稱為陰極。 對於電荷傳送物質及抗猝減物質有持續需要。 【發明内容】 86544 200403229
本發明係關於—储兩4/ A 、 種电何傳达組合物,其為喹噚啉衍生 物。1喹噚啉衍生物具有圖1所示之Si,其中:
Rl及R2在每次出現可為相同或不同並選自H、F、a、Br、 ^ 癸久基鉍基、甲矽烷基、矽氧基、烷基、雜 烷基、~基、块基、芳基、雜芳基、伸燒基芳基、 晞基芳基、炔基芳基、伸燒基雜芳基、稀基雜芳基、 、失基2居万基 CnHaFb、〇cnHaFb、c6HcFd及 OC6HcFd, 或R2二者一起可構成伸芳基或雜伸芳基; a、b、c、及d為〇或整數,使a+b==2n+i,及&扣5, η為1至12之整數;及 ζ為0或1至4之整數。 在另一具體例中’本發明得關认
你關於一種具有圖2所示之式II 之電荷傳送組合物,其中: R1、R2、a至d及η定義如上, R在母次出現可為相同或不同 w 〜1丨』亚選自早鍵及一基團,選 自伸院基、雜伸燒基、伸#甘 v , 伸万基、雜伸芳基、伸芳基 伸烷基、及雜伸芳基伸焓其 甲基,伸炔基、伸決基伸芳 基、伸決基雜伸芳基。 Q選自單键及多價基; m為等於至少2之整數, P為0或1,及 X為0或1至3之整數。 在另一具體例中,本發明係關认 # Ώ >门 了關於一種具有圖3所示之Sin 之電荷傳送組合物,其中·· 86544 200403229 ^、R2、a《d、定義如上, R3在每次出現可為相同或 、 <丨』並選自早鍵及一基團,選 自伸烷基、雜伸垸基 ?万基、雜伸芳基、伸芳基 伸燒基、及雜伸芳基 土斤洗基,伸炔基、伸炔基伸芳 基、伸炔基雜伸芳基。 Q選自單鍵及多價基; m為等於至少2之整數;及 P為0或1。 在另一具體例中’本發明係關於一種電子裝置,具有至 層包含選自圖1至3所示之式卜η及m之物質,並中 本又所用之術語”電荷傳送組合物"意指可接收來自電極 〈電荷並可透過具有相當高效率及小電荷損失之物質厚度 促進移動之物質。孔傳送組合物可自陽極接收正電荷並傳 U之%子傳送組合物可自陰極接收負電荷並傳送之。術 抗猝減組合物”意指—種物質,其可防止阻滯或消除能 里轉移及電子轉移自感光層之激發狀態至鄰接層。術語"感 光性”意指任何顯示電發冷光性、光致發冷光性及/或光敏性 之物貝。術浯HOMO"意指化合物之最高佔據的分子軌道。 術語"LUMO"意指化合物之最低佔據的分子軌道。術語"基 團”意指化合物之一部分,如有機化合物内之取代基。字首 Π雜’’意指一或多個碳原子用不同原子更換。術語,,燒基π意指 自具有一接附點之脂肪族烴衍生之基團,該基團可未經 取代或經取代。術語’’雜烷基,,意指一自具有至少一個雜原 86544 200403229 子及具有一接附點之脂肪族烴衍生之基團,該基團可未經 取代或經取代。術語”料基”意指—自脂肪族烴衍生並具 有二或多個接附點之基團。術語"雜·基”意指—自具有 至少-個雜原子之脂肪族烴衍生並具有:或多㈣附點之 基團。術語”締基”意指一自具有一或多個碳-碳雙鍵之煙衍 生並具有-接附點之基團,該基團可未經取代或經取代。 術語”炔基”意指一自具有一或多個碳_碳三鍵之烴衍生並且 有一接附點之基團,該基團可未經取代或經取代。術語"伸 締基”意指—自具有—或多㈣·碳雙鍵之烴衍生並具有二 或多個接附點之基團’該基團可未經取代或經取代。術語” 伸块基"意指-自具有-或多個碳.碳三鍵之烴衍生並呈有 二或多個接附點之基團’該基團可未經取代或經取代。術 語,,雜稀基,,;”雜伸晞基”、,,雜块基”及"雜伸块基,|意指具 有-或多個雜原子之類似基團。術語"芳基,,意指一自具有 -接附點之芳香族烴衍生之基團,該基團可未經取代或瘦 取代。術語”雜芳基”意指—自具有至少一個雜原子並具有 -接附點之芳香族基衍生之基團,該基團可未經取代或經 :代:術語"芳基伸燒基”意指—自具有芳基取代基之燒基 何生《基團’孩基團可進一步未經取代或經取代。術語”雜 芳基伸燒基”意指—自具有雜芳基取代基之燒純生之基 團及基團可進一步未經取代或經取代。術語n伸芳基”音 指-自具有二接附點之芳香族煙衍生之基團,該基图可: 經取代或經取代。術語”雜伸芳基"意指一自具有至少一雜 原子並具有二接附點之芳香族基衍生之基團,該基團可未 86544 -9- 200403229 經取代或經取代。術語”伸芳基伸燒基,,意指一具有芳基與 烷基且在芳基上具有一接附點而在烷基上具有一接附點之 基團。術語”雜伸芳基伸烷基”意指一具有芳基與烷基且在 芳基上具有一接附點而在烷基上具有一接附點之基團,且 其中具有至少一個雜原子。除非另予指明,所有基團皆可 未經取代或經取代。詞句”鄰接至”,當用以指明為裝置中 之層時,並非意指一層直接鄰接至另一層。另一方面,詞 句’’鄰接R基”,意指在化學式中互相鄰接之尺基(即,由键連 接 < 原子上之R基)。術語”化合物,,意指未充電物質,由進 一步由原子所組合之分子所構成,其中原子無法用物理手 段分離。術語”配位體”意指接附至金屬離子之配位區域之 分子、離子或原子。術語,,錯合物”,當用作名詞時,意指 具有至少一個金屬離子與至少一個配位體之化合物。術語 π聚合物”意指涵蓋低聚合物類並包括具有2或多個單體單 π <物質。此外,完全使用IUPAC編號系統,其中自週期 表之族自左至右編號為i至丨8 (化學與物理之c R c手冊,第8 i 版,2000) 〇 除非另予疋義,本文所用之所有技術與科學術語具有如 熟習本發明所屬技術之一般者共同了解之相同意義。除非 另予定義,圖式中所有字母符號代表原子及該原子縮寫。 雖然類似或等於本文所述之方法及物質可用於實施或試驗 本發明’但適當方法及物質說明如下。本文所述之所有刊 物、專利申請案、專利及其他參考物皆以引例整個併入。 在爭論情況下,本說明書包括定義將受控制。此外,物質、 86544 -10- 200403229 方法及實例僅為例示性而非限制性。 由以下之細郎說明及申睛專利範圍當可明白本發明之其 他特性及優點。 【實施方式】 由圖1所示之式I之喹嘮啉衍生物化合物特別可用作電子 傳送組合物及抗猝減劑。喹吟啉化合物亦可用作發光物質 之宿主。 通常’ η為一整數。在一具體例中,η為1至20之整數。在 一具體例中,η為1至12之整數。 在一具體例中,R1選自苯基晞基及苯基炔基,其可進一 步被取代。 在一具體例中,R1選自醋酸烷酯及芳基羰基,其可進一 步被取代。 在/具體例中,R1選自具有1至12個碳原子之烷基。 在/具體例中,R2選自苯基、經取代苯基、吡啶基、及 經取代说淀基。取代基可選自F、α、Br、羥基、竣基、談 基、f矽:k基、矽氧基、燒基、雜院基、晞基、決基、芳 基、雜芳基、伸烷基芳基、烯基芳基、決基芳基、伸烷基 雜芳基、烯基雜芳基、炔基雜芳基、CnHaFb、〇CnHaFb、 及 0C6HcFd。 在/具體例中,R2二者一起為雙伸芳基,其可進一步被 取代。在一具體例中,雙伸芳基係選自雙伸苯基及雙伸吡 啶基。取代基可選自F、Br、羥基、羧基、羰基、甲矽 烷基、矽氧基、垸基、雜烷基、婦基、炔基、芳基、雜芳 86544 -11 - 200403229 基、伸烷基芳基、缔基芳基、炔基芳基、伸烷基雜芳基、 · 晞基雜芳基、块基雜芳基、CnHaFb、0CnHaFb、及 OC6HcFd 〇 — 此類適當ET/AQ化合物之例包括但不限於圖4八至4人〇之 式1(a)至I(ag)所提供者。 由式I表示之組合物可使用標準合成有機技術製備,如實 · 例所示。化合物可藉蒸發技術或傳統溶液加工法作為薄膜 . 應用。本文所用之術語”溶液加工”意指自液態介質形成薄· 膜。液態介質可呈現溶液、分散液、乳液之形式或其㈣冒 式。典型溶液加工技術包括,例如,溶液鑄製、滴液鑄製、 簾鑄製、旋塗、網目印刷、噴墨印刷、凹版印刷等。 · 在某些情況了,最好增加化合物之Tg以改良穩定性、可 塗性及其他特性。此可藉連接二或多種化合物與連接基一 起以形成圖2所示具有式η或圖3所示具有式m之化合物完 成。在此等式巾,Q可為單鍵或多價連接基,具有二或多個 ^附”’、占夕饧連接基可為具有二或多個接附點之烴基,並 嚷| 可為脂肪族或芳香族。多價連接基可為雜㈣基或雜伸芳 基其中4原子可為,例如,N、〇、S、或Si。多價連接基 Q〈例包括但不限於,伸燒基、伸晞基及伸決基、及具有雜· =子:類似化合物;單、多環及溶合環芳香族化合物及雜 :曰秩化合物,芳基胺,如三芳基胺;石夕燒及石夕氧燒。多 I接基Q之附加例提供於圖5之式v(a)至乂作)。在式π⑴ §任何妷皆可連接至電荷傳送部份。在式IV(h)中,任何 原子白可連接至電荷傳送部份。亦可使用雜原子如&及 86544 -12- 200403229
Sn。連接基亦可為-[SlMeRLSiMeRl]n•,其中Rl&n定義如 通常,m為至少等於2之整數。實際數目端視卩上之可得 連接位置數目及三芳基甲烷與(^之幾何而定。在一具體例 中,m為2至10之整數。 在一具體例中’在式π中,選自苯基及經取代苯基。取 代基可選自F、a、Br、烷基、雜烷基、缔基、及块基。 在一具體例中,在式II中,選自醋酸烷酯及芳基羰基, 其可進一步被取代。 在一具體例中,在式II中,Ri選自具有丨至12個碳原子之 燒基。 在一具體例中,在式II中,R2選自苯基、經取代苯基、吡 哫基、及經取代吡啶基。取代基可選自F、C1、Br、羥基、 羧基、羰基、甲矽烷基、矽氧基、烷基、雜烷基、缔基、 炔基、方基、雜芳基、伸烷基芳基、烯基芳基、炔基芳基、 伸烷基雜芳基、烯基雜芳基、块基雜芳基、、 〇CnHaFb、C6HcFd及 〇C6HcFd。 在一具體例中,在式II中,R2二者一起為雙伸芳基,其可 進一步被取代。在一具體例中,雙伸芳基係選自雙伸苯基 及雙伸吡啶基。取代基可選自F、C1、Br、羥基、羧基、羰 基、甲矽烷基、矽氧基、烷基、雜烷基、烯基、炔基、芳 基、雜芳基、伸烷基芳基、烯基芳基、炔基芳基、伸烷基 雉方基、烯基雜芳基、炔基雜芳基、CnHaFb、〇CnHaFb、C6HeFd 及 OC6HcFd。 -13- /21 86544 200403229 在一具體例中,在式II中,χ為0。 在一具體例中,在式II中,R3選自芳基、雜芳基、烷基、 及雜燒基。在一具體例中,在式II中,R3選自苯基及經取代 苯基。在一具體例中,在式II中,R3選自具有1至12個碳原 子之烷基及雜烷基,其可進一步被取代。 在一具體例中,在式m中,r1選自苯基烯基及苯基炔基, 其可進一步被取代。 在一具體例中,在式III中,R1選自醋酸烷酯及芳基羰基, 其可進一步被取代。 在一具體例中,在式III中,R1選自具有1至12個碳原子之 烷基。 在一具體例中,在式ΠΙ中,R2為Η。 在一具體例中,在式m中,R3選自芳基、雜芳基、烷基、 及雜烷基。在一具體例中,在式III中,R3選自苯基及經取 代苯基。在一具體例中,在式m中,R3選自具有1至12個碳 原子 < 烷基及雜烷基,其可進一步被取代。 具有式II之連接化合物之特定例提供於圖6人至AI中之式 11(a)至 11(1)。 電子裝f 本發明亦關於一種電子裝置,包含至少一種定位於感光 層Μ私極間之本發明之電荷傳送組合物。典型裝置結構 不於圖8。裝置100具有陽極層110及陰極層160。包含孔傳 运物貝之層120鄰接陽極。包含電子傳送及/或抗猝減物質 之層140(’ET/AQ’’)鄰接陰極。感光層13〇在孔傳送層與電子 722 86544 -14 - 200403229 傳送及/或抗猝減層之間。作為選擇,裝置時常使用鄰接陰 ’ 極之另一電子傳送層150。層120、130、140、及150個別及 集合稱為活性層。 端視裝置100之應用而定,感光層130可為發光層,其係 藉施加之電壓作動(如在發光二極體或發光電化學電池 内),物質層,其回應輻射能量並使用或不使用施加之偏壓 -產生信號(如在光檢測器内)。光檢測器之例包括光傳導電 · 池、光阻器、光控開關、光電晶體管、光電管及光生伏打 φ 電池,該等術語敘述於Markus,John,Electronics and Nucleonics Dictionary,470 and 476(McGraw-Hill,Inc_ 1966)。 本發明之p奎吟琳衍生物化合物特別可用作層140内之電 ., 子傳送及/或抗猝減組合物,或作為層150内之電子傳送組 · 合物。例如,在一具體例中,本發明之p奎P号淋衍生物化合 物可用作發光二極體内之電子傳送及/或抗猝減層。 亦須知ET/AQ物質必須與所用之感光物質在化學上相 容。例如,ET/AQ物質當沉積在感光物質層上時必須形成 · 平滑膜。若聚結發生時,裝置之性能會惡化。 裝置之其他層可由任何已知用於該層之物質製得。陽極 110為特別有效於注射正電荷載體之電極。其可由例如含有 金屬、混合金屬、合金、金屬氧化物或混合金屬氧化物之 物質製成,或其可為傳導聚合物及其混合物。適當金屬包 括族11金屬、族4,5及6金屬以及族8-10過渡金屬。若陽極 將光傳輸時,通常使用族12,13及14金屬之混合金屬氧化 物如錮-錫氧化物。陽極110亦可包含有機物質如聚苯胺, -15- 7)¾ 86544 200403229 如敘述於”由可溶性傳導聚合物製成之撓性發光二極體,,, .
Nature ν〇ΐ· 357, pp 477_479 (1992年 6 月 11 日)。陽極與陰極 中至少一個應至少局部透明以容許看到一般光線。 - 可用於層120之孔傳送物質之例概述於,例如,
Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,第四版, V〇l· 18, p. 83 7-860, 1996, Y_ Wang。可使用孔傳送分子及聚 · 合物。共用的孔傳送分子為:N,N、二苯基-N,N,-雙(3-甲基 k 苯基)-[1,1’-二苯基]-4,4’-二胺(TPD)、1,1-雙[(二-4-甲苯胺基)_ 苯基]%己烷(TAPC)、N,N’-雙(4_甲基苯基)_Ν,Ν,^ (4•乙基 私基)[1,1 -(3,3 - 一甲基)二苯基]_4,4’_二胺(ETPD)、肆-(3_ 甲基苯基卜沭队^一义伸苯二胺^^入^卜苯基-心^…二_ 苯基胺基苯乙烯(TPS)、對_(二乙基胺基)苄醛二苯基腙 (DEH)、三苯胺(TPA)、雙[4+Ν,Ν_二乙基胺基)_2_甲基苯 基](4-甲基苯基)甲燒(MPMP)、L苯基冬[對仁乙基胺基) 苯、希基]5*"[對-(一乙基胺基)苯基]Ρ比吐琳(PPR或 DEASP}、1,2_反式_雙(紐_卡巴唑冬基,環丁燒⑴、書 Ν,Ν,Ν’,Ν’-肆(4-甲基苯基)-〇51,·二苯基 Μ,4,_ 二胺(ΤΤΒ)、及 哺琳化—合物如銅酜菁。共用的孔傳送聚合物為聚乙締卡巴· 坐(苯基甲基)水矽烷及聚苯胺及其混合物。亦可藉摻雜上 述孔傳送分子進入聚合物如聚苯乙烯及聚破酸酉旨内而得孔 傳送聚合物。 感光層130〈例包括所有已知電發冷光物質。以有機金屬 ^ ~光化合物較佳。最佳化合物包括環金屬化錶及銘電 發冷光化合物及其混合物。銥與苯基吡啶 、苯基ρ奎琳、或
86544 -16- 200403229 苯基嘧啶配位體之錯合物作為電發冷光化合物揭示於 Petrov等人,公告PCT申請案WO 02/02714號。其他有機金 屬錯合物敘述於,例如,公告申請案美國專利2001/0019782 號、歐洲專利1191612號、WO 02/15645號及歐洲專利 1191614號。具有摻雜有銥之金屬錯合物之聚乙烯卡巴唑 (PVK)之電發冷光裝置敘述於Burrows and Thompson於公告 PCT申請案WO 00/70655號及WO 01/41512號。包含電荷負 載宿主物質及發磷光鉑錯合物之電發冷光發射層敘述於, Thompson等人,美國專利 6,303,238號,Bradley等人,於 Synth· Met. (2001),116(1-3),379-383,及 Campbell 等人,於 Phys· Rev. B,Vol· 65 085210,如一些適當銀錯合物之例提供於圖 7Α至7Ε,如式VI(a)至VI(e)。亦可使用類似配位基鉑錯合 物。此等電發冷光錯合物可單獨使用,或如上述掺雜入電 荷負載宿主内。本發明之p奎崎琳物質亦可作為發射層内之 該電荷負載宿主。 陰極160為一種對注射電子或負電荷載體特別有效之電 極。陰極可為任何具有較陽極更低功函數之金屬或非金 屬。陰極用之物質可選自族1之鹼金屬(如Li,Cs)、族2(鹼 土)金屬、族12金屬,包括稀土元素及鑭系元素及锕系元 素。可使用物質如鋁、銦、鈣、鋇、釤及鎂及其組合。含 Li有機金屬化合物,LiF及Li20亦可沉積在有機層與陰極層 之間以降低操作電壓。 已知在有機電子裝置内具有其他層。例如,在陽極110與 孔傳送層120之間可具有一層(圖未示)以利正電荷傳送及/ 86544 -17- 200403229 或層4帶隙匹配或作為保護層功能。可使用此技藝已知之 · 層。此外,任何上述層可由二或多層製成。或者,某些或 所有1¼極層110、孔傳送層120、電子傳送層140及150及陰 — 極層160可被表面處理以增加電荷載體傳送效率。對各成份 層物質之選擇最好由平衡提供具有高裝置效率及裝置操作 壽命之裝置之目標決定。 . 須知各官能層可由超過一層所構成。 . 裝置可藉各種技術,包括按序蒸汽沉積個別層在適當基 __ 材上製備。可使用基材如玻璃及聚合膜。可使用傳統汽相 沉積技街如熱蒸發、化學汽相沉積等。或者,有機層可使 用任何傳統塗佈或印刷技術,包括但不限於旋塗、浸塗、 輥-輥技術、噴墨印刷、凹版印刷、及網目印刷自溶液或分 散液於適當溶劑内塗佈。通常,不同層具有下面厚度範圍: 陽極110 ’ 500-5000埃,較佳為1〇〇〇_2〇〇〇埃;孔傳送層12〇, 50 2000i矢,車乂佳為20040Q0埃;感光層丨3〇,ι〇·2〇〇〇埃, 較佳為100-1000埃;電子傳送層14〇及15〇,5〇_2〇〇〇埃,較 嚷| 佳為100-1〇〇〇埃,陰極16〇,2〇〇1〇〇〇〇埃,較佳為3〇〇5〇训 埃。電子-孔再組合區域於裝置内之位置,因而裝置之發射 光譜可被各層之相對厚度影響。因此,應選擇電子-傳送層 · <厚度,使得電子-孔再組合區域在發光層内。層厚度之所 名乂比率端視所用物質之實際性質而定。 本發明《喹嘮啉衍生物化合物可用於〇LEDs以外之應 用例如,此等組合物可用於太陽能轉化之光生伏打裝置。 其亦可用於場效電晶體供精靈卡及薄膜電晶體(TFT)顯示 86544 -18- 200403229 驅動器應用。 下列實例例示本發明之某種特性及優點。預定其為本發 — 明之例示性而非限制性。除非另予指明,所有百分比皆依 重量計。 1-16 · 此等實例例示喹呤啉衍生物ET/AQ組合物之製備。 私 貫例1 此實例例示圖4N之化合物I(n)之製備。 2,3-(二-4-氟苯基)-6·溴喹嘮啉(2·〇〇克,5.00毫莫耳)、對-第三丁基苯乙烯(1.02克,6.40毫莫耳)、Na2CO3(0.68克,6.40 · 毫莫耳)、反式-二(μ-醋酸基)雙[〇-(二-鄰甲苯基_膦基)苄基] _ 二飽(II) (0.020克’ 0.02¾莫耳)及2,6-二-第三丁基-對甲酉分 (0.5 52克,2.50¾莫耳)與n,N-二甲基醋酸醯胺(12毫升)裝入 爐乾燥可釋放Schlenk燒瓶内。Schlenk燒瓶用鐵氟龍閥密 閉’反應混合物在130°C下加熱21小時。所得混合物冷卻至 _ 室溫、在Et2〇(230毫升)内稀釋並透過矽墊過濾。過滤物用 水(2x100^:升)及鹽水(1x50^:升)洗滌。乾燥有機層並濃縮 以得粗產物,然後,其係藉閃蒸層析術純化以得72%(丨·7 i · 克)產率之淡黃色固體之純產物。19F CD2ei2)· δ-113·48及-113.58。 實例2 此實例例示圖40之化合物1(〇)之製備。 心氟苯基乙炔(0.334克,2.78毫莫耳)、2,3-(二_4_氣苯 86544 -19- 200403229 基)-6-溴喹噚啉(1 克,2.53 毫莫耳)、Pd2(dba)3(0_046克,0.05 毫莫耳)、三苯膦(0.066克,0.253毫莫耳)、Cul(0.010克,0·05 晕莫耳)及三乙胺(15毫升)裝入爐乾燥可釋放schlenk燒瓶 内。然後金閉此燒瓶並在60。〇下加熱24小時。所得混合物 用CHWl2稀釋、用HA及鹽水洗滌、經MgS04乾燥、過濾並 濃縮以得灰白色固體。粗產物係藉己烷(3χ2〇毫升)重複洗滌 純化以得 0.924克(84%產率)。4 NMR(CD2C12,500 ΜΗζ) δ 8.37 (d,1Η,J=1.6),8.20-8.18 (d,1Η,8.8),7.98-7.95 (dd,1Η, J=8.3, 1.5),7.74-7.70 (dd,2H,J=5.4, 3.6),7.64-7.60 (m,4H), 7.24-7.14 (m,6H)。19F NMR(CD2C12, 500 MHz) δ -111.14 (m, 1F),-113.1 (m,2F)。 實例3 此實例例示圖4Q之化合物I(q)之製備。 實例1之化合物1(11)(1.70克,3.55毫莫耳)、£3〇八11140?(1/€ 觸媒(0.056克)及MeOH(45毫升)裝入反應器内。反應混合物 係用氮氣沖洗、加壓至500 psig H2並加熱至60。(:歷8小時。 揮發物在真空下除去’產物係藉閃蒸層析術(5%Et〇At/己燒, 其中nEt’’表示乙基及flOAcn表示醋酸酯)純化以得淡黃色粉 (0.220克,13%)。19F NMR (376.8Hz,CD2C12)J -111.14及 -114.60 〇 實例4 此實例例示圖4B之化合物1(b)之製備。 3,4-二胺基甲苯(28·78克,.236莫耳)與苯偶醯(45克,.214 莫耳)之混合物於738¾升氯仿内與2.16毫升三氟醋酸回流3 86544 -20- 200403229 小時。混合物用10%HC1、鹽水洗滌3次、並經MgS〇4乾燥、 · 過濾、然後透過矽墊用真空過濾。所得熔液蒸發至乾燥狀 怨。自550毫升甲醇再晶化69克粗產物。過濾的固體在5〇〇c — 下於真芝爐内乾燥1小時以得5 5 _ 5 6克乾燥固體。7 8 · 8 %產率。 實例5 此實例例示圖4E之化合物I(e)之製備。 , 3.4- 一胺基甲苯(4.49克,.037莫耳)與4,4,-二甲氧基苯偶 · 醯(9.46克,.035莫耳)之混合物於125毫升氯仿内與〇·35毫升 _ 三氟醋酸回流6小時。混合物用水洗滌2次、並經MgS〇4乾 燥、並蒸發至〜11克。固體溶解於i ·· 1醋酸乙酯:氯仿内供 閃悉層析並用醋酸乙酯洗提。蒸發至9·7克深色固體。72% ^ 產率。 . 實例6 此實例例示圖4C之化合物1(c)之製備。 3.4- 二胺基甲苯(〇.603克,4.93莫耳)與1,1〇_二氮雜菲-5,6- 二酮(0.945克,4.50毫莫耳)之混合物於6〇2毫升氯仿内與 ϋ 0·35毫升三氟醋酸回流6小時。混合物透過介質燒料加熱過 一 滤以在乾燥後獲仔0 _ 8 5克淡黃色固體。產率6 3 %。 在冷卻後自母液可得第二產量以得另外〇·3丨克。 實例7 此實例例示圖4D之化合物1(d)之製備。 3.4- 二胺基甲苯(5.36克,44毫莫耳)與二氮雜菲喹諾酮 (8.33克’ .040莫耳)之混合物於119毫升氯仿内與〇·4毫升三 氟醋酸回流6小時。混合物透過介質燒料過滤並自43〇克甲 86544 -21 - 200403229 基乙基S同以仔5 · 5克鬆軟毛狀黃色產物。46%產率。 實例8 此實例例示圖4F之化合物1(f)之製備。 3.4- 二胺基甲苯(5.36克,44毫莫耳)與2,2,-吡啶(8.49克, 40¾莫耳)之混合物於119毫升氯仿内與〇·4毫升三氟醋酸回 流4小時。分離反應混合物並用1 〇〇毫升水洗滌4次、並蒸發 至10.4克。所得固體溶解於1 : 1醋酸乙酯:氯仿内供閃蒸層 析並用醋酸乙酯洗提。蒸發至9.3克固體。 實例9 此實例例示圖4G之化合物1(g)之製備。 3.4- 一胺基冬甲故甲酉旨(7.28克,44毫莫耳)與苯偶酸(8·41 克’ 40毫莫耳)之混合物於140毫升二氯甲烷内回流2丨小 時。反應混合物蒸發至乾燥狀態,然後在回流下溶解於52〇 毫升甲醇及150毫升二氯甲烷内。然後局部蒸發溶液以選擇 性晶化所欲產物。 實例10 此實例例示圖4κ之化合物I(k)之製備。 3,4-一胺基麥甲甲酉旨(6.37克’ .038莫耳)與4,4,_二甲氧 基本偶驗(9·46克,.035莫耳)之混合物於M2毫升二氯甲院内 與3滴三氟醋酸回流5小時。加入10.7克N-甲基吡咯烷酮並持 續回流26小時以上。混合物用水洗滌3次、經MgS〇4乾燥、 過濾及沉澱產物,以將有機溶液傾析入55〇克甲醇内。在靜 置隔夜後,過濾產物並在95°C下真空乾燥以得1〇·39克產物。 實例11 -22-
?38, 86544 200403229 此實例例示圖4R之化合物I⑴之製備。 · 3,4-二胺基苯甲酸甲醋(6.12克,.037莫耳)與二氮雜菲喹 諾酮(7_08克’ .034莫耳)之混合物於119毫升二氯甲燒内回 流。加入1〇〇克^曱基吡咯烷酮並將氯化溶劑蒸餾出。將罐 加溫至150°C,藉此可得透明溶液,反應藉氣體層析術跟 蹤。產物係藉澆入410克甲醇沉澱並將沉澱的固體過滤出。 · 產物係自甲苯再晶化,然後再自甲基乙基酮12〇〇克、甲苯 . 150克及四氫吱喃1100克之組合再晶化。產率為3·3克珍珠狀 _ 金色毛狀物質。 實例12 此實例例示圖4L之化合物1(1)之製備。 1,2-伸苯二胺(13.91克,0.129莫耳)與4,4,-二溴苯偶醯(45
克,0.116莫耳)之混合物於558毫升氯仿内與ι·〇毫升三氟醋 酸回流6小時。混合物用10% HC1洗滌3次並蒸發至〜51克。 在回流下用100毫升甲醇自600毫升醋酸乙酯再晶化。大型 晶體隔夜形成、過濾及用甲醇洗滌二次並乾燥至29·63克以 及4.9克自冷卻母液之第二產量。 實例13 此實例例示圖4Η之化合物1(h)之製備。 2,3-二胺基甲苯(4·84克,.040莫耳)與苯偶醯(7.56克,0.036 莫耳)之混合物於112毫升二氯甲燒内回流19小時。混合物 用12% HC1洗滌4次、經MgSCU、過滤並蒸發至〜9.5克棕色 固體。固體在回流下溶解於495克甲醇内,.然後將〜3〇〇克 溶劑蒸餾出。用冰冷卻以得良好晶體。過濾並用甲醇洗滌 86544 -23- 200403229 結晶餅。 實例14 此實例例示圖4(1)之化合物i(i)之製備。 — 2.3- 二胺基苯甲酸甲酯(5·05克,0·041莫耳)與二氮雜菲喹 諾酮(7·84克,0.038莫耳)之混合物於112毫升氯仿内回流” 小時。所得溶液用氯仿洗提物向下層析矽柱。自溶劑笑發 · 產物以在真空爐乾燥纟ij獲得約1 〇克。物質出現結晶。 實例15 赢 此實例例示圖4(J)之化合物Rj)之製備。 3.4- 二胺基苯甲酸甲酯(7·28克,0·044莫耳)與2,2,_峨淀 (8.48克’ 0·040莫耳)之混合物於14〇毫升二氯甲烷内回流7 、, 小時。溶液瘵發至15·7克,固體在回流下溶解於240毫升二 -氯甲烷及140毫升甲醇内。在加入28〇毫升甲醇及蒸發〜15〇 毫升溶劑後,將溶液靜置隔夜。收集所得固體並乾燥至9.8 克。取出7·7克物質並解於203克甲醇及5〇克二氯甲烷内。蒸 餾出>50毫升溶劑。晶體隔夜形成。過濾並在真空爐内乾燥。 實例16 此實例例示圖4Τ之化合物I⑴之製備。 2’3_( —_4_氟冬基)-6•溴ρ奎巧琳(1.23克,3.08毫莫耳)、1,3_ 二乙埽基四甲基矽氧烷(3·4〇毫升,丨4·8毫莫耳)、K〇ac(〇.440 克,4.48 毫莫耳)、Pd(〇Ac)2(〇〇12 克,〇〇6 毫莫耳)、ρ(〇_τ〇1)3 (0.06克’ 〇·2〇毫莫耳)、NEt3(〇 3〇〇毫升)、DMF(〜2毫升)及 水(〇.45毫升)裝入爐乾燥可釋放Schlenk燒瓶内。Schlen]^ 鐵氟龍閥密閉,反應混合物在95 X:下加熱48小時。所 86544 -24- 200403229 得混合物冷卻至室溫、在水(15毫升)内稀釋及產物用 CH2C12(15毫升)萃取。乾燥有機層並濃縮以得粗產物,其係 藉閃蒸層析術純化(3% EtOAc/己烷)以得(0.478克,31%產率) 之淡黃色固體。19F NMR(376.8Hz,CD2C12)·· 5 -113.45(br m)。 實例17-19 此實例例示具有超過一個喹吟啉基之電荷傳送組合物之 製備。
此實例例示圖6E之化合物11(e)之製備。 1,4-伸苯基雙硼酸(2克,12.1毫莫耳)、2,3-(二-4-氟苯 基)-6-溴喹噚啉(9.54 克,24.1 毫莫耳)、Pd(PPh3)4(2.78 克, ^ 2.41毫莫耳)、碳酸鉀(6.67克,48.3毫莫耳)、DME( 150毫升) . 及H2〇( 150毫升)裝入設有氮氣入口及冷凝器之3頸式500毫 升圓底燒瓶。將反應混合物回流24小時,然後用h20及 CHeh稀釋。有機層含有沉澱物,其係藉過濾單離並用 CH2C12洗开条以得2.75克(32%產率)灰白色粉。1η NMR _ (CD2C12, 500 MHz) δ 8.56-8.55 (m5 2Η),8·35-8·33 (d,2Η), 8.29 (m,2Η),8.12 (s,4Η),7·68-7_64 (m5 8Η),7.29-7.16 (m, 8H)。19F NMR(CD2C12, 500 MHz) δ -113.35 (m,2F)。 · 實例18 此實例例示圖6K之化合物II(k)之製備。 1,4-雙苯偶驢(1克,2.92毫莫耳)及4,5-二甲基-i,2-伸苯二 胺(〇·769克’ 5.84¾莫耳)於氯仿(20毫升)内之混合物在氮氣 環境下回流15小時。將己烷加入反應混合物内,沉澱出淡 86544 -25- 200403229 男色〉儿殿物,其係藉過濾單離並用己烷洗滌以得淡黃色粉 · 之產物(1.32 克,83% 產率)。4 NMR(CD2Cl2, $⑻ ΜΗζ:) δ 7.89-7.88 (d,4Η,J=7.1 Ηζ),7.50-7.48 (dd,4Η,J=1.5 Ηζ,7·7 〜 Ηζ),7.45 (s,4Η),7.35-7.31 (m5 1〇η)5 2.53 (s,12Η)。 實例19 此實例例示圖6A之化合物11(a)之製備。 . 3,3 - 一胺基聯苯胺(0.4580克,2.14毫莫耳)與ι,ι〇_二氮雜 菲5,6- 一酉同(0.9458克’4.5¾莫耳)之混合物於1〇克甲基p比 洛燒嗣與0.045毫升三氟醋酸内在85°C下加熱23小時。在周 圍溫度下,將氯仿加入罐内,内含物透過細緻燒料過濾並 用丙酮及二乙醚洗滌,然後在9〇°C及真空下乾燥。 - 實例20 , 此實例例示圖4M之化合物I(m)之製備。 根據用於製備1(〇)之合成法實施此化合物之合成以得 58%產率之所欲產物。1HNMR(CD2C12, 500 ΜΗζ) δ 8.38 (d, 1H,J=1.8 Hz),8.20-8.18 (d,1H,8·4 Hz),7.99-7.97 (dd,1Η, _ J=1.8 Hz,8.7 Hz),7.73-7.71 (m,2H),7.64-7.61 (m,4H), 7.52-7.50 (m,3H),7.19-7.14 (m,4H)。19F NMR(CD2C12, 500 MHz) δ -113.14 (m,2F)。 實例21 此實例例示圖6G之化合物11(g)之製備。 根據用於製備11(e)之合成法實施此化合物之合成以得 13°/。產率之所欲產物。iH NMR(CD2C12, 500 ΜΗζ) δ 8.42-8.41 (d,2Η,J=1.9),8.20-8.18 (d5 2Η,J=8.5),8.13-8.11 (dd,2Η, 86544 -26- 200403229 J=9.1 Hz,2.0 Hz),8.00 (s,4H),7.54-7.51 (dd,8H,J=8.7 Hz, 3.1 Hz),6.9-6.9 (q,8H),5·48 (s,12H)。 實例22 此實例例示圖6D之化合物11(d)之製備。 根據用於製備11(e)之合成法實施此化合物之合成以得 10%產率之所欲產物。1H NMR(CD2C12, 500 ΜΗζ) δ 8.62-8.61 (d,2Η,J二 1.5),8·44-8·41 (m,4Η),8.41-8.39 (d,2Η,J=9.5 Hz), 8.34-8.31 (dd,2H,J-8.3 Hz,1.6 Hz),8.14 (m,6H),8.12-8.11 (m,2H),7.98-7.94 (m,4H),7.38-7.34 (m,4H)。 實例23 此實例例示圖6K之化合物II(k)之製備。 根據用於製備II(j)之合成法實施此化合物之合成以得 66%產率之所欲產物。iH NMR(CD2C12, 500 ΜΗζ) δ 8.09_8.06 (t,2Η,J=7.4 Ηζ),7·98-7·96 (d,2Η,J=7.2 Ηζ),7·69·7·67 (d, 2Η,8.9),7.59-7.51 (m,10Η),7.43-7.40 (m,8Η),2.67 (s,6Η)。 實例24 此實例例示圖6L之化合物11(1)之製備。 根據用於製備II(j)之合成法實施此化合物之合成以得 650/。產率之所欲產物。iH NMR(CD2C12, 500 ΜΗζ) δ 8.29-8.24 (m,1Η),8.07-8.01 (m,1Η),7.90-7.86 (m,1Η),7·80-7·78 (m, 0.6H),7.72-7.66 (m,1H),7.64-7.59 (m,4H),7.51-7.44 (m, 3H)。19F NMR(CD2C12, 500 MHz) δ -108.4 (m,2F),-108.9 (m5 3F),·109·2 (m5 8F),-109.4 (m,8F)。 實例25
86544 -27- 200403229 此實例例示圖6M之化合物II(m)之製備。 使用卞系之合成圖式貫施此化合物之合成。
Br
Br
F f
使用以1(0)於製造65%產率之預期產物之合成法可得化 合物 Il(ma)。4 NMR(CD2C12, 500 ΜΗζ) δ 7.64-7.60 (m,4H), 7.27 (s,2Η), 7.20-7.16 (t,4Η,J=8.9 Hz)。19F NMR(CD2C12, 500 MHz) δ -110.10 (m5 2F)。在氮氣下,將 II(ma)(2.00 克, 6·25 毫莫耳,0· 1 當量)、Adogen 464(0.125 克)、過鐘酸 _ (4·9 克,31.25毫莫耳,5.00當量)、碳酸氫鈉(1.05克,12.5毫莫 耳,2.0當量)、Η2Ο(80毫升)及CH2C12(50毫升)裝入設有冷凝 器之3頸式圓底燒瓶。將混合物回流36小時。在冷卻至室溫 後’將9.3克碳酸氫鈉與4毫升HC1缓慢加入反應混合物内以 中和並除去任何多餘氧化劑。然後,反應混合物用二氯甲 燒及HA稀釋、分離層、有機部份用h2〇、鹽水洗滌並經 MgS〇4乾燥。產物係藉蒸發溶劑,然後自乙醇再晶化以得 86544 -28 - 200403229
0·6克(25%產率)黃色針狀晶體之II(mb)。4 NMR(CD2C12, 500 MHz) δ 8.25-8.21 (dd,4H,J=8.9 Hz,5.6 Hz),7.98 (s,2H), 7.36-7.32 (t,4H,J=8.70 Hz)。19F NMR(CD2C12, 500 MHz) δ -101.8 (m,2F)。根據用於製備II(k)之程序實施化合物II(m) 之合成以得20%產率之所欲產物。1H NMR(CD2C12, 500 MHz) δ 8.25-8.21 (m,1H),8.19-8.15 (m,1H),7.85-7.78 (m,2H), 7.73-7.64 (m,6H),7.29-7.25 (t,4H),6·69-6·66 (m,2H)。19F NMR(CD2C12, 500 MHz) δ -108.7, -108.8 (m,2F),-112.4 (m, 1F),-112.6 (m,IF) 〇 電子傳送及/或抗猝減組合物之特性概述於下表1。 表1 特性 化合物 吸收開始 吸收最大 E12 對 SCE LUMO 對 (nm),E1-E5 量(nm) (伏), 真空(eV),El 化合物I⑻ 375 345 -1.5 -3.33 化合物1(b) 378 339 -1.6 -3.24 化合物1(c) 400 385 -1.17 -3.67 化合物1(d) 410 397 1.3 -3.54 化合物1(g) 390 352 -1.29 -3.55 化合物11(a) 一- --此線之目的為何? 化合物1(e) 405 369 -1.66 -3.18 化合物1(f) 378 339 -1.53 -3.31 化合物1(〇) 420 382 -1.35 -3.49 化合物1(1) 407 394 -1.28 -3.56 -29- 7 <7 86544 200403229 化合物I(k) 385 343 -1.59 -3.25 化合物I(w) 417 401 -1.03 -3.81 化合物I(p) 380 347 -1.49 -3.35 化合物I(x) 380 342 -1.22 -3.62 化合物A 368 310 -1.85 -2.99 DDPA 化合物B 366 316 -1.95 -2.89 DPA 實例27 此實例例示銥電發冷光錯合物之製備,如圖7A之式V(a) 所示。 笨基吡啶配位體,2-(4-氟笨基V5-三氟甲基吡啶 所用之一般程序敘述於0. Lohse, P. Thevenin,E. Waldvogel Synlett,1999, 45-48。將 200 毫升脫氣水、20 克碳 酸钾、150毫升1,2-二甲氧基乙烷、0.5克Pd(PPh3)4、0.05莫 耳2-氯-5-三氟甲基吡啶及0.05莫耳4-氟苯基硼酸之混合物 回流(80-90°C )16-30小時。所得反應混合物用300毫升水及 用CH2C12(2x100毫升)萃取。組合有機層經MgS04乾燥,溶 劑藉真空除去。液態產物係藉分餾真空蒸餾純化。固體物 質係自己烷再晶化。經單離物質之典型純度為>98%。 銥錯合物 當溫度缓慢(30分鐘)升至185°C (油浴)時,在N2之流動 下,強力攪拌IrCl3 · nH20(54% Ir ; 508毫克)、上述2-(4-氟 苯基)-5-三氟甲基吡啶(2.20克)、Ag〇COCF3(1.01克)及水(1 86544 -30- 200403229 毫升)之混合物。在185-190°C下2小時後,混合物固化。混 合物冷卻至室溫。固體用二氯甲烷萃取,直到萃取物脫色 為止。組合的二氯f7烷透過短矽柱過濾並蒸發。在甲醇(50 毫升)加入殘餘物後,燒瓶保持在-10°C下隔夜。分離參-環 狀金屬化錯合物,圖7A中之化合物V(a)之黃色沉澱物、用 甲醇洗滌、及在真空下乾燥。產率:1.07克(82%)。錯合物 之X射線品質晶體係藉緩慢冷卻其加溫溶液於1,2-二氯乙 燒内而得。 實例28 此實例例示OLEDs使用本發明之電荷傳送組合物之形 成。 包含孔傳送層(HT層)、電發冷光層(EL層)及至少一層電 子傳送及/或抗猝減層(ET/AQ層)之薄膜OLED裝置係藉熱 蒸發技術製造。使用具有油擴散泵之Edward Auto 306蒸發 器。所有薄膜沉積之基本真空範圍為10·6托爾。沉積室可沉 積五種不同之薄膜而不需停止真空。 使用獲自Thin Film Device公司之帶紋氧化錫銦(ITO)塗 佈之玻璃基材。此等ITO’s以塗有1400埃ITO塗料並具有片 材電阻為30歐姆/平方及80%光傳輸率之Corning 1737玻璃 為基礎。然後帶紋ITO基材於清潔劑水溶液内以超音波方式 清潔。然後,基材用蒸餾水、接著異丙醇清洗、然後於甲 苯蒸汽内脫氣〜3小時。 然後,清潔過帶紋ITO基材裝入真空室内而此室向下泵抽 至10_6托爾。進一步使用氧電漿清潔基材約5-10分鐘。在清 86544 •31 - 200403229 潔後,多層薄膜藉熱蒸發按序沉積在基材上。最後,A1或 LiF與A1之帶紋金屬電極透過罩沉積。在沉積期間,使用石 英晶體監視器(Sycon STC-200)測定薄膜厚度。實例中記載 之所有薄膜厚度皆為標稱,假定沉積物質之密度欲為一種 計算。然後,自真空室取出完成之OLED裝置並直接特性化 而不用包膠。 表2概示用本發明之喹呤啉衍生物ET/AQ組合物製成之 裝置。在所有情況下,陽極為ITO,如上所述,孔傳送層為 MPMP,及發射層為具有所示厚度之實例27之銥錯合物。當 呈現時,電子俸送層150為具有規定厚度之參(8-羥基喹諾基) 鋁(III),Alq。陰極為具有規定厚度之A1層或LiF/Al雙層。 表2 裝置 樣品 ht(A) EL, A ET/AQ,A ET,A 陰極,A 比較例A 507 407 化合物A 408 A1721 比較例B 507 405 化合物B 407 A1 732 3-1 545 403 1(a) 430 Alq 430 A1737 3-2 508 625 1(b) 425 A1 732 3-3 509 413 1(c) 416 A1 750 86544 -32- 200403229 3-4 578 411 1(d) 381 A1711 3-5 527 418 1(e) 418 A11027 3-6 535 415 i(f) 459 A11039 3-7 549 425 1(g) 423 A11023 3-8 510 445 II⑻ 415 A1710 3-9 502 403 i(f) 106 Alq 303 LiF5 A1470 3-10 502 402 1(d) 102 Alq 303 LiF5 A1497 3-11 501 402 1(c) 103 Alq 302 LiF5 A1 111 3-12 513 409 1(h) 414 A1718 3-13 514 416 I(i) 408 A1718 3-14 515 500 1(0 410 A1 729 3-15 504 488 ι〇·) 402 A1721 3-16 505 412 I(k) 439 A1 727 86544 -33- 200403229 3-17 516 409 1(1) 432 A1733 3-18 302 403 11(c) Alq 302 LiF 10 102 A1 452 3-19 304 402 11(d) Alq 302 LiF 10 101 A1 452 3-20 305 404 11(e) Alq 303 LiF 10 102 A1 454 3-21 301 402 Π(ί) Alq 305 LiF 10 105 A1451 3-22 303 406 I⑽ Alq 302 LiF 10 103 A1 453 3-23 303 405 n(g) Alq 305 LiF 10 102 A1453 3-24 304 402 I⑻ Alq 303 LiF 10 101 A1453 3-25 303 410 11(h) Alq 305 LiF 10 102 A1453 3-26 306 404 I(〇) Alq 302 LiF 10 103 A1 453 3-27 305 404 II(i) Alq 305 LiF 10 192 A1 453 3-28 303 402 I(P) Alq 304 LiF 10 102 A1456 3-29 303 403 Πϋ) Alq 303 LiF 10 103 A1335 86544 -34- 200403229 3-30 303 405 II(k) Alq 305 LiF 10 102 A1 284 3-31 303 405 11(1) 102 Alq 303 LiF 10 A1 232 OLED樣品係藉測定其⑴電流-電壓(I - V)曲線,(2)電發冷 光輻射對電壓,及(3)電發冷光光譜對電壓特性化。所用之 裝置200顯示於圖9。OLED樣品220之Ι-V曲線係用Keithley 源-測量單元型號237, 280測定。電發冷光輻射(單元為cd/m2) 對電壓係用Minolta LS-110發冷光量尺210測定,而電壓則 使用Keithley SMU掃描。電發冷光光譜係使用一對透鏡 230,透過電子遮光器240,透過光譜儀250分散而收集光, 然後用二極管列陣檢測器260測定。所有三種測定皆同時進 行並由電腦270控制。裝置在某種電壓下之效率係藉LED之 電發冷光輻射除以進行裝置所需之電流密度測定。單元為 cd/A 〇 使用本發明之喹嘮啉衍生物ET/AQ組合物之裝置之結果 示於下表3 : 表3 裝置之電發冷光性 樣品 尖峰輻射 cd/m2 在尖峰輻射下 之效率cd/A 尖峰效率, cd/A 尖辛功率 效率Im/W 化合物F 3000 在22 V 10 14 化合物G 4500 在19V 10 20 -35- ?4 3 86544 200403229 表3 裝置之電發冷光性 樣品 尖峰輻射 cd/m2 在尖峰輻射下 之效率cd/A 尖峰效率, cd/A 尖峰功率 效率Im/W 3-1 2300 在20 V 4 5.4 3-2 2700 在27 V 10 3-3 4000 在15 V 10-16 3-4 90 在22 V 4.4 3-5 200 在22 V 1.1 3-6 2500 在21 V 8.5 3-7 2000 在22 V 13 3-8 290 在16 V 1.8 3-9 7000 在15 V 30 15 3-10 1000 在25 V 14 3-11 6500 在15 V 26 3-12 1200 在20 V 9.5 -36- 744 86544 200403229
表3 裝置之電發冷光性 樣品 尖辛輻射 cd/m2 在尖峰輻射下 之效率cd/A 尖峰效率, cd/A 尖峰功率 效率Im/W 3-13 300 在19 V 2.6 3-14 220 在26 V 2.6 3-15 180 在25 V 8.5 3-16 1600 在22 V 11 3-17 100 在22 V 1.2 3-18 4200-5800 在15 V 16-20 3-19 4000-5000 在15 V 17-20 3-20 4800-5400 在17V 15-17 3-21 2300 在20 V 10.5 3-22 4000 在17 V 15-19 在13V 3-23 5000 在17 V 17-22 在13V 3-24 5600 在17 V 22 在14V 86544 -37- 200403229
表3 裝置之電發冷光性 樣品 尖峰輻射 cd/m2 在尖峰輻射下 之效率cd/A 尖峰效率, cd/A 尖峰功率 效率Im/W 3-25 1400 在17 V 5.5 在13V 3-26 8000 在14V 20 在11V 3-27 7000 在17 V 16 在14V 3-28 6000 在15V 15-20 在 14-11V 3-29 6500 在16 V 18 在13V 3-30 6500 在15 V 19 在11V 3-31 6000 在16V 14 在12V 【圖式之簡單說明】 圖1顯示本發明之電荷傳送組合物之式I。 圖2顯示本發明之電荷傳送組合物之式II。 圖3顯示本發明之電荷傳送組合物之式III。 圖4A至4AG顯示本發明之電荷傳送組合物之式1(a)至 I(ag) 〇 圖5顯示多配位體連接基團之式IV(a)至IV(h)。 圖6 A至6M顯示本發明之電荷傳送組合物之式11(a)至 86544 -38- 200403229 II(m)。 圖7A至7E顯示電發冷光銥錯合物之式V(a)至V(e)。 圖8為發光二極體(LED)之概略圖表。 圖9為LED之試驗裝置之概略圖表。 【圖式代表符號說明】 100 裝置 110 陽極層 160 陰極層 120 孔傳送物質之層 140 電子傳送及/或抗猝減物質之層 130 感光層 220 OLED 樣品 210 Minolta LS-110發冷光量尺 250 光譜儀 240 電子遮光器 230 透鏡 260 二極體列陣檢測器 270 電腦 86544 -39-

Claims (1)

  1. 200403229 拾、申請專利範園: 1· 一種組合物,包含具有式I之喹吟啉衍生物
    I ) 其中: r1及R2在每次出現可為相同或不同並選自Η、ρ、α、Βι , 垸基、雜燒基、烯基、块基、芳基、雜芳基、伸燒基^芳 _ 基、晞基芳基、块基芳基、伸烷基雜芳基、烯基雜芳基、 炔基滹万基、CnHaFb、〇CnHaFb、c6HcFd& 〇C6HcFd,戈 ^ R2二者一起可構成伸芳基或雜伸芳基; a、b、c、及d為 0 或整數,使 a+b==2n+1,及 c+d=5, η為整數;及 2. ζ為0或1至4之整數。 如申凊專利範圍第1項之組合物,其中 R及R2在每次出現可為相同或不
    同並選自H、F、Cl、Br、 垸基、雜燒基、芳基、雜芳基、伸垸基芳基、婦基芳基、 块基芳基、伸垸基雜芳基、晞基雜芳基、块基雜芳基、 CnHaFb、OCnHaFb、及叱6邮,或r2二者一起可 構成伸芳基或雜伸芳基,及 η為1至12之整數。 3. 如申請專利範圍第1項之組人 ^ , 1 、、且口物,其中R1選自苯基缔基 經取代苯基烯基、苯基缺_其$ 不丞炔基及經取代苯基炔基。 ?4| 86544 200403229 4. 如申請專利範圍第1項之組合物,其中Ri選自醋酸烷酯及 芳基羰基。 5. 如申請專利範圍第1項之組合物,其中R1選自具有1至12 個竣原子之垸基。 6·如申請專利範圍第1項之組合物,其中R2選自苯基、經取 代苯基、峨淀基及經取代ρ比症基。 7·如申請專利範圍第1項之組合物,其中R2二者可一起選自 二伸芳基及經取代二伸芳基。 8 ·如申請專利範圍第7項之組合物,其中R2 一起選自_伸苯 基、經取代一伸冬基、一伸峨淀基及經取代二伸咐淀基。 9·如申請專利範圍第1項之組合物,其中喹噚啉衍生物係選 自式I⑷至I⑴及I(k)至I(ag) ?4§ 86544
    Kb) 2- 200403229 h7c
    1(c)
    1(d)
    He)
    1(f) i(Q) 86544 200403229
    86544 -4- 200403229
    I(P)
    86544 200403229
    86544 6- 200403229
    7 si 86544 200403229
    I (ασ
    I ( ob Br 7 ς g 86544 200403229
    I (ad )
    I(〇e) 7 s-6 86544 200403229
    Kaf ) I(ag). 10.如申請專利範圍第1項之組合物,其中p奎崎p林衍生物為式 I(j)
    86544 -10- ZUU4U3229 U· —種具有式Π之組合物
    R及R在每次出現可為相同或不同並選自…卜。,、 燒基:雜燒基、稀基、块基、芳基、雜芳基、伸垸基芳 基、烯基方基、炔基芳基、伸烷基雜芳基、烯基雜芳基、 块2基雉方基、CnHaFb、〇CnHaFb、及 oc^eh,或 R2二者一起可構成伸芳基或雜伸芳基; R在每次出現可為相同或不同並選自單鍵及一基團,其 餘選自伸燒基、雜伸垸基、伸芳基、雜伸芳基、伸芳基 伸燒基、及雜伸芳基伸烷基; Q選自單鍵及多價基; a b、c、及 d為 〇或整數,使 a+b=:2n+i,及c+d=5 m為等於至少2之整數; η為整數; Ρ為0或1 ;及 X為0或1至3之整數。 12·如申請專利範圍第11項之組合物,其中: m為2至1〇之整數; 86544 -11 - 200403229 η為1至12之整數; 但其限制條件為,當Q為單鍵時,ρ為0。 13. 如申請專利範園第u項之組合物,其中·· R1及R2在每次出現可為相同或不同並選自h、f、c卜阶、 垸基、雜燒基、芳基、雜芳基、伸燒基芳基、缔基芳基、 块基万基、伸&基雜芳基、晞基雜芳基、块基雜芳基、 CnHaFb、QCnHaFb、㈣匕及,或r2:者一起可 構成伸芳基或雜伸芳基; m為2至1 〇之整數; η為1至12之整數;及 ρ為0。 14. 如申請專利範圍第u項之组合物,其中⑽選自具有至少 一個接附點《烴基,選自脂肪族基、雜脂肪族基、芳香 放基、及雜芳香族基。 15. 如申請專利範圍第14項之組合物,其中Q係選自伸烷基、 雜伸燒基、伸晞基、雜伸埽基、伸块基及雜伸块基。 16. 如申凊專利範圍第11項之組合物,其中Q係選自單環芳香 族基、多環芳香族基、熔合環芳香族基、單環雜芳香族 基、多環芳香族基、熔合環雜芳香族基、芳基胺、矽烷 及石夕氧燒。 17·如申凊專利範圍第11項之組合物,其中Q係選自式IV(a) 至 IV(h) 86544 -12- 200403229
    C
    IV(O)
    IV(b)
    IV(c)
    IV(d )
    IV(f ) 86544 -13- 200403229
    Si—( IV(g) /1 — Sic/l in Si I 1 ,Si--0 〕—- •ς; IV(h). 18_如申請專利範圍第11項之組合物,其中R1選自苯基及經取 代苯基。 19·如申請專利範圍第18項之組合物,其中R1係選自經取代苯 基’其具有至少一個取代基,選自F、CH、Br、燒基、雜 烷基、烯基及块基。 2〇·如申請專利範圍第11項之組合物,其中R1係選自酷酸燒酉旨 及芳基羰基。 21·如申請專利範圍第11項之組合物,其中R1係選自具有1至 12個碳原子之燒基。 22.如申請專利範圍第11項之組合物,其中R2係選自苯基、經 取代苯基、吨咬基及經取代p比淀基。 23·如申請專利範圍第11項之組合物,其中r2可一起選自二伸 芳基。 24·如申請專利範圍第23項之組合物,其中二伸芳基係選自 86544 -14- 200403229 二伸苯基、經取代二伸苯基、二伸吡啶基及經取代二伸 口比淀基。 25. 如申請專利範圍第11項之組合物,其中r3係選自芳基、雜 芳基、烷基及雜烷基。 26. 如申請專利範圍第11項之組合物,其中R3係選自苯基及經 取代苯基。 27·如申請專利範圍第11項之組合物,其中R3係選自具有1至 12個碳原子之垸基及雜垸基。 28.如申請專利範圍第丨丨項之組合物,其係選自式π⑻至^⑷ 及II⑴至II(k)
    86544
    -15- 200403229
    -16- 200403229
    86544 -17- 200403229
    IKk). 29.如申請專利範圍第11項之組合物,其係選自式11(a)、 11(h)、11(1)及 II(m)
    -18- 86544 200403229 PH PH
    IK I )
    30. —種具有式III之組合物
    (III) 其中: R1及R2在每次出現可為相同或不同並選自H、F、C卜Br、 烷基、雜烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、伸烷基芳 基、烯基芳基、块基芳基、伸烷基雜芳基、烯基雜芳基、 炔基雜芳基、CnHaFb、OCnHaFb、C6HcFd及 OC6HcFd,或 R2二者一起可構成伸芳基或雜伸芳基; 86544 -19- 早鍵及一基團,其 雖伸芳基、伸芳基 R3在每次出現可為相同或不同並選自單 係選自伸烷基、雜伸烷基、伸芳基、雜 伸燒基、及雜伸芳基伸烷基; Q選自單鍵及多價基; a b、c、及 d 為 〇 或整數,使 a+b=2n+l,及 c+d=5 ; m為等於至少2之整數; η為2之整數; Ρ為0或1 ;及 X為0或1至4之整數。 31·如申叫專利範圍第π項之組合物,其中q係選自具有至少 二個接附點之烴基,其係選自脂肪族基、雜脂肪族基、 芳香族基、及雜芳香族基。 32·如申請專利範圍第31項之組合物,其中Q係選自伸烷基、 雜伸烷基、伸烯基、雜伸烯基、伸炔基及雜伸炔基。 33·如申請專利範圍第3〇項之組合物,其中q係選自單環芳香 族基、多環芳香族基、熔合環芳香族基、單環雜芳香族 基、多環芳香族基、熔合環芳香族基、芳基胺、矽烷及 碎氧燒。
    34·如申請專利範圍第3〇項之組合物,其中q係選自式v(a)至 V(e) 86544 -20- 200403229
    V(d) 86544 -21 Λ 200403229
    V( e) 35·如申請專利範圍第3〇項之組合物,其中r1係選自苯基晞 基、經取代苯基烯基、苯基炔基及經取代苯基炔基。 36·如申請專利範圍第30項之組合物,其中R1係選自醋酸烷酯 及芳基羰基。 37·如申請專利範圍第3〇項之組合物,其中R1係選自具有1至 12個碳原子之燒基。 38·如申請專利範圍第30項之組合物,其中R2係為η。 39·如申請專利範圍第30項之組合物,其中R3係選自芳基、雜 芳基、燒基及雜燒基。 40·如申請專利範圍第30項之組合物,其中R3係選自苯基及經 取代苯基。 41.如申請專利範圍第30項之組合物,其中R3係選自具有1至 12個碳原子之烷基及雜烷基。 42· —種包含感光層及第二層之電子裝置,其中至少一層包 含具有式I之喹噚琳衍生物
    86544 -22- R及R在每次出現可為相同或不同並選自H、f、c卜Br、 烷基、雜烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、伸烷基芳〜 基、稀基芳基、炔基芳基、伸燒基雜芳基、烯基雜芳基、 炔基雜芳基、CnHJb、OCnHaFb、C6HcFd 及 〇C6HeFd,或 R2二者一起可構成伸芳基或雜伸芳基; a b c、及d為 〇 或整數,使 a+b=2n+l,及 c+d=5, η為整數;及 ζ為0或1至4之整數。 43·如申請專利範園第42項之裝置,其中第二層包含具有圖1 所示之式I之ρ奎巧琳衍生物,此處,其中: R1及R2在每次出現可為相同或不同並選自H、F、ci、Bi·、 燒基、雜烷基、芳基、雜芳基、伸燒基芳基、埽基芳基、 块基芳基、伸烷基雜芳基、晞基雜芳基、炔基雜芳基、 CnHaFb、〇CnHaFb、C6HcFd 及 OC6HcFd,或 R2二者一起可 構成伸芳基或雜伸芳基,及 η為1至12之整數。 44·如申請專利範圍第42項之裝置,其中R1係選自苯基烯基、 經取代苯基烯基、苯基炔基及經取代苯基炔基。 45·如申請專利範圍第42項之裝置,其中R1係選自醋酸烷酯及 方基幾基。 46·如申請專利範圍第42項之裝置,其中R1係選自具有1至12 個碳原子之烷基。 47·如申請專利範圍第42項之裝置,其中R2係選自苯基、經取 86544 -23- 200403229 代苯基、吡啶基及經取代吡啶基。 48·如申请專利範圍第42項之裝置,其中R2二去i —可』一起選自 二伸芳基及經取代二伸芳基。 49·如申請專利範圍第42項之裝置,其中R2—起選自二伸苯 基、經取代二伸苯基、二伸吡啶基及經取代二伸吡啶基。 50.如申請專利範圍第42項之裝置,其中喹呤啉衍生物係選 自式 1(a)至 I(i)及 I(k)至 I(ag)
    1(〇) 1(b)
    1(c) 86544 -24- 200403229
    1(d)
    1(f)
    1(g) 86544 -25- 200403229
    200403229
    86544 -27- 200403229
    86544 -28- 200403229
    86544 -29 200403229
    I (αα ) Br
    I ( ab ) Br
    l(ac) 86544 -30- 200403229
    0
    I (ad )
    I(〇e) I (af ) 77x 86544 -31 - 200403229
    I(ag )# 51.如申請專利範圍第42項之裝置,其中喹噚啉衍生物具有 式 I(j) η
    Ki ), 52. —種包含感光層及第二層之電子裝置,其中至少一層包 含選自式II及式III之喹呤啉衍生物
    86544 -32- 200403229
    其中: R及R在每次出現可為相同或不同並選自H、f、c卜Br、 烷基、雜烷基、蹄基、炔基、芳基、雜芳基、伸烷基芳 基、烯基芳基、炔基芳基、伸烷基雜芳基、稀基雜芳基、 炔基雜芳基、CnHaFb、OCnHaFb、C6HeFd 及 〇C6HeFd,或 R二者一起可構成伸芳基或雜伸芳基; R在每次出現可為相同或不同並選自單键及一基團,其 係選自伸烷基、雜伸烷基、伸芳基、雜伸芳基、伸芳基 伸燒基、及雜伸芳基伸烷基; Q選自單鍵及多價基; a b、C、及d為 〇或整數,使a+b=2n+1,及c+d=5 ; m為等於至少2之整數; η為整數; Ρ為0或1 ;及 χ為0或1至3之整數。 53. 如申請專利範圍第52項之裝置,其中第二層包含具有式η 之峻3 Ρ林衍生物 86544 200403229
    且其中: m為2至10之整數; η為1至12之整數; 但其限制條件為,當Q為單鍵時,ρ為0。 54.如申請專利範圍第52項之裝置,其中第二層包含具有式II 之峻$淋衍生物
    (II) 且其中: R1及R2在每次出現可為相同或不同並選自H^F'ChBr、 烷基、雜烷基、芳基、雜芳基、伸烷基芳基、烯基芳基、 決基芳基、伸院基雜芳基、晞基雜芳基、块基雜芳基、 CnHaFb、OCnHaFb、C6HcFd及 OC6HcFd,或 R2二者一起可 構成伸芳基或雜伸芳基; 86544 -34- 200403229 m為2至10之整數; η為1至12之整數;及 ρ為0。 55·如申請專利範圍第52項之裝置,其中q係選自具有至少二 個接附點之烴基,選自脂肪族基、雜脂肪族基、芳香族 基、及雜芳香族基。 56. 如申請專利範圍第52項之裝置,其中Q係選自伸烷基、雜 伸烷基、伸烯基、雜伸烯基、伸炔基及雜伸炔基。 57. 如申請專利範圍第52項之裝置,其中Q係選自單環芳夭族 基、多環芳香族基、熔合環芳香族基、單環雜芳 多環芳香族基、熔合環芳香族基、芳基胺、矽烷及碎"氧 58. 如申請專利範圍第52項之裝置,其中 丁 V你選自式v(a) V(e) W
    -35- V(Q) 12 86544 200403229
    V(b) m
    ϊί:; 86544 -36- 200403229
    59.如申請專利範圍第52項之裝置,其中喹噚啉衍生物係選 , 自式 11(b)至 11(g)及 II(i)至 II(k) φ
    11(b) ?84 86544
    11(d) -37- 200403229
    86544 -38- 200403229
    IKK). 86544 -39- 200403229 60·如申請專利範圍第52項之裝置,其中喹噚啉衍生物係選 自式 11(a)、11(h)、11(1)及 II(m)
    86544
    -40- 200403229
    61.如申請專利範圍第41-59項之電子裝置,其中該裝置為發 光二極體、發光電化學電池或光檢測器。 86544 -41 -
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