RU2747856C2 - Защищающая от излучения ближнего инфракрасного диапазона прозрачная стеклокерамика - Google Patents
Защищающая от излучения ближнего инфракрасного диапазона прозрачная стеклокерамика Download PDFInfo
- Publication number
- RU2747856C2 RU2747856C2 RU2019101015A RU2019101015A RU2747856C2 RU 2747856 C2 RU2747856 C2 RU 2747856C2 RU 2019101015 A RU2019101015 A RU 2019101015A RU 2019101015 A RU2019101015 A RU 2019101015A RU 2747856 C2 RU2747856 C2 RU 2747856C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- glass
- mol
- ceramic
- wavelength
- light
- Prior art date
Links
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title description 24
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 89
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims abstract description 29
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000010974 bronze Substances 0.000 claims abstract description 22
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 20
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 18
- 239000006112 glass ceramic composition Substances 0.000 abstract description 7
- 229910016327 MxWO3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 39
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 32
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 30
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 21
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 14
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 14
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 11
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000005385 borate glass Substances 0.000 description 7
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 7
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- KAMGYJQEWVDJBD-UHFFFAOYSA-N bismuth zinc borate Chemical compound B([O-])([O-])[O-].[Zn+2].[Bi+3] KAMGYJQEWVDJBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 5
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 5
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 4
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 4
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000002073 nanorod Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLSCHDZTHVNDCP-UHFFFAOYSA-N caesium nitrate Chemical compound [Cs+].[O-][N+]([O-])=O NLSCHDZTHVNDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007578 melt-quenching technique Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 238000007655 standard test method Methods 0.000 description 2
- -1 tungsten ion Chemical class 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N aluminum;borate Chemical compound [Al+3].[O-]B([O-])[O-] OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000005347 annealed glass Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910001423 beryllium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- ARTGXHJAOOHUMW-UHFFFAOYSA-N boric acid hydrate Chemical compound O.OB(O)O ARTGXHJAOOHUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- NCMHKCKGHRPLCM-UHFFFAOYSA-N caesium(1+) Chemical compound [Cs+] NCMHKCKGHRPLCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;tungsten Chemical group [W].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] FQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000011195 cermet Substances 0.000 description 1
- 229940006165 cesium cation Drugs 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 230000009189 diving Effects 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical class O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0009—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B27/00—Tempering or quenching glass products
- C03B27/012—Tempering or quenching glass products by heat treatment, e.g. for crystallisation; Heat treatment of glass products before tempering by cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/006—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of microcrystallites, e.g. of optically or electrically active material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/007—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/122—Silica-free oxide glass compositions containing oxides of As, Sb, Bi, Mo, W, V, Te as glass formers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/14—Silica-free oxide glass compositions containing boron
- C03C3/15—Silica-free oxide glass compositions containing boron containing rare earths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0028—Compositions for glass with special properties for crystal glass, e.g. lead-free crystal glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/04—Compositions for glass with special properties for photosensitive glass
- C03C4/06—Compositions for glass with special properties for photosensitive glass for phototropic or photochromic glass
- C03C4/065—Compositions for glass with special properties for photosensitive glass for phototropic or photochromic glass for silver-halide free photochromic glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/08—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/08—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
- C03C4/082—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths for infrared absorbing glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/08—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
- C03C4/085—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths for ultraviolet absorbing glass
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0054—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/18—Compositions for glass with special properties for ion-sensitive glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Details Of Aerials (AREA)
Abstract
Изобретение относится к оптически прозрачным стеклокерамическим материалам, которые могут являться, по меньшей мере, частью теплозащитного экрана, оптического фильтра, архитектурного элемента, автомобильного компонента или корпуса для электронного дисплея. Оптически прозрачные стеклокерамические материалы включают в себя стеклофазу и примерно от 0,1 мол.% до 10 мол.% кристаллической фазы вольфрамовой бронзы, MxWO3 в виде наночастиц, где M представляет собой, по меньшей мере, одно из H, Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Zn, Cu, Ag, Sn, Cd, In, Tl, Pb, Bi, Th, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu и U, и 0<x<1. Стеклокерамика имеет пропускание, по меньшей мере, 10%/мм в диапазоне длин волн, по меньшей мере, в одном волновом диапазоне света шириной 50 нм для света, имеющего длину волны в интервале от примерно 400 до примерно 700 нм. В интервалах длин волн 700-2500 нм пропускание света составляет менее 5%/мм и в интервалах длин волн 370 нм и менее пропускание света составляет менее 1%/мм. 3 н. и 7 з.п. ф-лы, 8 табл., 10 ил.
Description
[0001] Это изобретение испрашивает приоритетное преимущество согласно 35 U.S.С. 119(с) по предварительным заявкам на патент США с регистрационными номерами 62/352602, поданной 21 июня 2016 г., и 62/351616, поданной 17 июня 2016 г., содержание каждой взято за основу и полностью включено в настоящее описание посредством ссылки.
УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ
[0002] Раскрытие относится к стеклокерамическим материалам. Более конкретно, раскрытие относится к оптически прозрачным стеклокерамическим материалам. Еще более конкретно, раскрытие относится к оптически прозрачным стеклокерамическим материалам, имеющим фазу кристаллической вольфрамовой бронзы.
[0003] Защищающие от излучения ближнего инфракрасного (ИК) диапазона стекла разрабатываются для блокирования и/или устранения длин волн, изменяющихся от 700 до 2500 нм, варьирующихся от оптических фильтров, линз, а также для медицинских, оборонных, аэрокосмических и бытовых применений.
[0004] Низкоэмиссионные (low-E, low emittance) покрытия были разработаны для минимизации величины ультрафиолетового и инфракрасного света, которые могут проходить через стекло без ущерба для величины видимого света, который проходит. Low-E покрытия обычно являются напыленными или пиролитическими покрытиями. Альтернативно, low-E слоистые пластики могут быть установлены на стеклянную подложку.
[0005] Тонкие пленки, покрытия и композитные материалы, содержащие частицы нано- или микронного размеров нестехиометрических субоксидов вольфрама или допированных нестехиометрических триоксидов вольфрама (называемых вольфрамовыми бронзами) были использованы для обеспечения защиты от излучения ближнего инфракрасного диапазона с высоким пропусканием в видимой части спектра. Однако пленки из вольфрамовой бронзы часто требуют дорогостоящих камер вакуумного нанесения покрытий, имеют ограниченную механическую прочность, а также являются чувствительными к кислороду, влаге, а также УФ излучению, все это приводит к снижению характеристик защиты от ближнего ИК излучения NIR (near infrared) этих материалов и обесцвечиванию и ухудшению прозрачности в диапазоне видимого света.
[0006] Настоящее раскрытие предлагает оптически прозрачные стеклокерамические материалы, которые в некоторых вариантах осуществления включают в себя стеклофазу, содержащую, по меньшей мере, примерно 80% диоксида кремния по весу и фазу кристаллической вольфрамовой бронзы, имеющую формулу MxWO3, где M включает, но не ограничивается, по меньшей мере, одно из H, Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Zn, Cu, Ag, Sn, Cd, In, Tl, Pb, Bi, Th, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu и U, и где 0<x<1. Фаза кристаллической вольфрамовой бронзы содержит наночастицы. Стеклокерамика в некоторых вариантах осуществления имеет низкий термический коэффициент расширения (CTE, coefficient of thermal expansion), сильное ослабление или блокировку ультрафиолетового (УФ) излучения при длинах волн менее чем примерно 360 нм и излучения ближнего ИК диапазона (NIR) при длинах волн, изменяющихся от примерно 700 нм до примерно 3000 нм. Предложены также алюмосиликатные и цинк-висмут-боратные стекла, содержащие, по меньшей мере, одно из Sm2O3, Pr2O3 и Er2O3.
[0007] Соответственно, одним аспектом раскрытия является обеспечение стеклокерамики, содержащей фазу силикатного стекла и от примерно 1 мол.% до примерно 10 мол.% фазы кристаллической MxWO3, содержащей наночастицы, где M представляет собой, по меньшей мере, одно из H, Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Zn, Cu, Ag, Sn, Cd, In, Tl, Pb, Bi, Th, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu и U, и где 0<x<1.
[0008] Вторым аспектом раскрытия является обеспечение стеклокерамики, содержащей фазу силикатного стекла и от примерно 1 мол.% до примерно 10 мол.% фазы кристаллической MxWO3, содержащей наночастицы, где M представляет собой, по меньшей мере, один щелочной металл, и 0<x<1.
[0009] В другом аспекте предложено также алюмосиликатное стекло, содержащее SiO2, Al2O3, и, по меньшей мере, одно из Sm2O3, Pr2O3, и Er2O3, при том Sm2O3+Pr2O3+Er2O3≤12 мол.%. В некоторых вариантах осуществления алюмосиликатное стекло, дополнительно содержит, по меньшей мере, один щелочноземельный оксид и B2O3. Стекла в некоторых вариантах осуществления имеют пропускание менее чем примерно 30% при длине волны между примерно 1400 нм и примерно 1600 нм.
[0010] В еще другом аспекте цинк-висмут-боратное стекло, содержащее ZnO, Bi2O3, B2O3 и, по меньшей мере, одно из Sm2O3, Pr2O3 и Er2O3, при том Sm2O3+Pr2O3+Er2O3≤12 мол.%. В некоторых вариантах осуществления цинк-висмут-боратные стекла дополнительно содержат, по меньшей мере, одно из Na2O и TeO2. В некоторых вариантах осуществления эти стекла имеют пропускание менее чем примерно 30% при длине волны между примерно 1400 нм и примерно 1600 нм.
[0011] Эти и другие аспекты и преимущества, а также характерные признаки станут очевидны из следующего подробного описания, прилагаемых чертежей, а также прилагаемой формулы изобретения.
КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ
[0012] Фигура 1 представляет собой зависимость поглощения от длины волны для закаленных на подложке, отожженных и термообработанных образцов стеклокерамики;
[0013] Фигура 2 представляет собой графическое изображение спектров для закаленных на подложке (A), отожженных (B) и термообработанных (C) стеклокерамических композиций;
[0014] Фигура 3 представляет собой графическое изображение кривых охлаждения дифференциальной сканирующей калориметрии, измеренных для образцов стеклокерамики;
[0015] Фигура 4 представляет собой графическое изображение спектров стеклокерамик, содержащих различные щелочные вольфрамовые бронзы;
[0016] Фигура 5 представляет собой профиль порошковой рентгенодифрактометрии закаленной на подложке стеклокерамики;
[0017] Фигура 6 представляет собой профиль порошковой рентгенодифрактометрии термообработанной стеклокерамики;
[0018] Фигура 7 представляет собой блок схему способа инфильтрации стекла для образования стеклокерамики;
[0019] Фигура 8 представляет собой графическое изображение дисперсионной кривой для стекла E, приведенного в таблице E.
[0020] Фигура 9 представляет собой графическое изображение пропускания для стекла E, приведенного в таблице E.
[0021] Фигура 10 представляет собой графическое изображение пропускания для стекол J, K и L, приведенных в таблице F.
ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ
[0022] В последующем описании одинаковые ссылочные позиции обозначают одинаковые или соответствующие части во всех нескольких изображениях на фигурах. Подразумевается также, что если не указано иное, такие термины, как "верх", "низ", "наружу", "внутрь" и т.п., являются терминологией удобства, и не должны рассматриваться как ограничивающие термины. Кроме того, всякий раз, когда группа описывается как включающая, по меньшей мере, один из группы элементов и сочетаний из них, подразумевается, что группа может содержать, состоять по существу, или состоять из любого числа тех перечисленных элементов, либо по отдельности, либо в сочетании друг с другом. Аналогичным образом, всякий раз, когда группа описывается как состоящая из, по меньшей мере, одного из группы элементов или сочетаний из них, подразумевается, что группа может состоять из любого числа тех перечисленных элементов, либо по отдельности, либо в сочетании друг с другом. Если не указано иное, диапазон значений при указании включает в себя как верхний, так и нижний пределы диапазона, а также любые диапазоны между ними. Используемые в данном документе неопределенные артикли "a", "an" и соответствующий определенный артикль "the" означают "по меньшей мере, один" или "один или более", если не указано иное. Также понятно, что различные признаки, раскрытые в описании и на чертежах, могут использоваться в самых разнообразных сочетаниях.
[0023] Используемые в данном документе термины "стеклянное изделие" и "стеклянные изделия" используются в их самом широком смысле для обозначения любого предмета, полностью или частично изготовленного из стекла и/или стеклокерамик, и включают в себя слоистые материалы описанных здесь стекол и стеклокерамик с обычными стеклами. Если не указано иное, то все составы выражены в пересчете на мольные проценты (мол.%). Термические коэффициенты расширения (CTE) выражены в пересчете на 10-7/°C и представляют собой величину, измеренную в интервале температур от примерно 20°C до примерно 300°C, если не указано иное.
[0024] Используемые в данном документе термины "наночастица" и "наночастицы" относятся к частицам размером от примерно 1 до примерно 1000 нанометров (нм). Используемые здесь термины "пластинка" и "пластинки" относятся к плоским или планарным кристаллам. Используемые здесь термины "наностержень" и "наностержни" относятся к удлиненным кристаллам, имеющим длину вплоть до примерно 1000 нм и характеристическое отношение (длина/ширина), по меньшей мере, 3, а в некоторых вариантах осуществления в интервале от примерно 3 до примерно 5.
[0025] Используемые в данном документе, "пропускание" и "прозрачность" относятся к внешнему пропусканию или прозрачности, которая принимает во внимание поглощение, рассеяние и отражение. Как здесь сообщено, Френелевское отражение не вычитается из величин пропускания и прозрачности.
[0026] Следует отметить, что термины "по существу" и "примерно" могут использоваться в данном документе для представления присущей степени неопределенности, которая может быть отнесена к любому количественному сравнению, значению, измерению или другому представлению. Эти термины также используются в данном документе для представления степени, в которой количественное представление может отличаться от заявленной ссылки, не приводя к изменению основной функции предмета рассмотрения. Таким образом, стекло, которое "свободно от MgO", представляет собой стекло, в котором MgO активно не добавлен или дозирован в стекло, но может присутствовать в очень небольших количествах (например, менее 400 частей на миллион (ppm) или менее чем 300 ppm) в качестве загрязнителя.
[0029] Напряжение сжатия и глубину слоя измеряют с помощью устройств, известных в области техники. Такие устройства обеспечивают, но не ограничиваются, измерение поверхностного напряжения (FSM, Frontier Semiconductor) с использованием коммерчески доступных приборов, таких как FSM-6000, производства компании Orihara Co., Ltd. (Токио, Япония). Измерения поверхностного напряжения основаны на точном измерении оптического коэффициента напряжения (SOC, stress optical coefficient), который связан с двойным лучепреломлением стекла. SOC, в свою очередь, измеряют в соответствии с модифицированной версией (далее в этом документе "модификация") процедуры C, которая описана в стандарте ASTM C770-98 (2013), озаглавленного "Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient" (Стандартный метод испытания для измерения оптического коэффициента напряжения стекла), содержание которой включено сюда посредством ссылки во всей ее полноте. Модификация процедуры С включает использование стеклянного диска в качестве образца, имеющего толщину от 5 до 10 мм и диаметр 12,7 мм. Диск является изотропным и гомогенным, высверлен в сердцевине с полированными и параллельными обеими сторонами. Модификация также включает в себя вычисление максимальной силы Fmax, прилагаемой к диску. Сила должно быть достаточной для создания напряжения сжатия, по меньшей мере, 20 МПа. Fmax рассчитывают по формуле:
Fmax=7,854⋅D⋅h
где: Fmax является максимальной силой, выраженной в ньютонах; D является диаметром диска, выраженным в миллиметрах (мм); и h является толщиной светопоглощающего слоя, также выраженной в мм. Для каждой приложенной силы напряжение рассчитывают по формуле:
σ(MPa)=8F/(π⋅D⋅h)
где: F является силой, выраженной в ньютонах; D является диаметром диска, выраженным в миллиметрах (мм); и h является толщиной светопоглощающего слоя, также выраженной в мм.
[0027] Если не указано иное, термины "глубина слоя", "DOL" и "FSM_DOL" относятся к глубине сжатого слоя, определенной с помощью измерений поверхностных напряжений (FSM) с использованием коммерчески доступных инструментов, таких как, но не ограничиваясь ими, стрессометр FSM-6000. Глубина сжатия DOC относится к глубине, в которой напряжение фактически равно нулю внутри стекла, и может быть определено из профиля напряжения, полученного с использованием рефракционного ближнего поля (RNF, refractive near field) и поляриметрических методов, которые известны в области техники.
[0028] Для изделий из упрочненного стекла, в которых слои с напряжением сжатия простираются глубже в глубину внутри стекла, метод FSM может страдать от проблем контраста, которые влияют на наблюдаемую величину DOL. Глубже в глубину для сжатого слоя может быть неадекватный контраст между спектрами TE и TM, что затрудняет вычисление разницы между спектрами связанных оптических мод для поляризации TM и TE - и точное определение DOL более трудным. Более того, анализ FSM с программным обеспечением не способен определить профиль напряжения сжатия (то есть изменение напряжения сжатия в зависимости от глубины в стекле). Кроме того, метод FSM не способен определять глубину слоя, возникшего в результате ионного обмена определенных элементов в стекле, такого как, например, ионный обмен натрия на литий.
[0029] DOL, определяемая с помощью FSM, является относительно хорошим приближением для глубины сжатого слоя при сжатии на глубине (DOC, depth of cover, глубина залегания слоя), когда DOL представляет собой малую долю r толщины t, и индекс профиля имеет распределение по глубине, которое достаточно хорошо аппроксимируется с простым линейным усеченным профилем. Когда DOL является существенной частью толщины, например, когда DOL≥0,1⋅t, тогда DOC чаще всего заметно ниже, чем DOL. Например, в упрощенном случае линейного усеченного профиля отношение DOC=DOL⋅(1-r) выдерживается, когда r=DOL/t.
[0030] Альтернативно, напряжение сжатия, профиль напряжения, а также глубина слоя, могут быть определены с использованием методов линейного полярископа с рассеянным светом (SCALP, scattered linear polariscope), которые известны в области техники. Метод SCALP делает возможным неразрушающее измерение поверхностного напряжения и глубины слоя.
[0031] Обращаясь к чертежам в целом и на фиг.1, в частности, будет понятно, что иллюстрации даны с целью описания конкретных вариантов осуществления и не предназначены для ограничения раскрытия или прилагаемой к нему формулы изобретения. Чертежи не обязательно выполнены в масштабе, при этом определенные признаки и определенные изображения чертежей могут отображаться увеличенными по масштабу или схематически в интересах ясности и краткости.
[0032] В данном документе описаны оптически прозрачные стеклокерамические материалы, которые в некоторых вариантах осуществления включают в себя стеклофазу, содержащую, по меньшей мере, примерно 90% диоксида кремния по весу и фазу кристаллической вольфрамовой бронзы. Эти стеклокерамики включают в себя фазу силикатного стекла и от примерно 0,1 мол.% до примерно 10 мол.%, или от примерно 1 мол.% до примерно 4 мол.% или от примерно 0,5 мол.% до примерно 5 мол.% фазы кристаллической вольфрамовой бронзы, состоящей из наночастиц кристаллической MxWO3. В одном варианте осуществления наночастицы кристаллического MxWO3 инкапсулированы внутри, и в некоторых вариантах осуществления диспергированы внутри по всей остаточной стеклофазе. В другом варианте осуществления наночастицы кристаллической MxWO3 расположены в поверхности стеклокерамики или вблизи нее. В некоторых вариантах наночастицы кристаллической MxWO3 имеют пластинчатую форму и имеют средний диаметр, определенный теми методами, которые известны в области техники (например, СЭМ и/или ТЭМ микроскопия, рентгеновская дифракция, рассеивание света, методы с центрифугированием и т.д.), изменяющийся от примерно 10 нм до 1000 нм, или от примерно 10 нм до примерно 5 μм, и/или наностержни MxWO3, имеющие высокое характеристическое отношение, и среднюю длину, определенную теми методами, которые известны в области техники, изменяющуюся от 10 до 1000 нм и среднюю ширину, определенную теми методами, которые известны в области техники, изменяющуюся от примерно 2 до примерно 75 нм. В некоторых вариантах осуществления стеклокерамики с вольфрамовой бронзой, которые показывают высокую прозрачность в видимом диапазоне спектра и сильное поглощение в УФ и ближнем ИК диапазонах спектра, содержат стержни MxWO3 с высоким характеристическим отношением (длина/ширина), имеющие среднюю длину, изменяющуюся от примерно 10 нм до примерно 200 нм, и среднюю ширину, изменяющуюся от примерно 2 нм до 30 нм. Фаза кристаллической вольфрамовой бронзы имеет формулу MxWO3, где M представляет собой, по меньшей мере, одно из H, Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Zn, Cu, Ag, Sn, Cd, In, Tl, Pb, Bi, Th, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu и U, и где 0<x<1. Эти стеклокерамики имеют низкий термический коэффициент расширения (CTE), ослабление или блокирование ультрафиолетового (УФ) излучения при длинах волн менее чем примерно 250 нм и ближнего ИК излучения при длинах волн, изменяющихся от примерно 700 нм до примерно 2500 нм.
[0033] В некоторых вариантах осуществления стеклокерамики, описанный в данном документе являются оптически прозрачными в видимом диапазоне спектра (т.е. длины волн от примерно 400 нм до 700 нм). То есть, стеклокерамика имеет пропускание больше чем примерно 1% на 1 мм длины пути (выраженное в данном документе как "%/мм") в, по меньшей мере, одном диапазоне длин волн шириной 50 нм в диапазоне от примерно 400 нм до примерно 700 нм. В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика имеет пропускание, по меньшей мере, больше, чем примерно 10%/мм, в некоторых вариантах осуществления больше чем примерно 30%/мм, в других вариантах осуществления больше чем примерно 50%/мм (например, ≥75%/мм, ≥80%/мм, ≥90%/мм) в, по меньшей мере, одном диапазоне длин волн света шириной 50 нм в видимой области спектра. Кроме того, эти стеклокерамики поглощают свет в ультрафиолетовой (УФ) области (длины волн менее чем примерно 370 нм) и ближней ИК (NIR) области спектра (от больше чем примерно 700 нм до примерно 1700 нм) без использования покрытий или пленок, которые являются механически хрупкими и чувствительными к УФ излучению и влажности. В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика имеет пропускание менее чем 10%/мм, или даже менее чем 5%/мм, а в других вариантах осуществления менее чем 2%/мм или даже менее чем 1%/мм для света, имеющего длину волны примерно 370 нм или менее (например, при длине волны 370 нм). В некоторых вариантах осуществления для света, имеющего длину волны примерно 370 нм или менее, стеклокерамика поглощает или имеет поглощение, по меньшей мере, 90%/мм, в других вариантах осуществления, по меньшей мере, 95%/мм, а в других вариантах осуществления, по меньшей мере, 98%/мм, или даже, по меньшей мере, 99%/мм при этой длине волны (например, при длине волны 370 нм). В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика имеет пропускание менее 10%/мм и в других вариантах осуществления менее чем 5%/мм в, по меньшей мере, одном диапазоне длин волн света шириной 50 нм для света в NIR области спектра (т.е. от примерно 700 нм до примерно 2500 нм). В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика поглощает, по меньшей мере, 90%/мм и в других вариантах осуществления, по меньшей мере, 95%/мм в, по меньшей мере, одном диапазоне длин волн света шириной 50 нм для света в NIR области спектра (т.е. от примерно 700 нм до примерно 2500 нм).
[0034] В некоторых вариантах осуществления стеклокерамики, описываемые в данном документе, способны выдерживать температуры, по меньшей мере, примерно 300°C, или, в некоторых вариантах, по меньшей мере, примерно 200°C, без ухудшения их оптических или механических свойств. В некоторых вариантах осуществления пропускание стеклокерамики между примерно 500 нм и примерно 2500 нм изменяется менее чем на 10%/мм, если стеклокерамику нагревают при температурах в интервале от примерно 200°C до примерно 300°C в течение периодов времени, по меньшей мере, одного часа. В некоторых вариантах осуществления эти стеклокерамики являются нереакционноспособными и иначе непроницаемыми для кислорода, водорода и влаги. Непроницаемый характер стеклокерамики был продемонстрирован подверганием отобранных образцов (например, образцы 13, 14, 15 и 16 в таблице 1) воздействию света с 312 нм и 365 нм в течение периодов времени вплоть до 7 дней. Никакого изменения в оптическом поглощении этих образцов не наблюдалось после такого воздействия, указывая, что кислород, влага, и/или водород не реагируют с фазой кристаллической MxWO3 и не изменяют ее.
[0035] В некоторых вариантах осуществления стеклокерамики, описанные в данном документе имеют термический коэффициент расширения (CTE) примерно 75×10-7°C-1 при температурах, изменяющихся от примерно 0°C до примерно 300°C. В некоторых вариантах осуществления стеклокерамики имеют термический коэффициент расширения (CTE) от примерно 33,5×10-7°C-1 до примерно 66,3×10-7°C-1 при температурах, изменяющихся от примерно 0°C до примерно 300°C (например, образцы 2, 11, 12, 13 и 54 в таблице 1).
[0036] В некоторых вариантах осуществления стеклокерамики, описанные в данном документе, являются обесцвечиваемыми - т.е. кристаллическая MxWO3 может быть "стерта" путем термообработки стекол/стеклокерамик в течение короткого периода времени выше соответственных температур размягчения. Такая термообработка может быть осуществлена с использованием тех энергетических источников, которые известны в области техники, но не ограничиваясь ими, таких как, резистивных электропечей, лазеров, микроволновых печей или тому подобного. Композиция 37 (таблица 1), может, например, обесцветиться с помощью выдерживания материала при температуре между примерно 685°C и примерно 740°C в течение приблизительно 5 минут. Фаза бронзы MxWO3 может затем переформироваться или перекристаллизоваться на поверхности материала под воздействием импульсного УФ лазера, т.е. фаза вольфрамовой бронзы будет переформировываться в тех участках, на которые воздействовал лазер.
[0037] Стеклокерамики, описанные в данном документе, могут быть использованы для остекления с низкой излучательной способностью в архитектурных, автомобильных, медицинских, аэрокосмических или других применениях, включая термопредохранительные маски, медицинские очки, оптические фильтры и тому подобное. В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика образует часть продукта потребительской электроники, такого как сотовый телефон или смартфон, ноутбук, планшет или тому подобное. Такие продукты потребительской электроники обычно включают в себя корпус, имеющий переднюю, заднюю и боковую поверхности, а также включает в себя электрические компоненты, которые, по меньшей мере, частично находятся внутри корпуса. Электрические компоненты включают в себя, по меньшей мере, источник питания, контроллер, память и дисплей. В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика, описанная в данном документе, содержит, по меньшей мере, часть защитного элемента, но не ограничиваясь им, такого как, корпус и/или дисплей.
[0038] В некоторых вариантах осуществления стеклофаза представляет собой боросиликатное стекло, и стеклокерамика содержит SiO2, Al2O3, B2O3, WO3, а также, по меньшей мере, один оксид щелочного металла R2O, где R2O представляет собой, по меньшей мере, одно из Na2O, K2O, Cs2O и/или Rb2O, при этом фаза кристаллической вольфрамовой бронзы представляет собой твердый раствор вольфрамовой бронзы, содержащей, включающей в себя или состоящей по существу из MWO3, где M представляет собой, по меньшей мере, одно из Na2O, K2O, Cs2O и Rb2O. В некоторых вариантах осуществления фаза кристаллической щелочной вольфрамовой бронзы представляет собой фазу кристаллической щелочной вольфрамовой бронзы, которая является смесью твердых растворов щелочной вольфрамовой бронзы M1xM2yWO3, где M1=Li, Na, K, Cs, Rb и M2=Li, Na, K, Cs, Rb, где M1≠M2 и 0<(x+y)<1.
[0039] В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика содержит: от примерно 56 мол.% до примерно 78 мол.% SiO2 (56 мол.%≤SiO2≤78 мол.%) или от примерно 60 мол.% до примерно 78 мол.% SiO2 (60 мол.%≤SiO2≤78 мол.%); от примерно 8 мол.% до примерно 27 мол.% B2O3 (8 мол.%≤B2O3≤27 мол%); от примерно 0,5 мол.% до примерно 14 мол.% Al2O3 (0,5 мол.%≤Al2O3≤14 мол%); от больше чем 0 мол.% до примерно 10 мол.%, по меньшей мере, одного из Na2O, K2O, Cs2O и Rb2O (0 мол.%<Na2O+K2O+Cs2O+Rb2O≤9 мол.%); от примерно 1 мол.% до примерно 10 мол.% WO3 (1 мол.%≤WO3≤10 мол.%) или в некоторых вариантах осуществления от примерно 0 мол.% до примерно 0,5 SnO2 (0 мол.%≤ SnO2≤0,5). В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика может содержать от 0 мол.% до примерно 9 мол.% Li2O; в некоторых вариантах осуществления от 0 мол.% до примерно 9 мол.% Na2O (0 мол.%<Na2O≤9 мол.%); в некоторых вариантах осуществления от 0 мол.% до примерно 9 мол.% K2O (0 мол.%<K2O≤9 мол.%) или от 0 мол.% до примерно 3 мол.% K2O (0 мол.%<K2O≤3 мол.%); в некоторых вариантах осуществления от 0 мол.% до примерно 10 мол.% Cs2O (0 мол.%<Cs2O≤10 мол.%) или от больше чем 0 мол.% до примерно 7 мол.% Cs2O (0 мол.%<Cs2O≤7 мол.%); и/или в некоторых вариантах осуществления от 0 мол.% до примерно 9 мол.% Rb2O (0 мол.%<Rb2O≤9 мол.%). В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика содержит от примерно 9,8 мол.% до примерно 11,4 мол.% B2O3 (9,8 мол.%≤B2O3≤11,4 мол.%).
[0040] В определенных вариантах осуществления стеклокерамики, описанные в данном документе, содержат: от примерно 80 мол.% до примерно 97 мол.% SiO2 (80 мол.%≤SiO2≤97 мол.%); от 0 мол.% до примерно 5 мол.% Al2O3 (0 мол.%≤Al2O3≤5 мол%); от 0 мол.% до примерно 2 мол.% R2O (0 мол.%≤R2O≤2 мол.%), где R2O=Li2O, Na2O, K2O и/или Cs2O, или от больше чем от 0 мол.% до примерно 2 мол.% Cs2O(0 мол.%<Cs2O≤2 мол.%), или от больше чем от 0 мол.% до примерно 0,5 мол.% Cs2O(0 мол.%<Cs2O≤0,5 мол.%); и от примерно 0,2 мол.% до примерно 2 мол.% WO3 (0,2 мол.%≤WO3≤2 мол.%). В отдельных вариантах осуществления керамики содержат: от примерно 87 мол.% до примерно 93 мол.% SiO2 (87 мол.%≤SiO2≤93 мол.%); от 0 мол.% до примерно 0,5 мол.% Al2O3 (0 мол.%≤Al2O3≤0,5 мол%); от 3 мол.% до примерно 6 мол.% B2O3 (3 мол.%≤B2O3≤6 мол.%); от примерно 0,75 мол.% до примерно 1,25 мол.% WO3 (0,75 мол.%≤WO3≤1,25 мол.%); и от 0,2 мол.% до примерно 2 мол.% R2O, где R=Li, Na, K, и/или Cs (0,2 мол.%<R2O≤2 мол.%),
[0041] В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика может дополнительно содержать, по меньшей мере, одно из: вплоть до примерно 0,5 мол.% MgO (0 мол.%≤MgO≤0,5 мол.%); вплоть до примерно 2 мол.% P2O5 (0 мол.%≤P2O5≤2 мол.%); и вплоть до примерно 1 мол.% ZnO (0 мол.%≤ZnO≤1 мол.%). Скорость образования MxWO3 при охлаждении или термообработке может быть повышена путем добавки, по меньшей мере, одного из MgO (например, образцы 55, 56 и 57 в таблице 1), P2O5 (например, образец 58 в таблице 1) и ZnO (например, образец 59 в таблице 1).
[0042] Неограничивающие композиции стеклокерамик, которые прозрачны в диапазоне видимого света, и поглощают излучение в УФ и ближнем ИК диапазонах перечислены в таблице 1. Композиции стеклокерамик, которые не поглощают излучение ни в УФ, ни в ближнем ИК диапазонах, перечислены в таблице 2.
Таблица 1. Композиции стеклокерамик, которые оптически прозрачны в диапазоне видимого света и поглощают излучение в УФ и ближнем ИК диапазонах
| Мол.% | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 |
| SiO2 | 76,9 | 75,9 | 72,9 | 69,9 | 65,9 | 77,6 | 76,9 | 61,7 | 61,7 | 65,9 |
| B2O3 | 17 | 17 | 20 | 23 | 27 | 20 | 17 | 20 | 20 | 20 |
| Al2O3 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 0,66 | 1,32 | 6,6 | 6,6 | 5 |
| Li2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Na2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| K2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Cs2O | 1 | 2 | 2 | 2 | 2 | 0,66 | 0,66 | 1,32 | 6,6 | 5 |
| WO3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 1 | 1 | 1 | 5 | 4 |
| SnO2 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Мол.% | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 | 20 |
| SiO2 | 64,9 | 63,9 | 63,9 | 63,9 | 63,9 | 63,9 | 62,9 | 61,9 | 64,9 | 62,9 |
| B2O3 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 |
| Al2O3 | 5 | 7 | 9 | 9 | 9 | 9 | 10 | 11 | 9 | 9 |
| Li2O | 0 | 0 | 0 | 3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Na2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| K2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Cs2O | 5 | 5 | 3 | 0 | 0 | 0 | 3 | 3 | 2 | 4 |
| WO3 | 5 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 |
| SnO2 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Мол.% | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 | 29 | 30 |
| SiO2 | 63,9 | 61,9 | 63,9 | 63,9 | 63,9 | 64 | 64,4 | 64,9 | 65,4 | 64,9 |
| B2O3 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 |
| Al2O3 | 10 | 12 | 9 | 9 | 9 | 9 | 9 | 9 | 9 | 9 |
| Li2O | 0 | 0 | 0 | 1,5 | 1,5 | 3 | 3 | 3 | 3 | 2 |
| Na2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| K2O | 0 | 0 | 0 | 1,5 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Cs2O | 2 | 2 | 2,9 | 0 | 1,5 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| WO3 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 3,5 | 3 | 2,5 | 4 |
| SnO2 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0,1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Мол.% | 31 | 32 | 33 | 34 | 35 | 36 | 37 | 38 | 39 | 40 |
| SiO2 | 65,9 | 66,9 | 65,9 | 66,4 | 60,9 | 65,9 | 69,9 | 66 | 65,9 | 65,8 |
| B2O3 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 15 | 10 | 20 | 20 | 20 |
| Al2O3 | 9 | 9 | 9 | 9 | 9 | 9 | 10 | 9 | 9 | 9 |
| Li2O | 1 | 0 | 3 | 3 | 6 | 6 | 6 | 3 | 3 | 3 |
| Na2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| K2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Cs2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| WO3 | 4 | 4 | 2 | 1,5 | 4 | 4 | 4 | 2 | 2 | 2 |
| SnO2 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0 | 0,1 | 0,2 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Мол.% | 41 | 42 | 43 | 44 | 45 | 46 | 47 | 48 | 49 | 50 |
| SiO2 | 65,6 | 65,8 | 65,9 | 70,1 | 70,1 | 69,85 | 70,35 | 70,1 | 69,9 | 68,1 |
| B2O3 | 20 | 20 | 20 | 10,35 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 12,35 | 10,35 | 11,35 |
| Al2O3 | 9 | 9 | 9 | 10 | 10 | 10 | 10 | 9 | 10 | 10 |
| Li2O | 3 | 3 | 3 | 0 | 8,475 | 8,6 | 8,35 | 7,7 | 8,2 | 8,7 |
| Na2O | 0 | 0 | 0 | 8,2 | 1,525 | 1,65 | 1,4 | 0,75 | 1,25 | 1,75 |
| K2O | 0 | 0 | 0 | 1,25 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Cs2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| WO3 | 2 | 2 | 2 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 |
| SnO2 | 0,4 | 0 | 0 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,3 | 0,1 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0,2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0,1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Мол.% | 51 | 52 | 53 | 54 | 55 | 56 | 57 | 58 | 59 | 60 | 61 |
| SiO2 | 69,85 | 69,85 | 69,85 | 69,85 | 70,25 | 69,85 | 69,35 | 68,85 | 69,1 | 69,75 | 68,75 |
| B2O3 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 9,8 | 10,8 |
| Al2O3 | 10 | 10 | 10 | 9,75 | 10 | 10 | 9,375 | 10 | 10 | 10 | 10 |
| Li2O | 0 | 4 | 8 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 |
| Na2O | 8,6 | 4,6 | 0,6 | 8,725 | 8,35 | 8,35 | 8,975 | 8,6 | 8,6 | 8,6 | 7,25 |
| K2O | 1,65 | 1,65 | 1,65 | 1,775 | 1,4 | 1,4 | 1,4 | 1,65 | 1,65 | 1,65 | 0 |
| Cs2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| WO3 | 4 | 4 | 4 | 3,5 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 |
| SnO2 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0,1 | 0,5 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0,1 |
| P2O5 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| ZnO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 |
| As2O5 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0,75 | 0 | 0 |
Таблица 2. Композиции стеклокерамик, которые не поглощают излучение в УФ и ближнем ИК диапазонах.
| Мол.% | 62 | 63 | 64 | 65 | 66 | 67 | 68 | 69 | 70 | 71 |
| SiO2 | 77,9 | 77,94 | 72,3 | 65,7 | 64,7 | 63,7 | 65,7 | 65,7 | 64,2 | 62,7 |
| B2O3 | 20,7 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 |
| Al2O3 | 0 | 0,3 | 3,3 | 6,6 | 6,6 | 0,66 | 5,6 | 4,6 | 8,1 | 9,6 |
| Li2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Na2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| K2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Cs2O | 0,3 | 0,66 | 3,3 | 6,6 | 6,6 | 6,6 | 7,6 | 8,6 | 6,6 | 6,6 |
| WO3 | 1 | 1 | 1 | 1 | 2 | 3 | 1 | 1 | 1 | 1 |
| SnO2 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Мол.% | 72 | 73 | 74 | 75 | 76 | 77 | 78 | 79 | 80 | 81 |
| SiO2 | 62,2 | 60,7 | 62,7 | 60,1 | 63,9 | 63,9 | 63,9 | 66,9 | 67,9 | 65,9 |
| B2O3 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 10 | 10 |
| Al2O3 | 8,1 | 9,6 | 6,6 | 6,6 | 5 | 9 | 9 | 9 | 10 | 10 |
| Li2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 | 8 | 10 |
| Na2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| K2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Cs2O | 6,6 | 6,6 | 6,6 | 6,6 | 7 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| WO3 | 3 | 3 | 4 | 6,6 | 4 | 4 | 4 | 1 | 4 | 4 |
| SnO2 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Мол.% | 82 | 83 | 84 | 85 | 86 | 87 | 88 | 89 | 90 | 79 |
| SiO2 | 63,9 | 65,8 | 65,9 | 65,75 | 67 | 67 | 70,1 | 69,35 | 70,1 | 70,1 |
| B2O3 | 10 | 20 | 20 | 20 | 8,1 | 9,1 | 9,35 | 9,8 | 9,35 | 9,35 |
| Al2O3 | 10 | 9 | 9 | 9 | 12,6 | 12,6 | 10 | 10 | 10 | 10 |
| Li2O | 12 | 3 | 3 | 3 | 5,1 | 5,1 | 8,242 | 8,35 | 8,7 | 8,7 |
| Na2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 6,2 | 5,7 | 2,208 | 1,4 | 1,75 | 1,75 |
| K2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0,8 | 0,3 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Cs2O | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| WO3 | 4 | 2 | 2 | 2 | 4 | 4 | 4 | 4 | 2,5 | 2,5 |
| SnO2 | 0,1 | 0 | 0 | 0 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 | 0,1 |
| La2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Eu2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MnO2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Fe2O3 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| CeO2 | 0 | 0,2 | 0 | 0,2 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sb2O3 | 0 | 0 | 0,1 | 0,05 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 |
[0043] В некоторых вариантах осуществления - 10 мол.%≤R2O(мол.%)- Al2O3(mol%)≤0,1 мол.%. Что касается того, как состав и термообработка влияют на оптические свойства металлокерамики, перглиноземистые расплавы могут быть разделены на три подкатегории. Используемый в данном документе термин "перглиноземистые расплавы" относится к расплавам, в которых мольная доля или содержание оксида алюминия, которая превышает мольную долю или содержание R2O, где R2O представляет собой, по меньшей мере, одно из Li2O, Na2O, K2O и Cs2O; т.е. Al2O3(мол.%)>R2O(мол.%). Первой подкатегорией является подкатегория, в которой перглиноземистые расплавы при быстрой закалке из расплавленного состояния и после отжига являются прозрачными в видимом диапазоне спектра и режиме NIR (например, образцы 12, 15-17, 20, 23, 25, 33, 35- 42, 44, 46, 47 и 48 в таблице 1). Эти материалы требуют последующей термообработки при температуре отжига или немного выше нее, но ниже температуры размягчения, чтобы получить поглощающую излучение ближнего ИК диапазона фазу нанокристаллического MxWO3. Изменение в оптических свойствах, как зависимость от термообработки, проиллюстрирована на фиг.1, которая представляет собой график поглощения от длины волны для закаленных на подложке, отожженных и термообработанных образцов композиции 13. Используемый в данном документе термин "закаленный на подложке" относится к процессу выливания небольшого количества или "глобулы" расплавленного стекла на железную пластину, которая имеет комнатную температуру, и прессования глобулы тотчас же с помощью железного плунжера (также при комнатной температуре), для того, чтобы быстро охладить стекло и отпрессовать глобулу в тонкий (3-6 мм) диск стекла. Наряду с тем, что закаленные на подложке (А на фиг.1) и отожженные образцы (В) композиции/образца 13 показывают, что нет поглощения в режимах излучения в видимом или ближнем ИК диапазонах, те образцы, которые были термообработаны (C, D, E), демонстрируют поглощение в режиме NIR, которое повышается с увеличением времени термообработки, а также некоторое рассеяние видимого света при длинах волн в диапазоне 600-700 нм, давая в результате материал, имеющий голубой оттенок.
[0044] Вторая категория перглиноземистых расплавов остается прозрачной в видимом и NIR режимах, если быстро закалены, но демонстрируют поглощение ближнего ИК излучения после отжига (смотри образцы 12, 14, 19, 21, 22, 24 и 26-32 в таблице 1). Как с предварительно описанной группой пергиноземистых расплавов и показанных на фиг.2, которая показывает спектры закаленных на подложке (А), отожженных (В) и термообработанных (С) образцов стеклокерамической композиции 11, поглощение ближнего ИК излучения закаленной на подложке или отожженной стеклокерамики может быть повышена путем дополнительной термообработки.
[0045] Третья категория перглиноземистых расплавов демонстрирует поглощение ближнего ИК излучения даже при быстрой закалке (смотри образцы 1 и 7 в таблице 1). Поглощение ближнего ИК излучения этих материалов может быть дополнительно повышено с помощью последующей термообработки при температуре отжига или выше нее, но ниже температуры размягчения.
[0046] Почти что загруженные сбалансированные расплавы (т.е. R2O(мол.%)- Al2O3(мол%)=0±0,25 мол.%) при быстром охлаждении могут быть прозрачными видимого излучения, и поглощающими ближнее ИК излучение после отжига (смотри образцы 8-11 и 45 в таблице 1), или поглощающими ближнее ИК излучение после или закалки или отжига (смотри примеры 2-7 в таблице 1). Как и в случае с расплавами, предварительно обсужденными выше в данном документе, поглощение ближнего ИК излучения может быть дополнительно повышено с помощью последующей термообработки при температуре отжига или выше нее, но ниже температуры размягчения.
[0047] Два перщелочных расплава (т.е. R2O(мол.%)>Al2O3(мол.%)), поглощающих УФ и ближнее ИК изучения (образцы 46 и 50 в таблице 1) были прозрачными в видимой и ближней ИК областях, если быстро закаливались, но поглощали ближнее ИК излучение после отжига. Как и в случае с расплавами, предварительно обсужденными выше в данном документе, поглощение в ближней инфракрасной области может быть дополнительно повышено с помощью последующей термообработки при температуре отжига или выше нее, но ниже температуры размягчения.
[0048] Скорость образования фазы кристаллической MxWO3, которая определяет оптическое поглощение, также может быть оптимизирована путем регулирования, по меньшей мере, одного из времени термообработки и температуры; отношения (R2O(мол.%)+Al2O3(мол.%))/WO3(мол%); отношения R2O(мол.%)/WO3(мол.%); отношения Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%); и выбора дозируемого щелочного металла (или щелочных металлов). Во всех возможных случаях, чем больше выделяется фаза кристаллического MxWO3 с помощью более продолжительных времен термообработки, тем сильнее поглощает ближнее ИК излучение получающийся в результате материал. Однако избыточные периоды времени термообработки могут вынуждать укрупняться зерна фазы кристаллической MxWO3. В некоторых случаях укрупнение может сопровождаться образованием вторичной или третичной кристаллической фазы, такой как боросталит или борат алюминия. Образование этих вторичных фаз может давать материал, который рассеивает свет видимого диапазона длин волн, и, таким образом, появляется мутность или матовость. Кроме того, скорость образования MxWO3 в большинстве случаев повышается, поскольку температура термообработки повышается и достигает температуры размягчения стекла.
[0049] В некоторых вариантах осуществления, 1≤(R2O(мол.%)+Al2O3(мол.%))/WO3(мол.%)≤6. Так как отношение (R2O(мол.%)+Al2O3(мол.%))/WO3(мол.%) увеличивается, скорость образования MxWO3 снижается. Если (R2O(мол.%)+Al2O3(мол.%))/WO3(мол.%)≥6, то поглощающая ближнее ИК излучение фаза кристаллического MxWO3 прекращает выделяться из расплава.
[0050] В таких стеклах, в которых выделяется поглощающая ближнее ИК излучение фаза кристаллического MxWO3, отношение R2O(мол.%)/WO3(мол.%) превышает или равно 0 и менее или равно примерно 4 (0≤R2O(мол.%)/WO3(мол.%)≤4), и отношение Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%) находится в интервале от примерно 0,66 и примерно 6 (0,66≤Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%)≤6). Если R2O(мол.%)/WO3(мол.%) превышает 4 (R2O(мол.%)/WO3(мол.%)>4), то стекла могут выделять плотную несмешивающуюся вторую фазу и разделяться, давая негомогенный расплав. Если отношение Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%) превышает 6 (Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%)>6), то стекла прекращают выделять поглощающую ближнее ИК излучение фазу кристаллического MxWO3. Если отношение Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%) равно 6 (Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%)=6), такому как в образце 34 в таблице 1, то образуется поглощающая ближнее ИК излучение бронза с нанокристаллическим MxWO3, но так происходит очень медленно. Предпочтительно, чтобы отношение R2O(мол.%)/WO3(мол.%) находилось в интервале от примерно 0 и примерно 3,5 (0≤R2O(мол.%)/WO3(мол.%)≤3,5) (например, образец 26 в таблице 1). Наиболее предпочтительно, что R2O/WO3 находится в интервале от примерно 1,25 и примерно 3,5 (1,25≤R2O(мол.%)/WO3(мол.%)≤3,5), например, образец 53 в таблице 1), так как образцы в этом композиционном интервале быстро выделяют поглощающую УФ и ближнее ИК излучение фазу кристаллического MxWO3, демонстрируют высокую прозрачность в видимой области с сильным поглощением ближнего ИК излучения, а также являются отбеливаемыми (т.е. фаза кристаллического MxWO3 может быть "стираемой"). В определенных вариантах осуществления отношение Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%) находится в интервале от примерно 0,66 и примерно 4,5 (0,66≤Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%)≤4,5) (например, образец 40 в таблице 1), и, наиболее предпочтительно, Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%) находится в интервале от примерно 2 до примерно 3 (1≤Al2O3(мол.%)/WO3(мол.%)≤3) (например, образец 61 в таблице 1). Выше этого интервала поглощающая ближнее ИК излучение бронза с нанокристаллическим MxWO3 образуется медленно.
[0051] Оксиды различных щелочных металлов вынуждают фазу кристаллического MxWO3 выделяться с различными скоростями. Для расплавов, имеющих одинаковую дозированную композицию, но с оксидами различных щелочных металлов R2O (где R=Li, Na, K или Cs), скорость выделения MxWO3 является самой медленной, если M (или R) представляет собой Cs, а самой быстрой, если M (или R) представляет собой Li - т.е. Cs<K<Na<Li (например, образцы 14, 15, 16 и 13 в таблице 1). Температура, при которой в стеклокерамике образуется фаза кристаллического MxWO3, также сдвигается в зависимости от того, какой щелочной металл присутствует. Фиг.3 показывает кривые охлаждения дифференциальной сканирующей калориметрии (DSC, differential scanning calorimetry), измеренных для образцов 14, 15, 16 и 13, составы которых перечислены в таблице 1. Как показано на фиг.3 и ниже в таблице A, содержащий цезий расплав кристаллизуется при самой высокой температуре, за которым следуют содержащий калий, содержащий натрий и содержащий литий расплавы.
Таблица A. Температуры кристаллизации для фаз кристаллического MxWO3.
| Образец | Щелочной металл M | Температура кристаллизации (°C) |
| 14 | Li | 593,8 |
| 15 | Na | 682,2 |
| 16 | K | 706,3 |
| 13 | Cs | 714,1 |
[0052] Пик или максимум длины волны пропускания в видимом диапазоне и на крае полосы поглощения ближнего ИК излучения стеклокерамики может быть настроен через состав, время и температуру термообработки, а также выбора оксида щелочного металла. Спектры стеклокерамик, содержащих различные щелочные вольфрамовые бронзы и иным образом имеющие идентичные составы (образцы 14, 15, 16 и 13 в таблице 1) показаны на фигуре 4. Калиевый и цезиевый аналоги (образцы 16 и 13, соответственно) и имеют более короткий пик пропускания длин волн в видимом диапазоне (440-450 нм), чем натриевый и литиевый аналоги (образцы 15 и 14, соответственно), которые имеют пик пропускания длин волн в видимом диапазоне в 460 нм и 510 нм, соответственно.
[0053] В некоторых вариантах осуществления (например, примеры 37, 44, 46 и 50 в Таблице 1) стеклокерамик, описанные в данном документе имеют низкую концентрацию бора - т.е. от примерно 9,8 мол.% до примерно 11,4 мол.% B2O3 (9,8 мол.%≤B2O3≤11,4 мол.%). В этих образцах выделяется поглощающая ближнее ИК излучение фаза кристаллического MxWO3 в узком и низком температурном интервале, как показано в таблице B. Эти композиции могут быть нагреты выше их соответствующих температур размягчения и образовывать натеки, оседать или формироваться без роста фазы кристаллического MxWO3. Это делает возможным регулировать и приспособить путем сначала формирования и/или придания формы стеклянного изделия, и, после чего, затем термообработки материала при низкой температуре с целью выделения поглощающей ближнее ИК излучение второй фазы кристаллического MxWO3. Кроме того, вторая фаза кристаллического MxWO3 в стеклокерамиках, имеющих вышеуказанные составы, может быть "стертой" (и керамика "отбеленной") с помощью нагревания стекол в течение короткого периода времени выше соответствующих температур размягчения. Композиция 44, например, может быть отбелена путем выдерживания материала при температуре между примерно 685°C и примерно 740°C в течение приблизительно 5 минут.
Таблица B. Интервалы температур кристаллизации для фаз кристаллического MxWO3 в образцах, имеющих низкое содержание B2O3.
| Образец | B2O3 (мол.%) | Интервал температур кристаллизации (°C) |
| 37 | 10 | 575-625 |
| 44 | 10,4 | 500-550 |
| 46 | 9,8 | 500-575 |
| 50 | 11,4 | 500-650 |
[0054] В некоторых вариантах осуществления эти стекла и стеклокерамики могут быть орнаментированы с помощью УФ лазеров. Фаза MxWO3 может выделяться в быстро закаленных композициях (например, образец 14 в таблице 1), например, путем экспонирования материала при воздействии импульсным лазером при 10 Вт и 355 нм.
[0055] Таблица C перечисляет физические характеристики, включающие напряжение, температуры отжига и размягчения, термические коэффициенты расширения (CTE), плотность, показатели преломления, коэффициент Пуассона, модуль скольжения, модуль Юнга, температура ликвидуса (максимальная кристаллизация), а также коэффициент оптической чувствительности по напряжениям (SOC, stress optical coefficient), измеренный для выбранных композиций образца, перечисленных в Таблице 1. Кроме того, профили рентгеновской порошковой дифрактометрии (XRD, x-ray powder diffraction) закаленных на подложке и термообработанных стеклокерамических композиций получали для выбранных образцов, перечисленных в таблице 1. Фиг.5 и 6 являются репрезентативными профилями XRD, полученными для закаленных на подложке и термообработанных материалов, обоих, имеющих композицию 14 в таблице 1, соответственно. Эти профили XRD демонстрируют, что материалы сразу после закалки (фиг.5) являются аморфными и не содержат фазу кристаллического MxWO3 до термообработки, при этом термообработанные стекломатериалы содержат вторую фазу кристаллического MxWO3.
Таблица C. Физические характеристики, измеренные для стеклокерамик, имеющих составы, выбранные из таблицы 1.
| Характеристики | 2 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 |
| Температура деформации, °C | 495 | 450 | 461 | 505,8 | 512,1 | 497,4 | 497,3 |
| Температура отжига, (°C) | 557 | 498 | 513 | 566,1 | 563,1 | 552,2 | 553,7 |
| Температура размягчения, PPV (°C) | 963,1 | 850,9 | 837,9 | 952,4 | |||
| Термический коэффициент расширения, CTE (x10-7/°C) | 33,5 | 53,2 | 48,6 | 37 | |||
| Плотность (г/см3) | 2,335 | 2,612 | 2,569 | 2,516 | 2,427 | 2,402 | 2,392 |
| Показатель преломления при 633 нм | 1,4944 | 1,4997 | |||||
| Показатель преломления при 1549 нм | 1,4798 | 1,4835 |
| Характеристики | 33 | 34 | 35 | 36 | 45 | 46 | 50 |
| Температура деформации, (°C) | 515,1 | 471,2 | 485,2 | 523,9 | 486,8 | 483 | 471,3 |
| Температура отжига, (°C) |
568,9 | 514,3 | 530,8 | 573,1 | 540,8 | 536,7 | 521,2 |
| Температура размягчения, PPV (°C) | 725,6 | 769,6 | 857,9 | 831,5 | 822,2 | 797,3 | |
| Термический коэффициент расширения, (x10-7/°C) | |||||||
| Плотность (г/см3): | 2,307 | 2,416 | 2,429 | 2,452 | |||
| Показатель преломления при 633 нм | |||||||
| Показатель преломления при 1549 нм | |||||||
| Коэффициент Пуассона | 0,228 | 0,23 | 0,226 | 0,217 | |||
| Модуль скольжения Mpsi | 3,47 | 3,48 | 3,65 | 3,95 | |||
| Модуль Юнга Mpsi | 8,53 | 8,56 | 8,96 | 9,61 | |||
| Коэффициент оптической чувствительности по напряжениям нм/нм/МПа | 4,176 | 4,033 | 3,763 | ||||
| Максимальная температура кристаллизации (°C) | >1320 | 1160 | 1175 | 1290 | 1210 | 1210 | 1155 |
| Первичная фаза | Неизвестно | Неизвестно | Муллит | Муллит | Касситерит | Касситерит | Касситерит |
| Примечания | Застеклован к горячему концу | Касситерит вплоть до 1155°C | Касситерит вплоть до 1170°C |
g
| Характеристики | 51 | 52 | 53 | 54 |
| Температура деформации (°C) | 489,7 | 466,5 | ||
| Температура отжига (°C) | 544,4 | 522,3 | ||
| Температура размягчения, PPV (°C) | ||||
| Термический коэффициент расширения, CTE (x10-7/°C) | 64,4 | 57,3 | ||
| Плотность (г/см3): | ||||
| Показатель преломления при 633 нм | ||||
| Показатель преломления при 1549 нм | ||||
| Коэффициент Пуассона | 0,219 | 0,219 | 0,219 | 0,214 |
| Модуль скольжения Mpsi |
0,217 | 3,79 | 3,88 | 3,55 |
| Модуль Юнга Mpsi |
8,60 | 9,25 | 9,47 | 8,62 |
| Коэффициент оптической чувствительности по напряжениям нм/нм/МПа | 3,838 | 3,628 | 3,65 | 3,81 |
| Максимальная температура кристаллизации (°C) | ||||
| Первичная фаза | ||||
| Примечания |
[0056] В этих вариантах осуществления, в которых стеклокерамика содержит оксид алюминия (Al2O3) и, по меньшей мере, один щелочной металл, стеклокерамика может быть ионообменной. Ионный обмен обычно используют для химического упрочнения стекол. В одном конкретном примере щелочные катионы внутри источника таких катионов (например, ванны расплавленной соли или "ионообменной") обмениваются с меньшими щелочными катионами внутри стекла для получения слоя с напряжением сжатия (CS, compressive stress), простирающегося от поверхности стекла, где CS максимальна, до глубины слоя (DOL, depth of layer) или глубины давления DOC внутри стеклофазы.
[0057] В некоторых вариантах осуществления стеклокерамика является ионообменной и имеет сжатый слой, простирающийся от, по меньшей мере, одной поверхности до глубины (обозначенной как DOC и/или DOL), по меньшей мере, примерно 10 μм внутри стеклокерамики. Сжатый слой имеет напряжение сжатия CS, по меньшей мере, примерно 100 МПа и менее чем примерно 1500 МПа в поверхности.
[0058] В неограничивающих примерах композиции 51 и 54 были ионообменными. Образцы сначала обрабатывали при 550°C в течение 15 часов, затем охлаждали до 475°C при 1°C/мин, и дополнительно охлаждали до комнатной температуры со скоростью охлаждения печи, когда питание отключено (скорость печи). Кристаллизованные образцы затем обменивались ионами при 390°C в течение 3 часов в ванне расплавленного KNO3, дав в результате давления сжатия 360 и 380 МПа и глубины слоев 31 и 34 микрона для стеклокерамических композиций 51 и 54, соответственно.
[0059] В одном варианте осуществления стеклокерамики, описанные в данном документе, могут быть изготовлены с использованием метода закалки расплава. Соответствующие отношения составных частей могут быть смешаны и перемешаны с помощью турбулентного перемешивания или измельчения в шаровой мельнице. Затем скомплектованный материал расплавляют при температурах, изменяющихся от примерно 1550°C до примерно 1650°C, и выдерживают при температуре в течение периодов времени, изменяющихся от примерно 6 до примерно 12 часов, после какового времени он может быть отлит или сформован и затем отожжен. В зависимости от состава материала, дополнительных термообработок при температуре отжига или немного выше нее, но ниже температуры размягчения, чтобы развить вторую фазу кристаллического MxWO3 и обеспечить свойства поглощения УФ И ближнего ИК излучения. Оптимальные свойства поглощения УФ И ближнего ИК излучения были получены с композициями образцов 12-16, 37, 46, 50-53 и 61 в таблице 1. Периоды времени и температура термообработки, использованные для развития второй фазы кристаллического MxWO3 для примеров композиций, перечислены в таблице D.
Таблица D. Интервалы температуры и времени термообработки, использованные для получения поглощающих УФ и ближнее ИК излучения стеклокерамик с MxWO3 при использовании метода закалки расплава.
| Композиция (Таблица 1) |
Интервал температур термообработки (°C) |
Интервал времени термообработки (часы) |
| 12 | 520-550 | 20-30 |
| 13 | 650-725 | 0,5-1,5 |
| 14 | 575-700 | 0,08-0,5 |
| 15 | 625-725 | 0,4-2 |
| 16 | 650-725 | 0,5-2 |
| 37 | 600-625 | 16-30 |
| 46 | 525-600 | 0,75-10 |
| 50 | 525-650 | 0,75-10 |
| 51 | 525-600 | 0,75-10 |
| 52 | 525-575 | 1-10 |
| 53 | 525-575 | 0,5-5 |
| 61 | 525-650 | 0,2-2 |
[0060] В других вариантах осуществления стеклокерамика образуется путем инфильтрации нанопористого стекла, такого как, но не ограничиваясь им, высококремнеземного стекла VYCOR®, произведенного компанией Corning Incorporated. Такие нанопористые стекла могут быть на 20-30% пористыми со средним диаметром пор 4,5-16,5 нм, с узким распределением пор по размеру (с примерно 96% пор в стекле, имеющих +0,6 нм от среднего диаметра). Средний диаметр пор может быть увеличен до примерно 16,5 нм путем регулирования режима термообработки, требуемого для фазового разделения стекла и путем изменения условий травления. Схема для метода инфильтрации стекла и образования стеклокерамики показана на фиг.7.
[0061] На этапе 110 способа 100 готовят первый раствор, содержащий вольфрам, второй раствор, содержащий металлический катион M, а также третий раствор борной кислоты, или предусматривают доставку этих компонентов к нанопористой стеклянной подложке. В одном варианте осуществления раствор вольфрама готовят путем растворения метавольфрамата аммония (AMT, ammonium metatungstate) в деионизованной воде для получения желательной концентрации ионов вольфрама. В некоторых вариантах осуществления могут быть использованы органические прекурсоры, такие как карбонил вольфрама, гексахлорид вольфрама или тому подобное для доставки вольфрама внутрь пор нанопористой стеклянной подложки. Может быть использован также ряд водных прекурсоров, включающих нитраты, сульфаты, карбонаты, хлориды или тому подобное, для обеспечения катиона металла M в бронзе с MxWO3.
[0062] В одном неограничивающем примере первый водный раствор 0,068 М AMT и второй водный раствор 0,272 М нитрата цезия готовят или предусматривают таким, что концентрация катиона цезия составляет 1/3 от концентрации катиона вольфрама.
[0063] Третий раствор представляет собой перенасыщенный раствор борной кислоты, который в некоторых вариантах осуществления может быть приготовлен путем добавления гидрата борной кислоты к деионизованной воде и нагревания смеси до кипения при перемешивании.
[0064] В некоторых вариантах осуществления (не показано на фиг.7) нанопористое стекло может быть очищено перед образованием металлокерамики. Образцы (например, одномиллиметровые листы) стекла могут быть сначала медленно нагреты в окружающем воздухе до температуры примерно 550°C для удаления влаги и органических загрязнителей, и затем выдерживают при примерно 150°C до готовности для использования.
[0065] Нанопористое стекло пропитывают сначала раствором вольфрама (этап 120) путем погружения при комнатной температуре (примерно 25°C) в первый, содержащий вольфрам, раствор. В одном неограничивающем примере нанопористое стекло погружают в первый раствор примерно на один час. Затем образец стекла вынимают из первого раствора, промывают примерно одну минуту деионизованной водой и сушат в окружающем воздухе в течение периодов времени, изменяющихся от примерно 24 до примерно 72 часов.
[0066] На следующем этапе способа 100 образец пропитанного нанопористого стекла нагревают в потоке кислорода для разложения метавольфрамата аммония и образования WO3 (этап 130). Стекло сначала нагревают до примерно 225°C со скоростью примерно 1°C/мин, затем нагревают от примерно 225°C до примерно 450°C со скоростью примерно 2,5°C/мин с последующим выдерживанием при 450°C в течение 4 часов, и затем охлаждают от примерно 450°C до комнатной температуры со скоростью в интервале от примерно 5°C до примерно 7°C в минуту. В некоторых вариантах осуществления этап 130 может включать в себя предварительный нагрев стекла при примерно 80°C в течение вплоть до примерно 24 часов до вышеупомянутой термообработки.
[0067] После этапа 130, стекло погружают во второй раствор (этап 140) при комнатной температуре (примерно 25°C) для инфильтрации в стекло раствора катиона М. В некоторых вариантах осуществления этапу 140 может предшествовать предварительный нагрев стекла при примерно 80°C в течение вплоть до 24 часов перед погружением. В одном неограничивающем примере нанопористое стекло погружают во второй раствор примерно на один час. Затем образец стекла может быть вынут из второго раствора, промыт в течение примерно одной минуты в деионизованной воде и высушен в окружающем воздухе в течение периодов времени, изменяющихся от примерно 24 часов до примерно 72 часов.
[0068] После этапа 140 образец нанопористого стекла нагревают для образования кристаллической фазы MxWO3 вольфрамовой бронзы (этап 150). Этап 150 нагревания включает в себя сначала нагревание стекла от примерно 5°C до примерно 200°C со скоростью (скоростью изменения) примерно 1°C/мин в атмосфере азота с последующим нагреванием от примерно 200°C до примерно 575°C со скоростью 3°C/мин при атмосфере из 3% водорода и 97% азота и одночасовой выдержке при 575°C, а затем быстрое охлаждение стекла до примерно 300°C с помощью открывания печи, в которой происходит этап нагревания. В некоторых вариантах осуществления образец затем оставляют стоять в окружающем воздухе в течение неопределенного времени.
[0069] После этапа 150 образец стекла погружают в третий раствор, который является перенасыщенным раствором борной кислоты (этап 160). Третий раствор поддерживают при кипении и медленно мешают во время этапа 160. В некоторых вариантах осуществления образец стекла погружают в кипящий раствор на примерно 30 минут. В некоторых вариантах осуществления после вынимания образца из третьего раствора образец промывают деионизованной водой и оставляют стоять в окружающем воздухе в течение 24 часов. Затем стекло нагревают в атмосфере азота для образования и консолидирования стеклокерамики (этап 170). Стекло сначала нагревают от комнатной температуры до примерно 225°C со скоростью изменения примерно 1°C/мин на этапе 170 с последующим нагреванием от примерно 225°C до примерно 800°C со скоростью изменения примерно 5°C/мин. Стекло выдерживают при 800°C в течение примерно одного часа и затем охлаждают от примерно 800°C до комнатной температуры со скоростью примерно 10°C/мин.
[0070] В другом аспекте предложены стекла, допированные редкоземельными оксидами (REO, rare earth oxides) и имеющие высокое поглощение в области ближнего ИК излучения спектра. В некоторых вариантах осуществления эти стекла способствуют высокому показателю преломления стекла в области ИК излучения. Редкоземельные оксидные допанты, которые включают Sm2O3, Pr2O3, и Er2O3 составляют вплоть до примерно 12 мол.% стекла.
[0071] В некоторых вариантах осуществления REO-допированные стекла являются алюмосиликатными стеклами, содержащими Al2O3 и SiO2 и, по меньшей мере, одно из Sm2O3, Pr2O3 и Er2O3, где Sm2O3+Pr2O3+Er2O3≤12 мол.%. В некоторых вариантах осуществления стекла дополнительно содержат, по меньшей мере, один щелочноземельный оксид и B2O3. В некоторых вариантах осуществления стекла имеют пропускание менее чем примерно 30% при длине волны между примерно 1400 нм и примерно 1600 нм. Неограничивающие примеры композиций алюмосиликатных стекол перечислены в таблице E. Показатели преломления (RI, refractive indices), измеренные для этих стекол, также перечислены в таблице E. Стекла A, B и C, которые не содержат щелочноземельных модификаторов, были слишком вязкими для разливки даже при 1650°C. Стекла E и F, которые содержат соответствующие количества (>21 мол.%) щелочноземельных модификаторов, а также B2O3, можно легко разливать при 1650°C. Дисперсия и процентная светопроницаемость для стекла E для обеих областей видимого и ИК излучений спектра отражены на графике на рис.8 и 9, соответственно. Стекло E показывает и высокий показатель преломления в инфракрасной (ИК) области и высокое поглощение при 1550 нм. Спектры в УФ, видимой и ИК областях этих композиций, содержащих 3-5 мол.% Pr2O3, отражены на графике на фиг.10 и показывают высокое поглощение этих стекол при 1550 нм.
Таблица E. Составы редкоземельно-допированных алюмосиликатных стекол.
| (Мол.%) | A | B | C | D | E | F |
| MgO | 0 | 0 | 0 | 9,2 | 9,2 | 9,2 |
| CaO | 0 | 0 | 0 | 9,2 | 9,2 | 9,2 |
| BaO | 0 | 6 | 6 | 3,4 | 3,4 | 3,4 |
| Al2O3 | 18 | 18 | 18 | 10,7 | 10,7 | 10,7 |
| B2O3 | 0 | 0 | 0 | 4,6 | 4,6 | 4,6 |
| SiO2 | 70 | 70 | 70 | 62,9 | 62,9 | 62,9 |
| Pr2O3 | 12 | 6 | 0 | 0 | 5 | 0 |
| Sm2O3 | 0 | 0 | 6 | 0 | 0 | 5 |
| RI при 1550 нм | 1,604 | 1,565 | 1,562 | 1,528 | 1,58 | 1,576 |
[0072] В некоторых вариантах осуществления REO-допированные стекла представляют собой цинк-висмут-боратные стекла, содержащие ZnO, Bi2O3, B2O3 и, по меньшей мере, одно из Sm2O3, Pr2O3 и Er2O3, где Sm2O3+Pr2O3+Er2O3≤12 мол.%. В некоторых вариантах осуществления REO-допированные цинк-висмут-боратные стекла дополнительно содержат, по меньшей мере, одно из Na2O и TeO2. В некоторых вариантах осуществления стекла имеют пропускания менее чем примерно 30% при длине волны между примерно 1400 нм и примерно 1600 нм. Неограничивающие примеры составов цинк-висмут-боратных стекол перечислены в таблице F. Показатели преломления (RI), измеренные для этих стекол также перечислены в таблице F.
Таблица F. Композиции редкоземельно-допированных Zn-Bi-боратных стекол.
| (Мол.%) | G | H | I | J | K | L |
| ZnO | 26,2 | 26,2 | 28,5 | 22,3 | 22,3 | 27 |
| Bi2O3 | 4,9 | 4,9 | 19 | 15 | 15 | 5 |
| B2O3 | 43,6 | 43,6 | 47,5 | 42,7 | 42,7 | 45 |
| TeO2 | 5,8 | 5,8 | 0 | 0 | 0 | 6 |
| Na2O | 14,1 | 14,1 | 0 | 10 | 10 | 14,5 |
| BaO | 2,4 | 2,4 | 0 | 10 | 10 | 2,5 |
| Pr2O3 | 3 | 0 | 5 | 3 | 5 | 5 |
| Sm2O3 | 0 | 3 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| RI при 1550 нм | 1,683 | 1,680 | 1,857 | Не измерено | Не измерено | Не измерено |
[0073] В то время как типичные варианты осуществления были изложены с целью иллюстрации, не должно считаться, что вышеприведенное описание является ограничением объема раскрытия или прилагаемой формулы изобретения. Соответственно, различные модификации, приспособления и альтернативы могут возникнуть у специалистов в этой области техники без отступления от сущности и объема настоящего раскрытия или прилагаемой формулы изобретения.
Claims (16)
1. Оптически прозрачная стеклокерамика, содержащая
фазу силикатного стекла; и
от примерно 0,1 мол.% до примерно 10 мол.% кристаллической фазы MxWO3, включающей наночастицы, где M представляет собой, по меньшей мере, одно из H, Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Zn, Cu, Ag, Sn, Cd, In, Tl, Pb, Bi, Th, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu и U, и 0<x<1, при этом стеклокерамика имеет пропускание, по меньшей мере, 10%/мм в диапазоне длин волн, по меньшей мере, в одном волновом диапазоне света шириной 50 нм для света, имеющего длину волны в интервале от примерно 400 нм до примерно 700 нм.
2. Стеклокерамика по п.1, при этом стеклокерамика имеет пропускание менее чем 1%/мм для света, имеющего длину волны примерно 370 нм или менее, и притом стеклокерамика имеет пропускание менее чем 5%/мм, по меньшей мере, в одном волновом диапазоне света шириной 50 нм для света, имеющего длину волны в интервале от примерно 700 нм до примерно 2500 нм.
3. Стеклокерамика по п.2, в которой пропускание стеклокерамики между 500 нм и примерно 2500 нм изменяется менее чем на 10%/мм, если стеклокерамику нагревают при температуре в интервале от примерно 200°C до примерно 300°C.
4. Стеклокерамика по п.1, при этом стеклокерамика является ионообменной и имеет сжатый слой, простирающийся от поверхности стеклокерамики на глубину, по меньшей мере, примерно 10 мкм внутри стеклокерамики, причем сжатый слой имеет напряжение сжатия, по меньшей мере, примерно 100 МПа и менее чем примерно 1500 МПа в поверхности.
5. Стеклокерамика по п.1, при этом стеклокерамика содержит от примерно 0,1 мол.% до примерно 5 мол.% кристаллической фазы MxWO3, в которой M представляет собой, по меньшей мере, один щелочной металл.
6. Стеклокерамика по п.1, при этом стеклокерамика является, по меньшей мере, частью теплозащитного экрана, оптического фильтра, архитектурного элемента, автомобильного компонента или корпуса для электронного дисплея.
7. Оптически прозрачная стеклокерамика, содержащая
фазу силикатного стекла; и
от примерно 0,1 мол.% до примерно 10 мол.% кристаллической фазы MxWO3, содержащей наночастицы, где М представляет собой, по меньшей мере, один щелочной металл, и 0<x<1, при этом стеклокерамика имеет пропускание, по меньшей мере, 10%/мм в диапазоне длин волн, по меньшей мере, в одном волновом диапазоне света шириной 50 нм для света, имеющего длину волны в интервале от примерно 400 нм до примерно 700 нм.
8. Стеклокерамика по п.7, при этом стеклокерамика имеет пропускание менее чем 1%/мм для света, имеющего длину волны примерно 370 нм или менее, и при этом стеклокерамика имеет пропускание менее чем 5%/мм, по меньшей мере, в одном волновом диапазоне света шириной 50 нм для света, имеющего длину волны в интервале от примерно 700 нм до примерно 2500 нм.
9. Оптически прозрачная стеклокерамика, причем стеклокерамика содержит
фазу стекла; и
кристаллическую фазу, содержащую наночастицы вольфрамовой бронзы, при этом вольфрамовая бронза имеет формулу MxWO3, где M представляет собой по меньшей мере одно из H, Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Zn, Cu, Ag, Sn, Cd, In, Tl, Pb, Bi, Th, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu и U, и 0 < x < 1, при этом стеклокерамика имеет пропускание, по меньшей мере, 10%/мм в диапазоне длин волн, по меньшей мере, в одном волновом диапазоне света шириной 50 нм для света, имеющего длину волны в интервале от примерно 400 нм до примерно 700 нм, и при этом стеклокерамика имеет пропускание менее чем 5%/мм, по меньшей мере, в одном волновом диапазоне света шириной 50 нм для света, имеющего длину волны в интервале от примерно 700 нм до примерно 2500 нм.
10. Стеклокерамика по п.9, притом стеклокерамика является, по меньшей мере, частью теплозащитного экрана, оптического фильтра, архитектурного элемента, автомобильного компонента или корпуса для электронного дисплея.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201662351616P | 2016-06-17 | 2016-06-17 | |
| US62/351,616 | 2016-06-17 | ||
| US201662352602P | 2016-06-21 | 2016-06-21 | |
| US62/352,602 | 2016-06-21 | ||
| PCT/US2017/037809 WO2017218859A1 (en) | 2016-06-17 | 2017-06-16 | Transparent, near infrared-shielding glass ceramic |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2019101015A RU2019101015A (ru) | 2020-07-17 |
| RU2019101015A3 RU2019101015A3 (ru) | 2020-10-08 |
| RU2747856C2 true RU2747856C2 (ru) | 2021-05-17 |
Family
ID=59216082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2019101015A RU2747856C2 (ru) | 2016-06-17 | 2017-06-16 | Защищающая от излучения ближнего инфракрасного диапазона прозрачная стеклокерамика |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US20170362119A1 (ru) |
| EP (2) | EP4005988A1 (ru) |
| JP (3) | JP7084880B2 (ru) |
| KR (3) | KR20240068776A (ru) |
| CN (2) | CN114685042A (ru) |
| AU (1) | AU2017285323B2 (ru) |
| BR (1) | BR112018076280A2 (ru) |
| CA (1) | CA3028117A1 (ru) |
| MX (2) | MX2018015928A (ru) |
| RU (1) | RU2747856C2 (ru) |
| TW (2) | TWI828563B (ru) |
| WO (1) | WO2017218859A1 (ru) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102618609B1 (ko) * | 2014-12-11 | 2023-12-27 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 또는 유리-세라믹 제품에서 x-선 유도된 색상 |
| US20170362119A1 (en) | 2016-06-17 | 2017-12-21 | Corning Incorporated | Transparent, near infrared-shielding glass ceramic |
| US10464840B2 (en) | 2016-10-05 | 2019-11-05 | Corning Incorporated | Near infrared shielding and laser-resistant window |
| CN113185129B (zh) * | 2017-10-23 | 2022-05-27 | 康宁股份有限公司 | 玻璃陶瓷和玻璃 |
| US10450220B2 (en) | 2017-12-13 | 2019-10-22 | Corning Incorporated | Glass-ceramics and glasses |
| US10246371B1 (en) | 2017-12-13 | 2019-04-02 | Corning Incorporated | Articles including glass and/or glass-ceramics and methods of making the same |
| CN111587229A (zh) | 2017-12-04 | 2020-08-25 | 康宁公司 | 具有紫外线和近红外阻挡特性的玻璃陶瓷和玻璃陶瓷制品 |
| US11053159B2 (en) | 2017-12-13 | 2021-07-06 | Corning Incorporated | Polychromatic articles and methods of making the same |
| US10829408B2 (en) | 2017-12-13 | 2020-11-10 | Corning Incorporated | Glass-ceramics and methods of making the same |
| CN111479689B (zh) | 2017-12-15 | 2023-07-28 | 康宁股份有限公司 | 具有uv和nir阻挡特性的层压玻璃陶瓷制品及其制造方法 |
| US11167375B2 (en) | 2018-08-10 | 2021-11-09 | The Research Foundation For The State University Of New York | Additive manufacturing processes and additively manufactured products |
| KR20210093286A (ko) * | 2018-11-16 | 2021-07-27 | 코닝 인코포레이티드 | 조정 가능한 적외선 투과율을 갖는 유리 세라믹 장치들 및 방법들 |
| WO2020106486A1 (en) | 2018-11-21 | 2020-05-28 | Corning Incorporated | Very low total solar transmittance window laminate with visible light tunability |
| JP2022521892A (ja) | 2019-02-12 | 2022-04-13 | コーニング インコーポレイテッド | 勾配のある色合いの物品及びその製造方法 |
| CN113748092A (zh) * | 2019-02-12 | 2021-12-03 | 康宁股份有限公司 | 多色玻璃和玻璃陶瓷制品及其制造方法 |
| KR20210121257A (ko) * | 2019-02-20 | 2021-10-07 | 코닝 인코포레이티드 | 철- 및 망간-도프된 텅스텐산염 및 몰리브덴산염 유리 및 유리-세라믹 물품 |
| JP6897704B2 (ja) * | 2019-03-29 | 2021-07-07 | Tdk株式会社 | 黒色マーク組成物およびこれを用いた電子部品 |
| CA3142930A1 (en) * | 2019-06-10 | 2020-12-17 | Thomas J. Baudhuin | Apparatus for supercritical water gasification |
| CN115916718A (zh) * | 2020-06-19 | 2023-04-04 | 株式会社小原 | 强化结晶化玻璃 |
| CN114195383B (zh) * | 2021-12-27 | 2022-09-09 | 苏州广辰光学科技有限公司 | 一种红外截止滤光片用蓝玻璃制备工艺 |
| WO2023239693A1 (en) * | 2022-06-07 | 2023-12-14 | Corning Incorporated | Methods for forming and tuning local transmittance contrast in glass-ceramic articles via laser bleaching |
| WO2024106752A1 (ko) | 2022-11-15 | 2024-05-23 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 재생 양극 활물질, 이의 재생 방법 및 이를 포함하는 이차 전지 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2032633C1 (ru) * | 1990-07-09 | 1995-04-10 | Обнинское научно-производственное предприятие "Технология" | Стекло для прозрачного в ик-области темно-красного стеклокристаллического материала |
| JPH09241035A (ja) * | 1996-03-06 | 1997-09-16 | Central Glass Co Ltd | 結晶化ガラス |
| RU2194807C2 (ru) * | 1996-11-29 | 2002-12-20 | Йеда Рисерч Энд Дивелопмент Ко., Лтд. | Способ изготовления наночастиц или нитевидных нанокристаллов, способ изготовления неорганических фуллереноподобных структур халькогенида металла, неорганические фуллереноподобные структуры халькогенида металла, стабильная суспензия if-структур халькогенида металла, способ изготовления тонких пленок из if-структур халькогенида металла и тонкая пленка, полученная таким способом, и насадка для растрового микроскопа |
| EP1780182A1 (en) * | 2005-10-25 | 2007-05-02 | Ohara Inc. | Glass ceramics and a method for manufacturing the same |
| US8399547B2 (en) * | 2009-12-15 | 2013-03-19 | Bayer Materialscience Ag | Polymer composition with heat-absorbing properties and high stability |
| RU2531958C2 (ru) * | 2012-05-02 | 2014-10-27 | Корпорация "Самсунг Электроникс Ко., Лтд" | Лазерное электрооптическое стекло и способ его изготовления |
Family Cites Families (108)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2034994A (en) | 1933-06-26 | 1936-03-24 | Mississippi Glass Co | Heat absorbing glass |
| US2952575A (en) | 1958-05-16 | 1960-09-13 | Monsanto Chemicals | Near-infrared spectrum filter media |
| NL124218C (ru) * | 1963-03-14 | |||
| NL6507775A (ru) * | 1964-06-26 | 1965-12-27 | ||
| US3499775A (en) | 1966-07-01 | 1970-03-10 | Owens Illinois Inc | Ultraviolet-absorbing glass compositions containing cerium and molybdenum oxides |
| US3457106A (en) | 1966-12-21 | 1969-07-22 | Ppg Industries Inc | Metal-tungsten bronze films |
| US3582370A (en) | 1968-11-05 | 1971-06-01 | Corning Glass Works | Glass-ceramic articles |
| US3652303A (en) | 1970-01-26 | 1972-03-28 | Ppg Industries Inc | Heat absorbing blue soda-lime-silica glass |
| SU392016A1 (ru) | 1971-08-03 | 1973-07-27 | Тбилисский государственный научно исследовательский институт строительных материалов | Полупроводниковое стекло |
| US3785834A (en) | 1972-06-09 | 1974-01-15 | Owens Illinois Inc | Glasses,glass-ceramics and process for making same |
| US3985534A (en) * | 1975-03-19 | 1976-10-12 | Corning Glass Works | Spontaneously-formed fluormica glass-ceramics |
| US4009042A (en) | 1976-01-15 | 1977-02-22 | Corning Glass Works | Transparent, infra-red transmitting glass-ceramics |
| JPS5385813A (en) * | 1976-12-30 | 1978-07-28 | Hoya Glass Works Ltd | Spectacle glass having glareeprotection effect |
| JPS6049142B2 (ja) | 1978-04-17 | 1985-10-31 | 株式会社保谷硝子 | カラ−・テレビジョン・カメラ用近赤外吸収フイルタ− |
| US4537862A (en) | 1982-06-28 | 1985-08-27 | Owens-Illinois, Inc. | Lead-free and cadmium-free glass frit compositions for glazing, enameling and decorating |
| US4769347A (en) * | 1986-01-06 | 1988-09-06 | Schott Glass Technologies, Inc. | Contrast enhancement filter glass for color CRT displays |
| JP2539214B2 (ja) * | 1987-03-31 | 1996-10-02 | 川鉄鉱業株式会社 | ガラスセラミツクスおよびその製造方法 |
| US4792536A (en) | 1987-06-29 | 1988-12-20 | Ppg Industries, Inc. | Transparent infrared absorbing glass and method of making |
| US4870539A (en) | 1989-01-17 | 1989-09-26 | International Business Machines Corporation | Doped titanate glass-ceramic for grain boundary barrier layer capacitors |
| US5393593A (en) | 1990-10-25 | 1995-02-28 | Ppg Industries, Inc. | Dark gray, infrared absorbing glass composition and coated glass for privacy glazing |
| GB9108257D0 (en) | 1991-04-17 | 1991-06-05 | Cookson Group Plc | Glaze compositions |
| US5468694A (en) | 1992-11-21 | 1995-11-21 | Yamamura Glass Co. Ltd. | Composition for producing low temperature co-fired substrate |
| US5565388A (en) | 1993-11-16 | 1996-10-15 | Ppg Industries, Inc. | Bronze glass composition |
| AU666831B2 (en) | 1993-11-16 | 1996-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Gray glass composition |
| NZ264881A (en) | 1993-11-16 | 1995-09-26 | Ppg Industries Inc | Grey glass containing iron and cobalt oxides |
| JP3270236B2 (ja) | 1994-01-20 | 2002-04-02 | ワイケイケイ株式会社 | 合成樹脂製ベルト連結具 |
| US5668066A (en) | 1995-07-24 | 1997-09-16 | Hoya Corporation | Near infrared absorption filter glass |
| US6214429B1 (en) * | 1996-09-04 | 2001-04-10 | Hoya Corporation | Disc substrates for information recording discs and magnetic discs |
| GB9619134D0 (en) | 1996-09-13 | 1996-10-23 | Pilkington Plc | Improvements in or related to coated glass |
| US6001753A (en) | 1996-12-20 | 1999-12-14 | Libbey-Owens-Ford Co. | Spectral modifiers for glass compositions |
| EP1284247B1 (en) * | 1997-02-14 | 2004-08-11 | Nippon Telegraph and Telephone Corporation | Tellurite glass, optical amplifier and light source |
| US5851940A (en) | 1997-07-11 | 1998-12-22 | Ford Motor Company | Blue glass with improved UV and IR absorption |
| JP3270423B2 (ja) | 1998-06-22 | 2002-04-02 | オリンパス光学工業株式会社 | 赤外吸収ガラス及びその作製方法 |
| DE19838198C2 (de) | 1998-08-24 | 2002-06-27 | Schott Glas | Gläser und Glaskeramiken mit hohem E-Modul sowie deren Verwendungen |
| JP4680347B2 (ja) | 1999-06-01 | 2011-05-11 | 株式会社オハラ | 高剛性ガラスセラミックス基板 |
| US6537937B1 (en) * | 1999-08-03 | 2003-03-25 | Asahi Glass Company, Limited | Alkali-free glass |
| US6376399B1 (en) | 2000-01-24 | 2002-04-23 | Corning Incorporated | Tungstate, molybdate, vanadate base glasses |
| US6911254B2 (en) | 2000-11-14 | 2005-06-28 | Solutia, Inc. | Infrared absorbing compositions and laminates |
| DE10114581C2 (de) * | 2001-03-24 | 2003-03-27 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und Verwendungen |
| JP2002293571A (ja) | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 照明用ガラス |
| DE10141104C1 (de) | 2001-08-22 | 2003-04-17 | Schott Glas | Optische Farbgläser und ihre Verwendung |
| DE10141102A1 (de) | 2001-08-22 | 2003-04-03 | Schott Glas | Cadmiumfreie optische Steilkantenfilter |
| JP2003099913A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板及びそれを用いた磁気ディスク |
| EP1496025A4 (en) * | 2002-03-29 | 2008-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | BISMUTH GLASS COMPOSITION, AND MAGNETIC HEAD AND PLASMA DISPLAY CONTAINING SAID COMPOSITION IN THE FORM OF SHUTTER ELEMENT |
| KR20050025182A (ko) | 2002-05-16 | 2005-03-11 | 쇼오트 아게 | Ｕｖ-차단 보로실리케이트 유리, 이것의 이용, 및 형광 램프 |
| US7192897B2 (en) | 2002-07-05 | 2007-03-20 | Hoya Corporation | Near-infrared light-absorbing glass, near-infrared light-absorbing element, near-infrared light-absorbing filter, and method of manufacturing near-infrared light-absorbing formed glass article, and copper-containing glass |
| JP2004091308A (ja) | 2002-07-11 | 2004-03-25 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 照明用ガラス |
| JP4193489B2 (ja) * | 2002-12-24 | 2008-12-10 | 株式会社日立製作所 | 磁気ディスク用ガラス基板及びそれを用いた磁気ディスク |
| DE10353756A1 (de) | 2003-11-17 | 2005-06-30 | Bio-Gate Bioinnovative Materials Gmbh | Schichtmaterial |
| CN1898168B (zh) * | 2003-12-26 | 2012-08-01 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃、其制造方法及液晶显示板 |
| WO2005063643A1 (ja) | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | 近赤外線吸収グリーンガラス組成物、およびこれを用いた合わせガラス |
| FR2867774B1 (fr) | 2004-03-19 | 2007-08-10 | Saint Gobain | Composition de verre silico-sodo-calcique gris fonce destinee a la fabrication de vitrages |
| JP5146897B2 (ja) | 2004-04-05 | 2013-02-20 | 日本電気硝子株式会社 | 照明用ガラス |
| US7341964B2 (en) * | 2004-07-30 | 2008-03-11 | Shepherd Color Company | Durable glass and glass enamel composition for glass coatings |
| JP2006083045A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Hitachi Ltd | ガラス部材 |
| JP5029014B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2012-09-19 | 日本電気硝子株式会社 | 半導体封止用ガラス及び半導体封止用外套管並びに半導体電子部品 |
| WO2006059492A1 (ja) | 2004-11-30 | 2006-06-08 | Asahi Glass Company, Limited | フィールドエミッションディスプレイ用結晶化ガラススペーサーおよびその製造方法 |
| DE102005016389A1 (de) | 2005-04-09 | 2006-10-12 | Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg | Verbundscheibe |
| JP5142996B2 (ja) * | 2005-06-28 | 2013-02-13 | コーニング インコーポレイテッド | ボロアルミノシリケートガラスの清澄 |
| DE102006029073B4 (de) * | 2005-07-06 | 2009-07-16 | Schott Ag | Verfahren zum Durchtrennen eines Flachglases unter Verwendung eines Lasertrennstrahls und alkalifreies Flachglas mit besonderer Eignung hierfür |
| DE102005051387B3 (de) | 2005-10-27 | 2007-01-25 | Ivoclar Vivadent Ag | Dentalglas, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung |
| JP5034272B2 (ja) * | 2006-03-06 | 2012-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | タングステン含有酸化物微粒子、およびその製造方法、ならびにそれを用いた赤外線遮蔽体 |
| DE102006023115A1 (de) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Schott Ag | Backlightsystem mit IR-Absorptionseigenschaften |
| DE102008011206B4 (de) | 2008-02-26 | 2011-05-05 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik und Verwendung einer Glaskeramik laskeramik |
| DE102008025277A1 (de) * | 2008-05-27 | 2009-12-03 | Merck Patent Gmbh | Glaszusammensetzung |
| JP5354445B2 (ja) * | 2008-06-25 | 2013-11-27 | 日本電気硝子株式会社 | 金属被覆用ガラス及び半導体封止材料 |
| EP2360220B1 (en) * | 2008-11-13 | 2015-03-18 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Infrared blocking particle, method for producing the same, infrared blocking particle dispersion using the same, and infrared blocking base |
| WO2010098227A1 (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 国立大学法人長岡技術科学大学 | 光変調材料およびその製造方法 |
| JP5402184B2 (ja) * | 2009-04-13 | 2014-01-29 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムおよびその製造方法 |
| DE102009024645B4 (de) | 2009-06-04 | 2011-06-01 | Schott Ag | Glaskeramik mit nanoskaligem Bariumtitanat, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
| CN102471090B (zh) | 2009-07-07 | 2015-11-25 | 巴斯夫欧洲公司 | 钾铯钨青铜颗粒 |
| CN102421718B (zh) * | 2009-07-31 | 2015-08-05 | 株式会社小原 | 玻璃陶瓷、玻璃陶瓷烧结体、玻璃陶瓷复合体、玻璃粉粒体、浆料状混合物以及光催化剂 |
| JP5715353B2 (ja) | 2009-07-31 | 2015-05-07 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
| JP2011241092A (ja) * | 2010-04-21 | 2011-12-01 | Ohara Inc | ガラスセラミックス及びその製造方法 |
| JP5840830B2 (ja) * | 2010-06-10 | 2016-01-06 | 株式会社ブリヂストン | 熱線遮蔽複層ガラス |
| JP5778488B2 (ja) * | 2010-12-22 | 2015-09-16 | 株式会社ブリヂストン | 熱線遮蔽ガラス、及びこれを用いた複層ガラス |
| US20120247525A1 (en) | 2011-03-31 | 2012-10-04 | Bruce Gardiner Aitken | Tungsten-titanium-phosphate materials and methods for making and using the same |
| DE112012004313A5 (de) * | 2011-10-14 | 2014-07-24 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit sechswertigem Metalloxid |
| JP2013242946A (ja) | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Panasonic Corp | 情報記録媒体、並びに情報記録媒体の製造方法 |
| JP6391926B2 (ja) * | 2012-10-10 | 2018-09-19 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス及びその製造方法 |
| TWI458629B (zh) * | 2012-12-17 | 2014-11-01 | Ind Tech Res Inst | 紅外線反射性多層結構及其製法 |
| FR3002530A1 (fr) * | 2013-02-28 | 2014-08-29 | Centre Nat Rech Scient | Verres et vitroceramiques nanostructures transparents dans le visible et l'infrarouge |
| US20140256865A1 (en) | 2013-03-05 | 2014-09-11 | Honeywell International Inc. | Electric-arc resistant face shield or lens including ir-blocking inorganic nanoparticles |
| FR3004445B1 (fr) * | 2013-04-15 | 2019-10-18 | Schott Ag | Surface de cuisson vitroceramique a transmission localement augmentee et procede de fabrication d'une telle surface de cuisson vitroceramique |
| JP2014241035A (ja) | 2013-06-11 | 2014-12-25 | キヤノン株式会社 | サーバー装置、画像の再作成方法及びプログラム |
| JP6171733B2 (ja) | 2013-08-27 | 2017-08-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽分散体形成用塗布液および熱線遮蔽体 |
| US8927069B1 (en) | 2013-10-02 | 2015-01-06 | Eritek, Inc. | Method and apparatus for improving radio frequency signal transmission through low-emissivity coated glass |
| CN104743882A (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-01 | 株式会社小原 | 光学物品及透镜 |
| US9878940B2 (en) | 2014-02-21 | 2018-01-30 | Corning Incorporated | Low crystallinity glass-ceramics |
| CN105254181B (zh) | 2014-07-18 | 2017-08-11 | 长春理工大学 | 一种铕掺杂钨酸盐透明玻璃陶瓷及其制备方法 |
| DE102014013528B4 (de) | 2014-09-12 | 2022-06-23 | Schott Ag | Beschichtetes Glas-oder Glaskeramiksubstrat mit beständigen multifunktionellen Oberflächeneigenschaften, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung |
| CN104445932B (zh) * | 2014-12-10 | 2022-06-03 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 粉红铝硅酸盐玻璃 |
| KR102618609B1 (ko) | 2014-12-11 | 2023-12-27 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 또는 유리-세라믹 제품에서 x-선 유도된 색상 |
| CN104944471A (zh) * | 2015-05-25 | 2015-09-30 | 北京航空航天大学 | 一种具有高红外屏蔽性能的掺杂钨青铜粉体及其合成方法 |
| JP6206736B2 (ja) | 2015-10-28 | 2017-10-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 飛翔体を用いた観測システムおよび観測方法 |
| WO2017129516A1 (de) | 2016-01-27 | 2017-08-03 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von wolframoxid und wolfram-mischoxiden |
| CN105948513B (zh) | 2016-05-16 | 2018-09-21 | 长春理工大学 | 一种铽掺杂含钼酸钙晶相透明玻璃陶瓷及其制备方法 |
| US20170362119A1 (en) | 2016-06-17 | 2017-12-21 | Corning Incorporated | Transparent, near infrared-shielding glass ceramic |
| CN106396413B (zh) | 2016-09-08 | 2018-11-09 | 长春理工大学 | 铒镱共掺含钨酸钡晶相上转换发光玻璃陶瓷及其制备方法 |
| CN107601853A (zh) | 2017-09-06 | 2018-01-19 | 蚌埠玻璃工业设计研究院 | 一种具有高弹性模量的光致变色玻璃及其制备方法 |
| WO2019051408A2 (en) | 2017-09-11 | 2019-03-14 | Corning Incorporated | BLANKED DISCRETE REGION DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURE |
| US10246371B1 (en) | 2017-12-13 | 2019-04-02 | Corning Incorporated | Articles including glass and/or glass-ceramics and methods of making the same |
| CN113185129B (zh) | 2017-10-23 | 2022-05-27 | 康宁股份有限公司 | 玻璃陶瓷和玻璃 |
| US10450220B2 (en) | 2017-12-13 | 2019-10-22 | Corning Incorporated | Glass-ceramics and glasses |
| CN111587229A (zh) | 2017-12-04 | 2020-08-25 | 康宁公司 | 具有紫外线和近红外阻挡特性的玻璃陶瓷和玻璃陶瓷制品 |
| US11806549B2 (en) | 2017-12-05 | 2023-11-07 | Lumen Catheters, LLC | Method, system, and devices of safe, antimicrobial light-emitting catheters, tubes, and instruments |
| US10829408B2 (en) | 2017-12-13 | 2020-11-10 | Corning Incorporated | Glass-ceramics and methods of making the same |
| US11053159B2 (en) | 2017-12-13 | 2021-07-06 | Corning Incorporated | Polychromatic articles and methods of making the same |
-
2016
- 2016-08-23 US US15/244,534 patent/US20170362119A1/en not_active Abandoned
-
2017
- 2017-06-16 MX MX2018015928A patent/MX2018015928A/es unknown
- 2017-06-16 TW TW112110830A patent/TWI828563B/zh active
- 2017-06-16 CN CN202210361822.7A patent/CN114685042A/zh active Pending
- 2017-06-16 AU AU2017285323A patent/AU2017285323B2/en not_active Ceased
- 2017-06-16 CA CA3028117A patent/CA3028117A1/en active Pending
- 2017-06-16 KR KR1020247014881A patent/KR20240068776A/ko active Application Filing
- 2017-06-16 TW TW106120158A patent/TWI806828B/zh active
- 2017-06-16 RU RU2019101015A patent/RU2747856C2/ru active
- 2017-06-16 CN CN201780037677.4A patent/CN109311730B/zh active Active
- 2017-06-16 KR KR1020197001381A patent/KR102466477B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-16 WO PCT/US2017/037809 patent/WO2017218859A1/en active Application Filing
- 2017-06-16 EP EP22151609.9A patent/EP4005988A1/en active Pending
- 2017-06-16 JP JP2018565799A patent/JP7084880B2/ja active Active
- 2017-06-16 EP EP17733310.1A patent/EP3442914B1/en active Active
- 2017-06-16 KR KR1020227038989A patent/KR102664949B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-16 BR BR112018076280-6A patent/BR112018076280A2/pt not_active Application Discontinuation
-
2018
- 2018-12-17 MX MX2023011560A patent/MX2023011560A/es unknown
-
2019
- 2019-09-04 US US16/559,806 patent/US11214511B2/en active Active
-
2021
- 2021-06-09 JP JP2021096347A patent/JP7473506B2/ja active Active
- 2021-12-01 US US17/539,507 patent/US11629091B2/en active Active
-
2023
- 2023-03-15 US US18/121,689 patent/US20230322607A1/en active Pending
- 2023-12-21 JP JP2023215541A patent/JP2024038004A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2032633C1 (ru) * | 1990-07-09 | 1995-04-10 | Обнинское научно-производственное предприятие "Технология" | Стекло для прозрачного в ик-области темно-красного стеклокристаллического материала |
| JPH09241035A (ja) * | 1996-03-06 | 1997-09-16 | Central Glass Co Ltd | 結晶化ガラス |
| RU2194807C2 (ru) * | 1996-11-29 | 2002-12-20 | Йеда Рисерч Энд Дивелопмент Ко., Лтд. | Способ изготовления наночастиц или нитевидных нанокристаллов, способ изготовления неорганических фуллереноподобных структур халькогенида металла, неорганические фуллереноподобные структуры халькогенида металла, стабильная суспензия if-структур халькогенида металла, способ изготовления тонких пленок из if-структур халькогенида металла и тонкая пленка, полученная таким способом, и насадка для растрового микроскопа |
| EP1780182A1 (en) * | 2005-10-25 | 2007-05-02 | Ohara Inc. | Glass ceramics and a method for manufacturing the same |
| US8399547B2 (en) * | 2009-12-15 | 2013-03-19 | Bayer Materialscience Ag | Polymer composition with heat-absorbing properties and high stability |
| RU2531958C2 (ru) * | 2012-05-02 | 2014-10-27 | Корпорация "Самсунг Электроникс Ко., Лтд" | Лазерное электрооптическое стекло и способ его изготовления |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2747856C2 (ru) | Защищающая от излучения ближнего инфракрасного диапазона прозрачная стеклокерамика | |
| TWI811252B (zh) | 玻璃陶瓷與玻璃 | |
| JP7291705B2 (ja) | 多色物品およびその製造方法 | |
| GB2075002A (en) | Production of polarizing glasses | |
| JP7449860B2 (ja) | ガラスセラミックおよびその製造方法 | |
| EP3943460A1 (en) | Li2o-al2o3-sio2-based crystallized glass | |
| WO2021106332A1 (ja) | 光フィルター用ガラスセラミックスおよび光フィルター | |
| TW202419419A (zh) | 透明的近紅外線遮蔽之玻璃陶瓷 | |
| ELBASHAR et al. | Influence of MnO Doped CuO Containing Sodium Zinc Phosphate Glass Matrix on Polaron Radius and Mean Spacing. | |
| ELBASHAR et al. | The influence of MnO on Polaron Radius and Field Strength of Sodium Zinc Phosphate Glass Matrix. | |
| WO2023238793A1 (ja) | ＺｎＯ－Ａｌ２Ｏ３－ＳｉＯ２系ガラス及びその製造方法 | |
| WO2023105895A1 (ja) | 低熱膨張ガラス |