KR20130135848A

KR20130135848A - 잉크젯 헤드 저장 및 청소

Info

Publication number: KR20130135848A
Application number: KR1020137009308A
Authority: KR
Inventors: 엘리 크리치만; 하난 고타이; 티모페이 샤말; 샤론 피마
Original assignee: 엑스제트 엘티디.
Priority date: 2010-10-18
Filing date: 2011-10-18
Publication date: 2013-12-11
Also published as: KR20170038098A; US10611155B2; US10864737B2; JP2014506536A; CN103534097A; CN103534097B; US8979244B2; US20200189282A1; US20140055525A1; WO2012052930A3; KR101722294B1; US20130208048A1; US9193164B2; JP5933883B2; WO2012052930A2; US20160039207A1; KR20190084357A; KR102000098B1

Abstract

잉크젯 헤드 청소 및 저장은 성형 와이퍼의 조종 단부의 하나 이상의 쇼울더가 슬릿의 하나 이상의 모서리와 각각 접촉할 정도로 인쇄 마스크의 슬릿 안으로 성형 와이퍼의 팁을 삽입함으로써 오리피스 판을 청소하는 단계를 포함한다. 성형 와이퍼의 쇼울더는 와이핑 동안 팁이 오리피스 표면상에 사전결정된 압력을 인가할 수 있게 한다. 연장된 비-인쇄 기간동안의 침전물 축적 방지는 인쇄 헤드의 적어도 하나의 오리피스 판을 노즐로부터 휘발성 액체의 증발을 막는 보호 유체안에 놓는 것을 포함한다. 독창적인 "야간 표지판"이 인쇄 마스크의 슬릿을 밀폐하기 위해 사용될 수 있고 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크는 인쇄 헤드 및 마스크 사이의 간극을 채우는데 사용되어 적어도 하나의 오리피스 판을 배출된 잉크로 덮을 수 있다.

Description

잉크젯 헤드 저장 및 청소{INKJET HEAD STORAGE AND CLEANING}

본 실시예는 일반적으로 인쇄 분야에 관한 것으로, 특히, 오리피스 판을 청소하고 침전물 축적을 방지하여 잉크젯 헤드를 관리하기 위한 인쇄 시스템에 관한 것이다.

종종 간단히 헤드라고 불리는 잉크젯 인쇄 헤드는 노즐 상의 퇴적(고체 침전물)을 제거하고 거품을 제거하고 인쇄 품질을 유지하기 위해 인쇄 노즐의 주기적인 청소를 필요로 한다. 인쇄 헤드의 청소는 잉크젯 인쇄 프로세스의 중요한 부분으로, 예를 들어, 산업적인 환경에서 인쇄 헤드는 2분마다 청소된다. 청소 회수는 인쇄 헤드가 사용되는 특정 애플리케이션에 따른다. 간단히 말해, 잉크젯 프린터는 소량의 잉크를 다수의 노즐로부터 종이 또는 다른 매체에 가까이 있고, 기판으로 알려진 오리피스 판의 해당 소형 오리피스를 통해 배출함으로써 작동되는데, 기판 상에 인쇄 또는 마크가 만들어진다. 오리피스는 매체의 특정 위치와 관련하여 선택된 수의 노즐로부터의 잉크 방울 배출이 소정의 문자 또는 이미지의 일부를 생성하는 방식으로 오리피스 판에 배열된다. 잉크 방울의 다른 배출 이후에 노즐과 관련된 매체의 조심스런 재배치는 소정의 문자 또는 이미지의 더 많은 부분을 만들 수 있게 한다.

일반적으로 산업에서 알려진 오리피스 판은 인쇄 헤드의 인쇄면 상에 배치되어 인쇄를 위해 노즐에 대해 접근할 수 있도록 하면서도 다른 장치들 사이에서 인쇄 헤드를 보호한다. 오리피스 판의 외부면 또는 하부면은 오리피스 표면이라고 불린다. 일반적으로 노즐은 "셀"을 통해 오리피스 표면과 노즐을 둘러싸는 셀을 갖는 각각의 노즐의 분출 단부를 이용하여 연결된다. 오리피스 표면을 향하는 셀의 개구는 오리피스를 제공한다. 각각의 노즐로부터 분출된 잉크는 인쇄를 위해 오리피스를 빠져나온다.

주기적인 청소 도중에 및 배출 후에, 바람직하게는 오리피스 표면이 침전된 배출된 액체를 제거하기 위해 청소되고, 와이핑(wiping)으로 알려짐, 노즐(오리피스를 통해)로부터 인쇄액의 적절한 분출이 가능하게 된다. 오리피스 표면의 평활도 및 비습윤(방습) 특성을 보전하기 위해, 닦을때 주의가 필요하다.

오리피스 표면에 대한 접촉없이 닦기 위한 통상적인 기술은 진공 와이핑으로, 여기에서 진공 헤드는 오리피스 표면을 가로질러 이동한다. 진공 헤드는 오리피스 판과 접촉하지는 않지만, 오리피스 판으로부터 배출액을 제거하도록, 흡입으로 알려진, 진공을 허용하기 위해 충분히 가깝다. 진공 헤드가 오리피스 판과 접촉하지 않으면, 진공 헤드의 모든 측면으로부터 흡입이 있어(바로 오리피스 판의 방향으로부터가 아닌) 오리피스 판의 낮은 청소 효율을 야기한다. 통상적인 진공 와이핑의 단점은 비용, 인쇄 속도, 신뢰성, 및 와이핑의 질을 포함한다.

와이핑의 다른 문제는 냉각 마스크라고 불리는 마스크가 인쇄 헤드로 사용되는 것이다. 마스크는 인쇄 헤드를 둘러싸서 인쇄 헤드를 보호하고 절연 쉴드로서의 기능을 제공하고, 인쇄 헤드 및 기판 사이의 열교환을 최소화한다. 보호는 매체(기판)로부터의 과도한 열(또는 냉기)로부터, 그리고 인쇄 트레이 상의 개체와의 물리적 충돌로부터 인쇄 헤드를 보호하는 것을 포함한다. 일 예는 광전지 웨이퍼상의 금속 배선 공정인데, 여기에서 웨이퍼는 인쇄전에 220℃로 데워진다. 마스크의 적어도 일부는 노즐과 매체 사이에 존재한다. 이 마스크는 하나 이상의 노즐에 대응하는 하나 이상의 슬릿(slit)을 포함한다.

슬릿들은 노즐로부터 마스크를 통과하여(대응하는 슬릿을 통해) 인쇄 매체에 잉크를 분출할 수 있도록 배치되고 크기가 결정된다. 일반적으로 및 바람직하게는, 오리피스 판 상의 노즐 열(row)은 슬릿의 가장자리로부터 아주 작은 양만큼만 오프셋되어 있다. 노즐들은 아주 작은 양만큼 오프셋되어 적어도 두개의 목표를 가능하게 하기 위해 노즐들이 슬릿 가장자리에 가까이 배치된다. 제 1 목표는 기판으로부터 생겨나는 연기로부터 노즐을 차폐하는 것이다. 차폐의 맥락에서, 작은 양은 슬릿의 사이즈와 비교하여 슬릿의 폭보다 적게 또는 일반적으로 약 10% 오프셋되는 것이다. 예를 들어, 슬릿 폭이 1mm일 경우, 오프셋은 100㎛ 또는 그보다 작을 수 있다. 제 2 목표는 청소 도중에 마스크 하부에서의 잉크 흡입을 더 쉽게 할 수 있도록 하는 것이다. 더 쉬운 잉크 흡입의 맥락에서, 작은 양은 오리피스 직경의 사이즈와 비교하여 마스크 플로워와 오리피스 판 사이의 간극의 사이즈, 오리피스의 비습윤 특성의 질, 투여된 액체의 표면 장력이다. 예를 들어, 20㎛의 오리피스 직경, 150㎛의 간극, 합리적인 습윤 특성, 합리적인 잉크 표면 장력, 150㎛ 또는 그 보더 작은 오프셋이 효과적인 것으로 나타난다.

마스크의 사용은 오리피스 판을 닦기 위한 진공 청소 사용의 능률을 더 감소시킨다. 마스크에 대한 추가 정보를 위해 미국 가출원 61/330351의 우선권을 주장하는, 2011년 5월 2일에 출원된 국제 출원 IB11/051934을 살펴보자.

인쇄를 위해 사용되는 잉크가 휘발성 유체일 경우, 노즐의 팁(tip)에 있는 잉크는 노즐 팁에서 반-고체 스킨을 구성하는 잉크의 나머지 성분으로 잉크의 일부를 잃을 수 있다. 반-고체 스킨, 또는 고체 침전물의 축적은, 노즐로부터의 잉크 분출을 방해할 수 있는데, 하나 이상의 노즐로부터의 잉크의 분출을 줄이거나 심지어는 불가능하게 한다. 노즐 팁이 오리피스 판의 오리피스와 정렬됨에 따라, 침전물 축적이 오리피스 및/또는 오리피스 판 상에 존재할 수 있다. 이 문서의 맥락에서, 노즐, 오리피스 및/또는 오리피스 판 상의 축적은 모두 침전물 축적이라는 동일한 문제를 제시한다. 연속적인 인쇄 중에는 침전물이 점차 축적되기 때문에, 인쇄 헤드/오리피스 판 닦기가 시간적인 기준으로 또는 다수의 인쇄 단계에 관하여 이뤄져야 한다. 인쇄가 일시 중지되거나, 오랜 기간 동안 중지되는 경우, 침전물 축적은 특별한 문제이다. 긴 비-인쇄 기간 동안, 노즐 상에 또는 노즐 안에 남아 있는 잉크의 유체 성분은 침전물을 남기고 증발할 수 있다. 인쇄를 다시 시작하고자 할 경우, 노즐로부터 침전물을 청소하기 위해 인쇄 헤드를 닦는데 먼저 시간이 소비되어야 한다.

따라서 통상적인 기술에 비해 증가된 효율을 갖고 침전물 축적을 방지하는, 오리피스 판을 청소하는 시스템에 대한 필요가 존재한다.

본 발명의 목적은 인쇄가 일시 중지되거나, 오랜 기간 동안 중지되는 경우 인쇄 잉크의 유체 성분의 증발로 인한 침전물 축적 또는 연속적인 인쇄 도중에 발생하는 침전물 축적을 효율적으로 방지하고 오리피스 판을 청소함으로써 잉크젯 헤드를 유지관리하는 인쇄 시스템을 제공하는 것이다.

본 발명의 교시에 따르면, 성형 와이퍼(shaped wiper)의 조종 단부의 하나 이상의 쇼울더가 슬릿의 하나 이상의 모서리(edge)와 각각 접촉되고, 팁이 오리피스 표면에 사전결정된 압력을 인가하도록, 마스크의 슬릿 안으로 성형 와이퍼의 팁을 삽입하는 단계와, 성형 와이퍼를 오리피스 표면에 대해 이동시켜 팁이 오리피스 표면을 닦는 단계를 포함하는 인쇄 방법이 제공된다.

선택적인 실시예에서, 팁을 삽입하는 단계는 슬릿의 측면 상의 더 넓은 섹션을 통해 팁을 삽입하는 단계를 포함하는데, 더 넓은 섹션은 성형 와이퍼의 팁을 수용하고 팁을 슬릿 안으로 인도하도록 구성된다. 다른 선택적인 실시예에서, 팁을 삽입하는 단계는 슬릿의 측면을 통해 팁을 삽입하는 단계를 포함한다. 다른 선택적인 실시예에서, 팁을 삽입하는 단계는 슬릿의 하부로부터 팁을 삽입하는 단계를 포함한다. 다른 선택적인 실시예에서, 성형 와이퍼를 이동시키는 단계는 하나 이상의 쇼울더와 각각의 슬릿의 하나 이상의 모서리 사이의 접촉을 유지하는 동안, 슬릿을 따라 성형 와이퍼를 이동시키는 단계를 포함한다. 다른 선택적인 실시예에서, 성형 와이퍼를 이동시키는 단계는 하나 이상의 팁의 측면과 각각의 슬릿의 하나 이상의 모서리 사이의 접촉을 유지하는 동안 슬릿을 따라 성형 와이퍼를 이동시키는 단계를 포함한다.

선택적인 실시예에서, 닦지 않는(non-wiping) 주기 동안, 성형 와이퍼의 적어도 팁이 청소액 및 인쇄액으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 유체에 저장된다.

다른 선택적인 실시예에서, 팁은 개방-셀 형태로 만들어진다.

선택적인 실시예에서, 팁은 팁 폭 및 팁 높이를 가지며, 조종 단부는 팁 폭 보다 큰 측면 폭을 구비한 측면을 갖는데, 여기에서 측면상에 하나 이상의 쇼울더를 구비한 조종 단부를 구성하기 위해 팁이 측면 상에 배치되며, 하나 이상의 쇼울더의 쇼울더 폭은 측면 폭과 팁 폭 사이의 차이이다. 다른 선택적인 실시예에서, 팁은 두 개의 쇼울더를 구비한 조종 단부를 구성하기 위해 측면 상에 배치되는데, 두 개의 쇼울더는 각각 팁의 마주보는 측면 상에 있다. 다른 선택적인 실시예에서, 두 개의 쇼울더 각각은 대체로 동일한 폭을 갖는다. 다른 선택적인 실시예에서, 슬릿은 팁의 폭과 대체로 동일한 슬릿 폭을 갖는다. 다른 선택적인 실시예에서, 노리피스 표면은 오리피스 직경을 갖는 하나 이상의 오리피스를 갖고, 팁의 팁 폭은 적어도 오리피스 직경 만큼 넓어서, 성형 와이퍼의 팁의 한번 통과에 의해 하나 이상의 오리피스가 닦이게 한다. 다른 선택적인 실시예에서, 사전 결정된 압력은 수용할 수 있는 사전 결정된 압력 범위에서 선택된다. 다른 선택적인 실시예에서, 오리피스 표면은 잉크젯 인쇄 헤드의 것이다.

본 실시예의 교시에 따르면 팁-폭 및 팁-높이를 구비한 성형 와이퍼; 및 팁-폭보다 큰 측면 폭을 갖는 일 측면을 구비한 조종 단부를 포함하는 인쇄 시스템이 제공되는데, 여기에서 팁은 측면 상의 하나 이상의 쇼울더로 조종 단부를 구성하기 위해 측면 상에 배치되고, 하나 이상의 쇼울더의 쇼울더-폭은 측면-폭 및 팁-폭 사이의 차이이고, 팁-높이는 하나 이상의 쇼울더가 주어딘 차폐-깊이로 슬릿의 하나 이상의 가장자리에 대해 눌러지는 경우 구성되고, 팁-높이는 대체로 차폐 깊이와 동일하고, 여기서 차폐 깊이는 슬릿의 하나 이상의 가장자리와 오리피스 표면 사이의 거리이다.

선택적인 실시예에서, 팁은 두 개의 쇼울더로 조종 단부를 구성하기 위해 측면 상에 배치되는데, 두 개의 쇼울더는 각각 팁의 마주보는 측면에 있다. 다른 선택적인 실시예에서, 두 개의 쇼울더 각각은 대체로 동일한 폭을 갖는다. 다른 선택적인 실시예에서, 하나 이상의 쇼울더가 슬릿의 하나 이상의 가장자리에 대해 소정의 차폐-깊이로 눌러지는 경우, 팁은 사전결정된 압력을 오리피스 표면에 인가한다. 다른 선택적인 실시예에서, 사전결정된 압력은 수용가능한 사전결정된 압력 범위로부터 선택된다.

다른 선택적인 실시예에서, 인쇄 시스템은 슬릿을 포함하는 인쇄 마스크를 포함하는데, 슬릿은 팁-폭과 대체로 동일한 슬릿-폭을 갖는다. 다른 선택적인 실시예에서, 슬릿은 슬릿의 적어도 하나이 대응 측면 상에 더 넓은 섹션을 포함하는데, 더 넓은 섹션은 성형 와이퍼의 팁을 수용하도록 구성되고 팁을 슬릿 안으로 인도한다. 다른 선택적인 실시예에서, 슬릿-폭은 0.4mm 및 2mm 사이이다. 다른 선택적인 실시예에서, 팁-폭은 슬릿-폭과 동일하거나 더 크고, 슬릿폭에 10퍼센트의 슬릿폭을 더한 것보다 작거나 동일하다[팁-폭 = 슬릿폭 + (0 내지 10%)]. 다른 선택적인 실시예에서, 오리피스 표면으로부터 마스크의 하부까지의 차폐-깊이는 0.4mm 및 2mm 사이이고(차폐-깊이 = 0.3 내지 2mm) 하나 이상의 쇼울더로부터 팁의 말단부까지의 팁-높이는 차폐=깊이 더하기 제 1 높이의 5 % 내지 30%이다(팁-높이 = 차폐-깊이 + 5% 내지 30%).

선택적인 실시예에서, 오리피스 표면은 오리피스 직경을 구비한 하나 이상의 오리피스를 갖고, 팁-폭은 적어도 오리피스-직경만큼 넓어, 성형 와이퍼의 팁의 한번 통과에 의해 닦이도록 한다.

선택적인 실시예에서, 팁은 개방-셀 형태로 만들어진다. 다른 선택적인 실시예에서, 팁은 폴리올레핀(polyolefin)이다.

다른 선택적인 실시예에서, 오리피스 표면은 잉크젯 인쇄 헤드이다.

이 실시예의 교시에 따르면 인쇄 잉크가 대체로 오리피스 표면 전체와 접촉하도록 인쇄 헤드와 관련된 잉크 리테이너(retainer)를 배치하는 단계; 및 인쇄 잉크로 잉크 리테이너를 적어도 부분적으로 채우는 단계를 포함하는 비-인쇄 주기 동안 인쇄 헤드를 보관하는 방법이 제공되는데, 인쇄 잉크는 적어도 부분적으로 잉크 리테이너의 적어도 일부를 채운다.

선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 적어도 일부분이 오리피스 표면을 둘러싸도록 구성된 잉크 베스(bath)를 포함하고, 일부분은 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지고, 인쇄 잉크는 대체로 오리피스 표면 전부와 접촉된다.

다른 선택적인 실시예에서, 베스는 인쇄 헤드로부터 배출된 인쇄 잉크를 적어도 부분적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 개방-셀 폼(open-cell foam)을 포함하는데, 개방-셀 폼은 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진 다음, 채워진 개방-셀 폼은 오리피스 표면과 접촉하여 배치된다. 다름 선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 개방-셀 폼을 포함하고, 개방-셀 폼은 오리피스 표면과 접촉하여 배치된 다음, 개방-셀 폼은 인쇄로 적어도 부분적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 인쇄 잉크는 개방-셀 폼을 적어도 부분적으로 채우기 위해 인쇄 헤드로부터 배출된다.

선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 인쇄 잉크로 반복적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 인쇄 헤드로부터 배출 잉크에 의해 반복적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 인쇄 잉크의 적어도 일부는 잉크 리테이너로부터 제거되고, 제거된 잉크의 적어도 일부는 잉크 리테이너를 채우는데 이용할 수 있도록 만들어진다. 다른 선택적인 실시예에서, 인쇄 잉크의 적어도 일부가 잉크 리테이너로부터 제거되고, 새로운 잉크가 잉크 리테이너를 채우는데 이용할 수 있도록 만들어진다.

이 실시예의 교시에 따르면, 오리피스 표면을 갖는 인쇄 헤드를 포함하는 인쇄 시스템이 제공되는데, 이 시스템은 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진 잉크 리테이너의 적어도 일부로 구성된 잉크 리테이너; 및 비-인쇄 주기 동안인 제 1 상태에서 잉크 리테이너가 인쇄 헤드에 관해 배치되어 인쇄 잉크가 대체로 오리피스 표면 전체와 접촉하고, 인쇄중인 제 2 상태에서 오리피스 표면으로부터 기판으로 잉크가 분출될 수 있도록, 인쇄 헤드와 관련된 잉크 리테이너를 구성하도록 작동할 수 있는 배치 장치(positioning mechanism)를 포함한다.

선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 인쇄 헤드로부터 배출된 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다.

다른 선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 개방-셀 폼을 포함하는데, 개방 셀 폼은 오리피스 표면과 접촉하는 개방-셀 폼보다 먼저 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 개방-셀을 포함하는데, 이 개방-셀 폼은 오리피스 표면과 개방-셀 폼이 접촉한 이후 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 개방 셀 폼은 인쇄 헤드로부터 배출된 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다.

다른 선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 베스의 적어도 일부분이 오리피스 표면을 둘러싸고, 그 일부분은 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지고, 인쇄 잉크는 대체로 오리피스 표면의 전체와 접촉한다. 다른 선택적인 실시예에서, 베스는 오리피스 표면을 둘러싸는 베스보다 먼저 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 베스는 베스가 오리피스 표면을 둘러싼 이후 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 베스는 인쇄 헤드로부터 배출된 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다.

다른 선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 인ㅅ해 잉크로 반복적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크 리테이너는 인쇄 헤드로부터의 배출 잉크에 의해 반복적으로 채워진다. 다른 선택적인 실시예에서, 인쇄 잉크의 적어도 일부분은 잉크 리테이너로부터 제거되고, 제거된 잉크의 적어도 일부분은 잉크 리테이너를 채우는데 사용할 수 있도록 만들어진다.

이 실시예의 교시에 따르면 부착 장치(attachment mechanism)를 제공하는 단계; 및 야간 표지판의 부착된 구조물에 대응하는, 슬릿과 접촉하게 밀폐 요소를 배치하는 단계를 포함하는 인쇄 방법이 제공되는데, 부착 장치는 마스크의 슬릿과 접촉하는 밀폐 요소를 배치하도록 구성되고, 밀폐 요소는 대체로 슬릿의 전체와 적어도 접촉하고, 이 접촉은 마스크의 하부 측면상에 존재하고, 이 접촉은 슬릿을 지나서 마스크의 하부-측면으로 마스크의 상부-측면상에서의 흐름을 방지하기에 충분한 밀폐 압력을 가지며, 상부-측면은 하부-측면과 마주보는 위치에 있어, 밀폐 요소 및 부착 장치를 야간 표지판(night plate)으로 구성한다.

선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 통기성이 없다. 다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 폐쇄-셀 폼(closed-cell foam)이다. 다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 HT-800이다.

다른 선택적인 실시예에서, 부착 장치는 야간 표지판이 부착 구조물일 경우 밀폐 요소가 과도한 압력으로 슬릿을 접촉시키는 것을 방지하기 위해 야간 표지만의 일부로 구성된 하나 이상의 스토퍼(stopper)를 포함한다.

선택적인 실시예에서, 밀폐 압력은 수용가능한 사전결정된 압력 범위로부터 선택된다. 다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 요소를 슬릿과 접촉하게 배치하는 단계는 부착 장치를 마스크에 연결하는 단계를 포함한다.

선택적인 실시예에서, 밀폐 요소를 슬릿과 접촉하게 배치하는 단계는 부착 장치를 잉크젯 인쇄 헤드와 연결하는 단계를 포함하는데, 여기에서 야간 표지판은 분리된 구조에서 잉크젯 인쇄 헤드로부터 슬릿을 통해 인크의 분출을 허용하도록 구성된다.

다른 선택적인 실시예에서, 야간표지판은 부착된 구조이고 인쇄 헤드 및 마스크의 상부-측면 사이의 간극은 충분한 양의 보호 유체로 채워져 인쇄 헤드의 적어도 오리피스 표면을 잉크로 보호한다.

다른 선택적인 실시예에서, 보호 유체는 인쇄 헤드로부터 배출된다. 다른 선택적인 실시예에서, 상기 간극을 잉크로 채운 후, 잉크는 상기 간극으로부터 제거된다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크는 밀폐 요소가 마스크 슬릿으로 밀폐되는 경우의 적어도 일부의 시간 동안 헤드를 통해 순환된다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크는 먼저 마스크의 상부-측면으로부터 제거되고 다음으로 잉크는 마스크 안으로 배출된다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크는 진공 시스템을 통해 상기 간극으로부터 제거된다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크가 상기 간극으로부터 제거된 후, 야간 표지판은 분리된 구조로 이동한다.

이 실시예의 교시에 따르면 슬릿을 갖는 인쇄 마스크 및 인쇄 헤드; 밀폐 요소; 및 부착 장치를 포함하는 인쇄 시스템이 제공되는데, 인쇄 마스크는 인쇄 헤드와 관련되어 인쇄 도중에 잉크가 인쇄 헤드로부터 슬릿을 통해 기판으로 분출될 수 있도록 구성되며, 여기에서 밀폐 요소 및 부착 장치를 야간 표지판으로 구성하기 위해, 비-인쇄 주기 동안의 제 1 상태에서 부착 장치가 인쇄 헤드와 관련되어 밀폐 요소가 인쇄 마스크의 슬릿과 접촉하도록 배치되고, 실링 요소는 슬릿의 대체로 전체와 적어도 접촉하고, 이 접촉은 마스크의 하부 측면상에 일어나고 이 접촉은 슬릿을 통과하여 마스크의 하부-측면으로 마스크의 상부-측면상의 유체를 방지하기에 충분한 밀폐 압력을 갖고, 상부 측면은 하부 측면과 마주보는 위치에 있으며, 인쇄하는 동안의 제 2 상태에서 부착 장치는 잉크가 인쇄 헤드로부터 기판으로 분출될 수 있도록 밀폐 요소를 배치하도록 구성된다.

선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 통기성이 없다. 다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 비투과성 상부-측 표면을 포함한다. 다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 개방-셀 폼이다. 다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 탄성이 있고 압축할 수 있다. 다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 5mm 두께의 HT-800이다.

다른 선택적인 실시예에서, 이 시스템은 밀폐 요소가 슬릿과 접촉한 경우 밀폐 요소가 과도한 압력으로 슬릿과 접촉하는 것을 방지하기 위해 야간 표지판의 일부로서 구성되는 하나 이상의 스토퍼를 더 포함한다. 다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 압력은 수용가능한 사전결정된 압력 범위로부터 선택된다.

선택적인 실시예에서, 이 시스템은 잉크젯 인쇄 헤드를 더 포함하는데, 분리된 구조에서 야간 표지판은 슬릿을 통한 잉크젯 인쇄 헤드로부터의 잉크 분출을 허용하도록 구성된다.

다른 선택적인 실시예에서, 밀폐 요소는 야간표지판의 부착 구조에 대응하여, 슬릿에 접촉되고, 마스크의 상부-측면과 인쇄 헤드 사이의 간극은 인쇄 헤드의 적어도 오리피스 표면을 잉크로 보호하기 위해 충분한 양의 보호 유체로 채워진다, 다른 선택적인 실시예에서, 보호 유체는 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크이다.

다른 선택적인 실시예에서, 이 시스템은 상기 간극으로부터 잉크를 제거하도록 구성된 잉크 제거 시스템을 포함한다. 다른 선택적인 실시예에서, 잉크 제거 시스템은 진공 시스템이다.

선택적인 실시예에서, 부착 장치는 적어도 두 개의 스프링을 포함하는데, 각각의 스프링의 제 1 단부는 밀폐 요소의 반대편 측면에 장착되고, 부착 부조에서 각각의 스프링의 제 2 단부는 마스크에 연결되고, 스프링은 밀폐 압력으로 대체로 슬릿의 전부와 밀폐 요소의 접촉을 촉진하도록 구성된다. 다른 선택적인 실시예에서, 부착 장치는 부착 장치의 제 1 부분에 장착된 회전 클립; 및 부착 장치의 제 2 부분에 장착된 적어도 하나의 부착 보조-장치를 포함하는데, 제 1 부분 및 제 2 부분은 일폐 요소의 마주보는 측면상에 있고, 부착 구조에서 회전 클립과 부착 보조-장치는 마스크에 연결되고, 분리 구조에서 적어도 하나의 부착 보조-장치는 마스크로부터 분리되고, 부착 보조-장치는 밀폐 압력으로 슬릿의 대체로 전부와 밀폐 요소의 접촉을 촉진하도록 구성된다.

다른 선택적인 실시예에서, 적어도 하나의 부착 보조-장치는 하나의 스프링을 포함한다. 다른 선택적인 실시예에서, 적어도 하나의 부착 보조-장치는 래치(latch)를 포함한다. 다른 선택적인 실시예에서, 분리 구조에서 회전 클립이 마스크에 연결된다. 다른 선택적인 실시예에서, 분리 구조에서 회전 클립이 마스크로부터 분리된다.

이 실시예의 교시에 따르면 슬릿을 구비한 마스크를 포함하는 인크젯 인쇄 헤드; 밀폐 요소; 및 부착 장치를 포함하는 인쇄 시스템이 제공되는데, 밀폐 요소와 부착 장치를 야간 표지판으로 구성하기 위해, 부착 장치는 밀폐 요소가 마스크의 슬릿과 접촉하게 배치되도록 구성되고, 밀폐 요소는 슬릿의 대체로 전부와 적어도 접촉되고, 이 접촉은 마스크의 하부 측면 상에 존재하고, 이 접촉은 마스크의 하부-측면으로 슬릿을 통과하여 마스크의 상부-측면 상에서 유체를 방지하기에 충분한 밀폐 압력을 갖고, 상부 측면은 하부 측면과 마주본다.

이 실시예에 따르는 시스템의 원리 및 동작은 첨부된 도면 및 설명을 참고로 더욱 잘 이해될 수 있을 것이다. 본 발명은 오리피스 판을 청소하고 침점물 축적을 방지함으로써 잉크젯 헤드를 관리하기 위한 인쇄 시스템이다. 이 시스템은 통상적인 기술보다 증가된 효율로, 인쇄 헤드 청소, 특히 오리피스 판 청소 및 비-인쇄 시간 동안 침전물 축적을 방지하는 것을 가능하게 한다.

도1a는 인쇄 미스크를 포함하는 인쇄 시스템의 제 1 도이다.
도1b는 인쇄 미스크를 포함하는 인쇄 시스템의 제 2 도이다.
도1c는 인쇄 미스크를 포함하는 인쇄 시스템의 제 3 도이다.
도1d는 2열 헤드의 도해이다.
도2a는 성형 와이퍼의 측면 개략도이다.
도2b는 하나의 쇼울더를 구비한 성형 와이퍼의 측면 개략도이다.
도2c는 경사진 쇼울더를 구비한 성형 와이퍼의 측면 개략도이다.
도3은 성형 와이퍼의 전면 개략도이다.
도4a는 성형 와이퍼를 구비한 인쇄 시스템의 측면도이다.
도4b는 성형 와이퍼를 구비한 인쇄 시스템의 전면도이다.
도5a는 짧은 슬릿을 구비한 마스크(14)의 도해이다.
도5b는 긴 슬릿을 구비한 마스크의 도해이다.
도6a는 짧은 슬릿을 통한 와이핑(wiping)을 나타낸다.
도6b는 긴 슬릿을 통한 와이핑을 나타낸다.
도7a는 성형 와이퍼에 대한 홀더의 측면도이다.
도7b는 성형 와이퍼에 대한 홀더의 전면도이다.
도8a는 다수의 슬릿을 구비한 마스크의 도해이다.
도8b는 성형 와이퍼에 대한 다수의 홀더의 도해이다.
도9a는 베스를 구비한 성형 와이퍼 홀더의 도해이다.
도9b는 유체 베스 안에 팁을 구비한 성형 와이퍼의 도해이다.
도10은 베스 대체 유닛을 구비한 성형 와이퍼의 도해이다.
도11a는 야간 표지판의 측면도이다.
도11b는 야건 표지판의 상면도이다.
도12는 밀폐 요소를 포함하는 야간 표지판을 구비한 인쇄 시스템을 나타낸다.
도13은 야간 표지판과 보호 유체를 구비한 인쇄 헤드의 도해이다.
도14는 배출 유체를 청소하기 위한 장치의 도해이다.
도15는 스프링 장치 연결 부분의 도해이다.
도16a는 부착 구조에서 회전 클립과 스프링 부착 장치의 도해이다.
도16b는 분리 구조에서 회전 클립과 스프링 부착의 도해이다.
도17a는 부착 구조에서 회전 클립과 래치 부착의 도해이다.
도17b는 분리 구조에서 회전 클립과 스프링 부착의 도해이다.
도18은 잉크 리테이너를 구비한 인쇄 헤드의 도해이다.
도19는 잉크 베스 및 순환 장치(circulating mechanism)를 구비한 잉크 리테이너의 도해이다.
도20은 인쇄 시스템에 대한 제어 서브-시스템의 도해이다.

오리피스 판을 청소하기 위한 획기적인 방법은 성형 와이퍼의 조종 단부의 하나 이상의 쇼울더가 각각 슬릿의 하나 이상의 모서리와 접촉하도록 성형 와이퍼의 팁을 인쇄 마스크의 슬릿 안으로 삽입하는 단계를 포함한다. 성형 와이퍼의 쇼울더는 오리피스 판에 사전결정된 압력을 인가할 수 있게 한다. 성형 와이퍼가 오리피스 묘면과 관련하여 이동하는 경우, 팁은 오리피스 표면을 닦는다.

비-인쇄의 연장된 기간동안 침전물 축적을 방지하기 위한 획기적인 방법은 노즐로부터 휘발성 액체의 증발을 방지하는 보호 액체안에 인쇄 헤드의 적어도 오리피스 판을 배치함으로써 인쇄 헤드 상에 침전물 축적을 방지하는 단계를 포함한다. 인쇄 마스크가 사용되는 경우, 획기적인 "야간 표지판"이 슬릿을 밀폐하기 위해 사용될 수 있다. 야간 표지판을 사용하여 충분하게 슬릿을 밀폐한 후, 인쇄 헤드와 마스크 사이의 간극을 채우기 위해 인쇄 헤드로부터 잉크가 배출되어 적어도 오리피스 판을 배출된 잉크로 덮는다. 배출된 잉크는 보호 유체로서 작용하는데, 오리피스 판으로부터 잉크가 증발하는 것을 방지하여 인쇄 헤드 상에 침전물이 축적되는 것을 방지한다.

비록 이러한 구현이 잉크젯 인쇄 헤드와 관련하여 기재되었지만, 기재된 시스템 및 방법은 노즐 디스펜서와 같은 유체 분사 매커니즘의 유체 분사 노즐에 일반적으로 적용할 수 있다. 이 문서의 맥락에서, 용어 "인쇄액" 및 "잉크"는 일반적으로 인쇄를 위해 사용되는 물질이고, 동종 및 이종 물질을 포함하지만 이에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 인쇄 프로세스를 통해 증착될 금속 입자를 함유한 운반액체이다.

도면을 참고로 살펴보면, 도 1a는 인쇄 마스크를 포함하는 인쇄 시스템의 제 1 도이고, 도 1b는 제 2 도이고, 도 1c는 제 3 도이다. 편의상 도1a, 도1b, 도1c는 각각 임의로 전면도, 측면도, 저면도로 불린다. 도면들은 일정한 축적으로 그려진 것이 아님을 유념하라. 잉크젯 인쇄 헤드(100)는 일반적으로 오리피스 판(102)을 포함한다. 잉크는 인쇄 헤드의 다수의 노즐로부터 인쇄된다. 잉크는 인쇄 기판에 화살표(108) 방향으로 인쇄된다(도시되지 않음). 이 시스템은 이 분야에서 표준 사용이 다수의 노즐을 사용하는 것이지만, 이 시스템은 하나 이상의 노즐에 대해 사용될 수 있다는 것을 유념하라. 편의상, 화살표(108)로 표시된, 인쇄 헤드로부터 인쇄 기판으로의 잉크의 방향은 아래쪽 방향으로 불린다. 일반적으로 오리피스 판(102)의 아래쪽 방향 표면은 오리피스 표면(도시되지 않음)을 제공한다. 오리피스 판이 사용되지 않은 구현에서는, 노즐을 보유한 인쇄 헤드의 표면이 오리피스 표면을 제공한다.

도1a는 일련의 노즐로부터의 잉크의 인쇄 방향을 나타내는 다수의 화살표(108)을 나타내는데 반해, 도1b의 측면도는 단일 열만 보이는 측면도로부터 오직 하나의 화살표만 나타낸다. 이 문서의 맥락에서 마스크라고 불리고, 오리피스 판(102)와 정렬된 인쇄 마스크(104)의 배치 오리피스 판과 인쇄 마스크 사이에 간극(110)을 생성한다. 인쇄 헤드의 노즐은 인쇄 마스크(104) 안의 슬릿과 정렬되어 인쇄할 수 있도록 한다. 슬릿(106)은 바람직하게는 가능한한 좁아서 인쇄 헤드를 최대한 보호할 수 있게 한다. 깊이라고도 불리는, 높이(116)는 일반적으로 인쇄 마스크의 두께와 대체로 동일하다. 이 문서의 맥락에서 "차폐-깊이"라고 불리는 거리(118)는 오리피스 판(102)의 표면과 마스크(104)의 밑바닥 사이의 거리이다.

편의와 정확성을 위해 인쇄 시스셈을 살펴보면, 방향은 일반적으로 "상승/하장" 방향은 Z 축으로 나타내고, "좌/우" 방향은 X 축으로 나타내고 "전/후" 방향은 Y축으로 나타낸다.

도1c는 잉크가 인쇄되는 방향으로부터 인쇄 마스크를 포함하는 인쇄 시스템의 제 3 도이다. 참고로, 슬릿(106)은 슬릿-폭(112) 및 슬릿-길이(114)를 갖는다. 인쇄 방향은 인쇄 산업계에서 스캔 방향으로 알려져 있다. 스캔 방향과 평행한 방향은 "인-스캔(in-scan)"으로, 스캔 방향과 수직인 방향은 "크로스-스캔(cross scan)"으로 알려져 있다. 스캔의 방향으로 얇은 선의 인쇄를 실행하는 경우, 인쇄 헤드는 일련의 노즐(120)에 의해 표시되는 바와 같이, 슬릿당 단일 렬의 노즐을 갖는다. 노즐 렬(120)과 슬릿(106)은 모두 인-스캔 방향으로 정렬된다. 스캔 방향은 인쇄가 그 위에서 이뤄지는 기판에 대해 인쇄 헤드가 이동하는 방향으로, X-축으로 표시된다. 이 문서의 문맥에서 명확성을 위해, 슬릿(106)의 측면은 슬릿의 가장 오른쪽 및 가장 왼쪽(X-축 상에서)으로 규정되며, 일반적으로 전/후(Y축 방향)로 이어진다. 슬릿(106)의 "모서리"는 슬릿의 가장 앞쪽 및 뒤쪽(Y 축 상에서)으로 규정되며, 일반적으로 좌/우(X-축 방향)로 이어진다.

도1d를 살펴보면, 2열-헤드의 도해가 표시된다. 인쇄 헤드는, 오리피스 헤드, 마스크 및 다른 인쇄 시스템 부품의 대응하는 차이를 이용하여 일반적인 단일 렬 헤드의 부품에서 당업자에게는 명확한, 헤드 또는 슬릿 당 단일 렬 이상의 노즐을 포함할 수 있다. 본 발명의 적용가능성을 제한하지 않고, 크로스-스캔 방향으로 이열 헤드를 살펴본다. 인쇄 헤드의 다수의 노즐은 이 설명을 명확하게 하기 위해 임의로 지시된 지시어 제 1 열 및 제 2 열을 이용하여, 제 1 열 노즐(122) 및 제 2 열 노즐(124)로 표시된다. 이 예의 2 열 헤드에, 노즐 열 및 대응하는 슬릿은 크로스-스캔 방향을 향한다. 이 문서에서 명확성을 위해, 이 설명은 일반적으로 단일 렬의 노즐이 인-스캔(X-축)이라고 말한다. 이 설명에 기반하여, 당업자는 본 발명을 단일 렬, 2열, 및 복수 열 헤드를 포함하지만, 이에 한정되지는 않는 다양한 인쇄 헤드에 적용할 수 있다.

인쇄 마스크(104)는 오리피스 판(102)과 정렬된다. 이 문서의 문맥에서, 마스크는 오리피스 판(102)을 부분적으로 덮고 노즐로부터 인쇄 영역까지의 인쇄를 촉진하는 개구를 갖는 판을 말한다. 오리피스 판(102)은 일반적으로 인쇄 프로세스 동안 사용되어 노즐로부터의 인쇄를 촉진하고 인쇄 헤드(100) 및 노즐에 대한 보호를 제공한다. 일반적인 동작에서 인쇄 마스크(104)의 슬릿(106)은 충분히 넓고 인쇄 노즐과 충분히 정확하게 배열되어 인쇄를 촉진한다. 잉크젯 인쇄 헤드(100)의 경우, 인쇄는 노즐로부터 잉크 방울을 분사하는 것을 포함한다(도시되지 않음). 분사는 적당한 압력을 적당한 기간동안 인쇄 헤드에 인가하여 인쇄 헤드가 노즐로부터 인쇄 액체(잉크) 방울을 오리피스 판(102)의 개구(도시되지 않음)를 통해 간극(110)을 가로질러 인쇄 마스크(104)의 슬릿(106)을 따라 인쇄 기판(도시되지 않음)으로 방출하게 하는 것을 포함한다. 제한이 없는 예에서, 20㎛ 폭의 노즐이 100 및 300㎛ 사이의 슬릿 폭(112)를 갖는 슬릿을 통해 인쇄한다.

비슷하게, 마스크(104)는 필수적인 기계 강도 및 열 전도성을 제공하기 위해 충분한 두께(치수 116)을 가질 필요가 있으며, 바람직하게는 노즐이 인쇄 표면에 가능한 한 가깝도록 가능한 한 얇을 필요가 있다.

도1 내지 도10의 제 1 실시예에 대한 상세한 설명

성형 와이퍼의 측면 개략도인 도2a를 살펴보면, 인쇄 시스템은 팁-폭(204) 및 팁-높이(206)을 갖는 팁(202)을 포함하는 성형 와이퍼(200)를 포함한다. 또한 성형 와이퍼(200)는 팁-폭(204)보다 큰 측면-폭(214)을 갖는 측면(212)을 구비한 조종 단부(210)를 포함한다. 측면(212) 상에 하나 이상의 쇼울더(216, 도2a에서 216A 및 216B로)도시됨)를 구비한 조종 단부를 구성하기 위해 팁(202)이 측면(212)에 배치된다. 하나 이상의 쇼울더의 쇼울더-폭(218)은 측면-폭과 팁-폭 사이의 차이(도2a에서 218A 및 218B의 합으로 도시됨)이다. 팁-폭(204)은 팁(202)이 슬릿을 통과할 수 있도록 충분히 좁고, 마스크를 마주보는 오리피스 표면의 전체 폭이 닦이는 것을 보장하도록 충분히 넓게 구성된다. 팁-높이(206)는 닦는 동안 팁이 사전결정된 압력을 오리피스 표면에 인가하도록 구성된다. 닦는 동안 오리피스 표면과 접촉하고 침전물 제거를 수행하는 팁(202) 부분은, 당업자에게는 자명한 바와 같이, 조종 단부에서 보면, 팁(202)의 말단부(208)이다. 도2a-도2c는 측면도이고, 따라서 팁-폭(204)은 Y-축의 전/후 방향이고, 팁-높이(206)는 Z-축의 상/하 방향이라는 것을 유념하라.

두 개의 쇼울더(216A, 216B)를 구비한 조종 단부(210)를 구성하기 위해 측면(212)상에 팁(202)가 배치되는데, 두 개의 쇼울더 각각은 팁(202)의 마주보는 측면상에 있다. 쇼울더(216A)의 쇼울더-폭(218A)은 쇼울더(216B)의 쇼울더-폭(218B)과 대체로 동일하다.

조종 단부의 형태는 응용에 따라 변화하는데, 정육면체, 직육면체, 원기둥을 포함하지만 이에 한정되지는 않는다. 조종 단부가 팁의 높이 방향과 평행인 축을 갖는 원통형인 경우, 조종 단부의 측면은 원통형의 꼭대기면(또는 바닥면)이고 측면-폭은 원통형의 직경이다.

하나의 쇼울더를 구비한 성형 와이퍼의 측면 개략도인 도2b를 살펴보면, 인쇄 시스템은 하나의 쇼울더(216C)를 구비한 조종 단부(210)를 구성하기 위해 측면(212)상에 팁(202)이 배치된 성형 와이퍼(200)를 포함한다.

경사진 쇼울더를 구비한 성형 와이퍼의 측면 개략도인 도2c를 살펴보면, 인쇄 시스템은 쇼울더(216D, 216E)가 팁(202)에 수직이 아닌 성형 와이퍼(200)를 포함한다. 사용에 따라, 경사진 쇼울더는 작동 중 성형 와이퍼 물질의 압축으로 인해, 또는 성형 와이퍼의 제조 공정으로 인해 인쇄 시스템, 특히 마스크 및/또는 슬릿의 물리적 특성이 좋아질 수 있다. 쇼울더가 팁에 대해 수직이 아닌 경우, 쇼울더 폭은 Y-축 방향으로 측정되고, 팁-높이의 Z-축 방향에 수직이다. 팁의 높이를 측정하기 위한 참조선이 어느정도 임의의 것이며 성형 와이퍼의 다른 위치는 성형 와이퍼가 사용되는 특정 사용, 및 성형 와이퍼가 제조되는 물질의 특정 성질에 따라 목적을 측정하기 위해 사용될 수 있다는 점을 유념하라.

성형 와이퍼의 전면 개략도인 도3을 살펴보면, 팁(202)의 팁-높이(220)는 대체로 측면-폭(214)와 동일하다. 도3은 전면도이고, 따라서 팁-길이(220)는 X-축의 좌/우 방향에 있고, 팁-높이(206)는 Z-축의 상/하 방향에 있다는 것을 유념하라. 팁-길이(220)는 슬릿과 성형 와이퍼 사이즈의 실태에 의해 결정된 최소 및 최대 사이즈로 임의의 사이즈일 수 있다. 바람직하게는, 팁-길이(220)는 측면-폭(214)과 대체로 동일하다. 성형 와이퍼(200)가 사용되는 특정 사용에 따라, 팁-길이(220)는 측면-폭(214) 보다 짤거나, 대체로 동일하거나, 더 길 수 있다.

성형 와이퍼를 구비한 인쇄 시스템의 측면도인 도4a를 살펴보면, 성형 와이퍼(200)는 마스크(104)의 슬릿(106) 안으로 삽입된다. 슬릿(106)은 측면에서 보이지 않는데, 성형 와이퍼의 팁은 슬릿(도1b에 언급됨, 슬릿(106))의 전체 폭을 차지한다. 이 경우, 팁-폭은 대체로 슬릿-폭과 동일하다. 대표적으로 하나 이상의 쇼울더(216)가 슬릿(106)의 적어도 하나의 모서리와 접촉한다. 팁(202)은 슬릿(106)을 따라 연장된다. 팁(202)의 말단부(208)는 오리피스 판(102)에 의해 제공된 오리피스 표면과 접촉한다.

성형 와이퍼를 구비한 인쇄 시스템의 전면도인 도4b를 살펴보면, 성형 와이퍼(200)는 슬릿(106) 안으로 삽입되고 팁(202)의 말단부(208)는 오리피스 판(102)에 의해 제공된 오리피스 표면과 접촉한다. 성형 와이퍼의 쇼울더가 도4b에 보이지는 않지만, 쇼울더는 전/후(Y-축) 방향에 있다는 것을 유념하라. 쇼울더의 영역은 성형 와이퍼(200) 상에 점선으로 표시되고, 어디에서 팁이 조종 단부와 만나는지를 나타낸다.

이 실시예의 중요한 특성은 성형 와이퍼의 하나 이상의 쇼울더가 마스크와 접촉하고, 특히 슬릿의 하나 이상의 모서리와 각각 접촉하는 경우, 사전 결정된 압력을 팁이 오리피스 표면에 인가하는 성형 와이퍼의 구성이다. 이 특성은 과도 삽입을 방지하는 조종 단부의 쇼울더를 사용하여 마스크에 대한 성형 와이퍼 배치를 가능하게 한다. 달리 말해, 쇼울더는 성형 와이퍼의 팁이 슬릿 안으로 너무 멀리 밀어넣어져, 오리피스 표면에 팁에 의해 인가되는 사전 결정된 압력을 초과하는 압력을 초래한다. 전술된 바와 같이, 과도한 전압을 막는 것은 오리피스 표면의 평활도 및 비습윤성을 보존하는데 유리하며, 오리피스 표면의 비습윤 코팅을 보호한다. 불충분한 압력이 오리피스 표면을 불균일하고 부적합하게 닦기 때문에, 쇼울더는 팁이 오리피스 표면에 충분한 압력을 인가할 수 있게 한다. 달리 말해, 너무 작은 압력 또는 사전 결정된 압력 보다 작은 압력은 오리피스 표면을 확실하게 청소하도록 닦을 수 있게 한다.

이 설명에서 명확함을 위해, 오리피스 표면에 사전결정된 압력을 인가하는 팁에 관해 언급할 경우, 팁은 단수형으로 압력을 인가하는 것으로 불린다. 팁이 하나의 와이핑으로부터 다른 와이핑으로 변할 수 있는 압력을 인가할 수 있으며, 각각의 와이핑의 압력은 수용가능한 사전 결정된 압력 범위 내에 있다는 것을 당업자는 깨달을 것이다. 선호하는 최소 압력은 오리피스 표면으로부터 침전물을 제거하는데 충분하다. 선호하는 최대 압력은 팁이 오리피스 표면에 손상을 초래할 수 있는 압력 이하이다. 오리피스 표면과 접촉하는 경우 팁에 의해 인가된 정적 압력은 닦는(오리피스 표면과 접촉하는 동안 팁의 동적 움직임) 동안의 압력과 다를 수 있다. 팁과 오리피스 표면 사이의 정적 및 동적 접촉 사이의 압력 차이는 침전물을 제거하고 오리피스 표면에 대한 손상을 방지할 수 있는 압력의 사전결정된 범위 내에 있다. 성형 와이퍼의 독창적인 형태 및 사용은 팁에 의해 오리피스 표면에 인가되는 사전결정된 압력을 초래하는 팁을 제공한다.

대표적인 슬릿-폭(112)은 1㎜이다. 2㎜와 같이, 더 큰 슬릿-폭도 가능하다. 슬릿 구멍이 더 클 수록, 차폐 효과가 더 작다는 것을 유념하라. 0.3㎜ 및 0.1㎜와 같이, 더 작은 값의 슬릿-폭도 가능하다. 가능한 최소 값은 노즐 직경에 슬릿 직진도의 불확실성 및 슬릿 구멍을 통한 분출을 방해하지 않고 슬릿에 노즐 어레이를 배열하는 능력을 더한 것과 동일하다. 슬릿 구멍의 최소 값에 대한 현실적인 제한은 오리피스 표면을 가끔 닦는데(또는 문질러 씻는데) 필요하다. 주기적으로 닦기 위해서, 성형 와이퍼는 슬릿을 통해 오리피스를 닦아야 하는데, 이런 이유로 성형 와이퍼 폭의 팁의 폭은 슬릿 폭과 비슷해야 한다. 0.5㎜는 이러한 성형 와이퍼의 팁의 현실적인 최소 폭이다. 팁-폭(204)에 대한 선호하는 구현은 슬릿-폭과 동일해진다. 생산 분야는 늘 허용 오차의 기준을 요구하기 때문에, 팁-폭에 대한 가능한 기준은 슬릿-폭에 슬릿-폭의 10%를 더한 것이고, 팁-폭 = 슬릿-폭 + (0 내지 10%)이다. 이 기준은 와이퍼가 구부리기 쉬우며, 성형 와이퍼의 팁이 성형 와이퍼의 팁 폭보다 좁은 슬릿안에 끼울 수 있다는 사실을 반영한다. 이 가능한 기준은 슬릿 뒤의 오리피스 판의 전체 폭을 닦는 것을 보장하려는 희망을 반영한다. 비제한적인 예에서, 1.1㎜ 팁-폭은 1.0㎜ 슬릿을 닦기 위해 사용된다.

대표적으로, 슬릿의 모서리로부터 노즐(오리피스)의 이격 거리는 120㎛ ± 30㎛이다. 슬릿의 모서리로부터 노즐의 상대적으로 작은 이격때문에, 슬릿 상의 전체 오리피스 표면을 닦는 것을 보장하는 것이 중요하고, 그러므로 팁-폭 및 팁-높이가 중요하며, 결정적이지 않을 경우, 성형 와이퍼의 성공적인 구현을 위한 특성이다.

오리피스 직경을 갖는 하나 이상의 오리피스를 오리피스 표면이 갖는 경우, 바말직하게는 팁-폭(204)은 적어도 오리피스-직경만큼 넓어서, 성형 와이퍼의 팁의 한번 통과로 닦일 수 있게 한다.

차폐-깊이(118), 오리피스 판(102)의 표면(오리피스 표면)과 마스크(104)의 바닥면 사이의 거리는 대표적으로 0.4㎜ 더하기 또는 빼기 0.6㎜이다(차폐-깊이 = 0.4 ± 0.6㎜). 팁-높이(206)는 바람직하게는 차폐-깊이 더하기 제 1 높이의 20% 내지 30%이다(팁-높이 = 차폐-깊이 + 20% 내지 30%).

바람직하게는, 성형 와이퍼의 팁은 개방-셀 폼과 같은 개방-셀 물질로 구성된다. 개방-샐 물질은 액체를 흡수하여, 닦기 전에 팁이 세척액을 흡수할 수 있게 한다. 닦는 동안, 개방-셀로부터 세척액이 오리피스 표면에 인출되어 오리피스 표면상의 침전물 축적을 늦추거나 침전물 축적으로 구속한다. 닦는 동안, 개방-셀 폼은 모세관 작용을 통해 잉크와 침전물 축적을 팁의 개방-셀 안으로 유도하여, 오리피스 표면으로부터 침전물 축적을 제거할 수 있도록 한다.

전술된 바와 같이, 오리피스 판은 비-습윤 코팅으로 자주 코팅된다. 비-습윤 코팅은 부적절한 와이핑으로 쉽게 긁힐 수 있다. 따라서, 성형 와이퍼의 팁은 비-습윤 코팅에 대한 긁힘, 제거, 및 다른 손상을 방지하기 위해 충분히 부드러워야 한다.

성형 와이퍼의 팁에 대해 사용되는 개방-셀 폼의 바람직한 특성은

오리피스 판의 섬세한 비-습윤 코팅을 손상하지 않고(화학적으로 및 물리적으로),

공격적인 분산제에 대해 불활성이고,

헤드의 온도(40-60℃)를 견디고,

유연성을 유지하고,

균일한 작은 개방-셀로 제작될 수 있고,

절단(슬릿의 모서리는 일반적으로 날카롭다)에 강하고,

사용 수명을 위해 사이즈를 유지하고,

와이핑하는 동안 형태를 대체로 유지하지만, 반드시 이에 한정되지는 않는다.

성형 와이퍼의 팁을 위한 바람직한 물질은 폴리올레핀(polyolefin)이다.

쉽게 제작하기 위해, 바람직하게는, 전체 성형 와이퍼는 동일한 물질로 구성되고, 바람직하게는 전술한 바와 같이 개방-셀 폼으로 구성된다. 다른 구성 기술도 가능한데, 조종 단부 및 팁이 상이한 물질로 구성되고 완전히 성형 와이퍼를 구성하도록 결합하는 두 부분 성형 와이퍼를 포함한다. 개방-셀 폼이 아닌 물질을 팁에 대해 사용하는 것도 가능하다. 이 설명에 기반하여, 당업자는 특정 응용을 위해 성형 와이퍼를 얼마나 많은 세그먼트와 어떤 물질로 구성할지를 선택할 수 있을 것이다.

다른 실시예에서, 팁-폭(204)은 슬릿-폭(112)보다 작을 수 있다. 이 경우, 성형 와이퍼의 팁의 더욱 정확한 위치, 제어 및/또는 이동이 와이핑을 수행하기 위해 필요하다. 비-제한적인 예에서, 첫번째 와이핑 동안, 성형 와이퍼의 팁은 슬릿의 첫번째 모서리와 접촉하고, 두번째 와이핑 동안 팁은 슬릿의 두번째 모서리롸 접촉한다. 팁의 폭은 슬릿의 폭보다 작기 때문에, 슬릿의 모든 모서리가 닦였다는 것을 보장하기 위해서는 적어도 두번의 와이핑이 필요하다. 이 경우, 한번의 와이핑은 X-축 방향으로, 요컨대 슬릿의 다른 측면 방향으로 슬릿의 일 측면으로부터 슬릿을 따라서. 성형 와이퍼의 한 번의 이동 또는 통과이다. 단일 와이퍼가 여러 번 사용되거나, 다수의 와이퍼가 한 번 이상 사용될 수 있다. 와이퍼의 팁의 방향 및/또는 각도 변경은 닦길 원하는 모든 영역을 닦기 위한 복수의 닦기 동안 사용될 수 있고 또는 닦기 위해 팁의 상이한 부분을 사용할 수 있다. 당업자에게 자명한 바와 같이, 팁-폭이 슬릿-폭보다 작은 경우, 슬릿에 연관된 노즐 부분은 닦기 위한 성형 와이퍼의 배치 및 이동에 대해 고려될 필요가 있다.

짧은 슬릿(500)을 구비한 마스크(104)의 도해인 도5a 및 긴 슬릿(510)을 구비한 마스크(104)의 도해인 도5b를 살펴보면, 짧은 슬릿(500) 및 긴 슬릿(510)은 선택적으로 슬릿(106)의 적어도 하나의 대응 측면에 하나 이상의 넓은 구역(502)을 포함한다. 이 넓은 구역(502)은 성형 와이퍼의 팁을 수용하고 팁을 슬릿(106) 안으로 유도하기 위해 구성된다. 짧은 슬릿(500)의 경우, 슬릿(106)의 폭은 마스크의 폭보다 작은 하나 이상의 넓은 구역(502)의 폭을 포함한다. 긴 슬릿(510)의 경우, 슬릿(106)의 폭은 마스크의 폭과 대체로 동일한 하나 이상의 넓은 구역(502)의 폭을 포함한다. 긴 슬릿(510)의 특성은 슬릿의 측마스크의 측면에 개방되어 팁이 마스크의 측면으로부터 오리피스 표면의 평면안에 슬릿이 들어갈 수 있도록 한다는 것이다. 긴 슬릿 및 짧은 슬릿 모두는 슬릿의 일 축면상에 하나의 넓은 구역을 가지거나 하나 이상의 넓은 구역을 가질 수 있는데, 각각의 넓은 구역은 슬릿의 분리된 측면에 있다. 바람직하게는, 슬릿의 슬릿-길이는 오리피스 판의 해당렬의 노즐 길이보다 길어서 슬릿 상의 오리피스 표면을 처음 닦고 마지막 닦는 경우 성형 와이퍼를 삽입하고 제거하기 위한 공간(room)을 허용한다. 이러한 설명에 기반하여, 당업자는 성형 와이퍼의 사이즈, 닦기 전후에 오리피스 표면으로의 팁의 접촉, 및 성형 와이퍼의 삽입 및 제거를 위한 공간을 허용하기 위한 와이퍼의 이동에 기반하여 슬릿-길이를 정할 수 있을 것이다.

짧은 슬릿을 통한 와이핑을 나타내는 도6a 및 긴 슬릿을 통한 와이핑을 나타내는 도6b를 살펴보면, 인쇄 방법은 성형 와이퍼(200)의 조종 단부의 하나 이상의 쇼울더가 슬릿(106)의 하나 이상의 모서리와 각각 접촉하도록, 마스크(104)의 슬릿(106) 안으로 성형 와이퍼(200)의 팁을 삽입하는 단계를 포함한다. 쇼울더가 슬릿의 모서리와 접촉하는 경우, 팁은 사전결정된 압력을 오리피스 판(102)의 오리피스 표면에 인가한다. 오리피스 표면을 팁이 닦도록, 성형 와이퍼는 오리피스 표면에 대해 이동한다. 일반적으로, 인쇄 헤드는 정적이고, 성형 와이퍼는 인쇄 헤드를 가로질러 이동한다. 성형 와이퍼는 정적이고 인쇄 헤드는 와이핑을 수행하기 위해 이동하기 때문에, 와이핑은 성형 와이퍼 및 오리피스 표면 사이의 상대적인 이동이다.

짧은 슬릿을 통한 와이핑의 비제한적인 예를 나타내는 도6a를 살펴보면, X축 방향으로 600으로 표시된 인쇄 헤드(100) 아래의 위치로 이동한 성형 와이퍼를 포함한다. 성형 와이퍼(200)가 슬릿 아래의 소정의 위치에 있으면, 성형 와이퍼는 성형 와이퍼의 쇼울더가 슬릿의 모서리에 접촉하게 될 때까지 이동하여, 슬릿의 바닥면으로부터 슬릿 안으로 팁을 삽입하고, 팁은 사전 결정된 압력으로 오리피스 표면과 접촉하게 된다(Z-축 방향으로 602로 표시됨). 팁이 인쇄 마스크의 바닥 표면으로 직각으로 이동하다가 팁이 슬릿안으로 삽입된다. 성형 와이퍼의 쇼울더를 슬릿의 모서리에 접촉하도록 유지하는 동안, 팁은 사전 결정된 압력으로 오리피스 판과 접촉되어 있다. 팁이 오리피스 표면을 닦도록 성형 와이퍼가 오리피스 표면에 대해 X축 방향으로 604로 표시된 바와 같이 이동한다. 한번의 통과가 완료된 후, 오리피스 표면은 닦여있는데, Z축 방향으로 606으로 표시된 바와 같이 성형 와이퍼는 인쇄 헤드로부터 멀리 이동하여 슬릿으로부터 제거된다. 다음으로 성형 와이퍼는 인쇄 헤드(100)로부터 X-축 방향으로 608로 표시된 바와 같이 이동한다.

긴 슬릿을 통한 와이핑의 비-제한적인 예를 나타내는 도6b를 살펴보면, 성형 와이퍼(200)는 X 축 방향으로 620으로 표시된 바와 같이 인쇄 헤드(100)와 분리된 위치로 이동한다. 긴 슬릿을 통한 와이핑은 짧은 슬릿을 통한 와이핑과 유사하지만, 성형 와이퍼의 팁은 상/하 방향(Z 축)으로의 이동이 필요없이 슬릿의 측면을 통해 들어갈 수 있다. 성형 와이퍼의 팁은 슬릿의 측면을 통해 슬릿(106)으로 들어간다. 팁이 슬릿의 방향으로(X 축 방향으로) 이동하다가 팁이 슬릿안으로 삽입된다. 성형 와이퍼의 쇼울더는 슬릿의 모서리에 접촉되어, 팁을 슬릿 안으로 삽입하고, 사전결정된 압력으로 오리피스 표면과 팁이 접촉된다. 사전 결정된 압력으로 팁이 오리피스 판과의 접촉을 유지하는 동안, 팁이 오리피스 표면을 닦도록 성형 와이퍼는 X축 방향으로 622로 표시된 바와 같이 오리피스 표면에 대해 이동한다. 한번의 통과가 완료된 후, 오리피스 표면은 닦여있는데, 팁은 슬릿의 측면을 통해 슬릿으로부터 제거되고, X축 방향으로 624로 표시된 바와 같이, 팁은 성형 와이퍼 아래로부터 제거된다. 마스크에 대해 성형 와이퍼의 쇼울더를 누르기 위해, 경사진 바닥 표면을 구비한 마스크를 설계함으로써 성형 와이퍼를 Z-축 방향으로 이동할 필요를 없앨 수 있다.

바람직하게는, 닦는 동안에 팁도 슬릿의 모서리와 접촉함으로써, 닦는 동안 슬릿 모서리를 청소하고, 슬릿 뒤에 있는 오리피스 표면의 완벽한 청소를 확인하는 것을 모두 할 수 있다.

와이핑은 오리피스 표면으로부터 팁을 제거하거나 제거하지 않고, 동일한 방향 또는 방향 교대로 한번 이상의 통과를 포함한다. 교대로 오리피스 표면의 일부가 닦일 수 있다. 비-제한적인 예에서, 노즐의 일부분만 사용되고 사용되는 노즐에 대응하는 오리피스 표면의 일부분만 닦인다. 다른 비-제한적인 예에서, 와이핑은 오리피스 표면의 일부분으로부터 침전물을 제거하는데 실패할 수도 있으며, 오리피스 표면의 이부분의 반복된 좌우 와이핑이 오리피스 표면의 이 부분으로부터 침전물을 긁어내는데 사용될 수 있다.

슬릿의 모서리에 대해 누르는 쇼울더를 사용하지 않고 닦기 위해 성형 와이퍼가 사용될 수 있다는 점을 유념해라. 성형 와이퍼의 치수, 특히 조종 단부의 높이 및 팁의 높이가 알려져있으므로, 슬릿의 모서리와 접촉될 조종 단부의 쇼울더에 대한 필요 없이, 조종 단부는 팁이 사전결정된 압력을 오리피스 표면에 인가하도록, 슬릿 및/또는 오리피스 표면에 관련되어 조종될 수 있다. 특정하게 설계된 쇼울더가 없는 와이퍼를 마스크 슬릿의 모서리에 접촉하게 사용하는 것은 와이핑을 위해 반드시 처리해야할 추가적인 어려움을 제공한다.

바람직한 실시예에서, 슬릿은 도5a 및 도b를 참조로 기재된 바와 같이 넓은 구역(502)을 포함하고, 팁을 삽입하는 것은 슬릿의 측면의 넓은 구역을 통해 팁을 삽입하는 것을 포함한다. 넓은 구역은 성형 와이퍼의 팁을 수용하고 슬릿 안으로 팁을 유도하도록 구성된다. 슬릿이 슬릿의 제 1 측면 상에 넓은 구역을 갖는 경우, 팁은 일반적으로 넓은 구역을 통해 삽입되고 와이핑은 슬릿의 제 1 측면에서 반대 측면으로 이뤄진다. 슬릿이 슬릿의 양 측면상에 넓은 구역을 갖는 경우, 팁은 양 측면 모두를 통해 삽입될 수 있고 삽입되는 측면으로부터 슬릿의 반대 측면으로 와이핑된다.

성형 와이퍼에 대한 홀더의 측면도인 도7a 및 성형 와이퍼의 홀더의 전면도인 도7b를 살펴보면, 홀더(700)의 제 1 실시예가 도시된다. 홀더(700)는 성형 와이퍼(200)의 조종 단부(210)을 적어도 부분적으로 둘러싼다. 팁(202)은 적어도 홀더700)로부터 연장된다. 홀더(700)의 이동은 조종 단부(210)를 통해 성형 와이퍼를 배치하는데, 특히 팁(202)이 슬릿 안으로 삽입되게 하는데 사용될 수 있다.

다수의 슬릿을 구비한 마스크의 도해인 도8a를 살펴보면, 마스크(800)는 단일 슬릿(106)을 구비한 예시적인 마스크(104, 도1a-도1d를 다시 살펴볼 것)에 비해, 다수의 슬릿(802)를 가질 수 있다. 다수의 슬릿(800)을 구비한 마스크의 비제한적인 예는 6개의 슬릿을 갖는다. 각각의 슬릿은 슬릿(106)의 각 측면상에 선택적인 넓은 구역(502)를 갖는 것으로 표시된다. 대표적으로, 다수의 슬릿(802)는 Y-축 방향으로 정렬된다. 스캐닝과 와이핑은 X축 방향인 슬릿-길이의 방향으로 이뤄진다.

성형 와이퍼에 대한 다수의 홀더(810)의 도해인 도8b를 살펴보면, 6개의 성형 와이퍼(200)가 하나의 다중-홀더(810)에 고정된다. 하나 이상의 성형 와이퍼에 대한 다중-홀더의 비제한적인 예는 다수의 슬릿(800)을 구비한 예시적인 마스크로 사용될 수 있는데, 다중 홀더는 다중 홀더(810)의 각각의 성형 와이퍼(200)가 다수의 슬릿(802)의 슬릿(106) 중 하나와 정렬되도록 설계된다. 다중 홀더(810)는 다수의 슬릿(802) 및 각각의 성형 와이퍼의 팁(202)의 Z 축 방향으로의 정렬에 대응하여 Y축 방향으로 정렬된 성형 와이퍼와 함께 표시된다는 것을 유념하라.

홀더의 선택적인 사용은 닦기전, 닦는 동안, 닦은 후 및 닦지 않는 주기 동안에 성형 와이퍼를 배치하는 것을 도울 수 있다. 홀더는 조종을 수행하기 위해 요구되는 장치의 큰 사이즈에 비해 상대적으로 작은 성형 와이퍼를 조종하기 위한 장치를 제공할 수 있다. 홀더는 각각의 성형 와이퍼를 개별적으로 교체, 배치 및 점검하기 위해 갖는 것에 비해 더욱 쉽고 빠르게 교체하기 위해 교체가능 유닛을 제공할 수 있다.

베스를 구비한 성형 와이퍼 홀더의 도해인 도9a를 살펴보면, 닦지 않는 주기 동안, 유체(902)를 갖는 베스(900)가 성형 와이퍼(200)에 대해 제공된다. 닦지 않는 주기는 인쇄 헤드가 정상적으로 분사 잉크를 사용하고 기판에 인쇄하는 경우의 시간이다. 닦지 않는 주기동안, 성형 와이퍼 및 홀더와 같은 관련 부품은 인쇄 헤드 아래의 영역 즉 인쇄 헤드와 기판 사이의 영역으로부터 제거된다.

유체 베스안에 팁을 구비한 성형 와이퍼의 도해인 도9b를 살펴보면, 홀더(700)는 회전하여 성형 와이퍼(200)의 적어도 팁(도시되지 않음)이 베스(900)의 유체(902)에 잠기게 한다. 이러한 비제한적인 예에서, 홀더는 Y축 둘레로 회전하여 성형 와이퍼의 팁을 베스(900)의 유체(902) 안에 잠기게 한다.

바람직하게는, 닦지 않는 주기 동안 성형 와이퍼의 적어도 팁은 유체(902)에 저장된다. 유체의 선택은 세척액 및 인쇄액(잉크)을 포함하지만 이에 한정되지는 않는다. 유체는 팁이 건조되는 것을 방지하기 위해 선택되는데, 전술된 바와 같이 팁의 건조는 오리피스 표면이 긁히거나 다른 손상의 기회가 늘어나도록 한다. 유체는 팁으로부터 잉크를 제거하거나(유체가 세척액인 경우) 촉촉한 팁의 잉크를 적어도 유지(유체가 잉크인 경우)할 수 있게 한다. 와이핑 동안 제거된 침전물이 팁상에 존재하는 경우, 유체안에 잠기는 것은 침전물이 성형 와이퍼의 팁으로부터 분리되는 것을 촉진한다. 축적된 침전물의 제거 및 팁으로부터의 연마재는 성형 와이퍼가 와이핑을 위해 여러번 사용될 수 있도록 한다.

베스 교체 유닛(1000)을 구비한 성형 와이퍼의 도해인 도10을 살펴보면, 유체(902)를 내포한 베스(900)를 구비한 대응 홀더(들)(700) 안에 하나 이상의 성형 와이퍼(200)를 포함한다. 현재 도면의 비제한적인 예와 같이, 와이핑은 X-축 (-) 방향으로 1002로 표시된다. 교체 유닛(1000)은 각각의 성형 와이퍼를 개별적으로 교체, 배치 및 점검하고 베스 안에 홀더 설치 및/또는 베스의 유체를 교체하기 위해 갖는 것에 비해, 성형 와이퍼의 더욱 쉽고 빠른 교체를 위한 교체 유닛을 제공하는 별개 시스템 부품일 수 있다. 당업자는 베스용 유체로 성형 와이퍼용 물질 및 특정 응용에 대해 성형 와이퍼를 닦는 요구의 수명을 선택하고 부합시킬 수 있을 것이다. 바람직하게는 성형 와이퍼의 수명은 베스의 유체의 양(및 따라서 베스의 사이즈) 및 유형에 부합되는데 전체 교체 유닛(1000)의 경제적인 교체가 가능하게 한다.

다른 구현에서, 베스는 성형 와이퍼에 대해 개별 부품으로 제공될 수 있다. 이 경우, 닦지 않는 주기 동안, 성형 와이퍼는 베스로 이동하고 성형 와이퍼의 적어도 팁은 베스의 유체 안에 잠긴다. 비-제한적인 예에서, 성형 와이퍼는 홀더 안에 장착되고, 홀더는 이동하여 성형 와이퍼가 베스로 이동하게 한다. 다음으로 홀더가 이동 및/또는 회전하여 성형 와이퍼의 팁이 베스의 유체 안에 잠긴다.

이 유체는 베스와 개별적으로 베스에 제공된다. 비-제한적인 예에서, 베스는 유체를 내포하는 일회용(disposable) 컨테이너이다. 새로운 베스가 필요할 경우, 베스가 개방되고 유체가 사용된다. 더 이상 유체가 사용되지 않을 경우, 예를 들어 품질, 청결성 및/또는 유효성이 원하는 수준보다 낮은 경우, 베스 및 유체는 폐기되거나 바람직하게는 재활용될 수 있다. 다른 비-제한적인 실시예에서, 베스는 다용도 컨테이너이다. 베스 안의 오래된 유체가 더 이상 사용할 수 없을 경우, 오래된 유체는 베스로부터 제거되고(폐기 또는 재활용), 선택적으로 베스 컨테이너는 세척되고 새로운 유체로 다시 채워진다.

도11 내지 도20의 제 2 실시예에 대한 상세한 설명

오리피스 판을 청소하기 위한 전술된 실시예가 유용하기는 하지만, 비-인쇄시간 동안 침전물 축적을 통상적인 기술에 비해 잉크젯 헤드 유지를 위해 증가한 유효성으로 방지하기 위해, 추가적인 기술이 결합 또는 독립적으로 사용될 수 있다. 전술된 바와 같이, 연장된 비-인쇄 기간 동안, 노즐에 남아있는 잉크의 유체 부분은 침전물을 남기고 증바할 수 있다. 이 문서의 문맥에서, 용어 "연장된 비-인쇄 기간" 및 "긴 시간"은 일반적으로 인쇄 헤드상의 잔류 잉크를 건조하여 인쇄 헤드 상에 침전물이 축적되기에 충분한 양의 시간을 말하기 위해 번갈아 사용된다.

연장된 비-인쇄 기간동안 침전물 축적을 방지하기 위한 독창적인 방법은 인쇄 헤드의 적어도 오리피스 판을 노즐로부터 휘발성 액체가 증발하는 것을 방지하는 보호 유체안에 배치함으로써 인쇄 헤드상에 침전물 축적을 방지하는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 보호 액체는 인쇄 잉크이다. 이 문서의 문맥에서, 이 독창적인 기술은 "잉크 리테이너", "잉크 베스", 또는 "잉크 보유 장치"로 불린다.

인쇄 마스크가 사용되는 경우, 슬릿을 밀폐하고 잉크 리테이너로 인쇄 마스크가 사용될 수 있도록 독창적인 "야간 표지판"이 사용될 수 있다. 야간 표지판을 사용하여 슬릿을 충분히 밀폐한 후, 인쇄 헤드와 마스크 사이의 간극을 채우기 위해 인쇄 헤드로부터 잉크가 제거됨으로써 적어도 오리피스 판이 제거된 잉크로 덮인다. 제거된 잉크는 보호 액체로 작용하여 오리피스 표면으로부터 잉크 증발을 방지함으로써 인쇄 헤드 상에 침전물 축적을 방지한다.

잉크 리테이너 및/또는 야간 표지판 방법 및 디바이스를 사용하여 테스트가 제시되는데, 인쇄 헤드는 일반적인 비-인쇄 기간보다 긴 일주일의 비-인쇄 기간동안 노즐이 막히지 않도록 유지될 수 있다. 운반 유체(지정된 유체 운반체)인 용매, 은-나노-입자(완전한 분산을 위해 은의 50% 중량비) 및 분산제를 포함하는 고품질의 잉크(홈 메이드)로 테스트가 이뤄진다. 실내 온도에서 점성은 25 내지 30cP(센티프아즈, centipoise)이다. 당연히, 낮은 등급의 잉크를 사용하는 경우, 잉크가 침전물을 방출하는 경향이 있어, 흐름이 없는 잉크안에 잠기는 경우 짧은 비-인쇄 기간 이후에도 헤드가 막힐 수 있다. 베스안의 잉크 순환을 포함하는 선택적인 해법이 이하 기재된다.

응용에 따라, 다양한 유체가 보호 유체로 사용될 수 있다. 바람직하게는, 보호 유체는 인쇄 유체인데, 즉 인쇄를 위해 사용되는 잉크이다. 잉크는 인쇄 헤드로부터 손쉽게 구할 수 있고, 인쇄용으로 사용되는 잉크와 분명히 호환된다. 잉크 이외의 유체 사용은 인쇄를 위해 필요한 일반적인 품질로 인쇄를 재개하기 위해 극복될 필요가 있는 다양한 문제를 제공할 수 있다. 습윤 또는 세척액처럼 잉크가 아닌 보호 유체를 사용할 경우의 문제는 습윤 또는 세척액이 노즐 안으로 들어가(후진하여) 인쇄 잉크와 섞인다는 것이다. 인쇄 잉크와 습윤 또는 세척액의 이와 같은 혼합물은 인쇄가 재개되기 전에 제거될 필요가 있다. 반송체 유체(인쇄 잉크용 반송체 유체)는 보호 유체로 사용되는데, 캐리어 유체의 노즐로의 후진은 인쇄 헤드 내부의 인쇄 잉크의 밀도를 변경시킬 수 있고, 인쇄 재개 전에 인쇄 헤드 청소를 필요로 할 수 있다.

비-인쇄 기간동안 보호 노즐에 대한 통상적인 기술은 오리피스 표면에 고무 또는 다른 물질을 부착하는 단계를 포함한다. 침전물 축적을 방지하기 위해, 고무 또는 다른 물질은 세척 또는 습윤 유체로 적셔진다. 전술된 바와 같이, 통상적인 방법은 노즐로부터 빠져나와 인쇄 잉크와 섞이는 세척 또는 습윤 유체때문에 손상을 입는다. 본 실시예의 특성은 제거된 잉크를 보호 유체로 사용하는 것이다.

잉크 리테이너를 구비한 도해인 도18을 살펴보면, 인쇄 시스템은 오리피스 표면(102)을 구비한 인쇄 헤드(100)를 포함한다. 잉크 리테이너(1800)는 잉크 리테이너의 적어도 일부분이 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 재워지는 경우 오리피스 표면(102)의 대체로 바닥면 전체와 인쇄 잉크가 접촉하도록 구성된다. 따라서 오리피스 표면은 비-인쇄 기간 동안 젖은 상태로 유지된다. 인쇄 시스템은 인쇄 헤드에 관하여 잉크 리테이너를 구성하도록 작용할 수 있는 배치 장치(도시되지 않음)를 포함할 수 있다. 첫번째 상태에서, 비-인쇄 기간 동안, 배치 장치는 인쇄 헤드에 관하여 잉크 리테이너를 배치하여 인쇄 잉크가 오리피스 표면의 대체로 전부와 접촉하도록 한다. 두번째 상태에서, 인쇄 기간동안, 배치 장치는 인쇄 헤드에 관하여 잉크 리테이너를 배치하여 잉크가 오리피스 표면으로부터 기판으로 분출될 수 있도록 한다. 잉크 리테이너는 첫번째 상태로 배치되기 전에 또는 첫번째 상태로 배치된 후, 보호 유체, 바람직하게는 인쇄 잉크로 채워진다. 잉크 리테이너가 첫번째 상태에 있는 경우, 오리피스 표면은 인쇄 잉크 안에 잠긴다. 오리피스 표면이 잠기는 것은 오리피스 표면을 인쇄 잉크 안에 상대적으로 배치하거나, 선택적으로 오리피스 표면이 인쇄 잉크로 잠기게 하는 단계를 포함한다. 오리피스 표면이 잉크로 잠기게 하는 단계는 헤드로부터 오리피스를 통해(즉, 제거) 잉크 리테이너로 잉크를 공급함으로써 이뤄질 수 있다. 잉크 리테이너가 첫번째 상태(비-인쇄)에서 두번째 상태(인쇄)로 이행하는 경우, 오리피스 표면은 인쇄 잉크로부터 건져진다. 담그기 위해 사용되는 잉크는 바람직하게는 인쇄용으로 사용되는 잉크와 동일하다. 배치 장치의 다양한 구현은 인쇄 시스템의 특정 요구사항에 따라 가능하다. 대표적으로, 배치 장치는 자동화되는데 로봇 암 또는 자동화된 운송 장치를 포함하지만 이에 한정되지는 않는다. 잉크 리테이너 및/또는 인쇄 헤드는 서로에 대해 및 인쇄 시스템의 다른 부품에 대해 수동으로 배치될 수 있다.

도18의 비제한적인 예에서, 잉크 리테이너(1800)는 잉크 베스(1802)를 포함한다. 오리피스 표면이 젖은 상태로 유지되면 오리피스 외부면에 있는 액체의 건조가 방지된다(전술된 바와 같이). 잉크가 작은 고체 입자의 분산제를 포함하고, 특히 입자가 "나노" 크기(즉, 십분의 몇 나노나노미터보다 크지 않은 입자 사이즈)인 경우, 인쇄 시스템에 추가적인 영향이 주어진다. 작은 고체 입자는 브라운 운동때문에 무작위 방향으로 끊임없이 이동한다. 오리피스가 잉크 베스에 잠기는 경우, 입자는 헤드의 내부로부터 외부로 또는 이와 반대로 자유롭게 이동한다. 이 동작은 침전을 방지하거나 침전 속도를 늦춘다. 베스의 벽과 인쇄 헤드 사이의 간극(110)은 보호 유체(1300)로 적어도 부분적으로 채워질 수 있는 잉크 리테이너의 일부분을 제공한다. 이 경우, 보호 유체는 인쇄 잉크이다.

도면의 명확성을 위해, 오리피스 표면(102)은 높이를 갖도록 표시되지만, 실제로 오리피스 표면의 높이는 인쇄 시스템의 다른 치수에 비해 작다. 오리피스 표면과 접촉하는 보호 유체에 대한 언급은 일반적으로 오리피스 표면의 바닥 표면의 접촉으로 이해되어야 한다는 것을 당업자는 이해할 것이다. 실제로, 오리피스 표면은 오리피스 표면의 바닥 표면이 인쇄 잉크와 접촉되게 유지되는 것을 보장하기 위해 인쇄 잉크로 둘러싸일 필요가 있다.

베스(1802)는 베스가 오리피스 표면(102)을 둘러싸기에 앞서 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워질 수 있다. 선택적으로, 베스는 벳가 오리피스 표면을 둘러싼 후에 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워질 수 있다. 바람직하게는, 베스를 채우기 위한 잉크는 인쇄 헤드로부터 제거되는 잉크에 의해 제공된다.

특정한 응용 요구에 따라 다른 구현형태의 잉크 리테이너(1800)가 구현될 수 있다. 다른 구현에서, 잉크 리테이너(1800)는 개방-셀 폼을 포함한다. 개방-셀 폼은 개방-셀 폼이 오리피스과 접촉하기 전에 또는 개방-샐 폼이 오리피스 표면과 접촉한 후 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다. 바람직하게는, 개방-셀 폼은 인쇄 헤드로부터 제거된 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진다.

일반적인 잉크젯 인쇄 애플리케이션에 대해 사용되는 잉크는 전술된 바와 같이 입자를 포함한다. 비-제한적인 예에서, 유리, 전자 인쇄 회로 보드(PCB-s), 반도체 디바이스, 및 다른 기판상에 전기 또는 열전도선을 증착하기 위해 중금속 입자를 함유한 잉크가 사용된다. 이러한 잉크의 비-제한적인 예는 전슐된 태양 에너지에 사용되는 광전지 웨이퍼의 금속화를 위한 잉크이다. 이 잉크는 일반적으로 운반 유체(운반체 유체)인 용매, 은-나노-입자(완전한 분산을 위해 은의 50% 중량비) 및 분산제를 포함한다. 입자를 구비한 이런 잉크가 연장된 기간 동안 사용될 경우, 입자들은 운반체 유체 밖으로 가라앉을 수 있다. 이런 가라앉는 현상은 반송체 유체 밖으로 입자가 가라앉는 것은 헤드의 부품 및 작은 내부 터널 안에 해로운 침전물을 생성한다는 것을 의미하기 때문에 인쇄 헤드에 해로울 수 있다. 입자 침전은 잉크가 흐르고 교반되는 경우 방지된다. 본 발명은 입자 침전을 방지하기 위해 잉크의 흐름 및/또는 교반을 이용한다. 이 실시예에서, 잉크는 주기적으로 비-인쇄 기간동안 잉크 시스템 또는 인쇄 헤드, 잉크 파이프, 잉크 저장통 및 잉크 베스를 포함하는 인쇄 시스템의 일부를 통해 흐른다. 주기적인 옵션의 실시예는 잉크 베스(1802, 크래들)로부터 잉크를 주기적인 기반으로 먼저 제거(펌핑, 빨아들임, 흡입)한 다음, 보호 유체(인쇄 잉크)를 교체하기 위해 인쇄 헤드로부터 다시 제거한다. 응용에 따라, 잉크의 모두가 베스로부터 제거될 수 있고, 베스는 새로운 잉크로 다시 채워지거나 추가적인 잉크가 베스에 추가될 수 있다. 베스의 사이즈에 따라, 추가 잉크가 추가될 경우, 이미 베스안에 있는 잉크의 일부가 제거될 수도 있다. 다시-제거 및/또는 순환은 입자의 침전을 방지하고 침전물 축적을 방지한다. 다시-제거 및/또는 순환은 바람직하게는 주기적인 기반으로 특정 응용의 요구에 의해 결정되는 다시-제거 및/또는 순환으로 이뤄진다. 잉크젯 헤드에 의한 광전지 상의 인쇄 금속선의 특정 응용에서(용매 유체 반송체 중량당 50% 나노 은 입자의 분산제를 포함하는 잉크를 사용하여) 이 방법 및 시스템이 30분마다 활성화되는 주기적인 순환을 사용하여 성공적으로 구현된다.

잉크 베스(1802) 및 순환 장치를 구비한 잉크 리테이너(1800)의 도해인 도19를 살펴보면, 인쇄 잉크는 잉크 베스로부터 반복적으로 제거될 수 있다. 도19의 비-제한적인 예에서, 제거 펌프(1902A)와 같은 장치가 잉크 베스로부터 잉크(1300)를 제거하기 위해 사용된다. 제거된 잉크는 바람직하게는 재사용을 위해 잉크 저장 장소(1900) 안에 저장된다. 따라서 제거된 잉크는 잉크 베스(1802)를 채우는데 사용할 수 있도록 만들어진다. 이 응용에 따라, 잉크 청소(흡입) 시스템이 바람직하게는 잉크 베스로부터 잉크를 제거하기 위해 사용될 수 있다.

선택적으로, 이 제거된 잉크는 재-순환될 수 있거나 새로운 잉크가 잉크 리테이너(1800)에 제공될 수 있다. 하나 이상의 복귀 펌프(1902B)와 같은 장치가 잉크 저장 장소(1900)로부터 인쇄 잉크를 잉크 리테이너(1800) 안에 사용하도록 돌려보내기 위해 사용된다.

잉크 리테이너(1800)는 인쇄 잉크로 반복적으로 채워질 수 있다. 바람직하게는, 잉크 리테이너는 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크에 의해 반복적으로 채워진다. 인쇄 잉크의 적어도 일부는 잉크 리테이너로부터 제거될 수 있고, 제거된 잉크의 적어도 일부는 잉크 리테이너를 채우는데 사용할 수 있도록 만들어질 수 있다. 분명히, 잉크 베스(1802)로부터 배출하거나 다시 채울 경우, 잉크 베스는 오리피스 판(오리피스 판의 바닥면)을 덮기에 충분한 인쇄 잉크로 채워져야 한다.

일부 응용에서, 인쇄 잉크는 인쇄 헤드 사양에 의해 요구되는 점성에 비해 너무 끈적거린다. 이러한 경우, 인쇄 시스템은 의도적으로 인쇄 헤드를 인쇄 잉크의 점성을 낮추고 인쇄 헤드의 적절한 작동을 가능하게 하는 사전결정된 온도로 가열한다. 비-인쇄의 긴 기간 동안, 인쇄 헤드는 일반적으로 실온에 존재한다. 인쇄 잉크는 인쇄 헤드로부터 배출되기에는 너무 끈적거린다. 이 경우, 인쇄 잉크가 배출되게 하도록 사용될 수 있는 기술은 인쇄 잉크의 점도를 낮추고 인쇄 헤드로부터의 인쇄 잉크 배출을 허용하기 위해 인쇄 헤드를 필요한 온도로 가열하는 것이다. 대표적으로, 인쇄 헤드 가열은 비-인쇄 기간 동안 배출이 수행되기 수 초 또는 수 분전에 이뤄질 수 있다. 인쇄 헤드를 가열하기 위해 필요한 시간의 합은 응용에 따를 것이다. 배출 후, 인쇄 헤드는 다음 배출때까지 실온으로 복귀하도록 허용될 수 있다.

인쇄 마스크가 필요한 응용에서, 짧은 슬릿이 일반적으로 선호된다. 짧은 슬릿은 일반적으로 인쇄 헤드, 특히 오리피스 표면의 아주 큰 영역을 가능하게 하여 긴 슬릿을 사용하는데 비해 보호된다(열 등 전술된 바와 같은 것들로부터). 짧은 슬릿을 사용하는 것은 야간 표지판을 사용하는 경우 선호되는데, 짧은 슬릿이 야간 표지판의 밀폐 요소에 의해 완전히 덮이기 때문이다.

야간 표지판의 측면도인 도11a를 살펴보면, 부착 장치(1100)는 연결부(1100a), 탄성 밀폐 요소(1102), 및 선택적으로 적어도 하나의 스토퍼(1104)를 포함한다. 밀폐 요소(1102)의 폭(1112, Y-축의 방향으로)은 바람직하게는 슬릿-폭(112)보다 크다. 야간 표지판은 잉크 리테이너(1800)의 바람직한 구현이다.

야간 표지판의 상면도인 도11b를 살펴보면, 부착 장치(1100)는 연결부(1100A), 탄성 밀폐 요소(1102), 및 선택적으로 적어도 하나의 스토퍼(110)를 포함한다. 밀폐 요소(1102)의 길이(1114, X축의 방향으로)는 바람직하게는 슬릿-폭(114) 보다 크다. 짧은 슬릿보다 큰 폭 및 길이를 구비한 밀폐 요소와 짧은 슬릿을 사용하는 것은 밀폐 요소가 슬릿을 완전히 덮는 것을 촉진하여 보호 유체가 슬릿을 통해 가는 것을 방지한다.

도12를 살펴보면, 야간 표지판을 구비한 인쇄 시스템은 밀폐 요소(1102) 및 부착 장치(1100, 1100a)를 포함한다. 부착 장치(1100)는 밀폐 요소(1102)가 마스크(104)의 슬릿(106)과 접촉하게 배치하도록 구성된다. 밀폐 요소(1102)는 슬릿(106)의 대체로 전부와 적어도 접촉된다. 당엄자는 슬릿과 접촉하기 위한 참조가 일반적으로 슬릿의 빈 공간 뿐만 아니라, 슬릿을 감싸고 슬릿에 인접한 모서리/영역과 접촉하는 것을 언급한다는 것을 깨달을 것이다. 밀폐 요소(1102)는 슬릿(106)을 마스크(104)의 바닥면에 접촉시킨다. 이 접촉은 마스크(104)의 상면의 유체가 슬릿(106)을 따라 마스크(104)의 바닥면으로 가는 것을 방지하기에 충분한 밀폐 압력을 갖는다. 밀폐 요소는 탄성이 있고 바람직하게는 압축할 수 있다. 따라서, 낮은 압력에서 밀폐 요소는 압축되어 마스크의 바닥면의 슬릿의 영역에 끼워진다. 도1a 내지 도1c를 참고로 기재된 바와 같이, 마스크의 상부면은 오리피스 표면(102)을 마주보고 마스크의 바닥면의 반대편에 있다. 여기에 기재된 밀폐 요소 및 부착 장치의 구조는 야간 표지판으로 이 문서의 문맥에서 언급된다.

이 실시예의 특성은 부착 장치(1100, 1100a)가 밀폐 요소를 슬릿과 정렬하여 야간 표지판이 마스크(일반적으로 인쇄 헤드의)에 부착되는 경우, 밀폐 요소가 슬릿을 충분히 밀폐하여 보호 유체가 슬릿을 통해 흐르지 않게 된다는 것이다.

보호 유체가 슬릿을 통해 흐르는 것을 방지하기 위해, 밀폐 요소(1102)는 바람직하게는 폐쇄-셀 폼과 같은 비다공성(non-porous) 물질이다. 연질 실리콘 폐쇄-셀 폼과 같은 물질은 이러한 목적으로 사용될 수 있다. 미국 Rogers Corp.Il의 HT-800 5mm 두께가 본 발명의 구현에 성공적으로 사용되었었다.밀폐 요소로서 고무가 사용되는 경우, 고무는 폐-쇄 셀 표면으로 제작된 형태일 수 있다. 선택적으로, 스킨, 또는 덮는 것, 폐쇄-셀 표면을 제공하는 것은 폐쇄-셀 표면을 제공하기 위해 고무를 요령껏 처리하는 것일 수 있다. 밀폐 요소의 바람직한 특성은 유연성인데, 특히 밀폐 요소의 수명동안 충분한 유연성을 유지하여 밀폐 요소가 슬릿에 일치하고 보호 유체가 슬릿을 통해 흐르는 것을 방지하도록 슬릿을 충분히 밀폐하는 것을 가능하게 하는 것이다.

이 설명의 명확성을 위해, 밀폐 압력으로 슬릿과 접촉하는 밀폐 요소를 살펴보면, 밀폐 압력은 단수로 불린다는 점에 유의하라. 당업자는 밀폐 요소가 수용가능한 사전 결정된 압력 범위 내에서 선택된 밀폐 압력으로 슬릿과 접촉한다는 것을 깨달을 것이다. 밀폐 압력은 수용 가능한 사전결정된 압력 범위로부터 선택된다. 바람직한 최소 압력은 보호 유체가 슬릿을 통해 흐르지 못할 만큼 충분하다. 바람직한 최소 압력은 밀폐 요소가 마스크에 대한 손상 또는 부착 장치 및/또는 연결부와 같이 시스템의 다른 요소에 초래되는 손상을 초래할 수 있는 압력 이하이다.

당업자는 밀폐 압력이 슬릿을 통해 마스크의 상부면으로부터 마스크의 바닥면으로 유체가 흐르는 것을 허용하기 위해 감소될 수 있다는 것을 깨달을 것이다. 선택적으로, 밀폐 요소의 사이즈는 대체로 슬릿의 전부를 덮지는 않도록 줄어들 수 있다. 이 경우, 유체의 유율(flow rate)은 비-인쇄 기간 동안 슬릿을 통해 흐르는 유체의 양이 인쇄 프로세스를 방해하지 않을 정도로 충분히 작다. 당 업자는 이 구현이 조정해야할 여러 문제, 인쇄 재개 전 마스크 바닥의 추가적인 청소, 야건 표지판으로부터의 최소의 드리핑(dripping)도 방지 또는 조정하는 것을 포함하지만 이에 한정되지는 않는 여러 문제를 추가한다는 것을 깨달을 것이다. 전술된 바와 같은 바람직한 구현은 비-인쇄 기간 동안 슬릿을 통해 유체가 흐르는 것을 방지하기 위해 야간 표지판이 충분한 밀폐 압력을 사용하도록 구성하는 것이다. 선택적으로, 덜 효율적인 야간 표지판으로 작업하도록 시스템을 설계하는 것이 유익할 수도 있는데, 야간 표지판의 밀폐 요소가 야간 표지판 장치 부품의 노화로 인해 덜 효율적이게 되더라도 야간 표지판을 더 오랜 시간동안 사용될 수 있기 때문이다.

슬릿 상의 밀폐 요소의 과도한 압력은 슬릿, 마스크, 밀폐 요소, 및/또는 야간 표지팜을 잠재적으로 손상시킬 수 있다. 따라서, 바람직한 구현은 과도한 압력으로 밀폐요소가 슬릿과 접촉하는 것을 방지하기 위한 장치 또는 다른 말로 스토퍼를 포함한다. 밀폐 요소(1102)가 슬릿(106)과 접촉하는 경우 밀폐 요소(1102)가 과도한 압력으로 슬릿(106)과 접촉하는 것을 방지하기 위해 야간 표지판의 일부로 하나 이상의 스토퍼(1104)가 구성된다. 당업자는 슬릿과 접촉하는 밀폐 요소에 대한 언급이 실제로는 슬릿을 둘러싸는 마스크 영역인 슬릿의 경계와 접촉하는 밀폐 요소를 말하는 것임을 깨달을 것이라는 것에 유의하라.

도12를 다시 살펴보면, 마스크(104)의 바람직한 구현은 인쇄 헤드(100)의 바닥 부분을 둘러싸는, 적어도 오리피스 판(102)을 둘러싸는 것을 포함하는, 모서리(1200)를 포함한다. 인쇄 헤드를 둘러싸는 모서리를 구비한 마스크는 산업계에서 크래들(cradle)이라고 불린다. 이 크래들은 마스크(104) 및 인쇄 헤드(100) 사이의 간극(110)을 구성한다.

야간 표지판 및 보호 유체를 구비한 인쇄 헤드의 도해인 도13을 살펴보면, 밀폐 요소(1102)는 슬릿(106)과 접촉해 있고 간극(110)은 보호 유체(1300)로 채워져 있다. 이 경우, 크래들의 사용은 간극(110)이 보호 유체(1300)로 충분히 채워져 인쇄 헤드(100)의 적어도 오리피스 표면(102)을 덮도록 한다. 이 보호 유체(1300)는 바람직하게는 인쇄 헤드로부터 배출된다.

비-인쇄 기간의 끝에, 잉크는 인쇄 헤드 주변에서 제거되어 오리피스 표면을 덮지 않는다. 인쇄 헤드는 사용을 위해 준비되고, 야간 표지판은 인쇄 헤드로부터 분리된다. 이 응용 덕분에, 야간 표지판의 제거 및 사용을 위해 인쇄 헤드를 준비하는 것은 인쇄를 위해 인쇄 헤드를 되돌리기 위해 다양한 순서로 수행되는 선택적 단계를 포함할 수 있다.

이 응용에 따라, 다양한 방법이 간극으로부터 잉크를 제거하기 위해 사용될 수 있다. 일 구현에서, 잉크 제거 시스템이 간극으로부터 잉크를 제거하기 위해 구성된다. 잉크를 제거하는 것은 산업계에서 인쇄 헤드 및/또는 오리피스 표면으로부터 잉크를 흡입(sucking)하는 것으로 불린다. 바람직한 잉크 제거 시스템은 진공 시스템이다. 잉크를 흡입하기 위해, 다양한 기술이 오리피스 애플리케이션에 따라 사용될 수 있다. 본 발명에 사용될 수 있는 잉크 흡입에 대한 기술을 교시하는, 2011년 5월 2일에 제출된 국제츨원 IB111/051934(대리인 파일 4619/4) "통합된 자기 배출 장치를 구비한 인쇄 시스템을 참고하라. 이 설명을 기반으로, 당업자는 야간 표지판 제거 전에 인쇄 헤드로부터 보호 액체를 흡입하기 위한 장치를 구현할 수 있을 것이다.

청소 배출 용액용 장치의 도해인 도14를 살펴보면, 보호 액체를 흡입하기 위한 장치의 비-제한적인 예를 나타낸다. 인쇄 헤드(100)는 간단히 하우징으로도 알려진, 인쇄 헤드(100)를 부분적으로 둘러싸는 인쇄 헤드 하우징(1400)을 포함한다. 이 기술에서 인쇄 헤드 하우징(1400)은 때때로 "마스크"로 불리지만, 이 문서에서 사용된 바와 같이 마스크(104)와 혼용되어서는 안된다는 것에 유의하라. 인쇄 헤드 하우징(1400)은 전술된 마스크(104)를 사용하여 구현될 수 있다. 하우징(1400)은 인쇄 헤드(100)의 측면을 둘러싸는 측면부(1402, 도12의 모서리(1200))를 포함한다. 바닥(floor)으로도 알려진, 하우징(300)의 바닥 부분(304)은 마스크(104)로 작용하고 오리피스 판(102)을 부분적으로 둘러싼다. 하우징(1400)은 진공 시스템(1410)에 연결된 하나 이상의 흡입 포트(1406)를 포함한다. 흡입 포트(1406)는 배출된 액체가 간극(110)으로부터 하우징(1400) 밖으로 흡입되는 것을 촉진한다.

비-인쇄 기간의 끝에, 잉크가 인쇄 헤드 주변으로부터 제거되고 추가적인 선택적 준비가 완료된 후, 야간 표지판이 마스크로부터 분리된다. 다시 말해, 야간 표지판은 분리된 구조로 이동하여 야간 표지판이 슬릿을 통해 잉크젯 인쇄 헤드로부터 잉크 분출을 허용하도록 구성된다. 이 문서의 문맥에서, "야간 표지판을 분리하는", 또는 "분리가능한 야간표지판"과 같이. 야간 표지판에 참조로 사용되는 경우 용어 "분리가능한(detchable)"은 슬릿(106)으로부터 밀폐 요소(1102)를 분리하거나, 마스크(104)에 대해 야간 표지판을 이동시켜 슬릿이 더 이상 밀폐되지 않고 인쇄가 이뤄질 수 있는 것을 말한다. 야간 표지판은 야간 표지판을 분리하기 위해 인쇄 헤드로부터 제거될 필요가 없다는 것에 유의하라. 예를 들어, 야간 표지판은 슬릿(106)으로부터 밀폐 요소(1102)를 분리하고 인쇄 헤드 아래로 야간 표지판을 이동시키기 위해 회전할 수 있다. 이 경우, 야간 표지판은 인쇄 헤드에 연결된 상태로 유지될 수 있거나 인쇄 헤드로부터 제거될 수 있다. 일반적으로, 특정 응용에 따르면, 야간 표지판이 인쇄 헤드로부터 제거될 수 있거나, 야간 표지판이 인쇄 헤드에 연결된 상태로 유지될 수 있지만, 인쇄를 방해하지 않도록 배치된다.

마찬가지로, 이 문서의 문맥상에서, "야간 표지판을 부착하는"과 같이 야간 표지판을 참고로 사용되는 경우 용어 "부착된"은 밀폐 요소(1102)를 슬릿(106)에 접촉되게 배치하여 슬릿이 충분히 밀폐되어 보호 유체가 슬릿을 통해 흐르지 못하게 하는 것을 말한다. 야간 표지판에 부착하기 위해 야간 표지판이 인쇄 헤드에 연결될 필요가 없다는 것에 유의하라. 예를 들어, 야간 표지판은 이미 인쇄 헤드에 연결되어 있을 수 있고, 야간 표지판은 슬릿(106)에 밀폐 요소(1102)를 부착하기 위해 회전한다. 특정 응용에 따르면, 야간 표지판은 사용되지 않을 경우 인쇄 헤드로부터 제거될 수 있고, 비-인쇄 기간동안 인쇄 헤드에 연결될 수 있고, 또는 야간 표지판은 인쇄 헤드에 연결된 상태로 유지될 수 있지만 인쇄를 방해하지 않기 위해 배치된다.

스프링 장치 연결부의 도해인 도15를 살펴보면, 부착 장치(1100)는 연결부(1100a)를 스프링(1500)으로 구현한다. 부착 장치(1100)는 적어도 두 개의 스프링(1500)을 포함한다. 각각의 스프링의 제 1 단부(1510)는 밀폐 요소(1102)의 마주보는 측면상에 장착된다. 부착된 구조에서, 각각의 스프링의 제 2 단부(1520)은 마스크에 연결된다. 마스크는 일반적으로 인쇄 헤드에 연결되기 때문에, 부착 장치가 마스크에 연결되는 경우, 부착 장치는 인쇄 헤드에 부착되는 것과 동일하게 설명될 수 있다는 점에 유의하라. 선택적으로, 마스크(104)는 하나 이상의 추가적인 부분(1502A, 1502B)를 포함하여, 인쇄 헤드에 부착 장치(들)를 연결하기 위한 장소로 이용된다. 도15에서, 각각의 스피링의 제 2 단부(1520)는 추가적인 부분(1502a, 1502b)을 통해 마스크에 연결된다. 스토퍼들(1504)은 밀폐 요소(1102)가 충분한 밀폐 압력으로 슬릿(106)에 접촉하고 전술된 바와 같이 과도한 압력으로 접촉하는 것을 방지할 수 있도록 구성된다. 도15의 구현 예에서, 스프링 부착장치(1500)는 야간 표지판을 분리하기 위해 야간 표지판이 인쇄 헤드로부터 제거되는 것을 요구한다.

마스크의 외부 형상 및 구조는 부착 장치의 연결 요소에 대한 조절을 제공하기 위해 변경될 수 있다는 것에 유의하라. 비-제한 적인 예에서, 마스크(또는 인쇄 헤드)는 부착 장치의 해당되는 요소에 연결하기 적합한 추가적인 부분(1502a, 1502b)을 포함한다.

부착된 구조의 회전가능한 클립과 스프링 부착 장치의 도해인 도16a를 살펴보면, 부착 장치(1100)는 연결부(1100a)를 회전가능한 클립(1602) 및 스프링(1500)으로 구현한다. 부착 장치(1100)는 부착 장치(1100)의 제 1 부분(1610) 상에 장착된 회전가능한 클립(1602)을 포함한다. 적어도 하나의 부착 보조-장치(1630, sub-mechanism))는 부착 장치(1100)의 제 2 부분(1620) 상에 장착된다. 제 1 부분(1610) 및 제 2 부분(1620)은 밀폐 요소(1102)의 마주보는 측면상에 존재한다. 이 경우, 부착 보조-장치(1630)는 마스크(104)에, 선택적으로 추가적인 부분(1502a)을 통해, 스프링(1500)을 연결하기 위해 구성된 스프링 클립(1600)을 갖는 스프링(1500)을 포함한다. 회전가능한 클립(1602)은, 선택적으로 축(1604) 및 추가적인 부분(1502a)을 통해, 마스크(104)에 부착된다. 부착된 구조에서, 회전가능한 클립(1602) 및 적어도 하나의 부착 보조-장치(1630)는 마스크에 연결된다. 적어도 하나의 스토퍼(1504)를 참고로 전술된 바와 같이, 충분한 압력으로 밀폐 요소(1102)가 슬릿(106)에 접촉할 수 있게 하고 과도한 압력으로 접촉하는 것을 방지하도록 하나의 스토퍼(1504)가 구성된다.

도16b는 분리된 구조에서 회전가능한 클립 및 스프링 부착의 도해이다. 분리된 구조에서 적어도 하나의 부착 보조-장치(1630)는 마스크(104)로부터 분리된다. 이 도면에서, 스프링 클립(1600)은 추가적인 부분(1502b)로부터 분리되어, 마스크(104)로부터 스프링(1500)을 분리한다. 야간 표지판은 축(1604) 상의 회전가능한 클립(1602)를 통해 시계방향으로 회전하여 슬릿(106)으로부터 밀폐 요소(1102)를 분리시키고 야간 표지판을 인쇄 헤드 아래로 이동시킨다. 이 경우, 야간 표지판은 분리되고 축을 통해 인쇄 헤드에 연결된 상태로 유지된다. 선택적으로, 야간 표지판은 인쇄 헤드로부터 제거될 수 있다(도시되지 않음).

도17a는 부착된 구조에서 회전 가능한 클립 및 래치 부착의 도해이다. 도16a를 참고로 한 설명과 마찬가지로, 부착 장치(1100)는 회전가능한 클립(1602) 및 래치(1700)로 연결부(1100A)를 구현한다. 적어도 하나의 부착 보조-장치(1630)는 부착 장치(1100)의 제 2 부분(1620) 상에 장착된다. 이 경우, 부착 보조-장치(1630)는 래치(1700)를 마스크(104)에, 선택적으로 추가적인 부분(1502B)을 통해 연결하도록 구성된 래치 클립(1702)을 갖는 래치(1700)를 포함한다. 부착된 구조에서, 회전 가능한 클립(1602) 및 적어도 하나의 부착 보조-장치(1630)는 마스크에 연결된다.

도17b는 분리 구조의 회전 가능한 클립 및 스프링 부착의 도해이다. 분리 구조에서 적어도 하나의 부착 보조-장치(1630)는 마스크(104)로부터 분리된다. 이 도면에서, 래치 클립(1702)은 추가적인 부분(1502b)으로부터 분리되어 마스크(104)로부터 래치(1700)를 분리시킨다. 야간 표지판은 축(1604) 상의 회전 가능한 클립을 통해 시계방향으로 회전하여 밀폐 요소(1102)를 슬릿(106)으로부터 분리하고 야간 표지판을 인쇄 헤드 아래로부터 이동시킨다. 이 경우, 야간 표지판은 분리되고 축을 통해 인쇄 헤드에 연결된 상태로 유지된다. 선택적으로, 야간 표지판은 인쇄 헤드로부터 제거될 수 있다(도시되지 않음).

인쇄를 위한 방법은 부착 장치를 제공하는 것을 포함하는데, 부착 장치는 밀폐 요소를 마스크의 슬릿과 접촉하게 배치하도록 구성된다. 밀폐 요소는 적어도 슬릿의 대체로 전부와 접촉한다. 이 접촉은 마스크의 바닥면 상에 있다. 이 접촉은 슬릿을 따라 마스크의 바닥면으로 마스크 상부면의 유체가 가는 것을 방지하기에 충분한 밀폐 압력을 갖는다. 밀폐요소가 슬릿과 접촉하도록 배치하는 것은 여기에 기재된 바와 같이, 야간 표지판의 부착 구조에 대응한다.

야간 표지판이 부착 구조로 있는 경우 과도한 압력으로 밀폐 요소가 슬릿에 접촉하는 것을 방지하기 위해 야간 표지판의 일부로 하나 이상의 스토퍼가 선택적으로 구성될 수 있다.

인쇄 시스템의 사양에 따라, 야간 표지판이 마스크 또는 인쇄 헤드 중 하나에 부착될 수 있어, 밀폐 요소는 슬릿과 접촉한다. 분리된 구조에서, 야간 표지판은 슬릿을 따라 잉크젯 인쇄 헤드로부터의 잉크 분출을 허용하도록 구성된다.

야간 표지판을 부착한 후, 인쇄 헤드와 마스크의 상부면 사이의 간극은 충분한 양의 보호 유체로 채워져 인쇄 헤드의 적어도 오리피스 표면을 잉크로 덮는다. 바람직하게는, 보호 유체는 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크이다. 비-인쇄 기간 동안, 인쇄 헤드는 기재된 바와 같이 부착된 야간 표지판 및 오리피스 표면을 덮는 보호 유체와 함께 저장될 수 있다. 여기에 기재된 구성에서, 오리피스 표면상의, 이런 이유로 노즐 상의 보호 유체의 존재는 연장된 비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드 상의 침전물 축적을 방지한다.

인쇄 재개가 필요한 경우, 잉크는 간극으로부터 제거된다. 선택적으로, 다른 유지 절차가 인쇄를 지속하도록 허용하기 위해 제거되는 야간 마스크를 사용하여 인쇄 헤드 및 관련 부품에 대해 이뤄질 수 있다.

인쇄 헤드가 슬릿을 갖는 마스크 안에 놓이는 전술된 대표적인 경우에, 야간 표지판이 슬릿을 밀폐하기 위해 사용되기 때문에, 잉크가 인쇄 헤드 주변의 크래들 안에 담기고 잉크가 크래들로부터 슬릿을 통해 흐르는 것이 방지된다. 인쇄 헤드가 마스크 없이 사용되는 경우, 야간 표지판은 인쇄 헤드를 둘러싸는 모서리(마스크에 부착된 도12를 참고로 기재된 모서리(1200)와 비슷한)를 포함할 수 있다. 야간 표지판을 헤드에 부착하는 것은 인쇄 헤드용 크래들을 제공한다. 이 크래들은 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크를 담고 오리피스 표면을 위한 베스를 생성한다.

인쇄 시스템에 대한 제어 서브-시스템의 도해인 도20을 살펴보면, 이 시스템은 인쇄 헤드에 대해 성형 와이퍼의 이동을 제어하고 비-인쇄 기간 동안 잉크 리테이너에 인쇄 헤드를 저장하기 위해 사용될 수 있다. 제어 서브-시스템(2000)은 응용에 의해 필요한 특정 제어에 따르는, 다양한 처리 모듈을 포함한다. 이 실시예의 제어 서브-시스템(2000)의 높은 수준의 블록도는 프로세서(2002), 트랜시버 모듈(2008), 공통 버스(2012)를 통한 모든 통신(2012)을 포함한다. 대표적으로, 제어 서브-시스템의 부품은 호스트(2020) 안에 배치된다.

트랜시버 모듈(2010)은 다양한 인쇄 시스템 부품으로부터

인쇄 헤드의 위치 및 상태;

인쇄 품질;

인쇄 시스템 제어를 위한 사용자 또는 자동화된 명령;

하나 이상의 성형 와이퍼의 위치;

인쇄 잉크의 청결과 같은, 보호 유체의 품질; 및

야간 표지판을 포함하는, 하나 이상의 잉크 리테이너의 위치 및 상태에 대한 정보를 수신하고,

성형 와이퍼 또는 잉크 리테이너에 대해 인쇄 헤드 배치;

인쇄 상태, 인쇄 품질, 및 하나 이상의 성형 와이퍼의 상태(와이퍼가 얼마나 오래 사용되었는지, 와이퍼의 청결은 어떤지 등), 하나 이상의 잉크 리테이너에 사용된 보호 유체(인쇄 잉크 같은)의 상태 및 품질에 대한 다른 자동화된 프로세스 또는 사용자 업데이트;

하나 이상의 인쇄 헤드에 대해 하나 이상의 잉크 리테이너 배치;

인쇄 헤드에 야간 표지판 부착;

인쇄 헤드로부터 야간 표지판 분리;

야간 표지판을 포함하는, 잉크 리테이너를 잉크로 채우는 동작;

야간 표지판으로부터를 포함하는, 잉크 리테이너로부터 잉크를 제거하는 동작에 대한 정보를 발신하는 것을 포함하지만, 이에 한정되지는 않는 데이터를 수신/발신하도록 구성될 수 있다.

수신된 정보 및 발신될 정보는 RAM(2004)과 같은 휘발성 메모리 및/또는 비휘발성 메모리(2008)에 저장될 수 있다. RAM(2004) 및 비휘발성 메모리(2008)는 데이터에 대한 저장 모듈로 구성될 수 있다. 비휘발성 메모리(2008)는 비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드의 저장 및/또는 성형 와이퍼를 사용하여 와이핑을 구현하기 위한 컴퓨터 판독가능 코드를 지원하는 컴퓨터 판독가능 저장 매체의 예이다. 이러한 컴퓨터 판독가능 저장 매체의 다른 예는 이런 코드를 지원하는 CD처럼 읽기용 기억 장치(read only memory)를 포함한다. 일반적으로, 제어 서브-시스템(2000)은 본 발명의 전술된 방법을 구현하도록 구성될 수 있다.

이 실시예의 설명을 돕기 위한 간단한 계산 사용은 본 발명의 유용성 및 기본적인 장점을 손상시키지 않아야 한다.

전술된 예, 사용된 번호, 및 예시적인 계산은 이 실시예의 설명을 돕기 위한 것임을 유의해야한다. 우연한 오타 및 수학적 오류는 본 발명의 유용성 및 기본적인 장점을 손상시키지 않아야 한다.

전술된 설명은 오직 예로서 제공되는 것이고, 많은 다른 실시예가 본 발명의 범주 내에서 첨부된 청구항에 규정된 것처럼 가능하다는 것을 이해할 것이다.

100 : 인쇄 헤드 102 : 오리피스 판
104 : 인쇄 마스크 106 : 슬릿
110 : 간극 112 : 슬릿 폭
114 : 슬릿 길이 200 : 성형 와이퍼
202 : 팁 204 : 팁-폭
206 : 팁-높이 210 : 조종 단부
700 : 홀더 900 : 베스
902 : 유체 1000 : 베스 교체 유닛
1100A : 연결부 1104 : 스토퍼
1300 : 보호 유체 1400 : 인쇄 헤드 하우징
1406 : 흡입 포트 1410 : 진공 시스템
1600 : 스프링 클립 1602 : 클립
1630 : 부착 보조 장치 1700 : 래치
1702 : 래치 클립 1800 : 잉크 리테이너
1802 : 잉크 베스 1902A : 제거 펌프
1902B : 복귀 펌프

Claims

(a) 성형 와이퍼의 조종 단부의 하나 이상의 쇼울더가 각각 슬릿의 하나 이상의 모서리와 접촉하고, 팁이 오리피스 표면에 사전결정된 압력을 인가할 정도로, 마스크의 슬릿 안으로 성형 와이퍼의 팁을 삽입하는 단계;
(b) 상기 팁이 상기 오리피스 표면을 닦도록, 상기 오리피스 표면에 대해 상기 성형 와이퍼를 이동시키는 단계를 포함하는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
팁을 삽입하는 단계는 상기 슬릿의 측면 상의 더 넓은 구역을 통해 상기 팁을 삽입하는 단계를 포함하고, 상기 더 넓은 구역은 상기 성형 와이퍼의 상기 팁을 수용하고 상기 팁을 상기 슬릿 안으로 인도하도록 구성되는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
팁을 삽입하는 단계는 상기 슬릿의 측면을 통해 상기 팁을 삽입하는 단계를 포함하는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
팁을 삽입하는 단계는 상기 슬릿의 바닥으로부터 상기 팁을 삽입하는 단계를 포함하는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
성형 와이퍼를 이동시키는 단계는 상기 하나 이상의 쇼울더와 상기 슬릿의 상기 하나 이상의 모서리 사이의 접촉을 각각 유지하는 동안 상기 슬릿을 따라 상기 성형 와이퍼를 이동시키는 단계를 포함하는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
성형 와이퍼를 이동시키는 단계는 상기 팁의 하나 이상의 측면과 상기 슬릿의 하나 이상의 모서리 사이의 접촉을 각각 유지하는 동안 상기 슬릿을 따라 상기 성형 와이퍼를 이동시키는 단계를 포함하는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
닦지 않는 동안, 상기 성형 와이퍼의 적어도 상기 팁은 세척액 및 인쇄액으로 구성된 그룹으로부터 선택된 유체에 저장되는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 팁은 개방-셀 폼으로 구성되는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 팁은 팁-폭 및 팁-높이를 갖고, 상기 조종 단부는 상기 팁-폭보다 큰 측면-폭을 갖는 측면을 갖고, 상기 측면 상의 상기 하나 이상의 쇼울더를 구비한 상기 조종 단부를 구성하도록 상기 팁이 상기 측면에 배치되고, 상기 하나 이상의 쇼울더의 쇼울더-폭은 상기 측면-폭 및 상기 팁-폭 사이의 차이인
인쇄 방법.
제 9 항에 있어서,
두 개의 쇼울더를 구비한 상기 조종 단부를 구성하도록 상기 팁이 상기 측면 상에 배치되고, 각각의 상기 두 개의 쇼울더는 상기 팁의 마주보는 측면상에 있는
인쇄 방법.
제 10 항에 있어서,
각각의 상기 두 개의 쇼울더는 대체로 동일한 폭을 갖는
인쇄 방법,
제 1 항에 있어서,
상기 슬릿은 상기 팁의 팁-폭과 대체로 동일한 슬릿 폭을 갖는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 오리피스 표면은 오리피스 직경을 갖는 하나 이상의 오리피스를 갖고, 상기 팁의 팁-폭은 적어도 상기 오리피스-직경 만큼 넓어 상기 하나 이상의 오리피스가 상기 성형 와이퍼의 상기 팁의 한번 통과로 닦이도록 하는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 사전결정된 압력은 수용가능한 사전결정된 압력 범위로부터 선택되는
인쇄 방법.
제 1 항에 있어서,
상시 오리피스 표면은 잉크젯 인쇄 헤드의 것인
인쇄 방법.
(ⅰ) 팁-폭 및 팁-높이를 갖는 팁;
(ⅱ) 상기 팁-폭보다 큰 측면-폭을 구비한 측면을 갖는 조종 단부를 포함하는 성형 와이퍼를 포함하고,
상기 측면 상에 하나 이상의 쇼울더를 구비한 상기 조종 단부를 구성하도록 상기 팁이 상기 측면 상에 배치되고, 상기 하나 이상의 쇼울더의 쇼울더-폭은 상기 측면-폭 및 상기 팁-폭 사이의 차이이고, 상기 팁-높이는 상기 하나 이상의 쇼울더가 슬릿의 하나 이상의 모서리에 대해 소정의 차폐-깊이로 눌러지도록 구성되고, 상기 팁-높이는 상기 차폐-깊이와 대체로 동일하고, 상기 차폐-깊이는 상기 슬릿의 하나 이상의 에지와 오리피스 표면 사이의 거리인
인쇄 시스템.
제 16 항에 있어서,
상기 팁은 두 개의 쇼울더를 구비한 상기 조종 단부를 구성하도록 상기 측면 상에 배치되고, 상기 두 개의 쇼울더 각각은 상기 팁의 마주보는 측면에 있는
인쇄 시스템.
제 17 항에 있어서,
상기 두 개의 쇼울더 각각은 대체로 동일한 폭을 갖는
인쇄 시스템.
제 16 항에 있어서,
상기 하나 이상의 쇼울더가 슬릿의 하나 이상의 모서리에 대해 소정의 차폐-깊이로 눌러지는 경우, 상기 팁은 사전결정된 압력을 상기 오리피스 표면에 인가하는
인쇄 시스템.
제 19 항에 있어서,
상기 사전결정된 압력은 수용가능한 사전결정된 압력 범위로부터 선택되는
인쇄 시스템.
제 16 항에 있어서,
상기 슬릿을 포함하는 인쇄 마스크를 포함하고, 상기 슬릿은 상기 팁-폭과 대체로 동일한 슬릿-폭을 갖는
인쇄 시스템.
제 21 항에 있어서,
상기 슬릿은 상기 슬릿의 하나 이상의 대응 측면 상에 하나 이상의 넓은 구역을 포함하고, 상기 넓은 구역은 상기 성형 와이퍼의 상기 팁을 수용하고 상기 팁을 상기 슬릿 안으로 인도하도록 구성되는
인쇄 시스템.
제 21 항에 있어서,
상기 슬릿-폭은 0.4 mm와 2mm 사이인
인쇄 시스템.
제 22 항에 있어서,
상기 팁-폭은 상기 슬릿-폭과 동일하거나 상기 슬릿-폭보다 크고, 상기 슬릿-폭에 상기 슬릿-폭의 10%를 더한 것과 동일하거니 작은(팁-폭 = 슬릿-폭+(0 내지 10%))
인쇄 시스템.
제 21 항에 있어서,
상기 오리피스 표면으로부터 상기 마스크의 바닥까지의 차폐-깊이는 0.4mm 및 2mm 사이이고, 상기 하나 이상의 쇼울더로부터 상기 팁의 말단까지의 팁-높이는 상기 차폐 깊이에 상기 제 1 높이의 5% 내지 30%를 더한 것인(팁-높이 = 차폐-깊이 + 5% 내지 30%)
인쇄 시스템.
제 16 항에 있어서,
상기 오리피스 표면은 오리피스-직경을 갖는 하나 이상의 오리피스을 갖고, 상기 팁-폭은 적어도 상기 오리피스-직경 만큼 넓어 상기 성형 와이퍼의 상기 팁의 한번 통과로 상기 하나 이상의 오리피스 표면이 닦이도록 하는
인쇄 시스템.
제 16 항에 있어서,
상기 팁은 개방-셀 폼으로 구성되는
인쇄 시스템.
제 16 항에 있어서,
상기 팁은 폴리올레핀으로 구성되는
인쇄 시스템.
제 16 항에 있어서,
상기 오리피스 표면은 잉크젯 인쇄 헤드의 것인
인쇄 시스템.
(a) 상기 잉크 리테이너의 적어도 일부분을 적어도 부분적으로 채우는 인쇄 잉크가 오리피스 표면의 대체로 전부와 접촉하도록 인쇄 헤드에 대해 잉크 리테이너를 배치하는 단계; 및
(b) 상기 잉크 리테이너를 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채우는 단계를 포함하는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 30 항에 있어서,
(c) 인쇄 기간동안, 오리피스 표면으로부터 기판으로 잉크가 분출될 수 있도록 인쇄 헤드에 대해 상기 잉크 리테이너를 배치하는 단계를 포함하는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 30 항에 있어서,
베스의 적어도 일부분이 오리피스 표면을 둘러싸는 경우와 상기 일부분이 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는 경우, 상기 잉크 리테이너는 상기 인쇄 잉크가 오리피스 표면의 대체로 전부와 접촉하도록 구성된 잉크 베스를 포함하는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 32 항에 있어서,
상기 베스는 인쇄 마스크로부터 배출된 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 30 항에 있어서,
상기 잉크 리테이너는 개방-셀 폼을 포함하고, 상기 개방-셀 폼은 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진 다음, 채워진 개방-셀 폼이 상기 오리피스 표면과 접촉하도록 배치되는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 30 항에 있어서,
상기 잉크 리테이너는 개방-셀 폼을 포함하고, 상기 개방-셀 폼은 상기 오리피스 표면과 접촉하도록 배치된 다음, 상기 개방-셀 폼이 상기 인쇄로 적어도 부분적으로 채워지는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 35 항에 있어서,
상기 인쇄 잉크는 상기 개방-셀 폼을 적어도 부분적으로 채우기 위해 인쇄 헤드로부터 배출되는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 30 항에 있어서,
상기 잉크 리테이너는 상기 인쇄 잉크로 반복적으로 채워지는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 30 항에 있어서,
상기 잉크 리테이너는 상기 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크에 의해 반복적으로 채워지는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 30 항에 있어서,
상기 인쇄 잉크의 적어도 일부분은 상기 잉크 리테이너로부터 제거되고, 제거된 잉크의 적어도 일부분은 상기 잉크 리테이너를 채우는데 사용할 수 있도록 구성되는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
제 30 항에 있어서,
상기 인쇄 잉크의 적어도 일부분은 상기 잉크 리테이너로부터 제거되고, 새로운 잉크가 상기 잉크 리테이너를 채우는데 사용할 수 있도록 구성되는
비-인쇄 기간 동안 인쇄 헤드를 저장하는 방법.
오리피스 표면을 구비한 인쇄 헤드를 포함하는 인쇄 시스템에 있어서,
(a) 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워진 잉크 리테이너의 적어도 일부분으로 구성된 잉크 리테이너; 및
(b) (ⅰ) 비-인쇄 기간 동안 첫 번째 상태에서, 상기 인쇄 잉크가 오리피스 표면의 대체로 전부와 접촉하도록 상기 잉크 리테이너가 인쇄 헤드에 대해 배치되고,
(ⅱ) 인쇄하는 동안 두 번째 상태에서, 잉크가 오리피스 표면으로부터 기판으로 분출될 수 있도록
상기 인쇄 헤드에 대해 상기 잉크 리테이너를 구성하도록 동작가능한 배치 장치를 포함하는
인쇄 시스템.
제 41 항에 있어서, 상기 잉크 리테이너는 상기 인쇄 헤드로부터 배출된 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 41 항에 있어서,
상기 잉크 리테이너는 개방-셀 폼을 포함하고, 상기 개방-셀 폼은 상기 개방-셀 폼이 상기 오리피스 표면과 접촉하기 전에 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 41 항에 있어서,
상기 잉크 리테이너는 개방-셀 폼을 포함하고, 상기 개방-셀 폼은 상기 개방-셀 폼이 상기 오리피스 표면과 접촉한 후 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 44 항에 있어서,
상기 개방-셀 폼은 상기 인쇄 헤드로부터 배출된 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 41 항에 있어서,
상기 베스의 적어도 일부분이 오리피스 표면을 둘러싸는 경우와 상기 일부분이 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는 경우, 상기 잉크 리테이너는 상기 인쇄 잉크가 오리피스 표면의 대체로 전부와 접촉하도록 구성되는 베스를 포함하는
인쇄 시스템.
제 46 항에 있어서,
상기 베스가 상기 오리피스 표면을 둘러싸기 전에, 상기 베스는 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 46 항에 있어서,
상기 베스가 상기 오리피스 표면을 둘러싼 후에, 상기 베스는 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 48 항에 있어서,
상기 베스는 상기 인쇄 헤드로부터 배출된 상기 인쇄 잉크로 적어도 부분적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 41 항에 있어서,
상기 잉크 리테이너는 상기 인쇄 잉크로 반복적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 50 항에 있어서,
상기 잉크 리테이너는 상기 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크로 반복적으로 채워지는
인쇄 시스템.
제 41 항에 있어서,
상기 인쇄 잉크의 적어도 일부분은 상기 잉크 리테이너로부터 제거되고, 제거된 잉크의 적어도 일부분은 상기 잉크 리테이너를 채우는데 사용할 수 있도록 구구성되는
인쇄 시스템.
(a) 부착 장치를 제공하는 단계; 및
(b) 야간 표지판의 부착 구조에 대응하는, 슬릿에 접촉하도록 밀폐 요소를 배치하는 단계를 포함하고,
상기 부착 장치는 마스크의 슬릿과 접촉하도록 밀폐 요소를 배치하도록 구성되고, 상기 밀폐 요소는 상기 슬릿의 대체로 전부와 적어도 접촉하고, 상기 접촉은 상기 마스크의 바닥면 상에 있고 상기 접촉은 상기 마스크의 상부면 상의 유체가 상기 슬릿을 통해 상기 마스크의 바닥면으로 가는 것을 방지하기에 충분한 밀례 압력을 갖고, 상기 밀폐 요소 및 상기 부착 장치가 야간 표지판을 구성하도록 상기 상부면은 상기 바닥면과 마주보고 있는
인쇄 방법.
제 53 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 비다공성인
인쇄 방법.
제 53 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 비투과성 상부측 표면을 포함하는
인쇄 방법.
제 53 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 개방-셀 폼인
인쇄 방법,
제 53 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 HT-800 인
인쇄 방법.
제 53 항에 있어서,
상기 부착 장치는 상기 야간 표지판이 부착 구조에 있을 경우 상기 밀폐 요소가 과도한 압력으로 상기 슬릿과 접촉하는 것을 방지하기 위해 상기 야간 표지판의 부분으로 구성되는 하나 이상의 스토퍼를 포함하는
인쇄 방법.
제 53 항에 있어서,
상기 밀폐 압력은 수용가능한 사전결정된 압력 범위로부터 선택되는
인쇄 방법.
제 53 항에 있어서,
슬릿에 접촉하도록 밀폐 요소를 배치하는 단계는
(c) 상기 마스크에 상기 부착 장치를 연결하는 단계를 포함하는
인쇄 방법.
제 53 항에 있어서,
슬릿에 접촉하도록 밀폐 요소를 배치하는 단계는
(c) 잉크젯 인쇄 헤드에 상기 부착 장치를 연결하는 단계를 포함하고,
부착 구조에서 상기 야간 표지판은 상기 슬릿을 통해 상기 잉크젯 인쇄 헤드로부터 의 분출을 허용하도록 구성되는
인쇄 방법.
제 61 항에 있어서,
상기 야간 표지판은 상기 부착 구조에 있고 상기 인쇄 헤드와 상기 마사크의 상부면 사이의 간극은 상기 잉크로 상기 인쇄 헤드의 적어도 오리피스 표면을 덮기에 충분한 보호 유체로 채워지는
인쇄 방법.
제 62 항에 있어서,
상기 보호 유체는 상기 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크인
인쇄 방법.
제 63 항에 있어서,
상기 잉크는 밀폐 요소가 마스크 슬릿을 밀폐하는 경우의 시간의 적어도 일부동안 헤드를 통해 순환하는
인쇄 방법.
제 64 항에 있어서,
상기 잉크는 먼저 마스크의 상부면으로부터 제거된 다음 마스크 안으로 잉크가 배출되는
인쇄 방법.
제 62 항에 있어서,
상기 간극을 잉크로 채운 후, 상기 잉크는 상기 간극으로부터 제거되는
인쇄 방법.
제 66 항에 있어서,
상기 잉크는 진공 시스템을 통해 상기 간극으로부터 제거되는
인쇄 방법.
제 66 항에 있어서,
상기 간극으로부터 잉크가 제거된 후, 상기 야간 표지판이 상기 부착 구조로부터 제거되는
인쇄 방법.
(a) 슬릿을 구비하고, 인쇄하는 동안 인쇄 잉크가 슬릿을 통해 인쇄 헤드로부터 가판으로 분출될 수 있도록 인쇄 헤드에 대해 구성된 인쇄 마스크 및 인쇄 헤드;
(b) 밀폐 요소; 및
(c) 부착 장치를 포함하고,
상기 밀폐 요소 및 상기 부착 장치를 야간 표지판으로 구성하기 위해, 제 1 상태에서 비-인쇄 기간 동안 상기 밀폐 요소가 인쇄 헤드의 슬릿과 접촉하도록 상기 부착 장치가 인쇄 헤드에 대해 배치되고, 상기 밀폐 요소가 상기 슬릿의 대체로 전부와 적어도 접촉하고, 상기 접촉은 상기 마스크의 상부면 상에 있고 상기 접촉은 상기 마스크의 상부면 상의 유체가 상기 슬릿을 통해 상기 마스크의 바닥면으로 흐르는 것을 방지하기에 충분한 밀폐 압력을 갖고, 제 2 상태에서 인쇄하는 동안 상기 부착 장치는 인쇄 헤드로부터 기판으로 잉크가 분출될 수 있도록 상기 밀폐 요소를 배치하도록 구성되는
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 비다공성인
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 폐쇄-셀 폼인
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 탄력성이 있고 압축할 수 있는
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 5mm 두께의 HT-800인
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
(c) 상기 밀폐 요소가 상기 슬릿과 접촉하는 경우 상기 밀폐 요소가 과도한 압력으로 상기 슬릿과 접촉하는 것을 방지하기 위해 상기 야간 표지판의 일부로 구성되는 하나 이상의 스토퍼를 더 포함하는
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
상기 밀폐 압력은 수용가능한 사전결정된 압력 범위로부터 선택되는
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
(c) 잉크젯 인쇄 헤드를 더 포함하고,
분리 구조에서 상기 야간 표지판은 상기 잉크젯 인쇄 헤드로부터 상기 슬릿을 통한 잉크 분출을 허용하도록 구성되는
인쇄 시스템.
제 76 항에 있어서,
상기 밀폐 요소는 상기 야간 표지판의 부착 구조에 대응하는 상기 슬릿과 접촉하고, 상기 인쇄 헤드 및 상기 마스크의 상기 상부면 사이의 간극은 상기 잉크로 상기 인쇄 헤드의 적어도 오리피스 표면을 덮도록 충분한 양의 보호 유체로 채워지는
인쇄 시스템.
제 77 항에 있어서,
상기 보호 유체는 상기 인쇄 헤드로부터 배출된 잉크인
인쇄 시스템.
제 77 항에 있어서,
(d) 상기 간극으로부터 상기 잉크를 제거하도록 구성된 잉크 제거 시스템을 더 포함하는
인쇄 시스템.
제 79 항에 있어서,
상기 잉크 제거 시스템은 진공 시스템인
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
상기 부착 장치는 적어도 두개의 스프링을 포함하고, 각각의 스프링의 제 1 단부는 상기 밀폐 요소의 마주보는 측면 상에 장착되고, 상기 부착 구조에서 상기 각각의 스프링의 제 2 단부는 상기 마스크에 연결되고, 상기 스프링은 상기 밀폐 압력으로 상기 슬릿의 대체로 전부와 상기 밀폐 요소가 접촉할 수 있도록 구성되는
인쇄 시스템.
제 69 항에 있어서,
상기 부착 장치는
(ⅰ) 상기 부착 장치의 제 1 부분에 장착되는 회전가능한 클립; 및
(ⅱ) 상기 부착 장치의 제 2 부분에 장착된 적어도 하나의 부착 보조-장치를 포함하고, 상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은 상기 밀폐 요소의 마주보는 측면 상에 있고,
부착 구조에서 상기 회전가능한 클립 및 적어도 하나의 부착 보조-장치는 상기 마스크에 연결되고, 분리 구조에서 상기 적어도 하나의 부착 보조-장치는 상기 마스크로부터 분리되고, 상기 적어도 하나의 부착 보조-장치는 상기 밀폐 압력으로 상기 슬릿의 대체로 전부와 상기 밀폐 요소가 접촉할 수 있도록 구성되는
인쇄 시스템.
제 82 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 부착 보조-장치는 스프링을 포함하는
인쇄 시스템.
제 82 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 부착 보조-장치는 래치를 포함하는
인쇄 시스템.
제 82 항에 있어서,
성기 분리 구조에서 상기 회전가능한 클립은 상기 마스크에 연결되는
인쇄 시스템.
제 82 항에 있어서,
분리 구조에서 상기 회전가능한 클립은 상기 마스크로부터 분리되는
인쇄 시스템.
(a) 슬릿을 구비한 마스크를 포함하는 잉크젯 인쇄 헤드;
(b) 밀폐 요소; 및
(c) 부착 장치를 포함하고,
상기 밀폐 요소와 상기 부착 장치를 야간 표지판으로 구성하기 위해, 상기 부착 장치는 상기 밀폐 요소를 상기 마스크의 상기 슬릿과 접촉하게 배치하도록 구성되고, 상기 밀폐 요소는 상기 슬릿의 대체로 전부와 적어도 접촉하고, 상기 접촉은 상기 마스크의 바닥면 상에 있고 상기 접촉은 상기 슬릿을 통해 상기 마스크의 상부면 상의 유체가 상기 마스크의 바닥면으로 가는 것을 방지하기에 충분한 밀폐 압력을 갖고, 상기 상부면은 상기 바닥면과 마주보는
인쇄 시스템.