KR20020084088A - 히드록시피콜린산 유도체의 제조 방법 - Google Patents

히드록시피콜린산 유도체의 제조 방법 Download PDF

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아벤티스 크롭사이언스 소시에떼아노님
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Abstract

본 발명은 하기 화학식 Ⅰ의 화합물의 제조 방법에 관한 것이다:
[화학식 Ⅰ]
(식 중, n, Q1, Q2, X1, X2, Y 및 Z는 명세서에서 정의된 바와 같다).

Description

히드록시피콜린산 유도체의 제조 방법 {METHOD FOR PREPARING HYDROXYPICOLINIC ACID DERIVATIVES}
본 발명은 3-히드록시피콜린산 유도체, 더욱 특히 위치 3에서 산소로 및 임의로 위치 4에서 치환된 피콜린산 유도체의 신규 제조 방법에 관한 것이다.
이같은 3-히드록시피콜린산 유도체는 식물의 식물병원체성 진균에 대한 이들의 살진균성에 대하여, 문헌, 특히 특허 출원 WO-A-99/11127 및 [Kuzo Shibata 등, The Journal of Antibiotics,51(12), (1998), 1113-1116]의 간행물에 공지되어 있다.
그러나, 현존하는 제조 방법은, 예를 들어, 위치 4에서 치환된 3-히드록시피콜린산 유도체로의 접근을 허용하지 않는다. 구체적으로, 이러한 간행물에 기술된 화합물은 자연 화합물의 발효 사향 (fermentation musk)으로부터 수득된다.
다른 3-히드록시피콜린아미드 유도체는 또한 특허 출원 공보 JP-11 228 542 및 EP-A-0 690 061로부터 공지되어 있다. 또한, 현존하는 제조 방법은 본 명세서의 모든 유도체로의 접근을 제공하지 않는다.
그러므로, 본 발명은 하기 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 신규 제조 방법에 관한 것이다:
[식 중:
n은 0 또는 1을 나타내고,
Q1은 산소 또는 황 원자, NR1기 및 N-NR4R5기로부터 선택되고,
Q2는 OR2또는 SR3기 및 -NR4R5기로부터 선택되거나,
Q1및 Q2는 함께, 할로겐 및 알킬 및 할로알킬 라디칼로부터 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된, 2 내지 3 개의 산소 및/또는 질소 원자를 함유하는 5 내지 7 개 원자의 고리를 형성할 수 있고,
Z는 수소 원자, 시아노 라디칼 및 알킬, 알릴, 아릴, 아릴알킬, 프로파르길, 시클로알킬, 할로시클로알킬, 알케닐, 알키닐, 시아노알킬, 할로알킬, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 알콕시카르보닐아미노알킬, 아미노카르보닐아미노알킬, 알콕시카르보닐, N-알킬아미노카르보닐, N,N-디알킬아미노카르보닐, 아실, 티오아실, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐, 알콕시술포닐, 아미노술포닐, N-알킬아미노술포닐, N,N-디알킬아미노술포닐, 아릴술피닐, 아릴술포닐, 아릴옥시술포닐, N-아릴아미노술포닐, N,N-디아릴아미노술포닐 또는 N,N-아릴알킬아미노술포닐 라디칼로부터 선택되고;
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬, 시아노알콕시, 시아노알킬티오, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼,
시클로알킬, 할로시클로알킬, 알케닐, 알키닐, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 알케닐티오 또는 알키닐티오 기,
아미노, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, -NHCOR10, -NHCSR10, N-알킬아미노카르보닐아미노, N,N-디알킬아미노카르보닐아미노, 아미노알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 티오아실아미노, 알콕시티오카르보닐아미노, N-알킬아미노티오카르보닐아미노, N,N-디알킬아미노티오카르보닐아미노, N,N-아릴알킬아미노카르보닐아미노, N-알킬술피닐아미노, N-알킬술포닐아미노, N-알킬(알킬술포닐)아미노, N-아릴술피닐아미노, N-아릴술포닐아미노, N-알콕시술포닐아미노, N-알콕시술피닐아미노, N-할로알콕시술피닐아미노, N-할로알콕시술포닐아미노, N-아릴아미노, N,N-디아릴아미노, 아릴카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, N-아릴아미노카르보닐아미노, N,N-디아릴아미노카르보닐아미노, 아릴티오카르보닐아미노, 아릴옥시티오카르보닐아미노, N-아릴아미노티오카르보닐아미노, N,N-디아릴아미노티노카르보닐아미노 또는 N,N-아릴알킬아미노티오카르보닐아미노 기,
아실, 카르복실, 카르바모일, N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일, 저급 알콕시카르보닐, N-아릴카르바모일, N,N-디아릴카르바모일, 아릴옥시카르보닐 또는 N,N-아릴알킬카르바모일 라디칼,
및 하기 식의 이미노 기로부터 선택되고:
X1및 X2는 동일하거나 상이하며, 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 및 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬, 시아노알콕시, 시아노알킬티오, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼로부터 선택되거나,
X1및 X2는 또한 함께 연결되어, 황, 산소, 질소 및 인으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 임의로 함유하는, 포화, 부분적 불포화 또는 전체 불포화 4- 내지 8-원 고리를 형성할 수 있고,
R2및 R3는 동일하거나 상이하며, 서로 독립적으로 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼, 할로알킬, 시클로알킬, 할로시클로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬 또는 아실 라디칼, 니트로, 시아노, 카르복실, 카르바모일 또는 3-옥세타닐옥시카르보닐 라디칼, 및 N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일, 알콕시카르보닐, 알킬티오카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 알콕시티오카르보닐, 할로알콕시티오카르보닐, 알킬티오티오카르보닐, 알케닐, 알키닐, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, N-알킬아미노알킬 또는 N,N-디알킬아미노알킬 라디칼, 또는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택되거나,
R1, R4, R5, R6및 R7은 동일하거나 상이하며, 서로 독립적으로 수소 원자, 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 임의 치환 알킬 라디칼, 할로알킬, 시클로알킬, 할로시클로알킬, 알콕시, 아릴옥시, 아릴알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬 또는 아실 라디칼, 니트로, 시아노, 카르복실, 카르바모일 또는 3-옥세타닐옥시카르보닐 라디칼, 및 N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일, 알콕시카르보닐, 알킬티오카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 알콕시티오카르보닐, 할로알콕시티오카르보닐, 알킬티오티오카르보닐, 알케닐, 알키닐, N-알킬아미노,N,N-디알킬아미노, N-알킬아미노알킬 또는 N,N-디알킬아미노알킬 라디칼,
또는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택되거나,
한편, R4및 R5,또는 다른 한편으로는, R6및 R7은 함께 연결되어, 황, 산소, 질소 및 인으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 임의로 함유하는 포화, 부분적 불포화 또는 전체 불포화 4- 내지 8-원 고리를 형성할 수 있고,
T는 직접 결합 또는 라디칼 -(CH2)m- (m은 1 내지 12의 값이다)로부터 선택된 2가 라디칼을 나타내고, 임의로 상기 라디칼은 질소, 산소 및/또는 황으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자, 및 옥시알킬렌, 알콕시알킬렌, 카르보닐 (-CO-), 옥시카르보닐 (-O-CO-), 카르보닐옥시 (-CO-O-), 술피닐 (-SO-), 술포닐 (-SO2-), 옥시술포닐 (-O-SO2-), 술포닐옥시 (-SO2-O-), 옥시술피닐 (-O-SO-), 술피닐옥시 (-SO-O-), 티오 (-S-), 옥시 (-O-), 비닐 (-C=C-), 에티닐 (-C ≡C-), -NR9-, -NR9O-, -ONR9-, -N=N-, -NR9-NR10-, -NR9-S-, -NR9-SO-, -NR9-SO2-, -S-NR9-, -SO-NR9-, -SO2-NR9-, -CO-NR9-O- 또는 -O-NR9-CO- 라디칼이 개입되거나 이들로 종결되고,
R8은 수소 원자 및 아릴 또는 헤테로시클릴 라디칼로부터 선택되고,
동일하거나 상이할 수 있는 R9및 R10은 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 및 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 아릴알킬, 시아노알킬, 시아노알콕시, 시아노알킬티오, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼로부터 선택된다].
상기 정의된 것과 같은 화학식 Ⅰ의 화합물의 토토머 형태는 또한 본 발명에 포함된다. 토토머 형태에 의해, 문헌 ["The Tautomerism of Heterocycles, Advances in Heterocyclic Chemistry, Supplement 1", J Elguero, C. Martin, A.R. Katritsky 및 P Linda, Academic Press New York 출판, 1976, 1-4 쪽]에 기술된 모든 이성질성 형태가 이해된다.
하기의 일반적인 용어는 하기의 의미로 사용된다:
할로겐 원자는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드 원자를 지시하고,
알킬 라디칼 뿐만 아니라 이러한 알킬 라디칼을 포함하는 기 (알콕시, 알킬카르보닐 또는 아실 등)는, 달리 구체화되지 않는다면, 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 6 개의 탄소 원자를 함유하고, 임의로 치환되고,
할로겐화 알킬, 알콕시 및 할로시클로알킬 라디칼은 하나 이상의 동일 또는 상이한 할로겐 원자를 함유할 수 있고,
시클로알킬 라디칼은 3 내지 6 개의 탄소 원자를 함유하고, 임의로 치환되고,
알케닐 및 알키닐 라디칼, 뿐만 아니라 이같은 라디칼을 포함하는 기는, 달리 구체화되지 않는다면, 직쇄 또는 분지쇄에 2 내지 6 개의 탄소 원자를 함유하고, 임의로 치환되고,
아실 라디칼은 알킬카르보닐 또는 시클로알킬카르보닐을 지시하고, 달리 구체화되지 않는다면, 알킬 부분은 1 내지 6 개의 탄소 원자를 함유하고, 시클로알킬 부분은 3 내지 6 개의 탄소 원자를 함유하며, 임의로 치환되고,
알킬렌 라디칼은 2가 -(CH2)m- 라디칼 (식 중, m은 1, 2, 3, 4, 5 또는 6과 같은 정수를 나타낸다)을 나타내고,
"아릴" 및 "아릴알킬"에서 "아릴"이라는 용어는 임의 치환된 페닐 또는 나프틸을 나타내고,
"헤테로시클릴" 및 "헤테로시클릴알킬"에서 "헤테로시클릴"이라는 용어는 질소, 산소, 황, 규소 및 인으로부터 선택된, 동일하거나 상이한 하나 이상의 헤테로원자를 함유하는 포화, 부분적 불포화 또는 불포화, 임의 치환된 4 내지 10 원의 고리를 나타내고,
아미노 라디칼이 2치환된 경우, 두 치환체는 동일하거나 상이하거나, 또는 이들이 부착된 질소 원자와 함께, 전체적으로 5 또는 6 개의 원자를 함유하는, 포화, 부분적 불포화 또는 불포화 질소-함유 헤테로환을 형성할 수 있고,
카르바모일 라디칼이 2치환된 경우, 두 치환체는 동일하거나 상이하거나, 또는 이들이 부착된 질소 원자와 함께, 전체적으로 탄소 원자가 5 내지 6 개인, 포화, 부분적 불포화 또는 불포화 질소-함유 헤테로환을 형성할 수 있고,
달리 구체화되지 않는다면, 유기 기에 적합한 "임의 치환"이라는 표현은 이 기를구성하는 상이한 라디칼에 적용되고, 상이한 라디칼이 동일하거나 상이한, 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된다는 것을 지시한다.
본 발명의 한 변형에 따르면, 본 발명은 하기와 같은 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
X1및 X2는 각각 수소 원자를 나타내고,
다른 치환체는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 또다른 변형에 따르면, 이 발명은 하기와 같은 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
Q1은 산소 원자 및 황 원자로부터 선택되고,
다른 치환체는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 세번째 변형에 따르면, 이 발명은 하기와 같은 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
Z는 알킬 라디칼 및 수소 원자 또는 수소를 공여할 수 있는, 쪼개질 수 있는(clearable) 라디칼, 예를 들어, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 아실, 티오아실, 시아노알킬, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐 또는 알킬술피닐 라디칼로부터 선택되고,
다른 치환체는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 또다른 변형은 하기와 같은 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼, 아미노 기, 및 N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, -NHCOR10, -NHCSR10, N-아릴아미노, N,N-디아릴아미노, 아릴카르보닐아미노, 아릴티오카르보닐아미노, 아릴옥시티오카르보닐아미노 또는 N,N-아릴알킬아미노티오카르보닐아미노 기로부터 선택되고,
다른 치환체는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 또다른 변형에 따르면, 이 발명은 하기와 같은 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
Q2는 -NR4R5기 (식 중, R4는 수소 원자를 나타내고 R5는 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 임의 치환 알킬 라디칼, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐 및 알키닐 라디칼 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타내고,
다른 치환체는 상기 정의된 바와 같다.
더욱 특히, 본 발명은 각각의 또는 조합된 하기의 특성을 갖는 화학식 Ⅰ의 피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
X1및 X2는 각각 수소 원자를 나타냄,
Z는 알킬 라디칼 및 수소 원자 또는 수소를 공여할 수 있는, 쪼개질 수 있는 라디칼, 예를 들어, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알키, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 아실, 티오아실, 시아노알킬, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐 또는 알킬술피닐 라디칼로부터 선택됨,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼, 아미노 기, 및 N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, -NHCOR10, -NHCSR10, N-아릴아미노, N,N-디아릴아미노, 아릴카르보닐아미노, 아릴티오카르보닐아미노, 아릴옥시티오카르보닐아미노 또는 N,N-아릴알킬아미노티오카르보닐아미노 기로부터 선택됨,
Q1은 산소 원자 및 황 원자로부터 선택됨,
Q2는 -NR4R5기 (식 중, R4는 수소 원자를 나타내고 R5는 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 임의 치환 알킬 라디칼, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐 및 알키닐 라디칼 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타냄,
다른 치환체는 상기 정의된 바와 같음.
심지어 더욱 특히, 본 발명은 하기의 특성을 갖는 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 같은 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
X1및 X2는 각각 수소 원자를 나타내고,
Z는 알킬 라디칼 및 수소 원자 또는 수소를 공여할 수 있는, 쪼개질 수 있는 라디칼, 예를 들어, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알키, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 아실, 티오아실, 시아노알킬, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐 또는 알킬술피닐 라디칼로부터 선택되고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼, 아미노 기, 및 N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, -NHCOR10, -NHCSR10, N-아릴아미노, N,N-디아릴아미노, 아릴카르보닐아미노, 아릴티오카르보닐아미노, 아릴옥시티오카르보닐아미노 또는 N,N-아릴알킬아미노티오카르보닐아미노 기로부터 선택되고,
Q1은 산소 원자 및 황 원자로부터 선택되고,
Q2는 -NR4R5기 (식 중, R4는 수소 원자를 나타내고 R5는 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 임의 치환 알킬 라디칼, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐 및 알키닐 라디칼 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타내고,
다른 치환체는 상기 정의된 바와 같다.
심지어 더욱 특히, 본 발명은 하기의 특성을 갖는 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
X1및 X2는 각각 수소 원자를 나타내고,
Z는 알킬 라디칼 및 수소 원자 또는 수소를 공여할 수 있는, 쪼개질 수 있는 라디칼, 예를 들어, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알키, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 아실, 티오아실, 시아노알킬, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐 또는 알킬술피닐 라디칼로부터 선택되고,
Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 아지도, 알콕시, 알킬티오 및 알킬술포닐 라디칼 및 아미노, -NHCOR10및 -NHCSR10기로부터 선택되고,
Q1은 산소 원자를 나타내고,
Q2는 -NR4R5기 (식 중, R4는 수소 원자를 나타내고 R5는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타내고,
다른 치환체는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 문맥에서, "아릴"이라는 용어는 페닐 또는 나프틸을 의미하고, "아릴알킬"이라는 용어는 페닐알킬 또는 나프틸알킬, 더욱 특히 벤질, 페네틸, 페닐프로필, 페닐부틸, 나프틸메틸, 나프틸에틸, 나프틸프로필 또는 나프틸부틸을 의미한다. 이러한 다양한 라디칼은, 동일하거나 상이할 수 있는, 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬 라디칼로 임의로 치환될 수 있다고 이해된다.
"헤테로시클릴" 및 "헤테로시클릴알킬"이라는 용어는 유사하게 정의되고, "헤테로환"은 질소, 산소, 황, 규소 및 인으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는, 4 내지 10 개의 고리 단위를 함유하는 포화, 부분적 불포화 또는 불포화 단환 또는 이환을 의미한다고 이해된다.
더욱 특히, "헤테로환"이라는 용어는 하기의 고리 (ⅰ) 내지 (ⅴ) 중 하나인 것으로 이해된다:
화학식 ⅰ로 기술되는 5-원 고리:
[식 중, 목록 B1, B2, B3, B4의 각각의 기는 상기 목록이 0 내지 3 개의 탄소 원자, 0 내지 1 개의 황 원자, 0 내지 1 개의 산소 원자 및 0 내지 4 개의 질소원자를 함유하도록 탄소, 질소, 산소 및 황 원자로부터 선택된다];
화학식 ⅱ로 기술되는 6-원 고리:
[식 중, 목록 D1, D2, D3, D4, D5의 각각의 기는 상기 목록이 1 내지 4 개의 탄소 원자 및 1 내지 4 개의 질소원자를 함유하도록 탄소 및 질소 원자로부터 선택된다];
화학식 ⅲ으로 기술되는, 각각이 6-원인 두 축합고리:
[식 중, 목록 E1, E2, E3, E4, E5, E6, E7, E8에서 각각의 기는 상기 목록이 4 내지 7개의 탄소 원자 및 1 내지 4 개의 질소원자를 함유하도록 탄소 및 질소 원자로부터 선택된다];
화학식 ⅳ로 기술되는, 함께 축합된 6-원 고리 및 5-원 고리:
[식 중:
* 목록 J1, J2, J3, J4, J5, J6에서 각각의 기는 상기 목록이 3 내지 6 개의 탄소 원자 및 0 내지 3 개의 질소원자를 함유하도록 탄소 및 질소 원자로부터 선택되고;
* 목록 L1, L2, L3에서 각각의 기는 상기 목록이 0 내지 3 개의 탄소 원자, 0 내지 1 개의 황 원자, 0 내지 1 개의 산소 원자 및 0 내지 3 개의 질소원자를 함유하도록 탄소, 질소, 산소 및 황 원자로부터 선택되고;
* 목록 J1, J2, J3, J4, J5, J6, L1, L2, L3에서 각각의 기는 상기 목록이 3 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하도록 선택된다];
화학식 ⅴ로 기술되는, 각각이 5-원인 두 축합고리:
[식 중:
목록 M1, M2, M3에서 각각의 기는 상기 목록이 0 내지 3 개의 탄소 원자, 0 내지 1 개의 황 원자, 0 내지 1 개의 산소 원자 및 0 내지 3 개의 질소 원자를 함유하도록 탄소, 질소, 산소 및 황 원자를 나타내고;
목록 T1, T2, T3에서 각각의 기는 상기 목록이 0 내지 3 개의 탄소 원자, 0 내지 1 개의 황 원자, 0 내지 1 개의 산소 원자 및 0 내지 3 개의 질소 원자를 함유하도록 탄소, 질소, 산소 및 황 원자를 나타내고;
Z는 탄소 또는 질소 원자를 나타내고;
목록 M1, M2, M3, T1, T2, T3에서 각각의 기는 상기 목록이 0 내지 6 개의 탄소 원자를 함유하도록 선택된다].
본 발명에서, "헤테로환"이라는 용어는 더더욱 특히 하기를 의미한다: 푸릴, 피롤릴, 티에닐, 피라졸릴, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 이소옥사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 1,2,3-옥사디아졸릴, 1,2,4-옥사디아졸릴, 1,2,5-옥사디아졸릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 1,2,3-티아디아졸릴, 1,2,4-티아디아졸릴, 1,2,5-티아디아졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,4-트리아졸릴, 테트라졸릴, 피리딜, 피리미디닐, 피라지닐, 피리다지닐, 1,2,3-트리아지닐, 1,2,4-트리아지닐, 1,3,5-트리아지닐, 1,2,3,4-테트라지닐, 1,2,3,5-테트라지닐, 1,2,4,5-테트라지닐, 벤즈이미다졸릴, 인다졸릴, 벤조트리아졸릴, 벤즈옥사졸릴, 1,2-벤즈이소옥사졸릴, 2,1-벤즈이소옥사졸릴, 벤조티아졸릴, 1,2-벤즈이소티아졸릴, 2,1-벤즈이소티아졸릴, 1,2,3-벤즈옥사디아졸릴, 1,2,5-벤즈옥사디아졸릴, 1,2,3-벤조티아디아졸릴, 1,2,5-벤조티아디아졸릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 퀴노옥사졸리닐, 퀴나졸리닐, 시놀릴 또는 프탈라질, 페리디닐, 벤조트리아지닐, 1,5-나프티리디닐, 1,6-나프티리디닐, 1,7-나프티리디닐, 1,8-나프티리디닐, 이미다조[2,1-b]티아졸릴, 티에노[3,4-b]피리딜, 푸린 또는 피롤로[1,2-b]티아졸릴.
본 발명은 가장 특히 하기와 같은 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체 뿐만 아니라 이의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법에 관한 것이다:
3-히드록시-N-{[3-(트리플루오로메틸)벤질]옥시}-2-피리딘카르복사미드,
1-{3-히드록시-2-[(4-페녹시아닐리노)카르보닐]-4-피리디닐}-1,2-트리아자디엔-2-이움,
4-아미노-3-히드록시-N-{4-[4-(트리플루오로메틸)-페녹시]-페닐}-2-피리딘카르복사미드,
4-아미노-3-히드록시-N-[4-(4-메틸페녹시)페닐]-2-피리딘카르복사미드,
4-(포르밀아미노)-3-히드록시-N-{4-[3-(트리플루오로메틸)-페녹시]페닐}-2-피리딘카르복사미드,
N-[4-(4-클로로페녹시)페닐]-4-(포르밀아미노)-3-히드록시-2-피리딘카르복사미드,
4-(포르밀아미노)-3-히드록시-N-{4-[4-(트리플루오로메틸)-페녹시]페닐}-2-피리딘카르복사미드 및
N-[4-(벤질옥시)페닐]-4-(포르밀아미노)-3-히드록시-2-피리딘카르복사미드.
화학식 Ⅰ의 화합물 및 제조 공정에서 중간체로서 사용될 수 있고 이러한 공정의 기술시 정의되는 화합물은, 화합물 내의 이중 결합의 수에 따라서 하나 이상의 기하학적 이성질체의 형태로 존재할 수 있다. Q1은 -NR1또는 -N-NR4R5인 화학식 Ⅰ의 화합물은 두 이중 결합의 배치에 따라, (E) 또는 (Z)로 표시되는 2 개의 상이한 기하학적 이성질체를 포함할 수 있다. E 및 Z 표시는 각각, 신 (syn) 및 안티, 또는 시스 및 트랜스라는 용어로 대체될 수 있다. 이러한 표시법의 기술 및 용도에 있어서, [E. Eliel 및 S. Wilen "Stereochemistry of Organic Compounds", Wiley 출판 (1994)]를 특히 참고한다.
화학식 Ⅰ의 화합물 및 제조 공정에서 중간체로서 사용될 수 있고 이러한 공정의 기술시 정의되는 화합물은, 화합물 내의 비대칭성 중심의 수에 따라서 하나 이상의 광학 이성질성 또는 키랄성 형태로 존재할 수 있다. 그러므로, 본 발명은 또한 모든 광학 이성질체 및 이들의 라세믹 또는 스칼레믹 (스칼레믹은 상이한 비율의 거울상이성질체의 혼합물을 가리킨다), 뿐만 아니라 모든 비율의, 모든 가능한 입체이성질체의 혼합물에 관한 것이다. 부분입체이성질체 및/또는 광학 이성질체의 분리는 공지된 방법 (E. Elielibid.)에 의해 달성될 수 있다.
그러므로, 본 발명은 하기의 일반적인 방식으로 기술된, 화학식 Ⅰ의 화합물 및 제조 공정에서 중간체로서 유용한 화합물의 제조 방법에 관한 것이다. 일반적이지만, 이 제조 방법은 본 발명에 따른 화학식 Ⅰ의 화합물의 합성에 사용되는 모든 공정 조건을 제공한다. 그럼에도 불구하고, 당업자는 합성하고자 하는 각 화합물의 특성에 따라 이 방법을 적응시킬 수 있을 것이라는 것이 이해될 것이다.
모든 일반적인 제조 방법에 사용되는 반응물의 제조는 일반적으로 공지되어 있고, 일반적으로 종래 기술 또는 당업자가 바라는 목적에 이를 적응시킬 수 있는 방식에 구체적으로 기술되어 있다. 반응물의 제조를 위한 조건을 수립하기 위해서 당업자에 의해 사용가능한 종래 기술을 수많은 일반 화학 교과서, 예컨대 ["Advanced Organic Chemistry", J. March, Wiley 출판 (1992)], ["Methoden der organischen Chemie" (Houben-Weyl), Georg Thieme Verlag 출판] 또는 ["Chemical Abstracts", American Chemical Society 출판] 뿐만 아니라 공용 정보 데이터 베이스에서 발견할 수 있다.
화학식 Ⅰ의 화합물을 하기 화학식 Ⅱ의 화합물 (예를 들어, 특허 US-A-5 652 363에 기술됨)로부터 유리하게 제조할 수 있고:
[식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다],
이 화합물을 알킬화제 및 용매의 존재 하에서 시안화수소산의 알칼리금속 유도체,알칼리 토금속 유도체 또는 시아나이드와, 또는 디메틸카르바모일 클로라이드 및 용매의 존재 하에서 트리메틸실릴 시아나이드와 접촉시켜, 화학식 Ⅲ의 화합물을 제공한다:
[식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다].
상기 화학식 Ⅲ의 화합물을 용매, 예컨대, 바람직하지만 배타적이지는 않은은 에테르성 용매 예컨대, 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 또는 1,2-디메톡시에탄의 존재 하에서 할로겐화아실과의 반응에 의해, 상응하는 하기 화학식 Ⅳa의 할로 유도체로 전환시킬 수 있다:
[식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같고, X는 불소, 염소, 브롬 및 요오드로부터 선택된 할로겐 원자를 나타낸다].
화학식 Ⅳa의 할로 유도체를 이어서, 고온 수소산 - 또는 임의로 과산화수소 수용액의 존재 하에서 무기 강염기 - 및 임의로 상기 언급된 간행물에서 기술된 바와 같은 삼브롬화붕소의 작용에 의해, 하기 화학식 Ⅰa의 화합물로 가수분해시킬 수 있다:
[식 중, X, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다].
이 가수분해 반응이 가능한 한 가지 변형은 화학식 Ⅳa의 니트릴을 산, 특히 염산, 요오드화수소산 또는 브롬화수소산, 또는 알킬술폰산으로 처리하는 것으로 이루어지고, 이 가수분해 반응은 환류 또는 20 ℃ 내지 200 ℃의 온도에서, 용매의 부재 또는 존재 하에서, 과량의 산 내에서 수행된다.
화학식 Ⅲ 또는 Ⅳa의 화합물을 또한 용매 예컨대, 바람직하지만 배타적이지는 않은 양성자성 또는 비양성자성 극성 용매의 존재 하에서, 알콜 또는 알콕시드과 접촉시켜, 하기 화학식 Ⅳb를 제공할 수 있다:
[식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다],
이어서, 화학식 Ⅰa의 화합물의 형성에 사용되는 것들과 유사한 공정 조건 하에서 가수분해 반응에 사용하여, 각각의 하기 화학식 Ⅰb 및 Ⅰb'의 화합물을 제공할 수 있고:
[식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다].
또한 화학식 Ⅳa의 화합물을 비양성자성 극성 용매 예컨대, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸프롤릴렌우레아 또는 디메틸술폭시드에서, 0 ℃ 내지 용매의 비점 사이의 온도로 화학식 R6SH의 화합물, 또는 상응하는 알칼리금속 또는 알칼리 토금속 염과 반응시켜, 하기 화학식 Ⅴa의 피콜린산유도체로 전환시킬 수 있고:
[식 중, X1, X2및R6은 상기 정의된 바와 같다]. 이어서, 화학식 Ⅴa의 니트릴을 가수분해 반응에 사용하여, 화학식 Ⅰa의 화합물의 형성에 사용된 것과 유사한 반응에 따라서 화학식 Ⅰc의 상응하는 산을 제공할 수 있고:
[식 중, X1, X2및R6은 상기 정의된 바와 같다].
또한, 화학식 Ⅳa의 할라이드를 바람직하게는 비양성자성 극성 용매 예컨대, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸프롤릴렌우레아 또는 디메틸 술폭시드 내에서 0 ℃ 내지 용매의 비점의 온도에서 아조티드르산 염, 더욱 특히 아지드화나트륨으로 처리하여, 화학식 Ⅴb의 화합물을 제공하고:
[식 중, X1및 X2은 상기 정의된 바와 같다].
이어서, 화학식 Ⅴb의 화합물을 상기 화학식 Ⅰa의 산의 제조를 위해 제시된 것들과 유사한 기술에 따라 가수분해시켜, 화학식 Ⅰd의 산을 제공하고:
[식 중, X1및 X2은 상기 정의된 바와 같다].
이어서, 화학식 Ⅰd의 아지드를 촉매 존재 하의 환원제, 예컨대, 리튬 알루미늄 히드라이드, 트리페닐포스핀 또는 수소, 또는 대안적으로 [J. March,ibid., 1219-1220 쪽]에 기술된 바와 같은 임의의 다른 환원제의 작용에 의해, 화학식 Ⅰe의 아민 유도체로 임의 환원시키고:
[식 중, X1및 X2은 상기 정의된 바와 같다].
화학식 Ⅰa 내지 Ⅰe의 산을, 유기 합성에 전문적인 당업자에게 잘 공지된 표준 기술에 따라서, 티오산, 이미노 유도체 (-C(=NR1)) 또는 아미노 이미노 유도체 (-C(=N-NR4R5))로 전환시킬 수 있다.
유사하게는, 위치 3 (피리딘 질소 원자에 대하여)에서 -OH 또는 -메톡시로 치환된 산 (Ⅰa) 내지 (Ⅰe), 또는, 상기 정의된 이들의 티오, 이미노 및 이미노 아미노 유도체를 종래 기술에 이미 공지된 다양한 반응에 적용하여, 위치 3 (피리딘 질소 원자에 대하여)에서 -O-Z (Z는 화학식 Ⅰ의 화합물에서 정의된 바와 같다)로 치환된, 상응하는 유도체를 제공할 수 있다.
Y가 아미노 (-NH2) 라디칼을 나타내는, 상기 정의된 화학식 Ⅰ의 화합물을 용매 및 임의로 염기의 존재 하에서 아실화제와 접촉시킬 수 있다. 아실화제라는 용어는 우선적으로, 그러나 비제한적인 방식으로, [J. March,ibid., 417-424 쪽]에 기술된 바와 같은 이들의 할로겐화아실, 무수물, 산, 에스테르 또는 1차 아미드, 및 티오-동족체를 의미하여, 화학식 Ⅵa 및 Ⅵb의 화합물을 제공한다:
[식 중, X1, X2, Q1, Q2, Z 및 R10은 상기 정의된 바와 같다].
화학식 Ⅶ의 피콜린산 유도체를 화학식 R2OH, R3SH 또는 HNR4R5(R2, R3, R4및 R5는 상기 정의된 바와 같다)의 반응물과 접촉시켜, Q2가 각각 -OR2, -SR3및 -NR4R5를 나타내는 화학식 Ⅰ의 화합물의 특수한 경우인 각각 화학식 Ⅷ의 화합물의 세트를 형성하는 화학식 Ⅷa, Ⅷb 및 Ⅷc를 제공할 수 있다:
[식 중, X1, X2, Q1, n, Z 및 Y는 상기 정의된 바와 같다],
상기 반응은 용매의 부재 또는 존재 하에서, 유기 또는 무기 염기의 존재 하에 참고 문헌에 기술된 바와 같이, 활성화제 예컨대, 티오닐 클로라이드, 옥살릴 클로라이드, 디시클로카르보디이미드, 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카르보디이미드 히드로클로라이드, 1-히드록시벤조트리아졸 또는 옥시염화인 등의 존재 하에서 수행된다. 이러한 반응물들은, 적당하다면, 중합체 수지에 연결될 수 있다.
본 반응은 일반적으로 -80 ℃ 내지 180 ℃ (바람직하게는 0 ℃ 내지 150 ℃)의 온도 또는 사용되는 용매의 비점에서 수행된다. 이 반응에 적합한 용매는 펜탄, 헥산, 헵탄 또는 옥탄과 같은 지방족 탄화수소, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 또는 할로벤젠과 같은 방향족 탄화수소, 디에틸 에테르, 디디소프로필 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 또는 디메톡시에탄과 같은 에테르, 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄 또는 1,1,1-트리클로로에탄과 같은 할로겐화 탄화수소, 메틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트와 같은 에스테르, 아세토니트릴, 프로피오니트릴 또는 벤조니트릴과 같은 니트릴, 또는 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸프롤릴렌우레아, 디메틸 술폭시드, 피리딘 또는 물과 같은 극성 비양성자성 용매일 수 있다. 이러한 다양한 용매의 혼합물을 또한 사용할 수 있다.
반응 시간은 사용되는 조건에 의존하고, 일반적으로 0.1 시간 내지 48 시간이다. 이 반응에 적합한 유기 또는 무기 염기로서, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화세슘 또는 수산화칼슘과 같은 알칼리금속 수산화물 및 알칼리 토금속 수산화물, 포타슘 t-부톡시드와 같은 알칼리금속 알콕시드 및 알칼리 토금속 알콕시드, 수소화나트륨, 수소화칼륨 또는 수소화세슘과 같은 알칼리금속 수소화물 및 알칼리 토금속 수소화물, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산칼슘 또는 중탄산나트륨, 중탄산칼륨 또는 중탄산칼슘과 같은 알칼리금속 카르보네이트 및 비카르보네이트 또는 알칼리 토금속 카르보네이트 및 비카르보네이트, 피리딘, 알킬피리딘과 같은 유기 염기, 바람직하게는 유기질소 염기, 트리메틸아민, 트리에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민과 같은 알킬아민, 및 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 또는 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데스-7-엔과 같은 아자 유도체를 언급할 수 있다.
본 반응을 반응 온도에서 액체인 과량의 염기를 사용하여 수행할 수 있고, 이 때 이 염기는 또한 용매로서 작용한다. 피리딘 또는 알킬피리딘과 같은 유기질소 염기를 언급할 수 있다.
화학식 Ⅶ 및 화학식 Ⅷ의 화합물의 상대적 비율에 대하여 어떠한 엄격한 제한도 없다. 그러나, 0.1 내지 10, 바람직하게는 0.5 내지 2의 (Ⅷ)/(Ⅶ) 몰비를 선택하는 것이 유리하다.
n이 1인 화학식 Ⅰ의 화합물의 특수한 경우인 화학식 Ⅸ의 화합물을, n이 0인 화학식 Ⅹ의 화합물을 [J. March,ibid., 1200 쪽]에 기술된 바와 같은 산화제, 특히 과산화수소 수용액 또는 과카르복실산, 과붕산 또는 과황산과 접촉시키는 것으로 이루어지는 방법에 의해 수득할 수 있다:
이전의 단락에서 기술된 반응은 바라는 화학식 Ⅰ의 화합물을 수득하기에 적합한 임의의 다른 순서로 수행될 수 있다는 것을 이해하여야 한다. 반응의 순서는 가장 특히 피리딘 핵 상의 다양한 치환체의 양립성 요건에 의해 결정될 것이다. 사용되는 다양한 라디칼 및 반응물의 양립성은, 더욱이 이 명세서의 하기에 기술된, 화학식 Ⅰ의 화합물의 제조를 위한 실시예를 참고할 수 있는 당업자에게 잘 공지되어 있다.
본 발명에 기술된 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체는 농약 분야 및 인간 및 동물 치료에 유용하다. 구체적으로, 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체는 이들이 작물의 진균병, 및 또한 인간 및 동물에게 덮친 진균병에 효과적으로 저항할 수 있도록 하는 유리한 살진균성을 갖는다. 또한, 화학식 Ⅰ의 화합물의 큰 살진균 능력은 예를 들어, 곰팡이와 같은 미세진균에 저항하는 것이 요구되고/되거나 필요한 모든 분야에 사용된다.
하기 실시예들은 본 발명에 따른 살진균성 화합물의 몇가지 실시예를 비제한적인 방식으로 설명한다. 하기의 실시예에서, "MP"는 "융점"를 가리키고, °섭씨온도 (℃)로 표시된다.
실시예 a):
2-시아노-3-메톡시-4-니트로피리딘의 제조
3-메톡시-4-니트로피리딘의 N-산화물 12.5 g (12.5 몰), 메틸 술페이트 7.72 ㎖ (1.1 당량) 및 1,2-디클로로에탄 70 ㎖의 혼합물을 70 ℃에서 2.5 시간 동안 가열하였다. 냉각시키고, 물 70 ㎖를 첨가하였다. 염 및 얼음조에서 냉각시키고, 온도가 10 ℃를 초과하지 않도록 조절하면서 시안화나트륨 7.55 g (2.1 몰)을 나누어서 첨가하였다. 4 시간의 교반 후, 반응 혼합물을 에틸 에테르로 추출하고, 유기상을 물로 세척하고, 농축시키고 잔류물을 크로마토그래프 (에틸 아세테이트/디클로로메탄)하였다. 황색 오일 7.06 g (53 % 수율)을 수득하였다.
실시예 b):
4-브로모-2-시아노-3-메톡시피리딘의 제조
실시예 a)에서 수득한 2-시아노-3-메톡시-4-니트로피리딘 6 g (0.0335 몰), 아세틸 브로마이드 12.37 g (0.100 몰) 및 1,2-디메톡시에탄 36 ㎖의 혼합물을 85 ℃에서 1.5 시간 동안 가열하였다. 냉각시키고 반응 혼합물을 쇄빙 100 g에 부었다. 1,2-디클로로에탄 30 ㎖를 첨가하고, 28 % 암모니아 수용액으로 pH = 8 까지 서서히 중화시켰다. 1,2-디클로로에탄으로 추출한 후, 물로 세척하고, 건조시키고 농축 잔류물을 크로마토그래프 (에틸 아세테이트/헵탄, 3:7)하여, 백색 고체 5.32 g (75 % 수율)을 수득하였다 (MP = 116 ℃).
유사한 방식으로, 아세틸 브로마이드를 아세틸 클로라이드로 대체하여, 4-클로로-2-시아노-3-메톡시피리딘 (83 % 수율)을 백색 고체 형태로 수득하였다 (MP = 91 ℃).
실시예 c):
4-아지도-2-시아노-3-메톡시피리딘의 제조
0 ℃의 디메틸포름아미드 25 ㎖ 내의 소듐 아지드 1 g (0.0155 몰)에, 디메틸포름아미드 40 ㎖ 내에 용해된, 실시예 b)로부터의 4-브로모-2-시아노-3-메톡시피리딘 3 g (0.0141 몰)을 서서히 첨가하였다. 혼합물을 주변 온도에서 6 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 빙수 200 ㎖에 희석시키고, 디클로로메탄으로 추출하였다. 유기상을 물로 2 회 세척하고, 건조시키고, 농축시키고 잔류물을 크로마토그래프 (에틸 아세테이트/헵탄, 3:7)하였다. 백색 고체 0.87 g (35 % 수율)을 수득하였다 (MP = 102 ℃).
실시예 d):
4-클로로-3-히드록시피콜린산의 제조
실시예 b)에서 수득한 4-클로로-2-시아노-3-메톡시피리딘 2 g (0.012 몰), 및 37 % 염산 7 ㎖의 혼합물을 100 ℃에서 12 시간 동안 가열하였다. 냉각 후, 형성된 고체를 여과시키고, 물로 1 회 및 아세톤으로 3 회 세척하고, 진공 하에서 8 시간 동안 건조시켰다. 황색 고체 1.78 g (86 % 수율)을 수득하였다 (MP = 228 ℃).
동일한 방식으로, 하기의 히드록시산을 수득하였다:
Y 수소산 수율, MP (℃)
4-브로모-3-히드록시피콜린산 HBr 황색 고체, 82 %, 230 ℃
4-아지도-3-히드록시피콜린산 HCl 보라색 고체, 63 %
3,4-디히드록시피콜린산 HBr 백색 고체, 74 %, 264 ℃
실시예 e):
2-시아노-3,4-디메톡시피리딘의 제조
실시예 a)에서 수득한 2-시아노-3-메톡시-4-니트로피리딘 3 g (0.017 몰) 및 나트륨 0.77 g (0.033 몰) 및 메탄올 65 ㎖로부터 제조된 소듐 메톡시드 용액을 주변 온도에서 4 시간 동안 교반하였다. 물 100 ㎖를 첨가하고, 메탄올을 제거하고 수성상을 디클로로메탄으로 추출하였다. 유기상을 물로 세척하고, 건조시키고, 농축시키고 잔류물을 크로마토그래프 (에틸 아세테이트/헵탄, 1:1)하여 백색 고체 1.96 g (72 % 수율)을 수득하였다 (MP = 133 ℃).
실시예 f):
2-시아노-3-히드록시-4-티오메톡시피리딘의 제조
무수 디메틸포름아미드 40 ㎖ 내의 소듐 티오메톡시드 2.16 g 및 실시예 b)에서 수득한 4-브로모-2-시아노-3-메톡시피리딘 2 g을 85 ℃에서 5 시간 동안 가열하였다. 냉각 후, 물 20 ㎖를 첨가하고, 반응 혼합물을 농축하여 건조시켰다. 잔류물을 고온 메탄올로 3 회 추출하였다. 냉각된 메탄올계 상을 여과시키고 농축시켰다. 조 (crude)로 사용되는 갈색 시럽 1.51 g (97 % 수율)을 수득하였다.
실시예 g):
3-히드록시-4-티오메톡시피콜린산의 제조
실시예 f)로부터의 2-시아노-3-히드록시-4-티오메톡시피리딘 2.5 g (0.015 몰), 수산화칼륨 8.5 g 및 물 25 ㎖를 환류하에 2.5 시간 동안 가열하였다. 냉각 후, 얼음조에서 혼합물을 1 N 염산으로 pH = 2-3 까지 서서히 중화시켰다. 형성된 고체를 여과하였다. 고체를 물로 1 회 및 아세톤으로 3 회 세척하고; 진공 하에서 8 시간 동안 건조시켰다. 백색 고체 1.81 g (68 % 수율)을 수득하였다 (MP = 247 ℃).
실시예 h):
3,4-디메톡시피콜린산의 제조
물 15 ㎖ 내의, 실시예 e)에서 수득한 3,4-디메톡시-2-시아노피리딘 1 g 및 수산화칼륨 3.5 g을 85 ℃에서 30 분 동안 가열하였다. 냉각시키고, 얼음조에서 염산을 pH = 2-3 까지 서서히 첨가하였다. 농축하여 건조시킨 후, 잔류물을 고온 메탄올로 3 회 추출하고, 냉각시키고, 여과하고 농축시켰다. 조로 사용되는 고체를 수득하였다.
실시예 i):
3-히드록시피콜린산의 N-산화물의 제조
아세트산 20 ㎖ 및 과산화수소 용액 20 ㎖의 혼합물에 3-히드록시피콜린산 2 g을 첨가하고; 전체를 80 ℃에서 5 시간 동안 가열하였다. 진공 하에서 용매를 제거한 후, 수득된 고체를 고온 알콜로 세척하여, 백색 고체 형태의 화합물 2.02 g을 수득하였다 (MP = 182 ℃).
실시예 1:
3-히드록시-4-메톡시-N-파라-페녹시페닐피콜린아미드
파라-페녹시아닐린 0.046 g, 3-히드록시-4-메톡시피콜린산 (실시예 g)에 기술된 것과 유사한 방식으로 수득) 0.04 g, 1-히드록시벤조트리아졸 0.034 g 및 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카르보디이미드 히드로클로라이드 0.060 g을 피리딘 2 ㎖ 내에서 75 내지 85 ℃에서 1 내지 2 시간 동안 가열하였다. 냉각 후, 디클로로메탄 및 1 N 염산 2 ㎖의 혼합물에 잔류물을 넣었다. 디클로로메탄으로 추출, 농축 및 실리카 상에서 크로마토그래프한 후, 황색 고체인 표제 화합물 0.057 g을 수득하였다 (MP = 186 ℃).
실시예 2:
4-아미노-3-히드록시-N-파라-페녹시페닐피콜린아미드
에탄올/에틸 아세테이트, 1:2의 혼합물에 용해된 4-아지도-3-히드록시-N-파라-페녹시페닐피콜린아미드 (실시예 a) 내지 g)에 기술된 방법에 따라 실시예 1의 화합물로부터 수득) 0.14 g에 스파튤라 팁의 탄소 상의 10 % 팔라듐을 첨가하였다. 20 bar 압력 및 주변 온도에서 4-5 시간 동안 수소화를 수행하였다. 여과, 농축 및 에틸 아세테이트 내에서 잔류물의 크로마토그래프 후, 백색 고체 0.099 g을 수득하였다 (MP = 197 ℃).
실시예 3:
4-포름아미도-3-히드록시-N-파라-페녹시페닐피콜린아미드
아세트산 무수물 61.2 mg 및 포름산 27.6 mg을 환류하에 4 시간 동안 가열하고, 테트라히드로푸란 5 ㎖에 용해된 실시예 2의 4-아미노-3-히드록시-N-파라-페녹시페닐피콜린아미드 46 mg을 첨가하였다. 8 시간의 환류 후, 반응 혼합물을 농축시키고, 크로마토그래피에 의해 정제하여 MP 208 ℃인 황색 고체 39 mg을 제공하였다.
하기의 표 1 및 2에 기술된 화합물을 유사한 방식으로 제조하였다:
본 발명의 화합물의 생물학적 활성의 실시예
실시예 A:사과나무반점낙엽병균 (Alternaria brassicae) (사과나무과의 낙엽병)에 대한 생체내 실험:
시험할 활성 물질의 2 g/ℓ농도의 수성 현탁액을 하기의 혼합물에서 미세하게 분쇄하여 수득하였다:
- 물,
- 물에 10 %로 희석된 Tween 80 계면활성제 (소르비탄 올레에이트의 폴리옥시에틸렌화 유도체),
- 점토: 비활성 지지체, 총 합 100%.
이어서, 이 수성 현탁액을 물로 희석시켜, 원하는 활성 물질 농도를 수득하였다.
50/50 이탄토-포졸란 기질 상에 심고 18-20 ℃에서 재배한, 뿌리내림비료 컵 (starter cup) 내의 무 식물 (페르노 (Pernot) 변종)를 떡잎 단계에서 상기 기술된 수성 현탁액을 분무시켜 처리하였다.
대조군으로서 사용되는 식물을 활성 물질을 함유하지 않는 수성 용액으로 처리하였다.
24 시간 후, 사과나무반점낙엽병균 포자의 수성 현탁액을 식물에 분무함으로써 이들을 오염시켰다 (㎤ 당 40,000 포자). 포자를 12-13 일 된 배양물로부터 수집하였다.
오염된 무 식물을 습한 대기 하, 약 18 ℃에서 6-7 일 동안 배양시켰다.
오염 6 내지 7 일 후, 대조군 식물과 비교하여, 등급화를 수행하였다.
이러한 조건 하에서, 양호 (50 % 이상) 또는 전체 보호는 250 g/ha의 투여량에서 하기 화합물로 관찰되었다: 198, 200, 202, 206, 206.
실시예 B:잎마름병균 (Septoria nodorum) (밀의 반점병)에 대한 생체내 실험:
시험할 활성 물질의 2 g/ℓ농도의 수성 현탁액을 하기의 혼합물에서 미세하게 분쇄하여 수득하였다:
- 물,
- 물에 10 %로 희석된 Tween 80 계면활성제 (소르비탄 올레에이트의 폴리옥시에틸렌화 유도체),
- 점토: 비활성 지지체, 총 합 100%.
이어서, 이 수성 현탁액을 물로 희석시켜, 원하는 활성 물질 농도를 수득하였다.
50/50 이탄토-포졸란 기질 상에 심고 12 ℃에서 재배한, 뿌리내림비료 컵 내의 밀 식물 (스키피오 (Scipion) 변종)를 1-잎 단계 (키 10 cm)에서 상기 기술된 수성 현탁액을 분무시켜 처리하였다.
대조군으로서 사용되는 식물을 활성 물질을 함유하지 않는 수성 용액으로 처리하였다.
24 시간 후, 잎마름병균 포자의 수성 현탁액을 식물에 분무함으로써 이들을 오염시켰다 (㎤ 당 500,000 포자). 포자를 7 일 된 배양물로부터 수집하였다.
오염된 밀 식물을 습한 대기 하, 약 18 ℃에서 72 시간 동안 배양시킨 후, 90 % 상대 습도에서 14 일 동안 배양시켰다.
오염 15 내지 20 일 후, 대조군 식물과 비교하여, 등급화를 수행하였다.
이러한 조건 하에서, 양호 (50 % 이상) 또는 전체 보호는 250 g/ha의 투여량에서 하기 화합물로 관찰되었다: 198, 200, 202.
실시예 C:도열병균 (Magnaporthe grisea) (벼의 도열병)에 대한 생체내 실험:
시험할 활성 물질의 50 mg/ℓ농도의 수성 현탁액을 하기의 혼합물에서 미세하게 분쇄하여 수득하였다:
- 물,
- 2 % 아세트산.
쿠레하 (Kureha) 토 상에 심고, 3-4 잎 단계까지 33 ㎠ 플라스틱 포트에서 재배한 벼 식물 (코시히라카리 (Koshihirakari) 변종)을 상기 기술된 수성 현탁액을 분무시켜 처리하였다.
대조군으로서 사용되는 식물을 활성 물질을 함유하지 않는 수성 용액으로 처리하였다.
처리 24 시간 후, 도열병균 포자의 수성 현탁액을 식물에 분무함으로써 이들을 오염시켰다 (㎤ 당 500,000 포자).
오염된 벼 식물을 습한 대기 하, 25 ℃에서 24 시간 동안 배양기에 둔 후, 20-25 ℃ 및 70-90 % 상대 습도의 배양 챔버에 5 내지 7 일 동안 두었다.
오염 5 내지 7 일 후, 식물의 첫 번째 잎의 병소를 세어 등급화를 수행하였다.
이러한 조건 하에서, 양호 (50 % 이상) 또는 전체 보호는 50 mg/ℓ의 투여량에서 하기 화합물로 관찰되었다: 24, 112, 204, 205.

Claims (24)

  1. 하기 화학식 Ⅰ의 화합물 뿐만 아니라 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 이들의 염 및 금속 및 비금속 착물의 제조 방법으로:
    [화학식 Ⅰ]
    [식 중:
    n은 0 또는 1을 나타내고,
    Q1은 산소 또는 황 원자, NR1기 및 N-NR4R5기로부터 선택되고,
    Q2는 OR2또는 SR3기 및 -NR4R5기로부터 선택되거나,
    Q1및 Q2는 함께, 할로겐 및 알킬 및 할로알킬 라디칼로부터 선택된 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된, 2 내지 3 개의 산소 및/또는 질소 원자를 함유하는 5 내지 7 개 원자의 고리를 형성할 수 있고,
    Z는 수소 원자, 시아노 라디칼 및 알킬, 알릴, 아릴, 아릴알킬, 프로파르길, 시클로알킬, 할로시클로알킬, 알케닐, 알키닐, 시아노알킬, 할로알킬, 알콕시알킬,할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 알콕시카르보닐아미노알킬, 아미노카르보닐아미노알킬, 알콕시카르보닐, N-알킬아미노카르보닐, N,N-디알킬아미노카르보닐, 아실, 티오아실, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐, 알콕시술포닐, 아미노술포닐, N-알킬아미노술포닐, N,N-디알킬아미노술포닐, 아릴술피닐, 아릴술포닐, 아릴옥시술포닐, N-아릴아미노술포닐, N,N-디아릴아미노술포닐 또는 N,N-아릴알킬아미노술포닐 라디칼로부터 선택되고;
    Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬, 시아노알콕시, 시아노알킬티오, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼,
    시클로알킬, 할로시클로알킬, 알케닐, 알키닐, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 알케닐티오 또는 알키닐티오 기,
    아미노, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, -NHCOR10, -NHCSR10, N-알킬아미노카르보닐아미노, N,N-디알킬아미노카르보닐아미노, 아미노알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 티오아실아미노, 알콕시티오카르보닐아미노, N-알킬아미노티오카르보닐아미노, N,N-디알킬아미노티오카르보닐아미노, N,N-아릴알킬아미노카르보닐아미노, N-알킬술피닐아미노, N-알킬술포닐아미노, N-아릴술피닐아미노, N-아릴술포닐아미노, N-알콕시술포닐아미노, N-알콕시술피닐아미노, N-할로알콕시술피닐아미노, N-할로알콕시술포닐아미노, N-아릴아미노, N,N-디아릴아미노, 아릴카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, N-아릴아미노카르보닐아미노, N,N-디아릴아미노카르보닐아미노, 아릴티오카르보닐아미노, 아릴옥시티오카르보닐아미노, N-아릴아미노티오카르보닐아미노, N,N-디아릴아미노티오카르보닐아미노, 또는 N,N-아릴알킬아미노티오카르보닐아미노 기,
    아실, 카르복실, 카르바모일, N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일, 저급 알콕시카르보닐, N-아릴카르바모일, N,N-디아릴카르바모일, 아릴옥시카르보닐 또는 N,N-아릴알킬카르바모일 기,
    및 하기 식의 이미노 기로부터 선택되고:
    X1및 X2는 동일하거나 상이하며, 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 및 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬, 시아노알콕시, 시아노알킬티오, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼로부터 선택되거나,
    X1및 X2는 또한 함께 연결되어, 황, 산소, 질소 및 인으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 임의로 함유하는, 포화, 부분적 불포화 또는 전체 불포화 4- 내지 8-원 고리를 형성할 수 있고,
    R2및 R3는 동일하거나 상이하며, 서로 독립적으로 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼, 할로알킬, 시클로알킬, 할로시클로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬 또는 아실 라디칼, 니트로, 시아노, 카르복실, 카르바모일 또는 3-옥세타닐옥시카르보닐 라디칼, 및 N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일, 알콕시카르보닐, 알킬티오카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 알콕시티오카르보닐, 할로알콕시티오카르보닐, 알킬티오티오카르보닐, 알케닐, 알키닐, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, N-알킬아미노알킬 또는 N,N-디알킬아미노알킬 라디칼, 또는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택되거나,
    R1, R4, R5, R6및 R7은 동일하거나 상이하며, 서로 독립적으로 수소 원자, 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 임의 치환 알킬 라디칼, 할로알킬, 시클로알킬, 할로시클로알킬, 알콕시, 아릴옥시, 아릴알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬 또는 아실 라디칼, 니트로, 시아노, 카르복실, 카르바모일 또는 3-옥세타닐옥시카르보닐 라디칼, 및 N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일, 알콕시카르보닐, 알킬티오카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 알콕시티오카르보닐, 할로알콕시티오카르보닐, 알킬티오티오카르보닐, 알케닐, 알키닐, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, N-알킬아미노알킬 또는 N,N-디알킬아미노알킬 라디칼,
    또는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타내거나,
    한편으로는 R4및 R5,또는 다른 한편으로는 R6및 R7은 함께 연결되어, 황, 산소, 질소 및 인으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 임의로 함유하는 포화, 부분적 불포화 또는 전체 불포화 4- 내지 8-원 고리를 형성할 수 있고,
    T는 직접 결합 또는 라디칼 -(CH2)m- (m은 1 내지 12의 값이다)로부터 선택된 2가 라디칼을 나타내고, 임의로 상기 라디칼은 질소, 산소 및/또는 황으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자, 및 옥시알킬렌, 알콕시알킬렌, 카르보닐 (-CO-), 옥시카르보닐 (-O-CO-), 카르보닐옥시 (-CO-O-), 술피닐 (-SO-), 술포닐 (-SO2-), 옥시술포닐 (-O-SO2-), 술포닐옥시 (-SO2-O-), 옥시술피닐 (-O-SO-), 술피닐옥시 (-SO-O-), 티오 (-S-), 옥시 (-O-), 비닐 (-C=C-), 에티닐 (-C ≡C-), -NR9-, -NR9O-, -ONR9-, -N=N-, -NR9-NR10-, -NR9-S-, -NR9-SO-, -NR9-SO2-, -S-NR9-, -SO-NR9-, -SO2-NR9-, -CO-NR9-O- 또는 -O-NR9-CO- 라디칼이 개입되거나 이들로 종결되고,
    R8은 수소 원자 및 아릴 또는 헤테로시클릴 라디칼로부터 선택되고,
    동일하거나 상이할 수 있는 R9및 R10은 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 및 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 아릴알킬, 시아노알킬, 시아노알콕시, 시아노알킬티오, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼로부터 선택된다],
    하기 화학식 Ⅱ의 화합물을 알킬화제 및 용매의 존재 하에서 시안화수소산의 알칼리금속 유도체, 알칼리 토금속 유도체 또는 시아나이드와, 또는 디메틸카르바모일 클로라이드 및 용매의 존재 하에서 트리메틸실릴 시아나이드와 반응시켜, 하기 화학식 Ⅲ의 화합물을 제공하고:
    [화학식 Ⅱ]
    [식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다],
    [화학식 Ⅲ]
    [식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다],
    상기 화학식 Ⅲ의 화합물을 용매의 존재 하에서 할로겐화아실과의 반응에 의해, 상응하는 하기 화학식 Ⅳa의 할로 유도체로 전환시킬 수 있고:
    [화학식 Ⅳa]
    [식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같고, X는 불소, 염소, 브롬 및 요오드로부터 선택된 할로겐 원자를 나타낸다],
    이어서, 상기 화학식 Ⅳa의 할로 유도체를 고온 수소산 - 또는 임의로 과산화수소 수용액의 존재 하에서 무기 강염기 - 및 임의로 삼브롬화붕소의 작용에 의해, 하기 화학식 Ⅰa의 화합물로 가수분해시킬 수 있고:
    [화학식 Ⅰa]
    [식 중, X, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다],
    이어서, 상기 화학식 Ⅲ 또는 Ⅳa의 화합물을 또한 바람직하지만 배타적이지는 않은 양성자성 또는 비양성자성 극성 용매와 같은 용매의 존재 하에서, 알콜 또는 알콕시드와 접촉시켜, 하기 화학식 Ⅳb의 화합물을 제공할 수 있고:
    [화학식 Ⅳb]
    [식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다],
    이어서, 상기 화학식 Ⅰa의 화합물의 형성에 사용되는 것들과 유사한 공정 조건 하에서 가수분해 반응에 사용하여, 각각 하기 화학식 Ⅰb 및 Ⅰb'의 화합물을 제공할 수 있고:
    [화학식 Ⅰb]
    [화학식 Ⅰb']
    [식 중, X1및 X2는 상기 정의된 바와 같다],
    또한 상기 화학식 Ⅳa의 화합물을 비양성자성 극성 용매 내에서, 0 ℃ 내지 용매의 비점 사이의 온도로 화학식 R6SH의 화합물, 또는 상응하는 알칼리금속 염 또는 알칼리 토금속 염과 반응시켜, 하기 화학식 Ⅴa의 피콜린산 유도체로 전환시킬 수 있고:
    [화학식 Ⅴa]
    [식 중, X1, X2및R6은 상기 정의된 바와 같다],
    이어서, 상기 화학식 Ⅴa의 니트릴을 가수분해 반응에 사용하여, 상기 화학식 Ⅰa의 화합물의 형성에 사용된 것과 유사한 반응에 따라서 하기 화학식 Ⅰc의 상응하는 산을 제공할 수 있고:
    [화학식 Ⅰc]
    [식 중, X1, X2및R6은 상기 정의된 바와 같다],
    또한, 상기 화학식 Ⅳa의 할라이드를 0 ℃ 내지 용매의 비점의 온도에서 아조티드르산 염으로 처리하여, 하기 화학식 Ⅴb의 화합물을 제공할 수 있고:
    [화학식 Ⅴb]
    [식 중, X1및 X2은 상기 정의된 바와 같다],
    이어서, 상기 화학식 Ⅴb의 화합물을 상기 화학식 Ⅰa의 산의 제조를 위해 제시된 것들과 유사한 기술에 따라 가수분해하여, 하기 화학식 Ⅰd의 산을 제공할 수 있고:
    [화학식 Ⅰd]
    [식 중, X1및 X2은 상기 정의된 바와 같다],
    이어서, 상기 화학식 Ⅰd의 아지드를 환원제의 작용에 의해, 하기 화학식 Ⅰe의 아민 유도체로 임의 환원시키다:
    [화학식 Ⅰe]
    [식 중, X1및 X2은 상기 정의된 바와 같다],
    상기 화학식 Ⅰa 내지 Ⅰe의 산을, 유기 합성의 당업자에게 잘 공지된 통상적인 기술에 따라서, 티오산, 이미노 유도체 (-C(=NR1)) 또는 아미노 이미노 유도체 (-C(=N-NR4R5))로 전환시킬 수 있고,
    이어서, 위치 3 (피리딘 질소 원자에 대하여)에서 -OH 또는 -메톡시로 치환된, 산 (Ⅰa) 내지 (Ⅰe), 또는 상기 정의된 이들의 티오, 이미노 및 이미노 아미노 유도체를 종래 기술에 이미 공지된 다양한 반응에 적용시켜, 위치 3 (피리딘 질소 원자에 대하여)에서 -O-Z (Z는 상기 화학식 Ⅰ의 화합물에서 정의된 바와 같다)로 치환된 상응하는 유도체를 제공할 수 있고,
    Y가 아미노 라디칼 (-NH2)을 나타내는 상기 정의된 화학식 Ⅰ의 화합물을 용매 및 임의로 염기의 존재 하에서 아실화제와 접촉시켜, 하기 화학식 Ⅵa 및 Ⅵb의 화합물을 제공할 수 있고:
    [화학식 Ⅵa]
    [화학식 Ⅵb]
    [식 중, X1, X2, Q1, Q2, Z 및 R10은 상기 정의된 바와 같다],
    하기 화학식 Ⅶ의 피콜린산 유도체를 -80 ℃ 내지 180 ℃ (바람직하게는 0 ℃ 내지 150 ℃)의 온도에서 화학식 R2OH, R3SH 또는 HNR4R5(R2, R3, R4및 R5는 상기 정의된 바와 같다)의 반응물과 접촉시켜, Q2가 각각 -OR2, -SR3및 -NR4R5를 나타내는 상기 화학식 Ⅰ의 화합물의 특수한 경우인 화학식 Ⅷ의 화합물의 세트를 형성하는 하기화학식 Ⅷa, Ⅷb 및 Ⅷc의 각각의 화합물을 제공할 수 있고:
    [화학식 Ⅶ]
    [식 중, X1, X2, Q1, n, Z 및 Y는 상기 정의된 바와 같다],
    [화학식 Ⅷa]
    [화학식 Ⅷb]
    [화학식 Ⅷc]
    n이 1인 화학식 Ⅰ의 화합물의 특수한 경우인 하기 화학식 Ⅸ의 화합물은, n이 0인 화학식 Ⅰ의 화합물의 특수한 경우인 하기 화학식 Ⅹ의 화합물을 산화제, 과산화수소 수용액 또는 과카르복실산, 과붕산 또는 과황산과 접촉시키는 것으로 이루어지는 방법에 의해 수득될 수 있다는 것을 특징으로 하는 제조 방법:
    [화학식 Ⅸ]
    [화학식 Ⅹ]
  2. 제 1 항에 있어서, 화학식 Ⅲ의 화합물의 화학식 Ⅳ의 화합물로의 할로겐화 반응에 사용되는 용매가 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 및 1,2-디메톡시에탄으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화학식 Ⅳ의 화합물의 화학식 Ⅰa의 화합물로의 가수분해 반응이 화학식 Ⅳa의 니트릴을 산, 특히 염산, 요오드화수소산 또는브롬화수소산, 또는 알킬 술폰산으로 처리하는 것으로 이루어지고, 이 가수분해 반응이 용매의 부재 또는 존재 하에서, 과량의 산 내에서, 환류 하에 또는 20 ℃ 내지 200 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 3 항에 있어서, 사용되는 산이 염산, 요오드화수소산, 브롬화수소산 및 알킬술폰산으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅳa의 화합물의 화학식 Ⅴa의 화합물로의 전환을 위한 반응에서 사용되는 용매가 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸프롤릴렌우레아 및 디메틸 술폭시드로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅳa의 화합물의 화학식 Ⅴb의 화합물로의 전환을 위한 반응에서 사용되는 용매가 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸프롤릴렌우레아 및 디메틸 술폭시드로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅰd의 화합물의 화학식 Ⅰe의 화합물로의 환원에 사용되는 환원제가 촉매 존재 하의 수소, 리튬 알루미늄 히드라이드 및 트리페닐포스핀으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅵa 및 Ⅵb의 화합물의 제조 단계에서 사용되는 아실화제가 할로겐화아실, 이의 무수물, 산, 에스테르 및 1차 아미드, 및 티오 동족체로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅷ의 화합물의 형성에 사용되는 활성화제가 티오닐 클로라이드, 옥살릴 클로라이드, 디시클로카르보디이미드, 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카르보디이미드 히드로클로라이드, 1-히드록시벤조트리아졸 및 옥시염화인으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅷ의 화합물을 수득하기 위한 반응에 사용되는 용매가 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 할로벤젠, 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디메톡시에탄, 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 벤조니트릴, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸프로필렌우레아, 디메틸 술폭시드, 피리딘 및 물로부터 선택되고, 이러한 다양한 용매의 혼합물 또한 사용될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅷ의 화합물을 수득하기 위한 반응 시간이 0.1 내지 48 시간인 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅷ의 화합물을 수득하기 위한 반응이 알칼리금속 수산화물 및 알칼리 토금속 수산화물, 알칼리금속 알콕시드 및 알칼리 토금속 알콕시드, 알칼리금속 수소화물 및 알칼리 토금속 수소화물, 알칼리금속 카르보네이트 및 비카르보네이트 및 알칼리 토금속 카르보네이트 및 비카르보네이트, 및 유기질소 염기로부터 선택된 유기 또는 무기 염기의 존재 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제 12 항에 있어서, 유기 또는 무기 염기가 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화세슘 또는 수산화칼슘, 포타슘 t-부톡시드, 수소화나트륨, 수소화칼륨 또는 수소화세슘, 탄산나트륨, 탄산칼륨 또는 탄산칼슘, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨 또는 중탄산칼슘, 피리딘, 트리메틸아민, 트리에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민, 1,5-디아조비시클로[4.3.0]논-5-엔 및 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데스-7-엔으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제 11 항에 있어서, 피리딘 및 알킬피리딘으로부터 선택된 과량의 액체 염기가 사용되어서 용매를 대체하는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 하기와 같은 화학식 Ⅰ의3-히드록시피콜린산 유도체, 및, 또한 이러한 화학식 Ⅰ의 화합물의 가능한 N-산화물, 기하학적 및/또는 광학적 이성질체, 거울상이성질체 및/또는 부분입체이성질체, 토토머 형태, 염, 금속성 및 비금속성 착물이 제조되는 것을 특징으로 하는 방법:
    X1및 X2각각이 수소 원자를 나타내고,
    다른 치환체들은 상기 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같음.
  16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체가 하기와 같은 것을 특징으로 하는 방법:
    Q1이 산소 원자 및 황 원자로부터 선택되고,
    다른 치환체들은 상기 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같음.
  17. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체가 하기와 같은 것을 특징으로 하는 방법:
    Z가 알킬 라디칼, 수소 원자 및 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 아실, 티오아실, 시아노알킬, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐 또는 알킬술피닐 라디칼로부터 선택되고,
    다른 치환체들은 상기 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같음.
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체가 하기와 같은 것을 특징으로 하는 방법:
    Y가 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼, 및 아미노, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, -NHCOR10, -NHCSR10, N-아릴아미노, N,N-디아릴아미노, 아릴카르보닐아미노, 아릴티오카르보닐아미노, 아릴옥시티오카르보닐아미노 또는 N,N-아릴알킬아미노티오카르보닐아미노 기로부터 선택되고,
    다른 치환체들은 상기 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같음.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체가 하기와 같은 것을 특징으로 하는 방법:
    Q2는 -NR4R5기 (식 중, R4는 수소 원자를 나타내고 R5는 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 임의 치환된 알킬 라디칼, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐 및 알키닐 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타내고,
    다른 치환체들은 상기 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같음.
  20. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체가 각각의 또는 조합된 하기 특징을 갖는 것을 특징으로 하는 방법:
    X1및 X2는 각각 수소 원자를 나타냄,
    Z는 알킬 라디칼, 수소 원자, 및 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 아실, 티오아실, 시아노알킬, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐 또는 알킬술피닐 라디칼로부터 선택됨,
    Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼, 및 아미노, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, -NHCOR10, -NHCSR10, N-아릴아미노, N,N-디아릴아미노, 아릴카르보닐아미노, 아릴티오카르보닐아미노, 아릴옥시티오카르보닐아미노 또는 N,N-아릴알킬아미노티오카르보닐아미노 기로부터 선택됨,
    Q1은 산소 원자 및 황 원자로부터 선택됨,
    Q2는 -NR4R5기 (식 중, R4는 수소 원자를 나타내고 R5는 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 임의 치환 알킬 라디칼, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐 및 알키닐, 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타냄,
    다른 치환체들은 상기 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같음.
  21. 제 1 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체가 하기 특징을 갖는 것을 특징으로 하는 방법:
    X1및 X2는 각각 수소 원자를 나타내고,
    Z는 알킬 라디칼, 수소 원자, 및 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 아실, 티오아실, 시아노알킬, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐 또는 알킬술피닐 라디칼로부터 선택되고,
    Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐 라디칼, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐 라디칼, 및 아미노, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, -NHCOR10, -NHCSR10, N-아릴아미노, N,N-디아릴아미노, 아릴카르보닐아미노, 아릴티오카르보닐아미노, 아릴옥시티오카르보닐아미노 또는 N,N-아릴알킬아미노티오카르보닐아미노 기로부터 선택되고,
    Q1은 산소 원자 및 황 원자로부터 선택되고,
    Q2는 -NR4R5기 (식 중, R4는 수소 원자를 나타내고 R5는 직쇄 또는 분지쇄에 1 내지 12 개의 탄소 원자를 함유하는 임의 치환 알킬 라디칼, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐 및 알키닐 및 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬로부터 선택된 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타내고,
    다른 치환체들은 상기 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같음.
  22. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체가 하기와 같은 것을 특징으로 하는 방법:
    X1및 X2는 각각 수소 원자를 나타내고,
    Z는 알킬 라디칼, 수소 원자, 및 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬, 아실아미노알킬, 아실, 티오아실, 시아노알킬, 알콕시티오카르보닐, N-알킬아미노티오카르보닐, N,N-디알킬아미노티오카르보닐 또는 알킬술피닐 라디칼로부터 선택되고,
    Y는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실, 아지도, 알콕시, 알킬티오, 또는 알킬술포닐 라디칼, 및 아미노, -NHCOR10및 -NHCSR10기로부터 선택되고,
    Q1은 산소 원자를 나타내고,
    Q2는 -NR4R5기 (식 중, R4는 수소 원자를 나타내고 R5는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 라디칼 R9및/또는 아릴 및/또는 아릴알킬로 임의 치환된, 아릴, 아릴알킬, 헤테로시클릴 및 헤테로시클릴알킬 라디칼, 및/또는 -T-R8기로부터 선택된다)를 나타내고,
    다른 치환체들은 상기 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같음.
  23. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화학식 Ⅰ의 3-히드록시피콜린산 유도체가 하기의 화합물인 것을 특징으로 하는 방법:
    3-히드록시-N-{[3-(트리플루오로메틸)벤질]옥시}-2-피리딘카르복사미드,
    1-{3-히드록시-2-[(4-페녹시아닐리노)카르보닐]-4-피리디닐}-1,2-트리아자디엔-2-이움,
    4-아미노-3-히드록시-N-{4-[4-(트리플루오로메틸)-페녹시]-페닐}-2-피리딘카르복사미드,
    4-아미노-3-히드록시-N-[4-(4-메틸페녹시)페닐]-2-피리딘카르복사미드,
    4-(포르밀아미노)-3-히드록시-N-{4-[3-(트리플루오로메틸)-페녹시]페닐}-2-피리딘카르복사미드,
    N-[4-(4-클로로페녹시)페닐]-4-(포르밀아미노)-3-히드록시-2-피리딘카르복사미드,
    4-(포르밀아미노)-3-히드록시-N-{4-[4-(트리플루오로메틸)-페녹시]페닐}-2-피리딘카르복사미드 및
    N-[4-(벤질옥시)페닐]-4-(포르밀아미노)-3-히드록시-2-피리딘카르복사미드.
  24. 농약 분야, 및 또한 인간 및 동물 치료에서의 살진균 활성 물질로서, 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 수득한 화합물의 용도.
KR1020027008772A 2000-01-06 2001-01-08 히드록시피콜린산 유도체의 제조 방법 KR20020084088A (ko)

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