KR102069959B1 - 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법 - Google Patents
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Abstract
산화티탄을 주성분으로서 함유하는 사용이 완료된 탈질 촉매를, 산화망간을 함유하는 입자의 현탁액과 접촉시켜, 탈수하고, 이어서 건조 처리하는 것을 갖는 방법에 의해 사용이 완료된 탈질 촉매를 재생한다. 또한, 상기 건조 처리 후의 탈질 촉매에, 바나듐, 몰리브덴, 및 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 원소를 함유하는 화합물을 함유하는 용액을 함침시키고, 이어서 건조 처리하는 것을 추가로 갖는 방법에 의해 사용이 완료된 탈질 촉매를 재생한다.
Description
본 발명은, 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게, 본 발명은, 산화티탄을 주성분으로서 함유하는 사용이 완료된 탈질 촉매를, 그 형상을 유지한 채로, 적은 공정 수이며, 저비용으로, 보다 높은 탈질 성능을 갖는 것으로 재생하는 방법에 관한 것이다.
산화티탄을 주성분으로서 함유하는 촉매는, 암모니아나 우레아를 사용한 탈질 처리에 있어서, 높은 활성과 높은 내구성을 나타내므로, 국내외에서 널리 사용되고 있다. 이 탈질 촉매는, 장기간의 사용 동안에, 배연 중에 함유되는 촉매독 (알칼리 성분, 비소, 인 등) 의 부착이나, 신터링에 의한 촉매 입자의 조대화 (粗大化) 등에 의해 탈질 성능이 저하된다. 탈질 성능이 저하되었을 때에 새로운 탈질 촉매로 교환한다. 이 교환시에 다량의 사용이 완료된 탈질 촉매가 발생한다. 이 사용이 완료된 탈질 촉매를 재생하여, 폐기물의 저감, 촉매 생산 비용의 저감 등이 도모되고 있다.
사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법으로는, 예를 들어, 특허문헌 1 은, 사용이 완료된 티타니아계 고체 촉매를 광산 (鑛酸) 으로 용해시키고, 얻어진 용액을 가열하여 가수분해시키고, 이어서 알칼리로 중화하는 것을 포함하는 방법을 개시하고 있다.
특허문헌 2 는, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 원소의 부착에 의해 활성이 저하된 탈질 촉매의 표면에, 미리 조제한, 티탄 산화물과 바나듐 산화물, 티탄 산화물과 바나듐 산화물과 몰리브덴 산화물, 티탄 산화물과 바나듐 산화물과 텅스텐 산화물, 티탄 산화물과 바나듐 산화물과 몰리브덴 산화물과 텅스텐 산화물 중 어느 것을 함유하는 촉매 성분의 분말, 황산 및/또는 황산의 염류, 및 물로부터 조제한 슬러리를, 스프레이법 또는 침지법에 의해 코팅하는 것을 갖는 방법을 개시하고 있다.
특허문헌 3 은, 메탈라스 등의 철을 함유하는 금속제 기재와 탈질 촉매 성분으로 이루어지는 사용이 완료된 탈질 촉매에 옥살산을 담지시키고, 이어서 이것을 텅스텐산의 암모늄염을 함유하는 용액으로 처리하고, 이어서 건조 처리하는 것을 갖는 방법을 개시하고 있다.
특허문헌 4 는, 산화티탄, 바나듐의 산화물, 텅스텐 또는 몰리브덴의 산화물, 및 황산알루미늄을 주성분으로서 함유하는 사용이 완료된 탈질 촉매에, 물을 함침시키고, 이어서 50 ℃ 이상 100 ℃ 이하에서 열 처리함으로써 촉매 중의 황산알루미늄을 가수분해시키고, 그 후, 그 촉매를 수세하는 것을 갖는 방법을 개시하고 있다.
촉매독을 세정에 의해 제거하는 방법에 있어서는, 일반적으로, 다음과 같은 과제가 있다. (1) 세정을 위해서 다량의 물 또는 약액이 필요해진다. 또한 세정에 의해 발생한 폐액의 처리에 다대한 비용이 든다. (2) 비소나 인이 옥소산인 상태에서 산화티탄에 흡착되어 있으면 물이나 약액에 의한 세정으로는 충분히 제거할 수 없으므로, 탈질 성능의 회복도는 낮다.
본 발명의 목적은, 산화티탄을 주성분으로 하는 사용이 완료된 탈질 촉매를, 그 형상을 유지한 채로, 적은 공정 수이며, 저비용으로, 보다 높은 탈질 성능을 갖는 것으로 재생하는 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 검토한 결과, 이하와 같은 양태를 포함하는 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
〔1〕산화티탄을 주성분으로서 함유하는 사용이 완료된 탈질 촉매를, 산화망간을 함유하는 입자의 현탁액과 접촉시켜,
탈수하고,
이어서 건조 처리하는 것을 갖는 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법.
〔2〕산화망간을 함유하는 입자가, 산화티탄 입자 혹은 산화알루미늄 입자에 산화망간을 담지하여 이루어지는 것인,〔1〕에 기재된 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법.
〔3〕산화망간이 MnO 혹은 Mn3O4 인,〔1〕또는〔2〕에 기재된 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법.
〔4〕상기 건조 처리 후의 탈질 촉매에, 바나듐, 몰리브덴, 및 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 원소를 함유하는 화합물을 함유하는 용액을 함침시키고,
이어서 건조 처리하는 것을 추가로 갖는,〔1〕∼〔3〕중 어느 하나에 기재된 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법.
본 발명의 재생 방법에 의하면, 산화티탄을 주성분으로 하는 사용이 완료된 탈질 촉매를, 그 형상을 거의 유지한 채로, 적은 공정 수이며, 저비용으로, 보다 높은 탈질 성능을 갖는 것으로 재생할 수 있다.
본 발명의 재생 방법에 의하면, 비소나 인이 옥소산인 상태에서 산화티탄에 강하게 흡착되어 있어도, 적은 공정 수이며, 저비용으로, 보다 높은 탈질 성능을 갖는 것으로 재생할 수 있다.
종래법에 있어서는 세정수의 대량 사용 또는 과혹한 조건으로 해야만 제거할 수 있었던 비소 화합물을, 본 발명에 의해 용이하게 제거할 수 있게 된다. 이로써 재생 가능한 사용이 완료된 탈질 촉매의 범위가 크게 넓어져서, 자원의 유효 이용, 재이용에 크게 공헌할 수 있다.
본 발명에 있어서의 재생의 원리는 다음과 같을 것으로 추측한다.
산화티탄과 비산 이온은 식 (1) 로 나타내는 화학 평형에 있어서 생성물측 (식 (1) 의 우측) 으로 크게 편중되어 있는 것으로 생각된다. 액상 (液相) 으로 용출되어 있는 비산 이온이 적기 때문에, 1 회의 세정에 의해 제거되는 비소의 양이 적다.
산화망간과 비산 이온은 식 (2) 등으로 나타내는 반응을 한다. 이 반응에서 비산 이온이 산화망간과 반응하여 침전되므로, 액상 중의 비산 이온 농도가 낮아진다. 그 결과, 식 (1) 에 있어서 좌향의 반응이 촉진된다. 이와 같이 하여 산화티탄에 흡착되어 있던 비소를 효율적으로 제거할 수 있다.
AsO4 3- ＋ 3Ti ― OH ⇔ Ti3 ― AsO4 ＋ 3OH- (1)
3AsO4 3- ＋ 2MnO → Mn2(AsO4)3 ↓ (2)
본 발명에 관련된 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법은, 산화티탄을 주성분으로서 함유하는 사용이 완료된 탈질 촉매를, 산화망간을 함유하는 입자의 현탁액과 접촉시켜, 탈수하고, 이어서 건조 처리하는 것을 갖는 것이다.
본 발명에 사용되는 사용이 완료된 탈질 촉매는, 산화티탄을 주성분으로서 함유하는 것이다. 예를 들어, 주성분인 산화티탄과 부성분인 W, Mo, V 등의 원소를 함유하는 산화물을 함유하여 이루어지는 촉매 활성 물질을 허니콤상으로 성형하여 이루어지는 것, 메탈라스나 유리 섬유제 판 등의 판상 기재에 주성분인 산화티탄과 부성분인 W, Mo, V 등의 원소를 함유하는 산화물을 함유하여 이루어지는 촉매 활성 물질을 담지하여 이루어지는 것 등을 들 수 있다.
본 발명에 사용되는 사용이 완료된 탈질 촉매는, 수세정에 의해 황산 SO4 성분 또는 염소 Cl 성분의 양이 줄어든 것인 것이 바람직하다. 황산 성분 혹은 염소 성분은 산화망간과 반응하여 가용성의 망간염을 형성한다. 이러한 망간염이 탈질 촉매 중으로 이행되면, 촉매의 SO2 산화능을 높게 하는 경우가 있다. 따라서, 수세정에 의해 황산 성분 혹은 염소 성분의 양이 줄어든 사용이 완료된 탈질 촉매를 본 발명에 사용하면, SO2 산화능을 높이지 않고 탈질 성능의 회복률을 높일 수 있다.
본 발명에 사용되는 산화망간은, 산화망간 (II) : MnO, 산화망간 (II, III) : Mn3O4, 산화망간 (III) : Mn2O3, 산화망간 (IV) : MnO2 등의 어느 형태여도 된다. 본 발명에 있어서는, 비산망간 : Mn2(AsO4)3 을 형성하기 쉽다는 관점에서, 산화망간 (II) : MnO 혹은 산화망간 (II, III) : Mn3O4 가 바람직하다.
본 발명에 있어서는 시판되는 산화망간을 사용할 수 있다. 단, 시판품은 산화망간의 표면이 불활성화되어 있는 경우가 있으므로, 사용 전에 표면 처리를 실시하여 표면을 활성화시키는 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서는, 옥살산망간 등의 2 가 망간염을 질소 기류 중 등과 같은 환원 분위기 하에서 약 300 ∼ 500 ℃ 의 온도에서 소성하여 얻어지는 산화망간 (II) : MnO 를 사용할 수 있다. 이 방법으로 얻어지는 산화망간 (II) : MnO 는 그 표면이 비산 이온을 흡착하기 쉽기 때문에 바람직하다.
본 발명에 사용되는 산화망간을 함유하는 입자는, 산화망간만으로 이루어지는 입자여도 되지만, 비산 이온 등과의 접촉 면적이 증가하여 산화망간의 사용량을 줄일 수 있는 관점에서, 바람직하게는 산화망간을 담체 입자에 담지하여 이루어지는 입자이다.
본 발명에 사용되는 담체 (carrier) 입자는, 특별히 제한되지 않지만, 산화티탄 입자, 산화알루미늄 입자가 바람직하다. 산화티탄 입자로는 아나타아제형 산화티탄 입자가 바람직하다. 산화알루미늄 입자로는 활성 알루미나 입자가 바람직하다. 본 발명에 사용되는 담체 입자는, 비표면적에 의해 특별히 제한되지 않는다. 담체 입자의 비표면적은, 바람직하게는 80 ∼ 200 ㎡/g 이다.
담체 입자에 대한 산화망간의 담지는, 공지된 수법에 의해 실시할 수 있다. 예를 들어, 산화티탄 또는 산화알루미늄 등으로 이루어지는 담체 입자에 망간산용액을 함침 (impregnate) 시키고, 이어서 건조 처리하는 것을 포함하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 담지법에 있어서는 건조 처리 대신에 또는 건조 처리 후에 소성 처리를 실시해도 된다.
담체 입자에 담지되는 산화망간의 양은 바람직하게는 1 ∼ 20 질량％ 이다.
본 발명에 사용되는 현탁액은, 현탁질로서의 산화망간을 함유하는 입자가 현탁매에 현탁된 것이다. 현탁매로는 물이 바람직하게 사용된다. 현탁 상태인 산화망간을 함유하는 입자의 크기는, 그 입자가 현탁 상태를 유지할 수 있는 범위이면, 특별히 한정되지 않는다. 현탁질로서 산화망간만으로 이루어지는 입자를 사용한 경우에는, 현탁액에 함유되는 산화망간의 양은 바람직하게는 1 ∼ 30 질량％ 이다. 현탁질로서 산화망간을 담체 입자에 담지하여 이루어지는 입자를 사용한 경우에는, 현탁액에 함유되는 산화망간을 함유하는 입자의 양은 바람직하게는 1 ∼ 10 질량％ 이다.
본 발명에 사용되는 현탁액은, 액 중에 용출되는 비산 이온을 산화망간에 흡착시켜 비산염으로 변환되기 쉽게 한다는 관점에서, 산성인 것이 바람직하다. 현탁액은, 산성으로 하기 위해서, pH 조정 물질이 함유되어 있어도 된다. pH 조정 물질로는, 유기산 혹은 그 염, 무기산 혹은 그 염을 들 수 있다. 유기산으로는, 옥살산, 시트르산 등을 들 수 있다. 무기산으로는 질산, 황산 등의 광산을 들 수 있다. 현탁액에 함유되는 pH 조정 물질의 양은, 바람직하게는 0.1 ∼ 5 질량％ 이다.
사용이 완료된 탈질 촉매를 현탁액과 접촉시키는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 그 접촉은, 현탁액에 사용이 완료된 탈질 촉매를 침지하거나 하여 실시할 수 있다. 접촉을 침지에 의해 실시하는 경우, 사용이 완료된 탈질 촉매 1 질량부에 대해 현탁액을 3 ∼ 20 질량부 사용할 수 있다. 침지시의 현탁액의 온도는, 바람직하게는 상온 ∼ 100 ℃ 이다. 현탁액에 사용이 완료된 탈질 촉매를 침지한 상태에서 현탁액을 교반하면서 20 ∼ 200 시간 유지하는 것이 바람직하다. 현탁액의 교반은, 교반기, 펌프 등으로 실시할 수 있다. 이와 같이 하면, 사용이 완료된 탈질 촉매 중의 비소가 현탁액에 비산 이온 등이 되어 용출되어 산화망간에 흡착된다.
다음으로, 소정 시간 경과 후, 현탁액으로부터 탈질 촉매를 끌어올려, 탈수한다. 탈수 전에 필요에 따라 물로 세정해도 된다. 수세정에 의해 표면에 부착된 산화망간을 함유하는 입자를 제거할 수 있다. 그리고, 건조 처리한다. 그 건조 처리는, 그 방법에 따라 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 자연 건조, 상온 통풍 건조, 고온 통풍 건조 등에 의해 실시할 수 있다.
다음으로, 상기 건조 처리가 실시된 탈질 촉매에, V, Mo, W 등의 촉매 부성분을 보충할 수 있다. 보충의 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 건조 처리가 실시된 탈질 촉매에 바나듐, 몰리브덴, 및 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 원소를 함유하는 화합물을 함유하는 용액을 함침시키고, 이어서 건조 처리하는 것을 포함하는 방법으로 보충할 수 있다.
바나듐 원소를 함유하는 화합물로는, 황산바나딜, 메타바나딘산암모늄, 산화바나듐 등을 들 수 있다. 몰리브덴 원소를 함유하는 화합물로는 몰리브덴산암모늄 등을 들 수 있다. 텅스텐 원소를 함유하는 화합물로는, 텅스텐산암모늄 등을 들 수 있다. 추가로, 필요에 따라 인 원소나 알루미늄 원소를 보충할 수 있다. Al 혹은 P 의 보충은, V 등의 보충 방법과 마찬가지로 함침법으로 실시할 수 있다. 인 원소를 함유하는 화합물로는 인산, 폴리인산 등을 들 수 있다. 알루미늄 원소를 함유하는 화합물로는, 황산알루미늄 무수물, 황산알루미늄 수화물 등을 들 수 있다.
상기와 같은 원소를 함유하는 용액의 농도 및 양은, 재생 후의 성능을 만족시키는 데에 필요한 촉매 성분 담지량에 기초하여 적절히 설정할 수 있다.
함침은, 용액을 용기에 넣고, 거기에 피재생 촉매를 침지하거나, 용액을 노즐로부터 피재생 촉매의 표면에 분사하거나 하여 실시할 수 있다. 함침 시간은, 피재생 촉매의 세공 (細孔) 내에 용액이 깊이 스며드는 데에 충분한 시간이면 특별히 제한되지 않는다.
그리고, 용액을 함침시킨 후, 탈수하여 건조 처리할 수 있다. 그 건조 처리는, 그 방법에 따라 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 자연 건조, 상온 통풍 건조, 고온 통풍 건조 등에 의해 실시할 수 있다. 또한 건조 처리 후, 필요에 따라 소성 처리할 수 있다.
이하에 실시예를 나타내어 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 실시예에 의해 본 발명의 범위는 제한되지 않는다.
(탈질률의 측정)
사이즈 20 ㎜ × 100 ㎜ 의 탈질 촉매 1 장이 충전된 350 ℃ 의 관형 반응기에 표 1 에 나타내는 조성비의 가스를 3.1 ℓ/min 로 공급하여, 탈질률을 측정하였다.
(비소 및 망간의 함유량)
촉매를 형광 X 선 분석하여, As 및 Mn 의 함유량을, As2O3 및 MnO 의 질량으로 환산하여 산출하였다.
참고예
SUS430 제 메탈라스 기판에, Ti/Mo/V 의 원자수 비가 94/5/1 이 되도록 산화티탄, 텅스텐산암모늄 및 메타바나딘산암모늄을 함유하는 촉매 페이스트를 도포하여, 건조시키고, 판상 탈질 촉매를 얻었다. 미사용의 판상 탈질 촉매로부터 비소는 검출되지 않았다.
그 판상 탈질 촉매를 사용하여 석탄 배기 가스의 탈질 처리를 20000 시간 실시하였다. 사용이 완료된 탈질 촉매 중에 비소가 As2O3 으로서 2.8 질량％ 검출되었다. 사용이 완료된 탈질 촉매의 탈질률은 38 ％ 였다.
사용이 완료된 탈질 촉매로부터 100 ㎜ × 100 ㎜ 의 소편을 잘라 시험용의 피재생 촉매로 하였다.
실시예 1
옥살산망간 2수화물 (키시다 화학사 제조) 을 120 ℃ 에서 12 시간 건조시키고, 이어서 500 ℃ 의 질소 기류 중에서 2 시간 건조 처리하여, 산화망간 (II) : MnO 분말을 얻었다. MnO 분말 10 g 을 100 ㎖ 의 물에 첨가하여 현탁액 a 를 얻었다.
현탁액 a 에 피재생 촉매 1 장을 침지하였다. 그 상태에서 현탁액을 교반하면서 60 ℃ 에서 120 시간 유지하였다. 피재생 촉매를 현탁액으로부터 취출하여 100 ㎖ 의 물로 세정하였다. 촉매 표면에 부착되어 있던 현탁질을 제거하였다. 그 후, 충분히 탈수하고 150 ℃ 에서 1 시간 건조시키고, 계속해서 350 ℃ 에서 24 시간 건조시켜 재생 탈질 촉매 1a 를 얻었다. 재생 탈질 촉매 1a 는, 비소 함유량이 As2O3 으로서 0.8 질량％, 망간 함유량이 MnO 로서 0.1 질량％ 미만이었다. 재생 탈질 촉매 1a 의 탈질률은 55 ％ 였다.
실시예 2
옥살산망간 2수화물 (키시다 화학사 제조) 을 120 ℃ 에서 12 시간 건조시키고, 이어서 500 ℃ 의 공기 기류 중에서 2 시간 건조 처리하여, 산화망간 (II, III) : Mn3O4 분말을 얻었다. Mn3O4 분말 10 g 을 100 ㎖ 의 물에 첨가하여 현탁액 b 를 얻었다.
현탁액 a 대신에 현탁액 b 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 2a 를 얻었다. 재생 탈질 촉매 2a 는, 비소 함유량이 As2O3 으로서 1.2 질량％, 망간 함유량이 MnO 로서 0.1 질량％ 미만이었다. 재생 탈질 촉매 2a 의 탈질률은 53 ％ 였다.
실시예 3
비표면적 90 ㎡/g 의 아나타아제형 산화티탄 분말에, 질산망간 수용액을 더하여 증발 건고 (乾固) 시켰다. 얻어진 건고물을 500 ℃ 에서 2 시간 소성하여, 산화티탄 분말에 산화망간 10 질량％ 를 담지시켰다. 얻어진 산화망간 담지 산화티탄 입자 10 g 을 100 ㎖ 의 물에 첨가하여 현탁액 c 를 얻었다.
현탁액 a 대신에 현탁액 c 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 3a 를 얻었다. 재생 탈질 촉매 3a 는, 비소 함유량이 As2O3 으로서 0.9 질량％, 망간 함유량이 MnO 로서 0.2 질량％ 였다. 재생 탈질 촉매 3a 의 탈질률은 54 ％ 였다.
실시예 4
비표면적 200 ㎡/g 의 산화알루미늄 분말에, 질산망간 수용액을 더하여 증발건고시켰다. 얻어진 건고물을 500 ℃ 에서 2 시간 소성하여, 산화알루미늄 분말에 산화망간 10 질량％ 를 담지시켰다. 얻어진 산화망간 담지 산화알루미늄 입자 10 g 을 100 ㎖ 의 물에 첨가하여 현탁액 d 를 얻었다.
현탁액 a 대신에 현탁액 d 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 4a 를 얻었다. 재생 탈질 촉매 4a 는, 비소 함유량이 As2O3 으로서 0.7 질량％, 망간 함유량이 MnO 로서 0.2 질량％ 였다. 재생 탈질 촉매 4a 의 탈질률은 56 ％ 였다.
비교예 1
현탁액 a 대신에 순수 100 ㎖ 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 1b 를 얻었다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
비교예 2
현탁액 a 대신에 1N 의 옥살산 수용액 100 ㎖ 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 2b 를 얻었다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
실시예 5
순수 180 ㎖ 에 메타바나딘산암모늄 (NH4VO3) 5 g 과 삼산화몰리브덴 (MoO3) 5 g 을 용해시켜, 황갈색이며 투명한 용액을 얻었다. 그 용액은 시성식 (示性式) : (NH4)3Mo2V3O15 로 나타내는 복합 옥소산염의 수용액이다.
실시예 1 에서 얻어진 재생 탈질 촉매 1a 를 그 수용액에 30 초간 침지하고, 재생 탈질 촉매 1a 에 그 수용액을 함침시켰다. 수용액으로부터 탈질 촉매를 취출하여, 탈수하고 이어서 120 ℃ 에서 1 시간 건조시키고, 그 후 350 ℃ 에서 24 시간 건조시켜, 재생 탈질 촉매 5a 를 얻었다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
실시예 6
재생 탈질 촉매 1a 대신에 재생 탈질 촉매 2a 를 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 6a 를 얻었다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
실시예 7
재생 탈질 촉매 1a 대신에 재생 탈질 촉매 3a 를 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 7a 를 얻었다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
실시예 8
재생 탈질 촉매 1a 대신에 재생 탈질 촉매 4a 를 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 8a 를 얻었다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
비교예 3
재생 탈질 촉매 1a 대신에 재생 탈질 촉매 1b 를 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 3b 를 얻었다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
비교예 4
재생 탈질 촉매 1a 대신에 재생 탈질 촉매 2b 를 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 수법으로 재생 탈질 촉매 4b 를 얻었다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
표 2 에 나타내는 바와 같이, 본원 발명의 방법에 따라 재생한 탈질 촉매는, 비소의 함유량이 적고, 탈질률의 회복률이 높다.
Claims (5)
- 배기가스에서 유래하는 비소 및 인이 부착된 산화티탄을 주성분으로서 함유하는 사용이 완료된 탈질 촉매를, 산화티탄 입자 혹은 산화알루미늄 입자에 산화망간을 담지하여 이루어지는 입자의 현탁액과 접촉시켜,
탈수하고,
이어서 건조 처리하는 것을 갖는,
사용이 완료된 탈질 촉매로부터 비소 및 인을 제거하는 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법. - 제 1 항에 있어서,
산화망간이 MnO 혹은 Mn3O4 인, 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 건조 처리 후의 탈질 촉매에, 바나듐, 몰리브덴, 및 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 원소를 함유하는 화합물을 함유하는 용액을 함침시키고,
이어서 건조 처리하는 것을 추가로 갖는 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 사용이 완료된 탈질 촉매는, 물 세정에 의해, 황산 SO4 성분 또는 염소 Cl 성분의 양이 줄어든 것인, 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
산화망간의 담지에 사용되는 산화티탄 입자 또는 산화알루미늄 입자의 비표면적이 80 ~ 200 ㎡/g 인, 사용이 완료된 탈질 촉매의 재생 방법.
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