KR0119116B1 - 현상액 관리장치 - Google Patents

현상액 관리장치

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슈 오가와
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가부시끼가이샤 히라마리카 겐뀨죠
나가세 히데오
나가세 산교 가부시끼가이샤
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Abstract

액정기판 제조공정이나 프린트기판 제조공정 등에 있어서, 감광성 유기수지의 현상에 사용되는 알칼리계 현상 성능을 항시 일정화함과 동시에, 조업정지시간을 큰폭으로 단축할 수 있는 현상액 관리장치로서, 현상액의 용해수지농도를 흡광공도계(16)으로 검출하여 현상액을 배출하는 현상액 배출수단과, 현상액의 액면레벨을 액면레벨계(3)으로 검출하여 현상원액과 순수를 보급하는 제1보급수단과, 현상액의 알칼리농도를 도전율계(15)에 의해 검출하여 현상원액 또는 순수를 보급하는 제2보급수단을 갖추고 있다.

Description

현상액 관리장치
제1도는 본 발명의 1실시예를 나타내는 현상액관리장치의 계통도.
제2도는 본 발명의 다른 실시예를 나타내는 현상관리장치의 계통도.
제3도는 본 발명의 다른 실시예를 나타내는 현상관리장치의 계통도.
제4도는 본 발명의 또 다른 실시예를 나타내는 현상관리장치의 계통도.
제5도는 알칼리농도와 현상액수지의 선폭과의 관계를 나타내는 조업예의 그래프.
제6도는 본 발명에서의 도전율과 알칼리농도와의 관계를 나타내는 실시예의 그래프.
액면레벨계(3)은 현상처리중에 기판에 부착하여 계외로 돌출되어 있는것으로 자연감량에 의한 계면레벨저하를 검출하고, 또는 현상성능이 열화한 액을 강제배출할때의 액면 레벨저하를 검출하여 현상처리조(1)의 액량을 일정범위로 관리한다. 여기서, 열화된 액은 액배출펌프(18)을 작동함으로써 배출용 배관으로 흘러내린다.
또한, 열화된 액을 배출용 배관을 경유하지 않고 직접 계외로 배출해내는 경우가 있다.
현상원액(예를 들면 TMAH 15-20중량 수용액, KOH 농축 수용액)의 현상원액공급통(19)는 배관(20)으로부터의 N2가스로 예를 들면 1-2kgf/Cm2로 가압되어 있고, 원액유량조절밸브(21)의 열림에 의해 압송된다. 또한, 순수는 이미 설치된 배관으로부터의 분자관으로 통하고, 순수유량조절밸브(22)의 열림에 의해 물이 보내진다. 이 현상원액 및 순수는 각각의 밸브를 자동조절하여 송액되고, 관로(23)에서 합류하여 관로(12)에 연결하여, 순환류와 함께 혼합되면서 현상처리조(1)에 들어간다. 또한, 현상원액과 급수를 합류시키지 않고 관로(12)또는 현상처리조(1)에 연결하는 것도 가능하다. 그러나, 제1도에 나타난 바와 같이 현상원액과 순수를 관로(23)에서 합류시킨후, 순환관로(12)에 연결하는 것이, 충분한 혼합이되므로 바람직하다.
또한, 현상액 스프레이용 관로(10)에 온라인으로 설치한 도전율계(15)와 흡광광도계(16)(예를 들면 양쪽기기는 일체로 구성)에는, 관로(14)로 부터 시료액이 도입되어 도전율, 흡광도를 연속측정하고 측정된 액은 관로(17)로부터 관로(10)으로 되돌아 온도, 또한, 도전율계(15)와 흡광광도계(16)을 별개로하여 설치하는 것도 가능하다.
제2도는 본 발명의 다른실시예를 나타내는 장치 계통도이다.
현상액의 액면레벨을 액면레벨계(3)으로 검출하여 현상원액과 순수를 보급하는 대신에, 제2도에 나타난 바와 같이, 현상액의 액면레벌을 액면레벨계(3)으로 검출하여 현상원액과 순수를 미리 혼합하여 조합한 현상신액을 보급하도록 구성한 것이다.
27은 현상신액공급통, 28은 신액유량조절밸브이다.
다른 구성은 제1도의 경우와 같다.
제3도는 본 발명의 다른 실시예를 나타내는 장치 계통도이다. 본 실시예는, 수지용 현상액의 용해수지농도를 흡광광도계(16)으로 검출하여 현상원액과 순수를 보급하도록 구성한 것이다. 제3도에 나타난 바와 같이, 통상시에 액면레벨은 오보플로우용 둑의 위치부근에 있고, 현상원액 또는 순수가 보급된 경우는, 오버플로우용 둑으로부터 열화한 현상액이 흘러내려 자동 배출된다.
또한, 액배출펌프(18)은 반드시 필요하지는 않고, 액배출펌프(18) 대신에 밸브를 설치해도 좋다. 그외 구성은 제1도의 경우와 같다.
제4도는, 본 발명의 다른 실시예를 나타내는 장치 계통도이다. 본 실시예는, 수지용 현상액의 용해수지농도를 흡광광도계(16)으로 검출하여 보급하는 제3보급수단에 있어서, 현상원액과 순수를 보급하는 대신에, 제4도에 나타난 바와 같이 현상원액과 순수를 미리 조합한 현상신액을 보급하도록 구성한 것이다. 다른 구성은 제3도의 경우와 같다.
그다음, 제1도에 나타난 실시예장치의 제어계통도에 대해 설명한다. 액면레벨계(3)과 현상처리조(1)의 액면레벨, 도전율계(15)와 현상액 알칼리농도, 흡광광도계(16)과 현상액 용해수지농도의 3자는 본질적으로는 각각 독립기능으로서 작용하나, 본 발명에서는 이들을 상호 보완적인 관련에서 기능시키는 것을 특징으로 하고 있다.
또한, 처음에 제품기관의 품질관리상에 필요한 현상액의 알칼리농도의 목표치, 용액수지농도의 열화한계치등은, 조업실적이나 계산에 기초하여 미리 각 제어기에 설정해 놓아야 한다.
현상액의 알칼리농도는, 기판수지와의 반응, 또는 공기중의 탄산가스, 산소가스의 흡수, 반응에 의해 저하한다.
알칼리농도가 저하함과 동시에 기판수지의 현상액의 선폭이 크게(또는 공간의 좁게)변하여, 초기설정치와의 차이를 크게하여 치수정밀도 불량의 현상을 일으킨다. 그 구체적인 조업예를 제5도에 나타냈다.
이때문에, 현상액 알칼리농도는 소정의 목표치, 예를 들면 TMAH의 경우 2.38(±0.02)중량%로 관리할 필요가 있다.
종래는, 경험으로부터의 기판처리매수와의 상관관계 또는 화학분석 등에 의해 현상액열화의 정도를 판정하곤 했으나, 신속하고 정확한 파악이 곤란했다.
본 발명은 현상액의 알칼리 농도와 도전율 관계를 실험으로 검토하고 제6도에 나타난 바와 같은 사용농도부근에 있어서는, 도전율에 대하여 알칼리농도가 지배적으로 고도의 직선상관계를 갖고 측정할 수 있다는 것을 확인했다.
관로(10)에 온라인으로 설치한 도전율계(15)는, 측정오차를 최소한으로 하기 위한 제반 보상기능과 도전율제어기(25)를 갖추고 있다. 관로(10)으로부터 도입한 시료액의 도전율측정치는 도전율제어기(25)에 입력하여 그 값이 목표치가 되도록 출력신호에 의해 현상원액 또는 순수를 유량조절밸브(21),(22)에 의해, 각각 자동제어하여 알칼리농도를 목표치로 조정할때까지 보급한다.
현상성능의 열화는 상술한 알칼리 농도에 의하는 외에, 용해수지 농도로 관여하고 있다. 기판처리의 현상액은 송액펌프(78)에 의해 현상처리조(1)로부터 배출되고 현상액 스프레이(7)을 거쳐 순환사용되므로, 용해수지가 현상액중에 점차 농축하게 된다. 그 결과, 제7도에 조업예로서 나타낸 바와 같이, 미노광부 잔여막율의 저하등 현상성능을 현저히 열화시키나, 종래는, 이 농도변화를 즉시 측정하고 현상성능을 일정치로 관리하는 것이 행해지고 있었다.
즉, 기판의 처리매수를 열화지표로 하고 있으나, 기판의 현성이나 수지의 도포량 및 노광부와 미노광부와의 비율이 일정하지 않기 때문에 기판종류마다의 용해수지량도 다르므로 처리매수를 판정원인으로 하기에는 무리가 있다.
본 발명자는, 현상액의 수지오염상태의 연구로부터, 이것을 흡광도와의 관계에서 측정하는 점에 착안하여, 실험에 의해 제8도에 나타난 바와 같은 결과를 얻었다.
제8도에서 보는 바와 같이, 용해수지농도와 흡광도는 알카리농도의 영향 없이 고도의 직선관계에 있고, 기판 처리매수와는 관계가 없는 용해수지 농도자체에 의한 현상성능한계치가 판정가능하게 되었다. 또한, 수지용해에 의하여 현상액은 적색으로 되기 때문에, 측정파장으로서 λ=480mm을 사용했다.
따라서, 관로(10)에 도전율계(15)와 일체 또는 별개로 설치한 흡광광도계(16)이 현상액의 용해수지 농도를 연속측정하여 열화한계치를 넘는 것을 검출하고, 흡광도제어기(26)의 출력신호에 의해 배출펌프(18)이 작동하고, 열화한 현상액을 현상처리조(1)로부터 꺼내어 배출관으로 폐기하거나, 또는 직접계외로 폐기한다. 그 결과, 감량한 현상처리조(1)에서는, 곧 액면레벨계(3)이 하강한 액면레벨을 검출하여 신선한 현상액이 보급되고, 용해수지 농도는 열화한계치로 희석되는 것으로 현상성능이 회복하고 액배출펌프(18)은 정지한다.
여기서, 제1도에 나타낸 실시예 장치가 의도한 제어계통의 기능적 관련에 대해 서술한다. 현상처리조(1)의 비어있는 때에는 액면레벨계(3)이 액면레벨을 검출하여 액면레벨 제어기(24)의 출력신호에 의해 현상원액 및 순수를 적정한 유량비로 유량조절밸브(21),(22)에 의해 밸브열림도를 조절하여 송액된다.
그리고, 도전율계(15)가 현상액의 도전율을 연속측정하여 도전율제어기(25)의 출력신호에 의해 현상원액 또는 순수를 적정한 미소유량에서, 유량조절밸브(21) 또는 (22)에 의해 밸브열림도를 조절하여 송액되고, 목

Claims (4)

  1. 감광성유기수지용 현상액의 용해수지 농도를 흡광광도계(16)으로 검출하여 현상액을 매풀하는 현상액배출수단과, 현상애그이 액면레벨을 액면레벨계(3)으로 검출하여 현상원액과 순수를 보급하는 제1보급수단과,현상액의 알칼리 농도를 도전율계(15)로 검출하여 현상원액 또는 순수를 보급하는 제2보급수단을 갖춘 것을 특징으로 하는 현상액 관리장치.
  2. 제1항에 있어서, 제1보급수단에서, 현상원액과 순수를 보급하는 대신에 현상원액과 순수를 미리 조합한 현상신액을 보급하도록 한 것을 특징으로 하는 현상액 관리장치.
  3. 감광성유기수지용 현상액의 용해수지농도를 흡광광도계(16)으로 검출하여 현상원액과 순수를 보급하는 제3보급수단과, 현상액의 알칼리농도를 도전율계(15)로 검출하여 현상원액 또는 순수를 보급하는 제2보급수단을 갖춘 것을 특징으로 하는 현상액관리장치.
  4. 제3항에 있어서, 제3보급수단에서, 현상원액과 순수를 보급하는 대신에, 현상원액과 순수를 미리 조합한 현상신액을 보급하도록 한 것을 특징으로 하는 현상액 관리장치.
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Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5479233A (en) * 1992-07-06 1995-12-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate processing apparatus
US5822039A (en) * 1993-02-10 1998-10-13 Noritsu Koki Co., Ltd. Photographic printing and developing apparatus
TW256929B (ko) * 1993-12-29 1995-09-11 Hirama Rika Kenkyusho Kk
US5416552A (en) * 1994-01-28 1995-05-16 Surface Tek, Inc. Apparatus and method for replenishing developer
JP3238834B2 (ja) * 1994-10-12 2001-12-17 松下電器産業株式会社 薄膜パターンの形成方法および化学反応装置
JPH09162094A (ja) * 1995-12-05 1997-06-20 Tokuyama Corp 現像原液の希釈方法
JP3093975B2 (ja) * 1996-07-02 2000-10-03 株式会社平間理化研究所 レジスト剥離液管理装置
KR20000062334A (ko) * 1996-12-25 2000-10-25 나카노 가츠히코 패턴 가공용 약액 집중 관리 장치
JP3795627B2 (ja) * 1997-05-15 2006-07-12 東芝電子エンジニアリング株式会社 レジストの現像方法
JPH1184679A (ja) * 1997-09-08 1999-03-26 Nagase & Co Ltd 感光性樹脂の連続現像方法及び現像開始剤
JP2000081700A (ja) * 1998-07-02 2000-03-21 Nippon Zeon Co Ltd パタ―ン形成方法
JP3728945B2 (ja) 1998-10-30 2005-12-21 オルガノ株式会社 フォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法及び装置
TWI298423B (en) * 2001-02-06 2008-07-01 Nagase & Co Ltd Developer producing equipment and method
JP3795342B2 (ja) * 2001-04-05 2006-07-12 シャープ株式会社 ハイブリッド型レジスト現像装置、レジスト現像方法および液晶ディスプレイの製造方法
JP3497841B2 (ja) * 2001-06-01 2004-02-16 長瀬産業株式会社 現像廃液再生装置及び現像廃液再生方法
JP2003033760A (ja) * 2001-07-26 2003-02-04 Kemitekku:Kk 現像液再生装置
US6752545B2 (en) * 2001-08-16 2004-06-22 Nagase & Co., Ltd. Alkali-based treating liquid, treating liquid adjusting method and equipment, treating liquid supplying method and equipment
US20030073242A1 (en) * 2001-10-11 2003-04-17 Kitchens Keith G. Apparatus for controlling stripping solutions methods thereof
JP2004101999A (ja) * 2002-09-11 2004-04-02 Mitsubishi Chemical Engineering Corp 現像液のリサイクル供給装置
TW575796B (en) * 2002-09-27 2004-02-11 Au Optronics Corp System and method for recovering TMAH developer
JP3894104B2 (ja) * 2002-11-15 2007-03-14 東京エレクトロン株式会社 現像方法及び現像装置及び現像液再生装置
JP2004219452A (ja) * 2003-01-09 2004-08-05 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法
CN100538530C (zh) * 2003-06-27 2009-09-09 友达光电股份有限公司 氢氧化四甲铵显影液的回收系统及其方法
JP4366490B2 (ja) * 2003-08-22 2009-11-18 長瀬産業株式会社 現像液供給方法及び装置
US7078162B2 (en) * 2003-10-08 2006-07-18 Eastman Kodak Company Developer regenerators
US20050076801A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Miller Gary Roger Developer system
JP4183604B2 (ja) * 2003-12-01 2008-11-19 東京応化工業株式会社 現像装置および現像方法
JP4194541B2 (ja) * 2004-08-05 2008-12-10 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法及び液状態検出装置
US7153045B2 (en) * 2005-01-07 2006-12-26 Eastman Kodak Company Electro-mechanical system and method for mixing replenishment for plate precursor developers
KR100862987B1 (ko) * 2008-01-28 2008-10-13 주식회사 디엠에스 기판 반송장치
JP5637676B2 (ja) * 2009-11-16 2014-12-10 石原ケミカル株式会社 現像液中のフォトレジスト溶解量の測定方法
JP6721157B2 (ja) 2015-07-22 2020-07-08 株式会社平間理化研究所 現像液の成分濃度測定方法及び装置、並びに、現像液管理方法及び装置
JP6505534B2 (ja) * 2015-07-22 2019-04-24 株式会社平間理化研究所 現像液の管理方法及び装置
JP6713658B2 (ja) 2015-07-22 2020-06-24 株式会社平間理化研究所 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法
JP2018120900A (ja) 2017-01-23 2018-08-02 株式会社平間理化研究所 現像液管理装置
JP2018120893A (ja) * 2017-01-23 2018-08-02 株式会社平間理化研究所 現像液の成分濃度測定装置、及び現像液管理装置
JP2018120895A (ja) 2017-01-23 2018-08-02 株式会社平間理化研究所 現像装置
JP6736087B2 (ja) 2017-01-23 2020-08-05 株式会社平間理化研究所 現像液の濃度監視装置、及び現像液管理装置
JP6763608B2 (ja) 2017-01-23 2020-09-30 株式会社平間理化研究所 現像液の二酸化炭素濃度表示装置、及び現像液管理装置
JP2018120898A (ja) 2017-01-23 2018-08-02 株式会社平間理化研究所 現像装置
JP6712415B2 (ja) 2017-01-23 2020-06-24 株式会社平間理化研究所 現像液管理装置
JP2018120901A (ja) * 2017-01-23 2018-08-02 株式会社平間理化研究所 現像装置
JP2018120897A (ja) 2017-01-23 2018-08-02 株式会社平間理化研究所 現像液の濃度監視装置、及び現像液管理装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8001443A (nl) * 1980-03-11 1981-10-01 Anderson & Vreeland Bv Werkwijze en inrichting voor het nabehandelen van een buigzame drukvorm.
JPS5895349A (ja) * 1981-11-30 1983-06-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性プレ−トの現像補充液補充方法
JPH0634890B2 (ja) * 1985-07-10 1994-05-11 株式会社日立製作所 薬液調合方法
JPS6264792A (ja) * 1985-09-13 1987-03-23 株式会社島津製作所 超伝導磁場発生装置における保冷用液体補給装置
JPS62131368A (ja) * 1985-12-04 1987-06-13 Nec Corp 給油所における油液の在庫管理システム
JPS62186265A (ja) * 1986-02-12 1987-08-14 Canon Inc 現像装置
JPS62186266A (ja) * 1986-02-12 1987-08-14 Canon Inc 現像装置
JPS63100460A (ja) * 1986-10-16 1988-05-02 Konica Corp 現像処理の安定性等が改良される感光材料の処理方法と自動現像機
JPH067910B2 (ja) * 1987-02-10 1994-02-02 日立プラント建設株式会社 現像原液の希釈装置
US4857750A (en) * 1987-12-17 1989-08-15 Texas Instruments Incorporated Sensor for determining photoresist developer strength
JP2729797B2 (ja) * 1988-01-12 1998-03-18 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の現像方法
US5168296A (en) * 1988-04-20 1992-12-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and apparatus for processing photosensitive material
US5121164A (en) * 1988-06-06 1992-06-09 Spectrum Sciences B.V. Method for maintaining a liquid composition
US5055870A (en) * 1989-02-17 1991-10-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Waterless presensitized lithographic printing plate developing apparatus
JPH02254342A (ja) * 1989-03-29 1990-10-15 Hitachi Condenser Co Ltd 現像液の不純物量検出方法
JPH0330314A (ja) * 1989-06-27 1991-02-08 Fujitsu Ltd レジスト現像装置と現像液の管理方法
JPH03107167A (ja) * 1989-09-20 1991-05-07 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料処理装置
JP2979093B2 (ja) * 1989-12-07 1999-11-15 カシオ計算機株式会社 フォトレジストの現像装置

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