JPH0634890B2 - 薬液調合方法 - Google Patents
薬液調合方法Info
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- JPH0634890B2 JPH0634890B2 JP60150203A JP15020385A JPH0634890B2 JP H0634890 B2 JPH0634890 B2 JP H0634890B2 JP 60150203 A JP60150203 A JP 60150203A JP 15020385 A JP15020385 A JP 15020385A JP H0634890 B2 JPH0634890 B2 JP H0634890B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、設定値の濃度を有しかつ高清浄化された薬液
を調合する薬液調合方法にかかわり、特に半導体素子製
造の湿式処理工程で用いる処理液を調合するのに好適な
薬液調合方法に関するものである。
を調合する薬液調合方法にかかわり、特に半導体素子製
造の湿式処理工程で用いる処理液を調合するのに好適な
薬液調合方法に関するものである。
半導体素子製造の湿式処理工程で用いる処理液として
は、従来、薬品原液を循環ろ過して清浄化したものを処
理槽に一定量供給後、処理槽内で最適な調合比に合わせ
ているものが用いられている(例えば、特開昭58−1356
43号公報)。しかし、このような供給装置は、処理槽内
で調合するときに再汚染する恐れがあり、また、循環ろ
過により薬液の分解や薬品原液の濃度が一定でないため
に、最適な調合比に定量的に調合することが困難である
という問題があった。
は、従来、薬品原液を循環ろ過して清浄化したものを処
理槽に一定量供給後、処理槽内で最適な調合比に合わせ
ているものが用いられている(例えば、特開昭58−1356
43号公報)。しかし、このような供給装置は、処理槽内
で調合するときに再汚染する恐れがあり、また、循環ろ
過により薬液の分解や薬品原液の濃度が一定でないため
に、最適な調合比に定量的に調合することが困難である
という問題があった。
本発明の目的は、薬品成分が最適の調合比に定量的に調
合されかつ高清浄化された薬液を得ることができる薬液
調合方法を提供することにある。
合されかつ高清浄化された薬液を得ることができる薬液
調合方法を提供することにある。
本発明においては、定量的な調合を行うため、薬液また
はその各成分濃度をモニタする手段を設け、薬液濃度を
モニタしながら、濃度が設定値になるように薬品原液ま
たは純水を調合槽内に補充し、濃度を補正する。また、
調合槽内の薬液を循環せしめる循環路に、薬液をろ過す
る手段と薬液中の微粒子数を計測する液中微粒子モニタ
手段を設ける。そして、上記のように濃度補正を行うと
ともに、液中微粒子をモニタして、必要に応じ微粒子数
が設定値以下になるように薬液の循環ろ過を行うことに
より、常に設定値の薬液濃度を保った高清浄化された薬
液を安定調合することができる。
はその各成分濃度をモニタする手段を設け、薬液濃度を
モニタしながら、濃度が設定値になるように薬品原液ま
たは純水を調合槽内に補充し、濃度を補正する。また、
調合槽内の薬液を循環せしめる循環路に、薬液をろ過す
る手段と薬液中の微粒子数を計測する液中微粒子モニタ
手段を設ける。そして、上記のように濃度補正を行うと
ともに、液中微粒子をモニタして、必要に応じ微粒子数
が設定値以下になるように薬液の循環ろ過を行うことに
より、常に設定値の薬液濃度を保った高清浄化された薬
液を安定調合することができる。
薬液またはその各成分濃度をモニタする手段としては、
半導体素子製造の湿式処理工程で用いる処理液等の場合
は、紫外部にある薬液中の化合物の紫外線吸収量を計測
する方法(紫外線吸収法)、または薬液中の化合物のイ
オン量を計測する方法(導電率法)を用いることができ
る。
半導体素子製造の湿式処理工程で用いる処理液等の場合
は、紫外部にある薬液中の化合物の紫外線吸収量を計測
する方法(紫外線吸収法)、または薬液中の化合物のイ
オン量を計測する方法(導電率法)を用いることができ
る。
ここで、本発明において用いる、紫外線吸収法および導
電率法による薬液濃度測定の原理について述べる。半導
体素子製造の湿式処理工程でよく用いられる薬液の、紫
外線波長に対する吸光度の変化と、薬液の濃度に対する
導電率の変化を、それぞれ第2図および第3図に示す。
第2図において、曲線a,b,cは、それぞれアンモニ
ア水、過酸化水素水、硝酸の吸光度を示す曲線である。
吸光度の変化量は薬液の濃度と相関関係にあることか
ら、測定波長をある波長に固定(例えば、硝酸の場合は
302nm)して吸光度の変化量を測定することにより
薬液の濃度を求めることができる。しかし、測定できる
化合物は限られている。また、第3図において、曲線
d,e,f,g,hは、それぞれ塩酸、硝酸、硫酸、ア
ンモニア水、フッ化水素酸の導電率を示す曲線である。
溶液中の導電率の変化量を測定することにより薬液の濃
度を求められるが、イオン化する化合物ならばすべて計
測されるために、イオン化している化合物間(例えば、
NO3 - とCl- )を区別して測定することはできない。
電率法による薬液濃度測定の原理について述べる。半導
体素子製造の湿式処理工程でよく用いられる薬液の、紫
外線波長に対する吸光度の変化と、薬液の濃度に対する
導電率の変化を、それぞれ第2図および第3図に示す。
第2図において、曲線a,b,cは、それぞれアンモニ
ア水、過酸化水素水、硝酸の吸光度を示す曲線である。
吸光度の変化量は薬液の濃度と相関関係にあることか
ら、測定波長をある波長に固定(例えば、硝酸の場合は
302nm)して吸光度の変化量を測定することにより
薬液の濃度を求めることができる。しかし、測定できる
化合物は限られている。また、第3図において、曲線
d,e,f,g,hは、それぞれ塩酸、硝酸、硫酸、ア
ンモニア水、フッ化水素酸の導電率を示す曲線である。
溶液中の導電率の変化量を測定することにより薬液の濃
度を求められるが、イオン化する化合物ならばすべて計
測されるために、イオン化している化合物間(例えば、
NO3 - とCl- )を区別して測定することはできない。
しかしながら、上記原理を有効に利用することにより、
調合する薬液の濃度を測定することができる。例えば、
エッチング液のように1成分から成っている処理液の場
合は、イオン化しているフッ素イオン導電率を測定する
ことにより薬液の濃度を求めることができる。また、フ
ッ酸−硝酸の2成分から成るエッチング液の場合は、波
長302nmの吸光度を測定することにより硝酸の濃度を
求め、次に、フッ酸−硝酸の全イオン量(NO3 -+F
− )に相当する導電率を測定し、この方法で求めた値
をもとに個々の濃度を計算により算出することができ
る。このように、紫外線吸収法と導電率法とを組み合わ
せて測定することにより、半導体素子製造の湿式処理工
程で用いる薬液の濃度を連続的にモニタすることが可能
である。
調合する薬液の濃度を測定することができる。例えば、
エッチング液のように1成分から成っている処理液の場
合は、イオン化しているフッ素イオン導電率を測定する
ことにより薬液の濃度を求めることができる。また、フ
ッ酸−硝酸の2成分から成るエッチング液の場合は、波
長302nmの吸光度を測定することにより硝酸の濃度を
求め、次に、フッ酸−硝酸の全イオン量(NO3 -+F
− )に相当する導電率を測定し、この方法で求めた値
をもとに個々の濃度を計算により算出することができ
る。このように、紫外線吸収法と導電率法とを組み合わ
せて測定することにより、半導体素子製造の湿式処理工
程で用いる薬液の濃度を連続的にモニタすることが可能
である。
以下、本発明による薬液調合方法について、図面を参照
して具体的に説明する。次に述べる実施例は、本発明に
よる方法を適用し、マイクロコンピュータを用いて薬液
濃度を所定濃度に制御するように構成した例である。
して具体的に説明する。次に述べる実施例は、本発明に
よる方法を適用し、マイクロコンピュータを用いて薬液
濃度を所定濃度に制御するように構成した例である。
第1図は、本発明の方法を用いて薬液濃度を制御しつつ
調合を行うように構成した装置の一例を示す構成図であ
る。まず、電磁弁1,2,3を開き、電磁弁4,5を閉
じた状態で、薬液循環ポンプ9により薬品原液タンク10
から薬品原液をフィルタ13にてろ過して薬液貯蔵タンク
11に送液する。送液後、電磁弁1を閉じた状態で、薬液
循環ポンプ9により薬液を循環させてフィルタ13でろ過
し、薬液の清浄度をレーザ光あるいは光の散乱を利用し
た液中微粒子モニタ装置14によって評価判定する。液中
の微粒子数が設定数以下ならば、薬液循環ポンプ9を停
止し、電磁弁2,5を閉じ、電磁弁3,4を開ける。次
に、薬液調合タンク12に電磁弁7により純水を設定量入
れる。そして、再び薬液循環ポンプ9を動かし、薬液貯
蔵タンク11内の薬液を薬液調合タンク12に設定量送った
後、電磁弁3を閉じ電磁弁5を開いて、液を循環ろ過す
る。その際、紫外線吸収計あるいは導電率濃度計からな
る薬液濃度測定装置19により薬液濃度を計測し、薬液濃
度が設定値より低い場合には、電磁弁5を閉じ電磁弁3
を開いて薬品原液を追加補充し、薬液濃度が設定値より
高い場合には、電磁弁7を開いて純水を補充する。これ
ら一連の操作を繰り返して、薬液調合タンク12内の液が
設定濃度、設定清浄度に達したら、薬液循環ポンプ9を
停止し、電磁弁5,6を閉じた後、電磁弁6を開いて、
N2ガスで薬液調合タンク12内を加圧する。その後、必要
に応じて電磁弁8の開閉を行い、液を処理槽(図示せ
ず)に圧送供給する。
調合を行うように構成した装置の一例を示す構成図であ
る。まず、電磁弁1,2,3を開き、電磁弁4,5を閉
じた状態で、薬液循環ポンプ9により薬品原液タンク10
から薬品原液をフィルタ13にてろ過して薬液貯蔵タンク
11に送液する。送液後、電磁弁1を閉じた状態で、薬液
循環ポンプ9により薬液を循環させてフィルタ13でろ過
し、薬液の清浄度をレーザ光あるいは光の散乱を利用し
た液中微粒子モニタ装置14によって評価判定する。液中
の微粒子数が設定数以下ならば、薬液循環ポンプ9を停
止し、電磁弁2,5を閉じ、電磁弁3,4を開ける。次
に、薬液調合タンク12に電磁弁7により純水を設定量入
れる。そして、再び薬液循環ポンプ9を動かし、薬液貯
蔵タンク11内の薬液を薬液調合タンク12に設定量送った
後、電磁弁3を閉じ電磁弁5を開いて、液を循環ろ過す
る。その際、紫外線吸収計あるいは導電率濃度計からな
る薬液濃度測定装置19により薬液濃度を計測し、薬液濃
度が設定値より低い場合には、電磁弁5を閉じ電磁弁3
を開いて薬品原液を追加補充し、薬液濃度が設定値より
高い場合には、電磁弁7を開いて純水を補充する。これ
ら一連の操作を繰り返して、薬液調合タンク12内の液が
設定濃度、設定清浄度に達したら、薬液循環ポンプ9を
停止し、電磁弁5,6を閉じた後、電磁弁6を開いて、
N2ガスで薬液調合タンク12内を加圧する。その後、必要
に応じて電磁弁8の開閉を行い、液を処理槽(図示せ
ず)に圧送供給する。
以上は薬品原液が1種の場合であるが、複数の薬品原液
の調合を行うときは、薬液調合タンク12に対して薬液循
環ろ過部22を追加接続することにより、同様に調合を行
うことができる。
の調合を行うときは、薬液調合タンク12に対して薬液循
環ろ過部22を追加接続することにより、同様に調合を行
うことができる。
第4図は、前記した紫外線吸収計と導電率濃度計からの
出力を演算したときのフローチャートである。第1図に
示した実施例は、この演算をマイクロコンピュータ21で
行なわせている場合を示したものであるが、もちろん別
の演算処理を行う装置を用いても濃度の算出は可能であ
る。
出力を演算したときのフローチャートである。第1図に
示した実施例は、この演算をマイクロコンピュータ21で
行なわせている場合を示したものであるが、もちろん別
の演算処理を行う装置を用いても濃度の算出は可能であ
る。
第4図のフローチャートに基づいて、薬液濃度を演算し
て算出する方法の一例を説明する。まず、ステップA
でスタートすると、演算に必要な計算式パラメータを
測定しようとする薬液の定数に設定する(ステップB
)。次に、紫外線吸収計の測定値が濃度の演算に必要
かを判定する(ステップC)。紫外線吸収計の測定値
が必要でない場合、導電率濃度計の測定値i2を読み込
み、演算式に基づいて薬液濃度Y1,Y2を求める(ステッ
プK,L,N,M)。紫外線吸収計の測定値が必要
な場合、紫外線吸収計の測定値i1を読み込み、次に導電
率濃度計の測定値i2も必要かを判定する(ステップ
D,E)。導電率濃度計の測定値i2が必要でない場
合、紫外線吸収計の測定値i1のみで、ステップJの演
算式に基づいて薬液濃度Y1,Y2を求める(ステップ
I,J)。導電率濃度計の測定値i2も必要な場合、導
電率濃度計の測定値i2を読み込み、ステップHの演算
式に基づいて薬液濃度Y1,Y2を求める(ステップF,
G,H)。演算式に基づいて求められた薬液濃度Y1,
Y2から、各電磁弁の作動時間t1,t2が算出され、ここで
1サイクルの濃度の演算処理は終了する。
て算出する方法の一例を説明する。まず、ステップA
でスタートすると、演算に必要な計算式パラメータを
測定しようとする薬液の定数に設定する(ステップB
)。次に、紫外線吸収計の測定値が濃度の演算に必要
かを判定する(ステップC)。紫外線吸収計の測定値
が必要でない場合、導電率濃度計の測定値i2を読み込
み、演算式に基づいて薬液濃度Y1,Y2を求める(ステッ
プK,L,N,M)。紫外線吸収計の測定値が必要
な場合、紫外線吸収計の測定値i1を読み込み、次に導電
率濃度計の測定値i2も必要かを判定する(ステップ
D,E)。導電率濃度計の測定値i2が必要でない場
合、紫外線吸収計の測定値i1のみで、ステップJの演
算式に基づいて薬液濃度Y1,Y2を求める(ステップ
I,J)。導電率濃度計の測定値i2も必要な場合、導
電率濃度計の測定値i2を読み込み、ステップHの演算
式に基づいて薬液濃度Y1,Y2を求める(ステップF,
G,H)。演算式に基づいて求められた薬液濃度Y1,
Y2から、各電磁弁の作動時間t1,t2が算出され、ここで
1サイクルの濃度の演算処理は終了する。
第5図は、第1図に示した装置をマイクロコンピュータ
で制御したときのフローチャートである。以下、本フロ
ーチャートに基づいて、薬液濃度を自動的に所定濃度に
制御する方法の一例を説明する。まず、ステップAでス
タートすると、電磁弁1,2,3を開き、電磁弁4,5
を閉じる(ステップB)。薬液循環ポンプ9を作動させ
て、薬液を薬液貯蔵タンク11内に導入し、液面センサな
どを用いて水位が所定値であるかを判定しながら所定量
入れる(ステップC,D)。所定水位になると、電磁弁
1が閉じられる(ステップE)。薬液貯蔵タンク11内の
薬液中の微粒子数が設定値以下かを液中微粒子モニタ装
置14で測定して薬液の清浄度を判定し、設定値以下にな
ったら薬液を循環させていた薬液循環ポンプ9を停止す
る(ステップF,G,H)。ついで、電磁弁2,5を閉
じ、電磁弁3,4を開き(ステップI)、この状態で電
磁弁7を開いて純水を薬液調合タンク12に導入し、液面
センサなどで水位が所定値であるかを判定しながら所定
量入れる(ステップJ,K)。所定水位になると、薬液
循環ポンプ9を動かして、設定量の薬液を薬液調合タン
ク12に供給し、電磁弁3を閉じ、電磁弁5を開ける(ス
テップL,M,N)。供給後、紫外線吸収計、導電率濃
度計を用いて薬液調合タンク12内の薬液の紫外線吸収
量、導電率を測定し、第4図のフローチャートで説明し
た方法で薬液の濃度が算出され(ステップ)、測定値
が設定濃度範囲内であるか否かが判定される(ステップ
P)。測定値が目標値から外れている場合、濃度が低す
ぎれば、電磁弁5を閉じ、電磁弁3を時間tだけ開けて
薬液を補充し(ステップQ,R)、また濃度が高すぎれ
ば、電磁弁7を時間t′だけ開けて純水を補充する(ス
テップS)。このようにして、薬液調合タンク12内の薬
液濃度が制御され、薬液中の微粒子数が設定値以下かを
判定し、設定値以下ならば薬液循環ポンプ9を停止する
(ステップ(ステップV)。ついで、電磁弁5を閉じ、
電磁弁6,8を開いて(ステップW)、調合した薬液を
処理槽(図示せず)へ設定量だけ送液する(ステップ
X)。送液後、電磁弁8を閉じて1サイクルを終了する
(ステップZ)。
で制御したときのフローチャートである。以下、本フロ
ーチャートに基づいて、薬液濃度を自動的に所定濃度に
制御する方法の一例を説明する。まず、ステップAでス
タートすると、電磁弁1,2,3を開き、電磁弁4,5
を閉じる(ステップB)。薬液循環ポンプ9を作動させ
て、薬液を薬液貯蔵タンク11内に導入し、液面センサな
どを用いて水位が所定値であるかを判定しながら所定量
入れる(ステップC,D)。所定水位になると、電磁弁
1が閉じられる(ステップE)。薬液貯蔵タンク11内の
薬液中の微粒子数が設定値以下かを液中微粒子モニタ装
置14で測定して薬液の清浄度を判定し、設定値以下にな
ったら薬液を循環させていた薬液循環ポンプ9を停止す
る(ステップF,G,H)。ついで、電磁弁2,5を閉
じ、電磁弁3,4を開き(ステップI)、この状態で電
磁弁7を開いて純水を薬液調合タンク12に導入し、液面
センサなどで水位が所定値であるかを判定しながら所定
量入れる(ステップJ,K)。所定水位になると、薬液
循環ポンプ9を動かして、設定量の薬液を薬液調合タン
ク12に供給し、電磁弁3を閉じ、電磁弁5を開ける(ス
テップL,M,N)。供給後、紫外線吸収計、導電率濃
度計を用いて薬液調合タンク12内の薬液の紫外線吸収
量、導電率を測定し、第4図のフローチャートで説明し
た方法で薬液の濃度が算出され(ステップ)、測定値
が設定濃度範囲内であるか否かが判定される(ステップ
P)。測定値が目標値から外れている場合、濃度が低す
ぎれば、電磁弁5を閉じ、電磁弁3を時間tだけ開けて
薬液を補充し(ステップQ,R)、また濃度が高すぎれ
ば、電磁弁7を時間t′だけ開けて純水を補充する(ス
テップS)。このようにして、薬液調合タンク12内の薬
液濃度が制御され、薬液中の微粒子数が設定値以下かを
判定し、設定値以下ならば薬液循環ポンプ9を停止する
(ステップ(ステップV)。ついで、電磁弁5を閉じ、
電磁弁6,8を開いて(ステップW)、調合した薬液を
処理槽(図示せず)へ設定量だけ送液する(ステップ
X)。送液後、電磁弁8を閉じて1サイクルを終了する
(ステップZ)。
本発明の方法により、半導体素子製造において極めて広
く使われているエッチングやウエハ表面洗浄などの湿式
処理工程での処理液の安定調合が可能となった。その結
果、従来の薬液自動ろ過供給装置を用いた場合と比較す
ると、例えばエッチング工程では、30ÅのSiO2をエッチ
するのに従来は±10Åのばらつきがあったのが、±3Å
以下のばらつきにおさえることができた。また、表面酸
化前のウエハ洗浄工程においても、従来は0.3μm以上
の異物が4インチウエハ上に20個前後再付着していたも
のが、本発明の方法により10個以下に低減できた。
く使われているエッチングやウエハ表面洗浄などの湿式
処理工程での処理液の安定調合が可能となった。その結
果、従来の薬液自動ろ過供給装置を用いた場合と比較す
ると、例えばエッチング工程では、30ÅのSiO2をエッチ
するのに従来は±10Åのばらつきがあったのが、±3Å
以下のばらつきにおさえることができた。また、表面酸
化前のウエハ洗浄工程においても、従来は0.3μm以上
の異物が4インチウエハ上に20個前後再付着していたも
のが、本発明の方法により10個以下に低減できた。
さらに、安定した処理液の供給により、歩留まり向上は
もちろんのこと特性向上が図られる上、湿式処理工程の
一貫自動化に大きく寄与できる。
もちろんのこと特性向上が図られる上、湿式処理工程の
一貫自動化に大きく寄与できる。
以上説明したように、本発明によれば、設定値の濃度を
有しかつ高清浄化された薬液を安定して調合することが
できる。
有しかつ高清浄化された薬液を安定して調合することが
できる。
第1図は本発明の方法を用いて薬液の調合を行う装置の
一例を示す構成図、第2図は紫外線吸収法により薬液濃
度を測定する原理説明のための紫外線波長に対する吸光
度の変化を示すグラフ、第3図は導電率法により薬液濃
度を測定する原理説明のための薬液濃度に対する導電率
の変化を示すグラフ、第4図は第1図に示した装置での
薬液濃度算出の一例におけるマイクロコンピュータのフ
ローチャート、第5図は第1図に示した装置を制御する
マイクロコンピュータのフローチャートである。 1,2,3,4,5,6,7,8……電磁弁 9……薬液循環ポンプ、10……薬品原液タンク 11……薬液貯蔵タンク、12……薬液調合タンク 13……フィルタ 14……液中微粒子モニタ装置 19……薬液濃度測定装置 21……マイクロコンピュータ 22……薬液循環ろ過部
一例を示す構成図、第2図は紫外線吸収法により薬液濃
度を測定する原理説明のための紫外線波長に対する吸光
度の変化を示すグラフ、第3図は導電率法により薬液濃
度を測定する原理説明のための薬液濃度に対する導電率
の変化を示すグラフ、第4図は第1図に示した装置での
薬液濃度算出の一例におけるマイクロコンピュータのフ
ローチャート、第5図は第1図に示した装置を制御する
マイクロコンピュータのフローチャートである。 1,2,3,4,5,6,7,8……電磁弁 9……薬液循環ポンプ、10……薬品原液タンク 11……薬液貯蔵タンク、12……薬液調合タンク 13……フィルタ 14……液中微粒子モニタ装置 19……薬液濃度測定装置 21……マイクロコンピュータ 22……薬液循環ろ過部
Claims (2)
- 【請求項1】設定値の濃度を有しかつ高清浄化された薬
液を得るために1種または複数種の薬品原液と純水とを
用いて調合を行う薬液調合方法であって、薬品原液と純
水とを導入して調合を行う調合槽と、該調合槽の中の薬
液を循環せしめる薬液循環路と、該薬液循環路の中にあ
って薬液をろ過する薬液ろ過手段と、上記薬液循環路の
中にあって薬液中の微粒子数を計測する液中微粒子モニ
タ手段と、上記薬液循環路の中にあって薬液またはその
各成分の濃度をモニタする薬液濃度モニタ手段とを設
け、該薬液濃度モニタ手段による測定結果に基づき、薬
液濃度が設定値になるように薬品原液または純水を補充
するとともに、上記液中微粒子モニタ手段による測定結
果に基づき、必要に応じ薬液中の微粒子数が設定値以下
になるように薬液の循環を行って上記薬液ろ過手段によ
り薬液のろ過を行うことを特徴とする薬液調合方法。 - 【請求項2】紫外部にある薬液中の化合物の紫外線吸収
量または薬液中の化合物のイオン量を計測することによ
って薬液またはその成分の濃度をモニタすることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の薬液調合方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60150203A JPH0634890B2 (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 薬液調合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60150203A JPH0634890B2 (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 薬液調合方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6211520A JPS6211520A (ja) | 1987-01-20 |
| JPH0634890B2 true JPH0634890B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=15491774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60150203A Expired - Fee Related JPH0634890B2 (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 薬液調合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634890B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH067910B2 (ja) * | 1987-02-10 | 1994-02-02 | 日立プラント建設株式会社 | 現像原液の希釈装置 |
| JPS6461032A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Sumitomo Electric Industries | Device for mounting chip |
| JPS6461033A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Sumitomo Electric Industries | Device for mounting chip |
| IT1240509B (it) * | 1990-07-27 | 1993-12-17 | Firestone Int Dev Spa | Metodo di preriscaldamento, vulcanizzazione e stabilizzazione di pneumatici di veicoli |
| JP2561578B2 (ja) * | 1991-08-07 | 1996-12-11 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液管理装置 |
| EP1075675A1 (en) | 1998-04-30 | 2001-02-14 | The Boc Group, Inc. | Conductivity feedback control system for slurry blending |
| JP6075124B2 (ja) * | 2012-03-15 | 2017-02-08 | Jsr株式会社 | 現像液の精製方法 |
| WO2023058317A1 (ja) * | 2021-10-08 | 2023-04-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1496657A (en) * | 1974-01-11 | 1977-12-30 | Sandoz Ltd | Metering system |
| JPS52101764A (en) * | 1976-02-24 | 1977-08-26 | Riyouwa Eakon Kk | Twooliquid mixer of quantity type |
| JPS5961833U (ja) * | 1982-10-15 | 1984-04-23 | 日機装株式会社 | アンモニア自動希釈装置 |
| US4553034A (en) * | 1983-12-02 | 1985-11-12 | Westinghouse Electric Corp. | Ion exchange resin intrusion monitor |
-
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