JPS62186266A - 現像装置 - Google Patents
現像装置Info
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- JPS62186266A JPS62186266A JP2687286A JP2687286A JPS62186266A JP S62186266 A JPS62186266 A JP S62186266A JP 2687286 A JP2687286 A JP 2687286A JP 2687286 A JP2687286 A JP 2687286A JP S62186266 A JPS62186266 A JP S62186266A
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- JP
- Japan
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- forming agent
- pattern forming
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- Pending
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は被加工物の表面にパターン形成剤を塗布し、露
光後現像するための現像装置に係り、特に現像液特性を
チェックして安定した特性を有するに被加工物を現像す
るに好適な現像装置に関するものである。
光後現像するための現像装置に係り、特に現像液特性を
チェックして安定した特性を有するに被加工物を現像す
るに好適な現像装置に関するものである。
［従来の技術］
フォトリソグラフィー技術を用いて被加工物の表面をエ
ツチングする事により各種製品を製造する事が工業上特
に電子工業の分野において広く利”用されている。この
エツチングの際には被加工物表面にパターン形成剤たる
感光性樹脂（フォトレジスト）を塗布した後、該レジス
トを所望パターンにて露光後現像する事が行われるが、
現像が十分に行なわれないとパターンの形成に支障をき
たし、更にこれが巨視的及び微視的な欠陥となり素子形
成後に特性のバラツキが発生する。
ツチングする事により各種製品を製造する事が工業上特
に電子工業の分野において広く利”用されている。この
エツチングの際には被加工物表面にパターン形成剤たる
感光性樹脂（フォトレジスト）を塗布した後、該レジス
トを所望パターンにて露光後現像する事が行われるが、
現像が十分に行なわれないとパターンの形成に支障をき
たし、更にこれが巨視的及び微視的な欠陥となり素子形
成後に特性のバラツキが発生する。
従ってかかる弊害を除去するためにパターン形成の際の
現像は十分に行なわれなければならない、現像は現像液
を用いて行なわれるが、現像液を長期間使用しそいると
現像液中に溶解したパターン形成剤が蓄植され、現像液
を汚染する。現像液が汚染されるとト分な現像が行なわ
れず、従って現像液が汚染された場合には現像液の交換
が必要とされる。しかし従来この交換時期は被加工物現
像個数あるいは使用日数により決定していた。けれども
この方法では被加工物のバターニングの程度が異なると
、予測されるよりも現像液の汚染が激しくなり、またこ
れを回避しようとして交換を頻繁に行なえば製造コスト
がアップするという欠点を有していた。
現像は十分に行なわれなければならない、現像は現像液
を用いて行なわれるが、現像液を長期間使用しそいると
現像液中に溶解したパターン形成剤が蓄植され、現像液
を汚染する。現像液が汚染されるとト分な現像が行なわ
れず、従って現像液が汚染された場合には現像液の交換
が必要とされる。しかし従来この交換時期は被加工物現
像個数あるいは使用日数により決定していた。けれども
この方法では被加工物のバターニングの程度が異なると
、予測されるよりも現像液の汚染が激しくなり、またこ
れを回避しようとして交換を頻繁に行なえば製造コスト
がアップするという欠点を有していた。
［発明が解決しようとする問題点］
本発明は前記欠点等を解決するもので、現像液中に溶解
したパターン形成剤の濃度を管理し、安定した特性を有
する被加工物を供給し得る現像装置を提供することにあ
る。
したパターン形成剤の濃度を管理し、安定した特性を有
する被加工物を供給し得る現像装置を提供することにあ
る。
［問題点を解決するための手段］
本発明はこのために、被加工物の表面に塗布されたパタ
ーン形成剤を露光後、現像する現像液中に溶解した前記
パターン形成剤の濃度を測定し、現像液を管理するよう
にした現像装置をその手段としたものである。
ーン形成剤を露光後、現像する現像液中に溶解した前記
パターン形成剤の濃度を測定し、現像液を管理するよう
にした現像装置をその手段としたものである。
［実施例］
以下１本発明の実施例を図面に基づき説明する。
図に示す如く、現像槽１内には現像液２が蓄溜され、フ
ァン３により攪拌される。
ァン３により攪拌される。
被加工物４は現像液２内に浸漬される。被加工物４には
現像のためのパターン形成剤（図示せず）が予め塗布さ
れるが、現像によりこれが現像液２内に溶解する。溶解
したパターン形成剤の濃度を測定する測定手段としては
可視・紫外の光度計、屈折率計、ＣＯＤ測定装置、ＯＯ
Ｃ測定装置等があり、本実施例では図示の如くこれ等の
測定手段の検出部たるセンサ５が現像液２内にデ４ツビ
ングして設けられている。センサ５により検出された前
記パターン形成剤の濃度により現像液２の使用可否が判
断され液管理が行われる。
現像のためのパターン形成剤（図示せず）が予め塗布さ
れるが、現像によりこれが現像液２内に溶解する。溶解
したパターン形成剤の濃度を測定する測定手段としては
可視・紫外の光度計、屈折率計、ＣＯＤ測定装置、ＯＯ
Ｃ測定装置等があり、本実施例では図示の如くこれ等の
測定手段の検出部たるセンサ５が現像液２内にデ４ツビ
ングして設けられている。センサ５により検出された前
記パターン形成剤の濃度により現像液２の使用可否が判
断され液管理が行われる。
次に現像液２を自動交換する自動交換手段について説明
する。
する。
センサ５の検出信号は制御部６に送られる。制御部６に
はパターン形成剤の濃度を表示する表示部７、パターン
形成剤の濃度を記録する記録部８、パターン形成剤の濃
度が所定値（許容値）よりも大きくなった場合にこれを
警報する警報部９、切換バルブｔＯ，Ｕが連結する。
はパターン形成剤の濃度を表示する表示部７、パターン
形成剤の濃度を記録する記録部８、パターン形成剤の濃
度が所定値（許容値）よりも大きくなった場合にこれを
警報する警報部９、切換バルブｔＯ，Ｕが連結する。
切換バルブｌＯは現像槽１内の現像液を排出する排出管
１２内に介設され、切換バルブ１１は現像槽ｌ内に貯蔵
槽１３から新しい現像液２を供給する供給管１４内に介
設される。
１２内に介設され、切換バルブ１１は現像槽ｌ内に貯蔵
槽１３から新しい現像液２を供給する供給管１４内に介
設される。
以上の構成により現像槽ｌ内の現像液２のパターン形成
剤の濃度が記録、表示されると共に、所定値よりも大き
くなった場合に警報され、かつ制御部６による切換バル
ブ１０．１１の開放動作により、パターン形成剤の濃度
の高い現像液２が排出され、新しい現像液２が現像槽ｌ
内に自動供給されることになる。これにより現像液２の
パターン形成剤の濃度が所定値内に保持され、安定した
現像が行われることになる。
剤の濃度が記録、表示されると共に、所定値よりも大き
くなった場合に警報され、かつ制御部６による切換バル
ブ１０．１１の開放動作により、パターン形成剤の濃度
の高い現像液２が排出され、新しい現像液２が現像槽ｌ
内に自動供給されることになる。これにより現像液２の
パターン形成剤の濃度が所定値内に保持され、安定した
現像が行われることになる。
現像槽ｌの形式としては前記の図示のものに限らず現像
液をポンプ等により循環せしめ循環現像液をジャワ等に
より被加工物の表面に噴射して現像するようなものでも
よい、またパターン形成剤の濃度を測定する測定手段は
図示のものに勿論限定しない。
液をポンプ等により循環せしめ循環現像液をジャワ等に
より被加工物の表面に噴射して現像するようなものでも
よい、またパターン形成剤の濃度を測定する測定手段は
図示のものに勿論限定しない。
［発明の効果１
以上の説明によって明らかな如く１本発明によれば比較
的簡便な手段により容易にパターン形成剤の濃度を測定
し、現像液の濃度を管理して良好な現像を行わしめると
共に、現像液を自動交換し、常に所定値内のパターン形
成剤の溶解濃度を有する現像液により現像が行われ、安
定した特性を有する被加工物を供給し得る効果が上げら
れる。
的簡便な手段により容易にパターン形成剤の濃度を測定
し、現像液の濃度を管理して良好な現像を行わしめると
共に、現像液を自動交換し、常に所定値内のパターン形
成剤の溶解濃度を有する現像液により現像が行われ、安
定した特性を有する被加工物を供給し得る効果が上げら
れる。
図は本発明の一実施例の構成図である。
ｌ・・・現像槽、２・・・現像液、３・・・ファン。
４・・・被加工物、５・・・センサ、６・・・制御部。
７・・・表示部、８・・・記録部、９・・・警報部、１
０、１１・・・切換バルブ、１２・・・排出管、１３・
・・貯蔵槽、１４・・・供給管。
０、１１・・・切換バルブ、１２・・・排出管、１３・
・・貯蔵槽、１４・・・供給管。
Claims (3)
- （１）被加工物の表面に塗布されたパターン形成剤を露
光後、現像液を用いて現像する現像装置において、前記
現像液中に溶解した前記パターン形成剤の濃度を測定す
る測定手段を設けることを特徴とする現像装置。 - （２）前記測定手段が可視・紫外の光度計、屈折率計、
ＣＯＤ測定装置、ＤＯＣ測定装置であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項に記載の現像装置。 - （３）前記測定手段による前記パターン形成剤の濃度に
応じて、前記現像液を自動交換する自動交換手段を設け
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の現像
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2687286A JPS62186266A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2687286A JPS62186266A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62186266A true JPS62186266A (ja) | 1987-08-14 |
Family
ID=12205383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2687286A Pending JPS62186266A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62186266A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6455567A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Sensor diagnosing device for photosensitive planographic printing plate developing device |
| JPH04172355A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 現像液の補充方法および補充装置 |
| JPH0540345A (ja) * | 1991-08-07 | 1993-02-19 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | 現像液管理装置 |
| EP0736810A1 (en) * | 1995-04-07 | 1996-10-09 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for remotely monitoring operation of a lithographic printing plate processor |
| JP2013228512A (ja) * | 2012-04-25 | 2013-11-07 | Think Laboratory Co Ltd | 現像液の劣化評価方法及びそれを用いたグラビア製版ロール |
-
1986
- 1986-02-12 JP JP2687286A patent/JPS62186266A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6455567A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Sensor diagnosing device for photosensitive planographic printing plate developing device |
| JPH04172355A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 現像液の補充方法および補充装置 |
| JPH0540345A (ja) * | 1991-08-07 | 1993-02-19 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | 現像液管理装置 |
| EP0736810A1 (en) * | 1995-04-07 | 1996-10-09 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for remotely monitoring operation of a lithographic printing plate processor |
| JP2013228512A (ja) * | 2012-04-25 | 2013-11-07 | Think Laboratory Co Ltd | 現像液の劣化評価方法及びそれを用いたグラビア製版ロール |
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