JPH07140671A - 基板現像装置 - Google Patents

基板現像装置

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JPH07140671A
JPH07140671A JP15826993A JP15826993A JPH07140671A JP H07140671 A JPH07140671 A JP H07140671A JP 15826993 A JP15826993 A JP 15826993A JP 15826993 A JP15826993 A JP 15826993A JP H07140671 A JPH07140671 A JP H07140671A
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JP
Japan
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developing solution
developing
substrate
storage section
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Application number
JP15826993A
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English (en)
Inventor
Yasuyoshi Miyaji
恭祥 宮路
Keiji Kirie
敬二 桐栄
Daisaku Ariyama
大作 有山
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 現像液の無駄な消費を抑えつつ現像液のアル
カリ濃度を適正値に保つ。 【構成】 基板現像装置は、フォトレジストが塗布され
かつ所定のパターンに露光された基板2を現像液により
現像する装置である。この装置は、現像処理部3と現像
液貯溜部1と現像液循環部と新鮮現像液貯溜部4と濃厚
現像液貯溜部5とを備えている。現像処理部3には、基
板2が収容される。現像液貯溜部1には、アルカリ現像
液が貯溜される。現像液循環部は、現像液供給管11と
ポンプP4と戻し配管12とを有し、現像処理部3と現
像液貯溜部1との間で現像液を循環させる。新鮮現像液
貯溜部4は、現像液貯溜部1に新鮮液を補給する。濃厚
現像液貯溜部5は、現像液貯溜部1に濃厚液を補給す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、現像装置、特に、感光
性樹脂が塗布されかつ所定のパターンに露光された基板
を現像液により現像する基板現像装置に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば液晶用基板や半導体用基板等の
製造工程では、フォトエッチングが繰り返して行われ
る。このフォトエッチングの際には、フォトレジストが
塗布された基板に対して露光処理が行われた後に、アル
カリ現像液により現像処理が施される。
【0003】この種の基板現像装置は、従来、基板が収
容される現像処理部と、アルカリ現像液が貯蔵される現
像液貯蔵部と、現像処理部と現像液貯蔵部との間で現像
液を循環させる現像液循環部と、現像液貯蔵部に調整後
の新鮮な現像液を補給する新鮮液補給部とを備えてい
る。この基板現像装置では、現像により低下するアルカ
リ濃度や現像液に溶解するフォトレジスト濃度の上昇に
よる疲労を防止するために、アルカリ濃度やフォトレジ
スト濃度を検出し、この検出結果にしたがって新鮮液を
補給したり現像液を新鮮液で全液交換したりしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の構成では、
新鮮液補給部により補給される現像液は、予め所定のア
ルカリ濃度に調整されているので、アルカリ濃度が所定
以下となった現像液を所定濃度に復帰させるには大量の
新鮮現像液が必要である。この補給時には大量の現像液
がオーバーフローにより排出されるので、現像液の無駄
が多い。
【0005】本発明の目的は、現像液の無駄な消費を抑
えつつ現像液のアルカリ濃度を適正値に保つことにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る基板現像装
置は、感光性樹脂が塗布されかつ所定のパターンに露光
された基板を現像液により現像する装置である。この装
置は、現像処理部と現像液貯蔵部と循環手段と新鮮液補
給手段と濃厚液補給手段とを備えている。現像処理部
は、基板を収容するものである。現像液貯蔵部は、現像
液を貯溜するものである。循環手段は、現像処理部と現
像液貯蔵部との間で現像液を循環させるものである。新
鮮液補給手段は、現像液貯蔵部に新鮮液を補給するもの
である。濃厚液補給手段は、現像液貯蔵部に濃厚液を補
給するものである。
【0007】なおここで、新鮮液とは、現像に用いられ
る濃度と同じかそれ以下の濃度の新鮮現像液及び水をい
う。また、濃厚液とは、現像に用いられる濃度を超える
濃度の現像液をいう。
【0008】
【作用】本発明に係る基板現像装置では、現像処理部に
基板が収容される。そして、現像液貯蔵部から循環手段
を介して現像液が送られ、基板が現像処理される。現像
後の現像液は循環手段により現像処理部から現像液貯蔵
部に戻される。現像液にフォトレジストが溶解し、現像
液が疲労した場合には、新鮮液補給手段から現像液貯蔵
部に新鮮液が補給される。また、現像液のアルカリ濃度
が低下した場合には、濃厚液補給手段から現像液貯蔵部
に濃厚液が補給される。
【0009】ここでは、アルカリ濃度が低下した場合に
は濃厚液を補給できるので、少量の濃厚液で現像液を所
定濃度に復帰できる。このため、現像液の消費を抑えつ
つ現像液のアルカリ濃度を適正値に保てる。
【0010】
【実施例】図1において、本発明の一実施例による現像
装置は、たとえばTMAH(テトラメチルアンモニウム
ハイドロキサイド)等のアルカリ現像液が貯溜される現
像液貯溜槽1と、現像液貯溜槽1から送られた現像液に
よりガラス基板2に対して現像処理を施すための現像処
理部3と、標準濃度或いはそれより低濃度の新鮮な現像
液または純水を現像貯溜槽1に供給するための新鮮現像
液貯溜部4と、現像原液(標準濃度の現像液の2〜10
倍の濃厚液)を現像貯溜槽1に供給するための濃厚現像
液貯溜部5と、現像液貯溜槽1内の現像液のアルカリ濃
度及び疲労度(フォトレジスト濃度)を測定するための
現像液測定部6とを有している。
【0011】現像液貯溜槽1には、新鮮現像液貯溜部4
に接続された新鮮現像液供給管7と、濃厚現像液貯溜部
5に接続された濃厚現像液供給管8とが底部近傍まで達
している。これらの供給管7,8の途中には、ポンプP
1,P2が配置されている。また貯溜槽1には、オーバ
ーフロー管9及び排液管10が接続されている。排液管
10には排液弁SVが配置されており、排液弁SVの排
液側にオーバーフロー管9が接続されている。さらに貯
溜槽1には、途中にポンプP4が設けられた現像液供給
管11と、途中にフィルタ16が設けられた現像液戻し
管12とが接続されている。また貯溜槽1には、スター
ラ13a及び液面計13bが設けられている。
【0012】現像処理部3は、基板2に現像液を噴霧す
るノズル部14と、基板2を収容する基板収容部15と
を有している。ノズル部14には現像液供給管11が接
続されている。ノズル部14には、複数のノズルが直線
状に配置されている。基板収容部15には、基板2をノ
ズルの配置方向と直交する方向に移動させる移動機構
(図示せず)が設けられている。基板収容部15には戻
し配管12が接続されている。
【0013】現像液測定部6には、現像液供給管11の
途中から分岐する測定配管17と、オーバーフローした
液を戻し配管12に戻すオーバーフロー管18とが接続
されている。現像液測定部6には、現像液のアルカリ濃
度を測定するための導電率計19と、現像液の疲労度を
測定するための光学センサ(たとえば吸光度計、透過率
計または濁度計)20とが配置されている。測定配管1
7の途中にはポンプP3が配置されている。ここでは、
測定配管17が現像液供給管11の途中から分岐してい
るので、現像液測定部6では、現像処理部3に送られる
途中の現像液のアルカリ濃度及び疲労度を測定できる。
このため、貯溜槽1内の現像液のアルカリ濃度や疲労度
を測定する場合に比べて測定精度が向上する。
【0014】ここでアルカリ濃度を測定するために導電
率計を用いるのは、以下の理由による。すなわち、従来
はアルカリ濃度をpHメーター、イオン電極や中和滴定
装置を用いて測定している。しかし、pHメーターやイ
オン電極は、正確にアルカリ濃度を測定できない。さら
に、測定精度が不十分であるので、TMAHのわずかな
濃度変化に追随して正確に測定できない。また、中和滴
定装置は、正確にアルカリ濃度を測定できるが、装置コ
ストが高く、アルカリの液以外に酸の薬液をも装置付近
に持ち込まなければならず、環境に対する影響が大き
い。したがって、正確かつ安価にアルカリ濃度を測定す
るために、導電率計を用いるのが好ましい。
【0015】図3に、アルカリ濃度(TMAH濃度)と
比導電率との測定結果のグラフを示す。ここでは横軸が
アルカリ濃度、縦軸が比導電率である。ここで、アルカ
リ濃度は中和滴定により測定した。また比導電率は、液
温を25±0.2℃に補正した値である。このグラフか
ら明らかなように、比導電率yとアルカリ濃度xとは、
0.5%〜5%の間でy=3.875+20.62x
(γ=0.9990)、3%〜2%の間でy=4.38
4+20.62x(γ=0.9987)の1次式で近似
できることが分かった。この近似式により、導電率から
アルカリ濃度を算出できる。
【0016】また、図4に現像液の透過率と処理枚数と
の関係を示す。ここでは横軸が処理枚数、縦軸が透過率
である。ここでの現像液処理条件は、フォトレジスト:
OFPR800(40cp),基板サイズ:300×3
50mm,露光:全面露光,現像液:トクソー製SD−
1(TMAH2.37重量%)であった。また、波長6
50nmのカットフィルタを使用して透過率を測定し
た。図4から明らかなように、透過率と処理枚数との関
係もほぼ1次式で近似できることが分かった。
【0017】これらの2つの結果から明らかなように、
導電率によりアルカリ濃度を、透過率により疲労度を正
確に検出できる。現像装置は、制御部21を有してい
る。制御部21には、アラーム22、ポンプP1,P
2,P3,P4、排液弁SV、液面計14、導電率計1
9及び光センサ20が接続されている。制御部22は、
マイクロコンピュータからなり、導電率計19によって
測定された導電率によりアルカリ濃度を算出する。ま
た、光センサ20の検出結果により、透過率を求め、透
過率から疲労度を算出する。さらに、制御部21は、液
面計13b、導電率19及び光センサ20からの測定結
果により、ポンプP1,P2,P3,P4をそれぞれ制
御する。また排液指令がなされた場合には排液弁SVを
所定時間開く。
【0018】次に、上述の実施例の動作を、図2に示す
制御フローチャートにしたがって説明する。ステップS
1では、排液弁SVを閉じる等の初期設定がなされる。
ステップS2では、操作者または他のホストコンピュー
タから現像指令がなされるのを待つ。現像指令がなされ
るとステップS3に移行する。
【0019】ステップS3では、液面計14の測定結果
により、液面が上限であるか否かを判断する。液面が上
限ではない場合にはステップS4に移行する。ステップ
S4では、ポンプP1をオンする。これにより、新鮮現
像液貯溜部4から新鮮な現像液が貯溜槽1に補給され
る。液面が上限に達するまでポンプP1をオンし、液面
が上限に達するとステップS5に移行し、ポンプP1を
オフする。
【0020】ステップS6では、ポンプP3,P4をオ
ンする。これにより、貯溜槽1内の現像液が、供給管1
1及び測定管17を通過してノズル部14及び測定部6
に供給される。そして現像処理部3に収容された基板2
に対して現像処理が施される。また、測定部6において
現像液のアルカリ濃度及び疲労度が測定される。ステッ
プS7では、導電率計19の測定結果により、導電率が
下限に達しているか否かを判断する。導電率が下限に達
している場合には、ステップS8に移行する。ここでは
アルカリ濃度が基準値以下に低下していると判断できる
ので、ポンプP2をオンし、濃厚現像液貯溜部5から濃
厚現像液を貯溜槽1に補給する。ステップS9では、導
電率が上限に至ったか否かを判断する。上限に至った場
合にはステップS10に移行する。ステップS10では
ポンプP2をオフする。
【0021】ステップS11では、光センサ20の測定
結果により透過率が下限であるか否かを判断する。透過
率が下限であると判断した場合には疲労度が高いと判断
できるのでステップS12に移行し、アラーム22をオ
ンする。またステップS13では、ポンプP1をオンす
る。これにより新鮮現像液貯溜部4から新鮮な現像液が
貯溜槽1に補給される。
【0022】ステップS14では、透過率が上限に達し
たか否かを判断する。透過率が上限に達した場合にはス
テップS15に移行し、アラーム22をオフする。ステ
ップS16では、液面が上限に達したか否かを判断す
る。液面が上限に達した場合には、ステップS17に移
行してポンプP1をオフする。また、ステップS14で
透過率が上限ではない場合、及びステップS16で液面
が上限ではない場合には、ステップS18に移行する。
【0023】ステップS18では、現像終了指令がなさ
れたか否かを判断する。現像終了指令がなされるまでは
ステップS7に移行し、ステップS7以降の処理を繰り
返す。これにより現像処理中においては、導電率、透過
率及び液面等の監視がなされる。なお、終了指令には、
排液指令を伴った指令と伴わない指令とがある。終了指
令がなされるとステップS19に移行する。ステップS
19では、ポンプP3,P4をオフする。ステップS2
0では、排液指令を伴った終了指令がなされたか否かを
判断する。通常の現像時には、供給される現像液のアル
カリ濃度及び疲労度により新鮮液または濃厚液を補給す
るだけであるが、所定回数の現像処理を行った場合には
全液交換することも行われる。この場合には排液指令を
伴った終了指令がなされるので、ステップS21に移行
する。ステップS21では排液弁SVを開く。これによ
り貯溜槽1に貯溜された現像液が全て排出される。
【0024】ここでは、現像液の疲労度(フォトレジス
トの樹脂溶解量)及びアルカリ濃度を常に監視し、それ
らに応じてアルカリ濃度の低下の際には濃厚液を、疲労
度が増した場合には新鮮液をそれぞれ所定の値となるま
で補給する。これにより、アルカリ濃度の低下や疲労度
の増大による全液交換がほとんど不要になる。したがっ
て、現像液の連続運転時間が従来に比べて長くなる。
【0025】また、濃厚液によりアルカリ濃度を回復さ
せているので、標準の濃度の現像液で濃度回復を行う場
合に比べて、短時間で濃度が回復し、また濃厚液の供給
量も従来に比べて少なくて済み、オーバーフローにより
排液される液量が減少する。この結果、現像液の消費を
抑えつつ現像液のアルカリ濃度や現像液の疲労度を適正
値に保つことができるようになる。
【0026】さらに、現像処理の際に基板による液持ち
出しに伴い現像液が減少するが、液面低下に応じて現像
液を供給しているので、常に一定の現像処理条件を維持
できる。 〔他の実施例〕 (a) 図5に示すように、新鮮現像液貯溜部4及び濃
厚現像液貯溜部5に加えて、純水貯溜部30を設けても
よい。この純水貯溜部30には、純水供給管31が接続
されており、純水供給管31は、貯溜槽1の底面近傍に
達している。純水供給管31には、ポンプP5が配置さ
れている。この純水貯溜部30に貯溜された純水は、疲
労度を回復するためのものである。この実施例では、疲
労度の回復については純水を、液面の低下に対しては新
鮮現像液を、アルカリ濃度の低下に対しては濃厚現像液
を補給する。なお、液面調整用に、純水または標準より
低濃度の現像液を用いてもよい。また、疲労度を回復す
るために、標準現像液または低濃度現像液を用いてもよ
い。
【0027】次に図5に示す実施例の動作を、図6に示
す制御フローチャートにしたがって説明する。ステップ
S1〜ステップS10での動作は、図2に示す動作と同
様であるので説明を省略する。ステップS10での処理
が終了するとステップS31に移行する。ステップS3
1では、透過率が下限に達しているか否かを判断する。
透過率が下限に達している場合にはステップS32に移
行する。ステップS32では、アラーム22をオンす
る。ステップS33ではポンプP5をオンする。これに
より純水が貯溜槽1に供給される。ステップS34で
は、透過率が上限に達したか否かを判断する。透過率が
上限に達すれば、ステップS35に移行してアラーム2
2をオフする。ステップS36ではポンプP5をオフす
る。
【0028】ステップS37では、液面が下限に達して
いるか否かを判断する。液面が下限に達している場合に
は、ステップS38に移行してポンプP1をオンする。
これにより、新鮮現像液貯溜部4から新鮮な現像液が補
給される。ステップS39では、補給の結果液面が上限
に達したか否かを判断する。液面が上限に達するとステ
ップS40に移行し、ポンプP1をオフする。
【0029】ステップS41〜ステップS44での動作
は、図2のステップS18〜ステップS21の動作と同
様であるので説明を省略する。ここでは、現像液の疲労
とアルカリ濃度の低下と液面の低下とに応じて、それぞ
れそれに最適な液を供給する。なお、液面の低下と疲労
との低下とに対して同じ種類の液を異なるポンプで供給
する場合には、貯溜部4,30を共通化してもよい。 (b) 図7に示すように、導電率計19及び光センサ
20を貯溜槽1内に配置してもよい。この場合には測定
部6への分岐配管やポンプP3等の構成要素が不要とな
るので、構成が簡素化する。 (c) アルカリ濃度の検出手段として、中和滴定装置
やpH計等の他の計測装置を用いてもよい。また疲労度
については、光センサ20以外の装置でもよい。 (d) ポンプをオンオフする代わりに、アルカリ濃度
及び疲労度に応じた流量制御により、各貯溜部から貯溜
槽に現像液等を供給するようにしてもよい。この場合に
は、連続的に液管理を行うことができ、かつ濃度、疲労
度及び液面を高精度に管理できる。
【0030】
【発明の効果】本発明に係る基板現像装置では、現像液
貯蔵部に新鮮液に加えて濃厚液を補給できるので、アル
カリ濃度が低下した場合には小量の濃厚液でアルカリ濃
度を回復できる。したがって、現像液の消費を抑えつつ
現像液のアルカリ濃度を適正値に保てる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による現像装置のブロック模
式図。
【図2】その制御フローチャート。
【図3】アルカリ濃度と比導電率との関係を示すグラ
フ。
【図4】疲労度と透過率との関係を示すグラフ。
【図5】他の実施例の図1に相当する図。
【図6】その制御フローチャート。
【図7】さらに他の実施例の図1に相当する図。
【符号の説明】
1 現像液貯溜槽 2 ガラス基板 3 現像処理部 4 新鮮現像液貯溜部 5 濃厚現像液貯溜部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有山 大作 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】感光性樹脂が塗布されかつ所定のパターン
    に露光された基板を現像液により現像する基板現像装置
    であって、 前記基板が収容される現像処理部と、 前記現像液が貯蔵される現像液貯蔵部と、 前記現像処理部と前記現像液貯蔵部との間で現像液を循
    環させる循環手段と、 前記現像液貯蔵部に新鮮液を補給する新鮮液補給手段
    と、 前記現像液貯蔵部に濃厚液を補給する濃厚液補給手段
    と、を備えた基板現像装置。
JP15826993A 1993-06-29 1993-06-29 基板現像装置 Pending JPH07140671A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10319604A (ja) * 1997-05-15 1998-12-04 Toshiba Electron Eng Corp レジストの現像方法および現像装置
JP2012518274A (ja) * 2009-02-16 2012-08-09 イーストマン コダック カンパニー 使用済現像液再利用
CN113960897A (zh) * 2021-11-03 2022-01-21 中国科学院光电技术研究所 一种显影装置及方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10319604A (ja) * 1997-05-15 1998-12-04 Toshiba Electron Eng Corp レジストの現像方法および現像装置
US6120945A (en) * 1997-05-15 2000-09-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of developing a photoresist pattern and a developing apparatus
JP2012518274A (ja) * 2009-02-16 2012-08-09 イーストマン コダック カンパニー 使用済現像液再利用
CN113960897A (zh) * 2021-11-03 2022-01-21 中国科学院光电技术研究所 一种显影装置及方法
CN113960897B (zh) * 2021-11-03 2023-09-19 中国科学院光电技术研究所 一种显影装置及方法

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