JPH07110580A - 基板現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 アルカリ現像液による基板現像をより正確に
行えるようにする。 【構成】 基板現像装置は、感光性樹脂が塗布されかつ
所定のパターンに露光された基板をアルカリ現像液によ
り現像する装置である。この装置は、基板が収容される
現像処理部と、アルカリ現像液が貯溜される現像液貯溜
槽と、現像処理部と現像液貯溜槽との間でアルカリ現像
液を循環させるポンプと、アルカリ現像液に溶解したフ
ォトレジスト濃度を測定するための光学センサと、アル
カリ現像液中のアルカリ濃度を測定する導電率計とを備
えている。この装置では、光学センサによるフォトレジ
スト濃度の測定結果に応じて、フォトレジスト濃度が制
御される。また、光学センサによるフォトレジスト濃度
と導電率計によるアルカリ濃度の測定結果に応じて、ア
ルカリ濃度が制御される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、現像装置、特に、感光
性樹脂が塗布されかつ所定のパターンに露光された基板
をアルカリ現像液により現像する基板現像装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶用基板や半導体用基板等の
製造工程では、フォトエッチングが繰り返して行われ
る。このフォトエッチングの際には、フォトレジストが
塗布された基板に対して露光処理が行われた後に、アル
カリ現像液により現像処理が施される。

【０００３】この種の基板現像装置は、従来、基板が収
容される現像処理部と、アルカリ現像液が貯溜される現
像液貯溜部と、現像処理部と現像液貯溜部との間で現像
液を循環させる現像液循環部とを備えている。この基板
現像装置では、現像によりアルカリ濃度が低下したり、
フォトレジスト濃度が上昇したりすることに基づく現像
液の疲労を防止するために、アルカリ濃度及びフォトレ
ジスト濃度を検出し、この検出結果に従って現像液貯溜
部のアルカリ濃度及びフォトレジスト濃度を制御するよ
うになっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記従来の構成では、
現像液中のアルカリ濃度を検出し、それに基づいて現像
液中のアルカリ濃度を調整するようになっている。ま
た、現像液中のフォトレジスト濃度を検出し、その検出
結果に基づいて現像液中のフォトレジスト濃度を調整す
るようになっており、アルカリ濃度とフォトレジスト濃
度の相関関係については考慮されていない。

【０００５】ところが、本発明者が見出した知見によれ
ば、同一のアルカリ濃度であっても、フォトレジスト濃
度の大小によって現像液の現像能力が変化する。すなわ
ち、フォトレジスト濃度が低い場合には、アルカリ濃度
がそれ程高くなくても比較的高い現像能力が発揮され、
逆にフォトレジスト濃度が高くなれば現像能力が低下す
る。

【０００６】したがって、前記従来の構成では、現像液
中のアルカリ濃度の制御をアルカリ濃度の測定結果にの
み基づいて行っているため、正確な現像制御が行えな
い。すなわち、フォトレジスト濃度の低い状態で適切な
現像が行えるようにアルカリ濃度を設定すれば、フォト
レジスト濃度が高くなったときに現像が不充分になる。
一方、フォトレジスト濃度が高い状態で良好な現像が行
えるようにアルカリ濃度を設定すれば、フォトレジスト
濃度が低いときに現像が進みすぎてしまう。

【０００７】本発明の目的は、アルカリ現像液による基
板現像をより正確に行えるようにすることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明に係る基板現像装
置は、感光性樹脂が塗布されかつ所定のパターンに露光
された基板をアルカリ現像液により現像する装置であ
る。この装置は、基板が収容される現像処理部と、アル
カリ現像液が貯溜される現像液貯溜部と、現像処理部と
現像液貯溜部との間でアルカリ現像液を循環させる循環
手段と、現像液貯溜部内のアルカリ現像液に溶解した感
光性樹脂の溶解樹脂濃度を測定する溶解樹脂濃度測定手
段と、現像液貯溜部内のアルカリ現像液のアルカリ濃度
を測定するアルカリ濃度測定手段と、溶解樹脂濃度制御
手段及びアルカリ濃度制御手段とを備えている。前記溶
解樹脂濃度制御手段は、溶解樹脂濃度測定手段の測定結
果に応じて、現像液貯溜部内のアルカリ現像液の溶解樹
脂濃度を制御する。また、前記アルカリ濃度制御手段
は、溶解樹脂濃度測定手段及びアルカリ濃度測定手段の
測定結果に応じて、現像液貯溜部内のアルカリ現像液の
アルカリ濃度を制御する。

【０００９】なお、前記溶解樹脂濃度制御手段が、アル
カリ現像液中の溶解樹脂濃度ｘ（グラム／リットル）を ０．０≦ｘ≦０．２ の範囲内の所定範囲にあるように制御する手段を有し、
前記アルカリ濃度制御手段が、アルカリ現像液中のアル
カリ濃度ｙ（重量％）を Ｙ×（ｘ／１０＋０．９８）≦ｙ≦Ｙ×（ｘ／１０＋
１．０２） ［ただし、Ｙは未使用アルカリ現像液のアルカリ濃度］ の範囲内にあるように制御する手段を有していてもよ
い。ただし、ここで言う「範囲内にあるように制御す
る」とは、当該範囲で制御する場合のみならず、当該範
囲内のさらに限定された範囲での制御をも含む。

【００１０】

【作用】本発明に係る基板現像装置では、循環手段によ
り現像処理部と現像貯溜部との間でアルカリ現像液が循
環させられる。現像処理部内では、収容された基板がア
ルカリ現像液により現像される。ここで、アルカリ現像
液中の溶解樹脂濃度は溶解樹脂濃度測定手段により測定
され、アルカリ濃度はアルカリ濃度測定手段により測定
される。そして、溶解樹脂濃度制御手段が、溶解樹脂濃
度測定手段の測定結果に応じてアルカリ現像液中の溶解
樹脂濃度を制御する。また、アルカリ濃度制御手段が、
溶解樹脂濃度測定手段及びアルカリ濃度測定手段の測定
結果に応じて、アルカリ現像液中のアルカリ濃度を制御
する。この場合には、アルカリ濃度が、溶解樹脂濃度及
びアルカリ濃度の測定結果に応じて制御されるので、よ
り正確な現像が可能となる。

【００１１】

【実施例】図１において、本発明の一実施例による現像
装置は、たとえばＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウム
ハイドロキサイド）等のアルカリ現像液が貯溜される現
像液貯溜槽１と、現像液貯溜槽１から送られた現像液に
よりガラス基板２に対して現像処理を施すための現像処
理部３と、標準濃度あるいはそれより低濃度の新鮮な現
像液または純水を現像液貯溜槽１に供給するための新鮮
現像液貯溜部４と、現像原液（標準濃度の現像液の２〜
１０倍の濃厚液）を現像液貯溜槽１に供給するための濃
厚現像液貯溜部５と、現像液貯溜槽１内の現像液のアル
カリ濃度及びフォトレジスト濃度を測定するための現像
液測定部６とを主として有している。

【００１２】現像液貯溜槽１には、新鮮現像液貯溜部４
に接続された新鮮現像液供給管７と、濃厚現像液貯溜部
５に接続された濃厚現像液供給管８とが接続されてい
る。これらの供給管７，８の途中には、ポンプＰ１，Ｐ
２が配置されている。また貯溜槽１には、オーバーフロ
ー管９及び排液管１０が接続されている。排液管１０に
は排液弁ＳＶが配置されており、排液弁ＳＶの下流側に
オーバーフロー管９が接続されている。さらに貯溜槽１
には、途中にポンプＰ４が設けられた現像液供給管１１
と、途中にフィルタ１６が設けられた現像液戻し管１２
とが接続されている。また貯溜槽１には、スターラ１３
ａ及び液面計１３ｂが設けられている。

【００１３】現像処理部３は、基板２に現像液を噴霧す
るノズル部１４と、基板２を収容する基板収容部１５と
を有している。ノズル部１４は現像液供給管１１に接続
されており、また下方に向けられた多数のノズルを有し
ている。基板収容部１５には、基板２をノズルの配置方
向と直交する方向に移動させる移動機構（図示せず）が
設けられている。基板収容部１５には戻し管１２が接続
されている。また、戻し管１２には、基板収容部１５か
らの現像液を濾過するためのフィルタ１６が設けられて
いる。

【００１４】現像液測定部６には、現像液供給管１６の
途中から分岐する測定配管１７と、オーバーフローした
液を戻し管１２に戻すオーバーフロー管１８とが接続さ
れている。現像液測定部６には、現像液のアルカリ濃度
を測定するための導電率計１９と、現像液中に溶解した
フォトレジストの濃度を測定するための光学センサ（た
とえば吸光度計、透過率計または濁度計）２０とが配置
されている。測定配管１７の途中にはポンプＰ３が配置
されている。ここでは、測定配管１７が現像液供給管１
１の途中から分岐しているので、現像処理部３に送られ
る途中の現像液のアルカリ濃度及びフォトレジスト濃度
を測定できる。このため、貯溜槽１内の現像液のアルカ
リ濃度やフォトレジスト濃度を測定する場合に比べて測
定精度が高い。

【００１５】ここでアルカリ濃度を測定するために導電
率計を用いるのは、以下の理由による。従来はアルカリ
濃度を、ｐＨメーター、イオン電極または中和滴定装置
を用いて測定している。しかし、ｐＨメーターやイオン
電極は、測定精度が不充分であり、ＴＭＡＨの僅かな濃
度変化に追随した正確な測定が行えない。また、中和滴
定装置は、正確にアルカリ濃度を測定できるが、装置コ
ストが高く、アルカリ性の薬液以外に酸性の薬液をも装
置付近に持ち込まなければならず、環境に対する影響が
大きい。したがって、正確かつ安価にアルカリ濃度を測
定するために、導電率計を用いるのが好ましい。

【００１６】図３に、アルカリ濃度（ＴＭＡＨ濃度）と
比導電率とを測定した結果のグラフを示す。ここでは、
横軸がアルカリ濃度、縦軸が比導電率である。アルカリ
濃度は中和滴定により測定した。また比導電率は、液温
を２５±０．２℃に補正した値である。実験の結果、比
導電率ａとアルカリ濃度ｙとは、アルカリ濃度ｙが０．
５％〜５％の間でａ＝３．８７５＋２０．６２ｙ（γ＝
０．９９９０）、アルカリ濃度ｙが２％〜３％の間でａ
＝４．３８４＋２０．６２ｙ（γ＝０．９９８７）の１
次式で近似できることがわかった。この近似式により、
導電率からアルカリ濃度を算出できる。

【００１７】図４に現像液の透過率と処理枚数との関係
を示す。ここでは横軸が処理枚数、縦軸が透過率であ
る。ここでの現像液処理条件は、フォトレジスト：ＯＦ
ＰＲ８００（４０ｃｐ），基板サイズ：３００×３５０
ｍｍ，露光：全面露光，現像液：トクソウ製ＳＤ−１
（ＴＭＡＨ２．３７重量％）であった。また、波長６５
０ｎｍのカットフィルタを使用して透過率を測定した。
図４から明らかなように、透過率と処理枚数との関係も
１次式で近似できることがわかった。

【００１８】これらの結果から明らかなように、導電率
によりアルカリ濃度を、透過率によりフォトレジスト濃
度を正確に検出できるのである。この現像装置は、制御
部２１を有している。制御部２１には、アラーム２２、
ポンプＰ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４、排液弁ＳＶ、液面計１
４、導電率計１９、光学センサ２０等が接続されてい
る。制御部２１は、マイクロコンピュータからなり、導
電率計１９によって測定された導電率からアルカリ濃度
を算出する。また、光センサ２０の検出結果により、透
過率を求め、透過率からレジスト濃度を算出する。

【００１９】この制御部２１は、図２に示す制御フロー
チャートにしたがった制御動作（後述）を実行して現像
装置全体を制御するが、特に現像液中のフォトレジスト
濃度とアルカリ濃度とに関しては、図５に示す斜線領域
内にあるように制御する。この結果、アルカリ現像液中
の溶解樹脂濃度ｘ（グラム／リットル）は ０．０≦ｘ≦０．２ の範囲内にあるように制御され、アルカリ濃度ｙ（重量
％）は Ｙ×（ｘ／１０＋０．９８）≦ｙ≦Ｙ×（ｘ／１０＋
１．０２） の範囲内にあるように制御される。ただし、Ｙは未使用
アルカリ現像液のアルカリ濃度であり、図５の例ではＹ
は２．３８（重量％）である。

【００２０】図５の斜線領域内にレジスト濃度とアルカ
リ濃度とがあるように制御するのは、以下の実験結果に
基づいている。ポジレジスト（ＯＦＰＲ８００）をガラ
ス基板（３００×３５０ｍｍ）上に塗布し（膜厚１．５
μｍ）、１５μｍのライン・アンド・スペースのパター
ンにて焼き付けを行い、現像処理を行った。現像処理に
際しては、ＴＭＡＨの新液（３００ｍｌ）を使用し、表
１に示すように種々の濃度のものを使用した。現像後の
線幅の測定結果、平均値、最大値及び最小値を表１に示
す。得られた測定結果をグラフ化すれば図６のようにな
り、１次式で回帰できることが分かった。平均値に基づ
いた１次回帰式は、アルカリ濃度（ＴＭＡＨ濃度）をｙ
（重量％）、線幅をｗ（μｍ）としたとき、 ｗ＝２０．３７−２．８８９ｙ （γ＝−０．９７７
７） となった。

【００２１】

【表１】

【００２２】次に、アルカリ現像液を連続使用した場合
の線幅の変化を測定した。ここでは、新鮮現像液のアル
カリ濃度が２．３８であり、また継続的に現像液を使用
したこと以外は、表１の実験と同一の条件で行った。得
られた実験結果を表２に示す。また、得られた実験結果
の線幅の平均値と処理枚数との関係は図７のようにな
り、２次回帰式で回帰できることが分かった。回帰式
は、線幅をｗ（μｍ）、枚数をｐとすれば、 ｐ＝１１．４１９ｗ² −３１６．６９３ｗ＋２１９５．
８８０ （γ＝−０．８２６） となった。

【００２３】

【表２】

【００２４】表２から、新鮮現像液（アルカリ濃度が
２．３８重量％）のときの線幅は１３．８μｍであるか
ら、仮にアルカリ濃度が２．３８重量％のままでレジス
ト濃度が上昇したときに、パターン線幅が１％（通常の
変動許容限界）増加してしまう処理枚数を求める。前記
２次回帰式にｗ＝１３．８＋０．１３８≒１４．０（μ
ｍ）を代入すると、ｐ＝０．３０２（枚）となる。これ
は、現像液３００ｍｌ中での処理枚数値であるから、レ
ジスト濃度は、レジスト比重を１．３とすれば、 ３０×３５×１．５×１０^-4×１．３×０．３０＝０．
０６１４（ｇ／３００ｍｌ） となる。すなわち、０．２０４ｇ／ｌとなる。

【００２５】したがって、現像液のパターン線幅を１％
の誤差内に収めようとすると、レジスト濃度の最大限界
値は約０．２０ｇ／ｌとなる。これが、レジスト濃度ｘ
を ０．０≦ｘ≦０．２ の範囲にあるように制御する理由である。ところで、現
像液中のアルカリ濃度の変動幅は±２％以内であること
が好ましいとされている。新鮮現像液のアルカリ濃度が
２．３８重量％とすると、レジスト濃度が０ｇ／ｌの場
合のアルカリ濃度の許容変動幅は２．３３〜２．４３重
量％となる。この結果、図５の座標系では、座標（０，
２．３３）と座標（０．２０，２．３８）とを結ぶ直線
が、アルカリ濃度が低すぎて現像不良を生じさせる限界
であることが分る。一方、フォトレジスト濃度が０．２
０ｇ／ｌの状態にあるときでも、アルカリ濃度の変動幅
としては±２％（すなわち全体で４％）となるべきであ
るから、フォトレジスト濃度が０ｇ／ｌのときのアルカ
リ濃度の上限値（２．４３重量％）を通り、かつ前記下
限の直線と同一の傾きを有する直線が適切なアルカリ濃
度の上限を決定するとみなし得る。これが、 Ｙ×（ｘ／１０＋０．９８）≦ｙ≦Ｙ×（ｘ／１０＋
１．０２） の理由である。

【００２６】以上の説明から明らかなように、フォトレ
ジスト濃度とアルカリ濃度とを図５に示す領域内に制御
すれば、すなわち現像液中のフォトレジスト濃度ｘ（ｇ
／ｌを ０．０≦ｘ≦０．２ の範囲内にあるように制御し、かつ現像液中のアルカリ
濃度ｙ（重量％）を、 Ｙ×（ｘ／１０＋０．９８）≦ｙ≦Ｙ×（ｘ／１０＋
１．０２） の範囲内にあるように制御すれば、良好な現像が行える
ことになる。

【００２７】次に、上述の実施例の動作を、図２に示す
制御フローチャートにしたがって説明する。ステップＳ
１では、排液弁ＳＶを閉じる等の初期設定を行う。ステ
ップＳ２では、操作者または他のホストコンピュータか
ら現像指令がなされるのを待つ。現像指令がなされると
ステップＳ３に移行する。ステップＳ３では、液面計１
３ｂの測定結果により、液面が上限であるか否かを判断
する。液面が上限でない場合にはステップＳ４に移行す
る。ステップＳ４では、ポンプＰ１をＯＮする。これに
より、新鮮現像液貯溜部４から新鮮な現像液が貯溜槽１
に供給される。液面が上限に達するまでポンプＰ１をＯ
Ｎし、液面が上限に達するとステップＳ５に移行してポ
ンプＰ１をＯＦＦする。

【００２８】ステップＳ６では、ポンプＰ３，Ｐ４をＯ
Ｎする。これにより、貯溜槽１内の現像液が供給管１１
及び測定管１７を通過してノズル部１４及び測定部６に
供給される。現像処理部３では、収容された基板２に対
して現像処理が施される。また、測定部６において現像
液のアルカリ濃度及びレジスト濃度が測定される。ステ
ップＳ７では、導電率計１９及び光センサ２０の測定結
果により、現像液中のアルカリ濃度ｙ（重量％）がＹ×
（ｘ／１０＋０．９８）以上であるか否かを判断する。
アルカリ濃度ｙがこの下限値以下の場合には、ステップ
Ｓ８に移行する。ここでは、アルカリ濃度が低すぎるの
で、ポンプＰ２をＯＮし、濃厚現像液貯溜部５から濃厚
現像液を貯溜槽１に補給する。

【００２９】ステップＳ９では、導電率計１９及び光セ
ンサ２０の測定結果により、アルカリ濃度ｙ（重量％）
がＹ×（ｘ／１０＋１．０２）に達したか否かを判断す
る。アルカリ濃度ｙが上限に至った場合にはステップＳ
１０に移行し、ポンプＰ２をＯＦＦする。なお、ここで
の演算には、導電率計１９の測定結果及び光センサ２０
による透過率の測定結果が用いられ、それらに基づいて
フォトレジスト濃度ｘとアルカリ濃度ｙとが演算され、
さらに上式の大小関係が判断される。

【００３０】ステップＳ１１では、光センサ２０の透過
率の測定結果により、レジスト濃度ｘ（ｇ／ｌ）が０．
２（上限）以上となっているか否かを判断する。フォト
レジスト濃度ｘが上限に達している場合には、ステップ
Ｓ１２に移行してアラーム２２をＯＮする。またステッ
プＳ１３では、ポンプＰ１をＯＮする。これにより新鮮
現像液貯溜部４から新鮮な現像液が貯溜槽１に補給され
る。

【００３１】ステップＳ１４では、レジスト濃度ｘ（ｇ
／ｌ）が０．１８以下になったか否かを判断する。フォ
トレジスト濃度ｘが０．１８以下になれば、臨界濃度よ
りもフォトレジスト濃度が充分に低くなったと判断でき
るので、ステップＳ１５に移行して、アラーム２２をＯ
ＦＦする。ステップＳ１６では、この段階で液面が上限
に達しているか否かを判断する。液面が上限に達してい
る場合には、ステップＳ１７に移行してポンプＰ１をＯ
ＦＦする。また、ステップＳ１４でフォトレジスト濃度
ｘが充分に低下していない場合、及びステップＳ１６で
液面が上限に達していない場合には、そのままステップ
Ｓ１８に移行する。

【００３２】ステップＳ１８では、現像終了指令がなさ
れたか否かを判断する。現像終了指令がなされるまでは
ステップＳ７に移行し、ステップＳ７以降の処理を繰り
返す。これにより、現像処理中においては、フォトレジ
スト濃度、アルカリ濃度及び液面の監視がなされる。な
お、終了指令には、排液指令を伴った指令と伴わない指
令とがある。

【００３３】終了指令がなされるとステップＳ１９に移
行する。ステップＳ１９では、ポンプＰ３，Ｐ４をＯＦ
Ｆする。ステップＳ２０では、排液指令を伴った終了指
令がなされたか否かを判断する。通常の現像時には、新
鮮液または濃厚液を補給するだけであるが、所定回数の
現像処理を行った後には全液交換することも行われる。
全液交換の場合には、排液指令を伴った終了指令がなさ
れるので、ステップＳ２１に移行する。ステップＳ２１
では、排液弁ＳＶを開く。これにより、貯溜槽１に貯溜
された現像液はすべて排出される。

【００３４】ここでは、現像液のフォトレジスト濃度
（疲労度）及びアルカリ濃度を常に監視し、図５に示す
領域内にあるように制御するので、基板現像を常に正確
に行えるようになる。また、アルカリ濃度の低下や疲労
度の増大による全液交換がほとんど不要になる。したが
って、現像液の連続運転時間が従来に比べて長くなる。
また、濃厚液によりアルカリ濃度を回復させているの
で、標準濃度の現像液で濃度回復を行う場合に比べて、
短時間で濃度が回復し、またオーバーフローにより排液
される液量が減少する。

【００３５】〔他の実施例〕 （ａ） 本発明は、図５の斜線の範囲でフォトレジスト
濃度とアルカリ濃度とが制御される場合に限定されるこ
とはなく、少なくとも当該範囲を出ないように制御され
れば足りる。したがって、当該範囲内のさらに限定され
た範囲内に制御する構成によっても本発明を実施でき
る。 （ｂ） 新鮮現像液貯溜部４及び濃厚現像液貯溜部５に
加えて純水貯溜部を設け、３種類の液により濃度管理を
行う構成としてもよい。 （ｃ） 導電率計１９及び光センサ２０を貯溜槽１内に
配置する構成としてもよい。この場合には、測定部６へ
の分岐配管１７やポンプＰ３等の構成要素が不要とな
る。 （ｄ） アルカリ濃度の検出手段として、中和滴定装置
やｐＨ計等の他の計測装置を用いてもよい。また、フォ
トレジスト濃度についても、光センサ２０以外の装置を
用いてもよい。 （ｅ） ポンプをＯＮ／ＯＦＦする構成に代えて、アル
カリ濃度及びフォトレジスト濃度に応じた流量制御によ
り、各貯溜部から貯溜槽に現像液等を供給する構成とし
てもよい。

【００３６】

【発明の効果】本発明に係る基板現像装置では、現像液
の溶解樹脂濃度とアルカリ濃度との測定結果に応じて現
像液中のアルカリ濃度が制御されるので、基板現像をよ
り正確に行えるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例による現像装置のブロック模
式図。

【図２】その制御フローチャート。

【図３】アルカリ濃度と比導電率との関係を示すグラ
フ。

【図４】処理枚数と透過率との関係を示すグラフ。

【図５】フォトレジスト濃度とアルカリ濃度の制御領域
を示すグラフ。

【図６】アルカリ濃度と現像パターン線幅との関係を示
すグラフ。

【図７】現像パターン線幅と処理枚数との関係を示すグ
ラフ。

【符号の説明】

１ 現像液貯溜槽 ２ ガラス基板 ３ 現像処理部 ４ 新鮮現像液貯溜部 ５ 濃厚現像液貯溜部 １９ 導電率計 ２０ 光学センサ Ｐ４ ポンプ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】感光性樹脂が塗布されかつ所定のパターン
   に露光された基板をアルカリ現像液により現像する基板
   現像装置であって、 前記基板が収容される現像処理部と、 前記アルカリ現像液が貯溜される現像液貯溜部と、 前記現像処理部と前記現像液貯溜部との間で前記アルカ
   リ現像液を循環させる循環手段と、 前記現像液貯溜部内のアルカリ現像液に溶解した前記感
   光性樹脂の溶解樹脂濃度を測定する溶解樹脂濃度測定手
   段と、 前記現像液貯溜部内のアルカリ現像液のアルカリ濃度を
   測定するアルカリ濃度測定手段と、 前記現像液貯溜部内のアルカリ現像液の溶解樹脂濃度測
   定手段の測定結果に応じて、前記溶解樹脂濃度を制御す
   る溶解樹脂濃度制御手段と、 前記現像液貯溜部内のアルカリ現像液の溶解樹脂濃度測
   定手段及び前記アルカリ濃度測定手段の測定結果に応じ
   て、前記アルカリ濃度を制御するアルカリ濃度制御手段
   と、を備えた基板現像装置。
2. 【請求項２】前記溶解樹脂濃度制御手段は、前記アルカ
   リ現像液中の溶解樹脂濃度ｘ（グラム／リットル）が、 ０．０≦ｘ≦０．２ の範囲内の所定範囲にあるように制御する手段を有し、 前記アルカリ濃度制御手段は、前記アルカリ現像液中の
   アルカリ濃度ｙ（重量％）が、 Ｙ×（ｘ／１０＋０．９８）≦ｙ≦Ｙ×（ｘ／１０＋
   １．０２） ［ただし、Ｙは未使用アルカリ現像液のアルカリ濃度］ の範囲内にあるように制御する手段を有する、請求項１
   に記載の基板現像装置。