KR950011589A - 에칭액 관리장치 - Google Patents

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KR950011589A
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liquid
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도시모또 나까가와
고오조 시까다
쇼오 오가와
싱이찌로 시오쯔
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도시모또 나까가와
가부시끼가이샤 히라마리까 겐꾸쇼
나가세 히데오
나가세산교 가부시키가이샤
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/067—Etchants

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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 액정기판제조공정에서 투명도전막의 에칭에 사용되는 에칭액의 관리장치.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제.
소정의 원액을 준비해 놓고 에칭액을 소정의 산농도및 용해인듐농도로 자동제어하고 에칭처리조의 액보급에 대하여 적절한 관리를 하고 에칭성능을 항시 일정화함과 동시에 사용원액량 삭감하고 조업정지시간을 큰폭으로 단축하여 전체적인 제조비용절감
3. 발명의 해결방법의 요지.
투명도전막용 에칭액의 용해인듐농도를 흡광광도계로 검출하여 에칭액을 배출하는 에칭액 배출수단, 에칭액의 액면수준을 액면수준계로 검출하여 에칭원액과 순수를 보급하는 제1보급수단 및, 에칭액의 산농도를 도전율계로 검출하여 에칭원액 또는 순수를 보급하는 제2보급수단을 갖춘 에칭액관리장치,
4. 발명의 중요한 용도
액정기판제조공정시의 투명도전막의 에칭

Description

에칭액 관리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는, 본발명의 1실시예를 나타내는 에칭액 관리장치의 계통도.
제2도는, 본발명의 다른 실시예를 나타내는 에칭액 관리장치의 계통도.
제3도는, 본발명의 다른 실시예를 나타내는 에칭액 관리장치의 계통도.
제4도는 본발명의 또다른 실시예를 나타내는 에칭액 관리장치의 계통도.

Claims (4)

  1. 투명도전막용 에칭액의 용해인듐농도를 흡광광도계(16)으로 검출하여 에칭액을 배출하는 에칭액 배출수단, 에칭액의 액면수준을 액면수준계(3)으로 검출하여 에칭원액과 순수를 보급하는 제1보급수단 및, 에칭액의 산농도를 도전율계(15)로 검출하여 에칭원액 또는 순수를 보급하는 제2보급수단을 갖춘 것을 특징으로 하는 에칭액관리장치.
  2. 제1항에 있어서, 제1보급수단에 있어서, 에칭원액과 순수를 보급하는 대신에, 에칭원액과 순수를 미리 조합한 에칭신액을 보급하도특 한 것을 특징으로 하는 에칭액관리장치.
  3. 투명도전막용 에칭액의 용해임듐농도를 흡광광도계(16)으로 검출하여 에칭원액과 순수를 보급하는 제3보급 수단및, 에칭액의 산농도를 도전율계(15)에 의해 검출하여 에칭원액 또는 순수를 보급하는 제2보급수단을 갖춘것을 특징으로 하는 에칭관리장치.
  4. 제3항에 있어서, 제3보급수단에 있어서, 에칭원액과 순수를 보급하는 대신에, 에칭원액과 순수를 미리 조합한 에칭신액을 보급하도록 한것을 특징으로 하는 에칭액관리장치.
    ※ 참고사항 :최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940027104A 1993-10-25 1994-10-24 에칭액 관리장치 KR100278768B1 (ko)

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