CN108803258A - 显影控制系统及显影控制方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显影控制系统，所述显影控制系统包括：第一与第二管道，分别连接显影槽；显影槽，容纳显影液；控制装置，设置于第一管道与显影槽间及第二管道与显影槽间，控制显影原液与显影循环液传输至显影槽；第一调节装置，与显影槽和控制装置连接，控制装置控制第一调节装置通过第三管道向显影槽传输第一调节溶液，本发明还公开了一种显影控制方法，通过上述方法，控制显影液的显影能力，实现CD的均一性，以提高画质。

Description

显影控制系统及显影控制方法
技术领域
本发明涉及显示面板制造技术领域，特别是涉及一种显影控制系统及显影控制方法。
背景技术
在TFT-LCD显示面板制造行业中，显示面板的制作工艺是制造高质量显示面板的一个重要部分。显示面板的制作包括：清洗、成膜、涂布、曝光、显影等。其中，基板的显影是显示面板制作中的重要流程。
随着TFT-LCD显示面板要求的画质越来越高，TFT的CD(Critical Dimention，特征线宽)均一性就越来越重要。理论上，CD均一性越小，显示面板的画质越好。目前主要是通过提高曝光过程中曝光机的照度均匀性、夹盘平面角度(chuck flatness)以及焦距来提升CD的均一性，但以现有曝光机的能力，很难使CD的批次间差异获得有效的控制，并且实际生产中为节省后续显影过程中显影液TMAH(Tetramethylammonium Hydroxide)的用量，一般会将显影液TMAH回流到显影槽内循环重复使用，调整TMAH浓度在2.38％，但在显影过程中仍然会有显著的显影能力差异，进而影响CD，影响显示面板的画质。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种显影控制系统及显影控制方法实现CD的均一性，以提高画质。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：
提供一种显影控制系统，包括：
第一管道，连接显影槽，用于传输显影原液至所述显影槽；
第二管道，连接所述显影槽，用于传输显影循环液至所述显影槽；
所述显影槽，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；
控制装置，设置于所述第一管道与所述显影槽之间以及所述第二管道与所述显影槽之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽；
第一调节装置，与所述显影槽和所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：
提供一种显影控制方法，包括：
控制装置控制显影原液通过第一管道传输至显影槽；
所述控制装置控制显影循环液通过第二管道传输至所述显影槽，所述显影原液及所述显影循环液构成显影液；
所述控制装置控制第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过一种显影控制系统，包括：第一管道，连接显影槽，用于传输显影原液至所述显影槽；第二管道，连接所述显影槽，用于传输显影循环液至所述显影槽；所述显影槽，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；控制装置，设置于所述第一管道与所述显影槽之间以及所述第二管道与所述显影槽之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽；第一调节装置，与所述显影槽和所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液，以控制所述显影液的显影能力差异，控制CD的均一性，进而提高显示面板的画质。
附图说明
图1是本发明显影控制系统实施例一的结构示意图；
图2是本发明显影控制系统实施例二的结构示意图；
图3是本发明显影控制系统实施例三的结构示意图；
图4是本发明显影控制方法流程示意图；
图5a～图5b是显影液中光阻含量对CD标准差的函数关系拟合示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明。
请参阅图1，是本发明显影控制系统实施例一的结构示意图，所述显影控制系统包括：
第一管道10，连接显影槽30，用于传输显影原液至所述显影槽30；
第二管道20，连接所述显影槽30，用于传输显影循环液至所述显影槽30；
所述显影槽30，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；
控制装置40，设置于所述第一管道10与所述显影槽30之间以及所述第二管道20与所述显影槽30之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽30；
第一调节装置50，与所述显影槽30和所述控制装置40连接，所述控制装置40控制所述第一调节装置50通过第三管道60向所述显影槽30传输第一调节溶液。
在本实施例中，所述显影液为四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液，通过检测所述显影液中的碱浓度来控制所述显影液浓度。
其中，所述控制装置40包括控制单元43及第一侦测单元41，所述第一侦测单元41用于侦测所述显影槽30内显影液的碱浓度值并将侦测到的碱浓度值发送给所述控制单元43，所述控制单元43通过碱浓度值控制所述显影液浓度，所述控制单元43将接收到的碱浓度值与碱浓度预设值进行比较，在接收到的碱浓度小于所述碱浓度预设值时，所述控制单元43控制所述第一管道10传输所述显影原液至所述显影槽30，在接收到的碱浓度大于所述碱浓度预设值时，所述控制单元43控制所述显影循环液传输至所述显影槽30。
在接收到的碱浓度等于所述碱浓度预设值时，所述显影槽30内显影液无需经过所述控制单元43控制所述碱浓度，可直接用于显影。
其中，所述第一调节装置50为光阻调节单元，所述第一调节溶液为光阻溶液。
请参阅图2，是本发明显影控制系统实施例二的结构示意图。所述显影控制系统实施例二与上述实施例一的区别之处在于：
所述控制装置40还包括第二侦测单元42，所述第二侦测单元42用于侦测所述显影槽30内显影液的光阻浓度值并将侦测到的光阻浓度值发送给所述控制单元43，所述控制单元43将接收到的光阻浓度值与光阻浓度预设值进行比较，在接收到的光阻浓度小于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元43控制所述光阻调节单元传输光阻溶液至所述显影槽30，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元43控制所述显影循环液传输至所述显影槽30。
在接收到的光阻浓度等于所述光阻浓度预设值时，所述显影槽30内显影液无需经过所述控制单元43控制所述光阻浓度，可直接用于显影。
其中，所述显影控制系统还包括第二调节装置70，与所述显影槽30及所述控制装置40连接，所述控制装置40控制所述第二调节装置70通过第四管道80向所述显影槽30传输第二调节溶液。
其中，所述第二调节装置70为显影循环液调节单元，所述第二调节溶液为显影循环液，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制43所述第二调节装置70传输显影循环液至所述显影槽30。
其中，所述显影原液浓度为25％，所述显影液的浓度为2.38±0.01％。
请参阅图3，是本发明显影控制系统实施例三的结构示意图。所述显影控制系统实施三与上述实施例二的区别之处在于：
所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽上方的显影循环液收集装置90，所述显影循环液收集装置90通过第五管道100与所述显影槽30连接，以对所述显影循环液进行循环。
其中，所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽30上的第六管道110，所述第六管道110通过压力泵113及第一控制阀111连接所述显影槽30自身，以对显影槽30内的显影液进行循环混液；所述第六管道110通过压力泵113及第二控控制阀112连接所述显影循环液收集装置90，用于对所述显影循环液收集装置90进行清洗。
请参阅图4，是本发明显影控制方法的流程示意图，结合图2，本发明显影控制方法的步骤包括：
步骤S1：控制装置40控制显影原液通过第一管道10传输至显影槽30。
其中，所述显影原液的浓度为25％。
步骤S2：所述控制装置40控制显影循环液通过第二管道20传输至所述显影槽30，所述显影原液及所述显影循环液构成显影液。
其中，所述控制装置40通过控制所述显影原液和所述显影循环液的添加量以调节所述显影原液及所述显影循环液构成显影液的浓度为2.38±0.01％；
其中，所述显影循环液为所述显影液对光阻进行显影去除后再回收利用的显影液，在回收过程中所述显影循环液中被显影的光阻导致所述显影循环液中的光阻浓度较大，所述显影循环液的浓度小于2.38±0.01％。
在本实施例中，所述显影液为四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液，通过检测所述显影液中的碱浓度来控制所述显影液浓度。
其中，所述控制装置40包括控制单元43及第一侦测单元41，所述第一侦测单元41用于侦测所述显影槽30内显影液的碱浓度值并将侦测到的碱浓度值发送给所述控制单元43，所述控制单元43通过碱浓度值控制所述显影液浓度，所述控制单元43将接收到的碱浓度值与碱浓度预设值进行比较，在接收到的碱浓度小于所述碱浓度预设值时，所述控制单元43控制所述第一管道10传输所述显影原液至所述显影槽30，在接收到的碱浓度大于所述碱浓度预设值时，所述控制单元43控制所述显影循环液传输至所述显影槽30。
在接收到的碱浓度等于所述碱浓度预设值时，所述显影槽30内显影液无需经过所述控制单元43控制所述碱浓度，可直接用于显影。
步骤S3：所述控制装置40控制第一调节装置50通过第三管道60向所述显影槽30传输第一调节溶液。
其中，所述第一调节装置50为光阻调节单元，所述第一调节溶液为光阻溶液。
其中，所述控制装置40还包括第二侦测单元42，所述第二侦测单元42用于侦测所述显影槽30内显影液的光阻浓度值并将侦测到的光阻浓度值发送给所述控制单元43，所述控制单元43将接收到的光阻浓度值与光阻浓度预设值进行比较，在接收到的光阻浓度小于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元43控制所述光阻调节单元传输光阻溶液至所述显影槽30，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元43控制所述显影循环液传输至所述显影槽30。
在接收到的光阻浓度等于所述光阻浓度预设值时，所述显影槽30内显影液无需经过所述控制单元43控制所述光阻浓度，可直接用于显影。
其中，所述显影控制系统还包括第二调节装置70，与所述显影槽30及所述控制装置40连接，所述控制装置40控制所述第二调节装置70通过第四管道80向所述显影槽30传输第二调节溶液。
其中，所述第二调节装置70为显影循环液调节单元，所述第二调节溶液为显影循环液，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制43所述第二调节装置70传输显影循环液至所述显影槽30。
请参阅图5a～图5b，是显影液中光阻含量(以吸光度计量测，单位Abs)对CD标准差(STD)的函数关系拟合示意图，经长期量产数据分析得出，其中，图5a为显影液中光阻含量对CD标准差的线性拟合示意图，可知显影液中光阻含量在0.15Abs～0.21Abs之间时对应CD标准差的范围在0～0.075；图5b为显影液中光阻含量对CD标准差的二次拟合示意图，可知显影液中光阻含量在0.05Abs～0.12Abs之间时对应CD标准差的范围在0～0.05；在二次拟合后，调整R方0.99，方程整体显著性检验(方差分析)P-value<0.05，表明该模型整体显著有效；单个因子的显著性检验P-value<0.05，表明截距显著，显影液中不同光阻浓度(DiffPR conc.)对STD也有显著影响。
二项式拟合方程为：
STD＝0.0440134-0.2407203*Diff PR conc.条件+13.048023*(Diff PR conc.条件-0.0825)^2
得出最稳定光阻含量控制目标值为0.094Abs。
在实际量产中，增加光阻调节单元，控制装置根据光阻浓度检测器检测到的显影槽内显影液的光阻浓度值以控制光阻调节单元向容纳槽中传输光阻溶液，控制光阻的含量以维持上述二项式拟合方程，进而控制显影液的显影能力，通过控制显影液的显影能力控制CD，即通过控制光阻浓度/含量的稳定以达到CD的均一性，经长期量产数据得出，通过上述方法，产品整体CD STD的生产稳定可有效改善～40％，以实际生产49”显示面板进行源漏极图案CD显影为例，正常产品CD卡控规格为±1.2um，通过上述增加光阻调节单元以调控光阻浓度/含量的方式后，上述49”显示面板源漏极图案CD规格变为2.35～2.8um(±0.225um)，相比正产CD卡控规格紧缩了81.3％，并可有效量产。
本发明通过在显影控制系统中增加光阻调节单元，以传输光阻溶液，增加显影循环液调节单元，以传输显影循环液，并通过控制装置对所述光阻调节单元及所述显影液循环单元的控制以使光阻浓度稳定，进而实现CD的均一性，提高显示面板的画质。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显影控制系统，其特征在于，包括：
第一管道，连接显影槽，用于传输显影原液至所述显影槽；
第二管道，连接所述显影槽，用于传输显影循环液至所述显影槽；
所述显影槽，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；
控制装置，设置于所述第一管道与所述显影槽之间以及所述第二管道与所述显影槽之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽；
第一调节装置，与所述显影槽和所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液。
2.根据权利要求1所述显影控制系统，其特征在于，所述控制装置包括控制单元及第一侦测单元，所述第一侦测单元用于侦测所述显影槽内显影液的碱浓度值并将侦测到的碱浓度值发送给所述控制单元，所述控制单元通过碱浓度值控制所述显影液浓度，所述控制单元将接收到的碱浓度值与碱浓度预设值进行比较，在接收到的碱浓度小于所述碱浓度预设值时，所述控制单元控制所述第一管道传输所述显影原液至所述显影槽，在接收到的碱浓度大于所述碱浓度预设值时，所述控制单元控制所述显影循环液传输至所述显影槽。
3.根据权利要求2所述显影控制系统，其特征在于，所述第一调节装置为光阻调节单元，所述第一调节溶液为光阻溶液。
4.根据权利要求3所述显影控制系统，其特征在于，所述控制装置还包括第二侦测单元，所述第二侦测单元用于侦测所述显影槽内显影液的光阻浓度值并将侦测到的光阻浓度值发送给所述控制单元，所述控制单元将接收到的光阻浓度值与光阻浓度预设值进行比较，在接收到的光阻浓度小于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述光阻调节单元传输光阻溶液至所述显影槽，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述显影循环液传输至所述显影槽。
5.根据权利要求4所述显影控制系统，其特征在于，所述显影控制系统还包括第二调节装置，与所述显影槽及所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第二调节装置通过第四管道向所述显影槽传输第二调节溶液。
6.根据权利要求5所述显影控制系统，其特征在于，所述第二调节装置为显影循环液调节单元，所述第二调节溶液为显影循环液，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述第二调节装置传输显影循环液至所述显影槽。
7.根据权利要求1所述显影控制系统，其特征在于，所述显影原液浓度为25％，所述显影液的浓度为2.38±0.01％。
8.根据权利要求5所述显影控制系统，其特征在于，所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽上方的显影循环液收集装置，所述显影循环液收集装置通过第五管道与所述显影槽连接，以对所述显影循环液进行循环。
9.根据权利要求8所述显影控制系统，其特征在于，所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽上的第六管道，所述第六管道通过压力泵及第一控制阀连接所述显影槽，以对显影槽内的显影液进行循环混液；所述第六管道通过压力泵及第二控制阀连接所述显影循环液收集装置，用于对所述显影循环液收集装置进行清洗。
10.一种显影控制方法，其特征在于，包括：
控制装置控制显影原液通过第一管道传输至显影槽；
所述控制装置控制显影循环液通过第二管道传输至所述显影槽，所述显影原液及所述显影循环液构成显影液；
所述控制装置控制第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109632571A (zh) * 2019-01-29 2019-04-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显影液浓度测量装置及方法
WO2019227952A1 (zh) * 2018-05-31 2019-12-05 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显影控制系统及显影控制方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1441321A (zh) * 2002-02-27 2003-09-10 三菱化学工程株式会社 显影液供给装置
CN1945445A (zh) * 2006-10-27 2007-04-11 友达光电股份有限公司 阶段性控制显影工艺的方法
CN101452224A (zh) * 2003-06-27 2009-06-10 友达光电股份有限公司 氢氧化四甲铵显影液的回收系统及其方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI298423B (en) * 2001-02-06 2008-07-01 Nagase & Co Ltd Developer producing equipment and method
CN101634816B (zh) * 2008-07-24 2012-05-30 北京京东方光电科技有限公司 显影液控制系统
US7854558B2 (en) * 2009-02-16 2010-12-21 Eastman Kodak Company Developer waste reuse
US20110159447A1 (en) * 2009-12-25 2011-06-30 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Developing solution for photolithography, method for forming resist pattern, and method and apparatus for producing developing solution for photolithography
CN108803258B (zh) * 2018-05-31 2021-04-27 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显影控制系统及显影控制方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1441321A (zh) * 2002-02-27 2003-09-10 三菱化学工程株式会社 显影液供给装置
CN101452224A (zh) * 2003-06-27 2009-06-10 友达光电股份有限公司 氢氧化四甲铵显影液的回收系统及其方法
CN1945445A (zh) * 2006-10-27 2007-04-11 友达光电股份有限公司 阶段性控制显影工艺的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019227952A1 (zh) * 2018-05-31 2019-12-05 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显影控制系统及显影控制方法
CN109632571A (zh) * 2019-01-29 2019-04-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显影液浓度测量装置及方法

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