JP2005260238A - 近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法 - Google Patents

近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法 Download PDF

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Abstract


【課題】近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ工程に使用される組成物を収容するタンク１０内の組成物を引き出した後、フローセル７０を通じてさらに組成物を収容するタンク１０に移送する組成物移送装置と、フローセル７０を通過する組成物の吸光度を測定し、測定された吸光度を用いて組成物の各成分濃度を計算する組成物分析装置と、測定された一つの成分の濃度が所定値以下である場合、不足な添加液をタンクに添加するための不足成分追加供給装置と、組成物分析装置で分析された組成物の成分によって不足成分追加供給装置を制御して組成物の各成分濃度を調節する制御部と、を含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法に関し、より詳しくは、半導体素子、液晶表示装置素子などを製造するためのリソグラフィ工程に使用されるフォトレジスト(photoresist)、剥離液(stripper)、現像液(developer)、蝕刻液(etchant)、希釈液(thinner)、洗浄液(rinser/cleaner)、ＥＢＲ(etch bead remover)などの多成分組成物を、近赤外線分光器を用いて実時間(on-line)で自動制御するシステム及びその方法に関する。
半導体素子、液晶表示装置素子などを製造するためのリソグラフィ工程に使用される組成物には、感光液、剥離液、現像液、蝕刻液、希釈液、洗浄液、ＥＢＲなどがあり、これら組成物は、有機溶媒類、フォトレジスト、水、酸、塩基などの多様な化合物を含む。これらリソグラフィ工程用組成物に含まれている成分を分析するための分析手段としては、適正機、イオンクロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、毛細管イオン分析機、水気測定機、ＵＶ−Ｖｉｓ測定機、ラマン分析機などが利用されているが、このような分析手段を利用して前記組成物の多様な成分を全部分析するためには非常に時間がかかる。また、このような組成物に含まれた多様な成分の分析時間を減少させるために、二台以上の分析装備を設置する場合もあるが、この場合にも、各成分についての実時間分析が充分に行われなくて、時間的な効率性があまり改善されないだけではなく、組成物の分析による廃水発生問題を防止することはできない。
最近、このような短所を克服するために、オンライン分析器機を使用する方法が提案されているが、現在提案されているオンライン分析器機は、通常サンプリングを自動的に実行する程度なので、各成分の実質的な分析時間が全然短縮されず、多様な成分についての実時間分析が不可能であるだけではなく、リソグラフィ工程で使用中である組成物を処理して管理するための総合的な情報を、実時間に得ることができない。したがって、半導体および液晶表示装置製造工程のリソグラフィ工程に使用される組成物の成分を実時間に把握し、組成物の寿命管理および廃棄すべき組成物を適切に管理および再生できる方法が要望されている。
本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するためになされたもので、その第１の目的は、フォトレジスト、剥離液、現像液, 蝕刻液、希釈液、洗浄液、ＥＢＲなどのリソグラフィ工程に使用される組成物に含まれている有機溶媒類、フォトレジスト、水、酸、塩基類などの主要成分を、簡単な設備を利用して実時間に正確に分析して制御することができる近赤外線分光器を用いたリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、リソグラフィ工程に使用される多成分組成物を、簡単な方法により採取できる近赤外線分光器を用いたリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法を提供することにある。
本発明の第３の目的は、分析される組成物の性質によってポンプ又は真空減圧装置を利用して、組成物を移送または追加供給することにより、工程の効率性を改善することができる近赤外線分光器を用いたリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法を提供することにある。
本発明の第４の目的は、リソグラフィ工程に使用される多成分組成物に変化および変質を誘発することなく成分分析を実行することにより、分析された組成物をリサイクルするだけではなく、廃水の発生を抑制することができる近赤外線分光器を用いたリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点によれば、リソグラフィ工程に使用される組成物を収容するタンク内の組成物を引き出した後、フローセルを通じてさらに前記組成物を収容するタンクに移送する組成物移送装置と、前記フローセルを通過する組成物の吸光度を測定し、測定された吸光度を用いて組成物の各成分濃度を計算する組成物分析装置と、前記測定された一つの成分の濃度が所定値以下である場合、不足な添加液を前記タンクに添加するための不足成分追加供給装置と、前記組成物分析装置で分析された組成物の成分によって、前記不足成分追加供給装置を制御して組成物の各成分濃度を調節する制御部と、を含むことを特徴とする、リソグラフィ工程組成物の実時間制御システムが提供される。
上記課題を解決するために、本発明の第２の観点によれば、リソグラフィ工程で使用されているタンク内の組成物を減圧状態の組成物伝達管に移送する工程と、前記組成物伝達管に不活性ガスを供給し、組成物伝達管内の組成物をフローセルに供給する工程と、前記組成物がフローセル内部を流れる間、近赤外線分光器を用いて組成物の各成分濃度を測定する工程と、前記フローセルに供給された組成物をさらに前記タンクに移送する工程と、前記組成物の不足成分を添加タンクに移送する工程と、前記添加タンク内の不足成分を前記リソグラフィ工程に使用されているタンクに移送する工程と、を含むことを特徴とする、リソグラフィ工程組成物の実時間制御方法が提供される。
本発明による近赤外線分光器を用いたリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムは、次のような効果がある。
１．光を利用した分析法であるので組成物が変化や変質される恐れがない。
２．一つのフローセルを利用して多数の組成物を分析するか、フローセルを追加して多様な種類の組成物を分析することができる。
３．近赤外線分光器を利用する場合、多成分の組成物を全部測定することができるので、多数の分析装備が必要なく又は廃液発生の恐れがない。
４．タンク装備とのデータ共有により使用中のタンクのみを選択的に測定でき、組成物(薬液)の使用時間、処理枚数、濃度の履歴を管理して組成物を効果的に使用できる。
５．組成物の性質によってポンプ又は真空減圧装置を選択的に利用して組成物を移送することができる。
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施形態について、詳しく説明する。
本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムは、i) 組成物移送装置、ii) 組成物分析装置、iii) 不足成分追加供給装置及び iv) 制御部から構成される。
図１は、本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用されるi) 組成物移送装置の構成ブロック図である。
図１に示すように、i) 組成物移送装置は、リソグラフィ工程に使用される組成物を収容するタンク１０に設置され、タンク１０内の組成物を引き出すための第１の自動バルブ(Ｖ１)と、第１の自動バルブ(Ｖ１)を通じて組成物収容タンク１０から引き出された組成物を収容し、収容された組成物をフローセル７０に供給するための組成物伝達管(transfer vessel)３０と、組成物伝達管３０に真空を印加するための真空リザーバ(vacuum reservoir)５０と、を含む。真空リザーバ５０には、真空が印加されるか窒素などの不活性ガスが供給され、真空リザーバ５０に真空が印加される場合には、組成物収容タンク１０から組成物伝達管３０に分析しようとする組成物が供給され、真空リザーバ５０に窒素が供給される場合には、供給される窒素の圧力により組成物伝達管３０からフローセル７０に分析しようとする組成物が移送され、フローセル７０で分析された組成物は、第６の自動バルブ(Ｖ６)を通じて組成物収容タンク１０に回収される。
この組成物移送装置は、第２の自動バルブ(Ｖ２)の制御によって空気の注入を受け、注入された空気を排気することによって真空リザーバ５０に真空を印加する真空排出器(vacuum ejector)４０をさらに含むことができ、真空排出器４０に注入される空気の量は、第２の自動バルブ(Ｖ２)と真空排出器４０との間に装着された第１のレギュレーター(Ｒ１)により調節される。また、組成物移送装置は、真空リザーバ５０に連結され、組成物伝達管３０に過度な量の組成物が流入される場合、組成物伝達管３０の収容量を超過する組成物を収容するための排出伝達タンク(drain transfer tank)６０をさらに含むことができ、排出伝達タンク６０に組成物が流入されることを制御するための第４の自動バルブ(Ｖ４)と、排出伝達タンク６０から組成物が排出されることを制御するための第５の自動バルブ(Ｖ５)と、真空リザーバ５０に窒素を供給するための第３の自動バルブ(Ｖ３)と、真空リザーバ５０に流入される窒素の量を制御するための第２のレギュレーター(Ｒ２)と、をさらに含むことができる。
図２は、本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用されるii) 組成物分析装置およびiv) 制御部の構成ブロック図である。
図２に示すように、ii) 組成物分析装置は、分析される組成物が移動するフローセル７０と、移動する組成物に測定光を走査するための光ファイバー(optical fiber)１２と、組成物の吸光度を測定するための近赤外線分光器８０と、を含む。組成物伝達管３０から組成物がフローセル７０に移送される場合、近赤外線分光器８０の光源から出る光が光ファイバー１２を通じて組成物に走査される。近赤外線分光器８０は、フローセル７０を通過する組成物の吸光度を測定し、測定された吸光度を利用して組成物の各成分濃度を計算した後、それを制御部１００に伝送する。制御部１００は、組成物の各成分濃度とともに、タンク制御部１５から入力された組成物の使用時間、基板処理枚数などの組成物履歴を、出力部９０を通じて出力し、分析された組成物の成分によって不足成分追加供給装置を制御して組成物の各成分濃度を調節する。
上記i) 組成物移送装置、ii) 組成物分析装置およびiv) 制御部の動作について、図３を参照して説明する。
図３は、本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用される組成物移送装置、組成物分析装置および制御部の動作を説明するためのフローチャートである。
図３に示すように、組成物収容タンク１０内の組成物を移送および分析するためには、まず、組成物収容タンク１０内の組成物の使用時間、基板処理枚数などの組成物履歴を、タンク制御部１５から制御部１００に伝送する(Ｓ１０)。
次に、使用されている組成物収容タンク１０に連結された第１の自動バルブ(Ｖ１)及び真空排出器４０に連結された第２の自動バルブ(Ｖ２)を開放する(Ｓ１２)。
第２の自動バルブ(Ｖ２)を開放すると、真空排出器４０に真空が印加され、それによって、真空リザーバ５０及び組成物伝達管３０の気圧が低くなって、組成物収容タンク１０内の組成物が第１の自動バルブ(Ｖ１)を通じて減圧状態の組成物伝達管３０に移送される(Ｓ１４)。この時、空気投入口に連結された第１のレギュレーター(Ｒ１)を調節して、投入される空気の量を調節することにより、真空排出器４０に印加される真空度を調節することができ、このような真空度によって組成物は遅く又は早く組成物伝達管３０に移送される。また、第２の自動バルブ(Ｖ２)を開放すると同時に第４の自動バルブ(Ｖ４)を開放して、組成物伝達管３０に過度な量の組成物が流入される場合、余剰量の組成物を排出伝達タンク６０に排出することもできる。排出伝達タンク６０に所定量以上の組成物が流入される場合、センサー(図示せず)を通じてこれを感知し、第３、第４及び第５の自動バルブ(Ｖ３、Ｖ４、Ｖ５)を開放して窒素を供給することにより、窒素の圧力によって排出伝達タンク６０内の組成物を外部に排出する。
組成物収容タンク１０から組成物が組成物伝達管３０に供給される場合、最下レベル感知器と下限感知器が順に感知され、上限感知器まで組成物が供給される場合は、上限感知器が作動して(Ｓ１６)、第１、第２及び第４の自動バルブ(Ｖ１、Ｖ２、Ｖ４)が閉鎖される(Ｓ１８)。
次に、第３及び第６の自動バルブ(Ｖ１、Ｖ６)が開放されて(Ｓ２０)、組成物伝達管３０に供給される窒素の圧力により、組成物伝達管３０内の組成物がフローセル７０に供給され(Ｓ２２)、フローセル７０に供給された組成物は、さらに第６の自動バルブ(Ｖ６)を通じて組成物収容タンク１０に供給される。この時、組成物がタンク１０に戻る移送速度も、窒素投入口にある第２のレギュレーター(Ｒ２)を用いて投入される窒素の量を調節することにより、遅く又は早く調節することができる。
また、組成物伝達管３０の下限感知器が感知を中断すると(Ｓ２４)、第３及び第６の自動バルブ(Ｖ１、Ｖ６)を閉鎖して(Ｓ２６)、組成物がフローセル７０にとどまるようにすることが好ましい。組成物伝達管３０にある最上レベル感知器と最下レベル感知器は、各々上限感知器と下限感知器の故障により作動しない場合に備えて設置したことにより、誤作動の確率を顕著に低めることができる。
このように組成物収容タンク１０の組成物がフローセル７０の内部を流れる間、近赤外線分光器８０を用いて組成物の各成分濃度を測定して(Ｓ２８)、測定された各成分濃度とともに、タンク制御部１５から入力された組成物の使用時間、基板処理枚数などの組成物履歴を、出力部９０を通じて出力する(Ｓ３０)。
図４は、本発明による近赤外線分光器を使用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用されるiv) 不足成分追加供給装置の構成ブロック図として、iv) 不足成分追加供給装置は、測定された一つの成分の濃度が所定値以下である場合、中央供給装置または他のタンクから添加液(adding solution)をタンク１０に添加するための装置である。
図４に示すように、iii) 不足成分追加供給装置は、中央供給装置または他のタンクなどの外部から添加液を供給するための一つ以上の自動バルブ(Ｖ１１、Ｖ１２)と、自動バルブ(Ｖ１１、Ｖ１２)を通じて流入された組成物成分を一時的に収容し、収容された組成物成分を組成物収容タンク１０に供給する一つ以上の添加タンク１３０、１４０と、添加タンク１３０、１４０に真空を印加するための真空リザーバ１８０と、を含む。真空リザーバ１８０には、真空が印加されるか窒素などの不活性ガスが供給され、真空リザーバ１８０に真空が印加される場合には、中央供給装置または他のタンクから添加タンク１３０、１４０に必要な組成物成分が供給され、真空リザーバ１８０に窒素が供給される場合には、供給される窒素の圧力により添加タンク１３０、１４０から組成物収容タンク１０に分析しようとする組成物が移送される。
この不足成分追加供給装置は、第７の自動バルブ(Ｖ７)の制御によって空気の注入を受け、注入された空気を排気することによって真空リザーバ１８０に真空を印加する真空排出器１７０をさらに含むことができ、真空排出器１７０に注入される空気の量は、第７の自動バルブ(Ｖ７)と真空排出器１７０との間に装着された第３のレギュレーター(Ｒ３)により調節できる。また、不足成分追加供給装置は、真空リザーバ１８０に連結されて添加タンク１３０、１４０に過度な量の組成物が流入される場合、添加タンク１３０、１４０の収容量を超過する組成物を収容するための排出伝達タンク１９０をさらに含むことができ、排出伝達タンク１９０に組成物が流入されるのを制御するための第９の自動バルブ(Ｖ９)と、排出伝達タンク１９０から組成物が排出されるのを制御するための第１０の自動バルブ(Ｖ１０)と、真空リザーバ１８０に窒素を供給するための第８の自動バルブ(Ｖ８)と、真空リザーバ１８０に流入される窒素の量を制御するための第４、第５及び第６のレギュレーター(Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６)と、をさらに含むことができる。
また、添加タンク１３０、１４０の後端には、添加タンク１３０、１４０内の成分を組成物収容タンク１０に供給するための多数のバルブ(Ｖ１３〜Ｖ１７)と、添加タンク１３０、１４０内の成分を混合するための混合器(line mixer)１６０と、混合器１６０で混合された添加液を収容するための添加液混合タンク(mixing tank)１５０と、をさらに形成することもできる。
図５は、本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用される不足成分追加供給装置の動作を説明するためのフローチャートである。
図５に示すように、もし、組成物の中で二つの成分の濃度が一定濃度以下に落ちる場合(Ｓ５０)、第１１及び第１２の自動バルブ(Ｖ１１、Ｖ１２)及び第７の自動バルブ(Ｖ７)を開放して(Ｓ５２)、添加タンク１３０、１４０に不足成分を各々移送する(Ｓ５４)。
このような不足成分の移送により添加タンク１３０、１４０の上限感知器が作動すれば(Ｓ５６)、第１１及び第１２の自動バルブ(Ｖ１１、Ｖ１２)及び第７の自動バルブ(Ｖ７)を閉鎖し(Ｓ５８)、第８の自動バルブ(Ｖ８)を開放して窒素により加圧しながら第１３及び第１４の自動バルブ(Ｖ１３、Ｖ１４)を開放すれば(Ｓ６０)、各々の添加液は、混合器１６０を通過しながら混合されて、添加液混合タンク１５０に投入される(Ｓ６２)。
次に、添加タンク１３０、１４０の上限感知器が消えれば(Ｓ６４)、第１３及び第１４の自動バルブ(Ｖ１３、Ｖ１４)を閉鎖し(Ｓ６６)、第１５の自動バルブ(Ｖ１５)を開放すれば(Ｓ６８)、窒素の加圧により添加液混合タンク１５０にある添加液が組成物収容タンク１０に移送される(Ｓ７０)。
このような方法を利用して添加タンクを増やせば、二つの組成物だけではなく、三つ以上の組成物を混合して添加させることができる。この時、添加される添加液の移送速度は、空気および窒素投入口にある第３〜第６のレギュレーター(Ｒ３〜Ｒ６)を制御して容易に調節できる。
本発明による制御システムは、ｉ) 組成物移送装置、ii) 組成物分析装置、iii) 制御部およびiv) 不足成分追加供給装置を、各々別のキャビネットで製作して既存または新規の工程設備に容易に設置することができ、ii) 組成物分析装置とiv) 不足成分追加供給装置だけを利用して、単純濃度測定機能と不足成分追加供給機能を各々別に利用することもできる。また、本発明によるシステムを構成するキャビネット、タンク、バルブ、伝達管、ライン等は、組成物の性質によってＳＵＳなどのステンレス鋼、ポリビニルクロライド(ＰＶＣ)、ポリエチレン(ＰＥ)、テフロン(登録商標)などで構成することができ、組成物の性質によってポンプ又は真空減圧装置を選択的に利用して、組成物を移送することができる。本発明の方法を利用して、多数のタンクに含まれた組成物を分析する場合にも、タンク制御部１５０から現在工程に使用されているタンクの信号だけを受けて分析を進行すれば、短時間内に分析が必要なタンクだけを実時間分析することができる。また、一つの近赤外線分光器８０、出力部９０及び制御部１００を使用してフローセル７０の数を増加させる場合、他の種類の薬液を容易に分析して、費用を節減することができる。
本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムは、組成物が移動するテフロン(登録商標)管などの継ぎ目に異常が発生するか、他の理由により組成物が外部に流出される場合、それを感知するための漏水感知器をさらに含むことができる。そのように漏水感知器を設置することにより、システムの安全性を追求し、また、各感知器の異常発生、濃度異常、異物添加、近赤外線分光器の異常など各種アラームを自体またはタンク制御部に送って容易に確認することができ、このような一連の作業を事務室でも簡単に確認できることにより、組成物の履歴をいつ、どこでも管理することができる。
本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用される組成物移送装置の構成ブロック図 本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用される組成物分析装置および制御部の構成ブロック図 本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用される組成物移送装置、組成物分析装置および制御部の動作を説明するためのフローチャート 本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用される不足成分追加供給装置の構成ブロック図 本発明による近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システムに使用される不足成分追加供給装置の動作を説明するためのフローチャート
符号の説明
１０ 組成物収容タンク
１２ 光ファイバー
１５ タンク制御部
３０ 組成物伝達管
４０ 真空排出器
５０ 真空リザーバ
６０ 排出伝達タンク
７０ フローセル
８０ 近赤外線分光器
９０ 出力部
１００ 制御部
１３０ 添加タンク
１４０ 添加タンク
１５０ 添加液混合タンク
１７０ 真空排出器
１８０ 真空リザーバ
１９０ 排出伝達タンク

Claims (11)

  1. リソグラフィ工程に使用される組成物を収容するタンク内の組成物を引き出した後、フローセルを通じてさらに前記組成物を収容するタンクに移送する組成物移送装置と、
    前記フローセルを通過する組成物の吸光度を測定し、測定された吸光度を用いて組成物の各成分濃度を計算する組成物分析装置と、
    前記測定された一つの成分の濃度が所定値以下である場合、不足な添加液を前記タンクに添加するための不足成分追加供給装置と、
    前記組成物分析装置で分析された組成物の成分によって、前記不足成分追加供給装置を制御して組成物の各成分濃度を調節する制御部と、
    を含むリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム。
  2. 前記組成物移送装置は、前記タンクに設置され、このタンク内の組成物を引き出すための第１の自動バルブと、
    前記第１の自動バルブを通じて前記タンクから引き出された組成物を収容し、収容された組成物をフローセルに供給するための組成物伝達管と、
    前記組成物伝達管に真空を印加するための真空リザーバと、
    を含む請求項１記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム。
  3. 前記真空リザーバには真空が印加されるか不活性ガスが供給され、前記真空リザーバに真空が印加される場合には、前記タンクから前記組成物伝達管に分析しようとする組成物が供給され、前記真空リザーバに不活性ガスが供給される場合には、供給される不活性ガスの圧力により前記組成物伝達管から前記フローセルに分析しようとする組成物が移送される請求項２記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム。
  4. 前記組成物移送装置は、前記第２の自動バルブの制御によって空気の注入を受け、注入された空気を排気するにことよって前記真空リザーバに真空を印加する真空排出器をさらに含む請求項２記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム。
  5. 前記組成物移送装置は、真空リザーバに連結され、前記組成物伝達管に過度な量の組成物が流入される場合、前記組成物伝達管の収容量を超過する組成物を収容するための排出伝達タンクをさらに含む請求項２記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム。
  6. 前記組成物分析装置は、分析される組成物が移動するフローセルと、
    前記移動する組成物に測定光を走査するための光ファイバーと、
    前記組成物の吸光度を測定するための近赤外線分光器と、
    を含む請求項１記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム。
  7. 前記不足成分追加供給装置は、外部から流入された組成物成分を一時的に収容し、収容された組成物成分を前記タンクに供給する一つ以上の添加タンクと、
    前記一つ以上の添加タンクに真空を印加するための真空リザーバと、
    を含む請求項１記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム。
  8. 前記不足成分追加供給装置は、前記添加タンク内の成分を混合するための混合器と、
    前記混合器で混合された添加液を収容するための添加液混合タンクと、
    をさらに含む請求項７記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム。
  9. リソグラフィ工程で使用されているタンク内の組成物を減圧状態の組成物伝達管に移送する工程と、
    前記組成物伝達管に不活性ガスを供給し、組成物伝達管内の組成物をフローセルに供給する工程と、
    前記組成物がフローセル内部を流れる間、近赤外線分光器を用いて組成物の各成分濃度を測定する工程と、
    前記フローセルに供給された組成物をさらに前記タンクに移送する工程と、
    前記組成物の不足成分を添加タンクに移送する工程と、
    前記添加タンク内の不足成分を前記リソグラフィ工程に使用されているタンクに移送する工程と、
    を含むリソグラフィ工程用組成物の実時間制御方法。
  10. 前記不足成分は一つ以上であり、前記二つ以上の不足成分を混合する工程をさらに含む請求項９記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御方法。
  11. 前記組成物の各成分濃度および前記組成物の履歴を出力部を通じて出力する工程をさらに含む請求項９記載のリソグラフィ工程用組成物の実時間制御方法。
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