JPH03214617A - 自動液管理装置 - Google Patents

自動液管理装置

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JPH03214617A
JPH03214617A JP954090A JP954090A JPH03214617A JP H03214617 A JPH03214617 A JP H03214617A JP 954090 A JP954090 A JP 954090A JP 954090 A JP954090 A JP 954090A JP H03214617 A JPH03214617 A JP H03214617A
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JP
Japan
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processing liquid
liquid
treatment
detection means
air bubbles
Prior art date
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Pending
Application number
JP954090A
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English (en)
Inventor
Satoshi Takaiwa
聡 高岩
Michio Nitta
新田 道夫
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Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Publication date
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Publication of JPH03214617A publication Critical patent/JPH03214617A/ja
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、処理液の成分量および劣化検知を自動的に
行うことかできる自動液管理装置に関するものである。
「従来の技術」 従来より、例えば半導体の製造工程等において、半導体
用シリコンウェハ上のレジスト(ノポラック樹脂等)を
剥離して溶解する硫酸、過酸化水素等の成分を含有する
剥離液(処理液)は、種々な方法で分析、管理され、更
に省大化及び品質管理の向」二を目的として、前記分析
、管理の自動化が行われてきた。
例えば、この種の自動液管理装置ては、硫酸と過酸化水
素とが混合された剥離液を吸光度計の分析セル内に案内
し、この吸光度計において、剥離液の劣化度合を測定す
るようにしている。
また、前記剥離液を、サンプリングビュレノトにより、
あるいはポンプとハルブとにより間欠的にサンプリング
した後、分析機器内の反応セル内に注入し、この反応セ
ル内において滴定分析を行い、剥離液中の有効成分の濃
度を分析するようにしている。
「発明か解決しようとする課題」 ところで、」一記のような自動液管理装置では、剥離液
中に過酸化水素等の揮発し易い物質が含有されていた場
合に、吸光度計の分析セル内に気泡か入り込み、又はサ
ンプリングビュレット内、又はポンプの吸込口から該ポ
ンプ内に気泡が入り込んでしまい、これによって、サン
プリング量か不正確になって、測定値にばらつきが生じ
るという不具合があった。
この発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって
、吸光度計、滴定装置を用いた測定系に気泡(エア)が
入り込むことを防止して、正確な測定を実現する自動液
管理装置の提供を目的とする。
「課題を解決するだめの手段」 上記の目的を達成するために、 第1の発明では、処理液を供給する処理液供給経路ど、
この処理液供給経路中の処理液を判定する判定手段と、
前記処理液供給経路の途中てあり、かつ前記判定手段の
」二流側に設けられて、前記処理液中の気泡を排出する
気泡抜き手段とが具備するようにしている。
第2の発明では、第1の発明の判定手段を、処理液の劣
化度を検知する検知手段により構成するようにしている
第3の発明では、第1の発明の判定手段を、処理液の有
効成分量を検出する検出手段により構成するようにして
いる。
第4の発明では、第1の発明の判定手段を、処理液の劣
化度を検知する検知手段と、処理液の有効成分量を検出
する検出手段とにより構成するようにしている。
[作用ヨ これらの発明によれば、処理液を供給する処理液供給経
路の途中に気泡抜き手段を設けて、処理液中の気泡を排
出させるようにしたので、処理液の劣化度を検知する検
知手段、処理液の有効成分量を検出する検出手段等によ
り構成される判定手段内に気泡が混入されることがない
「実施例」 この発明の一実施例を第1図〜第3図を参照して説明す
る。
まず、第1図により自動液管理装置全体の概略構成を説
明すると、図において符号1で示すものは、処理液か供
給される処理液供給経路である。
なお、前記処理液としては、半導体用シリコンウエハ上
のレジスト(ノボラック樹脂等)を剥離して溶解する硫
酸、過酸化水素等の成分(有効成分)を含有してなるも
のが挙げられる。
前記処理液供給経路1の途中には処理液の流通方向Xに
沿って、処理液を冷却する冷却器2、未溶解物等の不純
物を除去するフィルタ3、エアセパレータ100、フォ
トセル4、六方電磁弁5が順次設けられている。
前記エアセバレータ100は、第2図の正断面図、第3
図の第2図■一■線に沿う断面図に示すように、全体と
し円筒状に形成されたものであって、その下部側面には
フィルタ3を通じて送られてきた処理液を導入する導入
口]01か、上部側面には導入口101から導入された
処理液をフオトセル4側に排出する排出口102がそれ
それ設けられている。また、前記エアセパレータ100
内には、導入口101から導入された処理液が満たされ
るようになっており、該処理液が導入口101から排出
口102までに移動する間に、該処理液に含まれていた
気泡か、前記エアセパレータ100の上面に形成された
気泡抜き孔103から外部に排出されるようになってい
る。
なお、前記エアセパレータ100内に処理液か満たされ
た場合に、該処理液の液面は排出口102と気泡抜き孔
103との間に位置するようになっており、これによっ
て一定高さの水頭圧か、導入口101から供給される処
理液に掛かるようになっている。また、導入口101と
排出口102とを逆に配管に接続しても良く、エアセバ
レータ100としての機能に影響はない。
また、前記フォトセル4は、前記処理液供給経路1によ
って送られてきた処理液をセル(図示略)内に導き、該
処理液に一定波長の光線を照射することにより、当該処
理液の吸光度を測定し、その測定結果に基づき時間に対
する処理液の劣化の程度を検出するものである。
なお、前記フォ1・セル4を通過する処理液は、剥離さ
れたレジストが溶解することで着色されている。
また、前記六方電磁弁5は、(一)通常は実線で示すよ
うに配置されており、前記処理液をループ10及び経路
6・7を通じて処理槽(図示略)に、経路6・8を通じ
てドレンタンク9にそれぞれ案内する、(二)処理液中
の硫酸、過酸化水素濃度を測定する際に、点線で示す位
置に切り換え、前記実線の位置に配置されている間にル
ープ10に一時貯留された処理液を、純水供給系11 
(後述する)を通じて送られた純水により押し出し、反
応セル(後述する)に案内する。
なお、前記ルーブ10は、その内部に貯留される処理液
の量が予め設定されている、つまり定量7 のために用いるものである。
また、前記経路6〜8の分岐部に設けられたものは、特
に汚れた処理液をドレンタンク9に案内するための三方
電磁弁12、前記経路6の途中に設けられたものはボン
プ13、前記経路8の途中に設けられたものは、処理液
のPHを測定ずるPH電極14である。
また、前記純水供給系11は、純水の供給経路15に沿
って設けられた二方電磁弁16、中間トラップ17、ポ
ンプ18と、分岐した経路19に設けられて、該純水の
供給圧力を一定値以下に保持するリリーフ弁20とによ
り構成されるものである。なお、このリリーフ弁20に
より排出された純水は、前記ドレンタンク9に案内され
る。
一方、前記ループ10に一時貯留された後、純水により
押し出された処理液は、経路21〜23と該経路21〜
23の分岐部に設けられた三方電磁弁24とにより、反
応セル25・26に選択的に案内される。
また、前記反応セル25・26には、前記経路22・2
3により供給された処理液に対して、試薬を供給する試
薬供給系27〜29と、前記反応セル25・26内の溶
液の酸化還元電位を測定する酸化還元電極30・31と
が設けられている。
なお、前記反応セル25・26内に供給された処理液と
試薬とは、前記反応セル25・26に設けられた攪拌子
(図示略)あるいはマグナッ1・スターラ(図示略)に
より均一に攪拌されるようになっている。
前記試薬供給系27〜29は、フラスコ27A〜29A
に貯留された試薬を、滴定ポンプ27B〜29Bにより
経路27C〜29Cを経由させて、前記反応セル25・
26に少量ずつ供給するものであり、前記酸化還元電極
30・31は、試薬を滴下した場合における処理液の酸
化還元電位を検出するものであって、この酸化還元電位
の変化から処理液の硫酸、過酸化水素濃度が算出できる
ようになっている。
つまり、酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点として
、この反応の終点における試薬の滴下量(この滴下量を
示すデータは、滴定ポゾプ27B〜29Bから制御手段
(図示略)に出力される)から、前記処理液の硫酸、過
酸化水素濃度がそれぞれ算出されるようになっている。
なお、前記フラスコ27A〜29Aに貯留される試薬と
しては、水酸化ナトリウム等のアルカリ標準液、過マン
ガン酸カリウム溶液等の酸化還元反応を起こす標準液等
が適当である。
一方、反応セル25・26の下部には、測定が終了する
毎に該反応セル25・26内の処理液を排出するための
経路32〜34か設けられ、これら経路32〜34の途
中には、フィルタ35・36、反応セル25・26から
の溶液の排出動作を行うための二方電磁弁37・38、
排液ボンプ39が順次設けられている。そして、前記経
路32〜34を通じて排出された溶液は、前述したI・
レンタンク9内に送られるようになっている。
なお、第1図において、符号40・41で示ずものは、
反応セル25・26に設けられて、該反応セル25・2
6内で発生した気泡を排出する配管であり、符号104
で示すものは、気泡抜き孔103を経由した気泡を排出
する配管であって、これら配管40・41・104を通
じて排出された気体は、クリーンルーム内のタク1・に
全て案内されるようになっている。
以」二詳細に説明したように、本実施例に示す自動液管
理装置によれば、吸光度分析を行うフォ1・セル4の手
前であり、かつ処理液を定量するループ10の手前側に
、処理液に含有される気泡を抜き取るエアセパレータ1
00を設けたので、吸光度分析及び滴定時に発生する誤
差を小さくすることができ、信頼性の高い測定を行うこ
とができる効果が得られる。
なお、エアセパレータ100の構成は、処理液中の気泡
が抜き取れるものであれば、第2図、第3図のようなも
のに限定されない。
また、本実施例は、検知手段としてフオトセル4を、検
出手段として試薬供給系27〜29、酸化還元電極30
・31を共に設けた形式のものであるが(請求項4に対
応)、エアセパレータ100の下流側に、前記検知手段
、検出手段のいずれかを設けても良い(請求項2・3に
対応)。
「発明の効果」 以」一詳細に説明したように、この発明によれば、処理
液を供給する処理液供給経路の途中に気泡抜き手段を設
けて、処理液中の気泡を排出させるようにしたので、処
理液の劣化度を検知する検知手段、処理液の有効成分量
を検出する検出手段等により構成される判定手段内に気
泡が混入されることがなく、前記検知手段及び検出手段
による測定を正確に行うことか可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は本発明の一実施例を示すものであって
、第1図は自動液管理装置の全体を示す系統図、第2図
はエアセパレー夕を示す正断面図、第3図は第2図の■
一■線に沿う断面図である。 1・処理液供給経路 4 フォトセル(検知手段) 27〜29 ・試薬供給系(検出手段)30 3 ] 酸化還元電極(検出手段) 1. 0 0 ・エアセパレータ (気泡抜き手段)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 処理液を供給する処理液供給経路と、この処理
    液供給経路中の処理液を判定する判定手段と、前記処理
    液供給経路の途中であり、かつ前記判定手段の上流側に
    設けられて、前記処理液中の気泡を排出する気泡抜き手
    段とが具備された自動液管理装置。
  2. (2) 前記判定手段は、処理液の劣化度を検知する検
    知手段により構成されていることを特徴とする請求項1
    記載の自動液管理装置。
  3. (3) 前記判定手段は、処理液の有効成分量を検出す
    る検出手段により構成されていることを特徴とする請求
    項1記載の自動液管理装置。
  4. (4) 前記判定手段は、処理液の劣化度を検知する検
    知手段と、処理液の有効成分量を検出する検出手段とに
    より構成されていることを特徴とする請求項1記載の自
    動液管理装置。
JP954090A 1990-01-19 1990-01-19 自動液管理装置 Pending JPH03214617A (ja)

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