JPH04323534A - 液管理装置 - Google Patents
液管理装置Info
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- JPH04323534A JPH04323534A JP11812291A JP11812291A JPH04323534A JP H04323534 A JPH04323534 A JP H04323534A JP 11812291 A JP11812291 A JP 11812291A JP 11812291 A JP11812291 A JP 11812291A JP H04323534 A JPH04323534 A JP H04323534A
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Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 116
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract description 51
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 40
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 18
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 13
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 15
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 9
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 9
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011481 absorbance measurement Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XEMZLVDIUVCKGL-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;sulfuric acid Chemical compound OO.OS(O)(=O)=O XEMZLVDIUVCKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、化学的な処理を行う剥
離液(処理液)の活性状態ないし劣化状態を、継続的に
自動管理する処理液の液管理装置に関するものである。
離液(処理液)の活性状態ないし劣化状態を、継続的に
自動管理する処理液の液管理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、例えば半導体の製造工程等に
おいて、半導体用シリコンウエハ上のレジスト(ノボラ
ック樹脂等)を剥離して溶解する硫酸、過酸化水素(有
効成分)等の剥離液は、種々な方法で分析、管理され、
更に省人化及び品質管理の向上を目的として、前記分析
、管理の自動化が行われてきた。例えば、この種の液管
理装置では、硫酸と過酸化水素とが混合された剥離液を
吸光度計の分析セル内に案内し、この吸光度計において
、剥離液の劣化度を測定するようにしている。また、前
記剥離液を、サンプリングビュレットにより、あるいは
ポンプとバルブとにより間欠的にサンプリングした後、
分析機器内の反応セル内に注入し、この反応セル内にお
いて滴定分析を行い、剥離液中の有効成分の濃度を分析
するようにしている。
おいて、半導体用シリコンウエハ上のレジスト(ノボラ
ック樹脂等)を剥離して溶解する硫酸、過酸化水素(有
効成分)等の剥離液は、種々な方法で分析、管理され、
更に省人化及び品質管理の向上を目的として、前記分析
、管理の自動化が行われてきた。例えば、この種の液管
理装置では、硫酸と過酸化水素とが混合された剥離液を
吸光度計の分析セル内に案内し、この吸光度計において
、剥離液の劣化度を測定するようにしている。また、前
記剥離液を、サンプリングビュレットにより、あるいは
ポンプとバルブとにより間欠的にサンプリングした後、
分析機器内の反応セル内に注入し、この反応セル内にお
いて滴定分析を行い、剥離液中の有効成分の濃度を分析
するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の液管
理装置では、例えば、滴定分析を行うための試薬が貯留
される試薬貯留タンク、あるいは試薬、剥離液を反応セ
ルに供給するためのポンプ等から、試薬、剥離液が漏れ
ることがあり、これによって前記試薬貯留タンク、ポン
プの周辺に設けられた機器類が腐食したり、機器類にお
いて漏電が発生する場合があった。
理装置では、例えば、滴定分析を行うための試薬が貯留
される試薬貯留タンク、あるいは試薬、剥離液を反応セ
ルに供給するためのポンプ等から、試薬、剥離液が漏れ
ることがあり、これによって前記試薬貯留タンク、ポン
プの周辺に設けられた機器類が腐食したり、機器類にお
いて漏電が発生する場合があった。
【0004】この発明は、上記の事情に鑑みてなされた
ものであって、試薬貯留タンク、ポンプ(液供給手段)
の周辺に設けられた機器類が腐食すること、及び機器類
において漏電が発生することを未然に防止した液管理装
置の提供を目的とする。
ものであって、試薬貯留タンク、ポンプ(液供給手段)
の周辺に設けられた機器類が腐食すること、及び機器類
において漏電が発生することを未然に防止した液管理装
置の提供を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、第1の発明では、処理液をサンプリングするサン
プリング手段と、該サンプリング手段によりサンプリン
グされた処理液を貯留する反応セルと、該反応セル内で
前記処理液中に含まれる有効成分を分析するための試薬
が貯留されている試薬貯留タンクと、該試薬貯留タンク
に貯留された試薬を前記反応セルに供給する液供給手段
と、前記試薬貯留タンクから漏れた液を貯留するために
、該試薬貯留タンクより下方に設けられたトレーとを設
けるようにしている。第2の発明では、処理液をサンプ
リングするサンプリング手段と、該サンプリング手段に
よりサンプリングされた処理液を貯留する反応セルと、
該反応セル内で前記処理液中に含まれる有効成分を分析
するための試薬が貯留されている試薬貯留タンクと、該
試薬貯留タンクに貯留された試薬を前記反応セルに供給
する液供給手段と、前記液供給手段から漏れた液を貯留
するために、該液供給手段より下方に設けられたトレー
とを設けるようにしている。
めに、第1の発明では、処理液をサンプリングするサン
プリング手段と、該サンプリング手段によりサンプリン
グされた処理液を貯留する反応セルと、該反応セル内で
前記処理液中に含まれる有効成分を分析するための試薬
が貯留されている試薬貯留タンクと、該試薬貯留タンク
に貯留された試薬を前記反応セルに供給する液供給手段
と、前記試薬貯留タンクから漏れた液を貯留するために
、該試薬貯留タンクより下方に設けられたトレーとを設
けるようにしている。第2の発明では、処理液をサンプ
リングするサンプリング手段と、該サンプリング手段に
よりサンプリングされた処理液を貯留する反応セルと、
該反応セル内で前記処理液中に含まれる有効成分を分析
するための試薬が貯留されている試薬貯留タンクと、該
試薬貯留タンクに貯留された試薬を前記反応セルに供給
する液供給手段と、前記液供給手段から漏れた液を貯留
するために、該液供給手段より下方に設けられたトレー
とを設けるようにしている。
【0006】
【作用】第1の発明によれば、試薬貯留タンクの下方に
設けられたトレーに、該試薬貯留タンクから漏れた液(
試薬)を貯留することができ、その結果、漏れた液が、
タンク周辺に設けられた機器類に至ることを未然に防止
できる。第2の発明によれば、ポンプ等の液供給手段の
下方に設けられたトレーに、該液供給手段から漏れた液
(試薬)を貯留することができ、その結果、漏れた液が
、ポンプ周辺に設けられた機器類に至ることを未然に防
止できる。
設けられたトレーに、該試薬貯留タンクから漏れた液(
試薬)を貯留することができ、その結果、漏れた液が、
タンク周辺に設けられた機器類に至ることを未然に防止
できる。第2の発明によれば、ポンプ等の液供給手段の
下方に設けられたトレーに、該液供給手段から漏れた液
(試薬)を貯留することができ、その結果、漏れた液が
、ポンプ周辺に設けられた機器類に至ることを未然に防
止できる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1〜図6を参照
して説明する。まず、図1の系統図を参照して自動的管
理装置の概略構成を説明すると、この実施例に用いられ
る剥離液は、硫酸(H2SO4)と過酸化水素(H2O
2)との混合液であり、この剥離液は、処理槽(図示せ
ず)に貯留されている。なお、この剥離液は、硫酸(H
2SO4)、過酸化水素(H2O2)といった有効成分
により、半導体用シリコンウエハ上のレジスト(ノボラ
ック樹脂等)を剥離して溶解するものである。
して説明する。まず、図1の系統図を参照して自動的管
理装置の概略構成を説明すると、この実施例に用いられ
る剥離液は、硫酸(H2SO4)と過酸化水素(H2O
2)との混合液であり、この剥離液は、処理槽(図示せ
ず)に貯留されている。なお、この剥離液は、硫酸(H
2SO4)、過酸化水素(H2O2)といった有効成分
により、半導体用シリコンウエハ上のレジスト(ノボラ
ック樹脂等)を剥離して溶解するものである。
【0008】この処理槽からポンプ1により吸引された
剥離液は、経路1aを介して冷却器2、更には気泡抜き
継手3に導かれる。この気泡抜き継手3は、剥離液中に
含まれる気泡を分離するためのものであって、分離され
た気泡は一部の剥離液とともに配管3bを通り処理槽へ
戻され、また、分析に用いられる剥離液は配管3aに送
られるようになっている。そして、前記配管3aへ送ら
れた剥離液は、自動六方弁4に送られ、濃度分析用サン
プリングと吸光度測定用サンプリングとに分けられる。 ここで該自動六方弁4は、(一)通常は実線で示すよう
に配置されており、前記剥離液をループ5および経路6
を通じて吸光度計16(後述する)に導くようになって
おり、また、(二)剥離液の有効成分である硫酸および
過酸化水素の濃度を測定する際には、点線で示す位置に
切り換え、前記実線の位置に配置されている間にループ
5に一時貯留(定量)された剥離液を、ポンプ7により
経路7aを通じて供給される純水により押し出して、経
路8を通って三方弁9に導き、更には経路9a・9bを
通って反応セル19aあるいは19b(後述する)に導
くようになっている。
剥離液は、経路1aを介して冷却器2、更には気泡抜き
継手3に導かれる。この気泡抜き継手3は、剥離液中に
含まれる気泡を分離するためのものであって、分離され
た気泡は一部の剥離液とともに配管3bを通り処理槽へ
戻され、また、分析に用いられる剥離液は配管3aに送
られるようになっている。そして、前記配管3aへ送ら
れた剥離液は、自動六方弁4に送られ、濃度分析用サン
プリングと吸光度測定用サンプリングとに分けられる。 ここで該自動六方弁4は、(一)通常は実線で示すよう
に配置されており、前記剥離液をループ5および経路6
を通じて吸光度計16(後述する)に導くようになって
おり、また、(二)剥離液の有効成分である硫酸および
過酸化水素の濃度を測定する際には、点線で示す位置に
切り換え、前記実線の位置に配置されている間にループ
5に一時貯留(定量)された剥離液を、ポンプ7により
経路7aを通じて供給される純水により押し出して、経
路8を通って三方弁9に導き、更には経路9a・9bを
通って反応セル19aあるいは19b(後述する)に導
くようになっている。
【0009】まず、吸光度を測定する際の剥離液の経路
について説明する。経路6を通った剥離液は、ポンプ1
0により経路11aを通じて送液されるレジスト液(ノ
ボラック樹脂等を溶媒で溶解した液)と、途中の混合部
11bにおいて混合され、更に該レジスト液と混合され
た剥離液は経路12を通ってヒータ13に送られる。な
お、前記経路11aを通じて供給されるレジスト液はレ
ジスト液貯留タンク11に貯留されている。ヒータ13
で加熱された、剥離液と該レジスト液11との混合液は
、経路14を通じて該冷却器2に再び入って冷却され、
その後に気泡抜き継手15に導かれる。この気泡抜き継
手15では、気泡抜き継手3と同様に、剥離液とレジス
ト液との混合液中に含まれる気泡を分離するためのもの
であって、分離された気泡は一部の混合液とともに配管
15bを通りドレン貯留タンク18に排出される。 また、分析に用いられる混合液は配管15aに送られる
ようになっている。そして、前記配管15aを通じて供
給された剥離液とレジスト液との混合液は、吸光度計1
6において吸光度が計測された後、経路17を経由して
ドレン貯留タンク18に導かれ、また、前記気泡抜き1
5において、気泡とともに流れ出る剥離液とレジストと
の混合液は経路15bを通り、該ドレン貯留タンク18
に導かれる。
について説明する。経路6を通った剥離液は、ポンプ1
0により経路11aを通じて送液されるレジスト液(ノ
ボラック樹脂等を溶媒で溶解した液)と、途中の混合部
11bにおいて混合され、更に該レジスト液と混合され
た剥離液は経路12を通ってヒータ13に送られる。な
お、前記経路11aを通じて供給されるレジスト液はレ
ジスト液貯留タンク11に貯留されている。ヒータ13
で加熱された、剥離液と該レジスト液11との混合液は
、経路14を通じて該冷却器2に再び入って冷却され、
その後に気泡抜き継手15に導かれる。この気泡抜き継
手15では、気泡抜き継手3と同様に、剥離液とレジス
ト液との混合液中に含まれる気泡を分離するためのもの
であって、分離された気泡は一部の混合液とともに配管
15bを通りドレン貯留タンク18に排出される。 また、分析に用いられる混合液は配管15aに送られる
ようになっている。そして、前記配管15aを通じて供
給された剥離液とレジスト液との混合液は、吸光度計1
6において吸光度が計測された後、経路17を経由して
ドレン貯留タンク18に導かれ、また、前記気泡抜き1
5において、気泡とともに流れ出る剥離液とレジストと
の混合液は経路15bを通り、該ドレン貯留タンク18
に導かれる。
【0010】なお、前記吸光度計16において測定され
た吸光度に関する検出データは、図示しないマイコンや
シーケンサ等の制御手段に供給され、この制御手段にお
いて、吸光度の変化量が求められ、この変化量に基づき
剥離液の劣化度が判定されるようになっている。すなわ
ち、剥離液にレジストを投入した際の吸光度変化が測定
され、この吸光度の時間当たりの変化量から該剥離液の
劣化度が測定されるようになっている。なお、ここで、
前記吸光度の変化量、及び判定された劣化度に関するデ
ータはCRTやプリンタ等に出力されるようになってい
る。
た吸光度に関する検出データは、図示しないマイコンや
シーケンサ等の制御手段に供給され、この制御手段にお
いて、吸光度の変化量が求められ、この変化量に基づき
剥離液の劣化度が判定されるようになっている。すなわ
ち、剥離液にレジストを投入した際の吸光度変化が測定
され、この吸光度の時間当たりの変化量から該剥離液の
劣化度が測定されるようになっている。なお、ここで、
前記吸光度の変化量、及び判定された劣化度に関するデ
ータはCRTやプリンタ等に出力されるようになってい
る。
【0011】次に、剥離液の有効成分である硫酸(H2
SO4)および過酸化水素(H2O2)濃度を測定する
際の剥離液の経路について説明する。該自動六方弁4に
おいてサンプリングされた剥離液は、該三方弁9により
、例えば過酸化水素分析の場合には経路9aを通って反
応セル19aに送られ、また、硫酸分析の場合には、経
路9bを通って反応セル19bに送られる。該反応セル
19aおよび19bには、滴定分析の終点検出用センサ
の電極20aおよび20bがそれぞれ設置されている。
SO4)および過酸化水素(H2O2)濃度を測定する
際の剥離液の経路について説明する。該自動六方弁4に
おいてサンプリングされた剥離液は、該三方弁9により
、例えば過酸化水素分析の場合には経路9aを通って反
応セル19aに送られ、また、硫酸分析の場合には、経
路9bを通って反応セル19bに送られる。該反応セル
19aおよび19bには、滴定分析の終点検出用センサ
の電極20aおよび20bがそれぞれ設置されている。
【0012】前記反応セル19aおよび19b内には、
それぞれ滴定に用いられる各種試薬(例えば過マンガン
酸カリウム、硫酸、水酸化ナトリウム)が供給されるよ
うになっている。すなわち、3つの試薬貯留タンク21
a・21b・21cには、過マンガン酸カリウム、硫酸
、水酸化ナトリウムがそれぞれ貯留されており、ポンプ
22a・22bにより、経路23a・23bを通じて過
マンガン酸カリウム及び硫酸が反応セル19aに案内さ
れ、また、ポンプ22cにより経路23cを通じて水酸
化ナトリウムが反応セル19bに案内されるようになっ
ている。そして、前記反応セル19a内においては、硫
酸(試薬)の存在下で、過マンガン酸カリウム(試薬)
と過酸化水素(剥離液の有効成分)との酸化還元反応が
起こり、また、前記反応セル19b内においては、水酸
化ナトリウム(試薬)と硫酸(剥離液の有効成分)との
中和反応が起こるようになっている。
それぞれ滴定に用いられる各種試薬(例えば過マンガン
酸カリウム、硫酸、水酸化ナトリウム)が供給されるよ
うになっている。すなわち、3つの試薬貯留タンク21
a・21b・21cには、過マンガン酸カリウム、硫酸
、水酸化ナトリウムがそれぞれ貯留されており、ポンプ
22a・22bにより、経路23a・23bを通じて過
マンガン酸カリウム及び硫酸が反応セル19aに案内さ
れ、また、ポンプ22cにより経路23cを通じて水酸
化ナトリウムが反応セル19bに案内されるようになっ
ている。そして、前記反応セル19a内においては、硫
酸(試薬)の存在下で、過マンガン酸カリウム(試薬)
と過酸化水素(剥離液の有効成分)との酸化還元反応が
起こり、また、前記反応セル19b内においては、水酸
化ナトリウム(試薬)と硫酸(剥離液の有効成分)との
中和反応が起こるようになっている。
【0013】なお、本来、過酸化水素と、試薬である過
マンガン酸カリウムとを反応させる場合に、硫酸(過マ
ンガン酸カリウムは酸性下と中性下とでは反応性が異な
るために、必ず酸性状態で滴定する必要がある)を加え
る必要があるが、本実施例に示す自動液管理装置によれ
ば、硫酸ー過酸化水素系のレジスト剥離液を分析するこ
とを前提としているために過酸化水素の滴定に際して特
に硫酸を添加する工程を省略することが可能となる(す
なわち、硫酸を供給する系統21b・22b・23bを
省略できるものである)。更に、硫酸が予め含まれてい
ないレジスト剥離液中の過酸化水素を定量する場合には
、試薬である過マンガン酸カリウムを純水で溶解するの
ではなく、硫酸水溶液で溶解するようにすれば良い。 これにより、サンプリングした溶液(処理液)に、硫酸
が含有されていない場合(例えば過酸化水素だけの水溶
液)も、定量分析できるようになる。
マンガン酸カリウムとを反応させる場合に、硫酸(過マ
ンガン酸カリウムは酸性下と中性下とでは反応性が異な
るために、必ず酸性状態で滴定する必要がある)を加え
る必要があるが、本実施例に示す自動液管理装置によれ
ば、硫酸ー過酸化水素系のレジスト剥離液を分析するこ
とを前提としているために過酸化水素の滴定に際して特
に硫酸を添加する工程を省略することが可能となる(す
なわち、硫酸を供給する系統21b・22b・23bを
省略できるものである)。更に、硫酸が予め含まれてい
ないレジスト剥離液中の過酸化水素を定量する場合には
、試薬である過マンガン酸カリウムを純水で溶解するの
ではなく、硫酸水溶液で溶解するようにすれば良い。 これにより、サンプリングした溶液(処理液)に、硫酸
が含有されていない場合(例えば過酸化水素だけの水溶
液)も、定量分析できるようになる。
【0014】また、前記反応セル19a及び19bにお
いて、滴定が終了した後の液は、二方弁24a・24b
、経路25a〜25cを通ってポンプ26により排出さ
れ、該ドレン貯留タンク18に貯留される。なお、該ド
レン貯留タンク18は、ポンプ27により経路28を通
じて本装置外へ排出できるようになっている。
いて、滴定が終了した後の液は、二方弁24a・24b
、経路25a〜25cを通ってポンプ26により排出さ
れ、該ドレン貯留タンク18に貯留される。なお、該ド
レン貯留タンク18は、ポンプ27により経路28を通
じて本装置外へ排出できるようになっている。
【0015】一方、前記電極20a、20bにおいて検
出された電位変化のデータは図示しないマイコンやシー
ケンサ等の制御手段に供給され、また、この制御手段に
は、ポンプ22a及び22cにより供給した試薬の滴下
量(過マンガン酸カリウム、水酸化ナトリウムの滴下量
)が、滴下量データとして供給されるようになっている
。そして、この制御手段では、電位が飛躍した点を反応
の終点として、この反応の終点における試薬(過マンガ
ン酸カリウム、水酸化ナトリウム)の滴下量から、過酸
化水素及び硫酸の濃度がそれぞれ算出され、この算出結
果から、剥離液の劣化度が測定されるようになっている
。また、これら計算された過酸化水素及び硫酸の濃度、
及び剥離液の劣化度に関するデータはCRTやプリンタ
等に出力されるようになっている
出された電位変化のデータは図示しないマイコンやシー
ケンサ等の制御手段に供給され、また、この制御手段に
は、ポンプ22a及び22cにより供給した試薬の滴下
量(過マンガン酸カリウム、水酸化ナトリウムの滴下量
)が、滴下量データとして供給されるようになっている
。そして、この制御手段では、電位が飛躍した点を反応
の終点として、この反応の終点における試薬(過マンガ
ン酸カリウム、水酸化ナトリウム)の滴下量から、過酸
化水素及び硫酸の濃度がそれぞれ算出され、この算出結
果から、剥離液の劣化度が測定されるようになっている
。また、これら計算された過酸化水素及び硫酸の濃度、
及び剥離液の劣化度に関するデータはCRTやプリンタ
等に出力されるようになっている
【0016】次に、上記のように構成された自動液分析
装置の各構成要素の本体(符号50で示す)に対する設
置位置について、図2〜図4を参照しながら項目順に説
明する。 (1) 試薬貯留タンク21a・21b・21c、ド
レン貯留タンク18及びレジスト液貯留タンク11の配
置。 試薬貯留タンク21a・21b・21c、ドレン貯留タ
ンク18及びレジスト液貯留タンク11は、内部に試薬
、ドレンがそれぞれ貯留された場合に、それぞれのタン
クが重量物となり、このため装置全体の安定性と、仮に
液漏れが生じた場合に周囲への腐食の被害を最小とする
こと等を考慮して、本体50の下段50Aに配置されて
いる。また、前記本体50の下段50Aには、前記貯留
タンク類とともにポンプ10が配置されている。そして
、このような本体50の下段50Aへのポンプ10の配
置により、前記貯留タンクと同様に、液漏れが生じた場
合に周囲への被害を最小に抑えることができるものであ
る。
装置の各構成要素の本体(符号50で示す)に対する設
置位置について、図2〜図4を参照しながら項目順に説
明する。 (1) 試薬貯留タンク21a・21b・21c、ド
レン貯留タンク18及びレジスト液貯留タンク11の配
置。 試薬貯留タンク21a・21b・21c、ドレン貯留タ
ンク18及びレジスト液貯留タンク11は、内部に試薬
、ドレンがそれぞれ貯留された場合に、それぞれのタン
クが重量物となり、このため装置全体の安定性と、仮に
液漏れが生じた場合に周囲への腐食の被害を最小とする
こと等を考慮して、本体50の下段50Aに配置されて
いる。また、前記本体50の下段50Aには、前記貯留
タンク類とともにポンプ10が配置されている。そして
、このような本体50の下段50Aへのポンプ10の配
置により、前記貯留タンクと同様に、液漏れが生じた場
合に周囲への被害を最小に抑えることができるものであ
る。
【0017】(2) ポンプ1・7・22a〜22c
・26及び冷却器2の配置。 図1に示したポンプの中で、ポンプ1・7・22a〜2
2c・26は、本体50の中段50B、すなわち中央部
に配置されている。これにより、これらポンプ1・7・
22a〜22c・26と、これらポンプに液を給排出す
るための経路1a・7a・23a〜23c・25cとの
接続を容易にすることができ、かつ接続の自由度を向上
させることが可能となる。また同様に、冷却器2も本体
50の中央部である中段50Bに配置されている。これ
により、該冷却器2と、該冷却器2に液を給排出するた
めの経路1a、14との接続を容易にすることができ、
かつ接続の自由度を向上させることが可能となるもので
ある。 (3) 自動六方弁4の配置。 自動六方弁4は、試薬貯留タンク21a・21b・21
c、ドレン貯留タンク18、レジスト液貯留タンク11
、及びポンプ1・7・10・22a〜22c・26・2
7、冷却器2より上方、すなわち本体50の上段50C
に配置した。これにより、前記各貯留タンク、ポンプか
ら、液漏れがあったとしても、漏れた液により前記自動
六方弁4が腐食されることはない。
・26及び冷却器2の配置。 図1に示したポンプの中で、ポンプ1・7・22a〜2
2c・26は、本体50の中段50B、すなわち中央部
に配置されている。これにより、これらポンプ1・7・
22a〜22c・26と、これらポンプに液を給排出す
るための経路1a・7a・23a〜23c・25cとの
接続を容易にすることができ、かつ接続の自由度を向上
させることが可能となる。また同様に、冷却器2も本体
50の中央部である中段50Bに配置されている。これ
により、該冷却器2と、該冷却器2に液を給排出するた
めの経路1a、14との接続を容易にすることができ、
かつ接続の自由度を向上させることが可能となるもので
ある。 (3) 自動六方弁4の配置。 自動六方弁4は、試薬貯留タンク21a・21b・21
c、ドレン貯留タンク18、レジスト液貯留タンク11
、及びポンプ1・7・10・22a〜22c・26・2
7、冷却器2より上方、すなわち本体50の上段50C
に配置した。これにより、前記各貯留タンク、ポンプか
ら、液漏れがあったとしても、漏れた液により前記自動
六方弁4が腐食されることはない。
【0018】(4) トレーの配置。
前記本体50の下段50Aに配置された試薬貯留タンク
21a・21b・21c、ドレン貯留タンク18、レジ
スト液貯留タンク11及びポンプ10の下部にはプラス
チック製の下部トレー60が設けられ、また、前記本体
50の中段50Bに配置されたポンプ1・7・22a〜
22c・26及び冷却器2の下部には、プラスチック製
の上部トレー61が設けられている。これらトレー60
・61は、各貯留タンク、ポンプから、液漏れがあった
場合に、漏れた液を受けて貯留するものであり、これに
よって、漏れた液により周辺の機器が腐食することを防
止し、また、漏電等の発生をも防止するものである。ま
た、これらトレー60・61は、図5及び図6に符号6
0A・61Aで示す、下面に未貫通な状態で形成された
ネジ穴により、本体50の下段50A及び中段50Bに
それぞれネジ止めされて固定されるものであり、また、
前記各貯留タンク及びポンプは、前記トレー60・61
の上面にそれぞれ未貫通な状態で設けられたネジ穴(図
5及び図6に符号60B・61Bで示す)に対してネジ
止めされ、これらトレー60・61の上面に固定される
ものである。また、前記トレー60・61には、液漏れ
センサ(図示略)がそれぞれ設けられ、これら液漏れセ
ンサにより、トレー60・61上に、各貯留タンク、ポ
ンプ等から液漏れがあったことが検知されるようになっ
ている。また、前記トレー61上には板体61Cが設け
られており、この板体61C上に、前述したポンプ1・
22a〜22cが4台並べて配置されている。
21a・21b・21c、ドレン貯留タンク18、レジ
スト液貯留タンク11及びポンプ10の下部にはプラス
チック製の下部トレー60が設けられ、また、前記本体
50の中段50Bに配置されたポンプ1・7・22a〜
22c・26及び冷却器2の下部には、プラスチック製
の上部トレー61が設けられている。これらトレー60
・61は、各貯留タンク、ポンプから、液漏れがあった
場合に、漏れた液を受けて貯留するものであり、これに
よって、漏れた液により周辺の機器が腐食することを防
止し、また、漏電等の発生をも防止するものである。ま
た、これらトレー60・61は、図5及び図6に符号6
0A・61Aで示す、下面に未貫通な状態で形成された
ネジ穴により、本体50の下段50A及び中段50Bに
それぞれネジ止めされて固定されるものであり、また、
前記各貯留タンク及びポンプは、前記トレー60・61
の上面にそれぞれ未貫通な状態で設けられたネジ穴(図
5及び図6に符号60B・61Bで示す)に対してネジ
止めされ、これらトレー60・61の上面に固定される
ものである。また、前記トレー60・61には、液漏れ
センサ(図示略)がそれぞれ設けられ、これら液漏れセ
ンサにより、トレー60・61上に、各貯留タンク、ポ
ンプ等から液漏れがあったことが検知されるようになっ
ている。また、前記トレー61上には板体61Cが設け
られており、この板体61C上に、前述したポンプ1・
22a〜22cが4台並べて配置されている。
【0019】(5) 液取出口の配置。
ポンプ1に対して剥離液を供給するための経路1aの入
口、ドレン貯留タンク18からドレンを排出するための
経路28の出口は、図3の右側面図に示すように本体5
0の中段50Bの符号62で示す部分にまとめて配置さ
れている。これにより剥離液を供給排出するのための外
部配管を、前記経路1a及び経路28に対して容易に接
続することができる。
口、ドレン貯留タンク18からドレンを排出するための
経路28の出口は、図3の右側面図に示すように本体5
0の中段50Bの符号62で示す部分にまとめて配置さ
れている。これにより剥離液を供給排出するのための外
部配管を、前記経路1a及び経路28に対して容易に接
続することができる。
【0020】(6) 反応セル19a・19b及び吸
光度計16の配置。 図4に示すように、反応セル19a及び19bは左側面
の前方側に配置されている。これにより各反応セル19
a及び19bにそれぞれ取り付けられた電極20a及び
20bと、外部の制御装置との間を接続するための接続
コード(図示略)を短くすることができ、その結果とし
て、電極20a及び20bから出力された検出信号にノ
イズが混じることを防止することができ、剥離液の正確
な劣化判定を行うことが可能となる。また、前記反応セ
ル19a及び19bは、図4に示すように左側面の前方
側に配置されていることから、前記電極20a及び20
bの取付、取外を容易に行ない、これら電極20a及び
20bのメンテナンスを容易に行うことができる。また
、吸光度計16は、図2に示すように正面前方側かつ上
部に配置されるものであり、これによって、前記電極2
0a・20bと同様に、該吸光度計16と外部の制御装
置との間を接続するための接続コード(図示略)を短く
することができて検出信号にノイズが生じることを防止
でき、また、容易にメンテナンスできる効果が得られる
とともに、前記ポンプ、貯留タンクからの液漏により腐
食、漏電、誤検知等のトラブルが生じることを防止でき
るものである。
光度計16の配置。 図4に示すように、反応セル19a及び19bは左側面
の前方側に配置されている。これにより各反応セル19
a及び19bにそれぞれ取り付けられた電極20a及び
20bと、外部の制御装置との間を接続するための接続
コード(図示略)を短くすることができ、その結果とし
て、電極20a及び20bから出力された検出信号にノ
イズが混じることを防止することができ、剥離液の正確
な劣化判定を行うことが可能となる。また、前記反応セ
ル19a及び19bは、図4に示すように左側面の前方
側に配置されていることから、前記電極20a及び20
bの取付、取外を容易に行ない、これら電極20a及び
20bのメンテナンスを容易に行うことができる。また
、吸光度計16は、図2に示すように正面前方側かつ上
部に配置されるものであり、これによって、前記電極2
0a・20bと同様に、該吸光度計16と外部の制御装
置との間を接続するための接続コード(図示略)を短く
することができて検出信号にノイズが生じることを防止
でき、また、容易にメンテナンスできる効果が得られる
とともに、前記ポンプ、貯留タンクからの液漏により腐
食、漏電、誤検知等のトラブルが生じることを防止でき
るものである。
【0021】(7) 気泡抜き継手3及び15の配置
。 気泡抜き継手3及び15は、図2に示すように正面前方
側かつ上部に配置されるものであり、これによって、前
記吸光度計16と同様に、メンテナンスを容易に行うこ
とができるものである。 (8) 三方弁9、二方弁24a、24bの配置。 反応セル19aあるいは19bに剥離液を選択的に供給
する際に使用される三方弁9と、該反応セル19a、1
9bから分析後の剥離液を排出する際に使用される二方
弁24a、24bとは、共に該反応セル19a、19b
の近傍位置に設けられている。これによって、反応セル
19a、19bと三方弁9、二方弁24a、24bとの
間に位置する経路8、9a・9b、経路25a・25b
を短くすることができ、反応セル19a、19bに対す
る剥離液の入れ替えを効率良く行えるものである。
。 気泡抜き継手3及び15は、図2に示すように正面前方
側かつ上部に配置されるものであり、これによって、前
記吸光度計16と同様に、メンテナンスを容易に行うこ
とができるものである。 (8) 三方弁9、二方弁24a、24bの配置。 反応セル19aあるいは19bに剥離液を選択的に供給
する際に使用される三方弁9と、該反応セル19a、1
9bから分析後の剥離液を排出する際に使用される二方
弁24a、24bとは、共に該反応セル19a、19b
の近傍位置に設けられている。これによって、反応セル
19a、19bと三方弁9、二方弁24a、24bとの
間に位置する経路8、9a・9b、経路25a・25b
を短くすることができ、反応セル19a、19bに対す
る剥離液の入れ替えを効率良く行えるものである。
【0022】(9) キャスタの設置。
図2〜図4に符号63で示すように、本体50の底面に
はキャスタが設けられている。これらキャスタ63は大
型のものが使用され、これによってクリーンルーム等に
おいて自動液管理装置の移動を(グレーチングにはまら
ないように)円滑に行えるものである。 (10) ダクト接続用穴の設置。 前記本体50の下段50A及び中段50Bには、本体5
0内の粉塵等を吸引するためのダクト(図示略)が接続
されるダクト接続用穴(図示略)が設けられている。な
お、このダクト接続用穴は、ダクトが接続されていない
場合には蓋で閉じられるようになっている。
はキャスタが設けられている。これらキャスタ63は大
型のものが使用され、これによってクリーンルーム等に
おいて自動液管理装置の移動を(グレーチングにはまら
ないように)円滑に行えるものである。 (10) ダクト接続用穴の設置。 前記本体50の下段50A及び中段50Bには、本体5
0内の粉塵等を吸引するためのダクト(図示略)が接続
されるダクト接続用穴(図示略)が設けられている。な
お、このダクト接続用穴は、ダクトが接続されていない
場合には蓋で閉じられるようになっている。
【0023】以上詳細に説明したように、本発明に示す
自動液管理装置によれば、液供給手段としてのポンプ1
・7・10・22a〜22c・26、及び液貯留手段と
しての試薬貯留タンク21a・21b・21c、ドレン
貯留タンク18、レジスト液貯留タンク11が、それぞ
れトレー60・61上に配置されていることから、これ
らポンプあるいはタンクから液漏れがあった場合に、漏
れた液(処理液、試薬)をトレー60・61上に貯留す
ることができ、その結果、漏れた液により、ポンプある
いはタンクの周辺に設けられた機器類が腐食されること
を防止でき、かつ、機器類において漏電が発生すること
を防止できる効果が得られる。
自動液管理装置によれば、液供給手段としてのポンプ1
・7・10・22a〜22c・26、及び液貯留手段と
しての試薬貯留タンク21a・21b・21c、ドレン
貯留タンク18、レジスト液貯留タンク11が、それぞ
れトレー60・61上に配置されていることから、これ
らポンプあるいはタンクから液漏れがあった場合に、漏
れた液(処理液、試薬)をトレー60・61上に貯留す
ることができ、その結果、漏れた液により、ポンプある
いはタンクの周辺に設けられた機器類が腐食されること
を防止でき、かつ、機器類において漏電が発生すること
を防止できる効果が得られる。
【0024】なお、上記実施例において、1,1a,2
,3,3a,3b,4,5,6,7,7a,8,9,9
a,9bで示す構成要素により、サンプリング手段が構
成される。
,3,3a,3b,4,5,6,7,7a,8,9,9
a,9bで示す構成要素により、サンプリング手段が構
成される。
【0025】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、これら
の発明によれば、液供給手段としてのポンプ、試薬貯留
タンクの下方にそれぞれトレーを設けるようにしたから
、ポンプあるいはタンクから漏れた液(試薬)をトレー
上に貯留することができ、その結果、漏れた液により、
ポンプあるいはタンク周辺に設けられた機器類が腐食さ
れることを防止でき、かつ機器類において漏電が発生す
ることを防止できる効果が得られる。
の発明によれば、液供給手段としてのポンプ、試薬貯留
タンクの下方にそれぞれトレーを設けるようにしたから
、ポンプあるいはタンクから漏れた液(試薬)をトレー
上に貯留することができ、その結果、漏れた液により、
ポンプあるいはタンク周辺に設けられた機器類が腐食さ
れることを防止でき、かつ機器類において漏電が発生す
ることを防止できる効果が得られる。
【図1】自動液管理装置の概略構成図。
【図2】図1の液管理装置を詳細に示す正面図。
【図3】図2の右側面図。
【図4】図2の左側面図。
【図5】(a)上部トレーを示す平面図、(b)は(a
)のA−A線に沿う正断面図。
)のA−A線に沿う正断面図。
【図6】(a)下部トレーを示す平面図、(b)は(a
)のB−B線に沿う正断面図。
)のB−B線に沿う正断面図。
19a 反応セル
19b 反応セル
21a 試薬貯留タンク(液貯留手段)21b 試
薬貯留タンク(液貯留手段)21c 試薬貯留タンク
(液貯留手段)22a ポンプ(液供給手段) 22b ポンプ(液供給手段) 22c ポンプ(液供給手段) 60 トレー 61 トレー
薬貯留タンク(液貯留手段)21c 試薬貯留タンク
(液貯留手段)22a ポンプ(液供給手段) 22b ポンプ(液供給手段) 22c ポンプ(液供給手段) 60 トレー 61 トレー
Claims (2)
- 【請求項1】 処理液をサンプリングするサンプリン
グ手段と、該サンプリング手段によりサンプリングされ
た処理液を貯留する反応セルと、該反応セル内で前記処
理液中に含まれる有効成分を分析するための試薬が貯留
されている試薬貯留タンクと、該試薬貯留タンクに貯留
された試薬を前記反応セルに供給する液供給手段と、前
記試薬貯留タンクから漏れた液を貯留するために、該試
薬貯留タンクより下方に設けられたトレーとからなる液
管理装置。 - 【請求項2】 処理液をサンプリングするサンプリン
グ手段と、該サンプリング手段によりサンプリングされ
た処理液を貯留する反応セルと、該反応セル内で前記処
理液中に含まれる有効成分を分析するための試薬が貯留
されている試薬貯留タンクと、該試薬貯留タンクに貯留
された試薬を前記反応セルに供給する液供給手段と、前
記液供給手段から漏れた液を貯留するために、該液供給
手段より下方に設けられたトレーとからなる液管理装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11812291A JPH04323534A (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 液管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11812291A JPH04323534A (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 液管理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04323534A true JPH04323534A (ja) | 1992-11-12 |
Family
ID=14728584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11812291A Withdrawn JPH04323534A (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 液管理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04323534A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014078644A (ja) * | 2012-10-11 | 2014-05-01 | Panasonic Corp | レジスト剥離液の調合槽からのサンプリング方法およびサンプリング装置 |
JP2014096462A (ja) * | 2012-11-08 | 2014-05-22 | Panasonic Corp | フォトレジスト濃度測定装置および測定方法 |
WO2024157847A1 (ja) * | 2023-01-27 | 2024-08-02 | 株式会社日立ハイテク | 質量分析装置 |
-
1991
- 1991-04-22 JP JP11812291A patent/JPH04323534A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014078644A (ja) * | 2012-10-11 | 2014-05-01 | Panasonic Corp | レジスト剥離液の調合槽からのサンプリング方法およびサンプリング装置 |
JP2014096462A (ja) * | 2012-11-08 | 2014-05-22 | Panasonic Corp | フォトレジスト濃度測定装置および測定方法 |
WO2024157847A1 (ja) * | 2023-01-27 | 2024-08-02 | 株式会社日立ハイテク | 質量分析装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980711 |