JPH06264251A - はんだめっき液自動管理装置 - Google Patents
はんだめっき液自動管理装置Info
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- JPH06264251A JPH06264251A JP5080021A JP8002193A JPH06264251A JP H06264251 A JPH06264251 A JP H06264251A JP 5080021 A JP5080021 A JP 5080021A JP 8002193 A JP8002193 A JP 8002193A JP H06264251 A JPH06264251 A JP H06264251A
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- Japan
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- solder plating
- analysis
- plating solution
- container
- pure water
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 はんだめっき工程中にあるはんだめっき液の
Ｓｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+及び添加剤濃度を分析すること
ができるとともに分析結果に基づき各成分の補給量を演
算する。 【構成】 はんだめっき液分析用循環槽２と、はんだめ
っき液中のＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の濃度を分析できる
ようにした１つの分析用容器４と、分析用容器４内に設
置された電極５，６と、添加剤濃度を分析できるように
した添加剤濃度分析部１２と、前記分析用循環槽２から
はんだめっき液を分析用容器４にサンプリングするサン
プリング機構と、各濃度分析に必要な各種試薬を分析用
容器４に供給する試薬供給部と、各濃度分析を行う工程
の間に分析用容器４、電極５，６及び添加剤濃度分析部
１２を洗浄する洗浄液供給部と、各機器部を制御すると
ともに濃度分析で得られた結果から各成分の補給量を演
算する演算制御装置１４と、分析結果及び補給量を表示
する表示装置１５とを備えた。
Ｓｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+及び添加剤濃度を分析すること
ができるとともに分析結果に基づき各成分の補給量を演
算する。 【構成】 はんだめっき液分析用循環槽２と、はんだめ
っき液中のＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の濃度を分析できる
ようにした１つの分析用容器４と、分析用容器４内に設
置された電極５，６と、添加剤濃度を分析できるように
した添加剤濃度分析部１２と、前記分析用循環槽２から
はんだめっき液を分析用容器４にサンプリングするサン
プリング機構と、各濃度分析に必要な各種試薬を分析用
容器４に供給する試薬供給部と、各濃度分析を行う工程
の間に分析用容器４、電極５，６及び添加剤濃度分析部
１２を洗浄する洗浄液供給部と、各機器部を制御すると
ともに濃度分析で得られた結果から各成分の補給量を演
算する演算制御装置１４と、分析結果及び補給量を表示
する表示装置１５とを備えた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明ははんだめっき液自動管理
装置に係り、特にはんだめっき工程中のはんだめっき液
の組成濃度を自動的に管理することができるはんだめっ
き液自動管理装置に関する。
装置に係り、特にはんだめっき工程中のはんだめっき液
の組成濃度を自動的に管理することができるはんだめっ
き液自動管理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、電子部品に対してはんだめっきを
施すことが多く行われている。このはんだめっきを行う
はんだめっき浴には、ほうふつ酸浴及び有機スルホン酸
浴がある。ほうふつ酸浴で得られるはんだめっきは、得
られる皮膜の物性が良く、多く使用されているが、高電
流密度で良質なめっきが得られないこと、排水処理が難
しいこと或いは排水基準が厳しいことなどの理由で、有
機スルホン酸浴が最近用いられるようになってきた。し
かして、リードフレーム等の電子部品に必要な接着機能
を持つ電導性はんだめっき皮膜を得るには、はんだめっ
き浴を構成する組成濃度管理が必要とされている。この
場合、管理の対象となる組成は、めっき浴に電導性を与
える遊離酸、めっき皮膜を構成するＳｎ2+、Ｐｂ2+、そ
して品質が安定しためっき皮膜を得るために使用される
添加剤等があり、それらの濃度を設定された管理濃度及
び標準管理幅で維持する必要がある。標準管理幅でめっ
き浴の組成濃度を管理するためには、はんだめっき工程
中にあるはんだめっき液の組成濃度を正確に分析する必
要があるが、従来は、多くの時間をかけて人手で分析し
ている。
施すことが多く行われている。このはんだめっきを行う
はんだめっき浴には、ほうふつ酸浴及び有機スルホン酸
浴がある。ほうふつ酸浴で得られるはんだめっきは、得
られる皮膜の物性が良く、多く使用されているが、高電
流密度で良質なめっきが得られないこと、排水処理が難
しいこと或いは排水基準が厳しいことなどの理由で、有
機スルホン酸浴が最近用いられるようになってきた。し
かして、リードフレーム等の電子部品に必要な接着機能
を持つ電導性はんだめっき皮膜を得るには、はんだめっ
き浴を構成する組成濃度管理が必要とされている。この
場合、管理の対象となる組成は、めっき浴に電導性を与
える遊離酸、めっき皮膜を構成するＳｎ2+、Ｐｂ2+、そ
して品質が安定しためっき皮膜を得るために使用される
添加剤等があり、それらの濃度を設定された管理濃度及
び標準管理幅で維持する必要がある。標準管理幅でめっ
き浴の組成濃度を管理するためには、はんだめっき工程
中にあるはんだめっき液の組成濃度を正確に分析する必
要があるが、従来は、多くの時間をかけて人手で分析し
ている。
【０００３】また、分析された組成濃度に基づいて不足
成分の補給量の算出及び補給も全て人手を介して行って
いた。
成分の補給量の算出及び補給も全て人手を介して行って
いた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の分析方法においては、Ｓｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+
を分析するために、三つの分析用容器を使用し、人手を
介して分析しなければならないという問題点があった。
また、有機スルホン酸浴の場合には添加剤の濃度につい
ても別途分析を行わなければならないという問題点があ
った。
た従来の分析方法においては、Ｓｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+
を分析するために、三つの分析用容器を使用し、人手を
介して分析しなければならないという問題点があった。
また、有機スルホン酸浴の場合には添加剤の濃度につい
ても別途分析を行わなければならないという問題点があ
った。
【０００５】さらに、前述したように分析された組成濃
度に基づいて不足成分の補給量の算出及び補給も全て人
手を介して行わなければならないという問題点があっ
た。
度に基づいて不足成分の補給量の算出及び補給も全て人
手を介して行わなければならないという問題点があっ
た。
【０００６】本発明は上述の事情に鑑みてなされたもの
で、はんだめっき工程中にあるはんだめっき液のＳ
ｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+及び添加剤濃度を分析することが
できるとともに分析結果に基づき各成分の補給量を演算
することができるはんだめっき液自動管理装置を提供す
ることを目的とする。
で、はんだめっき工程中にあるはんだめっき液のＳ
ｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+及び添加剤濃度を分析することが
できるとともに分析結果に基づき各成分の補給量を演算
することができるはんだめっき液自動管理装置を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明のはんだめっき液自動管理装置は、はんだめ
っき工程中のはんだめっき槽からはんだめっき液を常時
取り出すとともにこれをはんだめっき液槽に戻すように
したはんだめっき液分析用循環槽と、はんだめっき液中
のＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の濃度を分析できるようにし
た１つの分析用容器と、前記分析用容器内に設置された
電極と、添加剤濃度を分析できるようにした添加剤濃度
分析部と、前記はんだめっき液分析用循環槽からはんだ
めっき液を前記分析用容器にサンプリングするサンプリ
ング機構と、前記各濃度分析に必要な各種試薬を前記分
析用容器に供給する試薬供給部と、前記各濃度分析を行
う工程の間に前記分析用容器、電極及び添加剤濃度分析
部を洗浄する洗浄液供給部と、前記各機器部を制御する
とともに前記濃度分析で得られた結果から各成分の補給
量を演算する演算制御装置と、前記分析結果及び前記補
給量を表示する表示装置とを備えたことを特徴とするも
のである。
め、本発明のはんだめっき液自動管理装置は、はんだめ
っき工程中のはんだめっき槽からはんだめっき液を常時
取り出すとともにこれをはんだめっき液槽に戻すように
したはんだめっき液分析用循環槽と、はんだめっき液中
のＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の濃度を分析できるようにし
た１つの分析用容器と、前記分析用容器内に設置された
電極と、添加剤濃度を分析できるようにした添加剤濃度
分析部と、前記はんだめっき液分析用循環槽からはんだ
めっき液を前記分析用容器にサンプリングするサンプリ
ング機構と、前記各濃度分析に必要な各種試薬を前記分
析用容器に供給する試薬供給部と、前記各濃度分析を行
う工程の間に前記分析用容器、電極及び添加剤濃度分析
部を洗浄する洗浄液供給部と、前記各機器部を制御する
とともに前記濃度分析で得られた結果から各成分の補給
量を演算する演算制御装置と、前記分析結果及び前記補
給量を表示する表示装置とを備えたことを特徴とするも
のである。
【０００８】
【作用】前述した構成からなる本発明によれば、はんだ
めっき工程中のはんだめっき槽からはんだめっき液を常
時はんだめっき液分析用循環槽に導き、このはんだめっ
き液分析用循環槽からサンプリング機構によってはんだ
めっき液をサンプリングして分析用容器に移し、Ｓ
ｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+のいずれか一つの成分について定
量分析した後に、洗浄液供給部を稼働させて、分析用容
器及び電極等を洗浄する。上述の動作を繰り返すことに
より他の二成分について分析を行い、１つの分析用容器
でＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の定量分析を行う。また、添
加剤濃度分析部において、添加剤濃度を分析する。一
方、各分析結果は演算制御装置に入力され、各成分の補
給量が求められ、これら補給量及び各分析結果は表示装
置に表示される。
めっき工程中のはんだめっき槽からはんだめっき液を常
時はんだめっき液分析用循環槽に導き、このはんだめっ
き液分析用循環槽からサンプリング機構によってはんだ
めっき液をサンプリングして分析用容器に移し、Ｓ
ｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+のいずれか一つの成分について定
量分析した後に、洗浄液供給部を稼働させて、分析用容
器及び電極等を洗浄する。上述の動作を繰り返すことに
より他の二成分について分析を行い、１つの分析用容器
でＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の定量分析を行う。また、添
加剤濃度分析部において、添加剤濃度を分析する。一
方、各分析結果は演算制御装置に入力され、各成分の補
給量が求められ、これら補給量及び各分析結果は表示装
置に表示される。
【０００９】本発明の一態様によれば、前記演算された
補給量により、補給槽に設置された補給ポンプを制御
し、はんだめっき槽に不足成分を補給できる。また、外
部コンピュータに分析結果、補給量等を送ることができ
る。
補給量により、補給槽に設置された補給ポンプを制御
し、はんだめっき槽に不足成分を補給できる。また、外
部コンピュータに分析結果、補給量等を送ることができ
る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明に係るはんだめっき液自動管理
装置の一実施例を図１を参照して説明する。はんだめっ
き液自動管理装置は筺体Ｂ（２点鎖線で示される）を備
え、この筺体Ｂ内にはんだめっき液分析用循環槽２が設
置されている。はんだめっき工程中にあるはんだめっき
槽１とはんだめっき液分析用循環槽２とは供給用配管３
ａ及び戻り配管３ｂにより接続されており、供給用配管
３ａには循環用サンプリングポンプＰ1 及びバルブＶ1
が設置されており、循環用サンプリングポンプＰ1 を常
時運転することによって、はんだめっき工程中のはんだ
めっき槽１からはんだめっき液をはんだめっき液分析用
循環槽２に取り出すとともにこれをはんだめっき槽１に
戻すようになっている。
装置の一実施例を図１を参照して説明する。はんだめっ
き液自動管理装置は筺体Ｂ（２点鎖線で示される）を備
え、この筺体Ｂ内にはんだめっき液分析用循環槽２が設
置されている。はんだめっき工程中にあるはんだめっき
槽１とはんだめっき液分析用循環槽２とは供給用配管３
ａ及び戻り配管３ｂにより接続されており、供給用配管
３ａには循環用サンプリングポンプＰ1 及びバルブＶ1
が設置されており、循環用サンプリングポンプＰ1 を常
時運転することによって、はんだめっき工程中のはんだ
めっき槽１からはんだめっき液をはんだめっき液分析用
循環槽２に取り出すとともにこれをはんだめっき槽１に
戻すようになっている。
【００１１】また、はんだめっき液分析用循環槽２に隣
接して分析用容器４が設置されており、この分析用容器
４内にＰＨ電極５及び酸化還元電極６が設置されてい
る。分析用容器４の外部には発光部７ａ及び受光部７ｂ
からなる透過度測定器７が設置されている。分析用容器
４の底部外側にはマグネチックスターラ８が設置されて
おり、分析用容器４内の液が攪拌されるようになってい
る。また、分析用容器４の底部には廃液用配管３ｃが接
続され、この配管３ｃには電磁弁Ｖ2 が介装されてい
る。
接して分析用容器４が設置されており、この分析用容器
４内にＰＨ電極５及び酸化還元電極６が設置されてい
る。分析用容器４の外部には発光部７ａ及び受光部７ｂ
からなる透過度測定器７が設置されている。分析用容器
４の底部外側にはマグネチックスターラ８が設置されて
おり、分析用容器４内の液が攪拌されるようになってい
る。また、分析用容器４の底部には廃液用配管３ｃが接
続され、この配管３ｃには電磁弁Ｖ2 が介装されてい
る。
【００１２】前記はんだめっき液分析用循環槽２からは
んだめっき液をサンプリングして分析用容器４に移すた
めにサンプリング用容器１０が設けられており、このサ
ンプリング容器１０はサンプリング機構（図示せず）に
よってはんだめっき液分析用循環槽２と分析用容器４間
を破線によって示されるように移動可能になっている。
んだめっき液をサンプリングして分析用容器４に移すた
めにサンプリング用容器１０が設けられており、このサ
ンプリング容器１０はサンプリング機構（図示せず）に
よってはんだめっき液分析用循環槽２と分析用容器４間
を破線によって示されるように移動可能になっている。
【００１３】サンプリング用容器１０にはサンプリング
用配管３ｄが接続されており、この配管３ｄにサンプリ
ングポンプＰ2 が接続されている。これによって、サン
プリング機構によりサンプリング容器１０をはんだめっ
き液分析用循環槽２内に挿入した後、サンプリングポン
プＰ2 を稼働させて所定量のはんだめっき液を吸引し、
その後サンプリング用容器１０を分析用容器４まで移動
させ、サンプリング用容器１０から分析用容器４内には
んだめっき液を移すようになっている。
用配管３ｄが接続されており、この配管３ｄにサンプリ
ングポンプＰ2 が接続されている。これによって、サン
プリング機構によりサンプリング容器１０をはんだめっ
き液分析用循環槽２内に挿入した後、サンプリングポン
プＰ2 を稼働させて所定量のはんだめっき液を吸引し、
その後サンプリング用容器１０を分析用容器４まで移動
させ、サンプリング用容器１０から分析用容器４内には
んだめっき液を移すようになっている。
【００１４】またサンプリング用容器１０は分析用容器
４の位置にきたときに、純水用配管３ｅと接続されるよ
うになっている。純水用配管３ｅにはバルブＶ3 及び純
水ポンプＰ7 が設置されるとともにその端部は純水タン
クＴ1 に接続されており、サンプリング用容器１０から
はんだめっき液を排出したのち、サンプリング用容器１
０の壁面に付着したはんだめっき液を純水によって洗浄
して取り除くようになっている。
４の位置にきたときに、純水用配管３ｅと接続されるよ
うになっている。純水用配管３ｅにはバルブＶ3 及び純
水ポンプＰ7 が設置されるとともにその端部は純水タン
クＴ1 に接続されており、サンプリング用容器１０から
はんだめっき液を排出したのち、サンプリング用容器１
０の壁面に付着したはんだめっき液を純水によって洗浄
して取り除くようになっている。
【００１５】前記分析用容器４内には吸込供給配管３ｆ
が挿入されており、この配管３ｆは三方弁Ｖ4 を介して
添加剤濃度分析部１２に接続されており、更にこの配管
３ｆは三方弁Ｖ5 を介して吸引ポンプＰ3 に接続されて
いる。なお、三方弁Ｖ5 のＮＯポートは廃液用配管３ｃ
に接続されている。前記添加剤濃度分析部１２はフロー
セル１２ａ、発光部１２ｂ及び受光部１２ｃから構成さ
れている。
が挿入されており、この配管３ｆは三方弁Ｖ4 を介して
添加剤濃度分析部１２に接続されており、更にこの配管
３ｆは三方弁Ｖ5 を介して吸引ポンプＰ3 に接続されて
いる。なお、三方弁Ｖ5 のＮＯポートは廃液用配管３ｃ
に接続されている。前記添加剤濃度分析部１２はフロー
セル１２ａ、発光部１２ｂ及び受光部１２ｃから構成さ
れている。
【００１６】また純水タンクＴ1 に隣接して洗浄用試薬
タンクＴ2 、滴定用試薬タンクＴ3及び標準液用試薬タ
ンクＴ4 がそれぞれ設置されている。なお、図１におい
ては簡略化のために各試薬タンクＴ1 〜Ｔ4 を各１個ず
つ図示したが、実際はそれぞれ複数の試薬タンクから構
成されている。試薬タンクＴ2 には試薬ポンプＰ4 が設
置された試薬用配管３ｇが挿入され、滴定用試薬タンク
Ｔ3 には滴定ポンプＰ5 が設置された滴定用配管３ｈが
挿入され、更に標準液用試薬タンクＴ4 には標準液ポン
プＰ6 が設置された標準液用配管３ｉが挿入されてい
る。
タンクＴ2 、滴定用試薬タンクＴ3及び標準液用試薬タ
ンクＴ4 がそれぞれ設置されている。なお、図１におい
ては簡略化のために各試薬タンクＴ1 〜Ｔ4 を各１個ず
つ図示したが、実際はそれぞれ複数の試薬タンクから構
成されている。試薬タンクＴ2 には試薬ポンプＰ4 が設
置された試薬用配管３ｇが挿入され、滴定用試薬タンク
Ｔ3 には滴定ポンプＰ5 が設置された滴定用配管３ｈが
挿入され、更に標準液用試薬タンクＴ4 には標準液ポン
プＰ6 が設置された標準液用配管３ｉが挿入されてい
る。
【００１７】はんだめっき液自動管理装置は、前述した
各機器（電極５，６、透過度測定器７、サンプリング機
構、ポンプＰ1 〜Ｐ7 、バルブＶ2 〜Ｖ5 及び添加剤濃
度分析部１２）を制御するとともに濃度分析で得られた
結果から各成分の補給量を演算する演算制御装置１４を
備えるとともに、分析結果及び前記演算された補給量を
表示する表示装置１５を備えている。
各機器（電極５，６、透過度測定器７、サンプリング機
構、ポンプＰ1 〜Ｐ7 、バルブＶ2 〜Ｖ5 及び添加剤濃
度分析部１２）を制御するとともに濃度分析で得られた
結果から各成分の補給量を演算する演算制御装置１４を
備えるとともに、分析結果及び前記演算された補給量を
表示する表示装置１５を備えている。
【００１８】次に上述のように構成されたはんだめっき
自動管理装置によるはんだめっき液の管理方法を説明す
る。循環用サンプリングポンプＰ1 は常時稼働してお
り、はんだめっき液ははんだめっき槽１から取り出さ
れ、はんだめっき液分析用循環槽２を循環して再びはん
だめっき槽１に戻るようになっている。まず、はんだめ
っき液分析用循環槽２内にサンプリング用容器１０を挿
入した後、サンプリングポンプＰ2 を稼働させてサンプ
リング用容器１０にはんだめっき液を所定量吸引し、次
にサンプリング機構を再び作動させて分析用容器４の位
置までもっていき、サンプリング用容器１０内のはんだ
めっき液を排出して分析用容器４に移す。この際、サン
プリング用容器１０の壁面にはんだめっき液が付着して
いるが、純水用ポンプＰ7 を稼働させるとともにバルブ
Ｖ3 を開き、配管３ｅを介して純水をサンプリング用容
器１０内に供給してサンプリング用容器１０内を洗浄
し、サンプリング用容器１０に付着したはんだめっき液
を残らず分析用容器４に移す。
自動管理装置によるはんだめっき液の管理方法を説明す
る。循環用サンプリングポンプＰ1 は常時稼働してお
り、はんだめっき液ははんだめっき槽１から取り出さ
れ、はんだめっき液分析用循環槽２を循環して再びはん
だめっき槽１に戻るようになっている。まず、はんだめ
っき液分析用循環槽２内にサンプリング用容器１０を挿
入した後、サンプリングポンプＰ2 を稼働させてサンプ
リング用容器１０にはんだめっき液を所定量吸引し、次
にサンプリング機構を再び作動させて分析用容器４の位
置までもっていき、サンプリング用容器１０内のはんだ
めっき液を排出して分析用容器４に移す。この際、サン
プリング用容器１０の壁面にはんだめっき液が付着して
いるが、純水用ポンプＰ7 を稼働させるとともにバルブ
Ｖ3 を開き、配管３ｅを介して純水をサンプリング用容
器１０内に供給してサンプリング用容器１０内を洗浄
し、サンプリング用容器１０に付着したはんだめっき液
を残らず分析用容器４に移す。
【００１９】次に、三方弁Ｖ4 を切り替えて純水ポンプ
Ｐ7 を稼働させ、純水を分岐配管３ｊ、三方弁Ｖ4 及び
配管３ｆを介して分析用容器４内に供給し、前記はんだ
めっき液を希釈して所定量の分析液を生成する。そし
て、試薬ポンプＰ4 を稼働させて、滴定用試薬を加えた
後に滴定ポンプＰ5 を稼働させて滴定を行ないＳｎ2+の
分析を行う。この際Ｓｎ2+の分析には規定ヨウ素液によ
る酸化還元滴定を使用し、終点の検出センサとして酸化
還元電極６を使用する。この滴定によりＳｎ2+の定量分
析を終了したのち分析用容器４及び電極５，６の洗浄を
行う。即ち、試薬ポンプＰ4 を稼働させて試薬タンクＴ
2 から所定の洗浄用試薬を分析用容器４内に供給した後
排水し、次に純水ポンプＰ7 を稼働させて純水を分析用
容器４に供給し純水洗浄を行った後バルブＶ2 を開けて
純水を排出する。
Ｐ7 を稼働させ、純水を分岐配管３ｊ、三方弁Ｖ4 及び
配管３ｆを介して分析用容器４内に供給し、前記はんだ
めっき液を希釈して所定量の分析液を生成する。そし
て、試薬ポンプＰ4 を稼働させて、滴定用試薬を加えた
後に滴定ポンプＰ5 を稼働させて滴定を行ないＳｎ2+の
分析を行う。この際Ｓｎ2+の分析には規定ヨウ素液によ
る酸化還元滴定を使用し、終点の検出センサとして酸化
還元電極６を使用する。この滴定によりＳｎ2+の定量分
析を終了したのち分析用容器４及び電極５，６の洗浄を
行う。即ち、試薬ポンプＰ4 を稼働させて試薬タンクＴ
2 から所定の洗浄用試薬を分析用容器４内に供給した後
排水し、次に純水ポンプＰ7 を稼働させて純水を分析用
容器４に供給し純水洗浄を行った後バルブＶ2 を開けて
純水を排出する。
【００２０】次に、再びサンプリング機構を稼働させて
サンプリング用容器１０によって新たなはんだめっき液
（所定量）のサンプリングを行い分析用容器４に移す。
このサンプリングの詳細は前述と同様に行われるため省
略する。そして純水ポンプＰ7 を稼働させて純水を分析
用容器４に供給し、はんだめっき液を希釈して所定量の
分析液を生成する。次に、滴定ポンプＰ5 を稼働させて
滴定を行い遊離酸の定量分析を行う。この際、遊離酸の
分析には規定水酸化ナトリウム液による中和滴定を使用
し、終点の検出センサとしてＰＨ電極５を使用する。
サンプリング用容器１０によって新たなはんだめっき液
（所定量）のサンプリングを行い分析用容器４に移す。
このサンプリングの詳細は前述と同様に行われるため省
略する。そして純水ポンプＰ7 を稼働させて純水を分析
用容器４に供給し、はんだめっき液を希釈して所定量の
分析液を生成する。次に、滴定ポンプＰ5 を稼働させて
滴定を行い遊離酸の定量分析を行う。この際、遊離酸の
分析には規定水酸化ナトリウム液による中和滴定を使用
し、終点の検出センサとしてＰＨ電極５を使用する。
【００２１】この滴定により遊離酸の分析を終了したの
ち、分析用容器４及び電極５，６の洗浄を行う。即ち試
薬ポンプＰ4 を稼働させて試薬タンクＴ2 から所定の洗
浄用試薬を分析用容器４に供給した後排水し、次に純水
ポンプＰ7 を使用して純水洗浄を行う。
ち、分析用容器４及び電極５，６の洗浄を行う。即ち試
薬ポンプＰ4 を稼働させて試薬タンクＴ2 から所定の洗
浄用試薬を分析用容器４に供給した後排水し、次に純水
ポンプＰ7 を使用して純水洗浄を行う。
【００２２】上記の工程を経て遊離酸の分析が終了した
ら、再びサンプリング機構を稼働させて分析用容器４に
よってはんだめっき液分析用循環槽２から所定量のはん
だめっき液をサンプリングし分析用容器４に移す。そし
て純水ポンプＰ7 を稼働させて純水を分析用容器４に供
給し、はんだめっき液を希釈して所定量の分析液を生成
する。次に、試薬ポンプＰ4 を稼働させて滴定用試薬を
加えた後に滴定ポンプＰ5 を稼働させて滴定を行いＰｂ
2+の定量分析を行う。この際、Ｐｂ2+の分析には規定Ｅ
ＤＴＡ液によるキレート光度滴定を使用し終点の検出セ
ンサとして特定波長域の透過度測定器７を使用する。こ
の滴定が終了したのち、試薬ポンプＰ4を稼働させて洗
浄用試薬の供給を行い排水した後、純水ポンプＰ7 を稼
働させて純水洗浄を行う。
ら、再びサンプリング機構を稼働させて分析用容器４に
よってはんだめっき液分析用循環槽２から所定量のはん
だめっき液をサンプリングし分析用容器４に移す。そし
て純水ポンプＰ7 を稼働させて純水を分析用容器４に供
給し、はんだめっき液を希釈して所定量の分析液を生成
する。次に、試薬ポンプＰ4 を稼働させて滴定用試薬を
加えた後に滴定ポンプＰ5 を稼働させて滴定を行いＰｂ
2+の定量分析を行う。この際、Ｐｂ2+の分析には規定Ｅ
ＤＴＡ液によるキレート光度滴定を使用し終点の検出セ
ンサとして特定波長域の透過度測定器７を使用する。こ
の滴定が終了したのち、試薬ポンプＰ4を稼働させて洗
浄用試薬の供給を行い排水した後、純水ポンプＰ7 を稼
働させて純水洗浄を行う。
【００２３】以上の工程を経て、１つの分析用容器４で
Ｓｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の分析を行った後に、添加剤濃
度の分析を行う。この添加剤分析工程は、まず純水ポン
プＰ7 を稼働させて配管３ｊ、三方弁Ｖ 4 及び配管３ｆ
を介して所定量の純水を分析用容器４に入れ、排水した
後、再び純水ポンプＰ7 を稼働させて所定量の純水を分
析用容器４に入れる。そして、吸引ポンプＰ3 を稼働さ
せて純水を添加剤濃度分析部１２のフローセル１２ａに
導き、発光部１２ｂ及び受光部１２ｃによって吸光度を
測定し、この純水の吸光度を零点とする。この純水を排
水した後、サンプリング機構を稼働させてサンプリング
用容器１０により所定量のはんだめっき液をサンプリン
グして分析用容器４に移す。そして、純水ポンプＰ7 を
稼働させて純水を分析用容器４に供給し、はんだめっき
液を希釈して所定量の分析液を生成する。
Ｓｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の分析を行った後に、添加剤濃
度の分析を行う。この添加剤分析工程は、まず純水ポン
プＰ7 を稼働させて配管３ｊ、三方弁Ｖ 4 及び配管３ｆ
を介して所定量の純水を分析用容器４に入れ、排水した
後、再び純水ポンプＰ7 を稼働させて所定量の純水を分
析用容器４に入れる。そして、吸引ポンプＰ3 を稼働さ
せて純水を添加剤濃度分析部１２のフローセル１２ａに
導き、発光部１２ｂ及び受光部１２ｃによって吸光度を
測定し、この純水の吸光度を零点とする。この純水を排
水した後、サンプリング機構を稼働させてサンプリング
用容器１０により所定量のはんだめっき液をサンプリン
グして分析用容器４に移す。そして、純水ポンプＰ7 を
稼働させて純水を分析用容器４に供給し、はんだめっき
液を希釈して所定量の分析液を生成する。
【００２４】次に、吸引用ポンプＰ3 を稼働して分析液
を添加剤濃度分析部１２のフローセル１２ａに導き、発
光部１２ｂ及び受光部１２ｃによって吸光度を測定した
後、分析液を分析用容器４及び添加剤濃度分析部１２か
ら廃液する。そして純水ポンプＰ7 から純水を供給して
分析用容器４及び電極５，６及び添加剤濃度分析部１２
を洗浄する。この後、塩酸及び純水によって前記分析用
容器４等の洗浄を行う。
を添加剤濃度分析部１２のフローセル１２ａに導き、発
光部１２ｂ及び受光部１２ｃによって吸光度を測定した
後、分析液を分析用容器４及び添加剤濃度分析部１２か
ら廃液する。そして純水ポンプＰ7 から純水を供給して
分析用容器４及び電極５，６及び添加剤濃度分析部１２
を洗浄する。この後、塩酸及び純水によって前記分析用
容器４等の洗浄を行う。
【００２５】前述の方法によって得られた分析結果に基
づいて演算制御装置１４は各成分の補給量を演算すると
ともに積算補給量を演算する。また、前記各値は表示装
置１５に表示される。そして、演算された補給量に基づ
いて、補給槽１６に設置された補給ポンプＰ8 を制御
し、不足成分をはんだめっき槽１に補充する。また、演
算制御装置１４は前記分析結果、補給量及び演算補給量
を外部コンピュータ１７に送信する。
づいて演算制御装置１４は各成分の補給量を演算すると
ともに積算補給量を演算する。また、前記各値は表示装
置１５に表示される。そして、演算された補給量に基づ
いて、補給槽１６に設置された補給ポンプＰ8 を制御
し、不足成分をはんだめっき槽１に補充する。また、演
算制御装置１４は前記分析結果、補給量及び演算補給量
を外部コンピュータ１７に送信する。
【００２６】前述した分析工程を所定回数繰り返した
後、分析用容器４、分析用容器４内の電極５，６及び添
加剤濃度分析部１２に付着した分析生成物を除去するた
めに薬液洗浄による洗浄工程を行う。この洗浄工程は、
試薬ポンプＰ4 を稼働させて試薬タンクＴ2 から各洗浄
箇所に洗浄用試薬を供給し、所定時間（例えば６０分）
浸漬した後、排液し、純水ポンプＰ7 を稼働させて純水
洗浄を複数回繰り返す。
後、分析用容器４、分析用容器４内の電極５，６及び添
加剤濃度分析部１２に付着した分析生成物を除去するた
めに薬液洗浄による洗浄工程を行う。この洗浄工程は、
試薬ポンプＰ4 を稼働させて試薬タンクＴ2 から各洗浄
箇所に洗浄用試薬を供給し、所定時間（例えば６０分）
浸漬した後、排液し、純水ポンプＰ7 を稼働させて純水
洗浄を複数回繰り返す。
【００２７】上述したＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+、添加剤
濃度の分析を所定回数繰り返すと、ＰＨ校正及び／又は
添加剤校正が必要になってくるが、本装置はＰＨ校正及
び添加剤校正も可能になっている。次に、このＰＨ校正
及び添加剤校正を説明する。まず分析用容器４内に残留
している液を排水した後、標準液ポンプＰ6 を稼働させ
ることによって所定量のＰＨ７標準液を分析用容器４に
入れる。次に、この液を廃液し、再び所定量のＰＨ７標
準液を分析用容器４に入れ、ＰＨの測定を行いＰＨ７の
校正を終了する。
濃度の分析を所定回数繰り返すと、ＰＨ校正及び／又は
添加剤校正が必要になってくるが、本装置はＰＨ校正及
び添加剤校正も可能になっている。次に、このＰＨ校正
及び添加剤校正を説明する。まず分析用容器４内に残留
している液を排水した後、標準液ポンプＰ6 を稼働させ
ることによって所定量のＰＨ７標準液を分析用容器４に
入れる。次に、この液を廃液し、再び所定量のＰＨ７標
準液を分析用容器４に入れ、ＰＨの測定を行いＰＨ７の
校正を終了する。
【００２８】廃液したのち純水洗浄を行い、今度は所定
量のＰＨ４標準液を分析用容器４に入れる。そして廃液
した後、所定量のＰＨ４標準液を再び分析用容器４に入
れ、ＰＨの測定を行いＰＨ校正を終了する。最後に前記
液を廃液した後、純水洗浄を行う。
量のＰＨ４標準液を分析用容器４に入れる。そして廃液
した後、所定量のＰＨ４標準液を再び分析用容器４に入
れ、ＰＨの測定を行いＰＨ校正を終了する。最後に前記
液を廃液した後、純水洗浄を行う。
【００２９】一方、添加剤校正工程は、純水ポンプＰ7
を稼働させて分析用容器に所定量の純水を入れ、排水し
たのち再び所定量の純水を分析用容器４に入れた後、吸
引ポンプＰ3 を稼働させることによって純水を添加剤濃
度分析部１２に導く。そして、純水の吸光度を測定した
後、排水し、今度は所定量の標準液を標準液ポンプＰ6
を稼働させて分析用容器４に入れる。そして純水ポンプ
Ｐ7 を稼働させて純水を分析用容器４に供給し前記標準
液を希釈して所定量の液を生成する。そして、この液を
添加剤濃度分析部１２に導き吸光度測定を行い検量線の
作成を行う。最後に前記液を廃液した後に試薬ポンプＰ
4 を稼働して所定量の洗浄用試薬を添加剤濃度分析部１
２に導き、廃液したのち純水ポンプＰ7 を稼働させて純
水洗浄を行う。
を稼働させて分析用容器に所定量の純水を入れ、排水し
たのち再び所定量の純水を分析用容器４に入れた後、吸
引ポンプＰ3 を稼働させることによって純水を添加剤濃
度分析部１２に導く。そして、純水の吸光度を測定した
後、排水し、今度は所定量の標準液を標準液ポンプＰ6
を稼働させて分析用容器４に入れる。そして純水ポンプ
Ｐ7 を稼働させて純水を分析用容器４に供給し前記標準
液を希釈して所定量の液を生成する。そして、この液を
添加剤濃度分析部１２に導き吸光度測定を行い検量線の
作成を行う。最後に前記液を廃液した後に試薬ポンプＰ
4 を稼働して所定量の洗浄用試薬を添加剤濃度分析部１
２に導き、廃液したのち純水ポンプＰ7 を稼働させて純
水洗浄を行う。
【００３０】以上説明した実施例においては、Ｓｎ2+、
遊離酸、Ｐｂ2+、添加剤濃度の順序ではんだめっき液の
分析を行う例を説明したが、この順序に限定されること
なく各組成濃度を分析することができる。また、本発明
を有機スルホン酸浴に適用する実施例を説明したが、本
発明はほうふつ酸浴にも勿論適用可能である。
遊離酸、Ｐｂ2+、添加剤濃度の順序ではんだめっき液の
分析を行う例を説明したが、この順序に限定されること
なく各組成濃度を分析することができる。また、本発明
を有機スルホン酸浴に適用する実施例を説明したが、本
発明はほうふつ酸浴にも勿論適用可能である。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、は
んだめっき工程中のはんだめっき液をサンプリングして
分析用容器に移し、所定の成分について定量分析をし、
分析後に洗浄を行うことを順次繰り返すことにより、一
つの分析用容器でＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の分析を行う
ことが出来るとともに添加剤濃度分析部で添加剤濃度を
分析することができる。そして、これら分析結果に基づ
いて各成分の補給量を自動的に求めることができる。従
って、本発明によれば、有機スルホン酸浴からなるはん
だめっき浴のすべての成分を自動的に管理することがで
きる。
んだめっき工程中のはんだめっき液をサンプリングして
分析用容器に移し、所定の成分について定量分析をし、
分析後に洗浄を行うことを順次繰り返すことにより、一
つの分析用容器でＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の分析を行う
ことが出来るとともに添加剤濃度分析部で添加剤濃度を
分析することができる。そして、これら分析結果に基づ
いて各成分の補給量を自動的に求めることができる。従
って、本発明によれば、有機スルホン酸浴からなるはん
だめっき浴のすべての成分を自動的に管理することがで
きる。
【００３２】また、本発明の一態様によれば、前記演算
された補給量により、補給槽に設置された補給ポンプを
制御し、はんだめっき槽に不足成分を自動的に補給する
ことができる。
された補給量により、補給槽に設置された補給ポンプを
制御し、はんだめっき槽に不足成分を自動的に補給する
ことができる。
【図１】本発明に係るはんだめっき液自動管理装置の一
実施例を示す説明図である。
実施例を示す説明図である。
１ はんだめっき槽 ２ はんだめっき液分析循環槽 ３ 配管 ４ 分析用容器 ５ ＰＨ電極 ６ 酸化還元電極 ７ 透過度測定器 ８ マグネチックスターラ １０ サンプリング用容器 １２ 添加剤濃度分析部 １４ 演算制御装置 １５ 表示装置 １６ 補給槽 １７ 外部コンピュータ
Claims (3)
- 【請求項１】 はんだめっき工程中のはんだめっき槽か
らはんだめっき液を常時取り出すとともにこれをはんだ
めっき液槽に戻すようにしたはんだめっき液分析用循環
槽と、はんだめっき液中のＳｎ2+、遊離酸、Ｐｂ2+の濃
度を分析できるようにした１つの分析用容器と、前記分
析用容器内に設置された電極と、添加剤濃度を分析でき
るようにした添加剤濃度分析部と、前記はんだめっき液
分析用循環槽からはんだめっき液を前記分析用容器にサ
ンプリングするサンプリング機構と、前記各濃度分析に
必要な各種試薬を前記分析用容器に供給する試薬供給部
と、前記各濃度分析を行う工程の間に前記分析用容器、
電極及び添加剤濃度分析部を洗浄する洗浄液供給部と、
前記各機器部を制御するとともに前記濃度分析で得られ
た結果から各成分の補給量を演算する演算制御装置と、
前記分析結果及び前記補給量を表示する表示装置とを備
えたことを特徴とするはんだめっき液自動管理装置。 - 【請求項２】 前記演算制御装置は、前記分析結果、前
記補給量及び積算補給量を外部コンピュータに送信する
機能をさらに備えることを特徴とする請求項１記載のは
んだめっき液自動管理装置。 - 【請求項３】 前記演算制御装置は、前記演算された補
給量に基づいて補給槽に設置された補給ポンプを制御す
ることを特徴とする請求項１記載のはんだめっき液自動
管理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08002193A JP3213113B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | はんだめっき液自動管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08002193A JP3213113B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | はんだめっき液自動管理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06264251A true JPH06264251A (ja) | 1994-09-20 |
| JP3213113B2 JP3213113B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=13706641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08002193A Expired - Fee Related JP3213113B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | はんだめっき液自動管理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3213113B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6929722B2 (en) | 1997-09-17 | 2005-08-16 | Ebara Corporation | Substrate plating apparatus |
| JP2008032719A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Applied Materials Inc | 集積化学計測としてのラマン分光法 |
| JP2013237894A (ja) * | 2012-05-15 | 2013-11-28 | Ebara Corp | めっき装置及びめっき液管理方法 |
| JP2021116756A (ja) * | 2020-01-27 | 2021-08-10 | いすゞ自動車株式会社 | 冷却水交換案内装置及び冷却水交換案内方法 |
-
1993
- 1993-03-15 JP JP08002193A patent/JP3213113B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6929722B2 (en) | 1997-09-17 | 2005-08-16 | Ebara Corporation | Substrate plating apparatus |
| JP2008032719A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Applied Materials Inc | 集積化学計測としてのラマン分光法 |
| JP2013237894A (ja) * | 2012-05-15 | 2013-11-28 | Ebara Corp | めっき装置及びめっき液管理方法 |
| JP2021116756A (ja) * | 2020-01-27 | 2021-08-10 | いすゞ自動車株式会社 | 冷却水交換案内装置及び冷却水交換案内方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3213113B2 (ja) | 2001-10-02 |
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