WO2019227952A1 - 显影控制系统及显影控制方法 - Google Patents
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Definitions
- the uniformity of CDs is mainly improved by improving the uniformity of illuminance, chuck flatness, and focal length of the exposure machine during the exposure process.
- TMAH Tetramethylammonium Hydroxide
- the developer TMAH is generally returned to the development tank for recycling and reuse.
- the TMAH concentration is adjusted to 2.38%, but during development, There will still be significant differences in developing ability during the process, which will affect the CD and the picture quality of the display panel.
- a development control system including:
- a control device provided between the first pipe and the developing tank and between the second pipe and the developing tank, and controlling the transfer of the developing raw liquid and the developing circulating liquid to the developing tank;
- a development control system including:
- a first pipe connected to a developing tank for transferring a developing stock solution to the developing tank
- a control device provided between the first pipe and the developing tank and between the second pipe and the developing tank, and controlling the transfer of the developing raw liquid and the developing circulating liquid to the developing tank;
- the control device controls the developing circulating liquid to be transmitted to the developing tank through a second pipe, and the developing original liquid and the developing circulating liquid constitute a developing liquid;
- FIG. 1 is a schematic structural diagram of a first embodiment of a developing control system according to the present invention.
- FIG. 4 is a schematic flowchart of a developing control method according to the present invention.
- FIG. 5a to FIG. 5b are fitting schematic diagrams of the function relationship between the photoresist content in the developer and the standard deviation of the CD.
- FIG. 1 is a schematic structural diagram of a first embodiment of a development control system according to the present invention.
- the development control system includes:
- the first pipe 10 is connected to the developing tank 30 and is used for transmitting the developing stock solution to the developing tank 30;
- the developing tank 30 is used for containing a developing solution composed of the developing stock solution and the developing circulating solution;
- a control device 40 is provided between the first pipe 10 and the developing tank 30 and between the second pipe 20 and the developing tank 30, and controls the transfer of the developing raw liquid and the developing circulating liquid to all Mentioned developing tank 30;
- a first adjusting device 50 is connected to the developing tank 30 and the control device 40.
- the control device 40 controls the first adjusting device 50 to transmit a first adjusting solution to the developing tank 30 through a third pipe 60.
- the developing solution is a tetramethylammonium hydroxide (TMAH) solution, and the concentration of the developing solution is controlled by detecting an alkali concentration in the developing solution.
- TMAH tetramethylammonium hydroxide
- the developing solution in the developing tank 30 does not need to be controlled by the control unit 43 to control the alkali concentration, and may be directly used for development.
- the first adjustment device 50 is a photoresist adjustment unit, and the first adjustment solution is a photoresist solution.
- FIG. 2 is a schematic structural diagram of a second embodiment of a developing control system of the present invention.
- the difference between the second embodiment of the developing control system and the first embodiment is that:
- the control device 40 further includes a second detection unit 42 for detecting the photoresist concentration value of the developing solution in the developing tank 30 and sending the detected photoresist concentration value.
- the control unit 43 compares the received photoresist concentration value with a preset value of the photoresist concentration, and when the received photoresist concentration is less than the preset value of the photoresist concentration, the The control unit 43 controls the photoresist adjustment unit to transmit a photoresist solution to the developing tank 30. When the received photoresist concentration is greater than the preset value of the photoresist concentration, the control unit 43 controls the developing circulation liquid Conveying to the developing tank 30.
- the developing solution in the developing tank 30 does not need to be controlled by the control unit 43 to control the photoresist concentration, and can be directly used for development.
- the developing control system further includes a second adjusting device 70, which is connected to the developing tank 30 and the control device 40.
- the control device 40 controls the second adjusting device 70 to the developing device through a fourth pipe 80.
- the developing tank 30 transmits a second conditioning solution.
- the second adjusting device 70 is a developing circulating liquid adjusting unit, and the second adjusting solution is a developing circulating liquid.
- the control unit controls 43.
- the second adjusting device 70 transmits a developing circulating liquid to the developing tank 30.
- the concentration of the developing solution is 25%, and the concentration of the developing solution is 2.38 ⁇ 0.01%.
- FIG. 3 is a schematic structural diagram of a third embodiment of a developing control system of the present invention.
- the difference between the third embodiment of the development control system and the second embodiment is that:
- the developing control system further includes a developing circulating liquid collecting device 90 provided above the developing tank, and the developing circulating liquid collecting device 90 is connected to the developing tank 30 through a fifth pipe 100 to circulate the developing circulating liquid. Perform the cycle.
- the developing control system further includes a sixth pipe 110 provided on the developing tank 30, and the sixth pipe 110 is connected to the developing tank 30 itself through a pressure pump 113 and a first control valve 111 for developing the The developing solution in the tank 30 is circulated and mixed; the sixth pipe 110 is connected to the developing circulating liquid collection device 90 through a pressure pump 113 and a second control control valve 112 for cleaning the developing circulating liquid collecting device 90. .
- FIG. 4 is a schematic flowchart of a development control method of the present invention.
- the steps of the development control method of the present invention include:
- Step S1 The control device 40 controls the developing stock solution to be transferred to the developing tank 30 through the first pipe 10.
- the concentration of the developing stock solution is 25%.
- Step S2 The control device 40 controls the developing circulating liquid to be transmitted to the developing tank 30 through the second pipe 20, and the developing original liquid and the developing circulating liquid constitute a developing liquid.
- control device 40 adjusts the concentration of the developing solution and the developing circulating solution to form a developing solution by controlling the addition amounts of the developing original solution and the developing circulating solution to be 2.38 ⁇ 0.01%;
- the developing circulation liquid is a developing liquid that is recovered and removed after the developing solution is developed to remove the photoresist.
- the developed photoresist in the developing circulation liquid causes light in the developing circulation liquid.
- the resistance concentration is large, and the concentration of the developing circulation liquid is less than 2.38 ⁇ 0.01%.
- the developing solution is a tetramethylammonium hydroxide (TMAH) solution, and the concentration of the developing solution is controlled by detecting an alkali concentration in the developing solution.
- TMAH tetramethylammonium hydroxide
- the control device 40 includes a control unit 43 and a first detection unit 41.
- the first detection unit 41 is configured to detect an alkali concentration value of the developing solution in the developing tank 30 and to detect the alkali concentration.
- the concentration value is sent to the control unit 43.
- the control unit 43 controls the developing solution concentration by using an alkali concentration value.
- the control unit 43 compares the received alkali concentration value with a preset alkali concentration value. When the alkali concentration is lower than the alkali concentration preset value, the control unit 43 controls the first pipe 10 to transmit the developing stock solution to the developing tank 30, and when the received alkali concentration is greater than the alkali concentration preset When the value is the same, the control unit 43 controls the transfer of the developing circulating liquid to the developing tank 30.
- the developing solution in the developing tank 30 does not need to be controlled by the control unit 43 to control the alkali concentration, and may be directly used for development.
- Step S3 The control device 40 controls the first adjustment device 50 to transmit the first adjustment solution to the developing tank 30 through the third pipe 60.
- the first adjustment device 50 is a photoresist adjustment unit, and the first adjustment solution is a photoresist solution.
- control device 40 further includes a second detection unit 42 for detecting the photoresist concentration value of the developing solution in the developing tank 30 and detecting the photoresist concentration
- the value is sent to the control unit 43.
- the control unit 43 compares the received photoresist concentration value with a preset value of the photoresist concentration, and when the received photoresist concentration is less than the preset value of the photoresist concentration, The control unit 43 controls the photoresist adjustment unit to transmit a photoresist solution to the developing tank 30. When the received photoresist concentration is greater than the preset value of the photoresist concentration, the control unit 43 controls the development The circulating liquid is transferred to the developing tank 30.
- the developing solution in the developing tank 30 does not need to be controlled by the control unit 43 to control the photoresist concentration, and can be directly used for development.
- the developing control system further includes a second adjusting device 70, which is connected to the developing tank 30 and the control device 40.
- the control device 40 controls the second adjusting device 70 to the developing device through a fourth pipe 80.
- the developing tank 30 transmits a second conditioning solution.
- the second adjusting device 70 is a developing circulating liquid adjusting unit, and the second adjusting solution is a developing circulating liquid.
- the control unit controls 43.
- the second adjusting device 70 transmits a developing circulating liquid to the developing tank 30.
- FIG. 5a to FIG. 5b are fitting schematic diagrams of the function relationship of the photoresist content (measured in absorptiometry, unit Abs) to the standard deviation of the standard deviation (STD) in the developer solution, which is obtained through long-term mass production data analysis,
- Figure 5a is a linear fitting schematic diagram of the photoresist content in the developing solution to the standard deviation of the CD. It can be seen that when the photoresist content in the developing solution is between 0.15Abs and 0.21Abs, the corresponding standard deviation of CD ranges from 0 to 0.075; Schematic diagram of quadratic fitting of the photoresist content in the liquid to the standard deviation of the CD.
- the most stable photoresist content control target value is 0.094 Abs.
- a photoresist adjustment unit is added, and the control device controls the photoresist adjustment unit to transmit a photoresist solution to the storage tank according to the photoresist concentration value of the developer in the developing tank detected by the photoresist concentration detector.
- the content of the resist is maintained to maintain the above binomial fitting equation, thereby controlling the developing ability of the developer, and controlling the CD by controlling the developing ability of the developer, that is, by controlling the stability of the photoresist concentration / content to achieve the uniformity of CD.
- the overall production stability of the product's CD STD can be effectively improved by ⁇ 40%.
- the normal product CD card control specification is ⁇ 1.2 um
- the above-mentioned 49 ”display panel source and drain pattern CD specifications become 2.35 ⁇ 2.8um ( ⁇ 0.225um), compared with the original CD card control
- the specifications have shrunk by 81.3% and can be mass-produced effectively.
- a photoresist adjustment unit is added to the development control system to transmit a photoresist solution
- a development circulation liquid adjustment unit is added to transmit a development circulation liquid
- the photoresist adjustment unit and the developer are circulated by a control device
- the unit is controlled to stabilize the photoresist concentration, thereby achieving the uniformity of the CD and improving the picture quality of the display panel.
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Abstract
一种显影控制系统，显影控制系统包括：第一与第二管道（10，20），分别连接显影槽（30）；显影槽（30）容纳显影液；控制装置（40），设置于第一管道（10）与显影槽（30）间及第二管道（20）与显影槽（30）间，控制显影原液与显影循环液传输至显影槽（30）；第一调节装置（50），与显影槽（30）和控制装置（40）连接，控制装置（40）控制第一调节装置（50）通过第三管道（60）向显影槽（30）传输第一调节溶液，通过该方法，控制显影液的显影能力，实现CD的均一性，以提高画质。
Description
本发明涉及显示面板制造技术领域，特别是涉及一种显影控制系统及显影控制方法。
在TFT-LCD显示面板制造行业中，显示面板的制作工艺是制造高质量显示面板的一个重要部分。显示面板的制作包括：清洗、成膜、涂布、曝光、显影等。其中，基板的显影是显示面板制作中的重要流程。
随着TFT-LCD显示面板要求的画质越来越高，TFT的CD（Critical
Dimention，特征线宽）均一性就越来越重要。理论上，CD均一性越小，显示面板的画质越好。目前主要是通过提高曝光过程中曝光机的照度均匀性、夹盘平面角度（chuck flatness）以及焦距来提升CD的均一性，但以现有曝光机的能力，很难使CD 的批次间差异获得有效的控制，并且实际生产中为节省后续显影过程中显影液TMAH（Tetramethylammonium Hydroxide ）的用量，一般会将显影液TMAH回流到显影槽内循环重复使用，调整TMAH浓度在 2.38%，但在显影过程中仍然会有显著的显影能力差异，进而影响 CD，影响显示面板的画质。
一般会将显影液TMAH回流到显影槽内循环重复使用，调整TMAH浓度在 2.38%，但在显影过程中仍然会有显著的显影能力差异，进而影响 CD，影响显示面板的画质。
本发明主要解决的技术问题是提供一种显影控制系统及显影控制方法实现CD的均一性，以提高画质。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：
提供一种显影控制系统，包括：
第一管道，连接显影槽，用于传输显影原液至所述显影槽；
第二管道，连接所述显影槽，用于传输显影循环液至所述显影槽；
所述显影槽，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；
控制装置，设置于所述第一管道与所述显影槽之间以及所述第二管道与所述显影槽之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽；
第一调节装置，与所述显影槽和所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液；
所述显影液为四甲基氢氧化铵溶液，通过检测所述显影液中的碱浓度来控制所述显影液浓度。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：
提供一种显影控制系统，包括：
第一管道，连接显影槽，用于传输显影原液至所述显影槽；
第二管道，连接所述显影槽，用于传输显影循环液至所述显影槽；
所述显影槽，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；
控制装置，设置于所述第一管道与所述显影槽之间以及所述第二管道与所述显影槽之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽；
第一调节装置，与所述显影槽和所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：
提供一种显影控制方法，包括：
控制装置控制显影原液通过第一管道传输至显影槽；
所述控制装置控制显影循环液通过第二管道传输至所述显影槽，所述显影原液及所述显影循环液构成显影液；
所述控制装置控制第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过一种显影控制系统，包括：第一管道，连接显影槽，用于传输显影原液至所述显影槽；第二管道，连接所述显影槽，用于传输显影循环液至所述显影槽；所述显影槽，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；控制装置，设置于所述第一管道与所述显影槽之间以及所述第二管道与所述显影槽之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽；第一调节装置，与所述显影槽和所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液，以控制所述显影液的显影能力差异，控制CD的均一性，进而提高显示面板的画质。
图1是本发明显影控制系统实施例一的结构示意图；
图2是本发明显影控制系统实施例二的结构示意图；
图3是本发明显影控制系统实施例三的结构示意图；
图4是本发明显影控制方法流程示意图；
图5a~图5b是显影液中光阻含量对CD标准差的函数关系拟合示意图。
下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明。
请参阅图1，是本发明显影控制系统实施例一的结构示意图，所述显影控制系统包括：
第一管道10，连接显影槽30，用于传输显影原液至所述显影槽30；
第二管道20，连接所述显影槽30，用于传输显影循环液至所述显影槽30；
所述显影槽30，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；
控制装置40，设置于所述第一管道10与所述显影槽30之间以及所述第二管道20与所述显影槽30之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽30；
第一调节装置50，与所述显影槽30和所述控制装置40连接，所述控制装置40控制所述第一调节装置50通过第三管道60向所述显影槽30传输第一调节溶液。
在本实施例中，所述显影液为四甲基氢氧化铵（TMAH）溶液，通过检测所述显影液中的碱浓度来控制所述显影液浓度。
其中，所述控制装置40包括控制单元43及第一侦测单元41，所述第一侦测单元41用于侦测所述显影槽30内显影液的碱浓度值并将侦测到的碱浓度值发送给所述控制单元43，所述控制单元43通过碱浓度值控制所述显影液浓度，所述控制单元43将接收到的碱浓度值与碱浓度预设值进行比较，在接收到的碱浓度小于所述碱浓度预设值时，所述控制单元43控制所述第一管道10传输所述显影原液至所述显影槽30，在接收到的碱浓度大于所述碱浓度预设值时，所述控制单元43控制所述显影循环液传输至所述显影槽30。
在接收到的碱浓度等于所述碱浓度预设值时，所述显影槽30内显影液无需经过所述控制单元43控制所述碱浓度，可直接用于显影。
其中，所述第一调节装置50为光阻调节单元，所述第一调节溶液为光阻溶液。
请参阅图2，是本发明显影控制系统实施例二的结构示意图。所述显影控制系统实施例二与上述实施例一的区别之处在于：
所述控制装置40还包括第二侦测单元42，所述第二侦测单元42用于侦测所述显影槽30内显影液的光阻浓度值并将侦测到的光阻浓度值发送给所述控制单元43，所述控制单元43将接收到的光阻浓度值与光阻浓度预设值进行比较，在接收到的光阻浓度小于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元43控制所述光阻调节单元传输光阻溶液至所述显影槽30，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元43控制所述显影循环液传输至所述显影槽30。
在接收到的光阻浓度等于所述光阻浓度预设值时，所述显影槽30内显影液无需经过所述控制单元43控制所述光阻浓度，可直接用于显影。
其中，所述显影控制系统还包括第二调节装置70，与所述显影槽30及所述控制装置40连接，所述控制装置40控制所述第二调节装置70通过第四管道80向所述显影槽30传输第二调节溶液。
其中，所述第二调节装置70为显影循环液调节单元，所述第二调节溶液为显影循环液，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制43所述第二调节装置70传输显影循环液至所述显影槽30。
其中，所述显影原液浓度为25%，所述显影液的浓度为2.38±0.01%。
请参阅图3，是本发明显影控制系统实施例三的结构示意图。所述显影控制系统实施三与上述实施例二的区别之处在于：
所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽上方的显影循环液收集装置90，所述显影循环液收集装置90通过第五管道100与所述显影槽30连接，以对所述显影循环液进行循环。
其中，所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽30上的第六管道110，所述第六管道110通过压力泵113及第一控制阀111连接所述显影槽30自身，以对显影槽30内的显影液进行循环混液；所述第六管道110通过压力泵113及第二控控制阀112连接所述显影循环液收集装置90，用于对所述显影循环液收集装置90进行清洗。
请参阅图4，是本发明显影控制方法的流程示意图，结合图2，本发明显影控制方法的步骤包括：
步骤S1：控制装置40控制显影原液通过第一管道10传输至显影槽30。
其中，所述显影原液的浓度为25%。
步骤S2：所述控制装置40控制显影循环液通过第二管道20传输至所述显影槽30，所述显影原液及所述显影循环液构成显影液。
其中，所述控制装置40通过控制所述显影原液和所述显影循环液的添加量以调节所述显影原液及所述显影循环液构成显影液的浓度为2.38±0.01%；
其中，所述显影循环液为所述显影液对光阻进行显影去除后再回收利用的显影液，在回收过程中所述显影循环液中被显影的光阻导致所述显影循环液中的光阻浓度较大，所述显影循环液的浓度小于2.38±0.01%。
在本实施例中，所述显影液为四甲基氢氧化铵（TMAH）溶液，通过检测所述显影液中的碱浓度来控制所述显影液浓度。
其中，所述控制装置40包括控制单元43及第一侦测单元41，所述第一侦测单元41用于侦测所述显影槽30内显影液的碱浓度值并将侦测到的碱浓度值发送给所述控制单元43，所述控制单元43通过碱浓度值控制所述显影液浓度，所述控制单元43将接收到的碱浓度值与碱浓度预设值进行比较，在接收到的碱浓度小于所述碱浓度预设值时，所述控制单元43控制所述第一管道10传输所述显影原液至所述显影槽30，在接收到的碱浓度大于所述碱浓度预设值时，所述控制单元43控制所述显影循环液传输至所述显影槽30。
在接收到的碱浓度等于所述碱浓度预设值时，所述显影槽30内显影液无需经过所述控制单元43控制所述碱浓度，可直接用于显影。
步骤S3：所述控制装置40控制第一调节装置50通过第三管道60向所述显影槽30传输第一调节溶液。
其中，所述第一调节装置50为光阻调节单元，所述第一调节溶液为光阻溶液。
其中，所述控制装置40还包括第二侦测单元42，所述第二侦测单元42用于侦测所述显影槽30内显影液的光阻浓度值并将侦测到的光阻浓度值发送给所述控制单元43，所述控制单元43将接收到的光阻浓度值与光阻浓度预设值进行比较，在接收到的光阻浓度小于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元43控制所述光阻调节单元传输光阻溶液至所述显影槽30，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元43控制所述显影循环液传输至所述显影槽30。
在接收到的光阻浓度等于所述光阻浓度预设值时，所述显影槽30内显影液无需经过所述控制单元43控制所述光阻浓度，可直接用于显影。
其中，所述显影控制系统还包括第二调节装置70，与所述显影槽30及所述控制装置40连接，所述控制装置40控制所述第二调节装置70通过第四管道80向所述显影槽30传输第二调节溶液。
其中，所述第二调节装置70为显影循环液调节单元，所述第二调节溶液为显影循环液，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制43所述第二调节装置70传输显影循环液至所述显影槽30。
请参阅图5a~图5b，是显影液中光阻含量(以吸亮度计量测，单位 Abs)对CD标准差(STD)的函数关系拟合示意图，经长期量产数据分析得出，其中，图5a为显影液中光阻含量对CD标准差的线性拟合示意图，可知显影液中光阻含量在0.15Abs~0.21Abs之间时对应CD标准差的范围在0~0.075；图5b为显影液中光阻含量对CD标准差的二次拟合示意图，可知显影液中光阻含量在0.05Abs~0.12Abs之间时对应CD标准差的范围在0~0.05；在二次拟合后，调整R方0.99，方程整体显着性检验（方差分析）P-value<0.05，表明该模型整体显着有效；单个因子的显着性检验 P-value<0.05，表明截距显着，显影液中不同光阻浓度（Diff PR conc.）对STD也有显着影响。
二项式拟合方程为：
STD = 0.0440134
- 0.2407203 * Diff PR conc. 条件 + 13.048023 *
(Diff PR conc. 条件 - 0.0825) ^ 2
得出最稳定光阻含量控制目标值为0.094 Abs。
在实际量产中，增加光阻调节单元，控制装置根据光阻浓度检测器检测到的显影槽内显影液的光阻浓度值以控制光阻调节单元向容纳槽中传输光阻溶液，控制光阻的含量以维持上述二项式拟合方程，进而控制显影液的显影能力，通过控制显影液的显影能力控制CD，即通过控制光阻浓度/含量的稳定以达到CD的均一性，经长期量产数据得出，通过上述方法，产品整体CD STD的生产稳定可有效改善~40%，以实际生产49”显示面板进行源漏极图案CD显影为例，正常产品CD卡控规格为±1.2um，通过上述增加光阻调节单元以调控光阻浓度/含量的方式后，上述49”显示面板源漏极图案CD规格变为2.35~2.8um（±0.225um），相比正产CD卡控规格紧缩了81.3%，并可有效量产。
本发明通过在显影控制系统中增加光阻调节单元，以传输光阻溶液，增加显影循环液调节单元，以传输显影循环液，并通过控制装置对所述光阻调节单元及所述显影液循环单元的控制以使光阻浓度稳定，进而实现CD的均一性，提高显示面板的画质。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (20)
- 一种显影控制系统，包括：第一管道，连接显影槽，用于传输显影原液至所述显影槽；第二管道，连接所述显影槽，用于传输显影循环液至所述显影槽；所述显影槽，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；控制装置，设置于所述第一管道与所述显影槽之间以及所述第二管道与所述显影槽之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽；以及第一调节装置，与所述显影槽和所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液；所述显影液为四甲基氢氧化铵溶液，通过检测所述显影液中的碱浓度来控制所述显影液浓度。
- 根据权利要求1所述显影控制系统，其中所述控制装置包括控制单元及第一侦测单元，所述第一侦测单元用于侦测所述显影槽内显影液的碱浓度值并将侦测到的碱浓度值发送给所述控制单元，所述控制单元通过碱浓度值控制所述显影液浓度，所述控制单元将接收到的碱浓度值与碱浓度预设值进行比较，在接收到的碱浓度小于所述碱浓度预设值时，所述控制单元控制所述第一管道传输所述显影原液至所述显影槽，在接收到的碱浓度大于所述碱浓度预设值时，所述控制单元控制所述显影循环液传输至所述显影槽。
- 根据权利要求2所述显影控制系统，其中所述第一调节装置为光阻调节单元，所述第一调节溶液为光阻溶液。
- 根据权利要求3所述显影控制系统，其中所述控制装置还包括第二侦测单元，所述第二侦测单元用于侦测所述显影槽内显影液的光阻浓度值并将侦测到的光阻浓度值发送给所述控制单元，所述控制单元将接收到的光阻浓度值与光阻浓度预设值进行比较，在接收到的光阻浓度小于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述光阻调节单元传输光阻溶液至所述显影槽，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述显影循环液传输至所述显影槽。
- 根据权利要求4所述显影控制系统，其中所述显影控制系统还包括第二调节装置，与所述显影槽及所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第二调节装置通过第四管道向所述显影槽传输第二调节溶液。
- 根据权利要求5所述显影控制系统，其中所述第二调节装置为显影循环液调节单元，所述第二调节溶液为显影循环液，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述第二调节装置传输显影循环液至所述显影槽。
- 根据权利要求1所述显影控制系统，其中所述显影原液浓度为25%，所述显影液的浓度为2.38±0.01%。
- 根据权利要求5所述显影控制系统，其中所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽上方的显影循环液收集装置，所述显影循环液收集装置通过第五管道与所述显影槽连接，以对所述显影循环液进行循环。
- 根据权利要求8所述显影控制系统，其中所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽上的第六管道，所述第六管道通过压力泵及第一控制阀连接所述显影槽，以对显影槽内的显影液进行循环混液；所述第六管道通过压力泵及第二控制阀连接所述显影循环液收集装置，用于对所述显影循环液收集装置进行清洗。
- 一种显影控制系统，包括：第一管道，连接显影槽，用于传输显影原液至所述显影槽；第二管道，连接所述显影槽，用于传输显影循环液至所述显影槽；所述显影槽，用于容纳所述显影原液及所述显影循环液构成的显影液；控制装置，设置于所述第一管道与所述显影槽之间以及所述第二管道与所述显影槽之间，控制所述显影原液与所述显影循环液传输至所述显影槽；以及第一调节装置，与所述显影槽和所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液。
- 根据权利要求10所述显影控制系统，其中所述控制装置包括控制单元及第一侦测单元，所述第一侦测单元用于侦测所述显影槽内显影液的碱浓度值并将侦测到的碱浓度值发送给所述控制单元，所述控制单元通过碱浓度值控制所述显影液浓度，所述控制单元将接收到的碱浓度值与碱浓度预设值进行比较，在接收到的碱浓度小于所述碱浓度预设值时，所述控制单元控制所述第一管道传输所述显影原液至所述显影槽，在接收到的碱浓度大于所述碱浓度预设值时，所述控制单元控制所述显影循环液传输至所述显影槽。
- 根据权利要求11所述显影控制系统，其中所述第一调节装置为光阻调节单元，所述第一调节溶液为光阻溶液。
- 根据权利要求12所述显影控制系统，其中所述控制装置还包括第二侦测单元，所述第二侦测单元用于侦测所述显影槽内显影液的光阻浓度值并将侦测到的光阻浓度值发送给所述控制单元，所述控制单元将接收到的光阻浓度值与光阻浓度预设值进行比较，在接收到的光阻浓度小于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述光阻调节单元传输光阻溶液至所述显影槽，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述显影循环液传输至所述显影槽。
- 根据权利要求13所述显影控制系统，其中所述显影控制系统还包括第二调节装置，与所述显影槽及所述控制装置连接，所述控制装置控制所述第二调节装置通过第四管道向所述显影槽传输第二调节溶液。
- 根据权利要求14所述显影控制系统，其中所述第二调节装置为显影循环液调节单元，所述第二调节溶液为显影循环液，在接收到的光阻浓度大于所述光阻浓度预设值时，所述控制单元控制所述第二调节装置传输显影循环液至所述显影槽。
- 根据权利要求10所述显影控制系统，其中所述显影原液浓度为25%，所述显影液的浓度为2.38±0.01%。
- 根据权利要求14所述显影控制系统，其中所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽上方的显影循环液收集装置，所述显影循环液收集装置通过第五管道与所述显影槽连接，以对所述显影循环液进行循环。
- 根据权利要求17所述显影控制系统，其中所述显影控制系统还包括设置在所述显影槽上的第六管道，所述第六管道通过压力泵及第一控制阀连接所述显影槽，以对显影槽内的显影液进行循环混液；所述第六管道通过压力泵及第二控制阀连接所述显影循环液收集装置，用于对所述显影循环液收集装置进行清洗。
- 一种显影控制方法，包括：控制装置控制显影原液通过第一管道传输至显影槽；所述控制装置控制显影循环液通过第二管道传输至所述显影槽，所述显影原液及所述显影循环液构成显影液；以及所述控制装置控制第一调节装置通过第三管道向所述显影槽传输第一调节溶液。
- 根据权利要求19所述显影控制方法其中所述显影液为四甲基氢氧化铵溶液，通过检测所述显影液中的碱浓度来控制所述显影液浓度。
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