JPH0540345A - 現像液管理装置 - Google Patents
現像液管理装置Info
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- JPH0540345A JPH0540345A JP3222130A JP22213091A JPH0540345A JP H0540345 A JPH0540345 A JP H0540345A JP 3222130 A JP3222130 A JP 3222130A JP 22213091 A JP22213091 A JP 22213091A JP H0540345 A JPH0540345 A JP H0540345A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶基板製造工程やプリント基板製造工程な
どにおいて、感光性有機樹脂の現像に用いられるアルカ
リ系現像液の現像性能を常時一定化するとともに、操業
停止時間を大幅に短縮する。 【構成】 現像液の溶解樹脂濃度を吸光光度計１６によ
り検出して現像液を排出する現像液排出手段と、現像液
の液面レベルを液面レベル計３により検出して現像原液
と純水とを補給する第一補給手段と、現像液のアルカリ
濃度を導電率計１５により検出して現像原液又は純水を
補給する第二補給手段とを設ける。
どにおいて、感光性有機樹脂の現像に用いられるアルカ
リ系現像液の現像性能を常時一定化するとともに、操業
停止時間を大幅に短縮する。 【構成】 現像液の溶解樹脂濃度を吸光光度計１６によ
り検出して現像液を排出する現像液排出手段と、現像液
の液面レベルを液面レベル計３により検出して現像原液
と純水とを補給する第一補給手段と、現像液のアルカリ
濃度を導電率計１５により検出して現像原液又は純水を
補給する第二補給手段とを設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶基板製造工程やプ
リント基板製造工程などにおいて、感光性有機樹脂（フ
ォトレジスト、以下単に樹脂という）の現像に用いられ
るアルカリ系現像液の管理装置、詳しくは、アルカリ系
現像液の循環使用における連続自動補給機構、アルカリ
濃度調整機構、及び溶解樹脂の濃縮化に伴う現像性能の
劣化抑制のための現像液自動排出機構を併せて有する装
置に関する。
リント基板製造工程などにおいて、感光性有機樹脂（フ
ォトレジスト、以下単に樹脂という）の現像に用いられ
るアルカリ系現像液の管理装置、詳しくは、アルカリ系
現像液の循環使用における連続自動補給機構、アルカリ
濃度調整機構、及び溶解樹脂の濃縮化に伴う現像性能の
劣化抑制のための現像液自動排出機構を併せて有する装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶基板製造工程やプリント基板製造工
程などにおいては、樹脂の現像液としてテトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液（一
例として２．３８０wt%）、水酸化カリウム水溶液など
のアルカリ水溶液がスプレー方式あるいはディップ方式
などで使用されている。従来法では、現像処理槽へ所定
濃度の一定量の新液現像液を充填してスタートし、経験
等にもとづく基板処理枚数などを指標として、現像液が
減量しつつ所定劣化濃度域に達したとき、予め用意した
新液と一挙に全量交換するバッチ操業の形態をとってい
る。この液交換時期は基板の種類等により一定ではない
が、およそ６時間前後に１回の頻度で行なわれている。
程などにおいては、樹脂の現像液としてテトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液（一
例として２．３８０wt%）、水酸化カリウム水溶液など
のアルカリ水溶液がスプレー方式あるいはディップ方式
などで使用されている。従来法では、現像処理槽へ所定
濃度の一定量の新液現像液を充填してスタートし、経験
等にもとづく基板処理枚数などを指標として、現像液が
減量しつつ所定劣化濃度域に達したとき、予め用意した
新液と一挙に全量交換するバッチ操業の形態をとってい
る。この液交換時期は基板の種類等により一定ではない
が、およそ６時間前後に１回の頻度で行なわれている。
【０００３】樹脂の現像液として用いられるアルカリ水
溶液は、樹脂中の酸との反応、ならびに空気中の炭酸ガ
ス及び酸素ガスの吸収、反応により、使用中にアルカリ
濃度が低下して逐次実効感度が低下するが、従来はアル
カリ濃度をリアルタイムで測定し、かつ所定濃度に一定
に制御することが行なわれていなかった。また、現像処
理によって現像液中に溶解した樹脂は、逐次濃縮し、ポ
ジレジストの場合においては、溶解してはならない未露
光部の樹脂を若干溶解させる作用を持ち、未露光部残膜
率を次第に低下させるが、従来は樹脂濃度をリアルタイ
ムで測定し、かつ所定濃度に一定に制御することが行な
われていなかった。
溶液は、樹脂中の酸との反応、ならびに空気中の炭酸ガ
ス及び酸素ガスの吸収、反応により、使用中にアルカリ
濃度が低下して逐次実効感度が低下するが、従来はアル
カリ濃度をリアルタイムで測定し、かつ所定濃度に一定
に制御することが行なわれていなかった。また、現像処
理によって現像液中に溶解した樹脂は、逐次濃縮し、ポ
ジレジストの場合においては、溶解してはならない未露
光部の樹脂を若干溶解させる作用を持ち、未露光部残膜
率を次第に低下させるが、従来は樹脂濃度をリアルタイ
ムで測定し、かつ所定濃度に一定に制御することが行な
われていなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、この間のアル
カリ濃度と溶解樹脂濃度は経時的に変化して一定でない
ため、基板現像時の微細寸法精度の制御が困難で製品の
品質を不安定にし、歩留りを低下させていた。また、液
交換時の操業停止（ダウンタイム）により大幅な稼動率
低下をきたし、現像液の交換作業に伴う労務コストが必
要であった。さらに、現像液は所定濃度及び所定品質に
調整された上、異物の汚染が少ない密閉容器で運搬され
るので流通経費が膨大となり、現像原液に比較して、は
るかに高額な原材料費が必要であった。
カリ濃度と溶解樹脂濃度は経時的に変化して一定でない
ため、基板現像時の微細寸法精度の制御が困難で製品の
品質を不安定にし、歩留りを低下させていた。また、液
交換時の操業停止（ダウンタイム）により大幅な稼動率
低下をきたし、現像液の交換作業に伴う労務コストが必
要であった。さらに、現像液は所定濃度及び所定品質に
調整された上、異物の汚染が少ない密閉容器で運搬され
るので流通経費が膨大となり、現像原液に比較して、は
るかに高額な原材料費が必要であった。
【０００５】本発明は上記の諸点に鑑みなされたもの
で、本発明の目的は、液晶基板製造工程やプリント基板
製造工程などの大量生産に適した簡便な従来技術による
ライン搬送方式の利点を生かしながら、前述した従来技
術の問題点を解消するものである。すなわち、本発明の
目的は、現像液使用側において現像原液を入手すれば、
現像液を所定のアルカリ濃度及び溶解樹脂濃度に自動制
御し、かつ現像処理槽の液補給に対して適切な管理を行
ない、もって現像性能を常時一定化するとともに、操業
停止時間の大幅な短縮と総合的な製造コストの低減を可
能とすることにある。
で、本発明の目的は、液晶基板製造工程やプリント基板
製造工程などの大量生産に適した簡便な従来技術による
ライン搬送方式の利点を生かしながら、前述した従来技
術の問題点を解消するものである。すなわち、本発明の
目的は、現像液使用側において現像原液を入手すれば、
現像液を所定のアルカリ濃度及び溶解樹脂濃度に自動制
御し、かつ現像処理槽の液補給に対して適切な管理を行
ない、もって現像性能を常時一定化するとともに、操業
停止時間の大幅な短縮と総合的な製造コストの低減を可
能とすることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、現像
処理槽の現像液中に溶解した樹脂濃度は、その吸光度と
密接な関係にあることを実験により確認したことから、
樹脂濃度吸光度測定により調整、制御し、さらに現像液
中のアルカリ濃度が、その導電率との間に密接な関係に
あることを実験によって確認したことから、アルカリ濃
度を導電率測定により調整、制御するようにしたもので
ある。すなわち、上記の目的を達成するために、本発明
の現像液管理装置は、図１に示すように、感光性有機樹
脂用現像液の溶解樹脂濃度を吸光光度計１６により検出
して現像液を排出する現像液排出手段と、現像液の液面
レベルを液面レベル計３により検出して現像原液と純水
とを補給する第一補給手段と、現像液のアルカリ濃度を
導電率計１５により検出して現像原液又は純水を補給す
る第二補給手段とを備えたことを特徴としている。ま
た、本発明の現像液管理装置は、第一補給手段におい
て、現像原液と純水とを補給する代わりに、図２に示す
ように、現像原液と純水とを予め調合した現像新液を補
給するようにしたことを特徴としている。さらに、本発
明の現像液管理装置は、図３に示すように、感光性有機
樹脂用現像液の溶解樹脂濃度を吸光光度計１６により検
出して現像原液と純水とを補給する第三補給手段と、現
像液のアルカリ濃度を導電率計１５により検出して現像
原液又は純水を補給する第二補給手段とを備えたことを
特徴としている。また、本発明の現像液管理装置は、図
４に示すように、樹脂用現像液の溶解樹脂濃度を吸光光
度計１６により検出して補給する第三補給手段におい
て、現像原液と純水とを補給する代わりに、現像原液と
純水とを予め調合した現像新液を補給するようにしたこ
とを特徴としている。現像原液としては、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナト
リウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無
機アルカリ水溶液や、テトラメチルアンモニウムハイド
ロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノール
アンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機
アルカリ水溶液などが用いられる。
処理槽の現像液中に溶解した樹脂濃度は、その吸光度と
密接な関係にあることを実験により確認したことから、
樹脂濃度吸光度測定により調整、制御し、さらに現像液
中のアルカリ濃度が、その導電率との間に密接な関係に
あることを実験によって確認したことから、アルカリ濃
度を導電率測定により調整、制御するようにしたもので
ある。すなわち、上記の目的を達成するために、本発明
の現像液管理装置は、図１に示すように、感光性有機樹
脂用現像液の溶解樹脂濃度を吸光光度計１６により検出
して現像液を排出する現像液排出手段と、現像液の液面
レベルを液面レベル計３により検出して現像原液と純水
とを補給する第一補給手段と、現像液のアルカリ濃度を
導電率計１５により検出して現像原液又は純水を補給す
る第二補給手段とを備えたことを特徴としている。ま
た、本発明の現像液管理装置は、第一補給手段におい
て、現像原液と純水とを補給する代わりに、図２に示す
ように、現像原液と純水とを予め調合した現像新液を補
給するようにしたことを特徴としている。さらに、本発
明の現像液管理装置は、図３に示すように、感光性有機
樹脂用現像液の溶解樹脂濃度を吸光光度計１６により検
出して現像原液と純水とを補給する第三補給手段と、現
像液のアルカリ濃度を導電率計１５により検出して現像
原液又は純水を補給する第二補給手段とを備えたことを
特徴としている。また、本発明の現像液管理装置は、図
４に示すように、樹脂用現像液の溶解樹脂濃度を吸光光
度計１６により検出して補給する第三補給手段におい
て、現像原液と純水とを補給する代わりに、現像原液と
純水とを予め調合した現像新液を補給するようにしたこ
とを特徴としている。現像原液としては、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナト
リウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無
機アルカリ水溶液や、テトラメチルアンモニウムハイド
ロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノール
アンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機
アルカリ水溶液などが用いられる。
【０００７】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の好適な実施例
を詳細に説明する。ただし、この実施例に記載されてい
る構成機器の形状、その相対配置などは、とくに特定的
な記載がない限りは、本発明の範囲をそれらのみに限定
する趣旨のものではなく、単なる説明例にすぎない。図
１は、本発明の一実施例を示す装置系統図である。図中
の参照番号１〜１３は従来の既設の現像処理装置を構成
する機器である。すなわち、この従来の現像処理装置
は、現像液を貯留する現像処理槽１、オーバーフロー槽
２、液面レベル計３、現像室フード４、現像液スプレー
７、現像液スプレーへの送液ポンプ８、現像液中の微細
粒子等を除去するためのフィルター９、基板を配置して
現像しつつ移動するローラーコンベア５、基板６、及び
現像液の清浄化と攪拌のための循環ポンプ１１、微細粒
子除去用フィルター１３、ならびにＮ2、純水等の配管
類などからなっている。
を詳細に説明する。ただし、この実施例に記載されてい
る構成機器の形状、その相対配置などは、とくに特定的
な記載がない限りは、本発明の範囲をそれらのみに限定
する趣旨のものではなく、単なる説明例にすぎない。図
１は、本発明の一実施例を示す装置系統図である。図中
の参照番号１〜１３は従来の既設の現像処理装置を構成
する機器である。すなわち、この従来の現像処理装置
は、現像液を貯留する現像処理槽１、オーバーフロー槽
２、液面レベル計３、現像室フード４、現像液スプレー
７、現像液スプレーへの送液ポンプ８、現像液中の微細
粒子等を除去するためのフィルター９、基板を配置して
現像しつつ移動するローラーコンベア５、基板６、及び
現像液の清浄化と攪拌のための循環ポンプ１１、微細粒
子除去用フィルター１３、ならびにＮ2、純水等の配管
類などからなっている。
【０００８】本発明にもとづき上記現像処理装置に付設
される機器は、導電率計１５、吸光光度計１６、液排出
ポンプ１８、及び現像原液供給缶１９、現像原液供給用
の流量調節弁２１、純水供給用の流量調節弁２２と、こ
れら各機器を接続する配管類、電気計装類又は空気計装
類などである。現像処理槽１に貯留される液量は、現像
液スプレー７の所要量を供給できれば足りるが、工程の
安定上からは制御されることが必要である。液面レベル
計３は、現像処理中に基板に付着して系外に持ち出され
ることで自然減量することによる液面レベル低下を検出
し、あるいは現像性能が劣化した液を強制排出したとき
の液面レベル低下を検出し、現像処理槽１の液量を一定
範囲に管理する。ここで、劣化液は排出ポンプ１８を作
動することによりドレン用配管に流下する。なお、劣化
液をドレン用配管を経由せずに直接系外に抜き出す場合
もある。現像原液（例えば、ＴＭＡＨ１５〜２０wt%水
溶液、ＫＯＨ濃縮水溶液）の現像原液供給缶１９は、配
管２０からのＮ2ガスで例えば、１〜２kgf/cm2に加圧さ
れており、原液流量調節弁２１の開により圧送される。
また、純水は既設配管からの分岐管に通じており、純水
流量調節弁２２の開により送水される。この現像原液及
び純水はそれぞれの弁を自動調節して送液され、管路２
３で合流して管路１２に連結し、循環流とともに混合さ
れながら現像処理槽１に入る。なお、現像原液と純水と
を合流させずに管路１２又は現像処理槽１に連結するこ
とも可能である。しかし、図１に示すように現像原液と
純水とを管路２３で合流させた後、循環管路１２に連結
するのが、十分な混合がなされるので望ましい。また、
現像液スプレー用の管路１０にオンラインで設置した導
電率計１５と吸光光度計１６（例えば、両器は一体構
成）には、管路１４より試料液が導入されて導電率、吸
光度を連続測定し、測定済み液は管路１７より管路１０
に戻される。なお、導電率計１５と吸光光度計１６とを
別体として設置することも可能である。
される機器は、導電率計１５、吸光光度計１６、液排出
ポンプ１８、及び現像原液供給缶１９、現像原液供給用
の流量調節弁２１、純水供給用の流量調節弁２２と、こ
れら各機器を接続する配管類、電気計装類又は空気計装
類などである。現像処理槽１に貯留される液量は、現像
液スプレー７の所要量を供給できれば足りるが、工程の
安定上からは制御されることが必要である。液面レベル
計３は、現像処理中に基板に付着して系外に持ち出され
ることで自然減量することによる液面レベル低下を検出
し、あるいは現像性能が劣化した液を強制排出したとき
の液面レベル低下を検出し、現像処理槽１の液量を一定
範囲に管理する。ここで、劣化液は排出ポンプ１８を作
動することによりドレン用配管に流下する。なお、劣化
液をドレン用配管を経由せずに直接系外に抜き出す場合
もある。現像原液（例えば、ＴＭＡＨ１５〜２０wt%水
溶液、ＫＯＨ濃縮水溶液）の現像原液供給缶１９は、配
管２０からのＮ2ガスで例えば、１〜２kgf/cm2に加圧さ
れており、原液流量調節弁２１の開により圧送される。
また、純水は既設配管からの分岐管に通じており、純水
流量調節弁２２の開により送水される。この現像原液及
び純水はそれぞれの弁を自動調節して送液され、管路２
３で合流して管路１２に連結し、循環流とともに混合さ
れながら現像処理槽１に入る。なお、現像原液と純水と
を合流させずに管路１２又は現像処理槽１に連結するこ
とも可能である。しかし、図１に示すように現像原液と
純水とを管路２３で合流させた後、循環管路１２に連結
するのが、十分な混合がなされるので望ましい。また、
現像液スプレー用の管路１０にオンラインで設置した導
電率計１５と吸光光度計１６（例えば、両器は一体構
成）には、管路１４より試料液が導入されて導電率、吸
光度を連続測定し、測定済み液は管路１７より管路１０
に戻される。なお、導電率計１５と吸光光度計１６とを
別体として設置することも可能である。
【０００９】図２は、本発明の他の実施例を示す装置系
統図である。本実施例は、現像液の液面レベルを液面レ
ベル計３により検出して現像原液と純水とを補給する代
わりに、図２に示すように、現像液の液面レベルを液面
レベル計３により検出して現像原液と純水とを予め混合
して調合した現像新液を補給するように構成したもので
ある。２７は現像新液供給缶、２８は新液流量調節弁で
ある。他の構成は図１の場合と同様である。図３は、本
発明の他の実施例を示す装置系統図である。本実施例
は、樹脂用現像液の溶解樹脂濃度を吸光光度計１６によ
り検出して現像原液と純水とを補給するように構成した
ものである。図３に示すように、通常において、液面レ
ベルはオーバーフロー用の堰の位置付近にあり、現像原
液又は純水が補給された場合は、オーバーフロー用の堰
から劣化した現像液がオーバーフローして自動排出され
る。なお、排出ポンプ１８は必ずしも必要ではなく、排
出ポンプ１８の代わりに弁を設けてもよい。他の構成は
図１の場合と同様である。図４は、本発明の他の実施例
を示す装置系統図である。本実施例は、樹脂用現像液の
溶解樹脂濃度を吸光光度計１６により検出して補給する
第三補給手段において、現像原液と純水とを補給する代
わりに、図４に示すように、現像原液と純水とを予め調
合した現像新液を補給するように構成したものである。
他の構成は図３の場合と同様である。
統図である。本実施例は、現像液の液面レベルを液面レ
ベル計３により検出して現像原液と純水とを補給する代
わりに、図２に示すように、現像液の液面レベルを液面
レベル計３により検出して現像原液と純水とを予め混合
して調合した現像新液を補給するように構成したもので
ある。２７は現像新液供給缶、２８は新液流量調節弁で
ある。他の構成は図１の場合と同様である。図３は、本
発明の他の実施例を示す装置系統図である。本実施例
は、樹脂用現像液の溶解樹脂濃度を吸光光度計１６によ
り検出して現像原液と純水とを補給するように構成した
ものである。図３に示すように、通常において、液面レ
ベルはオーバーフロー用の堰の位置付近にあり、現像原
液又は純水が補給された場合は、オーバーフロー用の堰
から劣化した現像液がオーバーフローして自動排出され
る。なお、排出ポンプ１８は必ずしも必要ではなく、排
出ポンプ１８の代わりに弁を設けてもよい。他の構成は
図１の場合と同様である。図４は、本発明の他の実施例
を示す装置系統図である。本実施例は、樹脂用現像液の
溶解樹脂濃度を吸光光度計１６により検出して補給する
第三補給手段において、現像原液と純水とを補給する代
わりに、図４に示すように、現像原液と純水とを予め調
合した現像新液を補給するように構成したものである。
他の構成は図３の場合と同様である。
【００１０】次に、図１に示す実施例装置の制御系統に
ついて説明する。液面レベル計３と現像処理槽１の液面
レベル、導電率計１５と現像液アルカリ濃度、吸光光度
計１６と現像液溶解樹脂濃度の３者は本質的にはそれぞ
れ独立機能として作用するが、本発明においては、これ
らを相互の補完的な関連において機能させることを特徴
としている。また、はじめに製品基板の品質管理上で必
要な現像液のアルカリ濃度の目標値、溶解樹脂濃度の劣
化限界値などは、操業実績又は計算に基づき、予め各制
御器に設定しておかねばならない。現像液のアルカリ濃
度は、基板樹脂との反応、あるいは空気中の炭酸ガス、
酸素ガスの吸収、反応により低下する。アルカリ濃度が
低下するとともに、基板樹脂の現像後の線幅が太く（あ
るいはスペースが狭く）変化し、初期の設計値との差異
を大きくして寸法精度不良の現象を生ずる。その具体的
な操業例を図５に示した。このため、現像液アルカリ濃
度は所定の目標値、例えばＴＭＡＨの場合２．３８（±
０．０２）wt%に管理する必要がある。従来は、経験か
らの基板処理枚数との相関又は化学分析等によって、現
像液劣化の程度を判定していたが、迅速かつ正確な把握
が困難であった。
ついて説明する。液面レベル計３と現像処理槽１の液面
レベル、導電率計１５と現像液アルカリ濃度、吸光光度
計１６と現像液溶解樹脂濃度の３者は本質的にはそれぞ
れ独立機能として作用するが、本発明においては、これ
らを相互の補完的な関連において機能させることを特徴
としている。また、はじめに製品基板の品質管理上で必
要な現像液のアルカリ濃度の目標値、溶解樹脂濃度の劣
化限界値などは、操業実績又は計算に基づき、予め各制
御器に設定しておかねばならない。現像液のアルカリ濃
度は、基板樹脂との反応、あるいは空気中の炭酸ガス、
酸素ガスの吸収、反応により低下する。アルカリ濃度が
低下するとともに、基板樹脂の現像後の線幅が太く（あ
るいはスペースが狭く）変化し、初期の設計値との差異
を大きくして寸法精度不良の現象を生ずる。その具体的
な操業例を図５に示した。このため、現像液アルカリ濃
度は所定の目標値、例えばＴＭＡＨの場合２．３８（±
０．０２）wt%に管理する必要がある。従来は、経験か
らの基板処理枚数との相関又は化学分析等によって、現
像液劣化の程度を判定していたが、迅速かつ正確な把握
が困難であった。
【００１１】本発明者は、現像液のアルカリ濃度と導電
率の関係を実験により検討し、図６に示す如く使用濃度
付近においては、導電率に対してアルカリ濃度が支配的
で高度な直線相関をもって測定できることを確認した。
管路１０にオンラインで設置した導電率計１５は、測定
誤差を最小限とするための諸補償機能と導電率制御器２
５を備えている。管路１０から導入した試料液の導電率
測定値は、導電率制御器２５に入力して、その値が目標
値になるように、出力信号により現像原液又は純水を流
量調節弁２１、２２により、それぞれ自動制御してアル
カリ濃度を目標値に調整するまで補給する。現像性能の
劣化は上述のアルカリ濃度によるほか、溶解樹脂濃度も
関与している。基板処理の現像液は送液ポンプ８により
現像処理槽１から取り出され、現像液スプレー７を経て
循環使用されるため、溶解樹脂が現像液中に漸次濃縮し
てくる。その結果、図７に操業例として示すように、未
露光部残膜率の低下など現像性能を著しく劣化させる
が、従来は、この濃度変化をリアルタイムで測定し、現
像性能を一定値で管理することが行なわれていなかっ
た。すなわち、基板の処理枚数を劣化指標としたりして
いるが、基板の形状や樹脂の塗布量及び露光部と未露光
部との比率が一定でないため、基板種類毎の溶解樹脂量
も異なるので、処理枚数を判定要因とすることには無理
がある。
率の関係を実験により検討し、図６に示す如く使用濃度
付近においては、導電率に対してアルカリ濃度が支配的
で高度な直線相関をもって測定できることを確認した。
管路１０にオンラインで設置した導電率計１５は、測定
誤差を最小限とするための諸補償機能と導電率制御器２
５を備えている。管路１０から導入した試料液の導電率
測定値は、導電率制御器２５に入力して、その値が目標
値になるように、出力信号により現像原液又は純水を流
量調節弁２１、２２により、それぞれ自動制御してアル
カリ濃度を目標値に調整するまで補給する。現像性能の
劣化は上述のアルカリ濃度によるほか、溶解樹脂濃度も
関与している。基板処理の現像液は送液ポンプ８により
現像処理槽１から取り出され、現像液スプレー７を経て
循環使用されるため、溶解樹脂が現像液中に漸次濃縮し
てくる。その結果、図７に操業例として示すように、未
露光部残膜率の低下など現像性能を著しく劣化させる
が、従来は、この濃度変化をリアルタイムで測定し、現
像性能を一定値で管理することが行なわれていなかっ
た。すなわち、基板の処理枚数を劣化指標としたりして
いるが、基板の形状や樹脂の塗布量及び露光部と未露光
部との比率が一定でないため、基板種類毎の溶解樹脂量
も異なるので、処理枚数を判定要因とすることには無理
がある。
【００１２】本発明者は、現像液の樹脂汚染状態の研究
から、これを吸光度との関係において測定することに着
目し、実験により図８に示すような結果を得た。図８に
見る如く、溶解樹脂濃度と吸光度とはアルカリ濃度の影
響なしに高度な直線関係にあり、基板処理枚数とは無関
係な溶解樹脂濃度自体による現像性能限界値が判定可能
となった。なお、樹脂溶解によって現像液は赤色になる
ため、測定波長として、λ＝４８０nmを使用した。した
がって、管路１０に導電率計１５と一体又は別体で設置
した吸光光度計１６が、現像液の溶解樹脂濃度を連続測
定して劣化限界値を超えたことを検出し、吸光度制御器
２６の出力信号により排出ポンプ１８が作動し、劣化し
た現像液を現像処理槽１より抜き出してドレン管に廃棄
するか、または直接系外に廃棄する。その結果、減量し
た現像処理槽１においては、直ちに液面レベル計３が下
降した液面レベルを検出して新鮮な現像液が補給され、
溶解樹脂濃度は劣化限界値に希釈されることで現像性能
が回復し、排出ポンプ１８は停止する。ここで、図１に
示す実施例装置が意図した制御系統の機能的関連につい
て述べる。現像処理槽１が空の建浴時においては、液面
レベル計３が液面レベルを検出して、液面レベル制御器
２４の出力信号により、現像原液及び純水を適正な流量
比において、流量調節弁２１、２２により弁開度を調節
して送液される。ついで、導電率計１５が建浴現像液の
導電率を連続測定して、導電率制御器２５の出力信号に
より、現像原液又は純水を適正な微少流量において、流
量調節弁２１又は２２により弁開度を調節して送液さ
れ、目標値のアルカリ濃度になるよう自動制御される。
から、これを吸光度との関係において測定することに着
目し、実験により図８に示すような結果を得た。図８に
見る如く、溶解樹脂濃度と吸光度とはアルカリ濃度の影
響なしに高度な直線関係にあり、基板処理枚数とは無関
係な溶解樹脂濃度自体による現像性能限界値が判定可能
となった。なお、樹脂溶解によって現像液は赤色になる
ため、測定波長として、λ＝４８０nmを使用した。した
がって、管路１０に導電率計１５と一体又は別体で設置
した吸光光度計１６が、現像液の溶解樹脂濃度を連続測
定して劣化限界値を超えたことを検出し、吸光度制御器
２６の出力信号により排出ポンプ１８が作動し、劣化し
た現像液を現像処理槽１より抜き出してドレン管に廃棄
するか、または直接系外に廃棄する。その結果、減量し
た現像処理槽１においては、直ちに液面レベル計３が下
降した液面レベルを検出して新鮮な現像液が補給され、
溶解樹脂濃度は劣化限界値に希釈されることで現像性能
が回復し、排出ポンプ１８は停止する。ここで、図１に
示す実施例装置が意図した制御系統の機能的関連につい
て述べる。現像処理槽１が空の建浴時においては、液面
レベル計３が液面レベルを検出して、液面レベル制御器
２４の出力信号により、現像原液及び純水を適正な流量
比において、流量調節弁２１、２２により弁開度を調節
して送液される。ついで、導電率計１５が建浴現像液の
導電率を連続測定して、導電率制御器２５の出力信号に
より、現像原液又は純水を適正な微少流量において、流
量調節弁２１又は２２により弁開度を調節して送液さ
れ、目標値のアルカリ濃度になるよう自動制御される。
【００１３】次の現像処理が開始されると、アルカリ濃
度低下、基板の持ち出しによる液の減量及び溶解樹脂濃
縮が進行する。アルカリ濃度低下の場合は、導電率計１
５が現像液の導電率を連続測定して、導電率制御器２５
の出力信号により現像原液を適正な微少流量において、
流量調節弁２１により弁開度を調節して送液され、目標
値のアルカリ濃度になるよう自動制御される。基板の持
ち出しによる液の減量の場合は、液面レベル計３が下降
した液面レベルを検出して、液面レベル制御器２４の出
力信号により、現像原液及び純水を適正な流量比におい
て、流量調節弁２１、２２により弁開度を調節して送液
される。溶解樹脂濃度が濃縮されて劣化限界値に達した
場合は、吸光光度計１６が、現像液の溶解樹脂濃度を連
続測定して劣化限界値を超えたことを検出し、吸光度制
御器２６の出力信号により排出ポンプ１８が作動し、劣
化した現像液を現像処理槽１より抜き出してドレン管に
廃棄するか、または直接系外に廃棄する。その結果、液
面レベルが低下し、液面レベル計３が下降した液面レベ
ルを検出して、液面レベル制御器２４の出力信号によ
り、現像原液及び純水を適正な流量比において、流量調
節弁２１、２２により弁開度を調節して送液される。新
鮮な現像液が補給されるので、溶解樹脂濃度は劣化限界
値に希釈されることで現像性能が回復し、排出ポンプ１
８は停止する。液面レベル計３より上部に、オーバーフ
ロー用の堰が、通常ではオーバーフローしない位置に設
けてあるが、若干オーバーフローすることがあってもよ
い。
度低下、基板の持ち出しによる液の減量及び溶解樹脂濃
縮が進行する。アルカリ濃度低下の場合は、導電率計１
５が現像液の導電率を連続測定して、導電率制御器２５
の出力信号により現像原液を適正な微少流量において、
流量調節弁２１により弁開度を調節して送液され、目標
値のアルカリ濃度になるよう自動制御される。基板の持
ち出しによる液の減量の場合は、液面レベル計３が下降
した液面レベルを検出して、液面レベル制御器２４の出
力信号により、現像原液及び純水を適正な流量比におい
て、流量調節弁２１、２２により弁開度を調節して送液
される。溶解樹脂濃度が濃縮されて劣化限界値に達した
場合は、吸光光度計１６が、現像液の溶解樹脂濃度を連
続測定して劣化限界値を超えたことを検出し、吸光度制
御器２６の出力信号により排出ポンプ１８が作動し、劣
化した現像液を現像処理槽１より抜き出してドレン管に
廃棄するか、または直接系外に廃棄する。その結果、液
面レベルが低下し、液面レベル計３が下降した液面レベ
ルを検出して、液面レベル制御器２４の出力信号によ
り、現像原液及び純水を適正な流量比において、流量調
節弁２１、２２により弁開度を調節して送液される。新
鮮な現像液が補給されるので、溶解樹脂濃度は劣化限界
値に希釈されることで現像性能が回復し、排出ポンプ１
８は停止する。液面レベル計３より上部に、オーバーフ
ロー用の堰が、通常ではオーバーフローしない位置に設
けてあるが、若干オーバーフローすることがあってもよ
い。
【００１４】次に、図３に示す実施例装置が意図した制
御系統の機能的関連について述べる。現像処理槽１が空
の建浴時においては、手動操作により、現像原液及び純
水を適正な流量比において、流量調節弁２１、２２によ
り弁開度を調節して送液される。 ついで、導電率計１
５が建浴現像液の導電率を連続測定して、導電率制御器
２５の出力信号により、現像原液又は純水を適正な微少
流量において、流量調節弁２１又は２２により弁開度を
調節して送液され、目標値のアルカリ濃度になるよう自
動制御される。次の現像処理が開始されると、アルカリ
濃度低下、基板の持ち出しによる液の減量及び溶解樹脂
濃縮が進行する。アルカリ濃度低下の場合は、導電率計
１５が現像液の導電率を連続測定して、導電率制御器２
５の出力信号により現像原液を適正な微少流量におい
て、流量調節弁２１により弁開度を調節して送液され、
目標値のアルカリ濃度になるよう自動制御される。基板
の持ち出しによる液の減量の場合は、液面レベルはオー
バーフロー用の堰の位置より若干低下する。溶解樹脂濃
度が濃縮されて劣化限界値に達した場合は、吸光光度計
１６が、現像液の溶解樹脂濃度を連続測定して劣化限界
値を超えたことを検出し、吸光度制御器２６の出力信号
により現像原液及び純水を、適正な流量比において流量
調節弁２１、２２により弁開度を調節して送液される。
新鮮な現像液が補給されるので、溶解樹脂濃度は劣化限
界値に希釈されることで現像性能が回復する。液面レベ
ルはオーバーフロー用の堰の位置付近にあり、現像原液
又は純水が補給された場合は、オーバーフロー用の堰か
ら劣化した現像液がオーバーフローする。本発明者は、
以上のように各制御機能に基づく結果を相互補完的な関
連で運用することによって、総合的に現像性能の回復、
連続操業、および現像液使用量の削減を容易に実現する
ことができることを実験により知見している。
御系統の機能的関連について述べる。現像処理槽１が空
の建浴時においては、手動操作により、現像原液及び純
水を適正な流量比において、流量調節弁２１、２２によ
り弁開度を調節して送液される。 ついで、導電率計１
５が建浴現像液の導電率を連続測定して、導電率制御器
２５の出力信号により、現像原液又は純水を適正な微少
流量において、流量調節弁２１又は２２により弁開度を
調節して送液され、目標値のアルカリ濃度になるよう自
動制御される。次の現像処理が開始されると、アルカリ
濃度低下、基板の持ち出しによる液の減量及び溶解樹脂
濃縮が進行する。アルカリ濃度低下の場合は、導電率計
１５が現像液の導電率を連続測定して、導電率制御器２
５の出力信号により現像原液を適正な微少流量におい
て、流量調節弁２１により弁開度を調節して送液され、
目標値のアルカリ濃度になるよう自動制御される。基板
の持ち出しによる液の減量の場合は、液面レベルはオー
バーフロー用の堰の位置より若干低下する。溶解樹脂濃
度が濃縮されて劣化限界値に達した場合は、吸光光度計
１６が、現像液の溶解樹脂濃度を連続測定して劣化限界
値を超えたことを検出し、吸光度制御器２６の出力信号
により現像原液及び純水を、適正な流量比において流量
調節弁２１、２２により弁開度を調節して送液される。
新鮮な現像液が補給されるので、溶解樹脂濃度は劣化限
界値に希釈されることで現像性能が回復する。液面レベ
ルはオーバーフロー用の堰の位置付近にあり、現像原液
又は純水が補給された場合は、オーバーフロー用の堰か
ら劣化した現像液がオーバーフローする。本発明者は、
以上のように各制御機能に基づく結果を相互補完的な関
連で運用することによって、総合的に現像性能の回復、
連続操業、および現像液使用量の削減を容易に実現する
ことができることを実験により知見している。
【００１５】次に、概念的理解のために、本発明と従来
法の操業パターンの効果の比較を図９〜図１２に示す。
従来法では、図１０に示すように、スタート時のアルカ
リ濃度が、例えば２．３８wt%で、このアルカリ濃度が
時間が経過するにつれて低下して、例えば２．２９wt%
で液交換を行なっていた。この場合、図１０に示すよう
に、アルカリ濃度の経時変化は鋸歯状になり、アルカリ
濃度の変化幅が生じるので、現像性能が一定しなかっ
た。しかし、本発明の装置を用いれば、図９に示すよう
に、アルカリ濃度は時間が経過しても、例えば２．３８
±０．０２wt%で一定であり、液交換作業も必要なく、
しかも現像性能が一定する。また、従来法では、図１２
に示すように、スタート時の溶解樹脂濃度（この時の未
露光部残膜率は、例えば９９％）が時間の経過とともに
増加し、この濃度が所定の値（この時の未露光部残膜率
は、例えば９０％）になると、液交換を行なっていた。
この場合、図１２に示すように、溶解樹脂濃度の経時変
化は鋸歯状になり、溶解樹脂濃度の変化幅が生じるの
で、現像性能が一定しなかった。しかし、本発明の装置
を用いれば、図１１に示すように、溶解樹脂濃度はある
時間の経過後は一定となり、したがって未露光部残膜率
も低下することなく一定となり、液交換の必要もなく、
しかも現像性能を一定にすることができる。
法の操業パターンの効果の比較を図９〜図１２に示す。
従来法では、図１０に示すように、スタート時のアルカ
リ濃度が、例えば２．３８wt%で、このアルカリ濃度が
時間が経過するにつれて低下して、例えば２．２９wt%
で液交換を行なっていた。この場合、図１０に示すよう
に、アルカリ濃度の経時変化は鋸歯状になり、アルカリ
濃度の変化幅が生じるので、現像性能が一定しなかっ
た。しかし、本発明の装置を用いれば、図９に示すよう
に、アルカリ濃度は時間が経過しても、例えば２．３８
±０．０２wt%で一定であり、液交換作業も必要なく、
しかも現像性能が一定する。また、従来法では、図１２
に示すように、スタート時の溶解樹脂濃度（この時の未
露光部残膜率は、例えば９９％）が時間の経過とともに
増加し、この濃度が所定の値（この時の未露光部残膜率
は、例えば９０％）になると、液交換を行なっていた。
この場合、図１２に示すように、溶解樹脂濃度の経時変
化は鋸歯状になり、溶解樹脂濃度の変化幅が生じるの
で、現像性能が一定しなかった。しかし、本発明の装置
を用いれば、図１１に示すように、溶解樹脂濃度はある
時間の経過後は一定となり、したがって未露光部残膜率
も低下することなく一定となり、液交換の必要もなく、
しかも現像性能を一定にすることができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明は、上記のように構成されている
ので、つぎのような効果を奏する。 （１） 本発明を、液晶基板製造工程やプリント基板製
造工程などに適用することにより、現像液のアルカリ濃
度と溶解樹脂濃度を常時監視して所望の目標値に制御
し、かつ安定した液面レベルにおいて長時間の連続操業
を可能とする。 （２） 現像液品質を一定に制御することができるの
で、基板の現像性能も安定化し、したがって、液晶基板
製造工程に適用する場合は、液使用量の大幅削減、また
操業停止時間の減少、労務及び現像液コスト等の低減と
いう総合的効果も達成できる。
ので、つぎのような効果を奏する。 （１） 本発明を、液晶基板製造工程やプリント基板製
造工程などに適用することにより、現像液のアルカリ濃
度と溶解樹脂濃度を常時監視して所望の目標値に制御
し、かつ安定した液面レベルにおいて長時間の連続操業
を可能とする。 （２） 現像液品質を一定に制御することができるの
で、基板の現像性能も安定化し、したがって、液晶基板
製造工程に適用する場合は、液使用量の大幅削減、また
操業停止時間の減少、労務及び現像液コスト等の低減と
いう総合的効果も達成できる。
【図１】本発明の一実施例を示す現像液管理装置の系統
図である。
図である。
【図２】本発明の他の実施例を示す現像液管理装置の系
統図である。
統図である。
【図３】本発明の他の実施例を示す現像液管理装置の系
統図である。
統図である。
【図４】本発明のさらに他の実施例を示す現像液管理装
置の系統図である。
置の系統図である。
【図５】アルカリ濃度と現像後樹脂の線幅との関係を示
す操業例のグラフである。
す操業例のグラフである。
【図６】本発明に係わる導電率とアルカリ濃度との関係
を示す実施例のグラフである。
を示す実施例のグラフである。
【図７】溶解樹脂濃度と未露光部残膜率との関係を示す
操業例のグラフである。
操業例のグラフである。
【図８】本発明に係わる吸光度と溶解樹脂濃度との関係
を示す実施例のグラフである。
を示す実施例のグラフである。
【図９】本発明の装置を用いた場合におけるアルカリ濃
度と時間との関係を示すグラフである。
度と時間との関係を示すグラフである。
【図１０】従来法におけるアルカリ濃度と時間との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図１１】本発明の装置を用いた場合における溶解樹脂
濃度と時間との関係を示すグラフである。
濃度と時間との関係を示すグラフである。
【図１２】従来法における溶解樹脂濃度と時間との関係
を示すグラフである。
を示すグラフである。
１ 現像処理槽 ３ 液面レベル計 ５ ローラーコンベア ６ 基板 ７ 現像液スプレー ８ 送液ポンプ １１ 循環ポンプ １５ 導電率計 １６ 吸光光度計 １８ 排出ポンプ １９ 現像原液供給缶 ２１ 原液流量調節弁 ２２ 純水流量調節弁 ２４ 液面レベル制御器 ２５ 導電率制御器 ２６ 吸光度制御器 ２７ 現像新液供給缶 ２８ 新液流量調節弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小川 修 東京都中央区日本橋小舟町５番１号 長瀬 産業株式会社内 (72)発明者 塩津 信一郎 兵庫県竜野市竜野町中井236 ナガセ電子 化学株式会社兵庫工場内
Claims (4)
- 【請求項１】 感光性有機樹脂用現像液の溶解樹脂濃度
を吸光光度計（１６）により検出して現像液を排出する
現像液排出手段と、現像液の液面レベルを液面レベル計
（３）により検出して現像原液と純水とを補給する第一
補給手段と、現像液のアルカリ濃度を導電率計（１５）
により検出して現像原液又は純水を補給する第二補給手
段とを備えたことを特徴とする現像液管理装置。 - 【請求項２】 第一補給手段において、現像原液と純水
とを補給する代わりに、現像原液と純水とを予め調合し
た現像新液を補給するようにしたことを特徴とする請求
項１記載の現像液管理装置。 - 【請求項３】 感光性有機樹脂用現像液の溶解樹脂濃度
を吸光光度計（１６）により検出して現像原液と純水と
を補給する第三補給手段と、現像液のアルカリ濃度を導
電率計（１５）により検出して現像原液又は純水を補給
する第二補給手段とを備えたことを特徴とする現像液管
理装置。 - 【請求項４】 第三補給手段において、現像原液と純水
とを補給する代わりに、現像原液と純水とを予め調合し
た現像新液を補給するようにしたことを特徴とする請求
項３記載の現像液管理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3222130A JP2561578B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 現像液管理装置 |
| US07/907,665 US5223881A (en) | 1991-08-07 | 1992-07-02 | Apparatus for controlling developing solution |
| DE69227343T DE69227343T2 (de) | 1991-08-07 | 1992-08-07 | Vorrichtung zur Kontrolle einer Entwicklerlösung |
| KR1019920014292A KR0119116B1 (ko) | 1991-08-07 | 1992-08-07 | 현상액 관리장치 |
| EP92307245A EP0527058B1 (en) | 1991-08-07 | 1992-08-07 | Apparatus for controlling a developing solution |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3222130A JP2561578B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 現像液管理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0540345A true JPH0540345A (ja) | 1993-02-19 |
| JP2561578B2 JP2561578B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=16777642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3222130A Expired - Lifetime JP2561578B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 現像液管理装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5223881A (ja) |
| EP (1) | EP0527058B1 (ja) |
| JP (1) | JP2561578B2 (ja) |
| KR (1) | KR0119116B1 (ja) |
| DE (1) | DE69227343T2 (ja) |
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08108131A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学反応装置とその運転方法 |
| JPH09162094A (ja) * | 1995-12-05 | 1997-06-20 | Tokuyama Corp | 現像原液の希釈方法 |
| WO1998029900A1 (fr) * | 1996-12-25 | 1998-07-09 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Unite de commande centralisee de liquide chimique d'impression de motifs |
| JPH10319604A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-04 | Toshiba Electron Eng Corp | レジストの現像方法および現像装置 |
| JPH1184679A (ja) * | 1997-09-08 | 1999-03-26 | Nagase & Co Ltd | 感光性樹脂の連続現像方法及び現像開始剤 |
| JP2000081700A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-03-21 | Nippon Zeon Co Ltd | パタ―ン形成方法 |
| US6187519B1 (en) | 1998-10-30 | 2001-02-13 | Organo Corporation | Process and equipment for recovering developer from photoresist development waste and reusing it |
| JP2002303991A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-18 | Sharp Corp | ハイブリッド型レジスト現像装置、それを用いたレジスト現像方法および該方法によって得られた液晶ディスプレイ |
| JP2003033760A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-04 | Kemitekku:Kk | 現像液再生装置 |
| JP2004101999A (ja) * | 2002-09-11 | 2004-04-02 | Mitsubishi Chemical Engineering Corp | 現像液のリサイクル供給装置 |
| JP2004118197A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Au Optronics Corp | テトラメチルアンモニア水酸化物（ｔｍａｈ）を含むフォトレジストの現像液におけるリサイクル方法およびそのシステム |
| JP2004170451A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-17 | Tokyo Electron Ltd | 現像方法及び現像装置 |
| JP2005070351A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Nagase & Co Ltd | 現像液供給方法及び装置 |
| US6875359B2 (en) * | 2001-06-01 | 2005-04-05 | Nagase & Co., Ltd. | Developer waste liquid regenerating apparatus and method |
| KR100520252B1 (ko) * | 2001-02-06 | 2005-10-11 | 나가세 상교오 가부시키가이샤 | 현상액 제조 장치 및 현상액 제조 방법 |
| KR100553116B1 (ko) * | 2001-08-16 | 2006-02-22 | 가부시키가이샤 히라마리카겐큐죠 | 알칼리계 가공액, 가공액 조정 방법 및 장치, 및 가공액공급 방법 및 장치 |
| JP2011107346A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-02 | Ishihara Chem Co Ltd | 現像液中のフォトレジスト溶解量の測定方法 |
| JP2017028091A (ja) * | 2015-07-22 | 2017-02-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の管理方法及び装置 |
| JP2017028089A (ja) * | 2015-07-22 | 2017-02-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定方法及び装置、並びに、現像液管理方法及び装置 |
| CN108345168A (zh) * | 2017-01-23 | 2018-07-31 | 株式会社平间理化研究所 | 显影装置 |
| JP2018120895A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像装置 |
| JP2018120893A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定装置、及び現像液管理装置 |
| JP2018120901A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像装置 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5479233A (en) * | 1992-07-06 | 1995-12-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate processing apparatus |
| US5822039A (en) * | 1993-02-10 | 1998-10-13 | Noritsu Koki Co., Ltd. | Photographic printing and developing apparatus |
| TW256929B (ja) * | 1993-12-29 | 1995-09-11 | Hirama Rika Kenkyusho Kk | |
| US5416552A (en) * | 1994-01-28 | 1995-05-16 | Surface Tek, Inc. | Apparatus and method for replenishing developer |
| JP3093975B2 (ja) * | 1996-07-02 | 2000-10-03 | 株式会社平間理化研究所 | レジスト剥離液管理装置 |
| US20030073242A1 (en) * | 2001-10-11 | 2003-04-17 | Kitchens Keith G. | Apparatus for controlling stripping solutions methods thereof |
| JP2004219452A (ja) * | 2003-01-09 | 2004-08-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法 |
| CN101452224B (zh) * | 2003-06-27 | 2010-12-01 | 友达光电股份有限公司 | 氢氧化四甲铵显影液的回收系统及其方法 |
| US20050076801A1 (en) * | 2003-10-08 | 2005-04-14 | Miller Gary Roger | Developer system |
| US7078162B2 (en) * | 2003-10-08 | 2006-07-18 | Eastman Kodak Company | Developer regenerators |
| JP4183604B2 (ja) * | 2003-12-01 | 2008-11-19 | 東京応化工業株式会社 | 現像装置および現像方法 |
| JP4194541B2 (ja) * | 2004-08-05 | 2008-12-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び液状態検出装置 |
| US7153045B2 (en) * | 2005-01-07 | 2006-12-26 | Eastman Kodak Company | Electro-mechanical system and method for mixing replenishment for plate precursor developers |
| KR100862987B1 (ko) * | 2008-01-28 | 2008-10-13 | 주식회사 디엠에스 | 기판 반송장치 |
| JP6713658B2 (ja) | 2015-07-22 | 2020-06-24 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法 |
| JP6712415B2 (ja) | 2017-01-23 | 2020-06-24 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液管理装置 |
| JP2018120900A (ja) | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液管理装置 |
| JP6736087B2 (ja) | 2017-01-23 | 2020-08-05 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の濃度監視装置、及び現像液管理装置 |
| JP2018120897A (ja) | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の濃度監視装置、及び現像液管理装置 |
| JP6763608B2 (ja) | 2017-01-23 | 2020-09-30 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の二酸化炭素濃度表示装置、及び現像液管理装置 |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211520A (ja) * | 1985-07-10 | 1987-01-20 | Hitachi Ltd | 薬液調合方法 |
| JPS6264792A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-23 | 株式会社島津製作所 | 超伝導磁場発生装置における保冷用液体補給装置 |
| JPS62131368A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-13 | Nec Corp | 給油所における油液の在庫管理システム |
| JPS62186266A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Canon Inc | 現像装置 |
| JPS62186265A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Canon Inc | 現像装置 |
| JPS63100460A (ja) * | 1986-10-16 | 1988-05-02 | Konica Corp | 現像処理の安定性等が改良される感光材料の処理方法と自動現像機 |
| JPS6427624A (en) * | 1987-02-10 | 1989-01-30 | Hitachi Plant Eng & Constr Co | Dilution device for stock solution of developer |
| JPH01180548A (ja) * | 1988-01-12 | 1989-07-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像方法 |
| JPH02254342A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-15 | Hitachi Condenser Co Ltd | 現像液の不純物量検出方法 |
| JPH0330314A (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-08 | Fujitsu Ltd | レジスト現像装置と現像液の管理方法 |
| JPH03107167A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置 |
| JPH03177843A (ja) * | 1989-12-07 | 1991-08-01 | Casio Comput Co Ltd | フォトレジストの現像装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8001443A (nl) * | 1980-03-11 | 1981-10-01 | Anderson & Vreeland Bv | Werkwijze en inrichting voor het nabehandelen van een buigzame drukvorm. |
| JPS5895349A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性プレ−トの現像補充液補充方法 |
| US4857750A (en) * | 1987-12-17 | 1989-08-15 | Texas Instruments Incorporated | Sensor for determining photoresist developer strength |
| US5168296A (en) * | 1988-04-20 | 1992-12-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for processing photosensitive material |
| US5121164A (en) * | 1988-06-06 | 1992-06-09 | Spectrum Sciences B.V. | Method for maintaining a liquid composition |
| US5055870A (en) * | 1989-02-17 | 1991-10-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Waterless presensitized lithographic printing plate developing apparatus |
-
1991
- 1991-08-07 JP JP3222130A patent/JP2561578B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-07-02 US US07/907,665 patent/US5223881A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-07 EP EP92307245A patent/EP0527058B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-07 DE DE69227343T patent/DE69227343T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-07 KR KR1019920014292A patent/KR0119116B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211520A (ja) * | 1985-07-10 | 1987-01-20 | Hitachi Ltd | 薬液調合方法 |
| JPS6264792A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-23 | 株式会社島津製作所 | 超伝導磁場発生装置における保冷用液体補給装置 |
| JPS62131368A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-13 | Nec Corp | 給油所における油液の在庫管理システム |
| JPS62186266A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Canon Inc | 現像装置 |
| JPS62186265A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Canon Inc | 現像装置 |
| JPS63100460A (ja) * | 1986-10-16 | 1988-05-02 | Konica Corp | 現像処理の安定性等が改良される感光材料の処理方法と自動現像機 |
| JPS6427624A (en) * | 1987-02-10 | 1989-01-30 | Hitachi Plant Eng & Constr Co | Dilution device for stock solution of developer |
| JPH01180548A (ja) * | 1988-01-12 | 1989-07-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像方法 |
| JPH02254342A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-15 | Hitachi Condenser Co Ltd | 現像液の不純物量検出方法 |
| JPH0330314A (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-08 | Fujitsu Ltd | レジスト現像装置と現像液の管理方法 |
| JPH03107167A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置 |
| JPH03177843A (ja) * | 1989-12-07 | 1991-08-01 | Casio Comput Co Ltd | フォトレジストの現像装置 |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08108131A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学反応装置とその運転方法 |
| JPH09162094A (ja) * | 1995-12-05 | 1997-06-20 | Tokuyama Corp | 現像原液の希釈方法 |
| WO1998029900A1 (fr) * | 1996-12-25 | 1998-07-09 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Unite de commande centralisee de liquide chimique d'impression de motifs |
| JPH10319604A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-04 | Toshiba Electron Eng Corp | レジストの現像方法および現像装置 |
| JPH1184679A (ja) * | 1997-09-08 | 1999-03-26 | Nagase & Co Ltd | 感光性樹脂の連続現像方法及び現像開始剤 |
| JP2000081700A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-03-21 | Nippon Zeon Co Ltd | パタ―ン形成方法 |
| US6187519B1 (en) | 1998-10-30 | 2001-02-13 | Organo Corporation | Process and equipment for recovering developer from photoresist development waste and reusing it |
| KR100520252B1 (ko) * | 2001-02-06 | 2005-10-11 | 나가세 상교오 가부시키가이샤 | 현상액 제조 장치 및 현상액 제조 방법 |
| JP2002303991A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-18 | Sharp Corp | ハイブリッド型レジスト現像装置、それを用いたレジスト現像方法および該方法によって得られた液晶ディスプレイ |
| US6875359B2 (en) * | 2001-06-01 | 2005-04-05 | Nagase & Co., Ltd. | Developer waste liquid regenerating apparatus and method |
| JP2003033760A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-04 | Kemitekku:Kk | 現像液再生装置 |
| KR100553116B1 (ko) * | 2001-08-16 | 2006-02-22 | 가부시키가이샤 히라마리카겐큐죠 | 알칼리계 가공액, 가공액 조정 방법 및 장치, 및 가공액공급 방법 및 장치 |
| JP2004101999A (ja) * | 2002-09-11 | 2004-04-02 | Mitsubishi Chemical Engineering Corp | 現像液のリサイクル供給装置 |
| JP2004118197A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Au Optronics Corp | テトラメチルアンモニア水酸化物（ｔｍａｈ）を含むフォトレジストの現像液におけるリサイクル方法およびそのシステム |
| JP2004170451A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-17 | Tokyo Electron Ltd | 現像方法及び現像装置 |
| JP2005070351A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Nagase & Co Ltd | 現像液供給方法及び装置 |
| JP2011107346A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-02 | Ishihara Chem Co Ltd | 現像液中のフォトレジスト溶解量の測定方法 |
| JP2017028091A (ja) * | 2015-07-22 | 2017-02-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の管理方法及び装置 |
| JP2017028089A (ja) * | 2015-07-22 | 2017-02-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定方法及び装置、並びに、現像液管理方法及び装置 |
| TWI676086B (zh) * | 2015-07-22 | 2019-11-01 | 日商平間理化研究所股份有限公司 | 顯影液之管理方法及裝置 |
| CN108345168A (zh) * | 2017-01-23 | 2018-07-31 | 株式会社平间理化研究所 | 显影装置 |
| JP2018120895A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像装置 |
| JP2018120893A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の成分濃度測定装置、及び現像液管理装置 |
| JP2018120901A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US5223881A (en) | 1993-06-29 |
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