JP6713658B2 - 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 381
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 190
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 190
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 45
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 235
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 74
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 48
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 33
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 19
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 19
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 16
- 238000011161 development Methods 0.000 description 16
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 14
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 4
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- BTWUQKODQADIOV-UHFFFAOYSA-M [NH4+].[OH-].[OH-].C[N+](C)(C)CCO Chemical compound [NH4+].[OH-].[OH-].C[N+](C)(C)CCO BTWUQKODQADIOV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000004397 blinking Effects 0.000 description 1
- 150000005323 carbonate salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 sodium silicate Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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Description
図2は、本実施形態に係る現像液の成分濃度測定装置の模式図である。
図4は、密度計により測定された現像液の密度値に基づいて、現像液の密度と二酸化炭素濃度との間の対応関係を用いて、現像液に補充液を補給することにより現像液の二酸化炭素濃度を管理する現像液管理装置の模式図である。説明の便宜のために、現像液管理装置Eは、現像工程設備Bに接続された態様で現像工程設備B、補充液貯留部C、循環攪拌機構Dとともに図示している。
図5は、密度計により測定された現像液の密度値に基づいて、現像液の密度と二酸化炭素濃度との間の対応関係から二酸化炭素濃度を算出し、算出された現像液の二酸化炭素濃度に基づいて現像液に補充液を補給することにより現像液の二酸化炭素濃度を管理する現像液管理装置の模式図である。説明の便宜のために、現像液管理装置Eは、現像工程設備Bに接続された態様で現像工程設備B、補充液貯留部C、循環攪拌機構Dとともに図示している。
図6は、密度計により測定された現像液の密度値に基づいて、現像液の密度と二酸化炭素濃度との間の対応関係から二酸化炭素濃度を算出し、算出された現像液の二酸化炭素濃度に基づいて現像液に補充液を補給することにより現像液の二酸化炭素濃度を管理する現像液管理装置の模式図である。説明の便宜のために、現像液管理装置Eは、現像工程設備Bに接続された態様で現像工程設備B、補充液貯留部C、循環攪拌機構Dとともに図示している。
1…測定部
11…密度計、12、13…測定手段、14…サンプリングポンプ、15…サンプリング配管、16…出口側配管
2…演算部
21…演算ブロック、22…表示手段
23…演算制御部(例えばコンピュータ)
3…制御部
31…制御ブロック
41〜43…制御弁、44、45、46、47…バルブ、
51…試料セル、52…温度計、53…ペルチェ素子、54…恒温ブロック、55…断熱材、56…振動子、61…現像液貯留槽、62…オーバーフロー槽、63…液面計、64…現像室フード、65…ローラーコンベア、66…基板、67…現像液シャワーノズル、71…廃液ポンプ、72、74…循環ポンプ、73、75…フィルター、80…現像液管路、81、82…補充液(現像原液及び/又は新液)用管路、83…純水用管路、84…合流管路、85…循環管路、86…窒素ガス用管路、91、92…補充液貯留槽
Claims (7)
- 密度計と、
前記密度計により測定されたアルカリ性を示す現像液の密度値に基づいて、前記現像液の密度値と二酸化炭素濃度値との間の対応関係から、前記現像液の二酸化炭素濃度を算出する演算手段と、
を備える現像液の成分濃度測定装置。 - アルカリ性を示す現像液の密度を測定し、
測定された前記現像液の密度に基づいて、前記現像液の密度と二酸化炭素濃度との間の対応関係から、前記現像液の二酸化炭素濃度を算出すること、
を含む現像液の成分濃度測定方法。 - 密度計と、
前記密度計により測定されたアルカリ性を示す現像液の密度値に基づいて、前記現像液の密度値と二酸化炭素濃度値との間の対応関係を用いて、前記現像液の二酸化炭素濃度が所定の管理値又は管理値以下となるように、前記現像液に補給される補充液を送液する流路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御手段と、
を備える現像液管理装置。 - アルカリ性を示す現像液の密度を測定し、
測定された前記現像液の密度に基づいて、前記現像液の密度と二酸化炭素濃度との間の対応関係を用いて、前記現像液の二酸化炭素濃度が所定の管理値又は管理値以下となるように、前記現像液に補充液を補給すること、
を含む現像液管理方法。 - 密度計と、
前記密度計により測定されたアルカリ性を示す現像液の密度値に基づいて、前記現像液の密度値と二酸化炭素濃度値との間の対応関係から、前記現像液の二酸化炭素濃度を算出する演算部と、前記演算部で算出される前記現像液の二酸化炭素濃度に基づいて、前記現像液の二酸化炭素濃度が所定の管理値又は管理値以下となるように、前記現像液に補給される補充液を送液する流路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、を備える演算制御手段と、
を備える現像液管理装置。 - 密度計と、
前記密度計により測定されたアルカリ性を示す現像液の密度値に基づいて、前記現像液の密度値と二酸化炭素濃度値との間の対応関係から、前記現像液の二酸化炭素濃度を算出する演算手段と、
前記演算手段で算出される前記現像液の二酸化炭素濃度に基づいて、前記現像液の二酸化炭素濃度が所定の管理値又は管理値以下となるように、前記現像液に補給される補充液を送液する流路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御手段と、
を備える現像液管理装置。 - アルカリ性を示す現像液の密度を測定し、
測定された前記現像液の密度に基づいて、前記現像液の密度と二酸化炭素濃度との間の対応関係から、前記現像液の二酸化炭素濃度を算出し、
算出される前記現像液の二酸化炭素濃度が所定の管理値又は管理値以下となるように、前記現像液に補充液を補給すること、
を含む現像液管理方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015144970A JP6713658B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法 |
KR1020150181198A KR20170011961A (ko) | 2015-07-22 | 2015-12-17 | 현상액의 성분 농도 측정 장치, 성분 농도 측정 방법, 현상액 관리 장치, 및 현상액 관리 방법 |
TW104143284A TWI688836B (zh) | 2015-07-22 | 2015-12-23 | 顯影液的成分濃度測定裝置、成分濃度測定方法、顯影液管理裝置、及顯影液管理方法 |
CN201510994050.0A CN106371297A (zh) | 2015-07-22 | 2015-12-25 | 显影液成分浓度测定装置及方法、显影液管理装置及方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015144970A JP6713658B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017028090A JP2017028090A (ja) | 2017-02-02 |
JP2017028090A5 JP2017028090A5 (ja) | 2018-04-05 |
JP6713658B2 true JP6713658B2 (ja) | 2020-06-24 |
Family
ID=57880824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015144970A Expired - Fee Related JP6713658B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 現像液の成分濃度測定装置、成分濃度測定方法、現像液管理装置、及び現像液管理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6713658B2 (ja) |
KR (1) | KR20170011961A (ja) |
CN (1) | CN106371297A (ja) |
TW (1) | TWI688836B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018120897A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の濃度監視装置、及び現像液管理装置 |
JP2018120896A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の二酸化炭素濃度表示装置、及び現像液管理装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6505534B2 (ja) * | 2015-07-22 | 2019-04-24 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の管理方法及び装置 |
JP2018200943A (ja) * | 2017-05-26 | 2018-12-20 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の濃度管理装置、及び、基板の現像処理システム |
JP6582037B2 (ja) * | 2017-12-06 | 2019-09-25 | ジャパンクリエイト株式会社 | レジスト現像液の管理装置及び管理方法 |
WO2022074820A1 (ja) * | 2020-10-09 | 2022-04-14 | 三菱重工業株式会社 | 分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラム |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2561578B2 (ja) | 1991-08-07 | 1996-12-11 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液管理装置 |
CN1327888A (zh) * | 2000-06-09 | 2001-12-26 | 株式会社平间理化研究所 | 基板表面处理装置 |
JP3610045B2 (ja) * | 2001-02-06 | 2005-01-12 | 株式会社平間理化研究所 | 精製現像液製造装置及び精製現像液製造方法 |
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TWI298826B (en) * | 2001-02-06 | 2008-07-11 | Hirama Lab Co Ltd | Purified developer producing equipment and method |
US6541188B2 (en) * | 2001-05-11 | 2003-04-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Developer for alkaline-developable lithographic printing plates |
JP4366490B2 (ja) * | 2003-08-22 | 2009-11-18 | 長瀬産業株式会社 | 現像液供給方法及び装置 |
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JP6081458B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2017-02-15 | 富士フイルム株式会社 | 現像処理廃液濃縮方法及び現像処理廃液のリサイクル方法 |
-
2015
- 2015-07-22 JP JP2015144970A patent/JP6713658B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2015-12-17 KR KR1020150181198A patent/KR20170011961A/ko not_active Application Discontinuation
- 2015-12-23 TW TW104143284A patent/TWI688836B/zh not_active IP Right Cessation
- 2015-12-25 CN CN201510994050.0A patent/CN106371297A/zh active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018120897A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の濃度監視装置、及び現像液管理装置 |
JP2018120896A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 株式会社平間理化研究所 | 現像液の二酸化炭素濃度表示装置、及び現像液管理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201704900A (zh) | 2017-02-01 |
JP2017028090A (ja) | 2017-02-02 |
TWI688836B (zh) | 2020-03-21 |
CN106371297A (zh) | 2017-02-01 |
KR20170011961A (ko) | 2017-02-02 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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