JPS6264792A - 超伝導磁場発生装置における保冷用液体補給装置 - Google Patents

超伝導磁場発生装置における保冷用液体補給装置

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Publication number
JPS6264792A
JPS6264792A JP60203920A JP20392085A JPS6264792A JP S6264792 A JPS6264792 A JP S6264792A JP 60203920 A JP60203920 A JP 60203920A JP 20392085 A JP20392085 A JP 20392085A JP S6264792 A JPS6264792 A JP S6264792A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid nitrogen
liquid
cold storage
container
pipe
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Pending
Application number
JP60203920A
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English (en)
Inventor
真野 祐幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
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Publication of JPS6264792A publication Critical patent/JPS6264792A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は超伝導磁場発生装置等の超低温保持を必要々す
る装置における低温維持装置に関する。
口、従来の技術 超伝導磁場発生装置、例えば、NMRイメージング装置
において、従来はコイルの冷却用液体ヘリウムの保冷に
使われている液体窒素を月2回程度人力で保冷用液体窒
素容器に補給する必要があり、その作業性において、 ■、 補線用液体窒素容器を人力で運搬すると共に、そ
の通路を確保しておく必要がある。
2、 超伝導磁場発生装置の近辺には、強力な磁場が発
生しているため、補給用容器に磁性体材質が含まれる場
合は、同容器が超伝導磁場発生装置に引き寄せられる危
険性がある。
3、 保冷用液体窒素容器内の液体窒素の量を定期的に
調査する必要がある。
等の欠点を有していた。
ハ、考□案が解決しようとする問題点 超伏゛導磁場発生装置において、保冷用液体窒素容器内
の液体窒素が蒸発して減量するため、同容器内の液体窒
素の残けの点検と補給を人力で行ろ必要があった。
本発明は、超伝導磁場発生装置における保冷用液体窒素
の補給の自動化をはがろことで、同装置の安全性の向−
にと保冷力の維持管理を容易にする事を目的とする。
二0問題点解決のための手段 本発明は、超伝導磁場発生装置において、保冷用液体窒
素容器に補給する液体窒素を保管する補給用液体窒素容
器を固定設置し、同容器、1−保冷用液体窒素容器を液
体窒素輸送パイプで連結し、同パイプには、補給用液体
窒素容器からの流出「1の所と、保冷用液体窒素容器へ
の流入口の所には流量調節可能のモーター付制御弁、パ
イプ内のガスを排出するガス抜き口の所に自動ガス抜き
弁を設け、保冷用液体窒素容器内の液体窒素の量を検出
する液面検出装置よりの信号で、液面がある位置以下に
なれば、液体窒素の供給を開始し、液面がある位置に達
する古、補給を停止させるように、各モーター付制御弁
を制御して、補給用液体窒素容器から保冷用液体窒素容
器に液体窒素を自動的に移送する。
ポ0作用 保冷用液体窒素容器内の液面が、ある点用下になると液
面検出装置が作動して、補給用液体窒素容器側の流出「
1の弁が徐々に開くと共に、加圧装置が作動すると液体
窒素がパイプ内にゆっくりと充填されていき、パイプ中
央」一部のガス抜き口まで液体窒素が満たされると、通
常開いているパイプ−上部のガス抜き日が閉じ、通常開
じている保冷用液体窒素容器側の流入口の弁が開いて、
保冷用液体窒素容器内に液体窒素が流入する。保冷用液
体窒素容器内に液体窒素がある液面まで流入すると液面
検出装置が作動して、全部の弁を閉じることで、自動的
に保冷用液体窒素容器に液体窒素を補給して、超伝導磁
場発生装置の安全性の向上と保冷力の維持管理を容易に
させる。
へ、実施例 第1図において、Iは超伝導マグネット本体、2は超伝
導マグネット本体を冷却する冷却用液体ヘリウム容器、
3は冷却用液体ヘリウム容器2を保冷する保冷用液体窒
素容器、4.4’、4″は夫々各容器間の熱伝導を遮断
する断熱用二重壁、5は保冷用液体窒素を貯蔵する補給
用液体窒素容器、6は保冷用液体窒素容器3内の液体窒
素の液面を検出する液面検出装置、7は液面検出装置6
から得た信号を利用して各弁を制御する制御装置、8.
9.10はモーター付制御弁、11は圧力調整弁、】2
は、第2図に示すような構造の自動ガス抜き弁で、気体
が下から流入する時は、内にある球が点線の位置にある
が、液体が流入してくると浮力により球が上昇して、球
が上部弁座に圧接して液体の流出を止める構造の自動ガ
ス抜き弁である。13は液体窒素輸送用パイプ、14は
圧力センサー、15は圧力計、16は補給用液体窒素容
器5内の圧力を高めるためのヘリウムガスボンベである
次に−F述装置の動作を説明する。第3図は動作のフロ
ーチャートで、まず第1図における弁8゜9.10は通
常開じており、保冷用液体窒素容器3内の液体窒素の液
面がE点以下になれば、液面検出装置6より制御装置7
に信号が送られ、制御装置7により弁11に弁8が徐々
に開き(イ)、輸送用パイプ13に液体窒素が徐々送ら
れる七、当初液体窒素は同パイプ13が外気温になって
いるので急激に気化され、発生したガスは弁9が閉じて
いるので、自動ガス抜き弁12より排出される。
液体窒素の気化によりパイプ13が充分冷却されると、
液体窒素の気化は止まり、液体窒素がパイプ13に充満
して自動ガス抜き弁12まで一杯になれば自動ガス抜き
弁12は第2図の構造であるから、自動的に閉じること
により、補給用液体窒素容器5内の圧力が上昇して、指
定の圧力になれば(ロ)、圧力センサー14から制御装
置7に信号が送られ、制御装置7により弁9が開き(ハ
)、液体窒素が保冷用液体窒素容器3に流入を始める。
液体窒素の流入により保冷用液体窒素容器3内の圧力が
高まれば、圧力調整弁11によって、自動的にガスが排
出され、液体窒素がF点まで満たされると(ニ)、液面
検出装置6より制御装置7に信号が送られ、制御装置7
にJ:り弁8と弁9と弁10が閉じて(ホ)、液体窒素
の補給が終了する。液面検出手段としては、半導体抵抗
素子の温度による抵抗変化を利用し、液面が測定端子に
達した時の測定端子の温度変化によって生じる電気的抵
抗f+fiの変化を利用している。
ト、効果 本発明によれば、保冷用液体窒素容器に液体窒素を自動
的に補給できるので、超伝導磁場発生装置における保冷
用液体の液体窒素の補給の際の安全性と超伝導磁場発生
装置における保冷力の維持管理の省力化を高めることが
可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の側面図、第2図は自動ガス
抜き弁12の詳細図、第3図は制御装置の動作説明図。 代理人  弁理士 縣  浩 介 = 7− す 畳 侵

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 超伝導磁場発生装置において、磁場発生用超電導コイル
    を冷却する液体ヘリウム容器の保冷用外筒である保冷用
    液体窒素容器の内部に液体の液面を検出する液面検出装
    置を内設し、補給用液体窒素容器を固定設置し、同補給
    用液体窒素容器と上記保冷用液体窒素容器の間を液体窒
    素を移送するパイプで接続し、同パイプ内のガスを排出
    するガス抜き弁を同パイプ上部に付設し、同パイプ両端
    に制御弁を設け、前記液面検出装置よりの信号で、液面
    がある位置以下になれば、液体窒素の供給を開始し、液
    面がある位置に達すると、補給を停止させるように上記
    制御弁を制御する制御装置を設けた超伝導磁場発生装置
    における保冷用液体補給装置。
JP60203920A 1985-09-13 1985-09-13 超伝導磁場発生装置における保冷用液体補給装置 Pending JPS6264792A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH055644A (ja) * 1990-01-29 1993-01-14 Integrated Designs Inc 液体分配装置及び液体分配方法
JPH0540345A (ja) * 1991-08-07 1993-02-19 Hirama Rika Kenkyusho:Kk 現像液管理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH055644A (ja) * 1990-01-29 1993-01-14 Integrated Designs Inc 液体分配装置及び液体分配方法
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