JPS62173473A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野］ 本発明は被加工物の表面にパターン形成剤を塗布し、露
光後現像するための現像装置に係り、特にポジ型の感光
性樹脂を安定して現像するに好適な現像装置に関するも
のである。

［従来の技術］ フォトリソグラフィー技術を用いて被加工物の表面をエ
ツチングする事により各種製品を製造する！Ｋが工業と
特に電子工業の分野において広く利用されている。この
エツチングの際には被加工物表面にパターン形成剤たる
感光性樹脂（フォトレジスト）を塗布した後、該レジス
トを所望パターンにて露光後、現像する事が行われる。

レジストとして、ポジ型のレジストを用いた場合一般に
はアルカリ性の現像液が用いられるが、繰り返し使用し
ていると現像液中に溶解しているレジストの濃度が上昇
し、現像液のアルカリ度が低Ｆするため十分な現像が行
なわれなくなる。

従って定期的に現像液を交換する必要があった。

しかし現像液の交換は工程を一時中断せざるをえず、コ
スト高になるばかりか、大雀のアルカリ廃液の処理は労
働衛生上にも問題があった。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明は前記問題点を解決するもので、機能劣化した現
像液を交換せずに再使用可能とし、作業効率を向上し、
現像液コスト、処理を低減すると共に、常に安定した現
像を行わしめる現像装置を提供することにある。

［問題点を解決するための手段］ 本発明はこのために被加工物の表面にパターン形成剤を
塗布し露光後、現像する現像液の再生を行う再生手段を
設けてなる現像装置をその手段と利用した除去装置、疎
水性樹脂を充填した充填塔の如きものが採用される力ぐ
、陰イオン交換樹脂を膜 充填したもの、陰イオン交換檄懲を利用したもの△ は現像液内の陰イオン性の溶出レジスト成分がイオン交
換されて除去されることにより再生され、疎水性樹脂を
充填したものは溶出レジスト成分が疎水性相互作用によ
り除去されることにより再生されることを利用したもの
である。

［実施例］ 量子、本発明の実施例を図面に基づき説明する。

図に示す如く、現像槽１内には現像液２が蓄溜され、パ
ターン形成剤を塗布して露光された被加工物３は現像槽
１の上方側に配置するジャワ４の下に対峙して配置され
る（図示では被加工物３の支持り段が表示されていない
が適宜のものが配設される）。現像槽１内の現像液２は
ポンプ５により排出管６から排出されると共に、再生手
段７に導入される。再生手段にはジャワ４に連結する供
給管８が連結される。再生された現像液２はジャワ４か
ら被加工物３に向って噴出され、これを現像する。

現像液２は繰返し使用により通常はレジストａ度が次第
に高くなるが１本実施例では現像液２が再生手段７を介
し循環作用され、再生手段により前記の如くレジスト成
分が除去されるためレジスト成分の濃度のと昇が制限さ
れ、一定のアルカリ度を有する現像液２がジャワ４から
供給されることになる。

［発明の効果］ 以上の説明によって明らかな如く、本発明によれば現像
液が順次再生され機能劣化が防止されるため現像液の交
換を必要とせず、作業効率が向上のだめの作業処理を必
要としないため大量のアルカリ廃液の処理が不キとなり
、衛生面の問題も解除される効果がＬげられる。

【図面の簡単な説明】

：５１図は本発明の一実施例の構成図である。 １・・・現像槽、２・・・現像液、３・・・被加工物、
４・・・ジャワ、５・・・ポンプ、６・・・排出管、７
・・・再生手段、８・・・供給管。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）被加工物の表面にパターン形成剤を塗布し露光後
   、現像する現像装置において、使用現像液を再生する再
   生手段を設けることを特徴とする現像装置。
2. （２）前記再生手段が、陰イオン交換樹脂および疎水性
   樹脂を充填した充填塔、陰イオン交換膜を利用した陰イ
   オン除去装置であることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項に記載の現像装置。