KR970011646B1 - 포토레지스트 현상방법 - Google Patents

포토레지스트 현상방법 Download PDF

Info

Publication number
KR970011646B1
KR970011646B1 KR1019940005774A KR19940005774A KR970011646B1 KR 970011646 B1 KR970011646 B1 KR 970011646B1 KR 1019940005774 A KR1019940005774 A KR 1019940005774A KR 19940005774 A KR19940005774 A KR 19940005774A KR 970011646 B1 KR970011646 B1 KR 970011646B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photoresist
developer
water
crown ether
crown
Prior art date
Application number
KR1019940005774A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950028020A (ko
Inventor
전준성
함영목
Original Assignee
현대전자산업 주식회사
김주용
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 현대전자산업 주식회사, 김주용 filed Critical 현대전자산업 주식회사
Priority to KR1019940005774A priority Critical patent/KR970011646B1/ko
Publication of KR950028020A publication Critical patent/KR950028020A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR970011646B1 publication Critical patent/KR970011646B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

포토레지스트 현상방법
본 발명은 포토리소그래피 공정중 포토레지스트 현상방법에 관한 것이다.
현상(Development)이란 자외선(ultraviolet, UV)에 의한 분해된 광반응물질(PAC)이 산으로 변하여 이 산을 현상액이 용해시킴으로써 패턴을 형성하는 것이다.
종래 포토리소그래피 공정에 사용되는 현상액으로는 순수(DI Water)에 2.38Wt%의 TMAH(Tetra Methal Ammonium Chloride)가 포함된 용액이 주로 이용되어 왔다.
그러나 선과선, 홀과홀 사이가 점점 미세, 조밀해짐에 따라 광을 받지 않은 부분의 포토레지스트는 친유성이기 때문에 친수성이 강한 현상액은 미세패턴 사이를 침투하지 못해 선명한 패턴을 형성하기가 어렵게 되어 스컴(scum)이나 브리지(bridge)를 유발시키는 문제점이 따른다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 발명은 포토레지스트의 함수율(Wettability)을 증가시켜 선명한 패턴을 형성함으로써 해상도 및 촛점 심도를 증대시키는 포토레지스트 현상방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 포토레지스트 현상방법에 있어서, 순수(DI Water)에 TMAH(Tetra Methal Ammonium Chloride), 비이온성 계면활성제(Non-ionic surfaetant)인 크라운에테르(Crownether)가 포함된 용액에서 현상하는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명을 상술한다.
본 발명은 0.4 마이크로미터 이하의 미세패턴 형성시 순수(DI Water)에 2.38Wt%의 TMAH(Tetra Methal Ammonium Chloride)가 포함된 기존의 현상액에 비이온성 계면활성제(Non-ionic surfaetant) 계통인 크라운 에례르(Crown-ether), 예를 들면 clibenzo-18-crown 6를 100 내지 300PPM 첨가하여 현상액이 미세패턴 사이를 침투해 들어가기 쉽게 함으로써 스컴(SCUM)이 없는 깨끗한 패턴을 형성하고, 해상도나 촛점심도를 증가시키면서 노광에너지도 낮추는 방법이다.
크라운 에테르(Crown-ether)는 오래전부터 계면활성제, 상간변위 촉매(Phase-transfer catalyst), 정화제(중금속 제거용)으로 널리 사용되어 왔다.
크라운에테르는 친수성기인 -O-와 친유성기인 -CH2-를 골고루 함유하고 있기 때문에 현상액과 포토레지스트 양측과의 친화성이 높은 적적한 계면활성제이다.
즉, 크라운에테르의 -CH2-는 포토레지스트의 친유성기와 친화성이 높기 때문에 포토레지스트의 함수율(Wettability)을 증가시키게 된다. 따라서, 현상액이 미세패턴 사이를 쉽게 침투할 수가 있다.
상기와 같이 이루어지는 본 발명은 포토리소그래피 공정중 미세 패턴 형성시 발생하는 스컴이나 브릿지 등을 줄이고, 해상도나 촛점심도를 증가시키면서 노광에너지도 낮출 수 있다.

Claims (3)

  1. 포토레지스트 현상방법에 있어서, 순수(DI Water)에 TMAH(Tetra Methal Ammonium Chloride), 비이온성 계면활성제(Non-ionic surfaetant)은 크라운 에테르(Crown-ether)라 포함된 용액에서 현상하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 크라운에테르는 clibenzo-18-crown 6인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 첨가되는 크라운에테르의 양은 100 내지 300PPM인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상방법.
KR1019940005774A 1994-03-22 1994-03-22 포토레지스트 현상방법 KR970011646B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940005774A KR970011646B1 (ko) 1994-03-22 1994-03-22 포토레지스트 현상방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940005774A KR970011646B1 (ko) 1994-03-22 1994-03-22 포토레지스트 현상방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR950028020A KR950028020A (ko) 1995-10-18
KR970011646B1 true KR970011646B1 (ko) 1997-07-12

Family

ID=19379398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940005774A KR970011646B1 (ko) 1994-03-22 1994-03-22 포토레지스트 현상방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR970011646B1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR950028020A (ko) 1995-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1251678A (en) Aqueous-alkaline solution and process for developing positive-working reproduction layers
EP0033232B1 (en) Developers and methods of processing radiation sensitive plates using the same
JPH0322621B2 (ko)
JPS6151311B2 (ko)
JPH0470756A (ja) 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液
TWI223735B (en) Aqueous developing solutions for reduced developer residue
KR970011646B1 (ko) 포토레지스트 현상방법
JP2736296B2 (ja) リソグラフ印刷要素のための単相現像液
JP3109525B2 (ja) 水酸化テトラアルキルアンモニムの再生方法
EP0109796B1 (en) Developer for light-sensitive lithographic printing plate precursor
JPS59121336A (ja) 感光性平版印刷版の現像液
EP0051627A1 (en) Photoresist developers and process
JP3394310B2 (ja) パターン形成方法
US3410802A (en) Process and composition for etching of copper metal
JPH10171128A (ja) 濃厚テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド水溶液
JP7382484B2 (ja) リソグラフィ用工程液組成物及びこれを用いたパターン形成方法
US3931004A (en) Method of treating waste liquids from photographic processings
US5278030A (en) Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12
JPS60111246A (ja) 感光性平版印刷版の現像液
JPH11352700A (ja) ホトレジスト用アルカリ性現像液
KR100680402B1 (ko) 이멀젼 리소그래피용 액체 조성물 및 이를 이용한리소그래피 방법
EP0366321A2 (en) Development of radiation sensitive compositions
CA2134585A1 (en) Recovery of silver
US6093522A (en) Processing of lithographic printing plate precursors
JP2915936B2 (ja) 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090922

Year of fee payment: 13

LAPS Lapse due to unpaid annual fee