JP2736296B2 - リソグラフ印刷要素のための単相現像液 - Google Patents
リソグラフ印刷要素のための単相現像液Info
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- JP2736296B2 JP2736296B2 JP4291380A JP29138092A JP2736296B2 JP 2736296 B2 JP2736296 B2 JP 2736296B2 JP 4291380 A JP4291380 A JP 4291380A JP 29138092 A JP29138092 A JP 29138092A JP 2736296 B2 JP2736296 B2 JP 2736296B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Description
【０００１】
【技術分野】本発明はリソグラフ印刷版を調製するため
に使用する現像液に関するものである。さらに詳細に
は、本発明はサブトラクティブ法によるジアゾ増感ホト
ポリマーのリソグラフ印刷要素の現像に特に好適な、単
相（single-phese）水性現像液に関するものである。
に使用する現像液に関するものである。さらに詳細に
は、本発明はサブトラクティブ法によるジアゾ増感ホト
ポリマーのリソグラフ印刷要素の現像に特に好適な、単
相（single-phese）水性現像液に関するものである。
【０００２】
【背景技術】リソグラフ印刷版は、感光性印刷要素を像
露光して、露光域と未露光域との間の溶解性に変化を生
じさせ、ついで現像工程において溶解性の大きい区域を
除去することにより作ることができる。この現像工程は
アディティブ法またはサブトラクティブ法のいずれかと
することができる。アディティブ法では、現像液は溶解
性の大きい区域を除去するが、同時に印刷版上に在る溶
解性の小さい区域上に親油性の補強用樹脂を沈着させ
る。サブトラクティブ法では、非画像域は現像液により
除去されるが付加的な補強用の樹脂は存在しない。サブ
トラクティブ法により現像される印刷要素（すなわち、
サブトラクティブ要素）は、一般にフリーラジカルまた
はカチオン性のいずれかの光誘起重合にもとづくもので
ある。
露光して、露光域と未露光域との間の溶解性に変化を生
じさせ、ついで現像工程において溶解性の大きい区域を
除去することにより作ることができる。この現像工程は
アディティブ法またはサブトラクティブ法のいずれかと
することができる。アディティブ法では、現像液は溶解
性の大きい区域を除去するが、同時に印刷版上に在る溶
解性の小さい区域上に親油性の補強用樹脂を沈着させ
る。サブトラクティブ法では、非画像域は現像液により
除去されるが付加的な補強用の樹脂は存在しない。サブ
トラクティブ法により現像される印刷要素（すなわち、
サブトラクティブ要素）は、一般にフリーラジカルまた
はカチオン性のいずれかの光誘起重合にもとづくもので
ある。
【０００３】サブトラクティブ法による印刷要素用の現
像液は、全有機性または水性ベースのいずれかの、エマ
ルジョン系もしくは単相系である。エマルジョン現像液
は非画像域からとり除いたポリマーを画像域上に再沈着
させる傾向があり、その結果現像液の板上に好ましくな
いしみを生じるのである。またエマルジョンは保存に際
して分離する傾向がありその有効寿命が限定される。エ
マルジョン現像液には多くのリソグラフ版処理装置に不
適切な高い粘度レベルを示すものがある。
像液は、全有機性または水性ベースのいずれかの、エマ
ルジョン系もしくは単相系である。エマルジョン現像液
は非画像域からとり除いたポリマーを画像域上に再沈着
させる傾向があり、その結果現像液の板上に好ましくな
いしみを生じるのである。またエマルジョンは保存に際
して分離する傾向がありその有効寿命が限定される。エ
マルジョン現像液には多くのリソグラフ版処理装置に不
適切な高い粘度レベルを示すものがある。
【０００４】全有機性の現像液は不快な臭気、有毒性、
可燃性および重大な処理上の問題などのため一般にあま
り望ましいものではない。
可燃性および重大な処理上の問題などのため一般にあま
り望ましいものではない。
【０００５】そこで、サブトラクティブ法の感光性印刷
要素のため単相の水性ベース現像液が必要とされる。
要素のため単相の水性ベース現像液が必要とされる。
【０００６】
【発明の概要】本発明は： (ａ) 以下の式
【化２】 （式中、ｎは０〜２の整数でありそしてＺ1、Ｚ2、Ｚ3
およびＺ4は各々水素、Ｃ1〜Ｃ3アルキル、ヒドロキシ
アルキル、クロロアルキル、塩素、ヒドロキシルおよび
フェニルよりなる群から選ばれる）を有する脂肪族環状
カーボネートを、現像液の全重量を基準に約５〜５０重
量％と、 (ｂ) 現像液の全重量を基準に約２０〜８０重量％の水
と、 (ｃ) 現像液の全重量を基準に約０.１〜６０重量％の
第４アンモニウム化合物 とからなる、サブトラクティブリソグラフ印刷要素用単
相現像液を提供する。
およびＺ4は各々水素、Ｃ1〜Ｃ3アルキル、ヒドロキシ
アルキル、クロロアルキル、塩素、ヒドロキシルおよび
フェニルよりなる群から選ばれる）を有する脂肪族環状
カーボネートを、現像液の全重量を基準に約５〜５０重
量％と、 (ｂ) 現像液の全重量を基準に約２０〜８０重量％の水
と、 (ｃ) 現像液の全重量を基準に約０.１〜６０重量％の
第４アンモニウム化合物 とからなる、サブトラクティブリソグラフ印刷要素用単
相現像液を提供する。
【０００７】好ましい具体例において、現像液は以下に
示す各成分を１つ以上有している：(１)カーボネートの
水溶性を増加させるのに効果的な親水性剤、(２)第４ア
ンモニウム化合物、(３)重合体の沈降防止剤、(４)色
素、および(５)現像液中で好都合に使用することのでき
る、界面活性剤のようなその他の任意の成分、などであ
る。
示す各成分を１つ以上有している：(１)カーボネートの
水溶性を増加させるのに効果的な親水性剤、(２)第４ア
ンモニウム化合物、(３)重合体の沈降防止剤、(４)色
素、および(５)現像液中で好都合に使用することのでき
る、界面活性剤のようなその他の任意の成分、などであ
る。
【０００８】
【発明の詳述】本発明の単相現像液は水と脂肪族環状カ
ーボネートとからなる。この現像液はさらに第４アンモ
ニウム化合物を含む。一般に水は現像液の全重量を基準
に２０〜８０重量％を占めている。
ーボネートとからなる。この現像液はさらに第４アンモ
ニウム化合物を含む。一般に水は現像液の全重量を基準
に２０〜８０重量％を占めている。
【０００９】本発明の実施に際して選ばれる脂肪族の環
状カーボネートは、水と単相溶液を作るように水中で少
なくとも一部可溶性のものであり、すなわち選択された
カーボネートは水中で５重量％溶液を形成しなお単相を
保持している。
状カーボネートは、水と単相溶液を作るように水中で少
なくとも一部可溶性のものであり、すなわち選択された
カーボネートは水中で５重量％溶液を形成しなお単相を
保持している。
【００１０】選択できるカーボネートは以下の式を有す
る：
る：
【化３】 式中、ｎは０〜２の整数であり、そしてＺ1、Ｚ2、Ｚ3
およびＺ4は各々水素、Ｃ1〜Ｃ3のアルキル、ヒドロキ
シアルキル、クロロアルキル、塩素、ヒドロキシルおよ
びフェニルよりなる群から選ばれるものである。ここで
用いられている特定した置換基は、置換によって本発明
の実施に際してカーボネートを無効なものとしないなら
ば、既に置換されているものを含む。好ましい環状脂肪
族カーボネートは以下の式を有している：
およびＺ4は各々水素、Ｃ1〜Ｃ3のアルキル、ヒドロキ
シアルキル、クロロアルキル、塩素、ヒドロキシルおよ
びフェニルよりなる群から選ばれるものである。ここで
用いられている特定した置換基は、置換によって本発明
の実施に際してカーボネートを無効なものとしないなら
ば、既に置換されているものを含む。好ましい環状脂肪
族カーボネートは以下の式を有している：
【００１１】
【化４】 式中、Ｙは水素、メチルおよびヒドロキシメチルから選
ばれる。
ばれる。
【００１２】好ましい脂肪族環状カーボネートはグリセ
リンカーボネート、エチレンカーボネートおよびプロピ
レンカーボネートである。プロピレンカーボネートは、
印刷要素の未露光域中に存在し得る暗反応生成物をとり
除き、同じ版の露光部分は除去しないという優れた作用
があり特に好ましい。この暗反応生成物は老化または不
適切な保存の結果として生成する溶解性の小さい副産物
のことである。プロピレンカーボネートはまた毒性が比
較的低いので好ましい。
リンカーボネート、エチレンカーボネートおよびプロピ
レンカーボネートである。プロピレンカーボネートは、
印刷要素の未露光域中に存在し得る暗反応生成物をとり
除き、同じ版の露光部分は除去しないという優れた作用
があり特に好ましい。この暗反応生成物は老化または不
適切な保存の結果として生成する溶解性の小さい副産物
のことである。プロピレンカーボネートはまた毒性が比
較的低いので好ましい。
【００１３】この他の有用な代表的なカーボネートは５
−メチル−５−プロピル−１,３−ジオキサン−２−オ
ン；４,４,５,５−テトラクロロ−１,３−ジオキソラン
−２−オン；５,５−ジエチル−１,３−ジオキサン−２
−オン；クロルエチレンカーボネート；４,５−ジクロ
ロ−１,３−ジオキサラン−２−オン；４,５−ジフェニ
ル−１,３−ジオキソール−２−オン；および１,３−ジ
オキサン−２−オンなどである。
−メチル−５−プロピル−１,３−ジオキサン−２−オ
ン；４,４,５,５−テトラクロロ−１,３−ジオキソラン
−２−オン；５,５−ジエチル−１,３−ジオキサン−２
−オン；クロルエチレンカーボネート；４,５−ジクロ
ロ−１,３−ジオキサラン−２−オン；４,５−ジフェニ
ル−１,３−ジオキソール−２−オン；および１,３−ジ
オキサン−２−オンなどである。
【００１４】現像液中のカーボネートの濃度は有効であ
るためには、現像液の全重量を基準に少なくとも約５重
量％とすべきである。カーボネートの分量は第２の相を
形成することなしに、飽和水溶液とするに必要な約１４
重量％までに増加させることができる。しかしながら、
依然として単相系を維持しながら現像液の溶解力を増大
させるため水溶液中で１４％以上にカーボネートの分量
を増大するのが望ましい場合がある。これは現像液に第
３の成分、一般に親水性剤を加えることにより達成する
ことができる。親水性剤とカーボネート間の相互作用に
より単相溶液にさらにカーボネートを添加することが可
能になる。
るためには、現像液の全重量を基準に少なくとも約５重
量％とすべきである。カーボネートの分量は第２の相を
形成することなしに、飽和水溶液とするに必要な約１４
重量％までに増加させることができる。しかしながら、
依然として単相系を維持しながら現像液の溶解力を増大
させるため水溶液中で１４％以上にカーボネートの分量
を増大するのが望ましい場合がある。これは現像液に第
３の成分、一般に親水性剤を加えることにより達成する
ことができる。親水性剤とカーボネート間の相互作用に
より単相溶液にさらにカーボネートを添加することが可
能になる。
【００１５】プロピレングリコールは好ましい親水性剤
である。代表的な他の有用な親水性剤はエチレングリコ
ールとエチレンカーボネートである。親水性剤の混合物
も用いることができる。このような親水性剤を使用する
場合、一般には現像液の全重量を基準に約１〜２０重量
％の量で存在させる。現像液中に１種またはそれ以上の
親水性剤が存在する場合、現像液中のカーボネート濃度
は溶液が単相のままであることを条件に、現像液の全重
量を基準に約５０重量％までとすることができる。
である。代表的な他の有用な親水性剤はエチレングリコ
ールとエチレンカーボネートである。親水性剤の混合物
も用いることができる。このような親水性剤を使用する
場合、一般には現像液の全重量を基準に約１〜２０重量
％の量で存在させる。現像液中に１種またはそれ以上の
親水性剤が存在する場合、現像液中のカーボネート濃度
は溶液が単相のままであることを条件に、現像液の全重
量を基準に約５０重量％までとすることができる。
【００１６】現像液中にはまた第４アンモニウム化合物
を存在させる。特に好ましい種類の第４アンモニウム化
合物は次の式を有するものである：
を存在させる。特に好ましい種類の第４アンモニウム化
合物は次の式を有するものである：
【化５】 式中、ｍは０〜３の整数であり；Ｒ1は好ましくはＣ2〜
Ｃ8のヒドロキシアルキル基であり、そしてＲ2、Ｒ3お
よびＲ4は同一または異なり、好ましくはＣ1〜Ｃ10のア
ルキルまたはアリール基および好ましくはＣ2〜Ｃ8のヒ
ドロキシアルキル基よりなる群から選ばれるものであ
り；そしてＸm-は非反応性の対アニオンである。
Ｃ8のヒドロキシアルキル基であり、そしてＲ2、Ｒ3お
よびＲ4は同一または異なり、好ましくはＣ1〜Ｃ10のア
ルキルまたはアリール基および好ましくはＣ2〜Ｃ8のヒ
ドロキシアルキル基よりなる群から選ばれるものであ
り；そしてＸm-は非反応性の対アニオンである。
【００１７】好都合に選択できるアンモニウム部分の例
にはトリメチルエタノールアンモニウム、ジメチルジエ
タノールアンモニウム、メチルトリエタノールアンモニ
ウムおよびテトラエタノールアンモニウム部分などが含
まれる。また脂環式カーボネートと組み合わせて用いる
場合に有用なものは、第４アンモニウム重合体、たとえ
ばウレイレン第４アンモニウム重合体(ミラノールケミ
カル社からミラボールRの商標名のもとに入手し得る）
およびポリ（１,１−ジメチル−３,５−ジメチルピペリ
ジニウム）である。適当な非反応性の対アニオンにはク
ロライド、ブロマイド、アセテート、ナイトレート、テ
トラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、
サルフェート、スルホネート、ホスフェートなどが含ま
れる。水酸化物は高pHで腐食の問題があるため一般に使
用すべきではない。トリメチルエタノールアンモニウム
クロライドがもっとも好ましい。
にはトリメチルエタノールアンモニウム、ジメチルジエ
タノールアンモニウム、メチルトリエタノールアンモニ
ウムおよびテトラエタノールアンモニウム部分などが含
まれる。また脂環式カーボネートと組み合わせて用いる
場合に有用なものは、第４アンモニウム重合体、たとえ
ばウレイレン第４アンモニウム重合体(ミラノールケミ
カル社からミラボールRの商標名のもとに入手し得る）
およびポリ（１,１−ジメチル−３,５−ジメチルピペリ
ジニウム）である。適当な非反応性の対アニオンにはク
ロライド、ブロマイド、アセテート、ナイトレート、テ
トラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、
サルフェート、スルホネート、ホスフェートなどが含ま
れる。水酸化物は高pHで腐食の問題があるため一般に使
用すべきではない。トリメチルエタノールアンモニウム
クロライドがもっとも好ましい。
【００１８】第４アンモニウム化合物は、典型的には現
像液の全重量を基準に約０.１〜６０重量％の量で存在
させる。
像液の全重量を基準に約０.１〜６０重量％の量で存在
させる。
【００１９】単相現像液はまた重合体沈降防止剤を含む
ことができる。沈降防止剤は非画像域からとり除かれた
感光性塗膜の部分を乳化して、このものの再沈着を防止
する作用をする。好ましい沈降防止剤の例にはエチレン
オキサイドとプロピレンオキサイドのコポリマー；ポリ
ビニルアルコールおよびポリビニルアセテート；ビニル
−マレイン酸無水物コポリマー；ポリエチレングリコー
ル；シクロデキストリン；およびこれらの混合物などが
含まれる。好ましい沈降防止剤はエチレンオキサイドと
プロピレンオキサイドのコポリマーである。
ことができる。沈降防止剤は非画像域からとり除かれた
感光性塗膜の部分を乳化して、このものの再沈着を防止
する作用をする。好ましい沈降防止剤の例にはエチレン
オキサイドとプロピレンオキサイドのコポリマー；ポリ
ビニルアルコールおよびポリビニルアセテート；ビニル
−マレイン酸無水物コポリマー；ポリエチレングリコー
ル；シクロデキストリン；およびこれらの混合物などが
含まれる。好ましい沈降防止剤はエチレンオキサイドと
プロピレンオキサイドのコポリマーである。
【００２０】沈降防止剤は現像液の全重量を基準に０.
１〜約１０重量％；好ましくは約１.０〜５.０重量％の
量で存在させることができる。
１〜約１０重量％；好ましくは約１.０〜５.０重量％の
量で存在させることができる。
【００２１】本発明の現像液はまた１種もしくは何種か
の親水性界面活性剤を含むことができる。界面活性剤は
ノニオン性、カチオン性、アニオン性、または両性型の
いずれでも良く、一般にノニオン界面活性剤が好まし
い。親水性成分としてエチレンオキサイド基を含むもの
のような多くの既知の界面活性剤のうちの任意の１種を
添加することができる。重合体の第４アンモニウム型界
面活性剤もまた好都合に使用することができる。
の親水性界面活性剤を含むことができる。界面活性剤は
ノニオン性、カチオン性、アニオン性、または両性型の
いずれでも良く、一般にノニオン界面活性剤が好まし
い。親水性成分としてエチレンオキサイド基を含むもの
のような多くの既知の界面活性剤のうちの任意の１種を
添加することができる。重合体の第４アンモニウム型界
面活性剤もまた好都合に使用することができる。
【００２２】界面活性剤の過剰の濃度は現像液を過度に
あわ立たせ、その結果若干の画像の欠損を生じ、および
／または現像活性を低下させる。界面活性剤の総濃度は
現像液の全重量を基準に０から約１０重量％の範囲とす
ることができ、代表的には約０.１〜約２重量％であ
る。
あわ立たせ、その結果若干の画像の欠損を生じ、および
／または現像活性を低下させる。界面活性剤の総濃度は
現像液の全重量を基準に０から約１０重量％の範囲とす
ることができ、代表的には約０.１〜約２重量％であ
る。
【００２３】単相現像液はまたこのような組成物中で有
用であることが従来知られているその他の物質を含むこ
とができる。たとえば、きれいな背景を得るのに効果が
あることが知られているクエン酸を含有させるのが好ま
しい。クエン酸を存在させるときは、現像液の全重量を
基準に一般にクエン酸約０.０５〜１０重量％である。p
Hを調整するため塩基性の化合物、好ましくはアミン、
を加えることができ、毒性が低いことからジヒドロキシ
エチルエチレンジアミンおよびＮ−メチルグルカミンが
好ましい。組成物の全体的特性を著しく変えないなら
ば、各種の物質を添加することができる。たとえば、脱
泡剤または消泡剤、合成樹脂粘度上昇剤、着色剤、腐食
抑制剤、キレート化剤、保湿剤、酸化防止剤および緩衝
剤などを通常の目的に合わせて含有させることができ
る。
用であることが従来知られているその他の物質を含むこ
とができる。たとえば、きれいな背景を得るのに効果が
あることが知られているクエン酸を含有させるのが好ま
しい。クエン酸を存在させるときは、現像液の全重量を
基準に一般にクエン酸約０.０５〜１０重量％である。p
Hを調整するため塩基性の化合物、好ましくはアミン、
を加えることができ、毒性が低いことからジヒドロキシ
エチルエチレンジアミンおよびＮ−メチルグルカミンが
好ましい。組成物の全体的特性を著しく変えないなら
ば、各種の物質を添加することができる。たとえば、脱
泡剤または消泡剤、合成樹脂粘度上昇剤、着色剤、腐食
抑制剤、キレート化剤、保湿剤、酸化防止剤および緩衝
剤などを通常の目的に合わせて含有させることができ
る。
【００２４】色素を現像液に加えることができる場合が
ある。このことはそれ自体着色されていないリソグラフ
印刷要素を現像するときに特に有利である。着色の際の
純粋に表面上の欠陥による版不良という問題をさけるた
め無色の印刷要素がしばしばつくられる。非画像域に対
し画像域を検査するため最終的な版は着色される必要が
あるから、加色法の現像工程では色素が添加される。し
かしながら、色素を含む本発明の現像液を使用すること
により、サブトラクティブ法の現像工程においても画像
域に色彩を加えることが可能である。存在する色素のレ
ベルは、背景の非画像域を汚さず同時になお画像域に対
し可視的の着色を与えるのに充分に低く保たねばならな
い。一般に、色素が存在する場合は、現像液の全重量を
基準に約０.００３〜０.０７５％の濃度とする。カチオ
ン性およびアニオン性の両方の色素を用いることができ
る。背景汚染が少ないためカチオン性色素を用いるのが
好ましい。使用することのできる代表的な色素としては
ＢＡＳＦ社製のバソニールレッドとフレクソブルー６５
０とがあげられる。
ある。このことはそれ自体着色されていないリソグラフ
印刷要素を現像するときに特に有利である。着色の際の
純粋に表面上の欠陥による版不良という問題をさけるた
め無色の印刷要素がしばしばつくられる。非画像域に対
し画像域を検査するため最終的な版は着色される必要が
あるから、加色法の現像工程では色素が添加される。し
かしながら、色素を含む本発明の現像液を使用すること
により、サブトラクティブ法の現像工程においても画像
域に色彩を加えることが可能である。存在する色素のレ
ベルは、背景の非画像域を汚さず同時になお画像域に対
し可視的の着色を与えるのに充分に低く保たねばならな
い。一般に、色素が存在する場合は、現像液の全重量を
基準に約０.００３〜０.０７５％の濃度とする。カチオ
ン性およびアニオン性の両方の色素を用いることができ
る。背景汚染が少ないためカチオン性色素を用いるのが
好ましい。使用することのできる代表的な色素としては
ＢＡＳＦ社製のバソニールレッドとフレクソブルー６５
０とがあげられる。
【００２５】本発明の現像液を調製するためには、脂肪
族環状カーボネートの所望量を、好ましくは溶解性を高
めるための親水性剤と共に水中に溶解する。次いで少量
の界面活性剤ならびにその他の任意の成分を加えること
ができる。
族環状カーボネートの所望量を、好ましくは溶解性を高
めるための親水性剤と共に水中に溶解する。次いで少量
の界面活性剤ならびにその他の任意の成分を加えること
ができる。
【００２６】一般に、本発明の現像液はサブトラクティ
ブ法のリソグラフ印刷要素、すなわち画像域に補強用の
樹脂を追加することなしに非画像域が除去されるような
感光性要素を現像する。このサブトラクティブ法のリソ
グラフ印刷要素は支持体、典型的には陽極酸化されてい
るアルミニウムおよび光不溶性化プロセスを受ける感光
性層とから一般に構成されている。適当な感光性材料に
は、エポキシまたはフェノール性樹脂のような、カチオ
ン重合を受けやすいモノマーまたはオリゴマーを含有す
る、ジアゾ増感された組成物が挙げられる。
ブ法のリソグラフ印刷要素、すなわち画像域に補強用の
樹脂を追加することなしに非画像域が除去されるような
感光性要素を現像する。このサブトラクティブ法のリソ
グラフ印刷要素は支持体、典型的には陽極酸化されてい
るアルミニウムおよび光不溶性化プロセスを受ける感光
性層とから一般に構成されている。適当な感光性材料に
は、エポキシまたはフェノール性樹脂のような、カチオ
ン重合を受けやすいモノマーまたはオリゴマーを含有す
る、ジアゾ増感された組成物が挙げられる。
【００２７】この現像液はマグナランおよびマグナニュ
ースリソグラフ印刷要素（インペリアル メタル アンド
ケミカル社製）の現像のため特に好適である。色素を
更に含む現像液はＳ−３００リソグラフ印刷要素（イン
ペリアル メタル アンド ケミカル社製）の現像に最適
である。本発明の現像液はまたホトポリマー印刷要素、
すなわち感光性層が光に対し露光したときフリーラジカ
ル重合をするものについても使用することができる。こ
のような印刷要素の例にはデュポン社のHowsonフルート
ＡＱ−１とＡＱ−２、エンコ社のプレートＡ３０およ
びポリクローム社のプレートＸ７０などが含まれる。
ースリソグラフ印刷要素（インペリアル メタル アンド
ケミカル社製）の現像のため特に好適である。色素を
更に含む現像液はＳ−３００リソグラフ印刷要素（イン
ペリアル メタル アンド ケミカル社製）の現像に最適
である。本発明の現像液はまたホトポリマー印刷要素、
すなわち感光性層が光に対し露光したときフリーラジカ
ル重合をするものについても使用することができる。こ
のような印刷要素の例にはデュポン社のHowsonフルート
ＡＱ−１とＡＱ−２、エンコ社のプレートＡ３０およ
びポリクローム社のプレートＸ７０などが含まれる。
【００２８】サブトラクティブ法のリソグラフ印刷要素
から印刷版を調製するため、要素はまず活性光線に対し
て像露光をする。活性光線に露光をされた要素の区域は
不溶性化、すなわち溶解性が小さくなる。ついで本発明
の現像液をこの露光済みのエレメントに適用し、活性光
線に露光されなかった、従って不溶性化されていない感
光性層の区域を除去するのである。現像液は浸漬、スプ
レーおよびブラシまたはローラー適用などを含む、慣用
の任意の方法によっても適用することができる。現像液
はリソグラフ印刷要素の現像のため特に設計された装置
を使用してしばしば適用される。
から印刷版を調製するため、要素はまず活性光線に対し
て像露光をする。活性光線に露光をされた要素の区域は
不溶性化、すなわち溶解性が小さくなる。ついで本発明
の現像液をこの露光済みのエレメントに適用し、活性光
線に露光されなかった、従って不溶性化されていない感
光性層の区域を除去するのである。現像液は浸漬、スプ
レーおよびブラシまたはローラー適用などを含む、慣用
の任意の方法によっても適用することができる。現像液
はリソグラフ印刷要素の現像のため特に設計された装置
を使用してしばしば適用される。
【００２９】
【実施例】ここですべて部は、特に記載しない限り、現
像液の全重量を基準にした重量によるものである。
像液の全重量を基準にした重量によるものである。
【００３０】〔実施例１〕現像液は水、プロピレンカー
ボネートおよびプロピレングリコールを以下に示す分量
で混合し、ついで残りの各成分を加えることにより調製
した。 成 分 重量％ 水 ４９.８２ プロピレンカーボネート １６.１９ プロピレングリコール ４.７６ コリンクロライドa ２３.８１ ポリビニルアルコール ３.８１ クエン酸 ０.２０ Ｎ−メチルグルカミン ０.２６ ミラポールRＷＴb ０.９５ サーフィノールR４６５c ０.２０ ａ. トリメチルエタノールアンモニウムクロライド ｂ. 重合体ウレイレン第４アンモニウム界面活性剤、ミ
ラノールケミカル社製 ｃ. ノニオン界面活性剤、エアープロダクツ社製
ボネートおよびプロピレングリコールを以下に示す分量
で混合し、ついで残りの各成分を加えることにより調製
した。 成 分 重量％ 水 ４９.８２ プロピレンカーボネート １６.１９ プロピレングリコール ４.７６ コリンクロライドa ２３.８１ ポリビニルアルコール ３.８１ クエン酸 ０.２０ Ｎ−メチルグルカミン ０.２６ ミラポールRＷＴb ０.９５ サーフィノールR４６５c ０.２０ ａ. トリメチルエタノールアンモニウムクロライド ｂ. 重合体ウレイレン第４アンモニウム界面活性剤、ミ
ラノールケミカル社製 ｃ. ノニオン界面活性剤、エアープロダクツ社製
【００３１】〔実施例２〕実施例１の現像液を用いてマ
グナランリソグラフ版（インペリアル メタル アンド
ケミカル社製）を現像した。
グナランリソグラフ版（インペリアル メタル アンド
ケミカル社製）を現像した。
【００３２】版を１２８mJ／cm2の強度で像露光した。
デュポン社製の処理機オートリスの現像部に実施例１の
現像液を入れ、フィニッシュ部にはエコシステムフィニ
ッシャー（インペリアル メタル アンド ケミカル社
製）を入れた。露光済みの版を毎分４.５ft（１３７.２
cm）のプレート処理速度で処理機中を通過させた。
デュポン社製の処理機オートリスの現像部に実施例１の
現像液を入れ、フィニッシュ部にはエコシステムフィニ
ッシャー（インペリアル メタル アンド ケミカル社
製）を入れた。露光済みの版を毎分４.５ft（１３７.２
cm）のプレート処理速度で処理機中を通過させた。
【００３３】現像した版は良好なリソグラフ特性を有し
ていた。現像後の版にはパイリング、詰まりまたは再沈
着は認められなかった。
ていた。現像後の版にはパイリング、詰まりまたは再沈
着は認められなかった。
【００３４】〔実施例３〕２番目の現像液は沈降防止剤
としてエチレンオキサイド／プロピレンオキサイドブロ
ックコポリマーを使用して調製した。溶液は水、プロピ
レンカーボネートおよびプロピレングリコールを以下に
示す量で混合し、ついで残りの各成分を加えることによ
り作った。 成 分 重量％ 水 ４７.３ プロピレンカーボネート １６.０ プロピレングリコール ４.５ コリンクロライド ２０.５ プルロニックRＦ６８a ４.５ ポリエチレングリコール４００b ４.５ クエン酸 ０.２ Ｎ−メチルグルカミン ０.３ ミラポールRＷＴ ２.０ サーフィノールR４６５ ０.２ ａ. エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブ
ロックコポリマー（ＢＡＳＦ社製） ｂ. ユニオンカーバイド社製
としてエチレンオキサイド／プロピレンオキサイドブロ
ックコポリマーを使用して調製した。溶液は水、プロピ
レンカーボネートおよびプロピレングリコールを以下に
示す量で混合し、ついで残りの各成分を加えることによ
り作った。 成 分 重量％ 水 ４７.３ プロピレンカーボネート １６.０ プロピレングリコール ４.５ コリンクロライド ２０.５ プルロニックRＦ６８a ４.５ ポリエチレングリコール４００b ４.５ クエン酸 ０.２ Ｎ−メチルグルカミン ０.３ ミラポールRＷＴ ２.０ サーフィノールR４６５ ０.２ ａ. エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブ
ロックコポリマー（ＢＡＳＦ社製） ｂ. ユニオンカーバイド社製
【００３５】〔実施例４〕マグナランプリセンシタイズ
版を、実施例３の現像液を使用し実施例２で述べたよう
にして露光しかつ現像をした。同様の結果が得られた。
版を、実施例３の現像液を使用し実施例２で述べたよう
にして露光しかつ現像をした。同様の結果が得られた。
【００３６】〔実施例５〕カチオン性の色素バソニール
レッド（ＢＡＳＦ社製）０.０１５重量％を追加して実
施例１で述べたような現像液を調製した。
レッド（ＢＡＳＦ社製）０.０１５重量％を追加して実
施例１で述べたような現像液を調製した。
【００３７】無色のプリセンシタイズ印刷版Ｓ−３００
（インペリアル メタル アンド ケミカル社製）を実施
例２で述べたように露光した。露光済みのプレートは前
記の着色現像液を使用し、実施例２で述べた方法により
現像をした。実施例２のものと類似の結果が得られた。
（インペリアル メタル アンド ケミカル社製）を実施
例２で述べたように露光した。露光済みのプレートは前
記の着色現像液を使用し、実施例２で述べた方法により
現像をした。実施例２のものと類似の結果が得られた。
【００３８】〔実施例６〕 カチオン性の色素バソニールレッド（ＢＡＳＦ社製）
０.０１５重量％を追加して実施例３で述べたような現
像液を調製した。無色のプリセンシタイズ印刷版Ｓ−３
００（インペリアル メタル アンド ケミカル社製）を
実施例２で述べたように露光した。露光済みのプレート
は前記の着色現像液を使用し、実施例２で述べた方法に
より現像をした。実施例２のものと類似の結果が得られ
た。
０.０１５重量％を追加して実施例３で述べたような現
像液を調製した。無色のプリセンシタイズ印刷版Ｓ−３
００（インペリアル メタル アンド ケミカル社製）を
実施例２で述べたように露光した。露光済みのプレート
は前記の着色現像液を使用し、実施例２で述べた方法に
より現像をした。実施例２のものと類似の結果が得られ
た。
【００３９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルイージ・アマリツテイ アメリカ合衆国ニユージヤージー州 08043．ブーリーズ．レクストンラン 1616 (56)参考文献 特開 平５−34931（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−216242（ＪＰ，Ａ) 特表 平３−505339（ＪＰ，Ａ) 米国特許4822723（ＵＳ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 （ａ）以下の式 【化１】 （式中、ｎは０〜２の整数であり、そしてＺ１、Ｚ２、
Ｚ３およびＺ４は各々水素、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、ヒド
ロキシアルキル、クロロアルキル、塩素、ヒドロキシル
およびフェニルよりなる群から選ばれる）を有する脂肪
族環状カーボネート約５〜５０％； （ｂ）前記カーボネートの水溶性を増加させるのに有効
なプロピレングリコール、エチレングリコールおよびそ
れらの混合物よりなる群から選択される親水性剤約０〜
２０％； （ｃ）第４アンモニウム化合物約０．１〜６０％；およ
び （ｄ）水約２０〜８０％、 （ここで前記各％は現像液の全重量を基準にした重量％
である）からなる、サブトラクティブリソグラフ印刷要
素用単相現像液。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US78433991A | 1991-10-29 | 1991-10-29 | |
| US784339 | 1991-10-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05216243A JPH05216243A (ja) | 1993-08-27 |
| JP2736296B2 true JP2736296B2 (ja) | 1998-04-02 |
Family
ID=25132137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4291380A Expired - Lifetime JP2736296B2 (ja) | 1991-10-29 | 1992-10-29 | リソグラフ印刷要素のための単相現像液 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5409803A (ja) |
| EP (1) | EP0539881B1 (ja) |
| JP (1) | JP2736296B2 (ja) |
| CA (1) | CA2081220A1 (ja) |
| DE (1) | DE69203824T2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5627002A (en) * | 1996-08-02 | 1997-05-06 | Xerox Corporation | Liquid developer compositions with cyclodextrins |
| US5998102A (en) * | 1997-10-06 | 1999-12-07 | Agfa Corporation | Etch inhibitors in developer for lithographic printing plates |
| GB9802973D0 (en) * | 1998-02-13 | 1998-04-08 | Du Pont Uk | Improvements in the performance of printing plates |
| US6218066B1 (en) | 2000-01-27 | 2001-04-17 | Xerox Corporation | Developer compositions and processes |
| US6180308B1 (en) | 2000-01-27 | 2001-01-30 | Xerox Corporation | Developer compositions and processes |
| US6212347B1 (en) | 2000-01-27 | 2001-04-03 | Xerox Corporation | Imaging apparatuses and processes thereof containing a marking material with a charge acceptance additive of an aluminum complex |
| US6187499B1 (en) | 2000-01-27 | 2001-02-13 | Xerox Corporation | Imaging apparatus |
| JP4547491B2 (ja) * | 2000-04-28 | 2010-09-22 | 大日本印刷株式会社 | 顔料分散型感光性樹脂の現像方法、および光学的カラーフィルターの製造方法 |
| US6335136B1 (en) | 2001-02-06 | 2002-01-01 | Xerox Corporation | Developer compositions and processes |
| EP1553454A2 (en) * | 2003-12-22 | 2005-07-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Pattern formation method |
| WO2010004778A1 (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-14 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 平版印刷版材料用の現像液および平版印刷版材料 |
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| US4822723A (en) | 1987-11-30 | 1989-04-18 | Hoechst Celanese Corporation | Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates |
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| US4141733A (en) * | 1977-10-25 | 1979-02-27 | Eastman Kodak Company | Development of light-sensitive quinone diazide compositions |
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| EP0177905B1 (de) * | 1984-10-09 | 1990-12-05 | Hoechst Japan Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Entwickeln und zum Entschichten von Photoresistschichten mit quaternären Ammomiumverbindungen |
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| US5007969A (en) * | 1988-05-20 | 1991-04-16 | The Boeing Company | Low toxicity liquid solvent |
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| US5035982A (en) * | 1989-07-14 | 1991-07-30 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer composition for developing negative working lithographic printing plate |
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| JP3033292B2 (ja) * | 1990-11-14 | 2000-04-17 | 東レ株式会社 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
| US5268260A (en) * | 1991-10-22 | 1993-12-07 | International Business Machines Corporation | Photoresist develop and strip solvent compositions and method for their use |
-
1992
- 1992-10-23 DE DE69203824T patent/DE69203824T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-10-23 CA CA002081220A patent/CA2081220A1/en not_active Abandoned
- 1992-10-23 EP EP92118173A patent/EP0539881B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-10-29 JP JP4291380A patent/JP2736296B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-06-04 US US08/082,009 patent/US5409803A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69203824T2 (de) | 1996-02-22 |
| EP0539881B1 (en) | 1995-08-02 |
| JPH05216243A (ja) | 1993-08-27 |
| CA2081220A1 (en) | 1993-04-30 |
| EP0539881A1 (en) | 1993-05-05 |
| DE69203824D1 (de) | 1995-09-07 |
| US5409803A (en) | 1995-04-25 |
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