JP3033292B2 - 水なし平版印刷版の製版方法 - Google Patents
水なし平版印刷版の製版方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版の製版
方法に関するものであり、特に基板上に光重合性層とシ
リコーンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改
善された現像方法に関するものである。
方法に関するものであり、特に基板上に光重合性層とシ
リコーンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改
善された現像方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】シリコーンゴム層をインキ反発層とする
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性層とシリコー
ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特開昭
60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層とシリ
コーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿し水
を用いることなく実用的な印刷が可能である。
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性層とシリコー
ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特開昭
60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層とシリ
コーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿し水
を用いることなく実用的な印刷が可能である。
【０００３】水なし平版印刷版は、通常次のような露
光、現像工程を経て製版される。
光、現像工程を経て製版される。
【０００４】まず平版印刷版原版は真空密着されたポジ
ティブフィルムを通して活性光線に露光される。露光の
終わった印刷版はパラフィン系炭化水素あるいはそれを
主成分とする現像液に浸漬される。その結果未露光部の
シリコーンゴム層は現像液によって激しく膨潤し、しわ
を生ずる。この状態でガーゼなどの柔らかいパッドを用
いて印刷版面を軽くこすると膨潤した未露光部のシリコ
ーンゴム層のみが剥ぎとられ、下層の未硬化の光硬化性
層が露出する。この部分がインキ着肉性の画線部とな
る。一方、露光部分のシリコーンゴム層は現像液により
若干膨潤するものの、光硬化した光硬化性層に強く接着
しているため、現像パッドで強くこすっても侵されずに
版面に残り、この部分がインキ反発性の非画線部を形成
することにより水なし平版印刷版に製版される。このよ
うな製版過程を経て得られる水なし平版印刷版は、シリ
コーンゴム層の切れがよくシャープな網点が得られる反
面、例えば現像工程における現像操作が不充分な場合に
は画線部として本来シリコーンゴム層が剥離除去されて
いなければならない部分にもシリコーンゴム層が残存し
てしまい、このために微小網点再現性の悪い印刷版にな
ってしまう。また現像時に版面を強くこすり過ぎると非
画線部として印刷版面上に残すべきシリコーンゴム層ま
で損傷してしまう。その結果、最終製品である印刷物に
地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷特性の優れた印刷
版が得られないという問題点をかかえている。
ティブフィルムを通して活性光線に露光される。露光の
終わった印刷版はパラフィン系炭化水素あるいはそれを
主成分とする現像液に浸漬される。その結果未露光部の
シリコーンゴム層は現像液によって激しく膨潤し、しわ
を生ずる。この状態でガーゼなどの柔らかいパッドを用
いて印刷版面を軽くこすると膨潤した未露光部のシリコ
ーンゴム層のみが剥ぎとられ、下層の未硬化の光硬化性
層が露出する。この部分がインキ着肉性の画線部とな
る。一方、露光部分のシリコーンゴム層は現像液により
若干膨潤するものの、光硬化した光硬化性層に強く接着
しているため、現像パッドで強くこすっても侵されずに
版面に残り、この部分がインキ反発性の非画線部を形成
することにより水なし平版印刷版に製版される。このよ
うな製版過程を経て得られる水なし平版印刷版は、シリ
コーンゴム層の切れがよくシャープな網点が得られる反
面、例えば現像工程における現像操作が不充分な場合に
は画線部として本来シリコーンゴム層が剥離除去されて
いなければならない部分にもシリコーンゴム層が残存し
てしまい、このために微小網点再現性の悪い印刷版にな
ってしまう。また現像時に版面を強くこすり過ぎると非
画線部として印刷版面上に残すべきシリコーンゴム層ま
で損傷してしまう。その結果、最終製品である印刷物に
地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷特性の優れた印刷
版が得られないという問題点をかかえている。
【０００５】本発明者らは、かかる従来技術の諸欠点の
改善対策について鋭意検討した結果、シリコーンゴム層
をインキ反発層とする水なし平版印刷版をアルキレンカ
ーボネートを含む処理液に浸漬した後、水または水を主
成分とする溶媒で現像する製版方法を用いることにより
著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易に再現でき
ることを見出し本発明に到達した。
改善対策について鋭意検討した結果、シリコーンゴム層
をインキ反発層とする水なし平版印刷版をアルキレンカ
ーボネートを含む処理液に浸漬した後、水または水を主
成分とする溶媒で現像する製版方法を用いることにより
著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易に再現でき
ることを見出し本発明に到達した。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上に光重合性層、シリコーンゴム層を順次積層してなる
水なし平版印刷版原版を露光した後、下記一般式（１）
で表わされるアルキレンカーボネートの少なくとも一種
を０．５重量％以上含有する処理液に浸漬し、次いで、
水または水を主成分とする溶媒の存在下で現像すること
を特徴とする水なし平版印刷版の製版方法である。
上に光重合性層、シリコーンゴム層を順次積層してなる
水なし平版印刷版原版を露光した後、下記一般式（１）
で表わされるアルキレンカーボネートの少なくとも一種
を０．５重量％以上含有する処理液に浸漬し、次いで、
水または水を主成分とする溶媒の存在下で現像すること
を特徴とする水なし平版印刷版の製版方法である。
【０００７】
【化２】
【０００８】（但し、式中Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水
素または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。）本発明
において使用される処理液は、一般式（１）においてＲ
1 およびＲ2 がそれぞれ水素または炭素数１〜６のアル
キル基であるアルキレンカ−ボネ−トの少なくとも一種
を、０．５重量％以上、好ましくは１重量％以上含有し
てなるものである。
素または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。）本発明
において使用される処理液は、一般式（１）においてＲ
1 およびＲ2 がそれぞれ水素または炭素数１〜６のアル
キル基であるアルキレンカ−ボネ−トの少なくとも一種
を、０．５重量％以上、好ましくは１重量％以上含有し
てなるものである。
【０００９】Ｒ1およびＲ2のアルキル基の炭素数が６を
越えるアルキレンカーボネートを含む場合は、光重合性
層とシリコーンゴム層の界面接着力を低下させる効果が
小さく、微小な網点を再現しにくくなるため好ましくな
い。
越えるアルキレンカーボネートを含む場合は、光重合性
層とシリコーンゴム層の界面接着力を低下させる効果が
小さく、微小な網点を再現しにくくなるため好ましくな
い。
【００１０】ここで一般式（１）のＲ1 およびＲ2 が水
素または炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ
−ボネ−トの具体例としては下記のものがあげられる。
素または炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ
−ボネ−トの具体例としては下記のものがあげられる。
【００１１】エチレンカ−ボネ−ト、プロピレンカ−ボ
ネ−ト、1,2-ブタンジオ−ルカ−ボネ−ト、2,3-ブタン
ジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-ペンタンジオ−ルカ−ボネ
−ト、2,3-ペンタンジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-ヘキサ
ンジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-オクタンジオ−ルカ−ボ
ネ−トなど。
ネ−ト、1,2-ブタンジオ−ルカ−ボネ−ト、2,3-ブタン
ジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-ペンタンジオ−ルカ−ボネ
−ト、2,3-ペンタンジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-ヘキサ
ンジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-オクタンジオ−ルカ−ボ
ネ−トなど。
【００１２】上記のうちでもＲ1およびＲ 2 が水素または
炭素数１〜４のアルキル基であるアルキレンカーボネー
トが特に有用である。
炭素数１〜４のアルキル基であるアルキレンカーボネー
トが特に有用である。
【００１３】本発明における処理液としては、一般式
（１）のＲ1 およびＲ2 が水素または炭素数１〜６のア
ルキル基であるアルキレンカ−ボネ−トに溶媒を添加し
たものを用いることもできる。かかる溶媒としては、石
油の分留製品から容易に入手できるパラフィン系炭化水
素またはこれを主成分とするもの、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタンのような精練されたパラフィン
系炭化水素、水、炭酸ナトリウムなどの無機塩を溶解し
た水、アルコ−ル類、エステル類、ポリエチレングリコ
−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル類
およびその誘導体、ケトン類、エ−テル類、芳香族炭化
水素類、ハロゲン化炭化水素類などがあげられる。
（１）のＲ1 およびＲ2 が水素または炭素数１〜６のア
ルキル基であるアルキレンカ−ボネ−トに溶媒を添加し
たものを用いることもできる。かかる溶媒としては、石
油の分留製品から容易に入手できるパラフィン系炭化水
素またはこれを主成分とするもの、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタンのような精練されたパラフィン
系炭化水素、水、炭酸ナトリウムなどの無機塩を溶解し
た水、アルコ−ル類、エステル類、ポリエチレングリコ
−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル類
およびその誘導体、ケトン類、エ−テル類、芳香族炭化
水素類、ハロゲン化炭化水素類などがあげられる。
【００１４】本発明の処理液による処理方法としては、
例えば上述のごとき処理液に適宜時間、例えば１０秒以
上浸漬処理する方法があげられる。
例えば上述のごとき処理液に適宜時間、例えば１０秒以
上浸漬処理する方法があげられる。
【００１５】処理液による所定の処理の施された後、版
面に付着した処理液の大部分をスキ−ジなどの方法で取
り去り、次いで水または水を主成分とする溶媒の存在下
で現像する。
面に付着した処理液の大部分をスキ−ジなどの方法で取
り去り、次いで水または水を主成分とする溶媒の存在下
で現像する。
【００１６】水を主成分とする溶媒は、その含水率が前
記処理液の含水率よりも高いものであることが好まし
く、一般には、５０％以上の含水率を有するものである
ことが望ましい。水と混合して使用し得るものとしては
次のようなものがある。
記処理液の含水率よりも高いものであることが好まし
く、一般には、５０％以上の含水率を有するものである
ことが望ましい。水と混合して使用し得るものとしては
次のようなものがある。
【００１７】アルコ−ル類、エステル類、ケトン類、エ
−テル類およびカルボン酸類など。これらを水と適当な
乳化剤で、エマルジョンとしたもの、または懸濁液とし
た状態で使用してもよい。
−テル類およびカルボン酸類など。これらを水と適当な
乳化剤で、エマルジョンとしたもの、または懸濁液とし
た状態で使用してもよい。
【００１８】本発明の製版方法が好適に適用できる水な
し平版印刷版は、シリコーンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光重合性層とシリコ
ーンゴム層とをこの順に積層した水なし平版印刷版に好
適に適用できる。
し平版印刷版は、シリコーンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光重合性層とシリコ
ーンゴム層とをこの順に積層した水なし平版印刷版に好
適に適用できる。
【００１９】平版印刷版の基板は通常の平版印刷機にセ
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
【００２０】光重合性層は基板に均一に塗布されてお
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは１００ミクロン以下であり、５０ミクロ
ン以下のものがさらに有用である。もし必要であれば、
光重合性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレー
ション防止のために基板と光重合性層との間にアンカー
コート層をもうけることも有用である。
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは１００ミクロン以下であり、５０ミクロ
ン以下のものがさらに有用である。もし必要であれば、
光重合性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレー
ション防止のために基板と光重合性層との間にアンカー
コート層をもうけることも有用である。
【００２１】
【００２２】本発明に用いられる光重合性層としてはた
とえば以下に示すような組成のものがあげられる。
とえば以下に示すような組成のものがあげられる。
【００２３】 (1) 沸点１００℃以上の光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマ １．０〜９９．９重量部 (2) 光増感剤 ０．１〜２０．０重量部 (3) 必要に応じて熱重合禁止剤 ０．０１〜１０．０重量部 (4) 必要に応じて添加される光重合性層の形態保持用充填剤（ポリマ−あるい は無機粉末） ０．０１〜９５．０重量部 光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマの代表的な例
としては、炭素数30以下の１価のアルコ−ルあるいは１
価のアミンから誘導された沸点１００℃以上のアクリル
酸エステルまたはメタアクリル酸エステル（以下これら
を（メタ）アクリル酸エステルと略称する。また以下の
説明で（メタ）□□□とあるのは同様に□□□またはメ
タ□□□を略したものである。）、あるいは（メタ）ア
クリルアミド、炭素数３０以下の多価アルコ−ルあるい
は多価アミンから誘導された沸点１００℃以上の（メ
タ）アクリル酸エステル、あるいは（メタ）アクリルア
ミド、アミンとグリシジル（メタ）アクリレ−トとの付
加反応生成物などをあげることができる。
としては、炭素数30以下の１価のアルコ−ルあるいは１
価のアミンから誘導された沸点１００℃以上のアクリル
酸エステルまたはメタアクリル酸エステル（以下これら
を（メタ）アクリル酸エステルと略称する。また以下の
説明で（メタ）□□□とあるのは同様に□□□またはメ
タ□□□を略したものである。）、あるいは（メタ）ア
クリルアミド、炭素数３０以下の多価アルコ−ルあるい
は多価アミンから誘導された沸点１００℃以上の（メ
タ）アクリル酸エステル、あるいは（メタ）アクリルア
ミド、アミンとグリシジル（メタ）アクリレ−トとの付
加反応生成物などをあげることができる。
【００２４】光増感剤の代表例としては、ベンゾフェノ
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ（メタ）アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ（メタ）アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
【００２５】
【００２６】
【００２７】
【００２８】
【００２９】
【００３０】本発明のシリコーンゴム層は０．５〜５０
ミクロン好ましくは０．５〜５ミクロンの厚さと、紫外
線が透過しうる透明性を有する。有用なシリコーンゴム
は末端基同志の縮合によって架橋する分子量１０００〜
１００００００の線状ジオルガノポリシロキサン（好ま
しくはジメチルポリシロキサン）を主成分とし、必要に
応じて架橋剤、触媒が添加されたものである。シリコー
ンゴム層はインキ反発性を有するものであり、その表面
はいくぶん粘着性を有し、埃などが付着しやすく、その
ため露光工程においてポジフイルムが十分に密着しにく
いなどの問題が起こりやすいので、シリコーンゴム層の
表面に、薄い透明性の保護フイルムを張りつけることも
できる。また、この保護フイルムは空気中の酸素の光重
合性層への浸透を抑制し、光重合性層の光重合を促進す
る役割をも演ずる。この様に、保護フイルムは露光工程
において有用であるが、勿論、現像工程において剥離ま
たは溶解によって除去され、印刷工程においては不必要
なものである。有用な保護フイルムは紫外線を透過し得
る透明性と、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミク
ロン以下の厚みを有し、その代表例として次のようなプ
ラスチックのフイルムをあげることができる。
ミクロン好ましくは０．５〜５ミクロンの厚さと、紫外
線が透過しうる透明性を有する。有用なシリコーンゴム
は末端基同志の縮合によって架橋する分子量１０００〜
１００００００の線状ジオルガノポリシロキサン（好ま
しくはジメチルポリシロキサン）を主成分とし、必要に
応じて架橋剤、触媒が添加されたものである。シリコー
ンゴム層はインキ反発性を有するものであり、その表面
はいくぶん粘着性を有し、埃などが付着しやすく、その
ため露光工程においてポジフイルムが十分に密着しにく
いなどの問題が起こりやすいので、シリコーンゴム層の
表面に、薄い透明性の保護フイルムを張りつけることも
できる。また、この保護フイルムは空気中の酸素の光重
合性層への浸透を抑制し、光重合性層の光重合を促進す
る役割をも演ずる。この様に、保護フイルムは露光工程
において有用であるが、勿論、現像工程において剥離ま
たは溶解によって除去され、印刷工程においては不必要
なものである。有用な保護フイルムは紫外線を透過し得
る透明性と、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミク
ロン以下の厚みを有し、その代表例として次のようなプ
ラスチックのフイルムをあげることができる。
【００３１】ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ルポ
リエチレンテレフタレ−ト、セロファンなど。
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ルポ
リエチレンテレフタレ−ト、セロファンなど。
【００３２】このようにして構成された平版印刷版原版
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の処理液に浸漬してから水または水を主成分
とする溶媒の存在下でガーゼ、不織布などの柔らかいパ
ッドで版面を軽くこすることにより、実質的に画線部の
シリコーンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光重合性層
を露出させることができる。必要なら、特開昭54-10310
3 号公報に記載の方法に従って画線部を染色する。この
際、水または水を主成分とする溶媒中に染料を添加する
ことにより、画線部を染色することも可能である。
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の処理液に浸漬してから水または水を主成分
とする溶媒の存在下でガーゼ、不織布などの柔らかいパ
ッドで版面を軽くこすることにより、実質的に画線部の
シリコーンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光重合性層
を露出させることができる。必要なら、特開昭54-10310
3 号公報に記載の方法に従って画線部を染色する。この
際、水または水を主成分とする溶媒中に染料を添加する
ことにより、画線部を染色することも可能である。
【００３３】本発明の現像液を適用することにより、従
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
【００３４】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
するが、本発明はこれらに限定されない。
【００３５】実施例１〜４、比較例１、２ アルミニウム基板上に、次の組成を有する厚さ４ミクロ
ンの光重合性層を設けた。
ンの光重合性層を設けた。
【００３６】 (a) アジピン酸とヘキサン−１，６ジオールおよび２，２−ジメチルプロパン −１，３−ジオールからなるポリエステルポリオールとイソホロンジイソシアネ ートとのポリウレタン ５６重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミンの４モル／１モル付加反応 物 ４０重量部 (c) ミヒラー氏ケトン ４重量部 次いでこの光重合性層の上に次の組成を有するシリコー
ンの１０％ｎ−ヘキサン希釈液を塗布し、５０℃熱風中
で乾燥して厚さ３ミクロンのシリコーンゴム層を設け
た。 (a) 両末端ＯＨ基のジメチルポリシロキサン（分子量約８００００） １００重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン ５重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ ０．２重量部 上述のように作製した版に厚さ１０ミクロンのポリエチ
レンテレフタラートフイルム”ルミラー”（東レ（株）
製）を保護フイルムとしてラミネートして平版印刷用原
版とした。
ンの１０％ｎ−ヘキサン希釈液を塗布し、５０℃熱風中
で乾燥して厚さ３ミクロンのシリコーンゴム層を設け
た。 (a) 両末端ＯＨ基のジメチルポリシロキサン（分子量約８００００） １００重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン ５重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ ０．２重量部 上述のように作製した版に厚さ１０ミクロンのポリエチ
レンテレフタラートフイルム”ルミラー”（東レ（株）
製）を保護フイルムとしてラミネートして平版印刷用原
版とした。
【００３７】この平版印刷用原版に網点面積率を段階的
に変えた（２００線、２％〜９８％）ポジフィルムを密
着し、３ｋＷの超高圧水銀灯（オーク製作所製）で１ｍ
の距離から９０秒露光した。
に変えた（２００線、２％〜９８％）ポジフィルムを密
着し、３ｋＷの超高圧水銀灯（オーク製作所製）で１ｍ
の距離から９０秒露光した。
【００３８】露光版からラミネ−トしてある保護フイル
ムを取り除き、第１表に示すような処理液を用いて露光
版をそれぞれ常温で１分間浸漬し、柔らかいパッドで処
理液の大部分を取り除いた後、水道水を用いて版面をこ
すりながら現像して水なし平版印刷版を得た。これらの
製版方法によって得られた印刷版の現像に要した時間お
よび印刷版の網点再現域についての結果を表１に示す。
ムを取り除き、第１表に示すような処理液を用いて露光
版をそれぞれ常温で１分間浸漬し、柔らかいパッドで処
理液の大部分を取り除いた後、水道水を用いて版面をこ
すりながら現像して水なし平版印刷版を得た。これらの
製版方法によって得られた印刷版の現像に要した時間お
よび印刷版の網点再現域についての結果を表１に示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】一般式（１）のＲ1 およびＲ2 が水素また
は炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ−ボネ
−トを含む処理液に浸漬した後、水道水でこすりながら
現像した実施例１〜４の製版方法は、光重合性層を実質
的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥
離除去でき、かついずれの場合も網点再現域は２％〜９
８％であった。一般式（１）のＲ1 およびＲ2 が水素ま
たは炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ−ボ
ネ−トを含まない比較例１の場合は、光重合性層を実質
的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥
離除去できるが、現像時間が長くかかり、網点再現性も
不充分である。また、本発明の条件を満足しない１，２
−オクタデカンジオ−ルカ−ボネ−トを含む比較例２の
場合は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を
低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しにくくな
っているため、現像液としては不適当であった。
は炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ−ボネ
−トを含む処理液に浸漬した後、水道水でこすりながら
現像した実施例１〜４の製版方法は、光重合性層を実質
的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥
離除去でき、かついずれの場合も網点再現域は２％〜９
８％であった。一般式（１）のＲ1 およびＲ2 が水素ま
たは炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ−ボ
ネ−トを含まない比較例１の場合は、光重合性層を実質
的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥
離除去できるが、現像時間が長くかかり、網点再現性も
不充分である。また、本発明の条件を満足しない１，２
−オクタデカンジオ−ルカ−ボネ−トを含む比較例２の
場合は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を
低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しにくくな
っているため、現像液としては不適当であった。
【００４１】実施例５ 実施例１と同様にして得た露光版から保護フイルムを取
り除き、プロピレンカーボネートの中に１分間浸漬し、
柔らかいパッドで処理液の大部分を取り除いた後、アス
トラゾンレッド６Ｂ（バイエル社製）を２重量％溶解し
た水で版面を洗浄しながらブラシでこすることにより現
像を行った。その結果、画線部の光重合性層が赤く染色
された検版性の良好な刷版が得られた。
り除き、プロピレンカーボネートの中に１分間浸漬し、
柔らかいパッドで処理液の大部分を取り除いた後、アス
トラゾンレッド６Ｂ（バイエル社製）を２重量％溶解し
た水で版面を洗浄しながらブラシでこすることにより現
像を行った。その結果、画線部の光重合性層が赤く染色
された検版性の良好な刷版が得られた。
【００４２】現像所要時間は約３分で、網点再現域は２
００線、２〜９８％と極めて良好であった。
００線、２〜９８％と極めて良好であった。
【００４３】
【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したので、現
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に光重合性層、シリコーンゴム層を
順次積層してなる水なし平版印刷版原版を露光した後、
下記一般式（１）で表わされるアルキレンカーボネート
の少なくとも一種を０．５重量％以上含有する処理液に
浸漬し、次いで、水または水を主成分とする溶媒の存在
下で現像することを特徴とする水なし平版印刷版の製版
方法。 【化１】 （但し、式中Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素または炭素数
１〜６のアルキル基を表わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29316991A JP3033292B2 (ja) | 1990-11-14 | 1991-11-08 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30989190 | 1990-11-14 | ||
| JP2-309891 | 1990-11-14 | ||
| JP29316991A JP3033292B2 (ja) | 1990-11-14 | 1991-11-08 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0534931A JPH0534931A (ja) | 1993-02-12 |
| JP3033292B2 true JP3033292B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=26559299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29316991A Expired - Fee Related JP3033292B2 (ja) | 1990-11-14 | 1991-11-08 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3033292B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0539881B1 (en) * | 1991-10-29 | 1995-08-02 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Single-phase developers for lithographic printing elements |
| DE102004045171A1 (de) | 2004-09-17 | 2006-03-23 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von ein- und/oder mehrfach gestrichenen Substraten |
-
1991
- 1991-11-08 JP JP29316991A patent/JP3033292B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0534931A (ja) | 1993-02-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |