JPH0534931A - 水なし平版印刷版の製版方法 - Google Patents
水なし平版印刷版の製版方法Info
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- JPH0534931A JPH0534931A JP29316991A JP29316991A JPH0534931A JP H0534931 A JPH0534931 A JP H0534931A JP 29316991 A JP29316991 A JP 29316991A JP 29316991 A JP29316991 A JP 29316991A JP H0534931 A JPH0534931 A JP H0534931A
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- carbonate
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- plate
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Abstract
(57)【要約】
【構成】この発明は、水なし平版印刷版原版を露光した
後、特定のアルキレンカ−ボネ−トを少なくとも０．５
重量％以上含有する処理液で浸漬処理し、次いで水また
は水を主成分とする溶媒の存在下で現像することを特徴
とする水なし平版印刷版の製版方法である。 【効果】本発明によれば現像性が著しく向上するととも
に、微小な網点まで容易に再現することができる利点が
ある。
後、特定のアルキレンカ−ボネ−トを少なくとも０．５
重量％以上含有する処理液で浸漬処理し、次いで水また
は水を主成分とする溶媒の存在下で現像することを特徴
とする水なし平版印刷版の製版方法である。 【効果】本発明によれば現像性が著しく向上するととも
に、微小な網点まで容易に再現することができる利点が
ある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版の製版
方法に関するものであり、特に基板上に光硬化性層とシ
リコ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改
善された現像方法に関するものである。
方法に関するものであり、特に基板上に光硬化性層とシ
リコ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改
善された現像方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性接着層とシリ
コ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特
開昭60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層と
シリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿
し水を用いることなく実用的な印刷が可能である。
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性接着層とシリ
コ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特
開昭60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層と
シリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿
し水を用いることなく実用的な印刷が可能である。
【０００３】水なし平版印刷版は、通常次のような露
光、現像工程を経て製版される。
光、現像工程を経て製版される。
【０００４】まず平版印刷版原版は真空密着されたポジ
ティブフィルムを通して活性光線に露光される。露光の
終った印刷原版はパラフィン系炭化水素あるいはそれを
主成分とする現像液に浸漬される。その結果未露光部の
シリコ−ンゴム層は現像液によって激しく膨潤し、しわ
を生ずる。この状態でガ−ゼなどの柔らかいパッドを用
いて印刷版面を軽くこすると膨潤した未露光部のシリコ
−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層の未硬化の光硬化性
層が露出する。この部分がインキ着肉性の画線部とな
る。一方、露光部分のシリコ−ンゴム層は現像液により
若干膨潤するものの、光硬化した光硬化性層に強く接着
しているため、現像パッドで強くこすっても侵されずに
版面に残り、この部分がインキ反発性の非画線部を形成
することにより水なし平版印刷版に製版される。このよ
うな製版過程を経て得られる水なし平版印刷版は、シリ
コ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな網点が得られる反
面、例えば現像工程における現像操作が不充分な場合に
は画線部として本来シリコ−ンゴム層が剥離除去されて
いなけれがならない部分にもシリコ−ンゴム層が残存し
てしまい、このために微小網点再現性の悪い印刷版にな
ってしまう。また現像時に版面を強くこすり過ぎると非
画線部として印刷版面上に残すべきシリコ−ンゴム層ま
で損傷してしまう。その結果、最終製品である印刷物に
地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷特性の優れた印刷
版が得られないという問題点をかかえている。
ティブフィルムを通して活性光線に露光される。露光の
終った印刷原版はパラフィン系炭化水素あるいはそれを
主成分とする現像液に浸漬される。その結果未露光部の
シリコ−ンゴム層は現像液によって激しく膨潤し、しわ
を生ずる。この状態でガ−ゼなどの柔らかいパッドを用
いて印刷版面を軽くこすると膨潤した未露光部のシリコ
−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層の未硬化の光硬化性
層が露出する。この部分がインキ着肉性の画線部とな
る。一方、露光部分のシリコ−ンゴム層は現像液により
若干膨潤するものの、光硬化した光硬化性層に強く接着
しているため、現像パッドで強くこすっても侵されずに
版面に残り、この部分がインキ反発性の非画線部を形成
することにより水なし平版印刷版に製版される。このよ
うな製版過程を経て得られる水なし平版印刷版は、シリ
コ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな網点が得られる反
面、例えば現像工程における現像操作が不充分な場合に
は画線部として本来シリコ−ンゴム層が剥離除去されて
いなけれがならない部分にもシリコ−ンゴム層が残存し
てしまい、このために微小網点再現性の悪い印刷版にな
ってしまう。また現像時に版面を強くこすり過ぎると非
画線部として印刷版面上に残すべきシリコ−ンゴム層ま
で損傷してしまう。その結果、最終製品である印刷物に
地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷特性の優れた印刷
版が得られないという問題点をかかえている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、かかる
従来技術の諸欠点の改善対策について意意検討した結
果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし平版
印刷版をアルキレンカ−ボネ−トを含む処理液に浸漬し
た後、水または水を主成分とする溶媒で現像する製版方
法を用いることにより著しく現像性が向上し、微小な網
点まで容易に再現できることを見出し本発明に到達し
た。
従来技術の諸欠点の改善対策について意意検討した結
果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし平版
印刷版をアルキレンカ−ボネ−トを含む処理液に浸漬し
た後、水または水を主成分とする溶媒で現像する製版方
法を用いることにより著しく現像性が向上し、微小な網
点まで容易に再現できることを見出し本発明に到達し
た。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、水な
し平版印刷版原版を露光した後、下記式（１）で表わさ
れるアルキレンカ−ボネ−トの少なくとも一種を０．５
重量％以上含有する処理液に浸漬し、次いで、水または
水を主成分とする溶媒の存在下で現像することを特徴と
する水なし平版印刷版の製版方法である。
し平版印刷版原版を露光した後、下記式（１）で表わさ
れるアルキレンカ−ボネ−トの少なくとも一種を０．５
重量％以上含有する処理液に浸漬し、次いで、水または
水を主成分とする溶媒の存在下で現像することを特徴と
する水なし平版印刷版の製版方法である。
【０００７】
【化２】
【０００８】（但し、式中Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水
素または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。）本発明
において使用される処理液は、一般式（１）においてＲ
1 およびＲ2 がそれぞれ水素または炭素数１〜６のアル
キル基であるアルキレンカ−ボネ−トの少なくとも一種
を、０．５重量％以上、好ましくは１重量％以上含有し
てなるものである。
素または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。）本発明
において使用される処理液は、一般式（１）においてＲ
1 およびＲ2 がそれぞれ水素または炭素数１〜６のアル
キル基であるアルキレンカ−ボネ−トの少なくとも一種
を、０．５重量％以上、好ましくは１重量％以上含有し
てなるものである。
【０００９】Ｒ1 およびＲ2 のアルキル基の炭素数が６
を越えるアルキレンカ−ボネ−トを含む場合は、光硬化
性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を低下させる効果
が小さく、微小な網点を再現しにくくなるため好ましく
ない。
を越えるアルキレンカ−ボネ−トを含む場合は、光硬化
性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を低下させる効果
が小さく、微小な網点を再現しにくくなるため好ましく
ない。
【００１０】ここで一般式（１）のＲ1 およびＲ2 が水
素または炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ
−ボネ−トの具体例としては下記のものがあげられる。
素または炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ
−ボネ−トの具体例としては下記のものがあげられる。
【００１１】エチレンカ−ボネ−ト、プロピレンカ−ボ
ネ−ト、1,2-ブタンジオ−ルカ−ボネ−ト、2,3-ブタン
ジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-ペンタンジオ−ルカ−ボネ
−ト、2,3-ペンタンジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-ヘキサ
ンジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-オクタンジオ−ルカ−ボ
ネ−トなど。
ネ−ト、1,2-ブタンジオ−ルカ−ボネ−ト、2,3-ブタン
ジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-ペンタンジオ−ルカ−ボネ
−ト、2,3-ペンタンジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-ヘキサ
ンジオ−ルカ−ボネ−ト、1,2-オクタンジオ−ルカ−ボ
ネ−トなど。
【００１２】上記のうちでもＲ1 およびＲ1 が水素また
は炭素数１〜４のアルキル基であるアルキレンカ−ボネ
−トが特に有用である。
は炭素数１〜４のアルキル基であるアルキレンカ−ボネ
−トが特に有用である。
【００１３】本発明における処理液としては、一般式
（１）のＲ1 およびＲ2 が水素または炭素数１〜６のア
ルキル基であるアルキレンカ−ボネ−トに溶媒を添加し
たものを用いることもできる。かかる溶媒としては、石
油の分留製品から容易に入手できるパラフィン系炭化水
素またはこれを主成分とするもの、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタンのような精練されたパラフィン
系炭化水素、水、炭酸ナトリウムなどの無機塩を溶解し
た水、アルコ−ル類、エステル類、ポリエチレングリコ
−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル類
およびその誘導体、ケトン類、エ−テル類、芳香族炭化
水素類、ハロゲン化炭化水素類などがあげられる。
（１）のＲ1 およびＲ2 が水素または炭素数１〜６のア
ルキル基であるアルキレンカ−ボネ−トに溶媒を添加し
たものを用いることもできる。かかる溶媒としては、石
油の分留製品から容易に入手できるパラフィン系炭化水
素またはこれを主成分とするもの、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタンのような精練されたパラフィン
系炭化水素、水、炭酸ナトリウムなどの無機塩を溶解し
た水、アルコ−ル類、エステル類、ポリエチレングリコ
−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル類
およびその誘導体、ケトン類、エ−テル類、芳香族炭化
水素類、ハロゲン化炭化水素類などがあげられる。
【００１４】本発明の処理液による処理方法としては、
例えば上述のごとき処理液に適宜時間、例えば１０秒以
上浸漬処理する方法があげられる。
例えば上述のごとき処理液に適宜時間、例えば１０秒以
上浸漬処理する方法があげられる。
【００１５】処理液による所定の処理の施された後、版
面に付着した処理液の大部分をスキ−ジなどの方法で取
り去り、次いで水または水を主成分とする溶媒の存在下
で現像する。
面に付着した処理液の大部分をスキ−ジなどの方法で取
り去り、次いで水または水を主成分とする溶媒の存在下
で現像する。
【００１６】水を主成分とする溶媒は、その含水率が前
記処理液の含水率よりも高いものであることが好まし
く、一般には、５０％以上の含水率を有するものである
ことが望ましい。水と混合して使用し得るものとしては
次のようなものがある。
記処理液の含水率よりも高いものであることが好まし
く、一般には、５０％以上の含水率を有するものである
ことが望ましい。水と混合して使用し得るものとしては
次のようなものがある。
【００１７】アルコ−ル類、エステル類、ケトン類、エ
−テル類およびカルボン酸類など。これらを水と適当な
乳化剤で、エマルジョンとしたもの、または懸濁液とし
た状態で使用してもよい。
−テル類およびカルボン酸類など。これらを水と適当な
乳化剤で、エマルジョンとしたもの、または懸濁液とし
た状態で使用してもよい。
【００１８】本発明の製版方法が好適に適用できる水な
し平版印刷版は、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光硬化性層とシリコ
−ンゴム層とをこの順に積層した水なし平版印刷版に好
適に適用できる。
し平版印刷版は、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光硬化性層とシリコ
−ンゴム層とをこの順に積層した水なし平版印刷版に好
適に適用できる。
【００１９】平版印刷版の基板は通常の平版印刷機にセ
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
【００２０】光硬化性層は基板に均一に塗布されてお
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは１００ミクロン以下であり、５０ミクロ
ン以下のものがさらに有用である。もし必要であれば、
光硬化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−
ション防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−
コ−ト層をもうけることも有用である。
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは１００ミクロン以下であり、５０ミクロ
ン以下のものがさらに有用である。もし必要であれば、
光硬化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−
ション防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−
コ−ト層をもうけることも有用である。
【００２１】本発明に用いられる光硬化性層としては、
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
【００２２】本発明に用いられる光重合性接着層として
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。
【００２３】 (1) 沸点１００℃以上の光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマ １．０〜９９．９重量部 (2) 光増感剤 ０．１〜２０．０重量部 (3) 必要に応じて熱重合禁止剤 ０．０１〜１０．０重量部 (4) 必要に応じて添加される光重合性層の形態保持用充填剤（ポリマ−あるい は無機粉末） ０．０１〜９５．０重量部 光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマの代表的な例
としては、炭素数30以下の１価のアルコ−ルあるいは１
価のアミンから誘導された沸点１００℃以上のアクリル
酸エステルまたはメタアクリル酸エステル（以下これら
を（メタ）アクリル酸エステルと略称する。また以下の
説明で（メタ）□□□とあるのは同様に□□□またはメ
タ□□□を略したものである。）、あるいは（メタ）ア
クリルアミド、炭素数３０以下の多価アルコ−ルあるい
は多価アミンから誘導された沸点１００℃以上の（メ
タ）アクリル酸エステル、あるいは（メタ）アクリルア
ミド、アミンとグリシジル（メタ）アクリレ−トとの付
加反応生成物などをあげることができる。
としては、炭素数30以下の１価のアルコ−ルあるいは１
価のアミンから誘導された沸点１００℃以上のアクリル
酸エステルまたはメタアクリル酸エステル（以下これら
を（メタ）アクリル酸エステルと略称する。また以下の
説明で（メタ）□□□とあるのは同様に□□□またはメ
タ□□□を略したものである。）、あるいは（メタ）ア
クリルアミド、炭素数３０以下の多価アルコ−ルあるい
は多価アミンから誘導された沸点１００℃以上の（メ
タ）アクリル酸エステル、あるいは（メタ）アクリルア
ミド、アミンとグリシジル（メタ）アクリレ−トとの付
加反応生成物などをあげることができる。
【００２４】光増感剤の代表例としては、ベンゾフェノ
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ（メタ）アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ（メタ）アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
【００２５】本発明に用いられる光架橋性層としては以
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニル
などを含む感光層。
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニル
などを含む感光層。
【００２６】(2) エポキシ基を有するモノマ、オリゴマ
またはポリマとジアゾニウム塩との組み合わせからなる
感光層。これは露光するとジアゾニウム塩の光分解によ
りルイス酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して架
橋する。ジアゾニウム塩として、例えば２，５−ジエト
キシ−４−（Ｐ−トルイルチオ）ベンゼンジアゾニウム
ヘキサフロロフオスフェ−トなどがもちいられる。
またはポリマとジアゾニウム塩との組み合わせからなる
感光層。これは露光するとジアゾニウム塩の光分解によ
りルイス酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して架
橋する。ジアゾニウム塩として、例えば２，５−ジエト
キシ−４−（Ｐ−トルイルチオ）ベンゼンジアゾニウム
ヘキサフロロフオスフェ−トなどがもちいられる。
【００２７】(3) アリル基を有するモノマ、オリゴマま
たはポリマとチオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまた
はポリマとの組み合わせからなる感光層。これは露光す
るとチオ−ル基がアリル基に付加して架橋する。
たはポリマとチオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまた
はポリマとの組み合わせからなる感光層。これは露光す
るとチオ−ル基がアリル基に付加して架橋する。
【００２８】(4) ジアゾニウム塩、例えばＰ−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物など。
フェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物など。
【００２９】(5) アジド化合物と環化ゴムを主成分とす
る感光層。
る感光層。
【００３０】本発明のシリコ−ンゴム層は０．５〜５０
ミクロン好ましくは０．５〜５ミクロンの厚さと、紫外
線が透過しうる透明性を有する。有用なシリコ−ンゴム
は末端基同志の縮合によって架橋する分子量１０００〜
１００００００の線状ジオルガノポリシロキサン（好ま
しくはジメチルポリシロキサン）を主成分とし、必要に
応じて架橋剤、触媒が添加されたものである。シリコ−
ンゴム層はインキ反発性を有するものであり、その表面
はいくぶん粘着性を有し、埃などが付着しやすく、その
ため露光工程においてポジフイルムが十分に密着しにく
いなどの問題が起こりやすいので、シリコ−ンゴム層の
表面に、薄い透明性の保護フイルムを張りつけることも
できる。また、この保護フイルムは空気中の酸素の光硬
化性層への浸透を抑制し、光硬化性層の光硬化を促進す
る役割をも演ずる。この様に、保護フイルムは露光工程
において有用であるが、勿論、現像工程において剥離ま
たは溶解によって除去され、印刷工程においては不必要
なものである。有用な保護フイルムは紫外線を透過し得
る透明性と、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミク
ロン以下の厚みを有し、その代表例として次のようなプ
ラスチックのフイルムをあげることができる。
ミクロン好ましくは０．５〜５ミクロンの厚さと、紫外
線が透過しうる透明性を有する。有用なシリコ−ンゴム
は末端基同志の縮合によって架橋する分子量１０００〜
１００００００の線状ジオルガノポリシロキサン（好ま
しくはジメチルポリシロキサン）を主成分とし、必要に
応じて架橋剤、触媒が添加されたものである。シリコ−
ンゴム層はインキ反発性を有するものであり、その表面
はいくぶん粘着性を有し、埃などが付着しやすく、その
ため露光工程においてポジフイルムが十分に密着しにく
いなどの問題が起こりやすいので、シリコ−ンゴム層の
表面に、薄い透明性の保護フイルムを張りつけることも
できる。また、この保護フイルムは空気中の酸素の光硬
化性層への浸透を抑制し、光硬化性層の光硬化を促進す
る役割をも演ずる。この様に、保護フイルムは露光工程
において有用であるが、勿論、現像工程において剥離ま
たは溶解によって除去され、印刷工程においては不必要
なものである。有用な保護フイルムは紫外線を透過し得
る透明性と、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミク
ロン以下の厚みを有し、その代表例として次のようなプ
ラスチックのフイルムをあげることができる。
【００３１】ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ルポ
リエチレンテレフタレ−ト、セロファンなど。
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ルポ
リエチレンテレフタレ−ト、セロファンなど。
【００３２】このようにして構成された平版印刷版原版
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の処理液に浸漬してから水または水を主成分
とする溶媒の存在下でガ−ゼ、不織布などの柔らかいパ
ッドで版面を軽くこすることにより、実質的に画線部の
シリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光硬化性層
を露出させることができる。必要なら、特開昭54-10310
3 号公報に記載の方法に従って画線部を染色する。この
際、水または水を主成分とする溶媒中に染料を添加する
ことにより、画線部を染色することも可能である。
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の処理液に浸漬してから水または水を主成分
とする溶媒の存在下でガ−ゼ、不織布などの柔らかいパ
ッドで版面を軽くこすることにより、実質的に画線部の
シリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光硬化性層
を露出させることができる。必要なら、特開昭54-10310
3 号公報に記載の方法に従って画線部を染色する。この
際、水または水を主成分とする溶媒中に染料を添加する
ことにより、画線部を染色することも可能である。
【００３３】本発明の現像液を適用することにより、従
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
【００３４】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
するが、本発明はこれらに限定されない。
【００３５】実施例１〜４、比較例１、２ アルミニウム基板上に、次の組成を有する厚さ４ミクロ
ンの光重合性層を設けた。
ンの光重合性層を設けた。
【００３６】 (a) アジピン酸とヘキサン−１，６ジオ−ルおよび２，２−ジメチルプロパン −１，３−ジオ−ルからなるポリエステルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ −トとのポリウレタン ５６重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミンの４モル／１モル付加反応 物 ４０重量部 (c) ミヒラ−氏ケトン ４重量部 次いでこの光重合性接着層の上に次の組成を有するシリ
コ−ンの１０％ｎ−ヘキサン希釈液を塗布し、５０℃熱
風中で乾燥して厚さ３ミクロンのシリコ−ンゴム層を設
けた。 (a) 両末端ＯＨ基のジメチルポリシロキサン（分子量約８００００） １００重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン ５重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ ０．２重量部 上述のように作製した版に厚さ１０ミクロンのポリエチ
レンテレフタレ−トフイルム“ルミラ−”（東レ（株）
製）を保護フイルムとしてラミネ−トして平版印刷用原
版とした。
コ−ンの１０％ｎ−ヘキサン希釈液を塗布し、５０℃熱
風中で乾燥して厚さ３ミクロンのシリコ−ンゴム層を設
けた。 (a) 両末端ＯＨ基のジメチルポリシロキサン（分子量約８００００） １００重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン ５重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ ０．２重量部 上述のように作製した版に厚さ１０ミクロンのポリエチ
レンテレフタレ−トフイルム“ルミラ−”（東レ（株）
製）を保護フイルムとしてラミネ−トして平版印刷用原
版とした。
【００３７】この平版印刷用原版に網点面積率を段階的
に変えた（２００線、２％〜９８％）ポジフイルムを密
着し、３ｋｗの超高圧水銀灯（オ−ク製作所製）で１ｍ
の距離から９０秒露光した。
に変えた（２００線、２％〜９８％）ポジフイルムを密
着し、３ｋｗの超高圧水銀灯（オ−ク製作所製）で１ｍ
の距離から９０秒露光した。
【００３８】露光版からラミネ−トしてある保護フイル
ムを取り除き、第１表に示すような処理液を用いて露光
版をそれぞれ常温で１分間浸漬し、柔らかいパッドで処
理液の大部分を取り除いた後、水道水を用いて版面をこ
すりながら現像して水なし平版印刷版を得た。これらの
製版方法によって得られた印刷版の現像に要した時間お
よび印刷版の網点再現域についての結果を表１に示す。
ムを取り除き、第１表に示すような処理液を用いて露光
版をそれぞれ常温で１分間浸漬し、柔らかいパッドで処
理液の大部分を取り除いた後、水道水を用いて版面をこ
すりながら現像して水なし平版印刷版を得た。これらの
製版方法によって得られた印刷版の現像に要した時間お
よび印刷版の網点再現域についての結果を表１に示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】一般式（１）のＲ1 およびＲ2 が水素また
は炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ−ボネ
−トを含む処理液に浸漬した後、水道水でこすりながら
現像した実施例１〜４の製版方法は、光重合性層を実質
的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥
離除去でき、かついずれの場合も網点再現域は２％〜９
８％であった。一般式（１）のＲ1 およびＲ2 が水素ま
たは炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ−ボ
ネ−トを含まない比較例１の場合は、光重合性層を実質
的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥
離除去できるが、現像時間が長くかかり、網点再現性も
不充分である。また、本発明の条件を満足しない１，２
−オクタデカンジオ−ルカ−ボネ−トを含む比較例２の
場合は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を
低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しにくくな
っているため、現像液としては不適当であった。
は炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ−ボネ
−トを含む処理液に浸漬した後、水道水でこすりながら
現像した実施例１〜４の製版方法は、光重合性層を実質
的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥
離除去でき、かついずれの場合も網点再現域は２％〜９
８％であった。一般式（１）のＲ1 およびＲ2 が水素ま
たは炭素数１〜６のアルキル基であるアルキレンカ−ボ
ネ−トを含まない比較例１の場合は、光重合性層を実質
的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥
離除去できるが、現像時間が長くかかり、網点再現性も
不充分である。また、本発明の条件を満足しない１，２
−オクタデカンジオ−ルカ−ボネ−トを含む比較例２の
場合は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を
低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しにくくな
っているため、現像液としては不適当であった。
【００４１】実施例５ 実施例１と同様にして得た露光版から保護フイルムを取
り除き、プロピレンカ−ボネ−トの中に１分間浸漬し、
柔らかいパッドで処理液の大部分を取り除いた後、アス
トラゾンレッド６Ｂ（バイエル社製）を２重量％溶解し
た水で版面を洗浄しながらブラシでこすることにより現
像を行った。その結果、画線部の光重合性接着層が赤く
染色された検版性の良好な刷版が得られた。
り除き、プロピレンカ−ボネ−トの中に１分間浸漬し、
柔らかいパッドで処理液の大部分を取り除いた後、アス
トラゾンレッド６Ｂ（バイエル社製）を２重量％溶解し
た水で版面を洗浄しながらブラシでこすることにより現
像を行った。その結果、画線部の光重合性接着層が赤く
染色された検版性の良好な刷版が得られた。
【００４２】現像所要時間は約３分で、網点再現域は２
００線、２〜９８％と極めて良好であった。
００線、２〜９８％と極めて良好であった。
【００４３】
【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したので、現
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】水なし平版印刷版原版を露光した後、下記
式（１）で表わされるアルキレンカ−ボネ−トの少なく
とも一種を０．５重量％以上含有する処理液に浸漬し、
次いで、水または水を主成分とする溶媒の存在下で現像
することを特徴とする水なし平版印刷版の製版方法。 【化１】 （但し、式中Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水素または炭素
数１〜６のアルキル基を表わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29316991A JP3033292B2 (ja) | 1990-11-14 | 1991-11-08 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-309891 | 1990-11-14 | ||
| JP30989190 | 1990-11-14 | ||
| JP29316991A JP3033292B2 (ja) | 1990-11-14 | 1991-11-08 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0534931A true JPH0534931A (ja) | 1993-02-12 |
| JP3033292B2 JP3033292B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=26559299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29316991A Expired - Fee Related JP3033292B2 (ja) | 1990-11-14 | 1991-11-08 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3033292B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05216243A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-08-27 | E I Du Pont De Nemours & Co | リソグラフ印刷要素のための単相現像液 |
| US8592002B2 (en) | 2004-09-17 | 2013-11-26 | Basf Aktiengesellschaft | Method for the production of single-and/or multiple-coated substrates |
-
1991
- 1991-11-08 JP JP29316991A patent/JP3033292B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05216243A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-08-27 | E I Du Pont De Nemours & Co | リソグラフ印刷要素のための単相現像液 |
| US5409803A (en) * | 1991-10-29 | 1995-04-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Single-phase developers for lithograpic printing elements |
| US8592002B2 (en) | 2004-09-17 | 2013-11-26 | Basf Aktiengesellschaft | Method for the production of single-and/or multiple-coated substrates |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3033292B2 (ja) | 2000-04-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |