JP2910257B2 - 水なし平版印刷版用現像液 - Google Patents
水なし平版印刷版用現像液Info
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- JP2910257B2 JP2910257B2 JP1114991A JP1114991A JP2910257B2 JP 2910257 B2 JP2910257 B2 JP 2910257B2 JP 1114991 A JP1114991 A JP 1114991A JP 1114991 A JP1114991 A JP 1114991A JP 2910257 B2 JP2910257 B2 JP 2910257B2
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- Japan
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- printing plate
- layer
- lithographic printing
- silicone rubber
- rubber layer
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版用現像
液に関するものであり、特に基版上に光硬化性層とシリ
コ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改善
された現像液に関するものである。
液に関するものであり、特に基版上に光硬化性層とシリ
コ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改善
された現像液に関するものである。
【0002】
【従来の技術】シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性接着層とシリ
コ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特
開昭60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層と
シリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿
し水を用いることなく実用的な印刷が可能である。
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性接着層とシリ
コ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特
開昭60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層と
シリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿
し水を用いることなく実用的な印刷が可能である。
【0003】水なし平版印刷版は、通常次のような露
光、現像工程を経て製版される。まず平版印刷版原版は
真空密着されたポジティブフィルムを通して活性光線に
露光される。露光の終った印刷原版はパラフィン系炭化
水素あるいはそれを主成分とする現像液に浸漬される。
その結果未露光部のシリコ−ンゴム層は現像液によって
激しく膨潤し、しわを生ずる。この状態でガ−ゼなどの
柔らかいパッドを用いて印刷版面を軽くこすると膨潤し
た未露光部のシリコ−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層
の未硬化の光硬化性層が露出する。この部分がインキ着
肉性の画線部となる。一方、露光部分のシリコ−ンゴム
層は現像液により若干膨潤するものの、光硬化した光硬
化性層に強く接着しているため、現像パッドで強くこす
っても侵されずに版面に残り、この部分がインキ反発性
の非画線部を形成することにより水なし平版印刷版に製
版される。このような製版過程を経て得られる水なし平
版印刷版は、シリコ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな
網点が得られる反面、例えば現像工程における現像操作
が不充分な場合には画線部として本来シリコ−ンゴム層
が剥離除去されていなければならない部分にもシリコ−
ンゴム層が残存してしまい、このために微小網点再現性
の悪い印刷版になってしまう。また現像時に版面を強く
こすり過ぎると非画線部として印刷版面上に残すべきシ
リコ−ンゴム層まで損傷してしまう。その結果、最終製
品である印刷物に地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷
特性の優れた印刷版が得られないという問題点をかかえ
ている。
光、現像工程を経て製版される。まず平版印刷版原版は
真空密着されたポジティブフィルムを通して活性光線に
露光される。露光の終った印刷原版はパラフィン系炭化
水素あるいはそれを主成分とする現像液に浸漬される。
その結果未露光部のシリコ−ンゴム層は現像液によって
激しく膨潤し、しわを生ずる。この状態でガ−ゼなどの
柔らかいパッドを用いて印刷版面を軽くこすると膨潤し
た未露光部のシリコ−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層
の未硬化の光硬化性層が露出する。この部分がインキ着
肉性の画線部となる。一方、露光部分のシリコ−ンゴム
層は現像液により若干膨潤するものの、光硬化した光硬
化性層に強く接着しているため、現像パッドで強くこす
っても侵されずに版面に残り、この部分がインキ反発性
の非画線部を形成することにより水なし平版印刷版に製
版される。このような製版過程を経て得られる水なし平
版印刷版は、シリコ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな
網点が得られる反面、例えば現像工程における現像操作
が不充分な場合には画線部として本来シリコ−ンゴム層
が剥離除去されていなければならない部分にもシリコ−
ンゴム層が残存してしまい、このために微小網点再現性
の悪い印刷版になってしまう。また現像時に版面を強く
こすり過ぎると非画線部として印刷版面上に残すべきシ
リコ−ンゴム層まで損傷してしまう。その結果、最終製
品である印刷物に地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷
特性の優れた印刷版が得られないという問題点をかかえ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、従来技
術の諸欠点に鑑みその改善対策について鋭意検討を進め
た結果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし
平版印刷版の現像液としてアルカノ−ルアミドを用いる
ことにより著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易
に再現できることを見い出し以下に述べる本発明に到達
した。
術の諸欠点に鑑みその改善対策について鋭意検討を進め
た結果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし
平版印刷版の現像液としてアルカノ−ルアミドを用いる
ことにより著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易
に再現できることを見い出し以下に述べる本発明に到達
した。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式(1)で表わされる構造を有するアルカノ−ルアミド
の少なくとも一種を0.5重量%以上含有することを特
徴とする水なし平版印刷版用現像液である。
式(1)で表わされる構造を有するアルカノ−ルアミド
の少なくとも一種を0.5重量%以上含有することを特
徴とする水なし平版印刷版用現像液である。
【0006】
【化2】
【0007】(但し、式中Rは炭素数1〜10のアルキ
ル基であり、nは2〜10である。) 本発明において使用されるアルカノ−ルアミドは、一般
式(1)で表わされる構造を有するものでRが炭素数1
〜10のアルキル基であり、nが2〜10である。Rの
炭素数が10を越えるアルカノ−ルアミドや、nが10
を越えるアルカノ−ルアミドを現像液中に含む場合は、
光硬化性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を低下させ
る効果が小さく、微小な網点を再現しにくくなるため好
ましくない。かかるアルカノ−ルアミドは現像液総量の
0.5〜100重量%好ましくは1.0〜100重量%
の範囲で含有されていることが重要である。
ル基であり、nは2〜10である。) 本発明において使用されるアルカノ−ルアミドは、一般
式(1)で表わされる構造を有するものでRが炭素数1
〜10のアルキル基であり、nが2〜10である。Rの
炭素数が10を越えるアルカノ−ルアミドや、nが10
を越えるアルカノ−ルアミドを現像液中に含む場合は、
光硬化性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を低下させ
る効果が小さく、微小な網点を再現しにくくなるため好
ましくない。かかるアルカノ−ルアミドは現像液総量の
0.5〜100重量%好ましくは1.0〜100重量%
の範囲で含有されていることが重要である。
【0008】本発明において使用されるアルカノ−ルア
ミドの具体例として例えば下記のものがあげられるがこ
れらに限定されない。N−2−ヒドロキシエチルアセト
アミド、N−3−ヒドロキシプロピルアセトアミド、N
−4−ヒドロキシブチルアセトアミド、N−6−ヒドロ
キシヘキシルアセトアミド、N−8−ヒドロキシオクチ
ルアセトアミド、N−2−ヒドロキシエチルプロピオン
酸アミド、N−3−ヒドロキシプロピルプロピオン酸ア
ミド、N−4−ヒドロキシブチルプロピオン酸アミド、
N−6−ヒドロキシヘキシルプロピオン酸アミド、N−
8−ヒドロキシオクチルプロピオン酸アミド、N−2−
ヒドロキシエチル酪酸アミド、N−3−ヒドロキシプロ
ピル酪酸アミド、N−4−ヒドロキシブチル酪酸アミ
ド、N−6−ヒドロキシヘキシル酪酸アミド、N−8−
ヒドロキシオクチル酪酸アミド、N−2−ヒドロキシエ
チルヘキサン酸アミド、N−3−ヒドロキシプロピルヘ
キサン酸アミド、N−4−ヒドロキシブチルヘキサン酸
アミド、N−6−ヒドロキシヘキシルヘキサン酸アミ
ド、N−8−ヒドロキシオクチルヘキサン酸アミド、N
−2−ヒドロキシエチル−2−エチルヘキサン酸アミ
ド、N−3−ヒドロキシプロピル−2−エチルヘキサン
酸アミド、N−4−ヒドロキシブチル−2−エチルヘキ
サン酸アミド、N−6−ヒドロキシヘキシル−2−エチ
ルヘキサン酸アミド、N−8−ヒドロキシオクチル−2
−エチルヘキサン酸アミドなど。
ミドの具体例として例えば下記のものがあげられるがこ
れらに限定されない。N−2−ヒドロキシエチルアセト
アミド、N−3−ヒドロキシプロピルアセトアミド、N
−4−ヒドロキシブチルアセトアミド、N−6−ヒドロ
キシヘキシルアセトアミド、N−8−ヒドロキシオクチ
ルアセトアミド、N−2−ヒドロキシエチルプロピオン
酸アミド、N−3−ヒドロキシプロピルプロピオン酸ア
ミド、N−4−ヒドロキシブチルプロピオン酸アミド、
N−6−ヒドロキシヘキシルプロピオン酸アミド、N−
8−ヒドロキシオクチルプロピオン酸アミド、N−2−
ヒドロキシエチル酪酸アミド、N−3−ヒドロキシプロ
ピル酪酸アミド、N−4−ヒドロキシブチル酪酸アミ
ド、N−6−ヒドロキシヘキシル酪酸アミド、N−8−
ヒドロキシオクチル酪酸アミド、N−2−ヒドロキシエ
チルヘキサン酸アミド、N−3−ヒドロキシプロピルヘ
キサン酸アミド、N−4−ヒドロキシブチルヘキサン酸
アミド、N−6−ヒドロキシヘキシルヘキサン酸アミ
ド、N−8−ヒドロキシオクチルヘキサン酸アミド、N
−2−ヒドロキシエチル−2−エチルヘキサン酸アミ
ド、N−3−ヒドロキシプロピル−2−エチルヘキサン
酸アミド、N−4−ヒドロキシブチル−2−エチルヘキ
サン酸アミド、N−6−ヒドロキシヘキシル−2−エチ
ルヘキサン酸アミド、N−8−ヒドロキシオクチル−2
−エチルヘキサン酸アミドなど。
【0009】上記のうちでも特に好のましいのはRが炭
素数1〜4のアルキル基であり、nが2〜5であるアル
カノ−ルアミドである。
素数1〜4のアルキル基であり、nが2〜5であるアル
カノ−ルアミドである。
【0010】本発明の現像液としては、一般式(1)の
アルカノ−ルアミドに溶媒を添加したものを用いること
もできる。かかる溶媒としては、石油の分留製品から容
易に入手できるパラフィン系炭化水素あるいはそれを主
成分とするもの、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タンのような精練されたパラフィン系炭化水素、水、ア
ルコ−ル類、エステル類、ポリエチレングリコ−ル類、
ポリプロピレングリコ−ル類、ケトン類、エ−テル類、
芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などがあげら
れる。
アルカノ−ルアミドに溶媒を添加したものを用いること
もできる。かかる溶媒としては、石油の分留製品から容
易に入手できるパラフィン系炭化水素あるいはそれを主
成分とするもの、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タンのような精練されたパラフィン系炭化水素、水、ア
ルコ−ル類、エステル類、ポリエチレングリコ−ル類、
ポリプロピレングリコ−ル類、ケトン類、エ−テル類、
芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などがあげら
れる。
【0011】本発明の現像液が好ましく適用できる水な
し平版印刷版は、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光硬化性層とシリコ
−ンゴム層とを積層した水なし平版印刷版である。
し平版印刷版は、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光硬化性層とシリコ
−ンゴム層とを積層した水なし平版印刷版である。
【0012】平版印刷版の基板は通常の平版印刷機にセ
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
【0013】光硬化性層は基板に均一に塗布されてお
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは100 ミクロン以下であり、50ミクロン以
下のものがさらに有用である。もし必要であれば、光硬
化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−ショ
ン防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−コ−
ト層をもうけることも有用である。
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは100 ミクロン以下であり、50ミクロン以
下のものがさらに有用である。もし必要であれば、光硬
化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−ショ
ン防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−コ−
ト層をもうけることも有用である。
【0014】本発明に用いられる光硬化性層としては、
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
【0015】本発明に用いられる光重合性接着層として
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。 (1) 沸点100 ℃以上の光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマ 1.0 〜99.9重量部 (2) 光増感剤 0.1 〜20.0重量部 (3) 熱重合禁止剤 0.01〜10.0重量部 (4) 光重合性層の形態保持用充填剤(ポリマ−あるいは無機粉末) 0.01〜95.0重量部 光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマの代表的な例
としては、炭素数30以下の1価のアルコ−ルあるいは1
価のアミンから誘導された沸点100 ℃以上のアクリル酸
エステルまたはメタアクリル酸エステル(以下これらを
(メタ)アクリル酸エステルと略称する。また以下の説
明で(メタ)□□□とあるのは同様に□□□またはメタ
□□□を略したものである。)、あるいは(メタ)アク
リルアミド、炭素数30以下の多価アルコ−ルあるいは多
価アミンから誘導された沸点100 ℃以上の(メタ)アク
リル酸エステル、あるいは(メタ)アクリルアミド、ア
ミンとグリシジル(メタ)アクリレ−トとの付加反応生
成物などをあげることができる。
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。 (1) 沸点100 ℃以上の光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマ 1.0 〜99.9重量部 (2) 光増感剤 0.1 〜20.0重量部 (3) 熱重合禁止剤 0.01〜10.0重量部 (4) 光重合性層の形態保持用充填剤(ポリマ−あるいは無機粉末) 0.01〜95.0重量部 光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマの代表的な例
としては、炭素数30以下の1価のアルコ−ルあるいは1
価のアミンから誘導された沸点100 ℃以上のアクリル酸
エステルまたはメタアクリル酸エステル(以下これらを
(メタ)アクリル酸エステルと略称する。また以下の説
明で(メタ)□□□とあるのは同様に□□□またはメタ
□□□を略したものである。)、あるいは(メタ)アク
リルアミド、炭素数30以下の多価アルコ−ルあるいは多
価アミンから誘導された沸点100 ℃以上の(メタ)アク
リル酸エステル、あるいは(メタ)アクリルアミド、ア
ミンとグリシジル(メタ)アクリレ−トとの付加反応生
成物などをあげることができる。
【0016】光増感剤の代表例としては、ベンゾフェノ
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
【0017】本発明に用いられる光架橋性層としては以
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニル
などを含む感光層。
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニル
などを含む感光層。
【0018】(2) エポキシ基を有するモノマ、オリゴマ
またはポリマとジアゾニウム塩との組み合わせからなる
感光層。これは露光するとジアゾニウム塩の光分解によ
りルイス酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して架
橋する。ジアゾニウム塩として、例えば2,5-ジエトキシ
-4-(P-トルイルチオ)ベンゼンジアゾニウムヘキサフロ
ロフオスフェ−トなどがもちいられる。 (3) アリル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマと
チオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマとの
組み合わせからなる感光層。これは露光するとチオ−ル
基がアリル基に付加して架橋する。 (4) ジアゾニウム塩、例えばP-ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドの縮合物など。 (5) アジド化合物と環化ゴムを主成分とする感光層。
またはポリマとジアゾニウム塩との組み合わせからなる
感光層。これは露光するとジアゾニウム塩の光分解によ
りルイス酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して架
橋する。ジアゾニウム塩として、例えば2,5-ジエトキシ
-4-(P-トルイルチオ)ベンゼンジアゾニウムヘキサフロ
ロフオスフェ−トなどがもちいられる。 (3) アリル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマと
チオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマとの
組み合わせからなる感光層。これは露光するとチオ−ル
基がアリル基に付加して架橋する。 (4) ジアゾニウム塩、例えばP-ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドの縮合物など。 (5) アジド化合物と環化ゴムを主成分とする感光層。
【0019】本発明のシリコ−ンゴム層は0.5 〜50ミク
ロン好ましくは0.5 〜5 ミクロンの厚さと、紫外線が透
過しうる透明性を有する。有用なシリコ−ンゴムは末端
基同志の縮合によって架橋する分子量1000〜1000000 の
線状ジオルガノポリシロキサン(好ましくはジメチルポ
リシロキサン)を主成分とし、必要に応じて架橋剤、触
媒が添加されたものである。シリコ−ンゴム層はインキ
反発性を有するものであり、その表面はいくぶん粘着性
を有し、埃などが付着しやすく、そのため露光工程にお
いてポジフイルムが十分に密着しにくいなどの問題が起
こりやすいので、シリコ−ンゴム層の表面に、薄い透明
性の保護フイルムを張りつけることもできる。また、こ
の保護フイルムは空気中の酸素の光硬化性層への浸透を
抑制し、光硬化性層の光硬化を促進する役割をも演ず
る。この様に、保護フイルムは露光工程において有用で
あるが、勿論、現像工程において剥離または溶解によっ
て除去され、印刷工程においては不必要なものである。
有用な保護フイルムは紫外線を透過し得る透明性と、10
0 ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚みを有
し、その代表例として次のようなプラスチックのフイル
ムをあげることができる。ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニル
アルコ−ルポリエチレンテレフタレ−ト、セロファンな
ど。
ロン好ましくは0.5 〜5 ミクロンの厚さと、紫外線が透
過しうる透明性を有する。有用なシリコ−ンゴムは末端
基同志の縮合によって架橋する分子量1000〜1000000 の
線状ジオルガノポリシロキサン(好ましくはジメチルポ
リシロキサン)を主成分とし、必要に応じて架橋剤、触
媒が添加されたものである。シリコ−ンゴム層はインキ
反発性を有するものであり、その表面はいくぶん粘着性
を有し、埃などが付着しやすく、そのため露光工程にお
いてポジフイルムが十分に密着しにくいなどの問題が起
こりやすいので、シリコ−ンゴム層の表面に、薄い透明
性の保護フイルムを張りつけることもできる。また、こ
の保護フイルムは空気中の酸素の光硬化性層への浸透を
抑制し、光硬化性層の光硬化を促進する役割をも演ず
る。この様に、保護フイルムは露光工程において有用で
あるが、勿論、現像工程において剥離または溶解によっ
て除去され、印刷工程においては不必要なものである。
有用な保護フイルムは紫外線を透過し得る透明性と、10
0 ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚みを有
し、その代表例として次のようなプラスチックのフイル
ムをあげることができる。ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニル
アルコ−ルポリエチレンテレフタレ−ト、セロファンな
ど。
【0020】このようにして構成された平版印刷版原版
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の現像液を用いて、ガ−ゼ、不織布などの柔
らかいパッドで版面を軽くこすることにより、実質的に
画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光
硬化性層を露出させることができる。必要なら、特開昭
54-103103 号公報に記載の方法に従って画線部を染色す
る。また、本現像液中に浸漬するなどして版面をしめら
せた後、別の溶媒、好ましくは水または水を主成分とす
る溶媒で洗浄しながら、版面をこすることにより、実質
的に画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部
の光硬化性層を露出させる方法を採用することもでき
る。この際、洗浄溶媒中に染料を添加することにより、
画線部を染色することも可能である。
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の現像液を用いて、ガ−ゼ、不織布などの柔
らかいパッドで版面を軽くこすることにより、実質的に
画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光
硬化性層を露出させることができる。必要なら、特開昭
54-103103 号公報に記載の方法に従って画線部を染色す
る。また、本現像液中に浸漬するなどして版面をしめら
せた後、別の溶媒、好ましくは水または水を主成分とす
る溶媒で洗浄しながら、版面をこすることにより、実質
的に画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部
の光硬化性層を露出させる方法を採用することもでき
る。この際、洗浄溶媒中に染料を添加することにより、
画線部を染色することも可能である。
【0021】本発明の現像液を適用することにより、従
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
【0022】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
するが、本発明はこれらに限定されない。
【0023】実施例1〜4、比較例1、2 アルミニウム基板上に、次の組成を有する厚さ4ミクロ
ンの光重合性層を設けた。 (a) アジピン酸とヘキサン−1,6ジオ−ルおよび2,2−ジメチルプロパン −1,3−ジオ−ルからなるポリエステルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ −トとのポリウレタン 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミ ンの4モル/1モル付加反 応物 40重量部 (c) ミヒラ−氏ケトン 4重量部 次いでこの光重合性接着層の上に次の組成を有するシリ
コ−ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風中
で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコ−ンゴム層を設け
た。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000 ) 100重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上述のように作製した版に厚さ10ミクロンのポリエチレ
ンテレフタレ−トフイルム“ルミラ−”(東レ(株)
製)を保護フイルムとしてラミネ−トして平版印刷用原
版とした。
ンの光重合性層を設けた。 (a) アジピン酸とヘキサン−1,6ジオ−ルおよび2,2−ジメチルプロパン −1,3−ジオ−ルからなるポリエステルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ −トとのポリウレタン 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミ ンの4モル/1モル付加反 応物 40重量部 (c) ミヒラ−氏ケトン 4重量部 次いでこの光重合性接着層の上に次の組成を有するシリ
コ−ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風中
で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコ−ンゴム層を設け
た。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000 ) 100重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上述のように作製した版に厚さ10ミクロンのポリエチレ
ンテレフタレ−トフイルム“ルミラ−”(東レ(株)
製)を保護フイルムとしてラミネ−トして平版印刷用原
版とした。
【0024】この平版印刷用原版に網点面積率を段階的
に変えた(200 線、2%〜98%)ポジフイルムを密着
し、 3kwの超高圧水銀灯(オ−ク製作所製)で1mの距離
から90秒露光した。
に変えた(200 線、2%〜98%)ポジフイルムを密着
し、 3kwの超高圧水銀灯(オ−ク製作所製)で1mの距離
から90秒露光した。
【0025】露光版からラミネ−トしてある保護フイル
ムを取り除き、第1表に示すような現像液を用いて露光
版をそれぞれ現像し水なし平版印刷版を得た。これらの
現像液によって得られた印刷版の現像に要した時間およ
び印刷版の網点再現域についての結果を別表に示す。
ムを取り除き、第1表に示すような現像液を用いて露光
版をそれぞれ現像し水なし平版印刷版を得た。これらの
現像液によって得られた印刷版の現像に要した時間およ
び印刷版の網点再現域についての結果を別表に示す。
【0026】一般式(1)のアルカノ−ルアミドを含む
実施例1〜4の現像液を用いると、光重合性層を実質的
に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離
除去でき、かついずれの場合も網点再現域は 2%〜98%
であった。一般式(1)のアルカノ−ルアミドを含まな
い比較例1の場合は、光重合性層を実質的に溶解させず
に、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離除去できる
が、現像時間が長くかかり、網点再現性も不充分であ
る。また、特許請求の範囲外であるN−12−ヒドロキ
シドデシルアセトアミドを含む比較例2の現像液は、光
重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を低下させる
効果が小さく、微小な網点を再現しにくくなっているた
め、現像液としては不適当である。
実施例1〜4の現像液を用いると、光重合性層を実質的
に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離
除去でき、かついずれの場合も網点再現域は 2%〜98%
であった。一般式(1)のアルカノ−ルアミドを含まな
い比較例1の場合は、光重合性層を実質的に溶解させず
に、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離除去できる
が、現像時間が長くかかり、網点再現性も不充分であ
る。また、特許請求の範囲外であるN−12−ヒドロキ
シドデシルアセトアミドを含む比較例2の現像液は、光
重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を低下させる
効果が小さく、微小な網点を再現しにくくなっているた
め、現像液としては不適当である。
【0027】
【表1】
【0028】実施例5 実施例1と同様にして得た露光版から保護フイルムを取
り除き、N−2−ヒドロキシエチルアセトアミドの中に
1分間浸漬した後、アストラゾンレッド6B(バイエル
社製)を2重量%溶解した水で版面を洗浄しながらブラ
シでこすることにより現像を行った。その結果、画線部
の光重合性接着層が赤く染色された検版性の良好な刷版
が得られた。
り除き、N−2−ヒドロキシエチルアセトアミドの中に
1分間浸漬した後、アストラゾンレッド6B(バイエル
社製)を2重量%溶解した水で版面を洗浄しながらブラ
シでこすることにより現像を行った。その結果、画線部
の光重合性接着層が赤く染色された検版性の良好な刷版
が得られた。
【0029】現像所要時間は約3分で、網点再現域は20
0 線、 2〜98%と極めて良好であった。
0 線、 2〜98%と極めて良好であった。
【0030】
【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したので、現
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(1)で表わされる構造を有するア
ルカノールアミドの少なくとも一種を0.5重量%以上
含有することを特徴とする水なし平版印刷版用現像液。 (但し、式中Rは炭素数1〜10のアルキル基であり、
nは2〜10である。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1114991A JP2910257B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1114991A JP2910257B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04245249A JPH04245249A (ja) | 1992-09-01 |
JP2910257B2 true JP2910257B2 (ja) | 1999-06-23 |
Family
ID=11769964
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1114991A Expired - Lifetime JP2910257B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2910257B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5679485A (en) * | 1993-03-31 | 1997-10-21 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Photosensitive composition, photosensitive rubber plate and process for producing same, and flexographic plate and process for producing same |
-
1991
- 1991-01-31 JP JP1114991A patent/JP2910257B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04245249A (ja) | 1992-09-01 |
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