JPS5825635A - 水なし平版印刷原板 - Google Patents

水なし平版印刷原板

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JPS5825635A
JPS5825635A JP12400981A JP12400981A JPS5825635A JP S5825635 A JPS5825635 A JP S5825635A JP 12400981 A JP12400981 A JP 12400981A JP 12400981 A JP12400981 A JP 12400981A JP S5825635 A JPS5825635 A JP S5825635A
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JP
Japan
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layer
silicone rubber
rubber layer
printing plate
photopolymerizable
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JP12400981A
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JPS6322306B2 (ja
Inventor
Masaya Asano
浅野 昌也
Koichi Nagase
公一 長瀬
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、改良されたインキ反撥性を示す水なし平版印
刷版原板に関するものである。
ンリコーンゴム層全インキ反撥層とする水なし平版印刷
版については9種々のものが提案されている。なかでも
特公昭54−26923に記載されているような基板」
二に光重合層を設け、該光重合層上にシリコーンコム層
を設けてなる平版印刷版原板ケ、ポジフィルムを通して
露光し、露光部分のシリコーンゴム層を光重合層に接着
せしめ1次にシリコーンゴム全膨潤させうる性質の現像
液を用いて未露光部分のシリコーンゴム全除去すること
によって得られる平版印刷版は、極めて優れた性質を有
している。
本発明者らは、かかる水なし平版印刷版原板についてさ
らに詳細な検討を続けた結果、空気中に存在する酸素の
ため、光重合層の光重合が阻害され、現像の際に露光部
分のシリコーンゴム層の一部が光重合層に接着せず、剥
離しやすいという欠点と、シリコーンゴム層」二に光透
過性で、かつ酸素透過防止性の被覆層を設けることによ
って解決できること全党い出した。しかしながら、この
ような酸素透過防止性の被覆層を設けることは、印刷版
原板へのゴミ等の異物付着防止、キズ防止などのための
保護膜としての副次的な効果2有しているが、光重合層
組成物中のモノマや増感剤、その他の添加剤がシリコー
ンゴム層中に浸み出し。
シリコーンゴム層表面を汚染し、その結果インキ反撥性
の低下を招くという欠点を有していることがわかった。
本発明者らは、かかる欠点を解決すべく鋭意検討した結
果9本発明の水なし平版印刷版原板に到達した。すなわ
ち2本発明の水なし平版印刷版原板は、基板上に光重合
層を設け、該重合ノー」二にシリコーンゴム層を設け、
さらに該シリコーンゴム層上に非極性高分子層および酸
素透過防止性の被覆層を順次積層してなること全特徴と
する水なし平版印刷版原板に関するものである。
本発明の水なし平版印刷版原板は、シリコーンゴム層と
酸素透過防止性の被覆層との間に、非極性高分子層を介
在させてなるものであり、光重合層組成物中の各種成分
のシリコーンゴム層中への浸み出しを防止し、従ってイ
ンキ反撥性の良好な印刷版を得ることができる。
本発明の水なし平版印刷版原板の基板は9通常の平版印
刷機にセットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に
耐えつるものでなければならない。
代表的な基板としては、コート紙、金属板あるいはポリ
エチレンテレフタレートのようなプラスチックフィルム
、ゴムあるいはそれらの複合基板などをあげることがで
きる。これらの基板の表面には9例えばハレーション防
止層を設けることも有用である。
本発明の光重合層は基板に均一に塗布されており9層の
厚みは任意であり、好1しくは100ミクロン以下であ
り、50ミクロン以■ものがさらに有用である。もし必
要があれば、光重合層と下層の基板との間の接着性向」
二あるいは、ノル−クヨン防止のために基板と光重合層
との間にアンカーコート層金設けることも有用である。
本発明に用いられる光重合層は以下に示すような組成を
有することが好ましい。
(1)沸点100°0以上の光重合性不飽和モノマーあ
るいはオリゴマ  1.0〜999重量部(2)  光
増感剤      0.1〜20.0重量部(3)  
必要に応じて熱重合禁止剤 0・01〜10重量部 (4)必要に応じて光重合層の形態保持のための充填材
として、ポリマーあるいは無機粉末0.01〜95.0
瓜量部 光重合性モノマーあるいはオリゴマの代表的な例として
は、炭素数30以下の1価のアルコールあるいは1価の
アミンから誘導された沸点100°C以上の(メタ)ア
クリル酸エステル、あるいは(メタ)アクリルアミド、
炭素数80以下の多価アルコールあるいは多価アミンか
ら誘導された沸点100°C以」二の(メタ)アクリル
酸エステル。
あるいは(メタ)アクリルアミドをあげることができる
光増感剤の代表例としては、ベンゾフェノンおよびその
誘導体、ベンゾインおよびその誘導体。
アントラキノンおよびその誘導体、さらにはアルデヒド
類、ケトン類、イオウ化合物、ハロゲン化合物などであ
シ、熱重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびその
誘導体、フェノール誘導体。
ニトロ置換ベンゼン、第三級アミン、フェノチアジンお
よびその誘導体など全あげることができる。
充填材あるいは添加物として、ポリ(メタ)アクリル酸
エステル、ポリウレタン、ポリアミド。
ポリエステルなどのポリマーやコロイダルシリカ。
炭酸カルシウムなどの無機粉末、その他の添加慄として
、露光部分を識別しゃすいようにクリツク5− ルバイオレットのような染料を添加しておくこともでき
る。
シリコーンゴム層上o、 5〜50ミクロン、好ましく
は0.5〜5ミクロンの厚さと、紫外線が透過しうる透
明性を有する。有用なシリコーンゴムは末端基同志の縮
合によって架橋する分子量100〜400,000  
の線状ジオルガノポリシロキサン(軽重しくけジメチル
ポリシロキサン)を主成分とし、必要に応じて架橋剤、
触媒が添加されたものである。さらに、シリコーンゴム
層と下層の光重合層との接着性向上のため、シリコーン
ゴム層と光重合層の間にシリコーンプライマーやシラン
カップリング剤からなる中間層を設けることも有用であ
る。
本発明に用いられる非極性高分子層は、そのS歿 p値が9.5 (cal/an“)以下の高分子化合物
からなる層で、厚みは100ミクロン以下0.1ミクロ
ン以上、好ましくは10ミクロン以下0.5ミクロン以
上が適描である。
ここにいう sp値とは、111あたりの凝集力。
6− すなわち凝集エネルギー密度(CED)の05乗として
定義されるものである。
sP値−(CKD)  =(Ca、、/cm’ )”H
:蒸発熱 cal/mol T:温度 V:その温度でのl molの容積 R=1.982caA/度−mol 中でも軽重しいものとしては分子内にカルボニル基、エ
ーテル基、水酸基などの極性基全実質的に含−1:ない
高分子化合物であり9代表的な非極性高分子化合物とし
ては、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロ
ピレン共■台体、ポリブテン、ポリペンテン、ポリイソ
プレン、ポリイソブチレン、ポリブタジェン、ポリスチ
レン、ブタジェン−スチレン共重合体、固隼状のパラフ
ィンワックスなどの炭化水素樹脂、ポリ四フッ化エチレ
ン、ポリ六フッ化プロピレン、ポリ四フッ化−7− 六フッ化プロピレン、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ
素樹脂、シリコーン樹脂などをあげることができ る。
本発明に用いられる酸素透過防止性の被覆層としては、
酸素透過率が300 cc (N T P )/ m’
/ h r 10.1mm/atm(25°0)以下、
軽重しくけ50 cc (NT P ) / m’ /
 hr / 0.1 mm / atm (25°0)
以下であり、膜厚は100ミクロン以下0.1ミクロy
 以」二、軽重しくは10ミクロン以下0.5ミクロン
以」ユが適当である。その代表的な例として、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリアク
リロニトリル、アクリロニトリル−塩化ビニリデン共重
合体、ポリアミド、セロファン、ポリビニルアルコール
などをあげることができる。もし必要なら、真空密着性
を向上せしめるために、適当なマット化剤1例えば酸化
チタン。
コロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの無機粉末を添
加した9、ゴミの付着を防止するために。
帯電防止剤全添加することも有効である。
また、非極1生高分子層と酸素透過防止1生の被覆層と
の接着性向上のため1例えば両層の間にエポキシ化合物
、インンアネート化合切、アクリル酸の共重合体、その
他の高分子化合物からなる接着層を設けること、あるい
はいずれが一方寸たけ両方の層にその本来の性能全そこ
な幼い板に、これらの接着に寄与する成分を添加するこ
とも有効である。
なお、これらの非極性高分子層および酸素透過防止性の
被覆層は生版の保存および露光工程において重要な役割
を演するが、現像r程前あるいは現像工程中に剥離寸た
は溶解によって除去され。
印刷工程においては不必要なものである。
以上説明したような構成からなる本発明の水なし平版印
刷版原板は2例えば次のようにして製造される。
葦f、、1(7)J二ニ、リバースロールコーク、エア
ーナイフコータ、グラビアコーター、メーヤバーコータ
などの通常のコータ全周いて光重合組成吻を塗布する。
次に該光重合の−にに、シリコーンゴム層− ム溶液を、光重合層と同様の方法で塗布し、充分に硬化
させてシリコーンゴム層を形成する。一方。
先に例示した非極性高分子化合物からなるプラスチック
フィルムと酸素透過防止性のプラスチックフィルムをは
り合わせたフィルム、あるいは非極性高分子化合物から
なるプラスチックフィルムか。
寸たは酸素透過防止性のプラスチックフィルムのいずれ
か一方のフィルムに、他方全塗布することによって得ら
れた非極性高分子I―と酸素透過防止性層とからなる複
合フィルムを用いて、先に述べfcシ’)コーンゴム層
の上に通常のラミネータを用いて、非極性高分子層側全
シリコーンゴム層と接するように張り合わせることによ
り水なし平版印刷版原板が得られる。
このようにして製造された本発明の水なし平版印刷版原
板は1例えば真空密着されたポジフィルム全通して活性
光線によって露光される。この露光工程で用いられる光
源は、紫外線全豊富に発生するものであり、水銀灯、カ
ーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、螢光灯な10− どを使うことができる。
露光の終った印刷版は必要に応じて非極性高分子層と酸
素透過防止性の被覆層を剥がし、現像液に浸漬される。
有用な現像液としては、シリコーンゴム全膨潤させるも
のが軽重しく、未露光部のシリコーンゴム層のみ全除去
するか、光重合層ごと除去できるものである。このよう
な現像液に浸漬し、ガーゼなどの柔らかいパッドを用い
て印刷版面を軽くこすると、現像液が光重合贋金実質的
に溶解させない場合は、未露光部のシリコーンゴム層の
みが容易に剥ぎとられ、下層の未硬比の重合層が露出す
る。寸た。現像液が未露光部の九重合層全溶屏させる場
合は、未露光部のシリコーンゴム層とともに未露光部の
光重合層が溶解除去され基板が露出する。いずれの場合
も、露光部分のシリコーンゴム層は1元重合した光重合
層に強(接着しているため、現像パッドで強くこすって
も侵されずに版面に残る。このようにして水なし平版印
刷版が製造される。
以下実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明11− するが2本発明はこれらによって何ら限定されるもので
はない。
実施例1.比較例1 アルミニウム基板上に9次の組成を有する感光液(10
%エチルセロソルブ溶液)全塗布し、80°0熱風中で
乾燥して厚さ4ミクロンの光重合層を設けた。
(a)  ポリウレタン樹脂「工mpranil EL
NJ(Bayer社製)           56重
量部(1))  メククリル酸グリシジル4モルとキシ
リレンジアミン1モルの付加反応物   40重量部(
C)  ミヒラー氏ケトン       4重量部(d
)  クリスタルバイオレット   0−4 M f 
部この光重合層の上に次の組成2有するシリコーンの1
0%n−ヘギザン希釈液全塗布し、50°0熱風中で乾
燥して厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層全設けた。
(a)  ポリジメチ□ルシロキサン(分子it約40
,000 )1oo重量部 (′b)  メチルトリアセトキシシラン  5重f 
m12− (C)  酢酸ジブチルスズ      02重量部一
方、酸素透過防止層としての厚さ10ミクロンのホリエ
テレンテレフタレートフィルム「ルミラー」(東し製)
の上に、第1表に掲げた非極性高分子樹脂(トルエン溶
液)を厚さ2ミクロンになるように塗布した。次いで、
これらの非極性高分子層がシリコーンゴム層と接するよ
うにラミネートして印刷版原板とした。
これらの印刷版原板に、2%〜98%の網点再現域を有
するグラーデションボ゛ジフィルム全密着し、3kWの
超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1mの距離から90
秒露光した。露光板からラミネートしであるフィルム全
敗り除き、n−へキサン全しみこ普せたパッドで軽くこ
することにより未露光部のシリコーンゴム層のみケ敗り
除いて印刷版とした。第1表に、これらの印刷版の網点
再現性、非画線部の水による接触角を示す。網点再現性
は比較例として用いた非極性高分子層のない場合(ポリ
エチレンテレフタレートフィルムタケの場合)と同等で
あるが、接触角は非極性高分子13一 層のある場合の方が高く、シリコーンゴム層表面の汚染
がりないことを示している。事実、これらの印刷版全9
販而の温度を昇温できるように改造したハマダスターに
と9っけ、東洋インキ「アクワレスHTR紅」を用いて
、湿し水を用いないで印刷したところ、比較例として用
いた非極性高分子層のない場合は9版面の温度が36°
0で地汚れが発生したが、非極性高分子層がある場合は
40°0でも汚れが出なかった。
第  1  表 * ポリエチレンテレフタレートのSP値実施例2.比
較例2 実施列1と同様に、アルミニウム基板上に光重合層、ン
リコーンゴム層ケ設ける。非極性高分子層としての厚さ
8ミクロンのポリプロピレンフィルム「トレファン」(
東し製)の上に、ザランレジン(旭ダウ製)のメチルエ
チルケトン/トルエン溶液を塗布し、厚さ1ミクロンの
酸素透過防止性の被覆層全段けた。次いで、ポリプロピ
レンフィルムがシリコーンゴム層と接するようにラミネ
ートシて印刷版原板とした。
この印刷版原板を実施例1と同様に、露光現像した。非
画線部の水による接触角は、比較例として用いた酸素透
過性の被覆層のない場合(ポリプロピレンフィルムだけ
の場合)と同様82°を示し。
実施例1と同様の印刷試験においても版面の温度が40
°Cでも汚れが発生しなかった。
一方、焼枠の真空度が、5QTOrr以下においては、
いずれの版も、2〜98%の網点再現性を示したが、真
空度が200Torr  以上になると。
酸素透過防止性の被覆層のない比較例2は、感度の低下
および網点再現性の低下(2〜70チ)が認められたが
、酸素透過防止性の被覆層を設けた実施例2は感度低下
もなく2〜98チの網点再現1生を示した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  基板上に光重合層金膜け、該光重合層」−に
    シリコーンゴムJfi k 設ケeさらに該シリコーン
    ゴム層上に非極性高分子層および酸素透過防止性の被覆
    層を順次積層してなることを特徴とする水なし平版印刷
    版原板。
JP12400981A 1981-08-10 1981-08-10 水なし平版印刷原板 Granted JPS5825635A (ja)

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