JPS6323545B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6323545B2
JPS6323545B2 JP9775580A JP9775580A JPS6323545B2 JP S6323545 B2 JPS6323545 B2 JP S6323545B2 JP 9775580 A JP9775580 A JP 9775580A JP 9775580 A JP9775580 A JP 9775580A JP S6323545 B2 JPS6323545 B2 JP S6323545B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing
layer
photosensitive
plate
rubber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP9775580A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5722242A (en
Inventor
Fumikatsu Makino
Yoichi Shimokawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP9775580A priority Critical patent/JPS5722242A/ja
Priority to EP81303205A priority patent/EP0044220B1/en
Priority to DE8181303205T priority patent/DE3170113D1/de
Priority to CA000381645A priority patent/CA1173291A/en
Publication of JPS5722242A publication Critical patent/JPS5722242A/ja
Priority to US06/647,868 priority patent/US5053311A/en
Publication of JPS6323545B2 publication Critical patent/JPS6323545B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は湿し水を用いずに、かつ、被印刷体に
直接印刷するに適した平版印刷版に関するもので
ある。
湿し水を用いないで印刷が可能なシリコーンゴ
ム層をインキ反撥層とする平版印刷版(以下水な
し平版印刷版という)についてはすでに多くの提
案がなされている。なかでも、特公昭54−26923
および特開昭50−50102に開示されているような、
支持体上に光重合性接着層を設け、その上にさら
にシリコーンゴム層を設けてなる感光性印刷原板
を露光し、その後、実質的に未露光部分のシリコ
ーンゴム層のみを剥離せしめて得られる水なし平
版印刷版が実用的である。
かかる平版印刷版をそのまま用いて、ブランケ
ツトを介することなく被印刷体に直接印刷する試
みもいくつかなされてきた。例えば、実開昭48−
108703および特開昭54−62003に具体的な方法が
開示されている。このような水なし平版印刷版の
場合には、通常の湿し水を用いる平版印刷版(以
下水あり平版印刷版という)の場合に比べて、被
印刷体に印刷版から直接印刷する直刷り印刷が容
易になる。例えば、水あり平版印刷版では被印刷
体が紙の場合、版面と紙が直接接触する結果、比
較的多量の湿し水が紙に吸収されて水とインキの
量的バランスがくずれやすいこと、紙の吸水によ
り紙寸法の変化あるいは巻紙の切断が起こりやす
いことなどの問題点があるが水なし平版印刷版の
場合にはこれらの問題点を解消することができ
る。
しかし、水なし平版印刷版で直刷り印刷を行な
う場合でも、オフセツト印刷の場合に比較すると
不満足な印刷物品質しか得られないうらみがあつ
た。すなわち、オフセツト印刷の場合にはブラン
ケツトのゴム弾性を利用して被印刷体表面にイン
キを転写するという操作が入るのに対して、直刷
り印刷の場合は印刷版から被印刷体に直接インキ
を転写するため被印刷体全面にわたつて均一に印
圧をかけて印刷することが極めて困難である。ま
た、被印刷体が紙の繊維に基づく凹凸のような粗
面を有する場合、インキが被印刷体の凸部に優先
的に転移するという欠点があつた。
この欠点を改良する試みとして、特定のゴム硬
度および厚み範囲を有するゴム弾性層の上に印画
層を設けてなる直刷用水あり平版印刷版の例が、
特公昭51−9323に示されている。ここでは印画層
の下に設けられたゴム層が、オフセツト印刷にお
けるブランケツトの役割を果たし、良好なインキ
の転移性を与えている。しかし、ゴム弾性層の上
に感光性樹脂層を設け、さらにシリコーンゴム層
を設けて湿し水不要の直刷用印刷板をつくろうと
すると、版性能の経時変化が大きく、時間ととも
に感度が大きく低下し、実用性のある版が得られ
なかつた。
本発明者らは、このような問題点を解決すべく
鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、ゴム弾性を有する支持体
上に感光性樹脂層およびシリコーンゴム層をこの
順に積層してなる水なし平版印刷用原板において
該感光性樹脂層中の感光性成分が高分子感光性物
質であることを特徴とする直刷用印刷に適した前
記印刷用原板に関するものである。
本発明の感光性樹脂層を使用することにより、
はじめて、感光特性の経時的低下は防止され、保
存安定性のすぐれた実用性のある印刷用原板を得
ることができる。本発明の感光性樹脂層を用いる
ことにより、感光特性の経時低下が防止される機
構は十分には解明されてはいないが、従来の感光
性樹脂層を形成する組成物が、担体ポリマ、光硬
化型モノマあるいは光分解型化合物、増感剤等の
混合系で本質的に不均一であり、経時的に低分子
感光性成分がゴム層へ移行していくのに対し、本
発明の感光層は実質的に均一であり、かつ高分子
感光性物質であるので、ゴム層への移行がほとん
どなく、したがつて感光層の組成的にも変動が起
らないためと考えられる。
本発明に用いられる感光性樹脂層は感光性成分
が高分子の感光性物質からなつている。ここにい
う高分子感光性物質とは分子量が1000以上であつ
て、かつ活性光線を照射することにより光不溶化
または光可溶化する物質を有するものである。
このような物質について例示すると (1) 光不溶化する高分子感光性物質 既存の高分子に感光性の基をペンダントさせる
ことにより得られる感光性高分子、あるいはそれ
を改質したもの。
主な感光性の基としては、オレフイン基、(メ
タ)アクリル基、シンナモイル基、シンナミリデ
ンアセチル基、フエニルアジド基、ジアゾ基、α
−フエニルマレイミド基などをあげることができ
る。
中でも(メタ)アクリル基、シンナモイル基、
シンナミリデンアセチル基、フエニルアジド基を
含むものが本発明には好ましく用いられ、代表的
なものとして、ポリビニルアルコールのアジドフ
タル酸エステル、スチレン−無水マレイン酸共重
合体のβ−(4−アジドフエノール)エタノール
エステルなどをあげることができる。
さらに、ジアゾ樹脂と呼ばれるパラジアゾフエ
ニルアミンやパラジアゾモノエチルアニリン等の
ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドの縮合物など
も使用することが可能である。
(2) 光可溶化する高分子感光性物質 光可溶化するものとしてはジアゾ化合物の無機
酸や有機酸とのコンプレツクス、キノンジアジド
類などを適当なポリマーバインダーと結合させた
ものをあげることができる。中でも本発明には、
キノンジアジド類を適当なポリマーバインダーと
結合させた例えばフエノール・ノボラツク樹脂の
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸エステルなどが好ましく用いられる。
なお本発明の感光性樹脂層には上記高分子感光
性物質のほかに少量の非感光性の高分子物質を混
合して用いることも可能であり、実用上有用であ
る。
感光性樹脂層の厚みとしては、通常0.5〜30μの
範囲であるがこれは特に限定されない。
本発明に使用されるゴム弾性を有する支持体の
材料としては、天然ゴム、合成ゴム、例えば、ポ
リイソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレ
ン・ブタジエンゴム、ニトリルゴム、アクリルゴ
ム、ブチルゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレ
タンゴム、ポリエステルエラストマー等が挙げら
れる。ゴム層の厚みとしては、通常0.01〜1mm程
度のものが用いられる。
また、ゴム層に、印刷版として要求される形態
保持性を与えるために、アルミ板、鉄板等の金属
板、プラスチツクフイルム等をゴム層の下に設け
ることもできる。
本発明においてインキ反撥層として使用される
シリコーンゴム層の厚みは1〜100μの範囲が好
ましい。薄すぎる場合は耐刷力の点で問題を生じ
ることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利
であるばかりでなく、現像時シリコーン層を除去
するのが困難となり画像再現性の低下をもたら
す。シリコーンゴムとしては低温で速かに硬化す
るという点で常温硬化型(RTV)のものが好ま
しい。これはベースポリマの線状ジオルガノポリ
シロキサンを、まばらに架橋することにより得ら
れる。この架橋密度は、下記構造式で示されるシ
リコーンゴムくり返し単位中のR/Si比で表現で
き、有用なシリコーンゴムでは、1.95〜2.10好ま
しくは1.99〜2.01である。このようなシリコーン
ゴムは、 (ここで、nは2以上の整数、Rは炭素数1〜
10のアルキル、ハロゲン化アルキル、ビニル、ア
リールあるいはシアノアルキル基であり、Rの60
%以上がメチル基であるものが好ましい。最も好
ましいのはRが全てメチル基であるジメチルポリ
シロキサンである。) で示される繰り返し単位を有するシリコーンベー
スポリマと次にあげるシリコーン架橋剤との縮合
反応によつて得られる。
(1) R−Si−(OR)3 (2) R−Si−(OAc)3 (3) R−Si(ON=CR′23 ここで、Rは上で説明したRと同じ意味であ
り、R′はメチル、エチルなどのアルキル基であ
り、Acはアセチル基である。
この架橋反応においては上記成分の他に錫、亜
鉛、コバルト、鉛などの金属のカルボン酸塩、た
とえば、ジブチル錫ラウレート、錫オクトエー
ト、ナフテン酸コバルト等の触媒が添加される。
またシリコーンゴムの強度を向上し印刷作業中に
生ずる摩擦力に対する耐性を向上するためにシリ
コーンゴム中に充填剤を混合しておくこともでき
る。
また必要ならば、感光性樹脂層と上記シリコー
ンゴム層との間に、両層を結合接着する接着層を
設けることもできる。接着層としては種々のもの
が用いられるが、特にアミノシラン層が好まし
い。ここで言うアミノシランとは一般に次式で表
わされるものを言う。
〔RnR′oSi(OR″)4-n-o ここでR:無置換或いは−置換アミノ基を有す
るアルキル基 R′,R″:アルキル基又はアリール基 mは1又は2、nは0又は1であつてかつ
m+n=1又は2の関係を満たす。〕 代表的なものとしては、例えば、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−〔N−(2−アミ
ノエチル)アミノ〕プロピルトリメトキシシラン
等があげられる。接着層の厚みとしては通常
10mμ〜0.5μの範囲が選ばれる。
このようにして構成された平版印刷用原板の表
面を形成するシリコーンゴム層の表面に透明な保
護フイルムを積層することもできる。有用な保護
フイルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレンテレフタレートなどをあげるこ
とができる。
以下に実施例をもつて具体的に説明するが、本
発明はこれらの例によつて何ら限定されるもので
はない。
実施例 1 厚み0.3mmのアルミ板上に、厚み0.3mm、ゴム硬
度60(シヨアA)のクロロプレンゴム層を設けた
複合基板上に、エステル化度45%のフエノールノ
ボラツク樹脂(住友ベークライト製:スミレジン
PR50235)のナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸エステル(分子量約1300)の10重
量%ジオキサン溶液を塗布し、60℃熱風中で乾燥
し、厚さ3μの感光性樹脂層を設けた。この上に、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(UCC
製:A1100)の0.5重量%n−ヘキサン溶液を塗
布し100℃熱風中で乾燥した。さらにこの上に次
の組成を有するシリコーンガム組成物の10重量%
n−ヘキサン溶液を塗布し、100℃熱風中で乾燥
して厚さ2μのシリコーンゴム層を設けた。
(a) ポリジメチルシロキサン(分子量約8万、両
末端OH基) 100重量部 (b) メチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上記のようにして得られた印刷版原版にネガフ
イルムをあてがつて減圧密着し、2KWのメタル
ハライドランプ(岩崎電気製アイドルフイン
2000)を用い、1mの距離から60秒露光した。版
面をエタノールに浸漬し、綿パツドで軽くこする
と、露光部分は容易に除去されてゴム層が露出
し、一方未露光部にはシリコーンゴム層が強固に
残存しており、ネガフイルムを忠実に再現した印
刷版を得た。この印刷版原板の感光特性は、製造
後室温保存1カ月又は50℃保存7日経過後も、実
用上変化なかつた。
この印刷版を、通常の平台式凸版印刷機に取り
つけて、水なし平版用インキ「アルポG」(東華
色素化学工業製)を用いてコート紙に直刷り印刷
を行なつたところ、全体のインキ着肉状態が良好
で、シヤープな画像を有する印刷物が得られた。
比較例 1 実施例1において、感光性樹脂層が、フエノー
ル・ノボラツク樹脂とフエノール〔ナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸〕エステル
(分子量326)との1:1重量比混合物である以外
は全く同様の印刷版原板を作製した。
この原板は、製造直後は実施例1の原板に近い
露光・製版・印刷特性を示したが、室温1カ月後
あるいは50℃7日保存後は、画像形成能を失い、
製版不能となつた。
実施例 2 実施例1において感光性樹脂層を以下のように
して塗布し、それ以外は実施例1と全く同様の構
成で印刷版原板を作製した。
感光性樹脂層としては重合度1400、完全ケン化
型のポリビニルアルコール(日本合成化学製“ゴ
ーセノール”NM−14)をシンナミリデン酢酸に
よりエステル化して得られるポリシンナミリデン
アセテートの5重量%メチルセロソルブアセテー
ト溶液をゴム層の上に塗布し、80℃熱風中で乾燥
して厚さ3μの層を形成した。
露光の前に、最上層のシリコーンゴム層の上に
厚さ10μのポリエステルフイルム(東レ製“ルミ
ラー”)を積層し、その上にポジフイルムをあて
がつて減圧密着し、2KWの超高圧水銀灯(オー
ク製作所製)を用い、1mの距離から5分露光し
た。版面をトリクレンを浸みこませた綿パツドに
より軽くこすると、未露光部は容易に除去されて
ゴム層が露出し、一方露光部にはシリコーンゴム
層が強固に存在しており、ポジフイルムを忠実に
再現した印刷版を得た。この印刷版を用いて実施
例1と同様にして直刷り印刷テストを行なつたと
ころ良好な結果を得た。
また、この印刷版原板の感光特性は、製造後室
温保存1カ月又は50℃保存7日経過後も、実用上
変化なかつた。
比較例 2 厚み0.3mmのアルミ板上に、厚み0.3mm、ゴム硬
度60(シヨアA)のクロロプレンゴム層を設けた
複合基板上に、次の組成を有する固形成分の10重
量%エチルセロソルブ溶液を塗布し、80℃熱風中
で乾燥して厚さ4μの感光性樹脂層を設けた。
(a) ポリウレタン「パンデツクス T−5205」
(大日本インキ化学工業製) 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジル4モルとキシリレン
ジアミン1モルの付加反応物(分子量704)
40重量部 (c) ミヒラー氏ケトン(分子量268) 4重量部 (d) マレイン酸 0.5重量部 (e) クリスタルバイオレツト(分子量408)
0.3重量部 この感光性樹脂層の上に、次の組成を有するシ
リコーンゴム組成物の10重量%n−ヘキサン溶液
を塗布して、50℃熱風中で乾燥して厚さ2μのシ
リコーンゴム層を設けた。
(a) ポリジメチルシロキサン(分子量8万、両末
端OH基) 100重量部 (b) メチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 次に、このシリコーンゴム層の上に厚さ10μの
ポリエチレンテレフタレートフイルム(東レ(株)製
“ルミラー”)をラミネートして、印刷版原板を得
た。
この原板作製1日後に、この原板の上にポジフ
イルムをあてがつて減圧密着し、2KWの超高圧
水銀灯(オーク製作所製)で1mの距離から120秒
間露光した。カバーフイルムを取り除いた後、n
−ヘキサンをしみこませた綿パツドで版画を軽く
こすることによつて未露光部のシリコーンゴム層
を除去し、印刷版を得た。この印刷版の直刷印刷
適性は実施例1と同様良好であつた。しかし、こ
の原板を室温1カ月あるいは50℃7日保存する
と、極端な感度低下を起こし、全く画像が形成で
きなかつた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ゴム弾性を有する支持体上に感光性樹脂層お
    よびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水
    なし平版印刷用原板において、該感光性樹脂層中
    の感光性成分が高分子感光性物質であることを特
    徴とする直刷用水なし平版印刷版原板。
JP9775580A 1980-07-14 1980-07-17 Waterless lithographic original plate for direct printing Granted JPS5722242A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9775580A JPS5722242A (en) 1980-07-17 1980-07-17 Waterless lithographic original plate for direct printing
EP81303205A EP0044220B1 (en) 1980-07-14 1981-07-13 Dry planographic printing plate for direct printing
DE8181303205T DE3170113D1 (en) 1980-07-14 1981-07-13 Dry planographic printing plate for direct printing
CA000381645A CA1173291A (en) 1980-07-14 1981-07-13 Planographic printing plate for direct printing
US06/647,868 US5053311A (en) 1980-07-14 1984-09-05 Direct planographic printing plate requiring no dampening

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9775580A JPS5722242A (en) 1980-07-17 1980-07-17 Waterless lithographic original plate for direct printing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5722242A JPS5722242A (en) 1982-02-05
JPS6323545B2 true JPS6323545B2 (ja) 1988-05-17

Family

ID=14200689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9775580A Granted JPS5722242A (en) 1980-07-14 1980-07-17 Waterless lithographic original plate for direct printing

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5722242A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0351617A (ja) * 1989-07-19 1991-03-06 Takagi Ind Co Ltd 燃焼器具の逆風による危険防止方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60210070A (ja) * 1984-04-03 1985-10-22 Hitachi Ltd ビデオカメラ
JPS61248055A (ja) * 1985-04-26 1986-11-05 Toray Ind Inc 水なし平版印刷版
JPH07101305B2 (ja) * 1987-05-12 1995-11-01 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要感光性平版印刷版
JP2626987B2 (ja) * 1988-02-23 1997-07-02 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要感光性平版印刷版

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0351617A (ja) * 1989-07-19 1991-03-06 Takagi Ind Co Ltd 燃焼器具の逆風による危険防止方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5722242A (en) 1982-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4342820A (en) Dry planographic printing plate and preparation thereof
US5053311A (en) Direct planographic printing plate requiring no dampening
US4861698A (en) Photosensitive lithographic plate using no dampening water
JPS6154222B2 (ja)
JPS6323545B2 (ja)
JPS6323544B2 (ja)
JPS5825635A (ja) 水なし平版印刷原板
JP2921093B2 (ja) 水なし平版印刷版用現像液
JPS6319866B2 (ja)
JPS609800A (ja) 直刷用水なし平版印刷版原板
JPS63163857A (ja) 水なし平版印刷版
JPS6154218B2 (ja)
JPS60153048A (ja) 湿し水不要平版印刷版
JPS6154223B2 (ja)
JP2507395B2 (ja) 水なし平版印刷用原版
JPS58163944A (ja) 湿し水不要平版印刷原版の製造方法
JPH0365539B2 (ja)
JP3134502B2 (ja) 水なし平版印刷版用現像液
JP2507342B2 (ja) 水なし平版印刷用原版
JP2910257B2 (ja) 水なし平版印刷版用現像液
JP2516053B2 (ja) 湿し水不要感光性平版印刷版
JPS6158824B2 (ja)
JPS61241759A (ja) 水なし平版印刷版
JPS62111254A (ja) 乾式感光性平版印刷版
JPS62194255A (ja) 湿し水不要感光性平版印刷版