JPS6346407B2 - - Google Patents

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JPS6346407B2
JPS6346407B2 JP10174179A JP10174179A JPS6346407B2 JP S6346407 B2 JPS6346407 B2 JP S6346407B2 JP 10174179 A JP10174179 A JP 10174179A JP 10174179 A JP10174179 A JP 10174179A JP S6346407 B2 JPS6346407 B2 JP S6346407B2
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JP
Japan
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layer
silicone rubber
water
resin
printing plate
Prior art date
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JP10174179A
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English (en)
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JPS5625740A (en
Inventor
Takao Kinashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Priority to JP10174179A priority Critical patent/JPS5625740A/ja
Publication of JPS5625740A publication Critical patent/JPS5625740A/ja
Publication of JPS6346407B2 publication Critical patent/JPS6346407B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は湿し水不要平版印刷版に関し、特に現
像時の環境汚染性、画線部のインキ受容性及び耐
刷力の改良された湿し水不要平版印刷版に関す
る。
基体に裏打ちされたシリコーンゴム層を非画線
部とし、その上に画線部を設けた湿し水不要平版
印刷版は、例えば特公昭47―2361号、特開昭49―
82402号、特開昭50―66304号などに数多く提案さ
れている。
これらの技術分野においては、現像時に各種の
有機溶剤を含有する現像剤が使用され、使用済の
現像剤は廃棄物除去施設を通して廃棄することが
必要であつた。このような有機溶剤を含有する現
像剤は種々の点でコスト高になるばかりか、公害
問題をおこし易いという重大な問題があつた。
このため例えば特開昭50―66304号には、基体
に裏打ちされたシリコーンゴム層上にエチレン性
不飽和モノマと光重合開始剤とを含有する光重合
性接着層からなる湿し水不要平版印刷版におい
て、該光重合性接着層の充てんポリマとしてポリ
ビニルアルコール、ポリエチレンオキシドなどの
水溶性ポリマを使用し水で現像することが提案さ
れている。しかしながらこのようにして形成した
画像は極めてもろいため長時間の印刷に耐えられ
ず、更に親水性のポリマからなる画線部のインキ
受容性が不良であるという重大な問題点を有して
いた。
本発明者はかかる問題点を解決し、安価で安全
な水道水で現像が可能で、かつ耐刷力、画線部の
インキ受容性の良好な湿し水不要平版印刷版を得
るために鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち本発明は、基体に裏打ちされたシリコ
ーンゴム層と、基体およびシリコーンゴム層に裏
打ちされたインキ受容層とからなる湿し水不要平
版印刷版において、該インキ受容層が親水性の樹
脂を含有する層を下層とし、水透過性で親油性の
樹脂を含有する層を上層としてなることを特徴と
する湿し水不要平版印刷版である。
本発明に用いられる基体としては、厚さが約
10μ〜2mm、好ましくは約50〜500μの紙、プラス
チツクフイルムもしくはシート、金属板などが適
当であるが、シリンダー状の基体を用いても良
い。
本発明に用いられるシリコーンゴム層は、通常
約0.5〜100μ、好ましくは約0.5〜10μの厚みを有
し、次のようなくり返し単位を有する分子量数千
〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とす
る。
ここでRは炭素数1〜10のアルキル基あるいは
フエニル基であり、Rの60%以上がメチル基であ
るものが好ましい。このような線状有機ポリシロ
キサンは有機過酸化物を添加して熱処理等を施す
ことにより、まばらに架橋しシリコーンゴムとす
ることも可能である。
この線状有機ポリシロキサンにはまた架橋剤が
添加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシランケトオキシムシラン、アル
コキシシラン、アミノシラン、アミドシランなど
があり、通常線状有機ポリシロキサンとして末端
が水酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
本発明の親水性の樹脂としては、水溶性のポリ
マが好ましく、例えばポリビニルアルコール、ポ
リアクリル酸、もしくはその共重合体、ポリエチ
レンオキシド、ポリアクリルアミドもしくはその
共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロース
類、アラビアゴム、水溶性ナイロン、水溶性ウレ
タンなどが適当で、これらの樹脂を単独もしくは
混合して用いることが可能である。
また、親水性の樹脂を含有する層は、厚さが約
0.1〜50μ、好ましくは約0.5〜5μのものであつて、
画像形成のために公知の感光性物質が約90重量%
以下、好ましくは約20〜70重量%含有される。感
光性物質としては次のような構成のものが適当で
ある。
(1) 沸点100℃以上で、室温で不揮発性の不飽和
モノマあるいはそれらのオリゴマと光増感剤、
熱重合禁止剤と、必要ならば室温での形態保持
性を与えるための充填材および若干の添加物を
含む組成物。
不飽和モノマとしてはエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、1―クロロ―2―ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレートなどの一連のアクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル類、エチレ
ンビスアクリルアミド、N―メチロールアクリ
ルアミド、メトキシメチルアクリルアミドなど
のアクリルアミド誘導体、トリアリルシアヌレ
ート、トリアリルフオスフエート、ジアリルフ
タレート、ジアリルマレートなどのアリルアル
コールのエステル、その他スチレン誘導体、ケ
イ皮酸誘導体などを使用することができる。
光増感剤としては、ベンゾフエノン誘導体、
ベンゾイン誘導体、アントラキノン誘導体、ア
ントラキノン誘導体、アルデヒド、ケトン、イ
オウ化合物、ハロゲン化合物、あるいはメチレ
ンブルー、リボフラビンなどの染料が使用でき
る。
熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン誘導
体、フエノール誘導体、ニトロ置換ベンゼン、
第3級アミン、フエノチアジン誘導体が用いら
れる。
充填剤あるいは添加物としては、コロイダル
シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、
酸化鉄などの無機物の微細な粉末、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、分子
量数千のポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル
ポリマ、硬化前のレゾールフエノール系、尿素
系、メラミン系、エポキシ系、不飽和ポリエス
テル系樹脂などがあげられる。
(2) 光硬化性ジアゾ樹脂あるいはアジド樹脂と必
要ならば光増感剤と若干の充填材添加物。光硬
化性ジアゾ樹脂としては、パラジアゾフエニル
アミン、パラジアゾモノエチルアニリン、パラ
ジアゾベンジルエチルアニリンなどのジアゾ系
アミンとホルムアルデヒドとの縮合物の塩化亜
鉛複塩をあげることができる。
光硬化性アジド樹脂としては、ポリビニルア
ルコールのアジドフタル酸エステル、あるいは
アジド安息香酸エステル、スチレン―無水マレ
イン酸共重合体と、芳香族アジド系アルコー
ル、例えばβ―(4―アジドフエノール)エタ
ノールのエステルなどがあげられる。
光増感剤、充填材、添加物としては(1)の例で
あげたものを使用できる。
(3) オルトキノンジアジド類とノボラツク樹脂を
組み合わせた感光性物質。
本発明の水透過性で親油性の樹脂にはエポキシ
樹脂、ポリウレタン、ポリエステル、ナイロン、
ブチリル樹脂、アクリル酸エステル共重合体など
が適当であるが、耐摩耗性の良好なポリウレタ
ン、ナイロンなどがより好ましい。
また、水透過性で親油性の樹脂を含有する層
は、厚さが約0.1〜50μ、好ましくは約0.5〜5μも
のであつて、画像形成のための感光性物質を約90
重量%以下、より好ましくは約20重量%以下の公
知の感光性物質を含有するが、場合によつては感
光性の成分を含有しなくても画像形成が可能であ
る。
この感光性物質としては前述のものと同様の構
成のものが適当である。
本発明の湿し水不要平版印刷版の原版の製造法
は、表面張力の非常に小さいシリコーンゴム層上
に二重の感光層を塗設することが困難なため、通
常次のようなプロセスをとることが必要である。
(1) 基体上に設けたシリコーンゴム層と、担体フ
イルム上に設けた二重の感光層とを、シリコー
ンゴム層と感光層とが密着するようにラミネー
トする。
(2) 担体フイルム上に二重の感光層とシリコーン
ゴム層とをこの順序で塗設し、基体とシリコー
ンゴム層とが密着するようにラミネートする。
また本発明の二重の感光層を担体フイルムに塗
設する際に、最初に設けた水透過性で親油性の樹
脂を含有する層が、親水性の樹脂を含有する層の
溶剤におかされないように溶剤を選択することが
必要である。
本発明の製造に用いる上記担体フイルムとして
はポリオレフイン、ポリエステル、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニルなどのプラスチツクフイルム
が好ましく、その膜厚としては約1〜200μ、好
ましくは約5〜30μが適当である。この担体フイ
ルムは必要に応じて印刷原版の版面保護フイルム
として製版時まで版面に残しておいてもよい。ま
た感光性物質として光重合性モノマを用いる場合
は、空気中の酸素による重合禁止作用を防止する
ために、版面に酸素遮断性の保護フイルムを設け
ることが望ましい。
本発明の親水性の樹脂を含有する層の上に、水
透過性で親油性の樹脂を含有する層を積層してな
る感光層は、画像露光を施したあと水道水を用い
て現像すると先ず水道水が感光層の上部層を透過
して下部層の可溶性部分が溶解除去され、このと
き同時に若干のこすりを加えると溶解除去された
部分の上部の親油性の樹脂を含有する層も除去さ
れ、通常の現像処理が水道水のみで行なえるので
ある。
このようにして得られた湿し水不要平版印刷版
の画線部は、もろい親水性の樹脂よりなる層の上
に強じんな親油性の樹脂よりなる層が積層されて
いるため、印刷時にもすぐれた耐摩耗性を示し十
分な耐刷力が得られる。更に実際にインキを受容
するのは画線部の表面の親油性の樹脂よりなる感
光層であるため、非常に良好なインキ受容性が得
られるのである。
なお、公知の基体に裏打ちされたシリコーンゴ
ム層上に水道水現像で得られた親水性の樹脂より
なる画像部を有する湿し水不要平版印刷版に、親
油性の樹脂の溶液やエマルジヨンを用いて、いわ
ゆるラツカー盛りの要領で、画線部にのみ親油性
の樹脂層を設けて本発明の印刷版を得ることも可
能である。
以下実施例により本発明を更に詳しく説明す
る。
実施例 東レ(株)製ポリプロピレンフイルム(「トレフア
ン」厚さ9μ)に次の組成の層を乾燥厚み0.7μにな
るように塗設した。なお部は重量部を示す。
(a) ポリウレタン(バイエル社製:インプラニル
43031) 80部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミ
ンの4:1付加物 7部 (c) ミヒラー氏ケトン 0.2部 続いてこの上に次の組成の層を乾燥厚み0.7μに
なるように塗設した。
(a) ポリエチレンオキシド(明成化学工業製アル
コツクスE―45) 60部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミ
ンの4:1付加物 40部 (c) ミヒラー氏ケトン 0.5部 次に住友軽金属製化成処理アルミ板(300μ厚)
にトーレシリコーン製シリコーンプライマAを塗
布後、120℃で2分乾燥し、その上にトーレシリ
コーン製RTVシリコーンゴム・SH―781を乾燥
厚み3.5μになるように塗設した。
続いて前記の感光層をシリコーンゴム層が接す
るように圧着し、圧着後120℃5分の熱処理を施
した。
上記のようにして得られた印刷原版に網点画像
を有するネガフイルムを真空密着せしめ、ORC
ジエツトライト3300を用いて1mの距離から露光
し、ポリプロピレンフイルムを剥離後、水道水を
用いて軽いこすり現像をし、印刷版を得た。
この版をダヴイツドソン、デユアリス700型オ
フセツト印刷機にとり付け、湿し水を用いずに印
刷し5000枚の美麗な印刷物を得たが、版面に傷は
みられず、更に印刷ができる状態であつた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 基体に裏打ちされたシリコーンゴム層と、基
    体およびシリコーンゴム層に裏打ちされたインキ
    受容層とからなる湿し水不要平版印刷版におい
    て、該インキ受容層が親水性の樹脂を含有する層
    を下層とし、水透過性で親油性の樹脂を含有する
    層を上層としてなることを特徴とする湿し水不要
    平版印刷版。
JP10174179A 1979-08-09 1979-08-09 Lithographic plate not requiring damping water Granted JPS5625740A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10174179A JPS5625740A (en) 1979-08-09 1979-08-09 Lithographic plate not requiring damping water

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JP10174179A JPS5625740A (en) 1979-08-09 1979-08-09 Lithographic plate not requiring damping water

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JPS5625740A JPS5625740A (en) 1981-03-12
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5845094A (ja) * 1981-09-10 1983-03-16 Toray Ind Inc 湿し水不要平版印刷版

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JPS5625740A (en) 1981-03-12

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