JPS5845094A - 湿し水不要平版印刷版 - Google Patents
湿し水不要平版印刷版Info
- Publication number
- JPS5845094A JPS5845094A JP14169481A JP14169481A JPS5845094A JP S5845094 A JPS5845094 A JP S5845094A JP 14169481 A JP14169481 A JP 14169481A JP 14169481 A JP14169481 A JP 14169481A JP S5845094 A JPS5845094 A JP S5845094A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicone rubber
- rubber layer
- printing plate
- lithographic printing
- dimethylpolysiloxane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、基体に裏打ちされたシリコーンゴム層を非画
線部とする湿し水不要平版印刷版に関し。
線部とする湿し水不要平版印刷版に関し。
特にインキ反撥性の向上した湿し水不要平版印刷版に関
する。
する。
基体に裏打ちされたシリコーンゴム層を非画線部とする
湿し水不要平版印刷版は１例えば特公昭４４−２３０４
２号、特公昭４６−１６０４４号、時分１１召５１−１
７０８１号、特開昭４８−９４５０３号、時分１■召４
７−２３１５１号、特開′ｌ！５０−６６６０４号など
に数多く提案されでいる。
湿し水不要平版印刷版は１例えば特公昭４４−２３０４
２号、特公昭４６−１６０４４号、時分１１召５１−１
７０８１号、特開昭４８−９４５０３号、時分１■召４
７−２３１５１号、特開′ｌ！５０−６６６０４号など
に数多く提案されでいる。
これらの湿し未不要平版印刷版に用いられるシリコーン
ゴム層は、゛約０．５〜１００μ、好ましくは約０５〜
１０μの厚みを有し１次のようなくり返し単位を有する
分子量数千〜数十刃の線状有機ポリシロキサンを主成分
とするものである。
ゴム層は、゛約０．５〜１００μ、好ましくは約０５〜
１０μの厚みを有し１次のようなくり返し単位を有する
分子量数千〜数十刃の線状有機ポリシロキサンを主成分
とするものである。
ここでｎは１以上の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキ
ル基、アルケニル基あるいはフェニル基である。
ル基、アルケニル基あるいはフェニル基である。
この線状有機ポリシロキサンには通常架橋剤力；添加さ
れる。架橋剤としては、いわゆる室温（イ氏温）硬化型
のシリコーンゴムに使われるものとして、アセトキシシ
ラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノ
シラン、アミドシランなどがあり１通常線状有機ポリシ
ロキサンとして末端が水酸基であるものとくみ合わせて
、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱ア
ミノ型。脱アミド型のシリコーンゴムとなる。
れる。架橋剤としては、いわゆる室温（イ氏温）硬化型
のシリコーンゴムに使われるものとして、アセトキシシ
ラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノ
シラン、アミドシランなどがあり１通常線状有機ポリシ
ロキサンとして末端が水酸基であるものとくみ合わせて
、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱ア
ミノ型。脱アミド型のシリコーンゴムとなる。
また特開昭４８−４７９９８号などに示されたような感
光性を付与されたシリコーンゴム層を用いることもあっ
た。
光性を付与されたシリコーンゴム層を用いることもあっ
た。
これらの湿し水不要平版印刷版は、いずれもシリコーン
ゴムがインキを反撥する性質を利用して湿し水を用いず
に印刷していたが、前記のような従来のシリコーンゴム
では、そΩインキ反撥性が不十分で 印刷時に非画線部
にインキが付着し。
ゴムがインキを反撥する性質を利用して湿し水を用いず
に印刷していたが、前記のような従来のシリコーンゴム
では、そΩインキ反撥性が不十分で 印刷時に非画線部
にインキが付着し。
それが紙にまで転写される結果、いわゆる地汚れをおこ
し印刷物の価値が著しく損なわれるという重大な問題点
があった。
し印刷物の価値が著しく損なわれるという重大な問題点
があった。
本発明者らはこの問題点を解決すべく鋭意検討した結果
１本発明に到達した。
１本発明に到達した。
すなわち本発明は、基体に裏打ちされたシリコーンゴム
層を非画線部とする湿し水不要平版印刷版において、該
シリコーンゴム層が分岐構造を有する有機ポリシロキサ
ンを含有することを特徴とする湿し水不要平版臼Ｊｌｊ
版および基体に裏打ちされたシリコーンゴム層を非画線
部とする湿し水不要平版印刷版において、該シリコーン
ゴム層がその架橋点において分岐構造を有することを特
徴とする湿し水不要平版印刷版に関するものである。
層を非画線部とする湿し水不要平版印刷版において、該
シリコーンゴム層が分岐構造を有する有機ポリシロキサ
ンを含有することを特徴とする湿し水不要平版臼Ｊｌｊ
版および基体に裏打ちされたシリコーンゴム層を非画線
部とする湿し水不要平版印刷版において、該シリコーン
ゴム層がその架橋点において分岐構造を有することを特
徴とする湿し水不要平版印刷版に関するものである。
本発明の湿し水不要平版印刷版のシリコーンゴム層に用
いられるシリコーンゴムは。
いられるシリコーンゴムは。
（１）分岐構造を有するジメチルポリシロキサンを架橋
するか、もしくは （２）特別に工夫された架橋剤を用いて線状ジメチルポ
リシロキサンを架橋し、架橋点において分岐構造を付与
せしめるようにして得られる。
するか、もしくは （２）特別に工夫された架橋剤を用いて線状ジメチルポ
リシロキサンを架橋し、架橋点において分岐構造を付与
せしめるようにして得られる。
また分岐構造を有するジメチルボリシロキザ／を９本発
明の特別に工夫された架橋剤を用いて架橋しても得られ
る。
明の特別に工夫された架橋剤を用いて架橋しても得られ
る。
すなわち９分岐構造を有するジメチルポリシロキサンは
１両末端官能基（二股的には水酸基）のジノチルポリシ
ロキサン中に（例えばビニル基のような）官能基を含有
せしめ、この官能基と片末端に官能基を有するジメチル
ポリシロキサン（残りの片末端は一般的にはトリメチル
シリル基）とを反応、結合せしめるような方法で得るこ
と力；できる。この際各官能基としてどのようなものを
選ぶかについては公知の種々のシリコーン化合物のの例
が数多く記載されているが１次のような反応がある。
１両末端官能基（二股的には水酸基）のジノチルポリシ
ロキサン中に（例えばビニル基のような）官能基を含有
せしめ、この官能基と片末端に官能基を有するジメチル
ポリシロキサン（残りの片末端は一般的にはトリメチル
シリル基）とを反応、結合せしめるような方法で得るこ
と力；できる。この際各官能基としてどのようなものを
選ぶかについては公知の種々のシリコーン化合物のの例
が数多く記載されているが１次のような反応がある。
但しＸ−ハロゲン、アルコキシ、アシロキ外ネ酸基など
活性光線照射
（ｘ、 ｙ、 Ｚはいずれも整数）
（５）その他、グリニヤ反応、アルカリ金属の応用反応
など。
など。
これらのポリシロキサンは５通常の低温、室温硬化型の
シリコーンゴムに用いられるような、公知の架橋剤と組
み合わせて脱酸酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、
脱アミン型、゛脱アミド型などのシリコーンゴムとする
ことができる。これらのシリコーンゴムには更に触媒と
して少量の有機スズ化合物などが添加されるのが一般的
である。
シリコーンゴムに用いられるような、公知の架橋剤と組
み合わせて脱酸酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、
脱アミン型、゛脱アミド型などのシリコーンゴムとする
ことができる。これらのシリコーンゴムには更に触媒と
して少量の有機スズ化合物などが添加されるのが一般的
である。
また架橋点において分岐構造を付与せしめるような架橋
剤は１片末端に官能基を有するジメチルポリシロキサン
（残シの片末端は一般的にはトリメチルシリル基）と、
一般的々架橋剤を反応、結合せしめて得られる。この反
応は例えば次のようなものである。
剤は１片末端に官能基を有するジメチルポリシロキサン
（残シの片末端は一般的にはトリメチルシリル基）と、
一般的々架橋剤を反応、結合せしめて得られる。この反
応は例えば次のようなものである。
Ｒ＝ニアシロキシケトオキシム、アルコキシ、アミン、
アミド基など Ｒ＝上記（１）と同じ Ｒ＝上記（１）と同じ 本発明のシリコーンゴムポリマの基体くり返し単位はジ
メチルシロシキ基であるが、このメチル基を他のアルキ
ル基、フェニル基などでおきかえてもよい。その場合メ
チル基ｉ全体の６０％以上であることが好ましい。
アミド基など Ｒ＝上記（１）と同じ Ｒ＝上記（１）と同じ 本発明のシリコーンゴムポリマの基体くり返し単位はジ
メチルシロシキ基であるが、このメチル基を他のアルキ
ル基、フェニル基などでおきかえてもよい。その場合メ
チル基ｉ全体の６０％以上であることが好ましい。
シリコーンゴム層中に含まれる分岐部分のジメチルポリ
シロキサンの割合は約０１〜３００重１．’＝、’ ％
好ましくは約１〜１００Ｍ量係である。分岐部分が少な
過ぎると、インキ反撥性向上の効果が小さく。
シロキサンの割合は約０１〜３００重１．’＝、’ ％
好ましくは約１〜１００Ｍ量係である。分岐部分が少な
過ぎると、インキ反撥性向上の効果が小さく。
逆に多過ぎるとインキ反撥性の向上効果は大きいが、シ
リコーンゴム層の強度が低下し、非画線部の傷つき、耐
刷力などが問題である。
リコーンゴム層の強度が低下し、非画線部の傷つき、耐
刷力などが問題である。
杏発明の湿し水不要平版印刷版の基体としては。
厚さが約１０μ〜２ ｒＮｎ、好ましくは約５０μ〜４
００μの紙、プラスチックフィルムもしくは７−ト、ゴ
ムなどの弾性体シートＺルミなどの金属板。
００μの紙、プラスチックフィルムもしくは７−ト、ゴ
ムなどの弾性体シートＺルミなどの金属板。
夕
それらに種々の表面処理を施したもの、などが適してい
るが、シリンダー状の基体を用いてもよい。
るが、シリンダー状の基体を用いてもよい。
本発明の印刷版の構成作像法としては次のようなものが
あげられる。
あげられる。
（１）接着層などを介して基体に裏打ちされた／リコー
ンゴム層上に画像形成性物質層が設けられたもの。これ
に画像露光を施し、溶解性の変化を利用して、非画線部
の画像形成性物質層を現像除去し、シリコーンゴム層を
露出せしめる。画像形成性物質としては公知の光硬化型
、光分解型などの感光性物質が用いられる。
ンゴム層上に画像形成性物質層が設けられたもの。これ
に画像露光を施し、溶解性の変化を利用して、非画線部
の画像形成性物質層を現像除去し、シリコーンゴム層を
露出せしめる。画像形成性物質としては公知の光硬化型
、光分解型などの感光性物質が用いられる。
（２）画像形成性物質層などを介して基体に裏打ちされ
んシリコーンゴム層を有するもの。これに画像露光を施
し１画線部のシリコーンゴム層を現像除去するか、もし
くは画線部の画像形成性物質層とその上にあるシリコー
ンゴム層を同時に現像除去することにより画像を得る。
んシリコーンゴム層を有するもの。これに画像露光を施
し１画線部のシリコーンゴム層を現像除去するか、もし
くは画線部の画像形成性物質層とその上にあるシリコー
ンゴム層を同時に現像除去することにより画像を得る。
画像形成性物質、とじては公知の光硬化型、光分解型な
どの感光性物質が用いられる。
どの感光性物質が用いられる。
（３）基体上に画像形成性を有するシリコーンゴム層を
設けたもの。
設けたもの。
（４）基体上にシリコーンゴム層を設け、該シリコーン
ゴム層上に電子写真方式などで画像を設けたもの。
ゴム層上に電子写真方式などで画像を設けたもの。
次に本発明を実施例によって具体的に説明するが１本発
明はこれらの例によって何ら制限されるものではない。
明はこれらの例によって何ら制限されるものではない。
実施例１．比較例１
（１）市販のオクタメチルシクロテトラシロキサンと、
１，３．５−）リビニル−１，３，５−）リメチルシク
ロトリシロキサンを公知の方法÷共重合し。
１，３．５−）リビニル−１，３，５−）リメチルシク
ロトリシロキサンを公知の方法÷共重合し。
下表のような両末端水酸基のビニル基含有ポリジメチル
シロキサンを得た。
シロキサンを得た。
（２） 市Ｈのペンタメチルジシロキサンをエンドブ
ロッカ−としオクタメチルシクロテトラシロキサンを重
合することにより、下表の片末端−８ｉＨのポリジメチ
ルシロキサンを得た。
ロッカ−としオクタメチルシクロテトラシロキサンを重
合することにより、下表の片末端−８ｉＨのポリジメチ
ルシロキサンを得た。
（３）前記ＶポリマとＨポリマとのすべての組み合わせ
について次のような条件で反応せしめた。
について次のような条件で反応せしめた。
１００℃ ４ｈｒ
反応後の混合物の赤外吸収スペクトルを測定したところ
ＳｉＨに基づく吸収は観察されなかった。
ＳｉＨに基づく吸収は観察されなかった。
（この分岐構造を有するポリジメチルシロキサンをＶ−
Ｈポリマと呼ぶ。） 次に、得られたすべてのＶ−Ｈポリマを用いてなる組成
のシリコーンゴムを厚さが２．５ ｇ／ｍ’ となる
ように下記の基体／画像形成性物質層の上に設け、更に
厚み１２μのポリエステルフィルム（束し■製゛ルミラ
ー”）をラミネートし、湿し水不要平版印刷版原版を得
た。
Ｈポリマと呼ぶ。） 次に、得られたすべてのＶ−Ｈポリマを用いてなる組成
のシリコーンゴムを厚さが２．５ ｇ／ｍ’ となる
ように下記の基体／画像形成性物質層の上に設け、更に
厚み１２μのポリエステルフィルム（束し■製゛ルミラ
ー”）をラミネートし、湿し水不要平版印刷版原版を得
た。
基体：住人軽金属■製、化成処理アルミ板（厚み３００
μ） 画像形成性物質層二厚み３．０ｇ／ｍ２の下記組成物。
μ） 画像形成性物質層二厚み３．０ｇ／ｍ２の下記組成物。
ａ）メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸２０／７０／１．０の共重合体 ５５重量部ｂ）キ
シリレンジアミン１モルとグリシジルメタクリレート４
モルの付加物 ４４ 〃 Ｃ）ミヒラー氏ケトン ５ 〃一方、比較例と
して分岐構造をもたない分子量約３ｏ、ｏｏｏのポリジ
メチルシロキサンを生成物とするシリコーンゴムを用い
て、前記と同様の方法で湿し水不要平版印刷版原版を得
た。
酸２０／７０／１．０の共重合体 ５５重量部ｂ）キ
シリレンジアミン１モルとグリシジルメタクリレート４
モルの付加物 ４４ 〃 Ｃ）ミヒラー氏ケトン ５ 〃一方、比較例と
して分岐構造をもたない分子量約３ｏ、ｏｏｏのポリジ
メチルシロキサンを生成物とするシリコーンゴムを用い
て、前記と同様の方法で湿し水不要平版印刷版原版を得
た。
得られた各種印刷版を公知の方法で製版し、市販の印刷
機を用いて印刷したところ、印刷が進んで印刷機の温度
が上昇した時点で比較例のものは地汚れが始まったが１
本発明による印刷版は同じ条件でも全く地汚れを示さな
かった。このとき印刷機の版面温度は３６℃であった。
機を用いて印刷したところ、印刷が進んで印刷機の温度
が上昇した時点で比較例のものは地汚れが始まったが１
本発明による印刷版は同じ条件でも全く地汚れを示さな
かった。このとき印刷機の版面温度は３６℃であった。
更に本発明の印刷版面が４０℃になるまで印刷を進めて
も全く地汚れを示さなかった。
も全く地汚れを示さなかった。
実施例２
実施例１のＨポリマの中のＨ−２，７’０．５５ｇ（０
，００８３ｍｏｌ ）トビニルトリアセトキシシラン２
．４２ ｇ（０，０１０４ｍｏｌ−）とをトルエン中５
０％の濃度で１００℃５ｈｒ 、白金触媒で付加反応
を行っ−た。（これをＶＴ−８５００と称する）次に実
施例１と同様に、下記組成のシリコーンゴム層を厚み２
５ｇ／ｌＴｌ２となるように設けた。
，００８３ｍｏｌ ）トビニルトリアセトキシシラン２
．４２ ｇ（０，０１０４ｍｏｌ−）とをトルエン中５
０％の濃度で１００℃５ｈｒ 、白金触媒で付加反応
を行っ−た。（これをＶＴ−８５００と称する）次に実
施例１と同様に、下記組成のシリコーンゴム層を厚み２
５ｇ／ｌＴｌ２となるように設けた。
このよってして得られた印刷版を用いて、実施例１と同
様に印刷テストを行ったところ、地汚れをおこさなかっ
た。
様に印刷テストを行ったところ、地汚れをおこさなかっ
た。
実施例３
実施例１のシリコーンゴムを、アルミ基板上に設けられ
た下記のよう々画像形成性物質層（厚み１．０ ｇ／ｍ
２）の上に乾燥厚みが２，０．ｇ／ｍ２となるように設
けた湿し水不要平版印刷版を用いて、実施例１と同様の
テストを行なったところ１本発明の印刷版は地汚れをお
こさなかった。
た下記のよう々画像形成性物質層（厚み１．０ ｇ／ｍ
２）の上に乾燥厚みが２，０．ｇ／ｍ２となるように設
けた湿し水不要平版印刷版を用いて、実施例１と同様の
テストを行なったところ１本発明の印刷版は地汚れをお
こさなかった。
Claims (2)
- （１） 基体に裏打ちされたシリコーンゴム層を非画
線部とする湿し水不要平版印刷版において、該シリコー
ンゴム層が分岐構造を有する有機ポリシロキサンを含有
することを特徴とする湿し水不要平版印刷版。 - （２）基体に裏打ちされたシリコーンゴム層を非画線部
とする湿し水不要平版印刷版において、該シリコーンゴ
ム層がその架橋点において分岐構造を有することを特徴
とする湿し水不要平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14169481A JPS5845094A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 湿し水不要平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14169481A JPS5845094A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 湿し水不要平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5845094A true JPS5845094A (ja) | 1983-03-16 |
Family
ID=15298032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14169481A Pending JPS5845094A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 湿し水不要平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5845094A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3434378C1 (de) * | 1984-09-19 | 1986-03-20 | Rotring-Werke Riepe Kg, 2000 Hamburg | Schreibröhrchen für ein Röhrchenschreibgerät |
| JPS63257760A (ja) * | 1987-04-15 | 1988-10-25 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 乾式平版用原版 |
| CN103692800A (zh) * | 2012-09-28 | 2014-04-02 | 北京师范大学 | 一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5470800A (en) * | 1975-07-07 | 1979-06-06 | Gamewell Corp | Ionization detector |
| JPS5625740A (en) * | 1979-08-09 | 1981-03-12 | Toray Ind Inc | Lithographic plate not requiring damping water |
| JPS5683750A (en) * | 1979-12-12 | 1981-07-08 | Toray Ind Inc | Direct engraving method of lithographic printing plate which does not require water |
| JPS5688139A (en) * | 1979-12-20 | 1981-07-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Lithographic plate |
| JPS56109788A (en) * | 1980-02-04 | 1981-08-31 | Toray Ind Inc | Water-unnecessitated planographic printing plate material and printing plate |
-
1981
- 1981-09-10 JP JP14169481A patent/JPS5845094A/ja active Pending
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| CN103692800A (zh) * | 2012-09-28 | 2014-04-02 | 北京师范大学 | 一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版及其制备方法 |
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